JPH11273604A - Ultrahigh vacuum charged particle device and method for adjusting the same - Google Patents

Ultrahigh vacuum charged particle device and method for adjusting the same

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JPH11273604A
JPH11273604A JP9827998A JP9827998A JPH11273604A JP H11273604 A JPH11273604 A JP H11273604A JP 9827998 A JP9827998 A JP 9827998A JP 9827998 A JP9827998 A JP 9827998A JP H11273604 A JPH11273604 A JP H11273604A
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JP
Japan
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metal gasket
ultra
vacuum packing
charged particle
high vacuum
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JP9827998A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Kataoka
賢紀 片岡
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Jeol Ltd
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Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure with an improved function of the ultrahigh vacuum packing of an ultrahigh vacuum charged particle device. SOLUTION: An ultrahigh vacuum charged particle device has a hermetic connection where a metal gasket 3 is used as ultrahigh vacuum packing, and the vacuum packing of an O-ring 7 is added to the outside of the metal gasket. This adjusting method includes adjusting the relative position of the connection by first holding a gap in the hermetic connection under a state in which the O-ring 7 works as the vacuum packing while the metal gasket 3 does not work as vacuum packing, and after the adjustment is finished, reducing the gap in the connection to achieve a state in which the metal gasket 3 works as the vacuum packing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、超高真空荷電粒子
装置における超高真空の密封構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultra-high vacuum sealed structure in an ultra-high vacuum charged particle device.

【0002】[0002]

【従来の技術】超高真空荷電粒子装置としてオージェ電
子分光装置(以下、オージェ装置と称す)は、数keV
から数10keVに加速された電子線を試料に照射する
ことで発生する、オージェ電子、2次電子、反射電子、
X線等の重要な情報信号を検出して試料表面の分析を行
う装置である。これらの情報信号の検出は、試料を中心
として周囲に各検出器が配置されている。一方、試料ス
テージは、これらの情報信号を効率良く検出するため、
各検出器の方向に試料面の向きと傾斜を変えることと同
時に、試料の分析位置(電子線の照射位置)は変わらず
同一微少領域での各分析結果が得られる機構が求められ
る。
2. Description of the Related Art Auger electron spectroscopy (hereinafter referred to as Auger) as an ultra-high vacuum charged particle device is several keV.
Auger electrons, secondary electrons, reflected electrons, and the like generated by irradiating a sample with an electron beam accelerated to several tens keV from
This is an apparatus that detects important information signals such as X-rays and analyzes the sample surface. For detection of these information signals, each detector is arranged around the sample. On the other hand, the sample stage efficiently detects these information signals,
A mechanism is required that can change the direction and inclination of the sample surface in the direction of each detector, and at the same time, obtain the analysis results in the same micro area without changing the sample analysis position (electron beam irradiation position).

【0003】このような条件を満足するため、オージェ
装置は、「ユーセントリック機能」を備えることが強く
要求され、装置の調整段階において電子線の光軸と試料
ステージの傾斜軸の中心とを一致させることが重要とな
る。
In order to satisfy such conditions, the Auger apparatus is strongly required to have a "eucentric function", and in the adjustment stage of the apparatus, the optical axis of the electron beam coincides with the center of the tilt axis of the sample stage. It is important to make it happen.

【0004】通常、荷電粒子装置における「ユーセント
リック機能」は、試料ステージの傾斜軸が試料表面にあ
り、かつその傾斜軸が焦点面上の視野中心に位置するよ
うな位置設定がされております。このため、試料を水平
状態から傾斜させても、視野中心の注目部分について
は、移動も焦点ずれもなく像が観察できる。上記のよう
に傾斜軸が焦点面上の視野中心にある位置を「ユーセン
トリック位置」として称しております。
Normally, the "eucentric function" of a charged particle device is set such that the tilt axis of the sample stage is on the sample surface and the tilt axis is located at the center of the visual field on the focal plane. . For this reason, even if the sample is tilted from the horizontal state, an image can be observed without any movement or defocusing of the focused portion at the center of the visual field. The position where the tilt axis is at the center of the field of view on the focal plane as described above is called the "eucentric position".

