JPH11227248A - Minute reflection optical element array - Google Patents

Minute reflection optical element array

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Publication number
JPH11227248A
JPH11227248A JP3106598A JP3106598A JPH11227248A JP H11227248 A JPH11227248 A JP H11227248A JP 3106598 A JP3106598 A JP 3106598A JP 3106598 A JP3106598 A JP 3106598A JP H11227248 A JPH11227248 A JP H11227248A
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JP
Japan
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light
element array
optical element
emitting element
array
Prior art date
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Pending
Application number
JP3106598A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Akiyama
省一 秋山
Yasuhiro Osawa
康宏 大澤
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Priority to US09/240,859 priority patent/US6476551B1/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a minute reflecting optical element array which does not deteriorate image quality as a result of influences of a light from other than an original emission area and appropriate for use in high-resolution optical write. SOLUTION: A minute reflecting optical element array 11 is incorporated in an optical write apparatus having a light-emitting element array 7 of a plurality of light-emitting elements 2 arranged linearly on a substrate 4 and controlled individually tom emit light. The minute reflecting optical element array 11 arranged near the light-emitting element array 7 has opening parts 13 formed linearly on an optical element substrate 12 to correspond to the light-emitting elements 2 with having an in-plane section tapering towards the light-emitting element array 7. An original light P1 emitted from each light-emitting element 2 is guided in an original direction through the corresponding opening part 13 and moreover, lights P2, P3 from other than an original emission area are reflected at a surface of the opening part 13 towards the original direction and consequently do not become a stray light.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真プロセス
を利用したLEDアレイプリンタ等の光書込装置に用い
られる微小反射光学素子アレイに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a micro-reflection optical element array used in an optical writing device such as an LED array printer utilizing an electrophotographic process.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるオフィスユースやパーソナ
ルユースの情報機器の発展により、電子写真プロセスを
利用したプリンタ等にあっては、より高解像度でコンパ
クトかつ安価な装置の需要が高まっている。このような
要求を満たす機器の例として、例えば、多数の微小なL
ED発光素子を基板上にアレイ状に配列させたLEDア
レイヘッドを用いるLEDアレイプリンタがある。この
ようなLEDアレイプリンタによれば、LEDアレイヘ
ッドを書込光源とする固体走査型であるため、半導体レ
ーザを用いたラスタスキャニング方式の書込光学系によ
るレーザプリンタ等に比して機器を小型化しやすく、か
つ、LEDアレイヘッドの各LED発光素子が並列的に
書込みを行うため高速出力化も比較的容易に図れる等の
利点を有する。
2. Description of the Related Art With the development of information devices for office use and personal use in recent years, demand for higher resolution, compact and inexpensive printers using an electrophotographic process is increasing. As an example of a device satisfying such a requirement, for example, a large number of minute L
There is an LED array printer using an LED array head in which ED light emitting elements are arranged in an array on a substrate. According to such an LED array printer, since it is a solid-state scanning type using an LED array head as a writing light source, the device is smaller in size than a laser printer or the like using a raster scanning type writing optical system using a semiconductor laser. In addition, since each LED light emitting element of the LED array head writes data in parallel, high-speed output can be achieved relatively easily.

