JPH1135315A - Production of high density mesoporous body - Google Patents

Production of high density mesoporous body

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JPH1135315A
JPH1135315A JP9209850A JP20985097A JPH1135315A JP H1135315 A JPH1135315 A JP H1135315A JP 9209850 A JP9209850 A JP 9209850A JP 20985097 A JP20985097 A JP 20985097A JP H1135315 A JPH1135315 A JP H1135315A
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JP
Japan
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surfactant
density
alkoxysilane
solution
silica
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Application number
JP9209850A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Fukushima
喜章 福嶋
Shinji Inagaki
伸二 稲垣
Arimichi Yamada
有理 山田
Kensho Sugimoto
憲昭 杉本
Osamu Kanemitsu
修 金光
Yoshio Osugi
芳雄 大杉
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Cataler Corp
Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Cataler Industrial Co Ltd
Toyota Central R&D Labs Inc
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    • Y02P20/129Energy recovery, e.g. by cogeneration, H2recovery or pressure recovery turbines

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a high density mesoporous body having a uniform pore diameter which is useful as an adsorbent and the like with good reproducibility while suppressing the reaction by mixing an alkoxysilane having a specified acid value, water and a surfactant. SOLUTION: An alkoxy silane having <=0.0045 acid value, preferably tetramethoxysilane, and water and a surfactant preferably comprising a compd. having 2 to 18C alkyl groups and hydrophilic groups and more preferably alkyltrimethylammonium (e.g. hexadecyl trimethylammonium chloride) are mixed while adding a small amt. of an acid (diluted hydrochloric acid) to control pH to 1 to 4. Then an aq. soln. of NaOH is added to the mixture to control the pH to >=5 and to form a gel. The powdery or film state silica/surfactant composite body thus obtd. is subjected to calcination at 400 to 1000 deg.C or to solvent treatment with alcohol to remove the surfactant.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は,溶剤やガソリン等の回収,吸着
ヒートポンプ,温度調節,水処理及び脱臭等に用いるこ
とができる吸着剤や,排気ガスの浄化,有機合成,石油
の改質及びクラッキング等に用いることができる触媒等
として使用可能な,高密度メソ多孔体の製造方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an adsorbent which can be used for recovery of a solvent or gasoline, an adsorption heat pump, temperature control, water treatment, deodorization, etc., purification of exhaust gas, organic synthesis, petroleum reforming and cracking, etc. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a high-density mesoporous material that can be used as a catalyst or the like that can be used in a process.

【0002】[0002]

【従来技術】多孔体の中で,特に細孔径(本明細書にお
いて,多孔体の細孔の直径を意味する。)が1〜10n
mの範囲にあり,かつ上記細孔径が特に狭い範囲に分布
している多孔体をメソ多孔体と称する。このメソ多孔体
の中で,嵩密度が0.5g/cc以上であるものを,特
に高密度メソ多孔体という。
2. Description of the Related Art Among porous bodies, a pore diameter (in this specification, the diameter of pores of the porous body) is particularly 1 to 10 n.
The porous body in the range of m and the pore diameter is distributed in a particularly narrow range is called a mesoporous body. Among these mesoporous materials, those having a bulk density of 0.5 g / cc or more are particularly called high-density mesoporous materials.

【0003】この高密度メソ多孔体の製造方法として
は,第1に,アルコキシシラン,水及び界面活性剤を混
合し,シリカ/界面活性剤複合体を形成し,その後界面
活性剤を除去する方法(特願平8−69072号)があ
る。また,第2に,膜状の高密度メソ多孔体を製造する
方法としては,アルコキシシランを酸性下で加水分解し
て,更に界面活性剤を混合した溶液を,基材に塗布,乾
燥する方法(特願平7−101329号)がある。
As a method for producing this high-density mesoporous material, first, a method of mixing an alkoxysilane, water and a surfactant to form a silica / surfactant composite, and then removing the surfactant. (Japanese Patent Application No. 8-69072). Secondly, as a method for producing a film-like high-density mesoporous material, a method in which an alkoxysilane is hydrolyzed under acidic conditions, and a solution in which a surfactant is further mixed is applied to a substrate and dried. (Japanese Patent Application No. 7-101329).

【0004】[0004]

【解決しようとする課題】しかしながら,上記従来の製
造方法では,以下の問題点がある。第1の方法では,シ
リカ/界面活性剤を含む溶液が,1〜6時間以内に自然
にゲル化し,ゲル化時間も一定ではなく,反応の制御が
困難であった。また,反応前のアルコキシシランの重合
度が異なると,最終的にゲル化に至るまでの時間が一定
にならず,同一の特性をもつメソ多孔体を繰り返し得る
ことが困難であり,再現性が低い。
However, the above conventional manufacturing method has the following problems. In the first method, the solution containing silica / surfactant gelled spontaneously within 1 to 6 hours, the gelation time was not constant, and it was difficult to control the reaction. In addition, if the degree of polymerization of the alkoxysilane before the reaction is different, the time until finally gelation is not constant, and it is difficult to repeatedly obtain a mesoporous material having the same characteristics, resulting in poor reproducibility. Low.

【0005】また,原料のアルコキシシランの中で,そ
の加水分解物(Si(OX)4-n (OH)n )(X=ア
ルキル基,n;自然数)の割合が多い場合には,シリカ
/界面活性剤複合体の溶液がゲル化するまでの時間が短
くなる。この時間が短すぎると,均一な細孔が十分に発
達しない可能性がある。また,第2の方法は,多孔性の
膜を成形する方法であり,立体的な多孔体を成形する方
法については開示されていない。
In the case where the ratio of the hydrolyzate (Si (OX) 4-n (OH) n ) (X = alkyl group, n: natural number) in the raw material alkoxysilane is large, silica / The time required for the solution of the surfactant complex to gel becomes shorter. If this time is too short, uniform pores may not be sufficiently developed. The second method is a method for forming a porous film, and does not disclose a method for forming a three-dimensional porous body.

【0006】本発明はかかる従来の問題点に鑑み,細孔
径が均一で,再現性に優れた,高密度メソ多孔体の製造
方法を提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a method for producing a high-density mesoporous material having a uniform pore diameter and excellent reproducibility.

【0007】[0007]

【課題の解決手段】請求項1の発明は,アルコキシシラ
ン,水及び界面活性剤を混合し,ゲル化し,その後上記
界面活性剤を除去することにより得られる高密度メソ多
孔体の製造方法であって,上記アルコキシシランは,酸
価が0.0045以下であることを特徴とする高密度メ
ソ多孔体の製造方法である。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a method for producing a high-density mesoporous material obtained by mixing an alkoxysilane, water and a surfactant, gelling the mixture, and then removing the surfactant. The above alkoxysilane is a method for producing a high-density mesoporous material, wherein the acid value is 0.0045 or less.

【0008】本発明は,アルコキシシランの酸価を0.
0045以下と低くすることにより,シリカ/界面活性
剤の溶液の状態からゲル化するまでの時間を十分に確保
して,細孔径の均一な高密度メソ多孔体を得るものであ
る。即ち,放置してもシリカ/界面活性剤のゲル化がお
こらないため,細孔を十分な時間をかけて形成でき,均
一な細孔特性を有する高密度メソ多孔体を得ることがで
きる。一方,アルコキシシランの酸価が0.0045を
超える場合には,シリカ/界面活性剤複合体の溶液がゲ
ル化するまでの時間が短くなり,均一な細孔が十分に発
達しない可能性があり,またゲル化反応及び細孔特性の
制御が困難である。
According to the present invention, the acid value of alkoxysilane is set at 0.1.
By lowering it to 0045 or less, a sufficient time from the state of the silica / surfactant solution to the gelation is sufficiently ensured, and a high-density mesoporous material having a uniform pore diameter is obtained. That is, since the silica / surfactant does not gel even when left to stand, the pores can be formed in a sufficient time, and a high-density mesoporous material having uniform pore characteristics can be obtained. On the other hand, if the acid value of the alkoxysilane exceeds 0.0045, the time required for the solution of the silica / surfactant complex to gel becomes short, and uniform pores may not be sufficiently developed. Also, it is difficult to control the gelling reaction and the pore characteristics.

【0009】アルコキシシランは,例えば,化学式Si
(OX)4 (X=アルキル基)と示される化合物であ
る。アルコキシシランは,水等の混入により加水分解を
受けて,(Si(OX)4-n (OH)n )(X=アルキ
ル基,n;自然数)と変化する。ここで,HがH+ とし
て遊離することにより,アルコキシシラン溶液は微量な
がら酸性を示すことになる。この溶液の酸性度の測定値
をアルコキシシランの酸価と規定する。従って,上記の
溶液の酸性度を測定することにより,加水分解を受けた
アルコキシシラン量を間接的に知ることができる。
Alkoxysilanes are, for example, of the formula Si
(OX) 4 (X = alkyl group). Alkoxysilane undergoes hydrolysis by mixing with water or the like, and changes to (Si (OX) 4-n (OH) n ) (X = alkyl group, n: natural number). Here, the release of H as H + causes the alkoxysilane solution to show a slight acidity. The measured value of the acidity of this solution is defined as the acid value of the alkoxysilane. Therefore, by measuring the acidity of the above solution, the amount of hydrolyzed alkoxysilane can be indirectly known.

