JPH1152156A - Phase type optical waveguide and its production - Google Patents

Phase type optical waveguide and its production

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JPH1152156A
JPH1152156A JP21187097A JP21187097A JPH1152156A JP H1152156 A JPH1152156 A JP H1152156A JP 21187097 A JP21187097 A JP 21187097A JP 21187097 A JP21187097 A JP 21187097A JP H1152156 A JPH1152156 A JP H1152156A
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JP
Japan
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clad
core
phase
optical waveguide
refractive index
Prior art date
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Application number
JP21187097A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideyori Sasaoka
英資 笹岡
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical waveguide device provided with a correctly adjusted specific refractive index difference. SOLUTION: In this optical waveguide, clad glass layers 2d, 2u constituting clad are formed on a substrate 3 and plural lines of cores 1a, 1b whose refractive indexes are higher than that of the clads are embedded in the clad glass layers 2d, 2u and the optical waveguide has at least one input port and one output port. In this case, the phase of a light propergating in between the core and the clad is adjusted by changing the refractive index of the core or the clad while irradiating at least one line of the core 1a or the peripheral clad of the core 1a with X-rays.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、位相が正確に調整
された位相型光導波路とその製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a phase-type optical waveguide whose phase is accurately adjusted and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光ファイバ通信の進展に伴い、ネ
ットワークの複雑化や信号波長の多重化等が進行し、シ
ステム構成は高度化しつつある。このような光ファイバ
通信システムでは、光回路素子の重要性が増大してい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of optical fiber communication, network complexity and multiplexing of signal wavelengths have been advanced, and the system configuration has been advanced. In such an optical fiber communication system, the importance of an optical circuit element is increasing.

【0003】光回路素子における一般的構成の一つとし
て光導波路装置は、小型で挿入損失が小さいことや、光
ファイバとの接続が容易であること等の利点を有してい
る。そして、このような光導波路装置の例として、アレ
イ導波路格子が知られている(例えば、「チャンネル間
隔10GHzアレイ導波路格子」:1996年電子情報
通信学会エレクトロニクスソサイエティ大会、C-16
2)。
[0003] As one of the general constitutions of the optical circuit element, the optical waveguide device has advantages such as small size, small insertion loss, and easy connection with an optical fiber. As an example of such an optical waveguide device, an arrayed waveguide grating is known (for example, “a channel spacing of 10 GHz arrayed waveguide grating”: 1996 IEICE Electronics Society Conference, C-16).
2).

【0004】このアレイ導波路格子60は、図12に示
すように、16本の入出力導波路62a、62bと、2
つのスラブ導波路63及び64本のアレイ導波路64か
ら構成されている。各アレイ導波路上には位相を独立に
制御できるようにアモルファス-シリコン膜からなる位
相調整膜65が装荷されている。位相調整膜65の幅
は、TE、TMの各モードでの位相変化量がほぼ等しく
なるように95μmに設定されている。各アレイ導波路
64を伝搬したする光の位相は、隣接するアレイ導波路
間での値の差が一定となるように、位相調整膜65をト
リミングすることによって調整される。
As shown in FIG. 12, the arrayed waveguide grating 60 has 16 input / output waveguides 62a, 62b,
It is composed of one slab waveguide 63 and 64 array waveguides 64. A phase adjusting film 65 made of an amorphous-silicon film is loaded on each array waveguide so that the phase can be controlled independently. The width of the phase adjustment film 65 is set to 95 μm so that the amount of phase change in each of the TE and TM modes is substantially equal. The phase of light propagating through each array waveguide 64 is adjusted by trimming the phase adjustment film 65 so that the difference in value between adjacent array waveguides is constant.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このようなアレイ導波
路格子は、導波路の屈折率や光路長によって決定される
光の位相を厳密に管理する必要がある。導波路の屈折率
や光路長が設定値からずれると、所望の特性が得られず
に不良品となるか、位相調整膜のトリミングといった複
雑な処置をする必要があった。
In such an arrayed waveguide grating, it is necessary to strictly control the phase of light determined by the refractive index and the optical path length of the waveguide. If the refractive index or the optical path length of the waveguide deviates from the set values, desired characteristics cannot be obtained, resulting in a defective product, or complicated measures such as trimming of the phase adjustment film must be performed.

【0006】そこで本発明の目的は、かかる問題を解決
して、位相が正確に調整された位相型光導波路とその製
造方法を提供するものである。
An object of the present invention is to solve such a problem and to provide a phase-type optical waveguide whose phase is accurately adjusted and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係わる位相型光
導波路は、基板上にクラッドとなるべきクラッドガラス
層が形成され、クラッドガラス層中にクラッドより高屈
折率の複数本のコアが埋め込まれ、少なくとも1つの入
力ポートと1つの出力ポートを有する位相型光導波路に
おいて、複数本のコアの中、少なくとも1本のコア又は
コア周辺のクラッドにX線を照射して前記コア又は前記
クラッドの屈折率を変化せしめて、コアとクラッドとの
間を伝搬する光の位相が調整されたことを特徴とする。
In the phase type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and a plurality of cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer. In the phase-type optical waveguide having at least one input port and one output port, the core or the clad is irradiated with X-rays by irradiating at least one core or a clad around the core among a plurality of cores. The phase of light propagating between the core and the clad is adjusted by changing the refractive index.

【0008】基板上にガラスを堆積して所望の位相量を
有する複数本の光導波路を形成することは非常に困難で
あり、作製後に位相量を修正することが必要となる。し
かるに従来は、簡単に調整する方法がなかったので複雑
な位相型光導波路を形成することは困難であった。本発
明の位相型光導波路によれば、基板上に形成された複数
本の光導波路の中、少なくとも1本のコア又はコア周辺
のクラッドにX線を照射してコア又はクラッドの屈折率
を変化せしめ、コアとクラッドとの間を伝搬する光の位
相を所望の値に調整するものである。
It is very difficult to form a plurality of optical waveguides having a desired phase amount by depositing glass on a substrate, and it is necessary to correct the phase amount after fabrication. Conventionally, however, it was difficult to form a complicated phase-type optical waveguide because there was no simple adjustment method. According to the phase-type optical waveguide of the present invention, at least one core or the clad around the core among the plurality of optical waveguides formed on the substrate is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad. In other words, the phase of light propagating between the core and the clad is adjusted to a desired value.

【0009】光導波路のコアとクラッドとの比屈折率差
が変化すると、光導波路を伝搬する光の位相定数が変化
するので、光の光路長あるいは光導波路によって形成さ
れた光回路の特性が変化する。屈折率を変化せしめる方
法は、紫外線を照射して行なうこともできるが、コアに
添加されるドーパント等の制限が少ないX線を用いるこ
とが好ましい。
When the relative refractive index difference between the core and the clad of the optical waveguide changes, the phase constant of the light propagating through the optical waveguide changes, so that the optical path length of the light or the characteristics of the optical circuit formed by the optical waveguide changes. I do. The method of changing the refractive index can be carried out by irradiating ultraviolet rays, but it is preferable to use X-rays with few restrictions on dopants added to the core.

【0010】本発明に係わる位相型光導波路の製造方法
は、基板上にクラッドとなるべきクラッドガラス層を形
成し、クラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の複
数本のコアを埋め込むと共に、少なくとも1つの入力ポ
ートと1つの出力ポートを有する位相型光導波路を形成
する第1工程と、光導波路の特性をモニタしながら、光
導波路の少なくとも1本のコア又はコア周辺のクラッド
にX線を照射してコア又はクラッドの屈折率を変化せし
めて、コアとクラッドとの間を伝搬する光の位相を調整
する第2工程とを有することを特徴とする。
The method for manufacturing a phase-type optical waveguide according to the present invention comprises forming a clad glass layer to be a clad on a substrate, embedding a plurality of cores having a higher refractive index than the clad in the clad glass layer, A first step of forming a phase-type optical waveguide having one input port and one output port, and irradiating at least one core of the optical waveguide or a clad around the core with X-rays while monitoring characteristics of the optical waveguide. And changing the refractive index of the core or the clad to adjust the phase of light propagating between the core and the clad.

【0011】本発明に係わる位相型光導波路の製造方法
によれば、光導波路の特性をモニタしながらコア又はク
ラッドにX線を照射するので、正確に所望の位相量を有
する光導波路を形成することができる。この方法を採用
すると、多数のコアが接近して配置されても容易に調整
することができる。
According to the method of manufacturing a phase-type optical waveguide according to the present invention, the core or the clad is irradiated with X-rays while monitoring the characteristics of the optical waveguide, so that an optical waveguide having a desired phase amount can be formed accurately. be able to. By employing this method, it is possible to easily adjust even if a large number of cores are arranged close to each other.

【0012】本発明に係わる位相型光導波路は、基板上
にクラッドとなるべきクラッドガラス層が形成され、ク
ラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の2本のコア
が埋め込まれ、2本のコアは中間で結合部を有すると共
に、2本のコアの片方の端は少なくとも1つの入力ポー
トと接続され、他方の端は2つの出力ポートと接続され
た位相型光導波路において、結合部における2本のコア
の中、少なくとも1本のコア又はコア周辺のクラッドに
X線を照射してコア又はクラッドの屈折率を変化せしめ
て、コアとクラッドとの間を伝搬する光の位相が調整さ
れたことを特徴とする。
In the phase-type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and two cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer. Has a coupling part in the middle, and one end of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is a phase type optical waveguide connected to two output ports. X-rays are applied to at least one core or the clad around the core to change the refractive index of the core or the clad, thereby adjusting the phase of light propagating between the core and the clad. It is characterized by.