【0003】このようなLEDアレイプリンタに用いら
れるLEDアレイヘッドの構成例は、例えば、特開平6
−125114号公報により提案されている。1はLE
D発光素子2、ボンディングパッド3等が形成されたL
EDアレイチップであり、ドライバIC(図示せず)な
どとともに基板4上に実装されている。LEDアレイチ
ップ1上のボンディングパッド3に対しては基板側ボン
ディングパッド5との間に接続されたボンディングワイ
ヤ6を介して電流が供給される構造とされている。LE
Dアレイチップ1においてLED発光素子2とボンディ
ングパッド3との間は配線パターン(図示せず)により
接続されている。このようなLEDアレイヘッド7にお
いて選択されたLED発光素子2からの出射光が等倍結
像光学系8を介してドラム状の感光体9面上に集光照射
されることにより感光面が露光され、静電潜像が形成さ
れる。等倍結像光学系8としては、一般には、屈折率分
布型ファイバを用いたレンズアレイが用いられる。
A configuration example of an LED array head used in such an LED array printer is disclosed in, for example,
-125114. 1 is LE
L on which the D light emitting element 2, the bonding pad 3, etc. are formed
The ED array chip is mounted on the substrate 4 together with a driver IC (not shown) and the like. A current is supplied to the bonding pads 3 on the LED array chip 1 via bonding wires 6 connected between the bonding pads 3 and the substrate-side bonding pads 5. LE
In the D array chip 1, the LED light emitting element 2 and the bonding pad 3 are connected by a wiring pattern (not shown). The light emitted from the selected LED light emitting element 2 in the LED array head 7 is condensed and irradiated on the surface of the drum-shaped photosensitive member 9 via the same-magnification image forming optical system 8 to expose the photosensitive surface. As a result, an electrostatic latent image is formed. As the unit-magnification imaging optical system 8, a lens array using a gradient index fiber is generally used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このようなLEDアレ
イヘッド7においては、本来の発光領域以外の箇所から
等倍結像光学系8内に入射する光が存在し、これが画像
品質を低下させる一因となっている。例えば、出射光の
一部が図4中に示すようにボンディングワイヤ6により
反射されてLED発光素子2以外の領域からの光として
等倍結像光学系8の視野角θ内に入り込み、感光体9面
側に不要な光スポットや迷光として照射されてしまうこ
とで画像品質を低下させてしまう問題がある。この他、
基板4上の本来発光すべきでない領域が作製時のプロセ
スの異常などにより発光してしまう場合もある。この
点、元々はLEDアレイヘッドを書込光源として用いる
LEDアレイプリンタは、400dpi程度の比較的低
い解像度の機器が殆どであったためこのような迷光の影
響はあまり問題とされていなかったが、近年では、60
0ないし1200dpiといった高解像度の機器が実現
されるようになってきており、その画像品質を低下させ
る要因の一つとして無視できなくなってきている。
In such an LED array head 7, there is light incident on the same-magnification imaging optical system 8 from a place other than the original light-emitting area, which degrades image quality. Cause. For example, a part of the emitted light is reflected by the bonding wire 6 as shown in FIG. 4 and enters the viewing angle θ of the unity-magnification imaging optical system 8 as light from a region other than the LED light emitting element 2, There is a problem that the image quality is degraded by being irradiated as unnecessary light spots or stray light on the nine surfaces. In addition,
A region on the substrate 4 which should not emit light may emit light due to an abnormality in a manufacturing process or the like. In this regard, since the LED array printer using the LED array head as a writing light source originally had a device with a relatively low resolution of about 400 dpi, the influence of such stray light was not a serious problem. Then 60
Devices with a high resolution of 0 to 1200 dpi have been realized, and can no longer be ignored as one of the factors that degrade the image quality.

【0005】ちなみに、LED発光素子以外の領域から
の光により画像品質が低下することを防ぐ方法として、
特開平4−179558号公報によれば、LED発光素
子以外の領域を全て遮光効果を呈する塗料で覆う方法が
示されている。この方法をボンディングワイヤにも適用
すれば、この部位での反射光を減ずることができる。し
かし、遮光性塗料の表面であっても若干の反射率は有し
ているので、この部位での反射光を完全になくすことは
できない。このような遮光性塗料表面での若干の反射光
に関しても、従来の解像度の低いLEDアレイプリンタ
の場合には特に問題とはならないが、近年の高解像度化
されたLEDアレイプリンタにおいては、微弱な迷光で
あっても画像上、無視できない影響を及ぼし、画像品質
を低下させてしまう。よって、遮光性塗料により反射光
の影響を防止する方法では不十分である。また、仮にこ
の方法が有効であるとしても、長期間使用していると、
この種の塗料ではその耐候性に限界があるため遮光性塗
料の表面が老化して粗面となり、結果として、白っぽく
なって反射率が次第に増加し、所期の効果が得られなく
なってしまうものである。
[0005] Incidentally, as a method for preventing image quality from being degraded by light from an area other than the LED light emitting element,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-179558 discloses a method of covering all areas other than LED light emitting elements with a paint exhibiting a light shielding effect. If this method is applied to a bonding wire, it is possible to reduce the reflected light at this portion. However, even the surface of the light-shielding paint has a slight reflectance, so that the reflected light at this portion cannot be completely eliminated. Such slight reflected light on the surface of the light-shielding paint is not particularly problematic in the case of the conventional low-resolution LED array printer, but is very weak in recent high-resolution LED array printers. Even stray light has a non-negligible effect on the image and degrades image quality. Therefore, the method of preventing the influence of the reflected light by the light-shielding paint is insufficient. Also, even if this method is effective, if you use it for a long time,
This type of paint has a limited weather resistance, so the surface of the light-shielding paint ages and becomes rough, and as a result, it becomes whitish, the reflectance gradually increases, and the desired effect cannot be obtained. It is.