【0010】アルコキシシランの酸価の測定方法につい
て説明する。500mlのエタノール中に1gのKOH
を加えてKOH溶液を調製する。KOH溶液から2ml
秤量してビーカーに移し,これに少量のフェノールフタ
レインを加えると溶液は薄紫色を呈する。ここに一定量
のアルコキシシランを加え,5分以内に溶液が透明に変
色する点を中和点とみなす。中和までに加えたアルコキ
シシラン量を測定し,その値から,1gのアルコキシシ
ランを中和するに必要なKOHの重量をもとめ,これを
アルコキシシランの酸価と規定する。
The method for measuring the acid value of alkoxysilane will be described. 1 g of KOH in 500 ml of ethanol
To prepare a KOH solution. 2 ml from KOH solution
Weigh and transfer to a beaker, add a small amount of phenolphthalein and the solution will turn light purple. A certain amount of alkoxysilane is added thereto, and a point at which the solution turns transparent within 5 minutes is regarded as a neutralization point. The amount of alkoxysilane added before neutralization is measured, and from that value, the weight of KOH required to neutralize 1 g of alkoxysilane is determined, and this is defined as the acid value of the alkoxysilane.

【0011】アルコキシシランの酸価の測定例を説明す
る。アルコキシシランとして,2種類のテトラメチルオ
ルトシリケートの酸価を上記KOHを用いる方法で測定
した。一方のテトラメチルオルトシリケート(東京化成
製,以下TMOS−Aと記す。)は,75mlまでの添
加では,KOH溶液は薄桃色を呈すが,これを80ml
添加した場合にはKOH溶液が透明になり中和した。透
明になったときのTMOS−Aの量(80ml)から,
1gのTMOS−Aを中和するのに必要なKOHの重量
をもとめたところ,0.0049mg/gであった。こ
れを,TMOS−Aの酸価とする。
An example of measuring the acid value of alkoxysilane will be described. The acid values of two kinds of tetramethyl orthosilicates as alkoxysilanes were measured by the above-mentioned method using KOH. On the other hand, when up to 75 ml of tetramethylorthosilicate (manufactured by Tokyo Kasei, hereinafter referred to as TMOS-A) is added, the KOH solution exhibits a light pink color.
When added, the KOH solution became clear and neutralized. From the amount of TMOS-A when it became transparent (80 ml),
The weight of KOH required to neutralize 1 g of TMOS-A was 0.0049 mg / g. This is defined as the acid value of TMOS-A.

【0012】また,他方のテトラメチルオルトシリケー
ト(多摩化学製,以下TMOS−Bという。)の場合
は,130mlまでの添加では,KOH溶液は薄桃色で
あるが,これを140ml添加した場合にはKOH溶液
が透明になり中和した。透明になったときのTMOS−
Bの量(140ml)から,1gのTMOS−Bを中和
するのに必要なKOHの重量をもとめたところ,0.0
026mg/gであった。これを,TMOS−Bの酸価
とする。
In addition, in the case of the other tetramethyl orthosilicate (Tama Chemical Co., Ltd., hereinafter referred to as TMOS-B), the KOH solution is pale pink when added up to 130 ml. The KOH solution became clear and neutralized. TMOS when it becomes transparent
From the amount of B (140 ml), the weight of KOH required to neutralize 1 g of TMOS-B was determined.
It was 026 mg / g. This is defined as the acid value of TMOS-B.

【0013】本発明の製造方法は,以下の原理により均
一な細孔を形成することができる。その原理は,以下の
ように推定される。アルコキシシランと界面活性剤と
は,酸性下で,シリカ/界面活性剤複合体を形成する。
この複合体は,反応初期は溶液であるが,反応が進行す
るとゲル化する。このとき,網目状のシリカ骨格内に界
面活性剤の分子集合体が形成された状態でゲル化が起き
る。このため,ゲルには,界面活性剤の分子集合体の大
きさに対応した均一な細孔が形成される。その後,上記
のゲル化したシリカ/界面活性剤複合体から,界面活性
剤を除去することにより,ゲルの中に界面活性剤の分子
集合体の大きさに対応した細孔が開口する。
The production method of the present invention can form uniform pores according to the following principle. The principle is presumed as follows. The alkoxysilane and the surfactant form a silica / surfactant complex under acidity.
This complex is a solution at the beginning of the reaction, but gels as the reaction proceeds. At this time, gelation occurs in a state in which the molecular aggregate of the surfactant is formed in the network silica skeleton. Therefore, uniform pores corresponding to the size of the molecular assembly of the surfactant are formed in the gel. Thereafter, by removing the surfactant from the gelled silica / surfactant composite, pores corresponding to the size of the molecular assembly of the surfactant are opened in the gel.

【0014】次に,本発明の詳細について説明する。ア
ルコキシシランとしては,テトラメトキシシラン,テト
ラエトキシシラン,テトラプロポキシシランあるいはメ
チルトリメトキシシラン等のアルキルアルコキシシラン
等の1又は2種類以上を用いる事ができる。上記アルコ
キシシランは,特にテトラメトキシシランであることが
好ましい。これにより,比較的容易に高密度メソ多孔体
を製造することができる。
Next, the details of the present invention will be described. As the alkoxysilane, one or more kinds of alkylalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and methyltrimethoxysilane can be used. The alkoxysilane is particularly preferably tetramethoxysilane. Thereby, a high-density mesoporous body can be manufactured relatively easily.

【0015】上記界面活性剤は,アルキル基及び親水基
を有する化合物であることが好ましい。この化合物を使
用することにより,反応溶液中で界面活性剤の分子集合
体が形成され,その分子集合体の大きさに対応した1〜
10nm程度の均一な細孔が高密度メソ多孔体に形成さ
れるという効果を得ることができる。
The above-mentioned surfactant is preferably a compound having an alkyl group and a hydrophilic group. By using this compound, a molecular assembly of the surfactant is formed in the reaction solution, and 1 to 1 corresponding to the size of the molecular assembly is formed.
The effect that uniform pores of about 10 nm are formed in the high-density mesoporous body can be obtained.

【0016】また,上記アルキル基としては,炭素原子
数が2〜18のものが好ましい。これらのアルキル基よ
りなる界面活性剤を使用することにより,上記の分子集
合体が効率的に形成されるという効果を得ることができ
る。
The alkyl group preferably has 2 to 18 carbon atoms. By using a surfactant comprising these alkyl groups, the effect that the above-mentioned molecular assembly is efficiently formed can be obtained.

【0017】なお,上記炭素原子数が18よりも多い界
面活性剤は市販されておらず,コストがかかるおそれが
ある。また,炭素原子数が1である場合,つまり上記ア
ルキル基がメチル基である場合には,上記の分子集合体
が形成され難く,1〜10nm程度の均一な細孔が形成
されないおそれがある。また,上記親水基としては,例
えば,−N+ (CH3 3 ,=N+ (CH3 2 ,≡N
+ (CH3 )≡N+ ,−NH2 ,−NO,−OH,−C
OOH等が挙げられる。
Incidentally, the surfactant having more than 18 carbon atoms is not commercially available and may be costly. In addition, when the number of carbon atoms is 1, that is, when the alkyl group is a methyl group, the above-mentioned molecular aggregate is difficult to be formed, and uniform pores of about 1 to 10 nm may not be formed. Examples of the hydrophilic group include -N + (CH 3 ) 3 , = N + (CH 3 ) 2 , ≡N
+ (CH 3 ) ≡N + , -NH 2 , -NO, -OH, -C
OOH and the like can be mentioned.

【0018】上記界面活性剤としては,以下の化学式に
示される化合物を用いることができる。また,このよう
な化合物としては,アルキルトリメチルアンモニウムを
使用することが好ましい。アルキルトリメチルアンモニ
ウムは,以下の化学式により表される。
As the surfactant, a compound represented by the following chemical formula can be used. As such a compound, alkyltrimethylammonium is preferably used. Alkyltrimethylammonium is represented by the following chemical formula.

【0019】化学式・・・Cn 2n+1N(CH3 3 X ここに,nは2〜18の整数,Xは,例えば,塩化物イ
オン,臭化物イオン等のハロゲン化物イオンである。
Chemical formula: C n H 2n + 1 N (CH 3 ) 3 X Here, n is an integer of 2 to 18, and X is a halide ion such as a chloride ion or a bromide ion.

【0020】このような界面活性剤を用いることによ
り,反応溶液中で界面活性剤の分子集合体が効率的に形
成され,その分子集合体に対応した1〜10nm程度の
均一な細孔が形成され易いという効果を得ることができ
る。上記化学式により表される界面活性剤は,例えば,
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド,テト
ラデシルトリメチルアンモニウムクロライド,ドデシル
トリメチルアンモニウムブロマイド,デシルトリメチル
アンモニウムブロマイド,オクチルトリメチルアンモニ
ウムブロマイド等を挙げることができる。
By using such a surfactant, a molecular aggregate of the surfactant is efficiently formed in the reaction solution, and uniform pores of about 1 to 10 nm corresponding to the molecular aggregate are formed. The effect of being easily performed can be obtained. The surfactant represented by the above chemical formula is, for example,
Hexadecyltrimethylammonium chloride, tetradecyltrimethylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium bromide, decyltrimethylammonium bromide, octyltrimethylammonium bromide and the like can be mentioned.