【0013】本発明の位相型光導波路によれば、2本の
コアの中間で結合部を有すると共に、2本のコアの片方
の端は少なくとも1つの入力ポートと接続され、他方の
端は2つの出力ポートと接続された方向性結合器が基板
上に形成されたものであり、結合部における少なくとも
1本のコア又はコア周辺のクラッドにX線を照射してコ
ア又はクラッドの屈折率を変化せしめ、コアとクラッド
との間を伝搬する光の位相を所望の値に調整するもので
ある。結合部における光導波路のコアとクラッドとの比
屈折率差が変化すると、光導波路の位相定数が変化し、
結合長が変化するので2つの出力ポートに出力される比
率を変化することができる。
According to the phase type optical waveguide of the present invention, a coupling portion is provided between the two cores, one end of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is connected to the other end. A directional coupler connected to two output ports is formed on a substrate, and at least one core or a clad around the core in the coupling portion is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad. In other words, the phase of light propagating between the core and the clad is adjusted to a desired value. When the relative refractive index difference between the core and the clad of the optical waveguide at the coupling portion changes, the phase constant of the optical waveguide changes,
Since the coupling length changes, the ratio output to the two output ports can be changed.

【0014】本発明に係わる位相型光導波路の製造方法
は、基板上にクラッドとなるべきクラッドガラス層を形
成し、クラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の2
本のコアが埋め込まれ、2本のコアは中間で結合部を有
すると共に、2本のコアの片方の端は少なくとも1つの
入力ポートと接続され、他方の端は2つの出力ポートと
接続された位相型光導波路を形成する第1工程と、位相
型光導波路の一方の入力ポートから光を入力し、2つの
出力ポートの出力光のパワーをモニタしながら、結合部
における2本のコアの中、少なくとも1本のコア又はコ
ア周辺のクラッドにX線を照射してコア又は前記クラッ
ドの屈折率を変化せしめ、コアとクラッドとの間を伝搬
する光の位相を調整する第2工程とを有することを特徴
とする。本発明の製造方法は、2本のコアの中間で結合
部を有すると共に、2本のコアの片方の端は少なくとも
1つの入力ポートと接続され、他方の端は2つの出力ポ
ートと接続された方向性結合器にかわる製法であり、2
つの出力ポートの出力光のパワーをモニタしながら、結
合部における2本のコアの中、少なくとも1本のコア又
はコア周辺のクラッドにX線を照射するので、正確に位
相量を調整して出力光を所望の比率に分配することがで
きる。
According to the method of manufacturing a phase type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and a clad glass layer having a higher refractive index than the clad is formed in the clad glass layer.
Two cores are embedded, the two cores have an intermediate connection and one end of the two cores is connected to at least one input port and the other end is connected to two output ports A first step of forming a phase-type optical waveguide; and a step of inputting light from one input port of the phase-type optical waveguide and monitoring the power of output light from two output ports, while monitoring the power of the output light from the two output ports. Irradiating at least one core or the clad around the core with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, and adjusting the phase of light propagating between the core and the clad. It is characterized by the following. The manufacturing method of the present invention has a coupling portion between two cores, and one end of each of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is connected to two output ports. This is a manufacturing method that replaces the directional coupler.
While monitoring the power of the output light from the two output ports, at least one of the two cores in the coupling portion or the cladding around the core is irradiated with X-rays, so that the phase amount is accurately adjusted and output. Light can be distributed in a desired ratio.

【0015】本発明に係わる位相型光導波路は、基板上
にクラッドとなるべきクラッドガラス層が形成され、ク
ラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の2本のコア
が埋め込まれ、2本のコアは2箇所で結合部を有すると
共に、2本のコアの片方の端は少なくとも1つの入力ポ
ートと接続され、他方の端は2つの出力ポートと接続さ
れた位相型光導波路において、2箇所の結合部の中間に
おける、少なくとも1本のコア又はコア周辺のクラッド
にX線を照射してコア又はクラッドの屈折率を変化せし
めて、コアとクラッドとの間を伝搬する光の位相が調整
されたことを特徴とする。
In the phase-type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and two cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer. Has two coupling portions and one end of each of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is connected to two coupling portions in a phase-type optical waveguide connected to two output ports. X-rays are applied to at least one core or the cladding around the core in the middle of the part to change the refractive index of the core or the cladding, so that the phase of light propagating between the core and the cladding is adjusted. It is characterized by.

【0016】本発明の位相型光導波路によれば、2本の
コアは2箇所で結合部を有すると共に、2本のコアの片
方の端は少なくとも1つの入力ポートと接続され、他方
の端は2つの出力ポートと接続されたマッハツエンダ干
渉計が基板上に形成されたものであり、2箇所の結合部
の中間における、少なくとも1本のコア又はコア周辺の
クラッドにX線を照射してコア又はクラッドの屈折率を
変化せしめて、コアとクラッドとの間を伝搬する光の位
相を所望の値に調整するものである。1つの入力ポート
から入力された光は、最初の結合部によって2分割さ
れ、2分割された光が第2の結合部に入力される両者の
位相関係によって2つの出力ポートから出力される光の
比率を任意に変えることができる。
According to the phase type optical waveguide of the present invention, the two cores have coupling portions at two places, one end of each of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is connected to at least one input port. A Mach-Zehnder interferometer connected to two output ports is formed on a substrate, and at least one core or a clad around the core in the middle of two coupling portions is irradiated with X-rays to form a core or a core. By changing the refractive index of the clad, the phase of light propagating between the core and the clad is adjusted to a desired value. The light input from one input port is divided into two by the first coupling unit, and the two divided lights are input to the second coupling unit. The ratio can be changed arbitrarily.

【0017】本発明に係わる位相型光導波路の製造方法
は、基板上にクラッドとなるべきクラッドガラス層を形
成し、クラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の2
本のコアが埋め込まれ、2本のコアは2箇所で結合部を
有すると共に、2本のコアの片方の端は少なくとも1つ
の入力ポートと接続され、他方の端は2つの出力ポート
と接続された位相型光導波路を形成する第1工程と、位
相型光導波路の一方の入力ポートから光を入力し、2つ
の出力ポートの出力パワーをモニタしながら、2箇所の
結合部の中間における、少なくとも1本のコア又は当該
コア周辺のクラッドにX線を照射してコア又はクラッド
の屈折率を変化せしめ、コアと前記クラッドとの間を伝
搬する光の位相を調整する第2工程とを有することを特
徴とする。
According to a method of manufacturing a phase-type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and a clad glass layer having a higher refractive index than the clad is formed in the clad glass layer.
Two cores are embedded, the two cores have a coupling portion at two places, and one end of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is connected to two output ports. A first step of forming a phase-type optical waveguide, and inputting light from one input port of the phase-type optical waveguide, and monitoring at least output power of two output ports, at least in the middle of the two coupling portions. A second step of irradiating one core or a clad around the core with X-rays to change the refractive index of the core or the clad and adjusting the phase of light propagating between the core and the clad. It is characterized by.

【0018】本発明の製造方法は、2本のコアは2箇所
で結合部を有すると共に、2本のコアの片方の端は少な
くとも1つの入力ポートと接続され、他方の端は2つの
出力ポートと接続されたマッハツエンダ干渉計にかかわ
る製法であり、2つの出力ポートの出力光のパワーをモ
ニタしながら、結合部における2本のコアの中、少なく
とも1本のコア又はコア周辺のクラッドにX線を照射す
るので、正確に位相量に調整して出力光を所望の比率に
分配することができる。
According to the manufacturing method of the present invention, the two cores have coupling portions at two places, one end of each of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is connected to two output ports. Is a manufacturing method related to a Mach-Zehnder interferometer connected to at least one of two cores in a coupling portion or a cladding around the core while monitoring the power of output light from two output ports. Therefore, the output light can be distributed to a desired ratio by accurately adjusting the phase amount.

【0019】本発明に係わる位相型光導波路は、基板上
にクラッドとなるべきクラッドガラス層が形成され、ク
ラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の複数本のコ
アが埋め込まれると共に、複数本のコアの片方の端はス
ラブ導波路を介して少なくとも1つの入力ポートと接続
され、他方の端はスラブ導波路を介して少なくとも2つ
の出力ポートと接続された位相型光導波路において、複
数本のコアの中、少なくとも1本のコア又はコア周辺の
クラッドにX線を照射してコア又はクラッドの屈折率を
変化せしめて、コアと前記クラッドとの間を伝搬する光
の位相が調整されたことを特徴とする。
In the phase type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, a plurality of cores having a higher refractive index than the clad are buried in the clad glass layer, and a plurality of cores are formed. One end of the core is connected to at least one input port via a slab waveguide, and the other end is connected to at least two output ports via a slab waveguide. Among them, at least one core or the clad around the core is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, and that the phase of light propagating between the core and the clad is adjusted. Features.

【0020】本発明の位相型光導波路によれば、複数本
のコアの片方の端はスラブ導波路を介して少なくとも1
つの入力ポートと接続され、他方の端はスラブ導波路を
介して少なくとも2つの出力ポートと接続されたアレイ
導波路格子が基板上に形成されたものであり、複数本の
コアの中、少なくとも1本のコア又はコア周辺のクラッ
ドにX線を照射してコア又はクラッドの屈折率を変化せ
しめて、コアと前記クラッドとの間を伝搬する光の位相
を所望の値に調整するものである。これを各コアあるい
はクラッドに適用することによって、容易に各コアの位
相を均一にすることができる。
According to the phase type optical waveguide of the present invention, one end of each of the plurality of cores is at least one end via the slab waveguide.
An arrayed waveguide grating connected to one input port and the other end connected to at least two output ports via a slab waveguide is formed on the substrate, and at least one of the plurality of cores is provided. The core or the clad around the core is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, thereby adjusting the phase of light propagating between the core and the clad to a desired value. By applying this to each core or clad, the phase of each core can be easily made uniform.