【0006】そこで、本発明は、本来の発光領域以外か
らの光があってもその影響を受けて画像品質を低下させ
るようなことがなく、高解像度の画像形成装置の光書込
用に好適な微小反射光学素子アレイを提供することを目
的とする。
Therefore, the present invention is suitable for optical writing of a high-resolution image forming apparatus without being affected by light from a region other than the original light-emitting region and deteriorating image quality. It is an object of the present invention to provide a miniature reflective optical element array.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
基板上に直線状に配列して形成されて各々個別に発光制
御される複数の発光素子を有する発光素子アレイを備え
た光書込装置に組込まれ、前記発光素子アレイに近接し
て配置される微小反射光学素子アレイであって、光学素
子基板にその面内方向断面形状が前記発光素子アレイ側
が先細のテーパ形状とされた開口部が前記各発光素子に
対応させて直線状に配列して形成されている。
According to the first aspect of the present invention,
It is incorporated in an optical writing device having a light emitting element array having a plurality of light emitting elements which are formed in a linear array on a substrate and each of which is individually controlled to emit light, and is arranged close to the light emitting element array. A micro-reflection optical element array, in which an in-plane cross-sectional shape of the optical element substrate is tapered on the side of the light-emitting element array to form a tapered opening corresponding to each of the light-emitting elements. Have been.

【0008】従って、各発光素子から発せられる本来の
光は各々対応する開口部中を通り抜けて本来の方向に向
かうとともに、発光素子アレイ側表面での反射等により
本来の発光領域以外から生ずる光があっても開口部の表
面で反射させることで本来の光と同じ方向に導くことが
でき、不規則な迷光となることが無く、書込画像上に悪
影響を及ぼすことはない。
Accordingly, the original light emitted from each light emitting element passes through the corresponding opening and goes in the original direction, and the light generated from the area other than the original light emitting area due to reflection on the light emitting element array side surface or the like. Even if the light is reflected on the surface of the opening, the light can be guided in the same direction as the original light, does not become irregular stray light, and does not adversely affect the written image.

【0009】請求項2記載の発明は、請求項1記載の微
小反射光学素子アレイにおいて、光学素子基板の発光素
子アレイ側の面にこの発光素子アレイ上の配線部の形状
に対応させた逃げ凹部が形成されている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the micro-reflection optical element array according to the first aspect, wherein an escape recess formed on the surface of the optical element substrate on the light emitting element array side corresponding to the shape of the wiring portion on the light emitting element array. Are formed.