【0021】界面活性剤は,粉末のまま添加してもよい
が,水,メタノール等の溶媒に溶解させて用いてもよ
い。界面活性剤のカチオン濃度は特に限定しない。ま
た,界面活性剤を溶媒に溶解させた溶液は,自分で調製
したもの又は市販のもののいずれを用いてもよい。コス
トの点から,市販の溶液を用いる方が,粉末から自分で
調製するよりも好ましい。
The surfactant may be added as a powder, or may be used by dissolving it in a solvent such as water or methanol. The cation concentration of the surfactant is not particularly limited. Further, as the solution in which the surfactant is dissolved in the solvent, either a solution prepared by oneself or a commercially available solution may be used. From a cost standpoint, using a commercially available solution is preferred over preparing it yourself from powder.

【0022】界面活性剤の添加量は,アルコキシシラン
を含む全原料中に含有されるSi1モルに対して,1〜
10モルとなるように添加することが好ましい。界面活
性剤の添加量が10モルより多い場合には,上記シリカ
/界面活性剤複合体の形成に寄与しない余剰の界面活性
剤が,上記シリカ/界面活性剤複合体に混在し,多孔体
の密度の低下又は製造コストの上昇を招くおそれがあ
る。
The amount of the surfactant added is 1 to 1 mol of Si contained in all the raw materials including the alkoxysilane.
It is preferable to add so that it may become 10 mol. When the addition amount of the surfactant is more than 10 mol, the surplus surfactant which does not contribute to the formation of the silica / surfactant complex is mixed in the silica / surfactant complex, and There is a possibility that the density may decrease or the manufacturing cost may increase.

【0023】一方,界面活性剤の添加量が1モル未満で
ある場合には,上記シリカ/界面活性剤複合体の形成に
寄与しない余剰のシリカが,上記シリカ/界面活性剤複
合体に混在し,均一な細孔が形成されている部分の比率
が低下し,必要な機能が充分発現されないおそれがあ
る。更に,上記シリカがシリカ/界面活性剤の表面に厚
い層を形成して付着し,得られた多孔体の細孔容積が減
少するおそれもある。
On the other hand, when the addition amount of the surfactant is less than 1 mol, excess silica not contributing to the formation of the silica / surfactant complex is mixed in the silica / surfactant complex. The ratio of the portion where uniform pores are formed may decrease, and the required functions may not be sufficiently exhibited. Further, the silica may form a thick layer on the surface of the silica / surfactant and adhere thereto, and the pore volume of the obtained porous body may be reduced.

【0024】アルコキシシラン,水及び界面活性剤から
なる水溶液中のH2 O/Siモル比は,10以下である
ことが好ましい。上記H2 O/Siモル比とは,上記原
料混合時に添加したH2 O(水)の総量に対するSiの
総量のモル比を示している。上記H2 O/Siモル比が
10以下であることにより,製造した高密度メソ多孔体
の密度を高めることができる。
The H 2 O / Si molar ratio in an aqueous solution comprising an alkoxysilane, water and a surfactant is preferably 10 or less. The H 2 O / Si molar ratio indicates a molar ratio of the total amount of Si to the total amount of H 2 O (water) added at the time of mixing the raw materials. When the H 2 O / Si molar ratio is 10 or less, the density of the manufactured high-density mesoporous body can be increased.

【0025】一方,上記H2 O/Siモル比が10より
大きい場合には,例えば,アルコキシシランが加水分解
・縮合して生成するシリカの微粒子同士の隙間が大きく
なり,高密度メソ多孔体の密度が低下するおそれがあ
る。
On the other hand, when the molar ratio of H 2 O / Si is greater than 10, for example, the gap between the silica fine particles generated by hydrolysis and condensation of alkoxysilane becomes large, and The density may decrease.

【0026】また,上記H2 O/Siモル比は1以上で
あることが好ましい。1未満の場合には,アルコキシシ
ランの加水分解が起こらず,シリカが生成されず,高密
度メソ多孔体を得ることができなくなるおそれがある。
Further, it is preferable that the H 2 O / Si molar ratio is 1 or more. If it is less than 1, there is a possibility that hydrolysis of the alkoxysilane does not occur, silica is not generated, and a high-density mesoporous body cannot be obtained.

【0027】次に,上記水溶液の混合方法としては,特
に限定しないが,最初にアルコキシシランに水を添加
し,室温で10分〜3時間攪拌した後に,界面活性剤を
添加することが好ましく,水の添加量は,アルコキシシ
ランが含有する珪素1モルに対して0.5〜10モルで
あることが好ましい。これにより,アルコキシシランが
直鎖状のアルコキシシラン重合物を経て,ゆっくり縮合
することにより,ち密なシリカの組織が形成され,密度
が高まるという効果を得ることができる。
The method of mixing the aqueous solution is not particularly limited, but it is preferable to first add water to the alkoxysilane, stir at room temperature for 10 minutes to 3 hours, and then add a surfactant. The amount of water to be added is preferably 0.5 to 10 mol based on 1 mol of silicon contained in the alkoxysilane. Thereby, by effecting the slow condensation of the alkoxysilane through the linear alkoxysilane polymer, a dense silica structure is formed and the effect of increasing the density can be obtained.

【0028】水の添加量が0.5モル未満である場合に
は,アルコキシシランの加水分解が不十分となり,強固
な高密度メソ多孔体の骨格が形成されない,あるいは多
孔体の密度が低下するおそれがある。一方,10モルよ
りも多く添加した場合には,アルコキシシランの加水分
解及び縮合が急速に行われ,シリカ組織が粗となり高密
度メソ多孔体の密度が低下するおそれがある。
If the amount of water is less than 0.5 mol, the hydrolysis of the alkoxysilane becomes insufficient, so that a strong high-density mesoporous skeleton is not formed or the density of the porous body is reduced. There is a risk. On the other hand, if more than 10 moles are added, hydrolysis and condensation of the alkoxysilane are rapidly performed, the silica structure becomes coarse, and the density of the high-density mesoporous body may decrease.

【0029】また,上記攪拌時間が10分未満である場
合には,高密度メソ多孔体の密度が低下するおそれがあ
る。一方,3時間を越えた場合には,均一な細孔が形成
されないおそれがある。
If the stirring time is less than 10 minutes, the density of the high-density mesoporous material may decrease. On the other hand, when the time exceeds 3 hours, uniform pores may not be formed.

【0030】更に,上記混合の際には,pH調整剤とし
て少量の酸を添加することが好ましい。これにより,各
成分が溶解しやすくなり,均一な溶液が調製しやすくな
る。混合の際の水溶液のpHは1〜4の範囲に調整する
ことが好ましい。上記pHが1未満である場合には,加
水分解及び縮合が急速に進行し,均一な細孔の形成が妨
げられるおそれがある。あるいは,生成した多孔体の密
度が低下するおそれがある。一方,上記pHが4より大
きい場合には,各成分の溶解が不十分であり,必要な加
水分解が行われないおそれがある。
Further, in the above mixing, it is preferable to add a small amount of acid as a pH adjuster. Thereby, each component is easily dissolved, and a uniform solution is easily prepared. It is preferable to adjust the pH of the aqueous solution at the time of mixing to a range of 1 to 4. If the pH is less than 1, hydrolysis and condensation proceed rapidly, and the formation of uniform pores may be hindered. Alternatively, the density of the generated porous body may be reduced. On the other hand, when the above-mentioned pH is higher than 4, the components may not be sufficiently dissolved, and the necessary hydrolysis may not be performed.

【0031】更に好ましくは,水溶液のpHは3〜4で
ある。これにより,アルコキシシランの加水分解がスム
ーズに進行し,均一な細孔の多孔体を得ることができ
る。一方,pHが3未満の場合には,高濃度の酸の添加
が必要となる。酸による加水分解反応は発熱反応で進行
するため,高濃度の酸の添加により反応が急激におこ
り,突沸がおきて危険度が高くなる場合がある。また,
反応が急激におこると,細孔が均一に形成されないおそ
れがある。更に,高濃度の酸を用いて水溶液のpHを3
未満に下げ過ぎると,ゲル化させるために多量のアルカ
リが必要となる。そのため,原料コストが高くなり,ま
たアルカリ添加により多孔体の構造の均一性が失われる
おそれがある。
More preferably, the pH of the aqueous solution is 3-4. Thereby, hydrolysis of the alkoxysilane proceeds smoothly, and a porous body having uniform pores can be obtained. On the other hand, when the pH is less than 3, it is necessary to add a high concentration of acid. Since the hydrolysis reaction with an acid proceeds by an exothermic reaction, the addition of a high-concentration acid may cause the reaction to occur rapidly, causing bumping and increasing the risk. Also,
If the reaction occurs rapidly, the pores may not be formed uniformly. Further, the pH of the aqueous solution is adjusted to 3 using a high concentration of acid.
If it is lowered too low, a large amount of alkali is required for gelling. Therefore, the raw material cost increases, and the uniformity of the structure of the porous body may be lost due to the addition of alkali.

【0032】上記酸としては,希塩酸(例えば,2規定
程度)を用いることができるが,硫酸等の他の酸でもよ
い。界面活性剤を添加した後は,アルコキシシランと界
面活性剤とが均一なミセル構造を形成するために,1時
間以上撹拌することが好ましい。
As the acid, dilute hydrochloric acid (for example, about 2N) can be used, but other acids such as sulfuric acid may be used. After the addition of the surfactant, it is preferable to stir for 1 hour or more in order to form a uniform micelle structure between the alkoxysilane and the surfactant.