【0005】図2は、このユーセントリック位置の位置
合わせの一例をオージェ装置で説明するための図であ
る。図中、1は鏡筒,2は試料室,3は超高真空用の真
空パッキンとしてのメタルガスケット、4は鏡筒1と試
料室を気密固定するための接続ボルト、5は試料ステー
ジ、6は試料ステージの傾斜軸、10は電子線の光軸で
ある。
FIG. 2 is a view for explaining an example of the eucentric position alignment using an Auger apparatus. In the figure, 1 is a lens barrel, 2 is a sample chamber, 3 is a metal gasket as a vacuum packing for ultra-high vacuum, 4 is a connection bolt for hermetically fixing the lens barrel 1 and the sample chamber, 5 is a sample stage, 6 Is the tilt axis of the sample stage, and 10 is the optical axis of the electron beam.

【0006】このオージェ装置の「ユーセントリック機
能」を得るには、電子線の光軸10と試料ステージ5の
傾斜軸6とのズレ量Lを一致するように機械的に位置合
わせを行う。 図2において、この機械的な位置合わせ
は、試料室2に対して鏡筒1の位置を移動させて、ズレ
量Lが零になるように合わせ込むことにより行う。この
ようなユーセントリック位置の位置合わせについて次に
説明する。
In order to obtain the "eucentric function" of this Auger apparatus, mechanical alignment is performed so that the displacement L between the optical axis 10 of the electron beam and the tilt axis 6 of the sample stage 5 coincides with each other. In FIG. 2, this mechanical alignment is performed by moving the position of the lens barrel 1 with respect to the sample chamber 2 and adjusting the lens barrel 1 so that the displacement L becomes zero. Next, such eucentric position alignment will be described.

【0007】まず、このズレ量Lを得るには、オージェ
装置を2次電子像が得られる程度に装置を起動させ(オ
ージェ装置としての超高真空度でなくて良い)、この2
次電子像より、電子線の光軸10(2次電子像の中央)
と試料ステージ5の傾斜軸6(ステージ傾斜して像の移
動がない点)との位置のズレ量Lを求める。
First, in order to obtain the shift amount L, the Auger device is started up to such an extent that a secondary electron image can be obtained (it is not necessary to use an ultra-high vacuum as the Auger device).
From the secondary electron image, the optical axis 10 of the electron beam (center of the secondary electron image)
And the tilt axis 6 of the sample stage 5 (the point where the image is not moved because the stage is tilted) are obtained.

【0008】次に、ユーセントリック位置の位置あわせ
は、装置を停止させ、試料室2を大気にしてから接続ボ
ルト4を緩め、試料室2に対して鏡筒1の位置をズレ量
L分だけ移動を行う。この一連の操作を2〜3回繰り返
してユーセントリック位置の位置合わせを行う。
Next, in order to adjust the eucentric position, the apparatus is stopped, the sample chamber 2 is evacuated, the connection bolt 4 is loosened, and the position of the lens barrel 1 with respect to the sample chamber 2 is shifted by an amount L. Make the move. This series of operations is repeated two or three times to perform eucentric position alignment.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記に
述べたようになユーセントリック位置の位置合わせにお
ける一連の操作において、下記の問題が生じる。
However, the following problems occur in a series of operations in the eucentric position alignment as described above.