【0010】微小反射光学素子アレイは発光素子アレイ
上に紫外線硬化樹脂等により接着する等の方法により適
切な間隔を持たせて或いは密着させて実装される。この
際、発光素子アレイ側の構成によっては発光領域のすぐ
そばの位置に配線パターンが設けられている場合があ
り、微小反射光学素子アレイを実装する上で配線パター
ンの段差が妨げとなり、紫外線硬化樹脂等の接着層の厚
さが厚く製造工程において取付位置の精度が低下したり
位置合わせに要する時間が長くなる懸念がある。この
点、光学素子基板の発光素子アレイ側の面にはこの発光
素子アレイ上の配線部の形状に対応させた逃げ凹部が形
成されているので、配線部の影響を受けることなく発光
素子アレイ上に実装することができる。
The micro-reflection optical element array is mounted on the light-emitting element array at a suitable interval or in close contact with the light-emitting element array by, for example, bonding with an ultraviolet curable resin or the like. At this time, depending on the configuration of the light emitting element array side, a wiring pattern may be provided immediately adjacent to the light emitting area, and the step of the wiring pattern may hinder the mounting of the minute reflection optical element array, and the ultraviolet curing Since the thickness of the adhesive layer such as resin is large, there is a concern that the accuracy of the mounting position may be reduced in the manufacturing process or the time required for the positioning may be long. In this regard, since the escape recess corresponding to the shape of the wiring portion on the light emitting element array is formed on the surface of the optical element substrate on the light emitting element array side, the light emitting element array is not affected by the wiring portion. Can be implemented.

【0011】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の微小反射光学素子アレイにおいて、開口部の表面に
アルミニウム、チタン、金、銀、タングステン、ニッケ
ル又はクロム中より選択された何れかの金属材料の薄膜
又はこれらの薄膜の積層体による反射層が形成されてい
る。
According to a third aspect of the present invention, in the micro-reflection optical element array according to the first or second aspect, the surface of the opening is selected from aluminum, titanium, gold, silver, tungsten, nickel, and chromium. The reflective layer is formed by a thin film of the above metal material or a laminate of these thin films.

【0012】従って、各発光素子から発せられる本来の
光は各々対応する開口部中を通り抜けて本来の方向に向
かうとともに、発光素子アレイ側表面での反射等により
本来の発光領域以外から生じて開口部の表面に向かう光
はこの表面上に形成された所定材料による反射層によっ
て本来の光と同じ方向に確実に導くことができ、等倍結
像光学系等に有効に光を導かせることで、書込み光量が
増加するため、より高速書込み化を図れる。或いは、書
込み光量が増加することにより、画像の明るさが増すの
で、感度の低めの感光体を使用できる等のメリットも得
られる。
Accordingly, the original light emitted from each light emitting element passes through the corresponding opening and goes in the original direction, and the light is emitted from an area other than the original light emitting area due to reflection on the light emitting element array side surface. Light directed toward the surface of the part can be reliably guided in the same direction as the original light by the reflecting layer of a predetermined material formed on this surface, and the light is effectively guided to the unity imaging optical system and the like. Since the writing light amount increases, higher-speed writing can be achieved. Alternatively, since the brightness of the image is increased by increasing the writing light amount, there is also obtained an advantage that a photosensitive member having a lower sensitivity can be used.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図1
及び図2に基づいて説明する。本実施の形態の微小反射
光学素子アレイ11は、例えば図4に示した構成のLE
DアレイプリンタにおけるLEDアレイヘッド7の基板
4上に重ねられて用いられるものである。この微小反射
光学素子アレイ11は、光学素子基板12にその面内方
向の断面形状が多角形、例えば四角形(或いは、円形)
で基板4側が先細となるテーパ形状の開口部13が直線
状に配列して貫通形成されたものである。ここに、この
ような開口部13の大きさ、ピッチはLEDアレイチッ
プ1上の発光素子である各LED発光素子2の大きさ、
ピッチに一致又はほぼ一致するように形成されている。
このような開口部13の表面には反射層14が形成され
ている。この反射層14は金属材料製であればよいが、
本発明者による工業的に使用できる種々の材料中、適合
性を実験により評価した結果によると、アルミニウム、
チタン、金、銀、タングステン、ニッケル又はクロム中
より選択された何れかの金属材料の薄膜又はこれらの薄
膜の積層体によるのがよいことが判明したものである。
なお、光学素子基板12としては、LED発光素子2が
発する光に対して不透明な材料が好ましいが、本実施の
形態のように表面に反射層14を形成する構成の場合で
あれば光学素子基板12自身が透明性材料によるもので
あってもよく、その材料選択の選択肢が広がる。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
A description will be given based on FIG. The micro-reflection optical element array 11 of the present embodiment is, for example, an LE having the configuration shown in FIG.
This is used by being superposed on the substrate 4 of the LED array head 7 in the D array printer. In the micro-reflection optical element array 11, the optical element substrate 12 has a polygonal cross section in an in-plane direction, for example, a quadrangle (or a circle).
In this configuration, the tapered openings 13 tapering on the substrate 4 side are formed in a straight line and formed through. Here, the size and pitch of such an opening 13 are the size of each LED light emitting element 2 which is a light emitting element on the LED array chip 1,
It is formed so as to match or almost match the pitch.
The reflection layer 14 is formed on the surface of the opening 13. The reflective layer 14 may be made of a metal material,
Among various materials that can be used industrially by the inventor, according to the results of evaluation of compatibility by experiments,
It has been found that a thin film of any metal material selected from titanium, gold, silver, tungsten, nickel and chromium or a laminate of these thin films is preferable.
The optical element substrate 12 is preferably made of a material that is opaque to the light emitted from the LED light emitting element 2. 12 itself may be made of a transparent material, which gives a wider choice of materials.

