JPH11352322A - Color filter and color liquid crystal display device using the same - Google Patents

Color filter and color liquid crystal display device using the same

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JPH11352322A
JPH11352322A JP9890899A JP9890899A JPH11352322A JP H11352322 A JPH11352322 A JP H11352322A JP 9890899 A JP9890899 A JP 9890899A JP 9890899 A JP9890899 A JP 9890899A JP H11352322 A JPH11352322 A JP H11352322A
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JP
Japan
Prior art keywords
black matrix
color
color filter
liquid crystal
resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP9890899A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takaharu Tsuda
敬治 津田
Junji Kajita
純司 梶田
Shinichi Yamada
申一 山田
Tetsuya Goto
哲哉 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
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Publication of JPH11352322A publication Critical patent/JPH11352322A/en
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter for preventing the generation of voids in an opening part and cracks to a colored layer in a process for manufacturing the color filter with a color piling-up spacer and to provide a liquid crystal display element of excellent quality with less disturbance in liquid crystal alignment. SOLUTION: In this color filter in which a black matrix 2 is provided on a substrate and respective colored layers 3-5 of three primary colors R, G and B are provided so as to cover an opening part of the black matrix 2, (A) plural color piling-up spacers formed by the lamination of the respective colored layers 3-5 of the three primary colors are provided in a part on the black matrix 2 and (B) at least one of the colored layers 3-5 for covering the opening part of the black matrix 2 is formed continuously from the opening part to the formation position of the spacers.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スペーサー機能を
有するカラーフィルタ及びそれを用いたカラー液晶表示
装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a color filter having a spacer function and a color liquid crystal display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、使用されているカラー液晶表示装
置は、液晶層の厚み(セルギャップ)を保持するため
に、一般に、薄膜トランジスタ(TFT)や、複数の走
査電極等を具備した電極基板とカラーフィルタ側の基板
との間にプラスチックビーズ又はガラスビーズ若しくは
ガラスカットファイバーをスペーサーとして有する。こ
こでプラスチックビーズ等のスペーサーは気流に乗せて
散布されるため、電極基板とカラーフィルタ基板のどの
位置(面内位置)に配置されるか定まらない。
2. Description of the Related Art In order to maintain the thickness (cell gap) of a liquid crystal layer, a color liquid crystal display device conventionally used generally includes a thin film transistor (TFT) and an electrode substrate having a plurality of scanning electrodes. Plastic beads, glass beads or glass cut fibers are provided as spacers between the substrate and the color filter side substrate. Here, since the spacers such as the plastic beads are scattered in the airflow, it is not determined which position (in-plane position) of the electrode substrate and the color filter substrate is arranged.

【0003】このため、画素上に位置するスペーサーに
よる光の散乱や透過により液晶表示素子の表示品位が低
下するという問題がある。
For this reason, there is a problem that the display quality of the liquid crystal display element is deteriorated due to scattering and transmission of light by the spacers located on the pixels.

【0004】プラスチックビーズ等のスぺーサーを散布
して使用する液晶表示素子には、この他にも下記の問題
がある。すなわち、スぺーサーが、球状あるいは棒状の
形状であり、セル圧着時に点又は線で接触するために、
配向膜や透明電極が破損し、表示欠陥が発生しやすいと
いう欠点がある。さらに配向膜や透明電極の破損によ
り、液晶が汚染され、液晶に印加される実効電圧が低下
しやすいという欠点もある。
A liquid crystal display element in which a spacer such as a plastic bead is sprayed and used has the following other problems. That is, the spacer has a spherical or rod-like shape, and contacts with a point or a line during cell compression,
There is a disadvantage that the alignment film and the transparent electrode are damaged, and display defects are likely to occur. Further, there is a disadvantage that the liquid crystal is contaminated by the damage of the alignment film and the transparent electrode, and the effective voltage applied to the liquid crystal is easily lowered.

【0005】また、気流に乗せてスペーサーを均一に散
布する工程は歩留まりが良好でなく、また生産性が低い
問題がある。あるいは散布するスペーサーの粒度分布を
高精度に分級してから使用することが必要であり、高コ
ストであることから、簡便な方法で安定した表示品位の
液晶表示素子を得ることが難しい。
[0005] In addition, the process of uniformly dispersing the spacers in an air flow has problems that the yield is not good and the productivity is low. Alternatively, it is necessary to classify the particle size distribution of the spacers to be sprayed with high accuracy before use, and it is difficult to obtain a stable display quality liquid crystal display element by a simple method because of high cost.

【0006】これらの問題点に対して、特開昭56−1
40324、特開昭63−82405、特開平4−93
924、特開平5−196946では、2色あるいは3
色の着色層を重ね合わせた構造をスペーサーとして用い
ることが提案されている。
To solve these problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 56-1
40324, JP-A-63-82405, JP-A-4-93
924, JP-A-5-196946 describes two colors or three colors.
It has been proposed to use a structure in which colored layers of colors are overlapped as a spacer.

【0007】また、図9に示すように、色重ねスペーサ
ーを形成するために開口部を覆う着色層パターンと色重
ねスペーサー部との間に切り欠き部を設けると、着色層
とブラックマトリックス部の重なり幅が小さくなるの
で、画面の高開口率化に伴いブラックマトリックスも着
色層もない白抜けの発生確率が大きくなったり、着色層
の耐熱性が低下し切り欠き部からクラックが発生する場
合があった。
Further, as shown in FIG. 9, when a notch is provided between the colored layer pattern covering the opening and the colored layer spacer portion for forming the colored layer spacer, the colored layer and the black matrix portion are formed. Since the overlap width is reduced, the probability of occurrence of white spots without a black matrix or a colored layer increases with an increase in the aperture ratio of the screen, or the heat resistance of the colored layer decreases and cracks may occur from the cutouts. there were.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の欠点に鑑みてなされたもので、その目的とするところ
は、色重ねスペーサー付きカラーフィルターを製造する
工程において、開口部における白抜けや着色層へのクラ
ックの発生を防止することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a color filter with color overlapping spacers, which is effective in eliminating white spots in openings. The purpose is to prevent generation of cracks in the coloring layer.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記課題を達成するため
に、本発明のカラー液晶表示装置は、以下の構成を有す
るものである。
To achieve the above object, a color liquid crystal display device of the present invention has the following arrangement.

【0010】すなわち、基板上にブラックマトリックス
を設け、該ブラックマトリックスの開口部を被覆するよ
うに3原色のそれぞれの着色層を設けたカラーフィルタ
ーにおいて、(A)前記ブラックマトリックス上の一部
に3原色のそれぞれの着色層の積層により形成された色
重ねスペーサーが複数設けられ、(B)前記ブラックマ
トリックスの開口部を覆う着色層の少なくとも1層が、
前記開口部から前記スペーサー形成位置まで連続して形
成されていることを特徴とするカラーフィルター。
That is, in a color filter in which a black matrix is provided on a substrate, and each of the three primary color layers is provided so as to cover an opening of the black matrix, (A) 3 A plurality of color overlapping spacers formed by laminating the respective colored layers of the primary colors are provided, and (B) at least one of the colored layers covering the opening of the black matrix includes:
A color filter formed continuously from the opening to the spacer formation position.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタは、基板
上にブラックマトリックスを設け、さらにその上に3原
色から成る各着色層を複数配列したものである。カラー
フィルターは3原色から成る各着色層により被覆された
画素を一絵素とし、多数の絵素により構成されている。
ここで言う、ブラックマトリックスは、各画素間に配列
された遮光領域を示し、液晶表示装置の表示コントラス
トを向上させるために設けられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The color filter of the present invention is one in which a black matrix is provided on a substrate, and a plurality of colored layers of three primary colors are arranged thereon. The color filter is composed of a large number of picture elements, with pixels covered by each of the three primary color layers as one picture element.
Here, the black matrix indicates a light-shielding region arranged between the pixels, and is provided to improve the display contrast of the liquid crystal display device.

【0012】本発明のカラーフィルターに用いられる基
板のうち透明な基板としては、特に限定されるものでは
なく、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸
塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラス
などの無機ガラス類、有機プラスチックのフィルム又は
シート等が好ましく用いられる。これら基板上に必要に
応じて薄膜トランジスターなどの駆動素子や配線等を設
けても良い。
The transparent substrate among the substrates used for the color filter of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and soda lime glass whose surface is coated with silica. Inorganic glasses and organic plastic films or sheets are preferably used. A drive element such as a thin film transistor, a wiring, or the like may be provided on these substrates as needed.