【0033】次に,混合液のゲル化反応について述べ
る。アルコキシシラン,水及び界面活性剤からなる水溶
液を混合した後には,シリカの縮合反応を促進すること
により,混合液をゲル化させる。得られたゲルは,界面
活性剤を取り込んでシリカ/界面活性剤複合体を形成し
ている。請求項1に示したような酸価をもつアルコキシ
シラン(例えば,テトラメトキシシラン)を用いた混合
液は,そのまま放置してもゲル化はおこらないが,pH
を5以上とすると速やかにゲル化が起きる。水溶液のp
Hをあげるためには,アルカリ溶液を添加することが必
要である。
Next, the gelation reaction of the mixture will be described. After mixing the aqueous solution comprising the alkoxysilane, water and the surfactant, the mixture is gelled by promoting the condensation reaction of silica. The resulting gel incorporates a surfactant to form a silica / surfactant complex. A mixture using an alkoxysilane having an acid value as described in claim 1 (eg, tetramethoxysilane) does not gel even if left as it is,
If it is 5 or more, gelation occurs promptly. Aqueous solution p
In order to increase H, it is necessary to add an alkaline solution.

【0034】上記アルカリ溶液は,2規定(N)以下で
あることが好ましい。これにより,縮合反応をスムーズ
に進行させ,均一な構造をもつ多孔体を合成することが
できる。一方,2規定を超える場合には,反応が急激に
かつ部分的に起きるために,細孔が均一に形成されない
おそれがある。用いるアルカリとしては,例えば,Na
OH,NH3 ,KOH等がある。
It is preferable that the alkaline solution has a concentration of 2N (N) or less. Thereby, the condensation reaction can proceed smoothly, and a porous body having a uniform structure can be synthesized. On the other hand, if it exceeds 2N, the reaction may occur rapidly and partially, and thus pores may not be formed uniformly. As the alkali used, for example, Na
OH, NH 3 , KOH and the like.

【0035】また,アルカリは,メタノール,エタノー
ル,水等に溶解させた溶液として用いる。特に,均一に
ゲル化を起こすためには,用いるアルコキシシランと同
種のアルコール溶液であることが好ましい。
The alkali is used as a solution dissolved in methanol, ethanol, water or the like. In particular, in order to cause gelation uniformly, an alcohol solution of the same type as the alkoxysilane used is preferable.

【0036】また,本発明により膜状の高密度メソ多孔
体を得ることもできる。アルコキシシラン,水及び界面
活性剤からなる水溶液をアルミニウム等よりなる基板の
上にコートし,放置する。これにより,水溶液は基板の
上でゲル化し,膜状のシリカ/界面活性剤複合体を得る
ことができる。なお,上記基板に水溶液をコートする方
法としては,スピンコート法,キャスティング法,ディ
ップコート法等が挙げることができる。
Further, according to the present invention, a film-like high-density mesoporous material can be obtained. An aqueous solution containing an alkoxysilane, water and a surfactant is coated on a substrate made of aluminum or the like, and left. Thereby, the aqueous solution gels on the substrate, and a silica / surfactant composite in the form of a film can be obtained. As a method of coating the substrate with the aqueous solution, a spin coating method, a casting method, a dip coating method, or the like can be used.

【0037】次に,上記粉末状あるいは膜状のシリカ/
界面活性剤複合体より界面活性剤を除去し,高密度メソ
多孔体となす。この除去方法としては,例えば,焼成に
よる方法と,溶剤を用いる方法とが挙げれられる。
Next, the powdery or film-form silica /
The surfactant is removed from the surfactant complex to form a high-density mesoporous material. Examples of the removal method include a method using baking and a method using a solvent.

【0038】まず,焼成による除去方法を示す。上記シ
リカ/界面活性剤複合体を,400℃〜1000℃の範
囲で,好ましくは500℃〜700℃の範囲で加熱す
る。上記加熱時間は30分以上とすれば,実用上におい
て差し支えない程度に界面活性剤を除去することができ
る。しかし,上記シリカ/界面活性剤複合体より,上記
界面活性剤を完全に除去するためには,1時間以上加熱
することが好ましい。
First, a removing method by firing will be described. The silica / surfactant composite is heated in the range of 400C to 1000C, preferably in the range of 500C to 700C. If the heating time is 30 minutes or more, the surfactant can be removed to a degree that does not hinder practical use. However, in order to completely remove the surfactant from the silica / surfactant composite, it is preferable to heat for 1 hour or more.

【0039】また,上記加熱温度が400℃未満である
場合には,温度が低すぎるため,界面活性剤を充分に燃
焼除去することができないおそれがある。また,上記加
熱温度が1000℃を越えた場合には,温度が高すぎる
ために,細孔構造が崩壊するおそれがある。なお,上記
加熱に当たっての雰囲気は空気を流通させればよい。し
かし,多量の燃焼ガスが発生するため,加熱の初期は,
窒素ガス等の不活性ガスを流通させることがより好まし
い。
If the heating temperature is lower than 400 ° C., the temperature is too low, so that the surfactant may not be sufficiently removed by burning. On the other hand, when the heating temperature exceeds 1000 ° C., the temperature is too high, and the pore structure may be collapsed. The atmosphere for the heating may be air. However, since a large amount of combustion gas is generated, the initial stage of heating is
It is more preferable to flow an inert gas such as nitrogen gas.

【0040】次に,溶剤を使用する除去方法を示す。ま
ず,界面活性剤に対する溶解度の大きい溶媒に少量の陽
イオン成分を添加した溶剤を作成する。上記溶剤に,上
記シリカ/界面活性剤複合体を分散させ,攪拌する。こ
れにより,上記シリカ/界面活性剤複合体より,界面活
性剤が溶剤中に溶解し,分離する。その後,上記溶剤よ
り固形分を回収する。上記固形分が高密度メソ多孔体で
ある。
Next, a removing method using a solvent will be described. First, a solvent is prepared by adding a small amount of a cation component to a solvent having a high solubility for a surfactant. The silica / surfactant composite is dispersed in the solvent and stirred. Thereby, the surfactant is dissolved in the solvent and separated from the silica / surfactant composite. Then, the solid content is recovered from the solvent. The solid content is a high-density mesoporous body.

【0041】上記溶媒としては,例えば,エタノール,
メタノール等のアルコール,またアセトン等を使用する
ことができる。また,上記陽イオン成分を溶媒に添加す
るためには,該溶媒に以下の物質を添加することが好ま
しい。上記物質としては,塩酸,酢酸,塩化ナトリウ
ム,塩化カリウム等を使用することができる。これによ
り,一層効率よく上記界面活性剤を上記シリカ/界面活
性剤複合体より分離することができる。
Examples of the solvent include ethanol,
Alcohol such as methanol, and acetone or the like can be used. In order to add the cation component to the solvent, it is preferable to add the following substances to the solvent. As the above substances, hydrochloric acid, acetic acid, sodium chloride, potassium chloride and the like can be used. Thereby, the surfactant can be more efficiently separated from the silica / surfactant composite.

【0042】そして,上記陽イオンの添加濃度は,上記
溶媒に対して,0.1〜10モル/リットルとすること
が好ましい。上記添加濃度が0.1モル/リットル未満
である場合には,界面活性剤の分離が不十分であり,高
密度メソ多孔体に界面活性剤が残存するおそれがある。
一方,上記添加濃度が10モル/リットルより大きい場
合には,それ以上添加する効果がなく,コスト高となる
おそれがある。また,高密度メソ多孔体のシリカ骨格が
崩壊するおそれがある。
The concentration of the cation is preferably 0.1 to 10 mol / l with respect to the solvent. When the addition concentration is less than 0.1 mol / liter, the separation of the surfactant is insufficient, and the surfactant may remain in the high-density mesoporous material.
On the other hand, if the above concentration is more than 10 mol / liter, there is no effect of further addition, and there is a possibility that the cost is increased. In addition, the silica skeleton of the high-density mesoporous material may collapse.

【0043】次に,上記溶媒に対するシリカ/界面活性
剤複合体の分散量は,溶剤100ccに対し,0.5〜
50gであることが好ましい。0.5g未満である場合
には,シリカ/界面活性剤複合体の処理効率が悪く,溶
剤のコストや製造コストがかかるおそれがある。一方,
50gより多い場合には,界面活性剤の分離が不十分で
あり,高密度メソ多孔体中に界面活性剤が残存するおそ
れがある。
Next, the dispersion amount of the silica / surfactant composite in the above solvent is 0.5 to 0.5 per 100 cc of the solvent.
Preferably, it is 50 g. If the amount is less than 0.5 g, the processing efficiency of the silica / surfactant composite is poor, and the cost of the solvent and the production cost may be high. on the other hand,
If the amount is more than 50 g, the surfactant may not be sufficiently separated, and the surfactant may remain in the high-density mesoporous material.

【0044】また,上記溶剤にシリカ/界面活性剤複合
体を分散させた後の攪拌は,25〜100℃の温度範囲
において行うことが好ましい。これにより,界面活性剤
の分離のため処理時間が短縮することができる。上記温
度が25℃未満である場合には,処理時間の短縮が期待
されないおそれがある。一方,100℃を越えた場合に
は,加熱するためのエネルギーコストがかかる,あるい
は溶剤の揮発によるロスが多くなるおそれがある。
The stirring after dispersing the silica / surfactant composite in the above-mentioned solvent is preferably performed in a temperature range of 25 to 100 ° C. As a result, the processing time for separating the surfactant can be reduced. If the temperature is lower than 25 ° C., there is a possibility that a reduction in processing time is not expected. On the other hand, when the temperature exceeds 100 ° C., energy cost for heating is required, or loss due to evaporation of the solvent may increase.