【0010】オージェ装置は、試料を超高真空中のクリ
ーンな状態で分析する。そのため、真空のパッキンは、
通常図2に示すように、超高真空用の密封部材としての
メタルガスケット3を用いている。このメタルガスケッ
ト3は、板厚が2mmの無酸素銅で出来ており、真空の
密封は上下のフランジ溝の突起部8がメタルガスケット
3のシール面に食い込んで気密を保つている。その結
果、メタルガスケット3は、一回使用するとシール面に
フランジ溝の突起部8の痕跡が残る。メタルガスケット
3の使用回数は、通常、真空焼きだしを行わない状態
で、上下のフランジの位置を固定して使用(痕跡が同じ
位置)する場合2〜3回程度である。
An Auger apparatus analyzes a sample in a clean state in an ultra-high vacuum. Therefore, the vacuum packing
Usually, as shown in FIG. 2, a metal gasket 3 is used as a sealing member for ultra-high vacuum. The metal gasket 3 is made of oxygen-free copper having a thickness of 2 mm, and in vacuum sealing, the projections 8 of the upper and lower flange grooves cut into the sealing surface of the metal gasket 3 to maintain airtightness. As a result, when the metal gasket 3 is used once, a trace of the projection 8 of the flange groove remains on the sealing surface. The number of times the metal gasket 3 is used is usually about two to three times when the upper and lower flanges are used in a fixed position (the traces are the same) without vacuum baking.

【0011】しかし、本ユーセントリック位置の位置合
わせの場合は、試料室2に対して鏡筒1の位置を移動さ
せるため、このメタルガスケット3の痕跡がずれて二重
の痕跡ができため気密が保たれなくなる。そのため、位
置合わせの度に、メタルガスケット3を交換する必要が
ある。メタルガスケット3の交換は、試料室2より鏡筒
1を完全に切り離した後、新しいメタルガスケット3と
入れ替える。そのために、試料室2と鏡筒1の位置関係
が保持できなくなり、位置関係を保持するためには、事
前に正確な位置関係を測定するか、専用冶具等を用いる
ことが必要とる。
However, in the case of the positioning of the eucentric position, since the position of the lens barrel 1 is moved with respect to the sample chamber 2, the trace of the metal gasket 3 is displaced, and a double trace is formed. Will not be maintained. Therefore, it is necessary to replace the metal gasket 3 each time alignment is performed. To replace the metal gasket 3, the lens barrel 1 is completely separated from the sample chamber 2, and then replaced with a new metal gasket 3. Therefore, the positional relationship between the sample chamber 2 and the lens barrel 1 cannot be maintained, and in order to maintain the positional relationship, it is necessary to measure an accurate positional relationship in advance or use a dedicated jig or the like.

【0012】また、位置合わせの調整時間は、オージェ
装置を2次電子像が得られる状態まで起動したり、その
後、試料室2を大気にし、再度2次電子像が得られる状
態まで起動して位置の確認を行う等を繰り返すことによ
り非常に長い時間を要する。
The adjustment time of the alignment is determined by starting the Auger apparatus until a secondary electron image can be obtained, or after activating the sample chamber 2 to the atmosphere and starting again until a secondary electron image can be obtained. It takes a very long time to repeat position confirmation and the like.

【0013】従って、本発明は、上記従来の問題を解決
するものであって、オージェ装置の真空パッキンのメタ
ルガスケット3を交換せずに、ユーセントリック位置の
位置合わせをすることの可能な超高真空荷電粒子装置及
びその調整方法を提供することを目的とするものであ
る。
Accordingly, the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and has an ultra-high height capable of aligning the eucentric position without replacing the metal gasket 3 of the vacuum packing of the Auger device. It is an object of the present invention to provide a vacuum charged particle device and a method of adjusting the same.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明は、超高真空パッキンにメタルガスケットを用
いた気密接続部を有し、そのメタルガスケットの外側に
Oリングの真空パッキンを併設したことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided an air-tight connection using a metal gasket as an ultra-high vacuum packing, and an O-ring vacuum packing is provided outside the metal gasket. It is characterized by having done.