【0021】本発明に係わる位相型光導波路の製造方法
は、基板上にクラッドとなるべきクラッドガラス層を形
成し、クラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の複
数本のコアを埋め込むと共に、複数本のコアの片方の端
はスラブ導波路を介して少なくとも1つの入力ポートと
接続され、他方の端はスラブ導波路を介して少なくとも
2つの出力ポートと接続された位相型光導波路を形成す
る第1工程と、位相型光導波路の一方の入力ポートから
光を入力し、出力ポートの出力パワーをモニタしなが
ら、光導波路の少なくとも1本のコア又はコア周辺のク
ラッドにX線を照射してコア又はクラッドの屈折率を変
化せしめて、コアとクラッドとの間を伝搬する光の位相
を調整する第2工程とを有することを特徴とする。
According to a method of manufacturing a phase-type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and a plurality of cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer. One end of the core is connected to at least one input port via a slab waveguide, and the other end forms a phase-type optical waveguide connected to at least two output ports via a slab waveguide. One step, inputting light from one input port of the phase-type optical waveguide, and irradiating at least one core of the optical waveguide or a clad around the core with X-rays while monitoring the output power of the output port. Or a second step of changing the refractive index of the clad to adjust the phase of light propagating between the core and the clad.

【0022】本発明の製造方法は、複数本のコアの片方
の端はスラブ導波路を介して少なくとも1つの入力ポー
トと接続され、他方の端はスラブ導波路を介して少なく
とも2つの出力ポートと接続されたアレイ導波路格子に
かかわる製法であり、出力ポートの出力パワーをモニタ
しながら、光導波路の少なくとも1本のコア又はコア周
辺のクラッドにX線を照射するので、容易に各コアの位
相を均一に形成することができる。
According to the manufacturing method of the present invention, one end of each of the plurality of cores is connected to at least one input port via a slab waveguide, and the other end is connected to at least two output ports via a slab waveguide. This is a manufacturing method related to the connected arrayed waveguide grating. At least one core of the optical waveguide or the clad around the core is irradiated with X-rays while monitoring the output power of the output port. Can be formed uniformly.

【0023】本発明に係わる位相型光導波路は、基板上
にクラッドとなるべきクラッドガラス層が形成され、ク
ラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の1本のコア
が埋め込まれると共に、1本のコアは1つの入力ポート
と1つの出力ポートを有し、かつ、コアの中間部に当該
コアと間隙を設けてリング状のコアが1本のコアと光学
的に結合して配置された位相型光導波路において、リン
グ状のコア又はコア周辺のクラッドにX線を照射してコ
ア又はクラッドの屈折率を変化せしめて、リング状のコ
アとコア周辺のクラッドとの間を伝搬し共振する光の位
相が調整されたことを特徴とする。
In the phase-type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, one core having a higher refractive index than the clad is embedded in the clad glass layer, and one clad. The core has one input port and one output port, and is provided with a gap between the core and an intermediate portion of the core, and a ring-shaped core is optically coupled to the single core and arranged. In an optical waveguide, X-rays are applied to a ring-shaped core or a clad around the core to change the refractive index of the core or the clad, and light that propagates and resonates between the ring-shaped core and the clad around the core is resonated. The phase is adjusted.

【0024】本発明の位相型光導波路によれば、1本の
コアは1つの入力ポートと1つの出力ポートを有し、か
つ、コアの中間部に当該コアと間隙を設けてリング状の
コアが1本のコアと光学的に結合して配置されたリング
共振器が基板上に形成されたものであり、リング状のコ
ア又はコア周辺のクラッドにX線を照射してコア又はク
ラッドの屈折率を変化せしめて、リング状のコアとコア
周辺のクラッドとの間を伝搬し共振する光の位相を調整
し、共振波長を調整することができる。
According to the phase-type optical waveguide of the present invention, one core has one input port and one output port, and a ring-shaped core is provided by providing a gap with the core at an intermediate portion of the core. Is formed on a substrate, and a ring resonator optically coupled to a single core is formed on a substrate. The ring-shaped core or a clad around the core is irradiated with X-rays to refract the core or the clad. By changing the ratio, the phase of the light that propagates between the ring-shaped core and the clad around the core and resonates can be adjusted, and the resonance wavelength can be adjusted.

【0025】本発明に係わる位相型光導波路の製造方法
は、基板上にクラッドとなるべきクラッドガラス層を形
成し、クラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の1
本のコアを埋め込むと共に、1本のコアは1つの入力ポ
ートと1つの出力ポートを有し、かつ、コアの中間部に
コアと間隙を設けてリング状のコアが1本のコアと光学
的に結合して配置された位相型光導波路を形成する第1
工程と、位相型光導波路の入力ポートから光を入力し、
出力ポートの出力パワーをモニタしながら、リング状の
コア又はコア周辺のクラッドにX線を照射してコア又は
クラッドの屈折率を変化せしめて、リング状のコアとコ
ア周辺のクラッドとの間を伝搬し共振する光の位相を調
整する第2工程とを有することを特徴とする。
In the method for manufacturing a phase-type optical waveguide according to the present invention, a clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and a clad glass layer having a higher refractive index than the clad is formed in the clad glass layer.
In addition to embedding the core, one core has one input port and one output port, and a ring-shaped core is optically connected to the single core by providing a gap with the core at an intermediate portion of the core. Forming a phase-type optical waveguide disposed in combination with the first
Process, input light from the input port of the phase-type optical waveguide,
While monitoring the output power of the output port, the ring-shaped core or the clad around the core is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, and the gap between the ring-shaped core and the clad around the core is changed. A second step of adjusting the phase of light that propagates and resonates.

【0026】本発明の製造方法は、1本のコアは1つの
入力ポートと1つの出力ポートを有し、かつ、コアの中
間部に当該コアと間隙を設けてリング状のコアが1本の
コアと光学的に結合して配置されたリング共振器にかか
わる製法であり、出力ポートの出力パワーをモニタしな
がら、リング状のコア又はコア周辺のクラッドにX線を
照射するので、正確に位相量を調整して共振波長を変化
させることができる。
According to the manufacturing method of the present invention, one core has one input port and one output port, and a ring-shaped core is formed by providing a gap with the core at an intermediate portion of the core. This method involves a ring resonator that is optically coupled to the core and irradiates the ring-shaped core or the cladding around the core with X-rays while monitoring the output power of the output port. The resonance wavelength can be changed by adjusting the amount.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明
において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説
明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements will be denoted by the same reference symbols, without redundant description.

【0028】(実施形態1)図1は、本実施形態に係わ
る位相型光導波路の構成を示す図であり、図1(a)は
位相型光導波路の平面図、図1(b)はその側面図であ
る。図1において、基板3上には、クラッドとなる石英
を主成分とする下部クラッドガラス層2dと、上部クラ
ッドガラス層2uが形成され、クラッドガラス層2d、
2uの中にはクラッドガラスより高屈折率の2本のコア
1a、1bが埋め込まれ、両端部には、夫々光の入力ポ
ート4a、4bと出力ポート4c、4dを備えている。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a view showing a configuration of a phase-type optical waveguide according to the present embodiment. FIG. 1 (a) is a plan view of the phase-type optical waveguide, and FIG. It is a side view. In FIG. 1, on a substrate 3, a lower clad glass layer 2d mainly composed of quartz serving as a clad and an upper clad glass layer 2u are formed.
Two cores 1a and 1b having a higher refractive index than the cladding glass are embedded in 2u, and light input ports 4a and 4b and output ports 4c and 4d are provided at both ends.

【0029】次いで、一方のコア1aにX線を照射する
と屈折率が変化し、特性の異なる2系統の位相型光導波
路が形成される。
Next, when one core 1a is irradiated with X-rays, the refractive index changes and two types of phase-type optical waveguides having different characteristics are formed.

【0030】この2系統の位相型光導波路は、クラッド
ガラス層2d、2uは共通するが、2本のコア1a、1
bの屈折率が相違するので、これらの光導波路を伝搬す
る光の位相定数が相違する。位相定数は光導波路を伝搬
する光の速度に関係するので、光路長が相違することに
なる。2本のコア1a、1bが光学的に結合している場
合は、結合状態が変化し、出力ポート4c、4dに出力
されるパワーの比率が変化することになる。
In these two systems of phase type optical waveguides, the cladding glass layers 2d and 2u are common, but the two cores 1a and 1u are used.
Since the refractive index of b is different, the phase constants of light propagating through these optical waveguides are different. Since the phase constant is related to the speed of light propagating through the optical waveguide, the optical path length will be different. When the two cores 1a and 1b are optically coupled, the coupling state changes and the ratio of the power output to the output ports 4c and 4d changes.

【0031】コアの屈折率を変化せしめる方法は、紫外
線を照射して行なうこともできるが、コアに添加される
ドーパント等に制限が少ないX線を用いることが好まし
い。また、屈折率はX線の照射量に比例する傾向がある
ので連続的な調整が可能となり、正確に調整することが
できる。この方法を採用すると、多数のコアが接近して
配置された光導波路についても容易に調整することがで
きる。
The method of changing the refractive index of the core can be carried out by irradiating ultraviolet rays. However, it is preferable to use X-rays with few restrictions on the dopants added to the core. In addition, since the refractive index tends to be proportional to the amount of X-ray irradiation, continuous adjustment is possible and accurate adjustment is possible. By employing this method, it is possible to easily adjust an optical waveguide in which a large number of cores are arranged close to each other.

【0032】図2は、本実施形態に係わる他の位相型光
導波路の構成を示す図であり、図2(a)は位相型光導
波路の平面図、図2(b)はその側面図である。図2に
おいて、基板3上には、クラッドとなる石英を主成分と
する下部クラッドガラス層2dと、上部クラッドガラス
層2uが形成され、クラッドガラス層2d、2uの中に
はクラッドガラスより屈折率が高い2本のコア1a、1
bが埋め込まれ、両端部には、夫々光の入力ポート4
a、4bと出力ポート4c、4dを備えている。次い
で、一方のコア1b周辺のクラッド2bにX線を照射す
ると、コア1bとクラッド2bとの比屈折率差は、コア
1aとクラッド2d、2uとの比屈折率差より小さく特
性の異なる位相型光導波路が形成される。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of another phase-type optical waveguide according to the present embodiment. FIG. 2 (a) is a plan view of the phase-type optical waveguide, and FIG. 2 (b) is a side view thereof. is there. In FIG. 2, a lower clad glass layer 2d mainly composed of quartz serving as a clad and an upper clad glass layer 2u are formed on a substrate 3, and the clad glass layers 2d and 2u have a refractive index higher than that of the clad glass. Cores 1a, 1
b are buried, and light input ports 4 are provided at both ends.
a, 4b and output ports 4c, 4d. Next, when the clad 2b around one of the cores 1b is irradiated with X-rays, the relative refractive index difference between the core 1b and the clad 2b is smaller than the relative refractive index difference between the core 1a and the clad 2d, 2u. An optical waveguide is formed.