【0045】なお,上記高密度メソ多孔体は,粉末と
し,その粒径ごとにふるい分ける,また使用目的に応じ
た形状に成形することができる。そして,これらのふる
い分け,成形の工程は,上記界面活性剤を除去する工程
の前に行うことができる。この場合には,成形時の細孔
の崩壊を妨げる,あるいは成形強度が向上するという効
果を得ることができる。
The above high-density mesoporous material can be made into a powder, sieved for each particle size, or formed into a shape according to the purpose of use. These sieving and forming steps can be performed before the step of removing the surfactant. In this case, it is possible to obtain an effect of preventing collapse of the pores during molding or improving molding strength.

【0046】また,最終的に要求される形状に上記シリ
カ/界面活性剤を成形した後に,界面活性剤の除去を行
い,高密度メソ多孔体とすることもできる。この場合に
は,成形時の細孔の崩壊を防止することができる。ま
た,成形強度を高めることができる。
After the silica / surfactant is formed into the finally required shape, the surfactant can be removed to obtain a high-density mesoporous material. In this case, collapse of the pores during molding can be prevented. Also, the molding strength can be increased.

【0047】本発明の製造方法により,例えば,以下の
説明する高密度メソ多孔体が得られる。即ち,高密度メ
ソ多孔体は,細孔径分布曲線における最大ピークを示す
細孔径が1〜10nmの範囲内にあり,かつ上記細孔径
分布曲線における最大のピークを示す細孔径の−40〜
+40%の細孔径範囲内に,全細孔容積の60%以上が
含まれており,更に,嵩密度が0.5g/cc以上であ
ることが好ましい。このような条件を満たす高密度メソ
多孔体は,例えば,図1に示すごとく,細孔を多量に有
するサブミクロンオーダーの一次粒子11が集合するこ
とにより構成され,該一次粒子同士の間の隙間10は大
変小さいか,または殆ど存在しない。
According to the production method of the present invention, for example, a high-density mesoporous material described below can be obtained. That is, in the high-density mesoporous material, the pore diameter showing the maximum peak in the pore diameter distribution curve is in the range of 1 to 10 nm, and the pore diameter showing the maximum peak in the pore diameter distribution curve is -40 to 40.
It is preferable that 60% or more of the total pore volume is included in the pore diameter range of + 40%, and the bulk density is 0.5 g / cc or more. A high-density mesoporous material that satisfies such conditions is constituted by, for example, as shown in FIG. 1, a collection of submicron-order primary particles 11 having a large number of pores, and a gap between the primary particles. 10 is very small or almost absent.

【0048】一方,嵩密度が低いメソ多孔体は,図2に
示すごとく,上記と同様のサブミクロンオーダーの一次
粒子91同士の間に大きな隙間90を持った構造を有し
ている。高密度メソ多孔体特有の吸着特性または触媒特
性等は,主に一次粒子内部の細孔により発現される。高
密度メソ多孔体は,吸着特性または触媒特性等の発現と
は関係のない一次粒子同士の間の隙間が大変小さいか,
または殆ど存在しない構造を有している。このため,高
密度メソ多孔体においては,吸着特性または触媒特性等
を損ねることなく,嵩密度の高い構造を実現することが
できる。従って,嵩密度が高く,均一な細孔径を有し,
吸着剤または触媒等として使用する際に,その特性を充
分発現することができる高密度メソ多孔体を得ることが
できる。
On the other hand, a mesoporous material having a low bulk density has a structure having a large gap 90 between primary particles 91 on the order of submicrons as described above, as shown in FIG. The adsorption characteristics or catalytic characteristics specific to the high-density mesoporous material are mainly exhibited by the pores inside the primary particles. In the high-density mesoporous material, the gap between the primary particles, which is not related to the development of the adsorption property or catalytic property, is very small,
Or it has a structure that hardly exists. For this reason, in a high-density mesoporous material, a structure having a high bulk density can be realized without impairing the adsorption characteristics or the catalytic characteristics. Therefore, it has high bulk density, uniform pore size,
When used as an adsorbent, a catalyst, or the like, a high-density mesoporous material that can sufficiently exhibit its characteristics can be obtained.

【0049】また,上記に関して,更に詳細に説明す
る。まず,高密度メソ多孔体における水蒸気の吸着等温
線において,相対蒸気圧(P/P0)が0.1〜0.8
1で,水蒸気の吸着/脱離が急激に発生することが一般
に知られている。そして,ある特定の高密度メソ多孔体
の吸着等温線が上記条件を満たすか否かは,ケルビン式
における細孔径と相対蒸気圧との関係から導くことがで
きる。
The above will be described in more detail. First, the relative vapor pressure (P / P0) is 0.1 to 0.8 in the adsorption isotherm of water vapor in the high-density mesoporous material.
It is generally known that water vapor adsorption / desorption occurs rapidly in No. 1. Whether or not the adsorption isotherm of a specific high-density mesoporous material satisfies the above condition can be derived from the relationship between the pore diameter and the relative vapor pressure in the Kelvin equation.

【0050】ここにケルビン式とは,高密度メソ多孔体
の細孔半径(r)と,吸着質が毛管凝縮を起こす相対蒸
気圧(P/P0)との関係を示す式であり,以下の
(1)式により示すことができる。 ln(P/P0)=(2VLγcosθ)/(rRT)...(1) なお,上記VLは,吸着質が液体状である場合のモル体
積,γは吸着質が液体状である場合の表面張力,θは接
触角,Rは気体定数,Tは絶対温度である。
Here, the Kelvin equation is an equation showing the relationship between the pore radius (r) of the high density mesoporous material and the relative vapor pressure (P / P0) at which the adsorbate causes capillary condensation. It can be shown by equation (1). ln (P / P0) = (2VLγcosθ) / (rRT). . . (1) where VL is the molar volume when the adsorbate is liquid, γ is the surface tension when the adsorbate is liquid, θ is the contact angle, R is the gas constant, and T is the absolute temperature. is there.

【0051】ここに吸着質が水蒸気である場合には,V
L=18.05・10-63 /mol,γ=72.59
・10-3N/m,R=8.3143J/deg・mo
l,θ=0という数値を(1)式に代入することができ
る。この結果,上記(1)式は,次の(2)式となる ln(P/P0)=−1.058/r...(2) なお,rの単位はnmである。
If the adsorbate is water vapor, V
L = 18.05 · 10 −6 m 3 / mol, γ = 72.59
・ 10 -3 N / m, R = 8.3143J / deg ・ mo
The numerical value of l, θ = 0 can be substituted into equation (1). As a result, the above equation (1) becomes the following equation (2): ln (P / P0) = − 1.058 / r. . . (2) The unit of r is nm.

【0052】上記(2)式より,細孔径分布において,
より細孔径が狭い範囲に分布している場合には,水蒸気
の吸着/脱着がより狭いP/P0の範囲で発生すること
が分かる。つまり,吸着等温線における,吸着が立ち上
がるところのP/P0と,吸着が飽和に達したところの
P/P0の差が小さい。
From the above equation (2), in the pore size distribution,
It can be seen that when the pore diameter is distributed in a narrower range, the adsorption / desorption of water vapor occurs in a narrower range of P / P0. In other words, in the adsorption isotherm, the difference between P / P0 where adsorption rises and P / P0 where adsorption reaches saturation is small.

【0053】高密度メソ多孔体は,その細孔径が1〜1
0nmの範囲内にある。そして,上記(2)式より,細
孔径が1〜10nmの範囲にある場合,吸着等温線にお
ける水蒸気の吸着/脱離を起こすP/P0の範囲は0.
12〜0.81となることが分かる。この範囲は,上述
したごとく,水蒸気の吸着/脱離が急激に生じる範囲で
ある。これにより,高密度メソ多孔体(P/P0が0.
12〜0.81の範囲において)は,吸着ヒートポン
プ,温度調節器等における吸着剤として最適な,小さな
P/P0の変化で大きく吸着量が変化するという特性を
有することが分かる。
The high-density mesoporous material has a pore diameter of 1-1.
It is in the range of 0 nm. According to the above equation (2), when the pore diameter is in the range of 1 to 10 nm, the range of P / P0 at which the adsorption / desorption of water vapor in the adsorption isotherm is 0.
It turns out that it becomes 12-0.81. This range is a range in which the adsorption / desorption of water vapor occurs rapidly, as described above. Thereby, the high-density mesoporous material (P / P0 is 0.
(In the range of 12 to 0.81), it can be seen that the amount of adsorption is largely changed by a small change of P / P0, which is optimal as an adsorbent in an adsorption heat pump, a temperature controller and the like.

【0054】上記細孔分布曲線につき以下に説明する。
上記細孔径分布曲線とは,高密度メソ多孔体の細孔容積
(V)を細孔径(D)で微分した値(dV/dD)を細
孔径(D)に対しプロットした曲線を示している(図3
参照)。上記細孔径分布曲線は,例えば,以下に示す気
体吸着法により作成することができる。なお,上記気体
吸着法において最もよく用いられる気体は窒素である
が,比較的分子径が小さくて,常温付近で吸着しやすい
メタノール蒸気もよく用いられる。
The pore distribution curve will be described below.
The pore diameter distribution curve is a curve in which a value (dV / dD) obtained by differentiating the pore volume (V) of the high-density mesoporous material with the pore diameter (D) is plotted against the pore diameter (D). (FIG. 3
reference). The pore size distribution curve can be created, for example, by the gas adsorption method described below. The most frequently used gas in the above gas adsorption method is nitrogen, but methanol vapor having a relatively small molecular diameter and easily adsorbing at around normal temperature is also often used.