【0015】また、本発明の超高真空荷電粒子装置の調
整方法は、超高真空パッキンにメタルガスケットを用い
た気密接続部を有し、そのメタルガスケットの外側にO
リングの真空パッキンを併設した超高真空荷電粒子装置
において、気密接続部の間隙を初めに前記Oリングが真
空パッキンとして作用し、前記メタルガスケットは真空
パッキンとしての作用をしていない状態として接続部の
相対位置を調整し、調整終了後該メタルガスケットが真
空パッキンとして作用する状態に接続部の間隙を狭める
ようにしたことを特徴とする。
The method for adjusting an ultra-high vacuum charged particle device according to the present invention has an airtight connection using a metal gasket for an ultra-high vacuum packing, and an O.D.
In an ultra-high vacuum charged particle device provided with a vacuum packing of a ring, the O-ring acts as a vacuum packing first in a gap of an airtight connection, and the metal gasket is set to a state where it does not act as a vacuum packing. Are adjusted, and after the adjustment is completed, the gap between the connecting portions is narrowed so that the metal gasket functions as a vacuum packing.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】図1は、本発明のオージェ装置におけるユ
ーセントリック位置の位置合わせの一実施形態を示して
おり、図1(A)は、ユーセントリック位置の位置合わ
せを実施する時の試料室と鏡筒の真空パッキン面を電子
光軸に沿った断面図、図1(B)は、ユーセントリック
位置の位置合わせ完了後、超高真空として気密を保持し
た状態を示す図である。図1において、図2の説明図と
同一番号は同一構成を示が、図1の従来例と異なるの
は、真空パッキンとしてOリングをメタルガスケット3
の外側に追加して取付た点である。
FIG. 1 shows an embodiment of the positioning of the eucentric position in the Auger device of the present invention. FIG. 1A shows the sample chamber and the mirror when the positioning of the eucentric position is performed. FIG. 1B is a sectional view showing the vacuum packing surface of the cylinder along the electron optical axis, and FIG. 1B shows a state where airtightness is maintained as an ultra-high vacuum after the completion of the eucentric position alignment. In FIG. 1, the same reference numerals as those in the explanatory view of FIG. 2 denote the same components, but the difference from the conventional example of FIG.
It is a point that is additionally attached to the outside of.

【0018】図1の構成で、7は真空パッキンとしての
Oリング、9は試料室2と鏡筒1との真空パッキン面の
隙間である。このような構成において、ユーセントリッ
ク位置の位置合わせの動作について次に説明する。
In the configuration shown in FIG. 1, reference numeral 7 denotes an O-ring as a vacuum packing, and reference numeral 9 denotes a gap between a vacuum packing surface of the sample chamber 2 and the lens barrel 1. The operation of positioning the eucentric position in such a configuration will be described below.

【0019】図1(A)の実施形態において、試料室2
と鏡筒1との接続部は、Oリング7が若干つぶれるもの
のメタルグスケット3に突起部8が接触しない程度の隙
間9が保たれた状態になるように接続ボルト4の締め付
け具合で調整される。その結果、試料室2と鏡筒1との
接続部はOリング7によって気密が保たれており、メタ
ルガスケット3は、上下の突起部8に対して浮いた状態
で真空パッキンとして機能していない。
In the embodiment shown in FIG.
The connection between the lens barrel 1 and the lens barrel 1 is adjusted by tightening the connection bolts 4 so that the gap 9 is maintained such that the protrusion 8 does not come into contact with the metal socket 3 although the O-ring 7 is slightly crushed. You. As a result, the connection between the sample chamber 2 and the lens barrel 1 is kept air-tight by the O-ring 7, and the metal gasket 3 does not function as a vacuum packing in a state of floating with respect to the upper and lower protrusions 8. .

【0020】接続部をこのような状態に設定した後、こ
のオージェ装置の「ユーセントリック機能」を得るため
に、従来と同様に、電子線の光軸10と試料ステージ5
の傾斜軸6を一致させる。
After the connecting section is set in such a state, in order to obtain the "eucentric function" of the Auger apparatus, the optical axis 10 of the electron beam and the sample stage 5 are formed in the same manner as in the prior art.
Are made to coincide with each other.