【0033】即ち、図1は、コア1aの屈折率を変化さ
せることによって、また、図2は、コア1b周辺のクラ
ッド2bの屈折率を変化させることによって位相特性の
異なる2系統の光導波路を示す。
FIG. 1 shows two types of optical waveguides having different phase characteristics by changing the refractive index of the core 1a, and FIG. 2 shows changing the refractive index of the cladding 2b around the core 1b. Show.

【0034】基板上にガラスを堆積しながら2本のコア
を有する光導波路を形成する場合、得られる屈折率の精
度に限界がある。従って、高精度の屈折率が要求される
ほど製作が困難となる。このような場合、一方のコア又
はコア周辺のクラッドにX線を照射すると屈折率はX線
の照射量に比例して変化する傾向にあるので、コアとク
ラッドとの比屈折率差が他のコアとクラッドとの比屈折
率差と比較して等しいか、あるいは所望量相違する光導
波路装置を容易に形成することができる。
When an optical waveguide having two cores is formed while depositing glass on a substrate, there is a limit to the accuracy of the obtained refractive index. Therefore, the higher the required refractive index is, the more difficult it is to manufacture. In such a case, when one core or the clad around the core is irradiated with X-rays, the refractive index tends to change in proportion to the amount of X-ray irradiation. An optical waveguide device that is equal to or different from the relative refractive index difference between the core and the clad by a desired amount can be easily formed.

【0035】上述した各種光導波路装置は、基板上に2
本のコアを配置した場合について説明したが、3本以上
のコアが配置された光導波路装置についても同様の効果
を得ることができる。
The various optical waveguide devices described above have two
Although the case where three cores are arranged has been described, the same effect can be obtained with an optical waveguide device in which three or more cores are arranged.

【0036】次に、本実施形態に係わる光導波路装置の
製造方法について図3および図4を参照しながら説明す
る。図3は、この製造方法における第1工程を説明する
ための断面図であり、基板上に屈折率が略均一のコアと
クラッドとを形成する方法の一例を示すものである。
Next, a method of manufacturing the optical waveguide device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the first step in this manufacturing method, and shows an example of a method of forming a core and a clad having a substantially uniform refractive index on a substrate.

【0037】図3(a)において、シリカガラス基板1
1上にゲルマニウムを添加したシリカガラスのコア層1
2が形成される。このコア層12は、例えば、四塩化シ
リコンと四塩化ゲルマニウムの火炎加水分解して生成さ
れたガラス微粒子を堆積し、この微粒子層を高温に加熱
して透明ガラス層に変えることによって得られる。
In FIG. 3A, a silica glass substrate 1
Core layer 1 of silica glass doped with germanium on 1
2 are formed. The core layer 12 is obtained, for example, by depositing glass fine particles generated by flame hydrolysis of silicon tetrachloride and germanium tetrachloride, and heating the fine particle layer to a high temperature to convert it to a transparent glass layer.

【0038】図3(b)において、コア層12上に、2
本の光導波路に対応したパターンを有するレジストパタ
ーン13a、13bがフォトリソグラフィを用いて形成
される。
In FIG. 3B, 2
Resist patterns 13a and 13b having patterns corresponding to the optical waveguides are formed using photolithography.

【0039】図3(c)において、レジストパターン1
3a、13bをマスクとして、反応性イオンエッチング
を用いてコア層12がエッチングされ、光導波路パター
ンに対応したコアリッジ12a、12bが形成される。
In FIG. 3C, the resist pattern 1
The core layer 12 is etched using reactive ion etching with the masks 3a and 13b as masks, and core ridges 12a and 12b corresponding to the optical waveguide pattern are formed.

【0040】図3(d)において、光導波路に対応した
パターンを有するコアリッジ12a、12bを覆うよう
に、火炎加水分解法によって形成されたシリカガラス微
粒子を堆積し、上部クラッド層14が形成される。これ
によって、屈折率が均一なコア及びクラッドの光回路が
完成する。
In FIG. 3D, silica glass fine particles formed by a flame hydrolysis method are deposited so as to cover the core ridges 12a and 12b having a pattern corresponding to the optical waveguide, and an upper clad layer 14 is formed. . As a result, an optical circuit having a core and a clad having a uniform refractive index is completed.

【0041】次に、本実施形態に係わる製造方法の第2
工程について説明する。現在、波長1.2〜7.0オン
グストロームのX線を照射して効率よくシリカガラスの
屈折率を上昇させることが知られている(例えば、特開
平8-169731号公報)。図4は、このX線の照射
量と屈折率変化量との関係を示すグラフである。すなわ
ち、横軸は照射量(mA・h)を表し、縦軸は屈折率変
化量(Δn)を表している。○印はGeが添加されたシ
リカガラスの屈折率変化を表し、●印は高純度シリカガ
ラスの屈折率変化を表わしている。ここで、mA・hは
X線発生装置内の蓄積電流と照射時間との積を表してい
る。
Next, the second method of the manufacturing method according to this embodiment will be described.
The steps will be described. At present, it is known that the refractive index of silica glass is efficiently increased by irradiating X-rays having a wavelength of 1.2 to 7.0 angstroms (for example, JP-A-8-169731). FIG. 4 is a graph showing the relationship between the X-ray irradiation amount and the refractive index change amount. That is, the horizontal axis represents the irradiation amount (mA · h), and the vertical axis represents the refractive index change amount (Δn). A mark indicates a change in the refractive index of silica glass to which Ge was added, and a mark indicates a change in the refractive index of high-purity silica glass. Here, mA · h represents the product of the accumulated current in the X-ray generator and the irradiation time.

【0042】図4のグラフから、Geが添加されたシリ
カガラスの方が、高純度のシリカガラスよりも屈折率が
高効率で変化していることがわかる。さらに、Geが添
加されたシリカガラスと高純度のシリカガラスとのいず
れにおいても、屈折率の変化量ΔnはX線照射量のn乗
(0<n<1)に比例することがわかる。したがって、
図4の結果を利用することによって、シリカガラスにお
いて所望の屈折率変化量Δnをうるために必要な照射量
を設定することができる。
From the graph of FIG. 4, it can be seen that the refractive index of silica glass to which Ge is added changes more efficiently than that of high-purity silica glass. Further, it can be seen that in both the silica glass to which Ge is added and the high-purity silica glass, the change amount Δn of the refractive index is proportional to the n-th power of the X-ray irradiation amount (0 <n <1). Therefore,
By using the results of FIG. 4, it is possible to set the irradiation amount necessary to obtain a desired refractive index change amount Δn in the silica glass.

【0043】図5は、第1工程によって形成された光導
波路にX線を照射して、屈折率分布を形成する断面図で
ある。
FIG. 5 is a cross-sectional view in which the optical waveguide formed in the first step is irradiated with X-rays to form a refractive index distribution.

【0044】第5図において、シンクロトロン放射光発
生装置(図示せず)から波長0.12nm〜0.7nm
のX線が発射され、X線の強度変調マスク31を介して
前述した第1工程によって形成された光導波路装置30
に照射される。X線マスク31は、X線を透過する支持
膜31aとその上に光導波路の一方のコア12b以外の
部分を覆うようにパターン化して形成されたX線シール
ド層31bとを含んでいる。
Referring to FIG. 5, a synchrotron radiation light generator (not shown) has a wavelength of 0.12 nm to 0.7 nm.
X-ray is emitted, and the optical waveguide device 30 formed by the above-described first step through the X-ray intensity modulation mask 31
Is irradiated. The X-ray mask 31 includes a support film 31a that transmits X-rays, and an X-ray shield layer 31b formed thereon by patterning so as to cover a portion other than the one core 12b of the optical waveguide.

【0045】シンクロトロン放射光(SR光)は、シン
クロトロン放射光装置からSR光導入管33を通してS
R光照射室32内に導かれる。照射室32は大気圧のヘ
リウムを含んでいるのに対して、導入管33のシンクロ
トロン放射光装置側は超高真空に維持されているので、
導入管33の途中に隔膜34が設けられている。
The synchrotron radiation (SR light) is transmitted from the synchrotron radiation device through the SR light introducing pipe 33 to the S
It is led into the R light irradiation chamber 32. Since the irradiation chamber 32 contains helium at atmospheric pressure, the synchrotron radiation device side of the introduction tube 33 is maintained in an ultra-high vacuum.
A diaphragm 34 is provided in the introduction pipe 33.

【0046】X線強度変調マスク31は、X線を透過す
る支持膜31aとその上に一方のコア以外の部分を覆う
ようにパターン化して形成されたX線シールド層31b
が設けられている。支持膜31aは、機械的強度とX線
透過能を有する窒化珪素、炭化珪素、ダイヤモンド等が
用いられる。X線シールド層31bは、X線に対して遮
蔽能力を有するタングステン層、タンタル層等が用いら
れる。
The X-ray intensity modulation mask 31 has an X-ray shield layer 31b formed by patterning so as to cover a portion other than one of the core and a support film 31a that transmits X-rays.
Is provided. For the support film 31a, silicon nitride, silicon carbide, diamond, or the like having mechanical strength and X-ray transmissivity is used. As the X-ray shield layer 31b, a tungsten layer, a tantalum layer, or the like having an X-ray shielding ability is used.

【0047】このようなX線マスク31介して、光導波
路のコアへX線を照射することによって、パターンに対
応してコアの屈折率が増大する。その結果、光導波路の
一方のコアの屈折率は他方のコアの屈折率より高く形成
することができる。
By irradiating the core of the optical waveguide with X-rays through such an X-ray mask 31, the refractive index of the core increases in accordance with the pattern. As a result, the refractive index of one core of the optical waveguide can be formed higher than the refractive index of the other core.