【0055】メタノール吸着式細孔分布測定法について
述べる。まず,対象となる高密度メソ多孔体に常温でメ
タノール蒸気を導入する。その導入圧を徐々に増加させ
て,各平衡圧に対するメタノールの吸着量をプロットし
て等温線を作成する。この等温線から,上記細孔分布曲
線を浦野らの式を用いて計算により求める。
The methanol adsorption type pore distribution measuring method will be described. First, methanol vapor is introduced into the target high-density mesoporous material at room temperature. The inlet pressure is gradually increased, and the amount of methanol adsorbed for each equilibrium pressure is plotted to create an isotherm. From this isotherm, the above pore distribution curve is obtained by calculation using the formula of Urano et al.

【0056】次に,上記の「細孔径分布曲線における最
大のピークを示す直径の+−40%の直径範囲には全細
孔容積の60%以上が含まれている」という表現は,以
下の状態を表現している。例えば,上述した細孔径分布
曲線における最大のピークが2.7nmとなる高密度メ
ソ多孔体αを仮定する。この高密度メソ多孔体αにおい
て,細孔径が1.62(=2.7×0.6)〜3.78
(=2.7×1.4)nmの範囲にある細孔の容積を総
計した細孔容積Vを求める。一方,上記高密度メソ多孔
体αにおいて,全細孔容積の総計Vallを求める。
Next, the expression "the diameter range of + -40% of the diameter showing the maximum peak in the pore diameter distribution curve includes 60% or more of the total pore volume" is as follows. Expresses the state. For example, it is assumed that the high-density mesoporous material α has a maximum peak of 2.7 nm in the above-described pore diameter distribution curve. In this high-density mesoporous material α, the pore diameter is 1.62 (= 2.7 × 0.6) to 3.78.
The pore volume V is obtained by summing the volumes of the pores in the range of (= 2.7 × 1.4) nm. On the other hand, in the high-density mesoporous material α, the total value of the total pore volume Val is obtained.

【0057】そして,V/Vallの値が,仮に0.6
(60%)以上である場合には,上記高密度メソ多孔体
αが高密度メソ多孔体のひとつであるといえる。また
は,高密度メソ多孔体αの細孔径分布曲線において,細
孔径が1.62〜3.78nmとなる範囲の積分値が,
細孔径分布曲線の全積分面積の60%以上である場合に
も,上記高密度メソ多孔体αは高密度メソ多孔体である
といえる。
If the value of V / Val is assumed to be 0.6
(60%) or more, it can be said that the high density mesoporous body α is one of the high density mesoporous bodies. Alternatively, in the pore size distribution curve of the high-density mesoporous material α, the integral value in the range where the pore size is 1.62 to 3.78 nm is:
Even when it is 60% or more of the total integrated area of the pore diameter distribution curve, it can be said that the high density mesoporous material α is a high density mesoporous material.

【0058】このような条件を満たす高密度メソ多孔体
は,細孔径が狭い範囲に分布しているため,小さなP/
P0の変化に対し,吸着量が大きく変化するという効果
を得ることができる。なお,上記細孔径分布曲線におけ
る最大のピークを示す直径の+−40%の直径範囲に,
全細孔容積の60%未満しか含まれていなかった場合に
は,P/P0の変化に対する吸着量変化が小さく,調湿
機能や吸着ヒートポンプ特性が十分発現されないおそれ
がある。
The high-density mesoporous material satisfying such conditions has a small P /
The effect that the amount of adsorption greatly changes with respect to the change of P0 can be obtained. In addition, in the diameter range of + -40% of the diameter showing the maximum peak in the pore diameter distribution curve,
If less than 60% of the total pore volume is contained, the change in the adsorption amount with respect to the change in P / P0 is small, and the humidity control function and the adsorption heat pump characteristics may not be sufficiently exhibited.

【0059】また,高密度メソ多孔体の嵩密度は0.5
g/cc以上である。このため,上記高密度メソ多孔体
を吸着剤または触媒等として使用する際に,充填容器等
には,より多量の高密度メソ多孔体を充填することがで
きる。これにより,高い吸着特性または触媒特性の発現
が可能となる。あるいは,高密度メソ多孔体の充填容器
等を小さくすることが可能となり,該充填容器等をセッ
トする装置を小型とすることができる。
The bulk density of the high-density mesoporous material is 0.5
g / cc or more. Therefore, when the high-density mesoporous material is used as an adsorbent or a catalyst, a larger amount of the high-density mesoporous material can be filled in a filling container or the like. Thereby, it is possible to exhibit high adsorption characteristics or catalytic characteristics. Alternatively, it is possible to reduce the size of a high-density mesoporous filled container or the like, and to reduce the size of an apparatus for setting the filled container or the like.

【0060】また,細孔径分布曲線における最大のピー
クを示す細孔径が1〜10nmの範囲内にあり,かつ水
蒸気吸着等温線において,相対蒸気圧が0.2変化した
ときの吸着量変化が0.1g/cc以上の部分を有する
ことが好ましい。これにより,より少量の多孔体で湿度
制御や吸着ヒートポンプ特性が発現されるという効果を
得ることができる。なお,上記吸着量変化が,0.1g
/cc未満である場合には,多量の多孔体が必要とな
り,充填容器や装置全体が大型化するという問題を生じ
るおそれがある。
The pore diameter showing the maximum peak in the pore diameter distribution curve is in the range of 1 to 10 nm, and the change in the amount of adsorption when the relative vapor pressure changes by 0.2 in the water vapor adsorption isotherm is 0. It preferably has a portion of 0.1 g / cc or more. As a result, the effect that humidity control and adsorption heat pump characteristics are exhibited with a smaller amount of the porous body can be obtained. The change in the amount of adsorption was 0.1 g.
If it is less than / cc, a large amount of porous body is required, which may cause a problem that the size of the filling container and the entire device is increased.

【0061】上記「相対蒸気圧が0.2変化したときの
吸着量変化が0.1g/cc以上の部分を有する」と
は,水蒸気吸着等温線において,相対蒸気圧(P/P
0)が0.1と0.3の時の吸着量がそれぞれV0.1
0.2g/cc,V0.3 =0.5g/ccであるとした
とき,相対蒸気圧が0.2変化したときの吸着量変化は
0.3 −V0.1 =0.3g/ccとなり,「0.1g/
cc以上」に該当する,との意味である。相対蒸気圧の
変化は0〜1のどの範囲においてでも良く,又,吸着量
変化が0.1g/cc以上の部分が高密度メソ多孔体の
一部だけであっても良い。
The above-mentioned "the amount of change in the amount of adsorption when the relative vapor pressure changes by 0.2 has a portion of 0.1 g / cc or more" means that the relative vapor pressure (P / P
When 0) is 0.1 and 0.3, the adsorption amount is V 0.1 =
Assuming that 0.2 g / cc and V 0.3 = 0.5 g / cc, the change in the adsorption amount when the relative vapor pressure changes by 0.2 is V 0.3 −V 0.1 = 0.3 g / cc, and “0 .1g /
cc or more ". The change in the relative vapor pressure may be in any range of 0 to 1, and the portion where the change in the adsorption amount is 0.1 g / cc or more may be only a part of the high-density mesoporous material.

【0062】次に,高密度メソ多孔体は,全体の80w
t%以上が珪素及び酸素よりなることが好ましい。これ
により,吸着分子(例えば水分子)と多孔体表面との結
合は比較的弱いものとなり,吸着した分子が比較的脱離
し易く,可逆的に吸・脱着を繰り返すことができる。な
お,珪素及び酸素の含有率が80wt%未満である場合
には,珪素と酸素とは異なる元素が混合されることによ
り,表面に固体酸性等が発現され,吸着分子が容易に脱
離しないおそれがある。
Next, the high-density mesoporous material has a
It is preferable that at least t% be composed of silicon and oxygen. As a result, the bond between the adsorbed molecule (eg, water molecule) and the surface of the porous body becomes relatively weak, and the adsorbed molecule is relatively easily desorbed, so that the adsorption and desorption can be repeated reversibly. If the content of silicon and oxygen is less than 80% by weight, elements different from silicon and oxygen are mixed, solid acidity and the like appear on the surface, and the adsorbed molecules may not be easily desorbed. There is.

【0063】本発明の製造方法により得られた高密度メ
ソ多孔体は,例えば,溶剤やガソリン等の回収,吸着ヒ
ートポンプ,温度調節,水処理及び脱臭等に用いること
ができる吸着剤や,排気ガスの浄化,有機合成,石油の
改質及びクラッキング等に用いることができる。
The high-density mesoporous material obtained by the production method of the present invention can be used as, for example, an adsorbent which can be used for recovery of a solvent or gasoline, an adsorption heat pump, temperature control, water treatment, deodorization, etc. It can be used for purification, organic synthesis, petroleum reforming and cracking, etc.

【0064】[0064]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

実施形態例1 本発明の実施形態例にかかる高密度メソ多孔体の製造方
法について説明する。その概要は,酸価が0.0026
のアルコキシシラン,水及び界面活性剤を混合し,アル
カリ溶液でゲル化した後に,界面活性剤を除去すること
である。
Embodiment 1 A method for manufacturing a high-density mesoporous body according to an embodiment of the present invention will be described. The outline is that the acid value is 0.0026.
After mixing the alkoxysilane, water and the surfactant, and gelling with an alkaline solution, the surfactant is removed.