【0021】まず、電子線の光軸10と試料ステージ5
の傾斜軸6とのズレ量Lを従来と同様に2次電子像を用
いて求める。次に、このズレ量Lを機械的に補正するに
は、電子線の発生を停止させ、試料室2と鏡筒1を固定
している接続ボルト4を緩め、試料室2に対して鏡筒1
の位置をズレ量L分だけ移動を行う。必要に応じて、試
料室2を大気圧にして移動を行うことが望ましい。
First, the optical axis 10 of the electron beam and the sample stage 5
Is determined using a secondary electron image in the same manner as in the prior art. Next, in order to mechanically correct the displacement L, the generation of the electron beam is stopped, the connection bolt 4 fixing the sample chamber 2 and the lens barrel 1 is loosened, and the lens barrel is moved relative to the sample chamber 2. 1
Is moved by the displacement amount L. It is desirable to move the sample chamber 2 to atmospheric pressure as necessary.

【0022】本実施例のユーセントリック位置の位置合
わせ調整中は、真空パッキンとしてOリング7のみを使
用し、メタルガスケット3を真空パッキンとして用いて
いないことにより、従来のようにメタルガスケット3の
交換を行う必要がない。
During the adjustment of the eucentric position of the present embodiment, only the O-ring 7 is used as the vacuum packing, and the metal gasket 3 is not used as the vacuum packing. No need to do.

【0023】その結果、ズレ量Lの位置合わせは、試料
室2に対して鏡筒1をズレ量Lを移動する際、従来のよ
うに試料室2と鏡筒1を切り離す必要がなくなり、位置
合わせ精度が向上し、一度の実施でほぼ期待通りの範囲
内に合わせることができる。このユーセントリック位置
の位置合わせの確認は、従来と同様に装置を再起動さ
せ、2次電子像により電子線の光軸10と試料ステージ
5の傾斜軸6のズレ量Lを確認する。
As a result, when the displacement amount L of the lens barrel 1 is moved with respect to the sample chamber 2, it is not necessary to separate the lens barrel 1 from the sample chamber 2 as in the related art. The alignment accuracy is improved, and it can be adjusted within the expected range in a single operation. To confirm the alignment of the eucentric position, the apparatus is restarted in the same manner as in the related art, and the amount L of displacement between the optical axis 10 of the electron beam and the tilt axis 6 of the sample stage 5 is confirmed using a secondary electron image.

【0024】次に、このズレ量が許容値内に合ったこと
が確認された後、試料室2と鏡筒1の隙間9がなくなる
まで接続ボルト4によって締めつける。その結果、図1
(B)に示すように上下の突起部8がメタルガスケット
3のシール面に食い込んで超高真空として十分な気密性
が得られる。
Next, after it is confirmed that the deviation amount is within the tolerance, the connection bolt 4 is used to tighten the gap 9 between the sample chamber 2 and the lens barrel 1 until the gap 9 disappears. As a result, FIG.
As shown in (B), the upper and lower protrusions 8 bite into the sealing surface of the metal gasket 3 and a sufficient airtightness can be obtained as an ultra-high vacuum.

【0025】以上本発明の実施の形態を説明したが、本
発明は上記の形態に限定されるものではない。例えば、
装置はオージェ装置で説明したが、一般の超高真空荷電
粒子装置として、光電子分光装置(通称:ESCAエス
カ)、超高真空透過型電子顕微鏡、超高真空走査型電子
顕微鏡等において、光軸の機械的な軸合わせにも同様に
利用できる。
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment. For example,
Although the apparatus has been described as an Auger apparatus, as a general ultra-high vacuum charged particle apparatus, a photoelectron spectroscopy apparatus (commonly called ESCA Esca), an ultra-high vacuum transmission electron microscope, an ultra-high vacuum scanning electron microscope, etc. It can be used for mechanical alignment as well.