【0014】このような微小反射光学素子アレイ11は
図1に示すようにLEDアレイチップ1上に紫外線硬化
樹脂により接着する等の方法により適当な間隔を持たせ
て或いは密着させて実装されることにより、LEDアレ
イヘッド7の一部を構成する。
Such a micro-reflection optical element array 11 must be mounted on the LED array chip 1 with a suitable space or close contact with the LED array chip 1, as shown in FIG. Thereby constitute a part of the LED array head 7.

【0015】このような微小反射光学素子アレイ11を
有するLEDアレイヘッド7によれば、各LED発光素
子2から発せられる本来の光P1は対応する開口部13
中を通り抜けて等倍結像光学系等の本来の方向に向か
う。また、LED発光素子2の発光領域以外の部分から
発せられて表面で反射されるような光P2又はP3等が
あったとしても、このような光P2,P3は開口部13
の表面で反射されることとなり、本来の光P1と同じ方
向に導くことができる。よって、光P2,P3が不規則
な迷光となることが無く、従来の遮光性塗料による対策
とは異なり、書込画像上に悪影響を及ぼすことはない。
特に、本実施の形態の場合、開口部13の表面に反射層
14が形成されているので、光P2,P3を本来の光P
1と同じ方向に確実かつ効率よく導くことができ、対応
する等倍結像光学系中に有効に入射させることができ
る。この結果、画像形成に寄与する光が増え、画像の明
るさが増すので、感光体9として感度の低めなものを用
いることができたり、より高速で光書込みを行えるもの
となる。
According to the LED array head 7 having such a micro-reflection optical element array 11, the original light P 1 emitted from each LED light-emitting element 2 is transmitted to the corresponding aperture 13.
It passes through the inside and heads in the original direction of the 1 × imaging optical system or the like. Further, even if there is light P2 or P3 emitted from a portion other than the light emitting area of the LED light emitting element 2 and reflected on the surface, such light P2 or P3 is transmitted through the opening 13
And the light can be guided in the same direction as the original light P1. Therefore, the light P2 and P3 do not become irregular stray light, and do not adversely affect the written image unlike the conventional countermeasure using the light-shielding paint.
In particular, in the case of the present embodiment, since the reflection layer 14 is formed on the surface of the opening 13, the light P2 and P3 are
1 can be reliably and efficiently guided in the same direction as 1, and can be effectively incident on the corresponding 1 × imaging optical system. As a result, light contributing to image formation is increased, and the brightness of the image is increased, so that a photosensitive member 9 having a lower sensitivity can be used or optical writing can be performed at a higher speed.