【0065】以下,本例の製造方法の詳細について説明
する。アルコキシシランとしてのTMOS−B(多摩化
学製のテトラメチルオルトシリケートをいう。以下,同
様)15kgを準備した。このTMOS−Bの酸価は,
KOH溶液を中和する上記の方法で測定知たところ,
0.0026であった。
Hereinafter, the details of the manufacturing method of this example will be described. 15 kg of TMOS-B (referred to as tetramethyl orthosilicate manufactured by Tama Chemical Co., Ltd .; hereinafter the same) as an alkoxysilane was prepared. The acid value of this TMOS-B is
When measured by the above method to neutralize the KOH solution,
It was 0.0026.

【0066】TMOS−B15kgに水3.42リット
ル及び0.1Nの塩酸100ccを添加して,室温で約
1時間攪拌した。この添加と攪拌により得られた水溶液
に,界面活性剤としてのヘキサデシルアンモニウムクロ
ライドのメタノール溶液(以下,HDTA/メタノール
溶液という。)12.96kg(カチオン濃度60.7
%)を更に添加して室温で約3時間攪拌した。水溶液の
粘度は徐々に増加したが,この時点ではゲル化にはいた
らない。
3.42 liters of water and 100 cc of 0.1N hydrochloric acid were added to 15 kg of TMOS-B, and the mixture was stirred at room temperature for about 1 hour. 12.96 kg of a methanol solution of hexadecyl ammonium chloride as a surfactant (hereinafter referred to as HDTA / methanol solution) (cation concentration: 60.7) was added to the aqueous solution obtained by the addition and stirring.
%) And stirred at room temperature for about 3 hours. The viscosity of the aqueous solution gradually increased, but did not gel at this point.

【0067】この水溶液に0.05N−NaOH/メタ
ノール溶液(アルカリ溶液)1.14リットルを攪拌し
ながら加えた。水溶液の粘度が更に増加して,pHが5
付近になると急速にゲル化し始めた。得られたゲル体
を,密閉容器にて室温で24時間以上放置した。この状
態がシリカ/界面活性剤複合体である。
To this aqueous solution, 1.14 liter of a 0.05N NaOH / methanol solution (alkali solution) was added with stirring. The viscosity of the aqueous solution further increases and the pH becomes 5
It began to gel rapidly in the vicinity. The obtained gel was left in a closed container at room temperature for 24 hours or more. This state is a silica / surfactant composite.

【0068】放置後のゲルを24時間以上風乾させ,更
に110℃にて12時間以上乾燥させた。その後,55
0℃にて4時間空気中にて焼成を行い,該シリカ/界面
活性剤複合体より界面活性剤を除去した。焼成により得
られた固体を粉砕し,ふるい分けして,粒径100〜1
50μmの粉末状の高密度メソ多孔体を得た。これを試
料1とする。
The gel after standing was air-dried for 24 hours or more, and further dried at 110 ° C. for 12 hours or more. After that, 55
Calcination was performed in air at 0 ° C. for 4 hours to remove the surfactant from the silica / surfactant composite. The solid obtained by calcination is pulverized and sieved to a particle size of 100-1.
A powdery high-density mesoporous body of 50 μm was obtained. This is designated as Sample 1.

【0069】実施形態例2 本例は,実施形態例1の使用原料の2倍の原料を用い
て,高密度メソ多孔体を製造した。各原料の使用量の比
は,ほぼ実施形態例1と同様である。
Embodiment 2 In this embodiment, a high-density mesoporous body was manufactured using twice as many raw materials as those used in Embodiment 1. The ratio of the amount of each raw material used is almost the same as in the first embodiment.

【0070】以下,本例の製造方法の詳細について説明
する。TMOS−B30kgに水6.84リットル及び
0.1Nの塩酸200ccを添加して,室温で約2時間
攪拌した。この添加と攪拌により得られた水溶液に,H
DTA/メタノール溶液26kg(カチオン濃度60.
7%)を更に添加して室温で約4時間攪拌した。水溶液
の粘度は徐々に増加したが,この時点ではゲル化にはい
たらない。
Hereinafter, the details of the manufacturing method of this embodiment will be described. To 30 kg of TMOS-B, 6.84 liters of water and 200 cc of 0.1 N hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for about 2 hours. H 2 was added to the aqueous solution obtained by this addition and stirring.
26 kg of DTA / methanol solution (cation concentration 60.
7%) and stirred at room temperature for about 4 hours. The viscosity of the aqueous solution gradually increased, but did not gel at this point.

【0071】この水溶液に0.05N−NaOH/メタ
ノール溶液(アルカリ溶液)2.28リットルを攪拌し
ながら加えた。水溶液の粘度が更に増加して,pHが5
付近になると急速にゲル化し始めた。得られたゲル体
を,密閉容器にて室温で36時間以上放置した。この状
態がシリカ/界面活性剤複合体である。
To this aqueous solution, 2.28 liters of a 0.05N NaOH / methanol solution (alkali solution) was added with stirring. The viscosity of the aqueous solution further increases and the pH becomes 5
It began to gel rapidly in the vicinity. The obtained gel was left in a closed container at room temperature for 36 hours or more. This state is a silica / surfactant composite.

【0072】放置後のゲルを24時間以上風乾させ,更
に440℃にて10時間乾燥させた。その後,550℃
にて4時間空気中にて焼成を行い,該シリカ/界面活性
剤複合体より界面活性剤を除去した。焼成により得られ
た固体を粉砕し,ふるい分けして,粒径100〜150
μmの粉末状の高密度メソ多孔体を得た。これを試料2
とする。
The gel after standing was air-dried for 24 hours or more, and further dried at 440 ° C. for 10 hours. Then, at 550 ° C
For 4 hours in air to remove the surfactant from the silica / surfactant composite. The solid obtained by firing is crushed and sieved to a particle size of 100 to 150.
A μm powdery high-density mesoporous material was obtained. This is sample 2
And

【0073】実施形態例3〜6 本例においては,実施形態例2と同様の方法により,高
密度メソ多孔体を製造した。これは,実施形態例2の方
法の再現性を調査するためである。得られた高密度メソ
多孔体を,それぞれ試料3〜6とする。
Embodiments 3 to 6 In this embodiment, a high-density mesoporous body was manufactured in the same manner as in Embodiment 2. This is to investigate the reproducibility of the method of the second embodiment. The obtained high-density mesoporous materials are referred to as samples 3 to 6, respectively.

【0074】実施形態例7 本例は,実施形態例1の使用原料と同様の原料を用い,
その使用量を変えて高密度メソ多孔体を製造した。
Embodiment 7 In this embodiment, the same raw materials as those used in Embodiment 1 were used.
A high-density mesoporous material was manufactured by changing the amount of the mesoporous material.

【0075】即ち,TMOS−B304gに水68g及
び0.1Nの塩酸4ccを添加して,室温で約1時間攪
拌した。この添加と攪拌により得られた水溶液に,ドデ
シルトリメチルアンモニウムクロライドのメタノール溶
液(DDTA/メタノール溶液)257g(カチオン濃
度61%)を更に添加して室温で約4時間攪拌した。水
溶液の粘度は徐々に増加したが,この時点ではゲル化に
はいたらない。
That is, 68 g of water and 4 cc of 0.1 N hydrochloric acid were added to 304 g of TMOS-B, followed by stirring at room temperature for about 1 hour. 257 g (cation concentration: 61%) of a methanol solution of dodecyltrimethylammonium chloride (DDTA / methanol solution) was further added to the aqueous solution obtained by the addition and stirring, followed by stirring at room temperature for about 4 hours. The viscosity of the aqueous solution gradually increased, but did not gel at this point.

【0076】この水溶液に0.05N−NaOH/メタ
ノール溶液(アルカリ溶液)10ccを攪拌しながら加
えた。水溶液の粘度が更に増加して,pHが5付近にな
ると急速にゲル化し始めた。得られたゲル体を,密閉容
器にて室温で36時間以上放置した。この状態がシリカ
/界面活性剤複合体である。
To this aqueous solution, 10 cc of a 0.05 N NaOH / methanol solution (alkali solution) was added with stirring. The viscosity of the aqueous solution further increased, and gelling started rapidly when the pH reached around 5. The obtained gel was left in a closed container at room temperature for 36 hours or more. This state is a silica / surfactant composite.

【0077】放置後のゲルを110℃にて12時間以上
乾燥させて,550℃にて4時間空気中にて焼成を行
い,該シリカ/界面活性剤複合体より界面活性剤を除去
した。焼成により得られた固体を粉砕し,ふるい分けし
て,粒径100〜150μmの粉末状の高密度メソ多孔
体を得た。これを試料7とする。
The gel after standing was dried at 110 ° C. for 12 hours or more, and calcined at 550 ° C. for 4 hours in air to remove the surfactant from the silica / surfactant composite. The solid obtained by firing was pulverized and sieved to obtain a powdery high-density mesoporous material having a particle size of 100 to 150 µm. This is designated as Sample 7.