【0048】ここでは、光導波路のコア部にX線を照射
して屈折率分布を形成する場合について説明したが、一
方のコア周辺のクラッド部にX線を照射して、クラッド
に屈折率分布を形成してもよい。
Here, the case where the core portion of the optical waveguide is irradiated with X-rays to form a refractive index distribution has been described. However, the cladding around one of the cores is irradiated with X-rays, and the refractive index distribution is applied to the clad. May be formed.

【0049】なお、図1に示すようにコア1a、1bが
クラッド2u、2d内に埋め込まれている場合に、コア
1a、1bにX線を照射するとコア1a、1bの上部の
クラッド2uにも照射される。図4に示したように、高
純度シリカガラスよりGeが添加されたシリカガラスの
屈折率変化が大きいので実質的にコアの屈折率を高めら
れる。また、図2に示すように、コア1bの両横部のク
ラッド2bにX線を照射すると、コア1bの左右のクラ
ッド2bの屈折率は大きくなるがコア1bの上部あるい
は下部のクラッド2u、2dの屈折率は変化しない。し
かし、コア1bの左右のクラッド2bの屈折率は大きく
なっているので、コア1bの屈折率に対する周辺クラッ
ドの屈折率は実質的に上昇し、コア1bに対する周辺ク
ラッドの比屈折率差は変化する。
When the cores 1a and 1b are embedded in the claddings 2u and 2d as shown in FIG. 1, when the cores 1a and 1b are irradiated with X-rays, the cladding 2u above the cores 1a and 1b is also irradiated. Irradiated. As shown in FIG. 4, the refractive index of silica glass to which Ge is added is larger than that of high-purity silica glass, so that the refractive index of the core can be substantially increased. As shown in FIG. 2, when X-rays are irradiated on the claddings 2b on both sides of the core 1b, the claddings 2b on the left and right sides of the core 1b increase in refractive index, but the claddings 2u and 2d on the upper or lower part of the core 1b. Does not change. However, since the refractive indices of the claddings 2b on the left and right sides of the core 1b are large, the refractive index of the peripheral cladding with respect to the refractive index of the core 1b substantially increases, and the relative refractive index difference of the peripheral cladding with respect to the core 1b changes. .

【0050】次に、本実施形態に係わる製造方法の第3
工程について説明する。第3工程は、第1工程及び第2
工程によって形成された光導波路の特性を測定する工程
である。比屈折率差に関係する光導波路の特性は、前述
のように光導波路を伝搬する光の伝搬定数とその時の伝
搬モードの形状がある。伝搬定数は光導波路を伝搬する
光の位相に関係するので、低コヒーレント干渉計とフー
リエ分光法を用いて光の位相が測定する方法がある。
Next, the third method of the manufacturing method according to this embodiment will be described.
The steps will be described. The third step includes the first step and the second step.
This is a step of measuring characteristics of the optical waveguide formed in the step. As described above, the characteristics of the optical waveguide related to the relative refractive index difference include the propagation constant of light propagating through the optical waveguide and the shape of the propagation mode at that time. Since the propagation constant is related to the phase of light propagating through the optical waveguide, there is a method of measuring the phase of light using a low coherent interferometer and Fourier spectroscopy.

【0051】また、伝搬モードは光導波路を伝搬するエ
ネルギーの広がりに関係するので、2本のコア間で光学
的に結合されている場合は、伝搬モードの形状が相違す
ると結合状態が変化する。したがって、光源から発光さ
れた光を一方の光導波路に入射し、出射された光を受光
することによって結合特性が測定される。このように形
成された光回路に応じて測定方法は適宜選択される。
Since the propagation mode relates to the spread of the energy propagating through the optical waveguide, when the two cores are optically coupled, the coupling state changes if the shapes of the propagation modes are different. Therefore, the light emitted from the light source is incident on one of the optical waveguides, and the emitted light is received to measure the coupling characteristics. The measuring method is appropriately selected according to the optical circuit formed as described above.

【0052】本実施形態に係わる製造方法は、光導波路
の特性を測定する第3工程と、X線をコアあるいはクラ
ッドに照射する第2工程とを同時に行なう方法である。
光導波路の特性を測定しながらコア又はクラッドにX線
を照射するので、正確に所望の屈折率差を有する光導波
路を形成することができる。 (実施形態2)ここでは、方向性結合器による位相型光
導波路について説明する。 図6は、基板上に方向性結
合器が形成された位相型光導波路を示す平面図であり、
方向性結合器40は、基板41上にクラッドとなるべき
クラッドガラス層2d、2uが形成され、クラッドガラ
ス層2d、2u中にクラッドより高屈折率の2本のコア
1a、1bが埋め込まれ、コア1a、1bの両端部には
夫々入力ポート42a、42bと出力ポート42c、4
2dを有し、コア1a、1bの中間には結合部Cを備え
ている。この方向性結合器40は、入力ポート42a、
42bのいずれか一方から入力した光パワーを2つの出
力ポート42c、42dに夫々等分に分配する機能を有
する。
The manufacturing method according to the present embodiment is a method in which the third step of measuring the characteristics of the optical waveguide and the second step of irradiating the core or the clad with X-rays are performed simultaneously.
Since the core or the clad is irradiated with X-rays while measuring the characteristics of the optical waveguide, an optical waveguide having a desired refractive index difference can be accurately formed. (Embodiment 2) Here, a phase type optical waveguide using a directional coupler will be described. FIG. 6 is a plan view showing a phase-type optical waveguide in which a directional coupler is formed on a substrate,
In the directional coupler 40, clad glass layers 2d and 2u to be clad are formed on a substrate 41, and two cores 1a and 1b having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layers 2d and 2u. Input ports 42a and 42b and output ports 42c and 4c are provided at both ends of the cores 1a and 1b, respectively.
2d, and a coupling portion C is provided between the cores 1a and 1b. The directional coupler 40 includes an input port 42a,
It has a function of equally dividing the optical power input from either one of the two output ports 42b into the two output ports 42c and 42d.

【0053】分配の比率は、次のような関係がある。図
7において、2本の導波路中における導波モードの伝搬
定数が等しく、0≦z≦Lを結合領域とする。この結合
領域では互いに直交する正規モードとして、偶および奇
対称モードが存在し、各伝搬定数はβe、βoである。入
力端z=0で、導波路1から光が入力されると、この点
で電界振幅が等しい偶・奇対称モードが同相で励起され
る。これらのモードが結合領域を伝搬するにつれて、2
つのモード間に位相差(βe−βo)zが生ずる。この位
相差がπになる伝搬距離Lは L=π/(βe−βo) である。z=Lでの偶・奇対称モードの合成電界分布
は、z>Lにおける導波路2中の導波モードの電界分布
に一致するので、結合領域中のすべての光パワーは導波
路1から導波路2へ100%移行する。したがって、結
合長をL/2とすると、2つの出力ポートには夫々50
%のパワーが等しく分配される。(結合長を変えること
によって、所望の比率で分配することができる。) 次に、方向性結合器の製造方法について説明する。実施
形態1説明した製造方法によって、基板41上にシリカ
ガラス層2d、2uと、その中にシリカガラスにゲルマ
ニウムを添加した2本のコア1a、1bを埋め込むよう
に形成する。コア1a、1bの中間には方向性結合器4
0が形成される。
The distribution ratio has the following relationship. In FIG. 7, the propagation constants of the waveguide modes in the two waveguides are equal, and 0 ≦ z ≦ L is the coupling region. In this coupling region, even and odd symmetric modes exist as normal modes orthogonal to each other, and the respective propagation constants are β e and β o . When light is input from the waveguide 1 at the input end z = 0, even / odd symmetric modes having the same electric field amplitude at this point are excited in phase. As these modes propagate through the coupling region, 2
A phase difference (β e −β o ) z occurs between the two modes. The propagation distance L at which the phase difference becomes π is L = π / (β e −β o ). Since the combined electric field distribution of the even / odd symmetric mode at z = L matches the electric field distribution of the waveguide mode in the waveguide 2 at z> L, all the optical power in the coupling region is guided from the waveguide 1. 100% transition to wave path 2. Therefore, assuming that the coupling length is L / 2, two output ports each have 50
% Power is equally distributed. (Distribution can be performed at a desired ratio by changing the coupling length.) Next, a method for manufacturing a directional coupler will be described. By the manufacturing method described in the first embodiment, the silica glass layers 2d and 2u are formed on the substrate 41, and the two cores 1a and 1b obtained by adding germanium to silica glass are embedded therein. A directional coupler 4 is provided between the cores 1a and 1b.
0 is formed.

【0054】コア4の断面寸法は8μm×8μm、コア
とクラッドとの間の比屈折率差Δn1=0.4%であ
る。この時、方向性結合器40を構成する一方の入力ポ
ート42aから波長1.55μmの光を入射し、2つの
出力ポート42c、42dのパワーを測定したところ両
者に0.8dBの差が生じた。
The cross-sectional dimension of the core 4 is 8 μm × 8 μm, and the relative refractive index difference Δn 1 between the core and the clad is 0.4%. At this time, light having a wavelength of 1.55 μm was incident from one input port 42a of the directional coupler 40, and the power of the two output ports 42c and 42d was measured. .

【0055】そこで、図5に示したX線照射装置を用い
て結合部Cの一方のコア1aにX線を照射すると同時
に、出力ポート42c、42dのパワーを測定した。そ
の結果、偶、奇対称モード間の位相差が変化し、コア1
bへの結合量が変化したので、出力端のパワーレベルを
等しくすることができた。コア1aの代わりにコア1b
の周辺のクラッドにX線を照射しても同様の効果を得る
ことができる。従来、この差が規定範囲に入らない場合
は不良品として処理されていたが、容易に修正可能とな
った。
Therefore, the X-ray irradiator shown in FIG. 5 was used to irradiate one core 1a of the joint C with X-rays, and at the same time, the power of the output ports 42c and 42d was measured. As a result, the phase difference between the even and odd symmetric modes changes, and the core 1
Since the amount of coupling to b changed, the power level at the output end could be equalized. Core 1b instead of core 1a
The same effect can be obtained by irradiating the X-rays to the cladding around the. Conventionally, if this difference does not fall within the specified range, it is treated as a defective product, but it can be easily corrected.