【0013】この基板上にブラックマトリックスが設け
られる。ブラックマトリックスは、クロム等の金属又は
それらの酸化物等で形成してもよいが、樹脂及び遮光剤
から成る樹脂ブラックマトリックスを形成することが製
造コストや廃棄物処理コストの面から好ましい。また十
分なセルギャップを確保しやすい点でも樹脂ブラックマ
トリックスが好ましい。この場合、ブラックマトリック
スに用いられる樹脂としては、特に限定されないが、エ
ポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系
樹脂などの感光性又は非感光性の材料が好ましく用いら
れる。ブラックマトリックス用樹脂は、画素や保護膜に
用いられる樹脂よりも高い耐熱性を有する樹脂が好まし
く、また、ブラックマトリックス形成後の工程で使用さ
れる有機溶剤に耐性を持つ樹脂が好ましいことからポリ
イミド系樹脂が特に好ましく用いられる。
A black matrix is provided on the substrate. The black matrix may be formed of a metal such as chromium or an oxide thereof, but it is preferable to form a resin black matrix composed of a resin and a light-shielding agent in terms of manufacturing costs and waste disposal costs. A resin black matrix is also preferable in that a sufficient cell gap can be easily secured. In this case, the resin used for the black matrix is not particularly limited, but is a photosensitive or non-photosensitive material such as an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, and a polyolefin resin. Is preferably used. The resin for the black matrix is preferably a resin having higher heat resistance than the resin used for the pixels and the protective film, and a polyimide resin is preferably a resin having resistance to the organic solvent used in the process after the formation of the black matrix. Resins are particularly preferably used.

【0014】ここで、ポリイミド樹脂としては、特に限
定されるものではないが、通常下記一般式[I]で表さ
れる構造単位を主成分とするポリイミド前駆体(n=1
〜2)を、加熱又は適当な触媒によってイミド化したも
のが好適に用いられる。
Here, the polyimide resin is not particularly limited, but is usually a polyimide precursor (n = 1) having a structural unit represented by the following general formula [I] as a main component.
~ 2) obtained by imidizing by heating or using a suitable catalyst are suitably used.

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】また、ポリイミド系樹脂には、イミド結合
の他に、アミド結合、スルホン結合、エーテル結合、カ
ルボニル結合等のイミド結合以外の結合が含まれていて
も差支えない。
The polyimide resin may contain a bond other than the imide bond, such as an amide bond, a sulfone bond, an ether bond, and a carbonyl bond, in addition to the imide bond.

【0017】上記一般式[I] 中、R1 は少なくとも2個
以上の炭素原子を有する3価又は4価の有機基である。
耐熱性の面から、R1 は環状炭化水素、芳香族環又は芳
香族複素環を含有し、かつ、炭素数6〜30の3価又は
4価の基が好ましい。R1 の例として、フェニル基、ビ
フェニル基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン
基、ジフェニルエーテル基、ジフェニルスルホン基、ジ
フェニルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルト
リフルオロプロパン基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基等が挙げられるがこれらに限定されない。
In the above general formula [I], R 1 is a trivalent or tetravalent organic group having at least two or more carbon atoms.
From the viewpoint of heat resistance, R 1 is preferably a trivalent or tetravalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R 1 include phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, perylene, diphenylether, diphenylsulfone, diphenylpropane, benzophenone, biphenyltrifluoropropane, cyclobutyl, cyclopentyl, and the like. But not limited to these.

【0018】R2は少なくとも2個以上の炭素原子を有
する2価の有機基であるが、耐熱性の面から、R2は環
状炭化水素、芳香族環又は芳香族複素環を含有し、かつ
炭素数6〜30の2価の基が好ましい。R2の例とし
て、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフ
タレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェ
ニルスルホン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノ
ン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニル
メタン基、シクロヘキシルメタン基等が挙げられるがこ
れらに限定されない。構造単位[I] を主成分とするポリ
マーは、R1 、R 2がこれらのうち各々1種から構成さ
れていてもよいし、各々2種以上から構成される共重合
体であってもよい。さらに、基板との接着性を向上させ
るために、耐熱性を低下させない範囲でジアミン成分と
して、シロキサン構造を有するビス(3−アミノプロピ
ル)テトラメチルジシロキサンなどを共重合するのが好
ましい。
RTwoHas at least two carbon atoms
Is a divalent organic group, but from the viewpoint of heat resistance, RTwoIs a ring
Containing a hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and
A divalent group having 6 to 30 carbon atoms is preferable. RTwoAs an example
Phenyl, biphenyl, terphenyl, naph
Talene group, perylene group, diphenyl ether group, diphe
Nyl sulfone group, diphenylpropane group, benzopheno
Group, biphenyltrifluoropropane group, diphenyl
Methane group, cyclohexylmethane group, etc.
It is not limited to these. Poly with the structural unit [I] as the main component
Ma is R1 , R TwoConsists of one of each of these
Or a copolymer composed of two or more types
It may be a body. Furthermore, the adhesiveness with the substrate is improved
In order to reduce the heat resistance, the diamine component
To form a bis (3-aminopropyl) having a siloxane structure
R) It is preferable to copolymerize tetramethyldisiloxane and the like.
Good.

【0019】構造単位[I] を主成分とするポリマーの具
体的な例として、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'-
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-
ビフェニルトリフルオロプロパンテトラカルボン酸二無
水物、3,3',4,4'-ビフェニルスルホンテトラカルボン酸
二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二
無水物等から成る群から選ばれた1種以上のカルボン酸
二無水物と、パラフェニレンジアミン、3,3'- ジアミノ
ジフェニルエーテル、4,4'- ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4'- ジアミノジフェニルエーテル、3,3'- ジアミ
ノジフェニルスルホン、4,4'- ジアミノジフェニルスル
ホン、4,4'- ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4'-
ジアミノジフェニルメタンなどの群から選ばれた1種以
上のジアミンから合成されたポリイミド前駆体が挙げら
れるが、これらに限定されない。これらのポリイミド前
駆体は公知の方法、すなわち、テトラカルボン酸二無水
物とジアミンを選択的に組み合わせ、溶媒中で反応させ
ることにより合成される。
Specific examples of the polymer containing the structural unit [I] as a main component include pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-
Selected from the group consisting of biphenyltrifluoropropanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, etc. One or more carboxylic dianhydrides, paraphenylenediamine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4 , 4'-Diaminodiphenylsulfone, 4,4'-Diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-
Examples include, but are not limited to, polyimide precursors synthesized from one or more diamines selected from the group such as diaminodiphenylmethane. These polyimide precursors are synthesized by a known method, that is, by selectively combining tetracarboxylic dianhydride and diamine and reacting them in a solvent.

【0020】ブラックマトリックス用の遮光剤として
は、カーボンブラック、酸化チタン、酸化窒化チタン、
酸化マンガン、四酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物
粉、金属粉の他に、赤、青、緑色の顔料の混合物等を用
いることができる。この中でも、非金属系の遮光剤とし
ては、特にカーボンブラックは遮光性が優れており、特
に好ましい。分散の良い粒径の小さいカーボンブラック
は主として茶系統の色調を呈するので、カーボンブラッ
クに対する補色の顔料を混合させて無彩色にするのが好
ましい。また、金属系遮光剤としては、酸化窒化チタ
ン、酸化チタン、マンガン酸化物が、分散性の点から好
ましい。
As the light shielding agent for the black matrix, carbon black, titanium oxide, titanium oxynitride,
In addition to metal oxide powder such as manganese oxide and iron tetroxide, metal sulfide powder, and metal powder, a mixture of red, blue, and green pigments and the like can be used. Among them, as a nonmetallic light-shielding agent, carbon black is particularly preferable because of its excellent light-shielding properties. Since carbon black having a good dispersion and a small particle size mainly exhibits a brownish color tone, it is preferable to mix a pigment of a complementary color to carbon black to obtain an achromatic color. Further, as the metal-based light shielding agent, titanium oxynitride, titanium oxide, and manganese oxide are preferable from the viewpoint of dispersibility.

【0021】ブラックマトリックス用の樹脂がポリイミ
ドの場合、黒色ペースト溶媒としては、通常、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系極性溶媒、
γ−ブチロラクトンなどのラクトン系極性溶媒等が好適
に使用される。
When the resin for the black matrix is polyimide, the black paste solvent is usually N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide,
Amide polar solvents such as N, N-dimethylformamide,
A lactone polar solvent such as γ-butyrolactone is preferably used.

【0022】カーボンブラックや、カーボンブラックに
対して補色の顔料等の遮光剤を分散させる方法として
は、例えば、ポリイミド前駆体溶液中に遮光剤や分散剤
等を混合させた後、三本ロール、サンドグラインダー、
ボールミルなどの分散機中で分散させる方法などがある
が、この方法に特に限定されない。また、カーボンブラ
ックの分散性向上、あるいは塗布性やレベリング性向上
のために種々の添加剤が加えられていてもよい。
As a method of dispersing a light-shielding agent such as a pigment of a complementary color to carbon black or carbon black, for example, after mixing a light-shielding agent or a dispersant in a polyimide precursor solution, a three-roll Sand grinder,
There is a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, but the method is not particularly limited. In addition, various additives may be added for improving the dispersibility of carbon black, or for improving applicability and leveling property.