【0078】実施形態例8 本例は,界面活性剤としてC18(炭素数18のステア
リルトリメチルアンモニウムクロライド)を用いて,高
密度メソ多孔体を製造した。即ち,アルコキシシランで
あるテトラメトキシシラン(TMOS)30.4gに水
6.8g及び0.1Nの塩酸0.4ccを添加して室温
で約1時間撹拌した。この添加と撹拌により得られた溶
液に,界面活性剤ステアリルトリメチルアンモニウムク
ロライドのメタノール溶液(STMA/メタノール溶
液)(カチオン濃度63.5%)を更に添加して室温
で,約4時間撹拌した。この溶液に0.05N−NaO
H/メタノール溶液を4cc撹拌下で加えた。後の操作
は,他の実施形態例と同様である。得られた高密度メソ
多孔体を試料8とする。試料8の比表面積は,1168
(m2 /g)である。
Embodiment 8 In this embodiment, a high-density mesoporous body was manufactured using C18 (stearyltrimethylammonium chloride having 18 carbon atoms) as a surfactant. That is, 6.8 g of water and 0.4 cc of 0.1 N hydrochloric acid were added to 30.4 g of tetramethoxysilane (TMOS), which was an alkoxysilane, and the mixture was stirred at room temperature for about 1 hour. A methanol solution (STMA / methanol solution) of surfactant stearyltrimethylammonium chloride (cation concentration: 63.5%) was further added to the solution obtained by the addition and stirring, followed by stirring at room temperature for about 4 hours. 0.05N NaO was added to this solution.
4 cc of H / methanol solution was added under stirring. The subsequent operation is the same as in the other embodiments. The resulting high-density mesoporous material is referred to as Sample 8. The specific surface area of Sample 8 was 1168
(M 2 / g).

【0079】実験例1 試料1〜3,5〜8の高密度メソ多孔体について,その
水蒸気吸着等温線を測定した。水蒸気吸着等温線は,日
本ベル製のBELSORP18を使用し,25℃におい
て定容量法により測定した。
Experimental Example 1 The high-density mesoporous materials of Samples 1 to 3, 5 to 8 were measured for their water vapor adsorption isotherms. The water vapor adsorption isotherm was measured at 25 ° C. by the constant volume method using BELSORP18 manufactured by Nippon Bell.

【0080】測定結果を図3〜図5に示した。図3
(a),図3(b)には試料1,試料2の測定結果を,
図4(c),図4(d),図4(e)には試料3,試料
5,試料6の測定結果を,図5(f),図5(g)には
試料7,試料8の測定結果を示した。これらの図の中,
■は吸着時の水蒸気吸着等温線を示し,○は脱着時の水
蒸気吸着等温線を示す。
The measurement results are shown in FIGS. FIG.
(A) and FIG. 3 (b) show the measurement results of sample 1 and sample 2,
4 (c), 4 (d) and 4 (e) show the measurement results of sample 3, sample 5 and sample 6, and FIGS. 5 (f) and 5 (g) show sample 7 and sample 8 respectively. The result of the measurement was shown. In these figures,
■ indicates a water vapor adsorption isotherm at the time of adsorption, and ○ indicates a water vapor adsorption isotherm at the time of desorption.

【0081】これらの図より,使用原料のスケールが異
なる試料1,試料2及び試料7は,いずれも同様の吸着
状態を示した。また,同一条件で製造した試料2,3,
5,6も,同様の吸着状態を示した。このことから,本
発明の製造方法は,スケールアップ,ダウンにかかわら
ず,ほぼ同様の結果が得られ,再現性が高いことがわか
る。また,同一条件で製造した試料2,3の高密度メソ
多孔体について,その吸着時と脱着時では,ヒステリシ
スがみられ,比較的大きな細孔が形成されていることが
わかる。
As can be seen from these figures, Sample 1, Sample 2 and Sample 7, which use different scales of raw materials, all exhibited the same adsorption state. Samples 2 and 3 manufactured under the same conditions
5 and 6 also showed the same adsorption state. From this, it can be seen that the production method of the present invention can obtain almost the same result regardless of the scale up or down, and has high reproducibility. Further, with respect to the high-density mesoporous materials of Samples 2 and 3 manufactured under the same conditions, hysteresis is observed at the time of adsorption and desorption, indicating that relatively large pores are formed.

【0082】実験例2 試料2〜6の高密度メソ多孔体の細孔分布曲線を,田中
化学機器製作所AS−703b型メタノール吸着装置を
用いて測定した。その結果より求めた微分細孔分布を図
6に示した。図6から,同一条件で製造した試料2〜6
の高密度メソ多孔体は,ほぼ同じ大きさの細孔を有する
ことがわかる。
Experimental Example 2 The pore distribution curves of the high-density mesoporous materials of Samples 2 to 6 were measured using an AS-703b methanol adsorber manufactured by Tanaka Chemical Instruments Co., Ltd. FIG. 6 shows the differential pore distribution obtained from the results. From FIG. 6, samples 2 to 6 manufactured under the same conditions are shown.
It can be seen that the high density mesoporous material has pores of almost the same size.

【0083】実験例3 試料2〜8の高密度メソ多孔体の比表面積,細孔容積,
充填密度,細孔半径を求めた。比表面積は,大倉理研の
自動比表面積測定装置により,BET一点法により求め
た。細孔容積及び細孔半径は,実験例2の細孔分布曲線
よりもとめた。充填密度は,真空乾燥後の重量と体積か
ら計算によりもとめた。これらの物性値を表1に示し
た。
Experimental Example 3 The specific surface area, pore volume,
The packing density and pore radius were determined. The specific surface area was determined by the BET one point method using an automatic specific surface area measuring device of Okura Riken. The pore volume and the pore radius were determined from the pore distribution curve of Experimental Example 2. The packing density was calculated from the weight and volume after vacuum drying. The physical properties are shown in Table 1.

【0084】同表より知られるように,試料2〜6,8
は,いずれも同様の物性値を示すことがわかる。一方,
試料7は,他の試料に比べて,細孔容積及び細孔半径が
小さく,充填密度が高かった。これは,炭素数12の界
面活性剤を用いたため,形成された細孔が小さくなった
ためであると考えられる。
As can be seen from the table, samples 2 to 6, 8
It can be seen that all show similar physical property values. on the other hand,
Sample 7 had smaller pore volume and smaller pore radius and higher packing density than the other samples. This is considered to be because the formed pores became small because the surfactant having 12 carbon atoms was used.

【0085】[0085]

【表1】 [Table 1]

【0086】[0086]

【発明の効果】本発明によれば,細孔径が均一で,再現
性に優れた,高密度メソ多孔体の製造方法をを提供する
ことができる。
According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a high-density mesoporous body having a uniform pore diameter and excellent reproducibility.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の高密度メソ多孔体の説明図。FIG. 1 is an explanatory view of a high-density mesoporous body of the present invention.

【図2】従来例の高密度メソ多孔体の説明図。FIG. 2 is an explanatory view of a conventional high-density mesoporous body.

【図3】実験例1における,(a)試料1の水蒸気吸着
等温線を示す線図,及び(b)試料1の水蒸気吸着等温
線を示す線図。
3A is a diagram showing a water vapor adsorption isotherm of a sample 1, and FIG. 3B is a diagram showing a water vapor adsorption isotherm of a sample 1.

【図4】実験例1における,(c)試料3の水蒸気吸着
等温線を示す線図,(d)試料5の水蒸気吸着等温線を
示す線図,(e)試料6の水蒸気吸着等温線を示す線
図。
4 (c) is a diagram showing a water vapor adsorption isotherm of sample 3, FIG. 4 (d) is a diagram showing a water vapor adsorption isotherm of sample 5, and FIG. FIG.

【図5】実験例1における,(f)試料7の水蒸気吸着
等温線を示す線図,(g)試料8の水蒸気吸着等温線を
示す線図。
5 (f) is a diagram showing a water vapor adsorption isotherm of sample 7, and FIG. 5 (g) is a diagram showing a water vapor adsorption isotherm of sample 8 in Experimental Example 1.

【図6】実験例2における,試料2〜6の微分形細孔分
布曲線を示す線図。
FIG. 6 is a diagram showing differential pore distribution curves of Samples 2 to 6 in Experimental Example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10...隙間, 11...一次粒子, 10. . . Gap, 11. . . Primary particles,

フロントページの続き (72)発明者 稲垣 伸二 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 山田 有理 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 杉本 憲昭 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 金光 修 静岡県小笠郡大東町千浜7800番地 キャタ ラー工業株式会社内 (72)発明者 大杉 芳雄 静岡県小笠郡大東町千浜7800番地 キャタ ラー工業株式会社内Continuing from the front page (72) Inventor Shinji Inagaki 41, Chukumi Yokomichi, Nagakute-cho, Aichi-gun, Aichi Prefecture Inside the Toyota Central R & D Laboratories Co., Ltd. No. 1 Inside Toyota Central Research Laboratories Co., Ltd. (72) Inventor Noriaki Sugimoto 41-cho, Yokomichi Omachi, Nagakute-cho, Aichi-gun, Aichi Prefecture No. 1 Inside Toyota Central Research Laboratories Co., Ltd. 7800, Chihama, Higashi-cho, Cataler Industry Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルコキシシラン,水及び界面活性剤を
混合し,ゲル化し,その後上記界面活性剤を除去するこ
とにより得られる高密度メソ多孔体の製造方法であっ
て,上記アルコキシシランは,酸価が0.0045以下
であることを特徴とする高密度メソ多孔体の製造方法。
1. A method for producing a high-density mesoporous material obtained by mixing an alkoxysilane, water and a surfactant, gelling the mixture, and then removing the surfactant, wherein the alkoxysilane is an acid. A method for producing a high-density mesoporous body, wherein the value is 0.0045 or less.
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