【0016】ここで、具体的構成例の一例を挙げて説明
する。まず、図2に示すような構造の微小反射光学素子
アレイ11を製造した。石英ガラス基板(光学素子基板
12)を厚さ40μmに研磨して、平坦度のよいガラス
板(図示せず)上に熱可塑性樹脂により貼り付け、石英
ガラス基板上にフォトレジストを塗布した。フォトレジ
ストには東京応化株式会社製のOFPR8600を使用
し、膜厚が3μmとなるようにスピンコート法により塗
布した。このフォトレジストに20μm直径の円形の開
口パターンが40μmピッチ(600dpi相当)で直
線状に配列されたパターンを焼き付けて、通常の現像、
リンス工程を施して同形状の円柱が配列されたレジスト
マスクを形成した。そこで、基体となるガラス板がエッ
チング液で侵されないように裏面及び周囲をマスキング
し、希フッ酸溶液中でエッチングした。エッチング時間
は石英ガラス基板が貫通し、基体のガラス板が露出する
時点を観察することで定めた。この場合、アンダカット
により上部の直径が拡大することを利用して、上部の直
径が30μm、下部の直径が20μmのテーパ形状の開
口部13が40μmのピッチで直線状に配列された微小
反射光学素子アレイ11を得た。テーパ形状はエッチン
グ液の温度とフッ酸濃度及び撹拌の頻度を調節すること
により制御した。次に、基体となるガラス板に貼り付け
たままの状態でエッチングマスクを除去し、真空蒸着装
置により石英ガラス基板の片面(開口部13の直径が2
0μmの面側)に金(Au)を7000Åの厚さに蒸着
し、その後、ガラス板を加熱して石英ガラス基板から取
外し、石英ガラス基板側を有機溶剤により洗浄して、貼
り付けのために用いた熱可塑性樹脂を除去することで反
射層14が形成された微小反射光学素子アレイ11を完
成させた。
Here, an example of a specific configuration example will be described. First, a micro-reflection optical element array 11 having a structure as shown in FIG. 2 was manufactured. The quartz glass substrate (optical element substrate 12) was polished to a thickness of 40 μm, attached to a flat glass plate (not shown) with a thermoplastic resin, and a photoresist was applied on the quartz glass substrate. OFPR8600 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. was used as the photoresist, and the photoresist was applied by spin coating so as to have a thickness of 3 μm. A pattern in which a circular opening pattern having a diameter of 20 μm is linearly arranged at a pitch of 40 μm (corresponding to 600 dpi) is baked on the photoresist, and a normal developing process is performed.
A rinsing step was performed to form a resist mask in which columns having the same shape were arranged. Therefore, the back surface and the periphery were masked so that the glass plate serving as the base was not attacked by the etching solution, and etching was performed in a dilute hydrofluoric acid solution. The etching time was determined by observing the point in time when the quartz glass substrate penetrated and the base glass plate was exposed. In this case, utilizing the fact that the diameter of the upper portion is enlarged by the undercut, a micro-reflection optical system in which tapered openings 13 having an upper diameter of 30 μm and a lower diameter of 20 μm are linearly arranged at a pitch of 40 μm. An element array 11 was obtained. The taper shape was controlled by adjusting the temperature of the etchant, the concentration of hydrofluoric acid, and the frequency of stirring. Next, the etching mask was removed while being attached to the glass plate serving as the base, and one surface of the quartz glass substrate (the diameter of the opening 13 was 2 mm) was removed by a vacuum evaporation apparatus.
Gold (Au) is vapor-deposited to a thickness of 7000 mm on the surface side (0 μm), and then the glass plate is heated and removed from the quartz glass substrate. The micro-reflection optical element array 11 on which the reflection layer 14 was formed was completed by removing the used thermoplastic resin.