【0023】樹脂ブラックマトリックスの製法として
は、黒色ペーストを透明基板上に塗布、乾燥した後に、
パターニングを行う。黒色ペーストを塗布する方法とし
ては、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダ
イコーティング法、ワイヤバーによる方法などが好適に
用いられ、この後、オーブンやホットプレートを用いて
加熱乾燥(セミキュア)を行う。セミキュア条件は、使
用する樹脂、溶媒、ペースト塗布料により異なるが、通
常60〜200℃で1〜60分加熱することが好まし
い。
As a method for producing a resin black matrix, a black paste is applied to a transparent substrate, dried,
Perform patterning. As a method for applying the black paste, a dip method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a method using a wire bar, and the like are suitably used, and thereafter, heat drying (semi-curing) is performed using an oven or a hot plate. . The semi-curing conditions vary depending on the resin, solvent and paste coating material used, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0024】このようにして得られた黒色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にポジ
型フォトレジストの被膜を形成した後に、また、樹脂が
感光性の樹脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮
断膜を形成した後に、露光、現像を行う。必要に応じ
て、ポジ形フォトレジスト又は酸素遮断膜を除去し、ま
た、加熱乾燥(本キュア)する。本キュア条件は、前駆
体からポリイミド系樹脂を得る場合には、塗布料により
若干異なるが、通常200〜300℃で1〜60分加熱
するのが一般的である。以上のプロセスにより、基板上
にブラックマトリックスが形成される。
In the case where the resin is a non-photosensitive resin, the black paste coating obtained in this manner is formed after forming a positive photoresist coating thereon, and then the resin is a photosensitive resin. In some cases, exposure and development are performed as they are or after forming an oxygen barrier film. If necessary, the positive photoresist or the oxygen barrier film is removed, and the film is dried by heating (this cure). The curing conditions are slightly different depending on the coating material when a polyimide resin is obtained from the precursor, but it is generally heated at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. Through the above process, a black matrix is formed on the substrate.

【0025】本発明で用いられるブラックマトリックス
の膜厚は、好ましくは0.1〜1.5μm、より好まし
くは0.8〜1.2μmである。この膜厚が0.1μm
よりも薄い場合には十分なセルギャップの確保が難しく
なり、また、樹脂ブラックマトリックスの場合は遮光性
が不十分になることからも好ましくない。一方、膜厚が
1.5μmよりも厚い場合には、遮光性は確保できるも
のの、カラーフィルターの平坦性が犠牲になり易く、段
差が生じやすい。表面段差が生じた場合、カラーフィル
タ上部に透明導電膜や液晶配向膜を形成させても段差は
ほとんど軽減されず、液晶配向膜のラビングによる配向
処理が不均一になったり、セルギャップにバラツキが生
じたりして、液晶表示素子の表示品位が低下する。この
ような場合に表面段差を小さくするためには、着色層上
に透明保護膜を設けることが有効であるが、カラーフィ
ルターの構造が複雑になり、製造コストが高くなる点で
は不利である。
The thickness of the black matrix used in the present invention is preferably 0.1 to 1.5 μm, more preferably 0.8 to 1.2 μm. This film thickness is 0.1 μm
If it is thinner, it is difficult to secure a sufficient cell gap, and if it is a resin black matrix, the light-shielding properties become insufficient, which is not preferable. On the other hand, when the film thickness is larger than 1.5 μm, although the light-shielding property can be ensured, the flatness of the color filter is easily sacrificed, and a step is easily generated. When a surface step is formed, even if a transparent conductive film or a liquid crystal alignment film is formed on the color filter, the step is hardly reduced, and the alignment treatment by rubbing of the liquid crystal alignment film becomes uneven or the cell gap varies. For example, the display quality of the liquid crystal display element is degraded. In such a case, it is effective to provide a transparent protective film on the colored layer in order to reduce the surface step, but it is disadvantageous in that the structure of the color filter becomes complicated and the production cost increases.

【0026】また、ブラックマトリックスの遮光性は、
OD値(透過率の逆数の常用対数)で表されるが、液晶
表示素子の表示品位を向上させるためには、好ましくは
2.5以上であり、より好ましくは3.0以上である。
また、ブラックマトリックスの膜厚の好適な範囲を前述
したが、OD値の上限は、これとの関係で定められるべ
きである。
The light shielding property of the black matrix is as follows.
It is represented by an OD value (common logarithm of the reciprocal of the transmittance), and is preferably 2.5 or more, more preferably 3.0 or more, in order to improve the display quality of the liquid crystal display element.
The preferred range of the film thickness of the black matrix has been described above, but the upper limit of the OD value should be determined in relation to this.

【0027】ブラックマトリックスの反射率は、反射光
による影響を低減し液晶表示素子の表示品位を向上させ
るために、400〜700nmの可視領域での視感度補
正された反射率(Y値)で2%以下が好ましく、より好
ましくは1%以下である。
In order to reduce the influence of the reflected light and improve the display quality of the liquid crystal display device, the reflectance of the black matrix is 2 as the luminosity-corrected reflectance (Y value) in the visible region of 400 to 700 nm. % Or less, more preferably 1% or less.

【0028】ブラックマトリックス間には通常(20〜
200)μmx(20〜300)μmの開口部が設けら
れるが、この開口部を少なくとも被覆するように3原色
のそれぞれの着色層が複数配列される。すなわち、1つ
の開口部は、3原色のいずれか1つの着色層により被覆
され、各色の着色層が複数配列される。
Normally, between the black matrices (20 to
An opening of 200) μm × (20 to 300) μm is provided, and a plurality of colored layers of each of the three primary colors are arranged so as to cover at least this opening. That is, one opening is covered with any one of the three primary color layers, and a plurality of color layers of each color are arranged.

【0029】カラーフィルターを構成する着色層は、少
なくとも3原色の色彩を含む。すなわち、加色法により
カラー表示を行う場合は、赤(R)、緑(G)、青
(B)の3原色が選ばれ、減色法によりカラー表示を行
う場合は、シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー
(Y)の3原色が選ばれる。一般には、これらの3原色
を含んだ要素を1単位としてカラー表示の絵素とするこ
とができる。着色層には、着色剤により着色された樹脂
が用いられる。
The coloring layer constituting the color filter contains at least three primary colors. That is, when performing color display by the additive color method, three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) are selected. When performing color display by the subtractive color method, cyan (C) and magenta are used. (M) and three primary colors of yellow (Y) are selected. Generally, a picture element for color display can be formed by using an element including these three primary colors as one unit. For the coloring layer, a resin colored with a coloring agent is used.

【0030】着色層に用いられる着色剤としては、有機
顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、さ
らには、紫外線吸収剤、分散剤、レベリング剤等の種々
の添加剤を添加してもよい。有機顔料としては、フタロ
シアニン系、アジレーキ系、縮合アゾ系、キナクリドン
系、アントラキノン系、ペリレン系、ペリノン系が好適
に用いられる。
As the coloring agent used in the coloring layer, organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be suitably used. Further, various additives such as an ultraviolet absorbing agent, a dispersing agent and a leveling agent are added. You may. As the organic pigment, phthalocyanine-based, aziraki-based, condensed azo-based, quinacridone-based, anthraquinone-based, perylene-based, and perinone-based pigments are preferably used.

【0031】着色層に用いられる樹脂としては、エポキ
シ樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステ
ル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等
の感光性又は非感光性の材料が好ましく用いられ、着色
剤をこれらの樹脂中に分散あるいは溶解させて着色する
ことが好ましい。感光性の樹脂としては、光分解型樹
脂、光架橋型樹脂、光重合型樹脂等のタイプがあり、特
にエチレン不飽和結合を有するモノマ、オリゴマ又はポ
リマと紫外線によりラジカルを発生する開始剤とを含む
感光性組成物、感光性ポリアミック酸組成物等が好適に
用いられる。非感光性の樹脂としては、上記の各種ポリ
マ等で現像処理が可能なものが好ましく用いられるが、
透明導電膜の製膜工程や液晶表示装置の製造工程でかか
る熱に耐えられるような耐熱性を有する樹脂が好まし
く、また、液晶表示装置の製造工程で使用される有機溶
剤への耐性を持つ樹脂が好ましいことから、ポリイミド
系樹脂が特に好ましく用いられる。ここで、好ましいポ
リイミド樹脂としては、上記した樹脂ブラックマトリッ
クスの材料として好ましく用いられるポリイミド樹脂を
挙げることができる。
As the resin used for the colored layer, a photosensitive or non-photosensitive material such as an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, and a polyolefin resin is preferably used. It is preferable to disperse or dissolve the agent in these resins for coloring. Examples of the photosensitive resin include photodecomposable resins, photocrosslinkable resins, and photopolymerizable resins.Especially, monomers, oligomers or polymers having an ethylenically unsaturated bond and an initiator that generates radicals by ultraviolet rays are used. A photosensitive composition, a photosensitive polyamic acid composition and the like are preferably used. As the non-photosensitive resin, those which can be developed with the above various polymers are preferably used.
A resin having heat resistance enough to withstand such heat in a film forming process of a transparent conductive film or a manufacturing process of a liquid crystal display device is preferable, and a resin having resistance to an organic solvent used in a manufacturing process of a liquid crystal display device. Is preferred, and a polyimide resin is particularly preferably used. Here, as a preferable polyimide resin, a polyimide resin preferably used as a material of the above-described resin black matrix can be exemplified.