【0056】(実施形態3)ここでは、マッハツエンダ
干渉計による位相型光導波路について説明する。図8
は、基板上にマッハツエンダ干渉計が形成された位相型
光導波路を示す平面図であり、マッハツエンダ干渉計5
0は、基板51上にクラッドとなるべきクラッドガラス
層2d、2uが形成され、クラッドガラス層2d、2u
中にクラッドより高屈折率の2本のコア1a、1bが埋
め込まる。コア1a、1bの両端部には夫々入力ポート
52a、52bと出力ポート52c、52dを有し、ま
たコア1a、1bの中間には2箇所に結合部C1、C2
有して2つの方向性結合器が形成されている。
(Embodiment 3) Here, a phase type optical waveguide using a Mach-Zehnder interferometer will be described. FIG.
FIG. 2 is a plan view showing a phase type optical waveguide in which a Mach-Zehnder interferometer is formed on a substrate.
0 indicates that the clad glass layers 2d, 2u to be clad are formed on the substrate 51, and the clad glass layers 2d, 2u
Two cores 1a and 1b having a higher refractive index than the cladding are embedded therein. Both ends of the cores 1a and 1b have input ports 52a and 52b and output ports 52c and 52d, respectively, and two connecting portions C 1 and C 2 are provided between the cores 1a and 1b. A directional coupler is formed.

【0057】このマッハツエンダ干渉計50は、入力ポ
ート52a、52bのいずれか一方から入力した光パワ
ーを2つの出力ポート52c、52dにに分配する機能
を有する。また、2つの方向性結合器53a、53bの
間の光路差を調整することで分配の調整が可能であり、
熱的な位相シフタ等を設けることによってスイッチとし
て機能させることもできる。
The Mach-Zehnder interferometer 50 has a function of distributing the optical power input from one of the input ports 52a and 52b to two output ports 52c and 52d. The distribution can be adjusted by adjusting the optical path difference between the two directional couplers 53a and 53b.
By providing a thermal phase shifter or the like, it can function as a switch.

【0058】従来、この2つの方向性結合器53a、5
3bの間の光路差を調整するために、導波路上にスパッ
タ法で形成したアモルファス-シリコン膜を設け、導波
路に圧縮残留応力を付与する方法が行なわれていた(例
えば、「レーザ・トリミングによる光導波回路の位相制
御」(1989電子情報通信学会秋季全国大会:C-2
62))。この方法は光路差を調整するための構成が複
雑であり、また、微調整することが困難である。そこで
本実施形態は、正確に調整されたマッハツエンダ干渉計
およびその方法を提供するものである。
Conventionally, these two directional couplers 53a, 53a,
In order to adjust the optical path difference between the layers 3b, a method of providing an amorphous-silicon film formed by a sputtering method on the waveguide and applying a compressive residual stress to the waveguide has been performed (for example, “laser trimming”). Phase Control of Optical Waveguide Circuits "(1989 IEICE National Convention: C-2)
62)). In this method, the structure for adjusting the optical path difference is complicated, and fine adjustment is difficult. Thus, the present embodiment provides a precisely adjusted Mach-Zehnder interferometer and its method.

【0059】次に、図8に示すマッハツエンダ干渉計の
製造方法について説明する。実施形態1説明した製造方
法によって、基板51上にシリカガラス層2d、2u
と、その中にシリカガラスにゲルマニウムを添加した2
本のコア1a、1bを埋め込むように形成する。コア1
a、1bの中間には2つの方向性結合器53a、53b
が形成される。コア4の断面寸法は8μm×8μm、コ
アとクラッドとの間の比屈折率差Δn1=0.3%であ
る。次いで、一方の入力ポート52aから波長1.3μ
mの光を入射し、2つの出力ポート52c、52dのパ
ワーを測定した。殆どのパワーは出力ポート52dに出
力されたが、一部のパワーが出力ポート52cにも出力
された。
Next, a method of manufacturing the Mach-Zehnder interferometer shown in FIG. 8 will be described. The silica glass layers 2d and 2u are formed on the substrate 51 by the manufacturing method described in the first embodiment.
And germanium added to silica glass therein.
The cores 1a and 1b of the book are formed so as to be embedded. Core 1
The two directional couplers 53a and 53b are located between a and 1b.
Is formed. The cross-sectional dimension of the core 4 is 8 μm × 8 μm, and the relative refractive index difference Δn 1 between the core and the clad is 0.3%. Next, a wavelength of 1.3 μm is input from one input port 52a.
m, and the power of the two output ports 52c and 52d was measured. Most of the power was output to the output port 52d, but some power was also output to the output port 52c.

【0060】そこで、図5に示したX線照射装置を用い
て2つの結合部の中間のコア1a周辺のクラッドにX線
を照射すると同時に、出力端52c、52dのパワーを
測定した。その結果、コア1aを伝搬する位相が変化
し、出力ポート52cには出力されず、全部の出力が5
2dに現われた。コア1a周辺のクラッドの代わりにコ
ア1bにX線を照射しても同様の効果を得ることができ
る。
Therefore, the X-ray irradiator shown in FIG. 5 was used to irradiate the clad around the core 1a between the two coupling portions with X-rays, and at the same time, the power at the output terminals 52c and 52d was measured. As a result, the phase propagating through the core 1a changes and is not output to the output port 52c, but all outputs
Appeared in 2d. The same effect can be obtained by irradiating the core 1b with X-rays instead of the cladding around the core 1a.

【0061】(実施形態4)ここでは、アレイ導波路格
子による位相型光導波路について説明する。図9は、基
板上にアレイ導波路格子が形成された位相型光導波路を
示す平面図であり、入力導波路62aから入力した光
は、スラブ導波路63aで分布が広げられて、この結果
全てのアレイ導波路64に入力される。隣接するアレイ
導波路64の光路長は一定量ずつ異なるため、光が出射
側のスラブ導波路63bに到達する際には、波面(等位
相面)に傾きが生じる。さらに、この波面の傾きが波長
によって異なるため、波長に応じて異なった出力導波路
62bに光が出力される。
(Embodiment 4) Here, a phase-type optical waveguide using an arrayed waveguide grating will be described. FIG. 9 is a plan view showing a phase-type optical waveguide in which an arrayed waveguide grating is formed on a substrate. Light input from an input waveguide 62a has a distribution broadened by a slab waveguide 63a. Is input to the array waveguide 64. Since the optical path lengths of the adjacent arrayed waveguides 64 are different by a fixed amount, when the light reaches the slab waveguide 63b on the emission side, the wavefront (equiphase plane) is inclined. Further, since the inclination of the wavefront varies depending on the wavelength, light is output to the output waveguide 62b which varies depending on the wavelength.

【0062】このアレイ導波路格子の位相を調整する従
来の方法は、図12に示すように、アレイ導波路64に
位相調整膜65を設け、位相調整膜66をトリミングす
ることによって調整していた。この方法は位相を調整す
るための構成が複雑であり、また、微調整することが困
難である。そこで本実施形態は、正確に位相調整された
アレイ導波路格子およびその方法を提供するものであ
る。
In the conventional method of adjusting the phase of the array waveguide grating, as shown in FIG. 12, a phase adjustment film 65 is provided on the array waveguide 64, and the phase adjustment film 66 is trimmed. . In this method, the configuration for adjusting the phase is complicated, and fine adjustment is difficult. Therefore, the present embodiment provides an arrayed waveguide grating whose phase has been accurately adjusted and a method thereof.

【0063】次に、図9に示すアレイ導波路格子の製造
方法について説明する。実施形態1説明した製造方法に
よって、基板上にシリカガラス層と、その中にシリカガ
ラスにゲルマニウムを添加したコアからなる入出力導波
路62a、62bと、64本のアレイ導波路64を形成
し、それらの間に2つのスラブ導波路63a、63bを
配置して構成した。コアの断面寸法は4μm×4μm、
コアとクラッドとの間の比屈折率差Δn1=1.0%で
ある。
Next, a method of manufacturing the arrayed waveguide grating shown in FIG. 9 will be described. According to the manufacturing method described in Embodiment 1, a silica glass layer is formed on a substrate, and input / output waveguides 62a and 62b each including a core obtained by adding germanium to silica glass therein, and 64 array waveguides 64 are formed. Two slab waveguides 63a and 63b are arranged between them. The cross-sectional dimension of the core is 4 μm × 4 μm,
The relative refractive index difference Δn 1 between the core and the clad is 1.0%.

【0064】このように作製したアレイ導波路格子60
について、各アレイ導波路64を伝搬する光の位相を低
コヒーレント干渉計とフ−リエ分光法を用いて測定し、
その値が一定となるように、図5に示したX線照射装置
を用い各アレイ導波路64のコアに順次X線を照射し
た。その結果、隣接するアレイ導波路間の位相差を一定
にすることができた。
The arrayed waveguide grating 60 thus manufactured
, The phase of light propagating through each array waveguide 64 is measured using a low coherent interferometer and Fourier spectroscopy,
The core of each arrayed waveguide 64 was sequentially irradiated with X-rays using the X-ray irradiation apparatus shown in FIG. 5 so that the value became constant. As a result, the phase difference between adjacent array waveguides could be made constant.