【0026】更に、前述の実施例では、超高真空パッキ
ンとしてメタルガスケットを用いた場合で説明したが、
他の超高真空パッキンとしてヘリコレックス(フランス
のCEFILAC社の商品名)やメタル中空Oリング、
等においても同様に利用できる。
Further, in the above-described embodiment, the case where the metal gasket is used as the ultra-high vacuum packing has been described.
Helicox (trade name of CEFILAC of France), metal hollow O-ring,
And so on.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、超高真空パッキンのメタルガスケットとは別に、O
リングによる真空パッキンを併設する。そして超高真空
荷電粒子装置のユーセントリック位置の位置あわせ(電
子線の光軸合わせ)のために、接続部を機械的に移動す
る際は、真空パッキンとしてOリングのみを用いて、超
高真空パッキン用のメタルガスケットは使用しない。そ
の結果、位置合わせの度に、従来のように超高真空パッ
キン用のメタルガスケットを交換しないため、超高真空
パッキン面を切り離す必要がなくなり、位置合わせ精度
が向上し、位置合わせが一度ですむようになった。
As described above, according to the present invention, apart from the metal gasket of the ultra-high vacuum packing, O
A vacuum packing with a ring is also installed. When mechanically moving the connecting part for the eucentric position alignment (electron beam optical axis alignment) of the ultra-high vacuum charged particle device, only the O-ring is used as a vacuum packing, and the ultra-high vacuum is used. Do not use metal gaskets for packing. As a result, the metal gasket for ultra-high vacuum packing is not replaced every time alignment is performed, so there is no need to cut off the ultra-high vacuum packing surface, so that the alignment accuracy is improved and the alignment can be performed only once. became.

【0028】[0028]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の超高真空荷電粒子装置のユーセントリ
ック位置の位置合わせの一実施例を示し、電子線光軸と
垂直な断面を示す図である。
FIG. 1 is a view showing one embodiment of positioning of a eucentric position of an ultra-high vacuum charged particle device of the present invention, showing a cross section perpendicular to an electron beam optical axis.

【図2】従来の超高真空荷電粒子装置のユーセントリッ
ク位置の位置合わせの一実施例を示し、電子線光軸と垂
直な断面を示す図である。
FIG. 2 is a view showing one embodiment of positioning of a eucentric position of a conventional ultra-high vacuum charged particle device, and showing a cross section perpendicular to an electron beam optical axis.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…鏡筒、2…試料室、3…メタルガスケット、4…接
続ボルト、5…試料ステージ、6…傾斜軸、7…Oリン
グ、8…突起部、10…電子線の光軸、L…ズレ量、
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Barrel, 2 ... Sample chamber, 3 ... Metal gasket, 4 ... Connection bolt, 5 ... Sample stage, 6 ... Tilt axis, 7 ... O-ring, 8 ... Projection, 10 ... Optical axis of electron beam, L ... The amount of deviation,

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】超高真空パッキンにメタルガスケットを用
いた気密接続部を有し、そのメタルガスケットの外側に
Oリングの真空パッキンを併設したことを特徴とする超
高真空荷電粒子装置。
1. An ultra-high vacuum charged particle device having an airtight connection using a metal gasket as an ultra-high vacuum packing, and having an O-ring vacuum packing provided outside the metal gasket.
【請求項2】超高真空パッキンにメタルガスケットを用
いた気密接続部を有し、そのメタルガスケットの外側に
Oリングの真空パッキンを併設したことを特徴とする超
高真空荷電粒子装置において、気密接続部の間隙を初め
に前記Oリングが真空パッキンとして作用し、前記メタ
ルガスケットは真空パッキンとしての作用をしていない
状態として接続部の相対位置を調整し、調整終了後該メ
タルガスケットが真空パッキンとして作用する状態に接
続部の間隙を狭めるようにしたことを特徴とする超高真
空荷電粒子装置の調整方法。
2. An ultra-high vacuum charged particle device comprising an airtight connection using a metal gasket as an ultra-high vacuum packing, and an O-ring vacuum packing provided outside the metal gasket. First, the O-ring acts as a vacuum gasket at the gap between the joints, and the metal gasket adjusts the relative position of the joint so that the metal gasket does not act as the vacuum gasket. A method for adjusting an ultra-high vacuum charged particle device, characterized in that the gap between the connecting portions is narrowed so as to act as a device.
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