【0032】着色層を形成する方法としては、樹脂ブラ
ックマトリックスを形成した基板上に塗布、乾燥した後
に、パターニングを行う。着色剤を分散又は溶解させ着
色ペーストを得る方法としては、溶媒中に樹脂と着色剤
を混合させた後、三本ロール、サンドグラインダー、ボ
ールミルなどの分散機中で分散させる方法などがある
が、この方法に特に限定されない。
As a method of forming a colored layer, patterning is performed after coating and drying on a substrate on which a resin black matrix is formed. As a method of obtaining a colored paste by dispersing or dissolving the colorant, after mixing the resin and the colorant in a solvent, three-roll, sand grinder, there is a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, The method is not particularly limited.

【0033】着色ペーストを塗布する方法としては、黒
色ペーストの場合と同様、ディップ法、ロールコーター
法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーに
よる方法等が好適に用いられ、この後、オーブンやホッ
トプレートを用いて加熱乾燥(セミキュア)を行う。セ
ミキュア条件は、使用する樹脂、溶媒、ペースト塗布量
により異なるが通常60〜200℃で1〜60分加熱す
ることが好ましい。
As a method of applying the colored paste, a dipping method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a method using a wire bar, or the like is suitably used, as in the case of the black paste. Heat drying (semi-cure) is performed using a plate. The semi-curing conditions vary depending on the resin used, the solvent, and the amount of the paste applied, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0034】このようにして得られた着色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にポジ
型フォトレジストの被膜を形成した後に、また、樹脂が
感光性の樹脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮
断膜を形成した後に、露光、現像を行う。必要に応じ
て、ポジ型フォトレジスト又は酸素遮断膜を除去し、加
熱乾燥(本キュア)する。本キュア条件は、樹脂により
異なるが、前駆体からポリイミド系樹脂を得る場合に
は、通常200〜300℃で1〜60分加熱するのが一
般的である。以上のプロセスにより、ブラックマトリッ
クスを形成した基板上にパターニングされた着色層が形
成される。
In the case where the resin is a non-photosensitive resin, the colored paste film thus obtained is formed after forming a positive photoresist film on the non-photosensitive resin. In some cases, exposure and development are performed as they are or after forming an oxygen barrier film. If necessary, the positive type photoresist or the oxygen blocking film is removed and dried by heating (this cure). The curing conditions vary depending on the resin, but when a polyimide resin is obtained from the precursor, it is generally heated at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. Through the above process, a patterned colored layer is formed on the substrate on which the black matrix is formed.

【0035】上記のようにブラックマトリックスを形成
した基板上に第1色目の着色層を全面にわたって形成し
た後に、不必要な部分をフォトリソグラフィ法により除
去し、所望の第1色目の着色層のパターンを形成する。
ブラックマトリックスを覆う着色層のパターンは、ブラ
ックマトリックスの開口部の長辺方向に伸びるストライ
プ状やブラックマトリックスの1つの開口部ごとに着色
層も不連続に配置されたアイランド状の四角形であるこ
とが着色層加工が容易な点で好ましい。3原色の着色層
のうち、2層又は3層はブラックマトリックスの開口部
を少なくとも被覆する部分と、着色層の積層によりスぺ
ーサーを形成する部分に着色層を残す。本発明におい
て、ブラックマトリックスの開口部を覆うストライプ状
又はアイランド状の着色層パターンの1層若しくは2層
がブラックマトリックス上の色重ねスペーサー形成位置
まで連続していることが重要である。第2色目、第3色
目も同様な操作を繰り返し、ブラックマトリックスの開
口部上には1層の着色層が、また、スペーサーには2層
又は3層の着色層が残るように着色層を形成する。スペ
ーサーに充分な高さを保つためには、スペーサーに3層
の着色層が残るように着色層を形成することが好まし
い。
After the first color layer is formed over the entire surface of the substrate on which the black matrix is formed as described above, unnecessary portions are removed by photolithography to obtain a desired pattern of the first color layer. To form
The pattern of the coloring layer covering the black matrix may be a stripe extending in the long side direction of the opening of the black matrix or an island-like square in which the coloring layer is also discontinuously arranged for each opening of the black matrix. This is preferable in that processing of the colored layer is easy. Of the three primary color layers, two or three layers leave a color layer in at least a portion covering the opening of the black matrix and a portion where a spacer is formed by laminating the color layers. In the present invention, it is important that one or two layers of the striped or island-shaped colored layer pattern covering the opening of the black matrix are continuous to the position where the color overlapping spacer is formed on the black matrix. The same operation is repeated for the second and third colors to form a colored layer such that one colored layer remains on the opening of the black matrix and two or three colored layers remain on the spacer. I do. In order to maintain a sufficient height for the spacer, it is preferable to form a colored layer such that three colored layers remain on the spacer.

【0036】開口部上の着色層とスペーサーを形成する
着色層とは分離せず、ドットパターンと開口部を覆う着
色層パターンとの積層によりスペーサーが形成される。
ここで、着色層パターンはストライプ状やアイランド状
等の、形状が四角形であるパターンが好ましい。なお、
ここで言う四角形のパターンとは、4辺で囲まれた切り
欠き状部分を有しないパターンのことであり、辺の微小
な欠け、蛇行、角の丸み等を有するものも四角形に含む
ものとする。スペーサーをドットパターンと開口部を覆
う着色層パターンとの積層により形成することにより、
ドットスペーサーを着色層パターンと分離して形成する
場合における図9に示すような不連続点を有する切り欠
き状パターンが不要になる。このため、ブラックマトリ
ックスと画素膜パターンの重なり幅が小さくなってブラ
ックマトリックスも着色層もない白抜けが発生したり、
パターンの端部から加熱処理時にクラックが発生する可
能性が排除される。
The coloring layer on the opening and the coloring layer forming the spacer are not separated, and the spacer is formed by laminating the dot pattern and the coloring layer pattern covering the opening.
Here, the colored layer pattern is preferably a pattern having a square shape such as a stripe shape or an island shape. In addition,
The square pattern referred to here is a pattern that does not have a cutout portion surrounded by four sides, and includes a pattern that has minute cutouts on the sides, meandering, rounded corners, and the like. By forming the spacer by laminating the dot pattern and the colored layer pattern covering the opening,
In the case where the dot spacer is formed separately from the colored layer pattern, a notched pattern having discontinuous points as shown in FIG. 9 becomes unnecessary. For this reason, the overlap width of the black matrix and the pixel film pattern is reduced, and white spots without the black matrix and the colored layer occur,
The possibility of cracks occurring at the end of the pattern during the heat treatment is eliminated.

【0037】周囲より高くなったドットパターンの上の
着色層は、ブラックマトリックス開口部の着色層に比べ
て膜厚が小さくなる傾向があるが、ブラックマトリック
ス上のスペーサー形成位置に少なくとも1層の着色層が
ブラックマトリックス開口部から連続して形成されてい
ることにより、ドットパターン上の着色層の膜厚と該開
口部での着色層の膜厚の差が小さくなり、製造工程の安
定性、再現性が向上する効果がある。また、ブラックマ
トリックスの開口部を覆う着色層の少なくとも1層がブ
ラックマトリックス上のスペーサー形成位置まで連続し
て形成されていることにより、スペーサー周囲の傾斜が
なだらかになり、配向膜ラビングへの影響を小さくする
ことができる。
The thickness of the colored layer on the dot pattern which is higher than the surrounding area tends to be smaller than that of the colored layer at the opening of the black matrix. Since the layer is formed continuously from the black matrix opening, the difference between the thickness of the coloring layer on the dot pattern and the thickness of the coloring layer at the opening is reduced, and the stability and reproduction of the manufacturing process are improved. This has the effect of improving the performance. Further, since at least one layer of the coloring layer covering the opening of the black matrix is formed continuously up to the position where the spacer is formed on the black matrix, the inclination around the spacer becomes gentle, and the influence on the alignment film rubbing is reduced. Can be smaller.