【0065】(実施形態5)ここでは、リング共振器に
よる位相型光導波路について説明する。図10は、基板
上にリング共振器が形成された位相型光導波路を示す平
面図(同図(a))および側面図(同図(b))であ
り、リング共振器70は、基板71上にクラッドとなる
べきクラッドガラス層2d、2uが形成され、クラッド
ガラス層中にクラッドより高屈折率の1本のコア1S
埋め込まれると共に、コア1Sは1つの入力ポート72
aと1つの出力ポート72bを有し、かつ、コア1S
中間部にコア1Sと間隙Gを設けてリング状のコア1R
コア1Sと光学的に結合して配置されている。
(Embodiment 5) Here, a phase type optical waveguide using a ring resonator will be described. FIGS. 10A and 10B are a plan view (FIG. 10A) and a side view (FIG. 10B) showing a phase type optical waveguide in which a ring resonator is formed on a substrate. cladding glass layer 2d to be a cladding above, 2u are formed, together with one core 1 S of the high refractive index than the cladding in the cladding glass layer is buried, the core 1 S one input port 72
It has a one output port 72b, and the core 1 S and the gap G of the core 1 a ring-shaped provided R are arranged optically coupled to the core 1 S in the middle portion of the core 1 S .

【0066】このリング共振器70は、入力ポート72
aから入力した光はコア1Sを伝搬して出力ポート72
bに到達するとき、一部のパワーはリングコア1Rと結
合して損失が生ずる。この時の透過特性は、図11に示
すように急峻な波長依存性をもつため、波長フィルタと
して利用することができる。このように急峻な波長依存
性をもつリング共振器70の共振波長を調整し、所望の
波長を阻止するフィルタを形成することは極めて困難で
あり、例えば、「プレーナ光波回路技術による石英系光
導波型単一タップリング共振器の特性」(1991年電
子情報通信学会春季全国大会:C-244)等における
論文においてもそこまでは言及されていない。
This ring resonator 70 has an input port 72
The light input from a propagates through the core 1 S to output port 72.
When reaching b, some power is combined with the ring core 1 R and loss occurs. The transmission characteristic at this time has a steep wavelength dependence as shown in FIG. 11, so that it can be used as a wavelength filter. It is extremely difficult to adjust the resonance wavelength of the ring resonator 70 having such a steep wavelength dependence and to form a filter that blocks a desired wavelength. Characteristics of a single tap ring resonator "(1991 IEICE Spring National Convention: C-244), etc.

【0067】次に、図10に示すリング共振器70の製
造方法について説明する。実施形態1説明した製造方法
によって、基板71上にシリカガラス層2d、2uと、
その中にシリカガラスにゲルマニウムを添加した1本の
コア1Sとリング状のコア1Rは光学的に結合する程度に
接近させて埋め込んで形成する。コア1Sおよびリング
コア1Rの断面寸法は7μm×7μm、コアとクラッド
との間の比屈折率差Δn1=0.3%である。この時、
リング共振器を構成する一方の入力ポート72aから波
長1.55μmの光を入射し、出力ポート72bのパワ
ーを測定したところ図11に示すように急峻な波長阻止
フィルタ特性が得られた。
Next, a method of manufacturing the ring resonator 70 shown in FIG. 10 will be described. According to the manufacturing method described in the first embodiment, the silica glass layers 2d and 2u
Part 1 of the cores 1 S and a ring-shaped core 1 R of the addition of germanium to silica glass in the form embedded by close enough to optically couple. The cross-sectional dimensions of the core 1 S and the ring core 1 R are 7 μm × 7 μm, and the relative refractive index difference Δn 1 between the core and the clad is 0.3%. At this time,
Light having a wavelength of 1.55 μm was incident from one input port 72a constituting the ring resonator, and the power of the output port 72b was measured. As shown in FIG. 11, a sharp wavelength rejection filter characteristic was obtained.

【0068】次いで、図5に示したX線照射装置を用い
てリングコア1RにX線を照射してリングコア1Rの屈折
率を大きくしてリングの光路長を調整すると同時に、出
力ポート72bにおいて出力パワー波長特性を測定し
た。その結果、共振波長を短波長側に変化させることが
できた。リングコアの代わりにコア周辺のクラッドにX
線を照射すると長波長側にシフトすることができる。
Then, the ring core 1 R is irradiated with X-rays by using the X-ray irradiator shown in FIG. 5 to increase the refractive index of the ring core 1 R and adjust the optical path length of the ring, and at the same time, the output port 72 b Output power wavelength characteristics were measured. As a result, the resonance wavelength could be changed to the shorter wavelength side. X on the cladding around the core instead of the ring core
Irradiation with a line can shift to a longer wavelength side.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明の位相型光導波路は、基板上に形
成されたコアの中、少なくとも1本のコア又はコア周辺
のクラッドにX線を照射してコア又はクラッドの屈折率
を変化するので、正確な位相定数を有する光導波路を得
ることができる。本発明に係わる位相型光導波路の製造
方法は、光導波路の特性をモニタしながらコア又はクラ
ッドにX線を照射するので、正確に所望の位相量を有す
る光導波路を形成することができる。
According to the phase type optical waveguide of the present invention, at least one of the cores formed on the substrate or the clad around the core is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad. Therefore, an optical waveguide having an accurate phase constant can be obtained. In the method for manufacturing a phase-type optical waveguide according to the present invention, the core or the clad is irradiated with X-rays while monitoring the characteristics of the optical waveguide, so that an optical waveguide having a desired phase amount can be formed accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施形態に係わる光導波路装置の構成を示す
平面図(図1(a))と側面図(図1(b))である。
FIG. 1 is a plan view (FIG. 1A) and a side view (FIG. 1B) showing the configuration of an optical waveguide device according to the present embodiment.

【図2】本実施形態に係わる光導波路装置の他の構成を
示す平面図(図2(a))と側面図(図2(b))であ
る。
FIG. 2 is a plan view (FIG. 2A) and a side view (FIG. 2B) showing another configuration of the optical waveguide device according to the present embodiment.

【図3】本実施形態に係わる光導波路装置の製造方法を
説明するための断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the optical waveguide device according to the embodiment.

【図4】X線の照射量と屈折率変化量との関係を示すグ
ラフである。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between an X-ray irradiation amount and a refractive index change amount.

【図5】X線照射装置の構成を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of an X-ray irradiation device.

【図6】方向性結合器を備えた位相型光導波路の構成を
示す平面図(図6(a))と側面図(図6(b))であ
る。
FIGS. 6A and 6B are a plan view (FIG. 6A) and a side view (FIG. 6B) showing a configuration of a phase-type optical waveguide having a directional coupler.

【図7】方向性結合器の機能を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a function of a directional coupler.

【図8】マッハツエダ干渉計を備えた位相型光導波路の
構成を示す平面図(図8(a))と側面図(図8
(b))である。
FIG. 8 is a plan view (FIG. 8A) and a side view (FIG. 8) showing the configuration of a phase-type optical waveguide including a Mach-Zueda interferometer.
(B)).

【図9】アレイ導波路格子を備えた光導波路装置の構成
を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a configuration of an optical waveguide device having an arrayed waveguide grating.

【図10】リング共振器を備えた位相型光導波路の構成
を示す斜視平面図である。
FIG. 10 is a perspective plan view showing a configuration of a phase-type optical waveguide including a ring resonator.

【図11】リング共振器の波長特性を示すグラフであ
る。
FIG. 11 is a graph showing wavelength characteristics of a ring resonator.

【図12】従来のアレイ導波路格子の構成を示す平面図
である。
FIG. 12 is a plan view showing a configuration of a conventional arrayed waveguide grating.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・コア、2、14・・・クラッド層、3、11、41、
51、71・・・基板、12・・・コア層、13・・・レジス
ト、30・・・光導波路、31・・・X線強度変調マスク、3
2・・・照射室、33・・・導入管、34・・・隔膜、40・・・方
向性結合器、4、42、52、72・・・入出力ポート、
50・・・マッハツエダ干渉計、60・・・アレイ導波路格
子、62・・・入出力導波路、63・・・スラブ導波路、64
・・・アレイ導波路、65・・・位相調整膜、70・・・リング
共振器、C・・・結合部、G・・・間隙、L・・・結合長、β・・・
位相定数
1 ... core, 2, 14 ... clad layer, 3, 11, 41,
51, 71: substrate, 12: core layer, 13: resist, 30: optical waveguide, 31: X-ray intensity modulation mask, 3
2 ... irradiation chamber, 33 ... introduction tube, 34 ... diaphragm, 40 ... directional coupler, 4, 42, 52, 72 ... input / output port
50: Mach-Zueda interferometer, 60: Array waveguide grating, 62: Input / output waveguide, 63: Slab waveguide, 64
... array waveguide, 65 ... phase adjustment film, 70 ... ring resonator, C ... coupling part, G ... gap, L ... coupling length, β ...
Phase constant