【0038】スペーサーをドットパターンと開口部を覆
う着色層パターンとの積層により形成する、本発明の構
成を図面に基づいてさらに具体的に説明する。図2及び
図3は、本発明の1実施例を模式的に表わしたものであ
る。図3に示されるように、開口部を覆う第1着色層
(例えば青色層)3上に、第2着色層(例えば緑色層)
4とその上に積層された第3着色層(例えば赤色層)5
から成るドットパターンが積層されて色重ねスペーサー
を構成している。第2着色層4により被覆される開口部
では、図4及び図5に示すように、第1着色層から成る
ドットパターン3上に、開口部を覆う第2着色層4が積
層され、さらにその上に第3着色層から成るドットパタ
ーン5が積層されて色重ねスペーサーが構成されている
(特に図5)。また、第3着色層5により被覆される開
口部では、図6及び図7に示すように、第1着色層3か
ら成るドットパターン上に、第2着色層4からなるドッ
トパターンが積層され、その上に第3着色層5が積層さ
れて色重ねスペーサーが構成されている(図7)。
The configuration of the present invention in which the spacer is formed by laminating a dot pattern and a colored layer pattern covering the opening will be described more specifically with reference to the drawings. FIG. 2 and FIG. 3 schematically show one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, a second colored layer (for example, a green layer) is provided on a first colored layer (for example, a blue layer) 3 which covers the opening.
4 and a third colored layer (for example, a red layer) 5 laminated thereon
Are laminated to form a color overlapping spacer. In the opening covered by the second coloring layer 4, as shown in FIGS. 4 and 5, a second coloring layer 4 covering the opening is laminated on the dot pattern 3 composed of the first coloring layer. A dot pattern 5 composed of a third colored layer is laminated thereon to form a color overlapping spacer (particularly, FIG. 5). In the opening covered by the third colored layer 5, a dot pattern composed of the second colored layer 4 is laminated on a dot pattern composed of the first colored layer 3, as shown in FIGS. The third colored layer 5 is laminated thereon to form a color overlapping spacer (FIG. 7).

【0039】3原色の膜厚は、特に限定されないが、1
層当たり1〜3μmであることが好ましい。ブラックマ
トリックス開口部を覆う着色層上面と色重ねスペーサー
の頂部との高さの差、すなわちセルギャップが1.5〜
9μmであることが好ましい。本発明において、各着色
層の膜厚や各着色層に隣接するスペーサーの高さに違い
がある場合は、着色層の上面と隣接するスペーサーの頂
部の高さの差のうち、最も小さいものが1.5〜9μm
であることが好ましい。この高さが1.5μmよりも小
さい場合には、十分なセルギャップが得られず、また、
9μmを超える場合には、着色層の均一塗布が難しくな
り、さらにカラーフィルタ上に形成される透明導電膜の
信頼性が低下し、好ましくない。
The thicknesses of the three primary colors are not particularly limited.
Preferably it is 1 to 3 μm per layer. The difference in height between the top surface of the colored layer covering the black matrix opening and the top of the color overlapping spacer, that is, the cell gap is 1.5 to
It is preferably 9 μm. In the present invention, if there is a difference in the thickness of each colored layer and the height of the spacer adjacent to each colored layer, the smallest difference in the height between the upper surface of the colored layer and the top of the adjacent spacer is the smallest. 1.5-9 μm
It is preferred that If the height is smaller than 1.5 μm, a sufficient cell gap cannot be obtained, and
If the thickness exceeds 9 μm, uniform application of the colored layer becomes difficult, and furthermore, the reliability of the transparent conductive film formed on the color filter decreases, which is not preferable.

【0040】本発明のカラーフィルタを用いてセルギャ
ップを保持した場合は、例えば、3原色として、R、
G、Bを選びかつ3色を重ねた場合、Rに対してはG+
B+Bk(ブラックマトリックス)の膜厚が、Gに対し
てはB+R+Bkの膜厚が、また、Bに対してはR+G
+Bkの膜厚が液晶表示装置におけるセルギャップに相
当することになる。着色層を形成するペーストにおいて
着色剤の分散性を上げたり、均一塗布などを目的として
レベリング性を向上させた場合には、3原色から成る着
色層の積層により形成されたスペーサー高さは、画素部
における3原色の着色層の各膜厚の合計よりも小さくな
る。すなわち、セルギャップはRに対してはG+B+B
kの膜厚よりも小さくなり、同様にGに対してはB+R
+Bk、また、Bに対してはR+G+Bkの膜厚よりも
小さくなる。
When the cell gap is maintained using the color filter of the present invention, for example, R,
When G and B are selected and three colors are overlapped, R + G +
The film thickness of B + Bk (black matrix), the film thickness of B + R + Bk for G, and the film thickness of R + G for B
The film thickness of + Bk corresponds to the cell gap in the liquid crystal display. When the dispersibility of the coloring agent is increased in the paste for forming the coloring layer, or the leveling property is improved for the purpose of uniform application, the height of the spacer formed by stacking the coloring layers composed of the three primary colors is determined by the pixel. It is smaller than the sum of the film thicknesses of the three primary color layers in the portion. That is, the cell gap is G + B + B for R.
k is smaller than the film thickness, and similarly for G, B + R
+ Bk and B are smaller than the film thickness of R + G + Bk.

【0041】本発明における3原色からなる着色層の積
層により形成されたスペーサーがブラックマトリックス
上に形成されるが、スペーサーの面積や配置場所は液晶
表示素子を作製する場合にカラーフィルタと対向するア
クティブマトリックス基板の構造に大きく影響を受け
る。そのため、対向する電極基板側の制約がない場合
は、スペーサーの面積や設置場所は特に限定されない
が、画素のサイズを考えた場合、スペーサー1つ当たり
の面積は10μm2〜1000μm2であることが好まし
い。10μm2よりも小さい場合は、精密なパターンの
形成や積層が難しく、また、1000μm2よりも大き
い場合は、スペーサー部の形状にもよるがブラックマト
リックス上に完全に配置することが難しくなる。
In the present invention, a spacer formed by laminating colored layers of three primary colors is formed on a black matrix. The area and location of the spacer are different from those of the active layer which faces the color filter when a liquid crystal display element is manufactured. It is greatly affected by the structure of the matrix substrate. Therefore, if there is no constraint opposing electrode substrate side is the area and location of the spacer is not particularly limited, considering the size of the pixel, that area per one spacer is 10μm 2 ~1000μm 2 preferable. If it is smaller than 10 μm 2 , it is difficult to form and laminate a precise pattern, and if it is larger than 1000 μm 2 , it will be difficult to completely dispose it on a black matrix depending on the shape of the spacer portion.

【0042】次に、上記カラーフィルターとTFT基板
とを用いて作製したカラー液晶表示素子の一例について
説明する。図1には、該カラー液晶表示素子の好ましい
具体例の断面図が模式的に示されている。図1中、1は
透明基板、2は樹脂ブラックマトリックス、3は着色層
例えば(B)、4は着色層例えば(R)、5は着色層例
えば(G)、6は透明電極、7は配向膜である。一方、
13は、カラーフィルターと対向する透明電極基板の透
明基板であり、12は液晶駆動回路付属電極、11は絶
縁膜、10は画素電極、9は配向膜である。8はカラー
フィルターと透明電極基板の間に挟持される液晶であ
る。図1に示されるように、液晶表示素子は、上記カラ
ーフィルターと透明電極基板とを対向させて作製する。
カラーフィルターには、必要に応じて着色層上および/
またはスペーサー上に透明保護膜を設けても差支えな
い。スペーサー上への透明保護膜の形成は、スペーサー
から液晶中への不純物の溶出の防止や、スペーサーの強
度向上の点から好ましい。透明保護膜に用いる樹脂とし
ては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポ
リイミド系樹脂等の感光性又は非感光性の材料が好まし
く用いられる。また、カラーフィルター上には必要に応
じてITO膜等の透明電極を形成する。カラーフィルタ
ーと対向する透明電極基板としては、ITO膜などの透
明電極が透明基板上にパターン化されて設けられる。透
明電極基板上には、透明電極以外に、TFT素子や薄膜
ダイオード(TFD)素子、及び、走査線、信号線等を
設け、TFT液晶表示素子やTFD液晶表示素子を作製
することができる。透明電極を有するカラーフィルター
及び透明電極基板上には液晶配向膜が設けられ、ラビン
グ等による配向処理が施される。配向処理後にシール剤
を用いてカラーフィルター及び透明電極基板を貼り合わ
せ、シール部に設けられた注入口から液晶を注入した後
に、注入口を封止する。偏光板を基板の外側に貼り合わ
せた後にICドライバーなどを実装することによりモジ
ュールが完成する。カラーフィルタ側に透明電極を設け
ない液晶表示素子、例えばイン・プレイン・スイッチン
グ(IPS)と呼ばれる方式の場合もこれに応じた構成
となる。以上は透過型の液晶表示素子について例示した
が、アルミニウムなどの反射型電極を用いた反射型の液
晶表示素子にも本発明を提供することができる。反射型
の液晶表示素子の場合においては、カラーフィルターと
対向する基板上にアルミニウムなどの不透明で反射率の
高い電極がパターン化されて設けられる。本発明で採用
できる液晶としては、ネマチック液晶、強誘電性液晶、
反強誘電性液晶、無閾値反強誘電性液晶等が挙げられる
が特に限定されるものではない。
Next, an example of a color liquid crystal display device manufactured using the above color filter and TFT substrate will be described. FIG. 1 is a schematic sectional view of a preferred embodiment of the color liquid crystal display device. In FIG. 1, 1 is a transparent substrate, 2 is a resin black matrix, 3 is a colored layer such as (B), 4 is a colored layer such as (R), 5 is a colored layer such as (G), 6 is a transparent electrode, and 7 is an orientation. It is a membrane. on the other hand,
13 is a transparent substrate of a transparent electrode substrate facing the color filter, 12 is an electrode attached to a liquid crystal drive circuit, 11 is an insulating film, 10 is a pixel electrode, and 9 is an alignment film. Reference numeral 8 denotes a liquid crystal held between the color filter and the transparent electrode substrate. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device is manufactured with the above-mentioned color filter and the transparent electrode substrate facing each other.
The color filter may include a colored layer and / or
Alternatively, a transparent protective film may be provided on the spacer. The formation of the transparent protective film on the spacer is preferable from the viewpoint of preventing elution of impurities from the spacer into the liquid crystal and improving the strength of the spacer. As the resin used for the transparent protective film, a photosensitive or non-photosensitive material such as an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, and a polyimide resin is preferably used. Further, a transparent electrode such as an ITO film is formed on the color filter as needed. As the transparent electrode substrate facing the color filter, a transparent electrode such as an ITO film is provided in a pattern on the transparent substrate. On the transparent electrode substrate, in addition to the transparent electrode, a TFT element, a thin film diode (TFD) element, a scanning line, a signal line, and the like are provided, and a TFT liquid crystal display element and a TFD liquid crystal display element can be manufactured. A liquid crystal alignment film is provided on the color filter having a transparent electrode and the transparent electrode substrate, and is subjected to an alignment process such as rubbing. After the alignment treatment, the color filter and the transparent electrode substrate are attached to each other using a sealant, and after the liquid crystal is injected from an inlet provided in the seal portion, the inlet is sealed. The module is completed by mounting an IC driver and the like after attaching the polarizing plate to the outside of the substrate. A liquid crystal display element without a transparent electrode on the color filter side, for example, a method called in-plane switching (IPS) also has a configuration corresponding to this. In the above, the transmission type liquid crystal display element has been described as an example. However, the present invention can also be provided for a reflection type liquid crystal display element using a reflection type electrode such as aluminum. In the case of a reflection type liquid crystal display element, an opaque electrode having a high reflectance such as aluminum is provided in a pattern on a substrate facing a color filter. Nematic liquid crystal, ferroelectric liquid crystal,
An antiferroelectric liquid crystal, a thresholdless antiferroelectric liquid crystal, and the like are mentioned, but are not particularly limited.

【0043】本発明のカラー液晶表示素子は、パソコ
ン、ワードプロセッサー、エンジニアリング・ワークス
テーション、ナビゲーションシステム、液晶テレビ、ビ
デオなどの表示画面に用いられ、また、鮮明な画像を提
供する液晶プロジェクション等にも好適に用いられる。
The color liquid crystal display device of the present invention is used for display screens of personal computers, word processors, engineering workstations, navigation systems, liquid crystal televisions, videos, etc., and is also suitable for liquid crystal projection for providing clear images. Used for

【0044】[0044]

【実施例】以下、好ましい実施例に基づいて本発明をさ
らに詳しく説明するが、下記実施例によって本発明の効
力は何ら制限されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the scope of the present invention.

【0045】実施例1 (1) 樹脂ブラックマトリックスの作製 3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4'
- ジアミノジフェニルエーテル及びビス(3−アミノプ
ロピル)テトラメチルジシロキサンをN−メチル−2−
ピロリドンを溶媒として反応させ、ポリイミド前駆体
(ポリアミック酸)溶液を得た。
Example 1 (1) Preparation of resin black matrix 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'
-Diaminodiphenyl ether and bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane with N-methyl-2-
The reaction was performed using pyrrolidone as a solvent to obtain a polyimide precursor (polyamic acid) solution.

【0046】下記の組成を有するカーボンブラックミル
ベースをホモジナイザーを用いて、7000 rpmで30分間
分散し、ガラスビーズをろ過してブラックペーストを調
製した。
A carbon black mill base having the following composition was dispersed at 7000 rpm for 30 minutes using a homogenizer, and the glass beads were filtered to prepare a black paste.

【0047】カーボンブラックミルベースの組成 カーボンブラック(MA100 、三菱化成(株)製) 4.6部 ポリイミド前駆体溶液 24.0部 N−メチルピロリドン 61.4部 ガラスビーズ 90.0部 Composition of carbon black mill base : Carbon black (MA100, manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) 4.6 parts Polyimide precursor solution 24.0 parts N-methylpyrrolidone 61.4 parts Glass beads 90.0 parts

【0048】300x350mmのサイズの無アルカリ
ガラス(日本電気ガラス(株)製)、OA−2)基板上
にスピナーを用いて、ブラックペーストを塗布し、オー
ブン中135℃で20分間セミキュアした。続いて、ポ
ジ型レジスト(Sphipley "Microposit" RC100 30cp) を
スピナーで塗布し、90℃で10分間乾燥した。レジス
ト膜厚は1.5μmとした。キャノン(株)製露光機P
LA−501Fを用い、フォトマスクを介して露光を行
った。
A black paste was applied on a 300 × 350 mm non-alkali glass (manufactured by NEC Corporation, OA-2) substrate using a spinner and semi-cured in an oven at 135 ° C. for 20 minutes. Subsequently, a positive resist (Sphipley "Microposit" RC100 30 cp) was applied with a spinner and dried at 90 ° C. for 10 minutes. The resist film thickness was 1.5 μm. Exposure machine P manufactured by Canon Inc.
Exposure was performed using a LA-501F through a photomask.

【0049】次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シドを2重量%含んだ23℃の水溶液を現像液に用い、
基板を現像液にディップさせ、同時に10cm幅を5秒
で1往復するように基板を揺動させて、ポジ型レジスト
の現像とポリイミド前駆体のエッチングを同時に行っ
た。現像時間は60秒であった。その後、メチルセルソ
ルブアセテートでポジ型レジストを剥離し、さらに30
0℃で30分間キュアし、樹脂ブラックマトリックス基
板を得た。樹脂ブラックマトリックスの膜厚は、0.9
0μmであり、OD値は3.0であった。また、樹脂ブ
ラックマトリックスとガラス基板との界面における反射
率(Y値)は1.2%であった。
Next, an aqueous solution containing 2% by weight of tetramethylammonium hydroxide at 23 ° C. was used as a developer.
The substrate was dipped in a developing solution, and simultaneously, the substrate was swung so as to make one reciprocation in a width of 10 cm in 5 seconds, thereby simultaneously developing the positive resist and etching the polyimide precursor. The development time was 60 seconds. After that, the positive resist was peeled off with methylcellosolve acetate, and further 30
After curing at 0 ° C. for 30 minutes, a resin black matrix substrate was obtained. The thickness of the resin black matrix is 0.9
0 μm, and the OD value was 3.0. The reflectance (Y value) at the interface between the resin black matrix and the glass substrate was 1.2%.

【0050】(2) 着色層の作製 次に、赤、緑、青の顔料として各々Color Index No.653
00 Pigment Red 177で示されるジアントラキノン系顔
料、Color Index No.74265 Pigment Green 36 で示され
るフタロシアニングリーン系顔料、Color Index No. 74
160 Pigment blue15-4 で示されるフタロシアニンブル
ー系顔料を用意した。ポリイミド前駆体溶液に上記顔料
を各々混合分散させて、赤、緑、青の3種類の着色ペー
ストを得た。
(2) Preparation of Colored Layer Next, Color Index No. 653 was used as a red, green and blue pigment, respectively.
00 Dianthraquinone pigment represented by Pigment Red 177, Color Index No. 74265 Phthalocyanine green pigment represented by Pigment Green 36, Color Index No. 74
A phthalocyanine blue pigment represented by 160 Pigment blue 15-4 was prepared. The pigments were mixed and dispersed in a polyimide precursor solution to obtain three kinds of colored pastes of red, green and blue.