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層が形成され、前記クラッドガラス層中にクラッド
より高屈折率の複数本のコアが埋め込まれ、少なくとも
1つの入力ポートと1つの出力ポートを有する位相型光
導波路において、 前記複数本のコアの中、少なくとも1本のコア又は当該
コア周辺のクラッドにX線を照射して前記コア又は前記
クラッドの屈折率を変化せしめて、前記コアと前記クラ
ッドとの間を伝搬する光の位相が調整されたことを特徴
とする位相型光導波路。
1. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, a plurality of cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer, and at least one input port and one output port are formed. In the phase-type optical waveguide having, among the plurality of cores, at least one core or a clad around the core is irradiated with X-rays to change a refractive index of the core or the clad, and the core and the clad are changed. A phase-type optical waveguide, wherein the phase of light propagating between the cladding and the cladding is adjusted.
【請求項2】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層を形成し、前記クラッドガラス層中にクラッドよ
り高屈折率の複数本のコアを埋め込むと共に、少なくと
も1つの入力ポートと1つの出力ポートを有する位相型
光導波路を形成する第1工程と、 前記光導波路の特性をモニタしながら、前記光導波路の
少なくとも1本のコア又は当該コア周辺のクラッドにX
線を照射して前記コア又は前記クラッドの屈折率を変化
せしめて、前記コアと前記クラッドとの間を伝搬する光
の位相を調整する第2工程とを有することを特徴とする
位相型光導波路の製造方法。
2. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, a plurality of cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer, and at least one input port and one output port are formed. A first step of forming a phase-type optical waveguide having at least one core of the optical waveguide or a clad around the core while monitoring characteristics of the optical waveguide.
A second step of irradiating a line to change the refractive index of the core or the clad to adjust the phase of light propagating between the core and the clad. Manufacturing method.
【請求項3】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層が形成され、前記クラッドガラス層中にクラッド
より高屈折率の2本のコアが埋め込まれ、前記2本のコ
アは中間で結合部を有すると共に、前記2本のコアの片
方の端は少なくとも1つの入力ポートと接続され、他方
の端は2つの出力ポートと接続された位相型光導波路に
おいて、 前記結合部における2本のコアの中、少なくとも1本の
コア又は当該コア周辺のクラッドにX線を照射して前記
コア又は前記クラッドの屈折率を変化せしめて、前記コ
アと前記クラッドとの間を伝搬する光の位相が調整され
たことを特徴とする位相型光導波路。
3. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and two cores having a higher refractive index than the clad are buried in the clad glass layer. A phase-type optical waveguide having one end connected to at least one input port and the other end connected to two output ports, wherein the two cores in the coupling portion are By irradiating at least one core or the clad around the core with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, the phase of light propagating between the core and the clad was adjusted. A phase type optical waveguide characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層を形成し、前記クラッドガラス層中にクラッドよ
り高屈折率の2本のコアが埋め込まれ、前記2本のコア
は中間で結合部を有すると共に、前記2本のコアの片方
の端は少なくとも1つの入力ポートと接続され、他方の
端は2つの出力ポートと接続された位相型光導波路を形
成する第1工程と、 前記位相型光導波路の一方の入力ポートから光を入力
し、2つの出力ポートの出力光のパワーをモニタしなが
ら、前記結合部における2本のコアの中、少なくとも1
本のコア又は当該コア周辺のクラッドにX線を照射して
前記コア又は前記クラッドの屈折率を変化せしめ、前記
コアと前記クラッドとの間を伝搬する光の位相を調整す
る第2工程とを有することを特徴とする位相型光導波路
の製造方法。
4. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and two cores having a higher refractive index than the clad are buried in the clad glass layer. A first step of forming a phase-type optical waveguide having one end of the two cores connected to at least one input port and the other end connected to two output ports; Light is input from one input port of the waveguide, and at least one of the two cores in the coupling unit is monitored while monitoring the power of the output light from the two output ports.
A second step of irradiating the core of the book or the clad around the core with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, and adjusting the phase of light propagating between the core and the clad. A method for manufacturing a phase-type optical waveguide, comprising:
【請求項5】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層が形成され、前記クラッドガラス層中にクラッド
より高屈折率の2本のコアが埋め込まれ、前記2本のコ
アは2箇所で結合部を有すると共に、前記2本のコアの
片方の端は少なくとも1つの入力ポートと接続され、他
方の端は2つの出力ポートと接続された位相型光導波路
において、 前記2箇所の結合部の中間における、少なくとも1本の
コア又は当該コア周辺のクラッドにX線を照射して前記
コア又は前記クラッドの屈折率を変化せしめて、前記コ
アと前記クラッドとの間を伝搬する光の位相が調整され
たことを特徴とする位相型光導波路。
5. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and two cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer, and the two cores are joined at two locations. And one end of the two cores is connected to at least one input port, and the other end is a phase-type optical waveguide connected to two output ports. By irradiating at least one core or the clad around the core with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, the phase of light propagating between the core and the clad was adjusted. A phase type optical waveguide characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層を形成し、前記クラッドガラス層中にクラッドよ
り高屈折率の2本のコアが埋め込まれ、前記2本のコア
は2箇所で結合部を有すると共に、前記2本のコアの片
方の端は少なくとも1つの入力ポートと接続され、他方
の端は2つの出力ポートと接続された位相型光導波路を
形成する第1工程と、 前記位相型光導波路の一方の入力ポートから光を入力
し、2つの出力ポートの出力パワーをモニタしながら、
前記2箇所の結合部の中間における、少なくとも1本の
コア又は当該コア周辺のクラッドにX線を照射して前記
コア又は前記クラッドの屈折率を変化せしめ、前記コア
と前記クラッドとの間を伝搬する光の位相を調整する第
2工程とを有することを特徴とする位相型光導波路の製
造方法。
6. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, and two cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer, and the two cores are joined at two locations. A first step of forming a phase-type optical waveguide in which one end of the two cores is connected to at least one input port and the other end is connected to two output ports; While inputting light from one input port of the optical waveguide and monitoring the output power of two output ports,
At least one core or the clad around the core in the middle of the two coupling portions is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad and propagate between the core and the clad. And a second step of adjusting the phase of the light to be emitted.
【請求項7】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層が形成され、前記クラッドガラス層中にクラッド
より高屈折率の複数本のコアが埋め込まれると共に、前
記複数本のコアの片方の端はスラブ導波路を介して少な
くとも1つの入力ポートと接続され、他方の端はスラブ
導波路を介して少なくとも2つの出力ポートと接続され
た位相型光導波路において、 前記複数本のコアの中、少なくとも1本のコア又は当該
コア周辺のクラッドにX線を照射して前記コア又は前記
クラッドの屈折率を変化せしめて、前記コアと前記クラ
ッドとの間を伝搬する光の位相が調整されたことを特徴
とする位相型光導波路。
7. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, a plurality of cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer, and one end of each of the plurality of cores is A phase-type optical waveguide connected to at least one input port via a slab waveguide and the other end connected to at least two output ports via a slab waveguide; By irradiating the core of the book or the clad around the core with X-rays to change the refractive index of the core or the clad, the phase of light propagating between the core and the clad is adjusted. A phase-type optical waveguide.
【請求項8】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層を形成し、前記クラッドガラス層中にクラッドよ
り高屈折率の複数本のコアを埋め込むと共に、前記複数
本のコアの片方の端はスラブ導波路を介して少なくとも
1つの入力ポートと接続され、他方の端はスラブ導波路
を介して少なくとも2つの出力ポートと接続された位相
型光導波路を形成する第1工程と、 前記位相型光導波路の一方の入力ポートから光を入力
し、出力ポートの出力パワーをモニタしながら、前記光
導波路の少なくとも1本のコア又は当該コア周辺のクラ
ッドにX線を照射して前記コア又は前記クラッドの屈折
率を変化せしめて、前記コアと前記クラッドとの間を伝
搬する光の位相を調整する第2工程とを有することを特
徴とする位相型光導波路の製造方法。
8. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, a plurality of cores having a higher refractive index than the clad are embedded in the clad glass layer, and one end of the plurality of cores is a slab. A first step of forming a phase-type optical waveguide connected to at least one input port via a waveguide and the other end connected to at least two output ports via a slab waveguide; While inputting light from one of the input ports and monitoring the output power of the output port, at least one core of the optical waveguide or a clad around the core is irradiated with X-rays to refract the core or the clad. A second step of adjusting the phase of the light propagating between the core and the clad by changing a rate.
【請求項9】 基板上にクラッドとなるべきクラッドガ
ラス層が形成され、前記クラッドガラス層中にクラッド
より高屈折率の1本のコアが埋め込まれると共に、前記
1本のコアは1つの入力ポートと1つの出力ポートを有
し、かつ、前記コアの中間部に当該コアと間隙を設けて
リング状のコアが前記1本のコアと光学的に結合して配
置された位相型光導波路において、 前記リング状のコア又は当該コア周辺のクラッドにX線
を照射して前記コア又は前記クラッドの屈折率を変化せ
しめて、前記リング状のコアと当該コア周辺のクラッド
との間を伝搬し共振する光の位相が調整されたことを特
徴とする位相型光導波路。
9. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, one core having a higher refractive index than the clad is embedded in the clad glass layer, and the one core is connected to one input port. And a single output port, and a phase-type optical waveguide in which a ring-shaped core is disposed optically coupled to the one core by providing a gap with the core in an intermediate portion of the core, The ring-shaped core or the cladding around the core is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the cladding, and propagates between the ring-shaped core and the cladding around the core to resonate. A phase-type optical waveguide, wherein the phase of light is adjusted.
【請求項10】 基板上にクラッドとなるべきクラッド
ガラス層を形成し、前記クラッドガラス層中にクラッド
より高屈折率の1本のコアを埋め込むと共に、前記1本
のコアは1つの入力ポートと1つの出力ポートを有し、
かつ、前記コアの中間部に当該コアと間隙を設けてリン
グ状のコアが前記1本のコアと光学的に結合して配置さ
れた位相型光導波路を形成する第1工程と、 前記位相型光導波路の入力ポートから光を入力し、出力
ポートの出力パワーをモニタしながら、前記リング状の
コア又は当該コア周辺のクラッドにX線を照射して前記
コア又は前記クラッドの屈折率を変化せしめて、前記リ
ング状のコアと当該コア周辺のクラッドとの間を伝搬し
共振する光の位相を調整する第2工程とを有することを
特徴とする位相型光導波路の製造方法。
10. A clad glass layer to be a clad is formed on a substrate, one core having a higher refractive index than the clad is embedded in the clad glass layer, and the one core is connected to one input port. Has one output port,
A first step of forming a phase-type optical waveguide in which a ring-shaped core is optically coupled to the one core to form a phase-type optical waveguide by providing a gap with the core in an intermediate portion of the core; While inputting light from the input port of the optical waveguide and monitoring the output power of the output port, the ring-shaped core or the clad around the core is irradiated with X-rays to change the refractive index of the core or the clad. A second step of adjusting the phase of light that propagates and resonates between the ring-shaped core and the clad around the core, thereby producing a phase-type optical waveguide.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008516283A (en) * 2004-10-08 2008-05-15 アジレント・テクノロジーズ・インク Vertical coupling of a resonant cavity to a bus waveguide

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008516283A (en) * 2004-10-08 2008-05-15 アジレント・テクノロジーズ・インク Vertical coupling of a resonant cavity to a bus waveguide

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