【0051】先ず、樹脂ブラックマトリックス基板上に
青ペーストを塗布し、80℃で10分間熱風乾燥し、1
20℃、20分間セミキュアした。この後、ポジ型レジ
スト(Sphipley "Microposit" RC100 30cp) をスピナー
で塗布後、80℃で20分間乾燥した。マスクを用いて
露光し、アルカリ現像液(Sphipley "Microposit" 351)
に基板をディップし、同時に基板を揺動させながら、ポ
ジ型レジストの現像及びポリイミド前駆体のエッチング
を同時に行った。その後、ポジ型レジストをメチルセル
ソルブアセテートで剥離し、さらに300℃で30分間
キュアした。着色画素部の膜厚は2.3μmであった。
このパターニングによりストライプ状に青色画素を形成
するとともに樹脂ブラックマトリックス上にスペーサー
の1段目を形成した。なお、スペーサーのサイズは25
μm角であった。また、スペーサーパターンは後で、緑
色着色層、赤色着色層によりストライプパターンが形成
される部分にのみ形成した。
First, a blue paste was applied on a resin black matrix substrate and dried with hot air at 80 ° C. for 10 minutes.
Semi-cure at 20 ° C. for 20 minutes. Thereafter, a positive resist (Sphipley "Microposit" RC100 30 cp) was applied by a spinner and dried at 80 ° C. for 20 minutes. Exposure using a mask, alkaline developer (Sphipley "Microposit" 351)
The substrate was dipped, and the development of the positive resist and the etching of the polyimide precursor were simultaneously performed while simultaneously swinging the substrate. Thereafter, the positive resist was peeled off with methyl cellosolve acetate, and cured at 300 ° C. for 30 minutes. The thickness of the colored pixel portion was 2.3 μm.
By this patterning, blue pixels were formed in a stripe shape, and the first step of the spacer was formed on the resin black matrix. The size of the spacer is 25
It was μm square. The spacer pattern was later formed only on the portion where the stripe pattern was formed by the green coloring layer and the red coloring layer.

【0052】水洗後に、同様にして、緑色画素の形成と
ともに樹脂ブラックマトリックス上にスペーサーの2段
目を形成した。緑色画素部の膜厚は2.3μm、スペー
サーのサイズは25μm角であった。スペーサーパター
ンは、青色ストライプ上と後で赤色着色層により、スト
ライプパターンが形成される部分にのみ形成した。
After washing with water, the second step of the spacer was similarly formed on the resin black matrix together with the formation of the green pixel. The thickness of the green pixel portion was 2.3 μm, and the size of the spacer was 25 μm square. The spacer pattern was formed only on the portion where the stripe pattern was to be formed on the blue stripe and later with a red coloring layer.

【0053】さらに水洗後に、同様にして赤色画素の形
成とともに樹脂ブラックマトリックス上にスペーサーの
3段目を形成し、カラーフィルターを作製した。赤色画
素部の膜厚は2.3μm、スペーサーのサイズは20μ
m角であった。スペーサーパターンは、青色ストライプ
上と緑色ストライプ上にのみ形成した。
After further washing with water, a third step of spacers was formed on a resin black matrix together with formation of a red pixel in the same manner to produce a color filter. The thickness of the red pixel portion is 2.3 μm, and the size of the spacer is 20 μm.
m square. The spacer pattern was formed only on the blue stripe and the green stripe.

【0054】着色層の積層により樹脂ブラックマトリッ
クス上に設けられたスペーサーの接触部の面積は1個当
たり約400μm2であった。基板面からのスペーサー
の高さから樹脂ブラックマトリックスの膜厚を引いた高
さ(樹脂ブラックマトリックス上の着色層3層分の厚
さ)は5.6μmであり、これは着色層の各膜厚の合計
(6.9μm)よりも低い。なお、スペーサーは、1画
素に1個の割合で画面内に設けた。また、画面周辺に樹
脂ブラックマトリックスで形成した額縁上の一部にも画
面内と同様な密度で色重ねによるスペーサーを設けた。
The area of the contact portion of the spacer provided on the resin black matrix by lamination of the colored layers was about 400 μm 2 per one. The height obtained by subtracting the thickness of the resin black matrix from the height of the spacer from the substrate surface (thickness of three colored layers on the resin black matrix) is 5.6 μm, which is the thickness of each colored layer. (6.9 μm). The spacer was provided in the screen at a rate of one per pixel. In addition, spacers are provided on a part of the frame formed of a resin black matrix around the screen by color overlapping at the same density as in the screen.

【0055】(3) カラー液晶表示素子の作製 上記カラーフィルタ上にスパッタリング法によりITO
膜をマスク成膜した。ITO膜の膜厚は150nmであ
り、表面抵抗は20Ω/□であった。このITO膜上に
ポリイミド系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。
(3) Production of color liquid crystal display element
The film was formed as a mask. The thickness of the ITO film was 150 nm, and the surface resistance was 20 Ω / □. A polyimide-based alignment film was provided on the ITO film, and a rubbing treatment was performed.

【0056】一方、TFT素子を備えた透明電極基板を
以下のように作製した。
On the other hand, a transparent electrode substrate provided with a TFT element was manufactured as follows.

【0057】先ず、透明の無アルカリガラス基板(日本
電気ガラス(株)製、OA−2)上にクロム膜をスパッ
タリング法により膜付けし、フォトリソグラフィーによ
ってゲート電極をパターニングした。次に、プラズマC
VD法により700nm厚さのシリコンナイトライド膜
(SiNx) を形成し、絶縁膜とした。引き続いて、厚さ1
00nmのアモルファスシリコン膜及びエッチングスト
ッパ膜層として厚さ500nmのSiNxを連続形成し
た。次に、フォトリソグラフィーによってエッチングス
トッパ層のSiNxをパターニングした。オーミックコ
ンタクトをとるためのn+アモルファスシリコン膜の成
膜とパターニング、さらに表示電極となるITO膜を成
膜し、パターニングした。さらに配線材料としてのアル
ミニウム膜を形成し、フォトリソグラフィーによってド
レイン電極とソース電極を作製した。ドレイン電極とソ
ース電極をマスクとしてチャンネル部のn+アモルファ
スシリコン膜をエッチング除去し、TFTを完成させ
た。
First, a chromium film was formed on a transparent alkali-free glass substrate (OA-2, manufactured by NEC Corporation) by sputtering, and the gate electrode was patterned by photolithography. Next, plasma C
A silicon nitride film (SiNx) having a thickness of 700 nm was formed by a VD method to form an insulating film. Subsequently, thickness 1
A 500 nm thick SiNx was continuously formed as a 00 nm amorphous silicon film and an etching stopper film layer. Next, SiNx of the etching stopper layer was patterned by photolithography. An n + amorphous silicon film for forming an ohmic contact was formed and patterned, and an ITO film serving as a display electrode was formed and patterned. Further, an aluminum film as a wiring material was formed, and a drain electrode and a source electrode were formed by photolithography. Using the drain electrode and the source electrode as masks, the n + amorphous silicon film in the channel portion was removed by etching to complete the TFT.

【0058】最後にカラーフィルター同様にポリイミド
系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。
Finally, a polyimide-based alignment film was provided in the same manner as the color filter, and a rubbing treatment was performed.

【0059】配向膜を設けたカラーフィルタと薄膜トラ
ンジスタ素子を備えた透明電極基板とをシール剤を用い
て張り合せた後に、シール部に設けられた注入口から液
晶を注入した。液晶の注入は、空セルを減圧下に放置
後、注入口を液晶槽に浸漬し、常圧に戻すことにより行
った。液晶を注入後、注入口を封止し、さらに偏光板を
基板の外側に貼り合わせ、セルを作製した。得られた液
晶表示素子は、良好な表示品位のものであった。
After a color filter provided with an alignment film and a transparent electrode substrate provided with a thin film transistor element were bonded together using a sealant, liquid crystal was injected from an injection port provided in the seal portion. The liquid crystal was injected by leaving the empty cell under reduced pressure, immersing the injection port in the liquid crystal tank, and returning the pressure to normal pressure. After injecting the liquid crystal, the injection port was sealed, and a polarizing plate was attached to the outside of the substrate to produce a cell. The obtained liquid crystal display element had good display quality.

【0060】実施例2 着色層の形状をストライプ状からブラックマトリックス
の1つの開口部を覆うアイランド状としたこと以外は実
施例1と同様にしてカラーフィルター及び液晶表示素子
を作製した。また、図8のようにアイランド状着色層を
延長し、ブラックマトリックス上のスペーサー形成位置
に30μm角のパターンを設けた。かくして得られたカ
ラーフィルターはクラックや色抜けがなく良好であっ
た。また、液晶表示素子の表示品位も良好であった。
Example 2 A color filter and a liquid crystal display device were produced in the same manner as in Example 1 except that the shape of the colored layer was changed from a stripe shape to an island shape covering one opening of the black matrix. Further, as shown in FIG. 8, the island-shaped colored layer was extended, and a pattern of 30 μm square was provided at the spacer forming position on the black matrix. The color filter thus obtained was good without cracks or color loss. Further, the display quality of the liquid crystal display element was also good.

【0061】比較例1 透明な無アルカリガラス基板上に実施例1と同様な手順
により樹脂ブラックマトリックスパターンを形成した。
さらに樹脂ブラックマトリックスパターン上に青、緑、
赤の着色層のパターンを形成した。このとき、ストライ
プパターンとスペーサードットパターンを分離、分画し
た(図9、図10)。
Comparative Example 1 A resin black matrix pattern was formed on a transparent alkali-free glass substrate by the same procedure as in Example 1.
In addition, blue, green,
A pattern of a red coloring layer was formed. At this time, the stripe pattern and the spacer dot pattern were separated and fractionated (FIGS. 9 and 10).

【0062】液晶表示装置の作製時の熱処理工程におい
て、分離のために設けた切り欠き部から着色層上にクラ
ックが発生した。また、一部基板においてオーバーエッ
チングのため、白抜けが発生した。
In the heat treatment step during the production of the liquid crystal display device, cracks occurred on the colored layer from the notches provided for separation. In addition, white spots occurred on some substrates due to over-etching.

【0063】比較例2 着色層の形状をストライプ状からブラックマトリックス
の1つの開口部を覆うアイランド状としたこと以外は比
較例1と同様にしてカラーフィルター及び液晶表示素子
を作製した。図11のようにアイランド状着色パターン
はブラックマトリックス上のスペーサー形成位置に延長
せずスペーサーを分離する切欠きを設けた。青ペースト
のドットパターンは30μm角とした。液晶表示装置の
作製時の熱処理工程において分離のために設けた切欠き
部が着色層上にクラックが発生した。
Comparative Example 2 A color filter and a liquid crystal display device were produced in the same manner as in Comparative Example 1, except that the shape of the colored layer was changed from a stripe shape to an island shape covering one opening of the black matrix. As shown in FIG. 11, the island-shaped colored pattern was provided with a notch for separating the spacer without extending to the spacer forming position on the black matrix. The dot pattern of the blue paste was 30 μm square. A notch provided for separation in a heat treatment step at the time of manufacturing a liquid crystal display device caused cracks on the colored layer.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明のスペーサーを有するカラーフィ
ルターを用いることによって、カラーフィルター着色層
のクラック発生や色抜けを防止することができる。ま
た、スペーサーの傾斜を緩くすることによって配向膜ラ
ビングの乱れを小さくすることができる。
By using the color filter having the spacer of the present invention, it is possible to prevent the occurrence of cracks and color omission of the color filter colored layer. In addition, the rubbing of the alignment film can be reduced by reducing the inclination of the spacer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のカラーフィルタ−を使用したカラー液
晶表示装置の模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a color liquid crystal display device using a color filter of the present invention.

【図2】実施例1で得られる青着色層ストライプ上に形
成されるスペーサー近傍の平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing the vicinity of a spacer formed on a blue colored layer stripe obtained in Example 1.

【図3】図2における3−3’線模式断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view taken along line 3-3 'in FIG.

【図4】実施例1で得られる緑着色層ストライプ上に形
成されるスペーサー近傍の平面図である。
FIG. 4 is a plan view near a spacer formed on a green colored layer stripe obtained in Example 1.

【図5】図4における5−5’線模式断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view taken along line 5-5 'in FIG.

【図6】実施例1で得られる赤着色層ストライプ上に形
成されるスペーサー近傍の平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing the vicinity of a spacer formed on a red colored layer stripe obtained in Example 1.

【図7】図6における7−7’線模式断面図である。FIG. 7 is a schematic sectional view taken along the line 7-7 ′ in FIG. 6;

【図8】実施例2で得られるアイランド状の着色層とス
ペーサー形状の平面図である。
FIG. 8 is a plan view of an island-shaped colored layer and a spacer obtained in Example 2.

【図9】比較例1で得られるスペーサー近傍の平面図で
ある。
FIG. 9 is a plan view showing the vicinity of a spacer obtained in Comparative Example 1.

【図10】図9における9−9’線模式断面図である。10 is a schematic sectional view taken along line 9-9 'in FIG.

【図11】比較例2で得られるアイランド状着色層とス
ペーサー形状の平面図である。
11 is a plan view of an island-shaped colored layer and a spacer shape obtained in Comparative Example 2. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板(ガラス基板) 2 樹脂ブラックマトリックス 3 着色層(B) 4 着色層(R) 5 着色層(G) 6 透明電極 7 配向膜 8 液晶 9 配向膜 10 画素電極 11 絶縁膜 12 液晶駆動回路付属電極 13 透明基板(ガラス基板) REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent substrate (glass substrate) 2 resin black matrix 3 colored layer (B) 4 colored layer (R) 5 colored layer (G) 6 transparent electrode 7 alignment film 8 liquid crystal 9 alignment film 10 pixel electrode 11 insulating film 12 liquid crystal drive circuit Attached electrode 13 Transparent substrate (glass substrate)

フロントページの続き (72)発明者 後藤 哲哉 滋賀県大津市園山1丁目1番1号東レ株式 会社滋賀事業場内Continued on the front page (72) Inventor Tetsuya Goto 1-1-1 Sonoyama, Otsu-shi, Shiga Toray Industries Co., Ltd.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にブラックマトリックスを設け、
該ブラックマトリックスの開口部を被覆するように3原
色のそれぞれの着色層を設けたカラーフィルターにおい
て、(A)前記ブラックマトリックス上の一部に3原色
のそれぞれの着色層の積層により形成された色重ねスペ
ーサーが複数設けられ、(B)前記ブラックマトリック
スの開口部を覆う着色層の少なくとも1層が、前記開口
部から前記スペーサー形成位置まで連続して形成されて
いることを特徴とするカラーフィルター。
1. A black matrix is provided on a substrate,
In a color filter provided with each of the three primary color layers so as to cover the opening of the black matrix, (A) a color formed by laminating each of the three primary color layers on a part of the black matrix. (B) A color filter, wherein a plurality of overlapping spacers are provided, and (B) at least one layer of a coloring layer covering the opening of the black matrix is formed continuously from the opening to the position where the spacer is formed.
【請求項2】ブラックマトリックス上の一部に3原色の
着色層の3層の積層により形成された色重ねスペーサー
が複数設けられた請求項1記載のカラーフィルター。
2. The color filter according to claim 1, wherein a plurality of color overlapping spacers formed by laminating three layers of three primary color layers are provided on a part of the black matrix.
【請求項3】 前記開口部を覆う着色層パターンの形状
が四角形である請求項1又は2記載のカラーフィルタ
ー。
3. The color filter according to claim 1, wherein the color layer pattern covering the opening has a square shape.
【請求項4】 前記開口部を覆う着色層パターンの形状
が、前記開口部ごとに着色層が不連続に配置されたアイ
ランド状である請求項1又は2記載のカラーフィルタ
ー。
4. The color filter according to claim 1, wherein the color layer pattern covering the openings has an island shape in which the color layers are discontinuously arranged for each of the openings.
【請求項5】 前記ブラックマトリックスが、樹脂中に
遮光剤を分散させて成る樹脂ブラックマトリックスであ
る請求項1ないし4のいずれか1項に記載のカラーフィ
ルター。
5. The color filter according to claim 1, wherein the black matrix is a resin black matrix obtained by dispersing a light shielding agent in a resin.
【請求項6】 前記ブラックマトリックスを形成する樹
脂がポリイミド樹脂である請求項1ないし5のいずれか
1項に記載のカラーフィルター。
6. The color filter according to claim 1, wherein the resin forming the black matrix is a polyimide resin.
【請求項7】 前記ブラックマトリックスの膜厚が0.
1〜1.5μmである請求項1ないし6のいずれか1項
に記載のカラーフィルター。
7. The black matrix according to claim 1, wherein said black matrix has a thickness of 0.5.
The color filter according to any one of claims 1 to 6, which has a thickness of 1 to 1.5 µm.
【請求項8】 前記ブラックマトリックスのOD値が
2.5以上である請求項1ないし7のいずれか1項に記
載のカラーフィルター。
8. The color filter according to claim 1, wherein an OD value of the black matrix is 2.5 or more.
【請求項9】 前記ブラックマトリックスの反射率が2
%以下である請求項1ないし8のいずれか1項に記載の
カラーフィルター。
9. The reflectance of the black matrix is 2
The color filter according to any one of claims 1 to 8, wherein the color filter is not more than%.
【請求項10】 前記開口部を覆う着色層上面と色重ね
スペーサーの頂部との高さの差が1.5〜9μmである
請求項1ないし9のいずれか1項に記載のカラーフィル
ター。
10. The color filter according to claim 1, wherein a difference in height between an upper surface of the colored layer covering the opening and a top of the color overlapping spacer is 1.5 to 9 μm.
【請求項11】 前記3原色から成る着色層がポリイミ
ド樹脂から成る請求項1ないし10のいずれか1項に記
載のカラーフィルター。
11. The color filter according to claim 1, wherein the colored layer composed of the three primary colors is composed of a polyimide resin.
【請求項12】 透明電極を有する一対の透明基板と、
これら両透明基板により挟持された液晶層とで構成され
たカラー液晶表示装置において、その一方の基板が請求
項1ないし11のいずれか1項に記載のカラーフィルタ
ーであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
12. A pair of transparent substrates having transparent electrodes,
12. A color liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer sandwiched between both transparent substrates, wherein one of the substrates is the color filter according to any one of claims 1 to 11. Display device.
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