【0017】このような微小反射光学素子アレイ11の
機能を調べるために図4に示したような光書込装置を製
作した。ここに、等倍結像光学系8としては日本板硝子
株式会社製のSLA12Dを用いた。また、LEDアレ
イヘッド7に関しては、シリコンウェハ(基板4)上に
ガリウム砒素結晶層をヘテロエピタキシャル法により成
長させ、このガリウム砒素結晶層に亜鉛(Zn)を拡散
させることでPN接合を形成し、ガリウム砒素結晶層を
塩素ガスによるドライエッチングにより10μm×10
μmの角柱形状が40μmピッチ(600dpi相当)
で直線状に配列されるようにパターニングすることで、
多数のLED発光素子2をアレイ状に形成した。続い
て、このような素子全面に絶縁膜として酸化シリコン膜
を5000Åの膜厚で推積させ、コンタクトホールを形
成し、LED発光素子2に対してアルミニウムにより配
線パターンを形成しその端部にボンディングパッド3を
形成した。より具体的には、LED発光素子2を中心と
してアレイ方向に直交する左右両側に配線パターンを引
き出し、LED発光素子2の発光領域より概ね300μ
m離れた位置にボンディングパッド3を配設し、基板側
ボンディングパッド5との間にボンディングワイヤ6を
結線した。このボンディングワイヤ6としては線径18
μmの金ワイヤを使用した。ついで、前述したように製
作した微小反射光学素子アレイ11をボンディングパッ
ド3の間隔よりも狭い幅にダイシングソーによって短冊
状に切り出し、LEDアレイチップ1上のLED発光素
子2とアライメントして紫外線硬化樹脂により接着固定
し、図1に示すような構造のLEDアレイヘッド7とし
て完成させた。
An optical writing device as shown in FIG. 4 was manufactured in order to examine the function of such a minute reflection optical element array 11. Here, SLA12D manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. was used as the 1 × imaging optical system 8. As for the LED array head 7, a PN junction is formed by growing a gallium arsenide crystal layer on a silicon wafer (substrate 4) by a heteroepitaxial method and diffusing zinc (Zn) into the gallium arsenide crystal layer. The gallium arsenide crystal layer is 10 μm × 10
40μm pitch (equivalent to 600dpi)
By patterning so that it is arranged in a straight line,
Many LED light emitting elements 2 were formed in an array. Subsequently, a silicon oxide film is deposited as an insulating film to a thickness of 5000 ° on the entire surface of such an element, a contact hole is formed, a wiring pattern is formed on the LED light emitting element 2 with aluminum, and bonding is performed on the end thereof. Pad 3 was formed. More specifically, a wiring pattern is drawn out on both left and right sides orthogonal to the array direction with the LED light emitting element 2 as a center, and approximately 300 μm from the light emitting area of the LED light emitting element 2.
The bonding pad 3 was disposed at a position m away from the substrate, and a bonding wire 6 was connected between the bonding pad 3 and the substrate-side bonding pad 5. The bonding wire 6 has a wire diameter of 18
A μm gold wire was used. Next, the micro-reflection optical element array 11 manufactured as described above is cut into a strip shape by a dicing saw to a width smaller than the interval between the bonding pads 3, and is aligned with the LED light-emitting element 2 on the LED array chip 1 to be cured with an ultraviolet curable resin. Thus, an LED array head 7 having a structure as shown in FIG. 1 was completed.

【0018】比較構成例では、具体的構成例と同様にL
EDアレイヘッド7を形成するが、微小反射光学素子ア
レイ11を有しない従来構造例とした。そして、LED
発光素子2の発光領域外の部位を黒色の遮光性塗料で覆
った構成とした。
In the comparative example, as in the specific example, L
Although the ED array head 7 is formed, a conventional structure example without the micro-reflection optical element array 11 is used. And LED
The light-emitting element 2 was configured so that a portion outside the light-emitting region was covered with a black light-shielding paint.

【0019】これらの具体的構成例、比較構成例のLE
Dアレイヘッドを用いて感光体9上に静電潜像を形成
し、トナーを付着させてその画像品質を評価(LED発
光素子2の発光層領域の形状が良好に転写され不要なパ
ターンを生じていないものを評価「適」とし、発光層領
域の形状が著しく変形し或いは不要なパターンが生じて
いるものを評価「不適」とする)したところ、上記具体
的構成例による場合には、製造直後でも耐環境試験(長
期間使用後の状況を再現するための温度サイクルの耐環
境試験)後でも、何れも評価は「適」となったものであ
るが、比較構成例では何れの場合の評価も「不適」とな
ったものである。これにより、本実施の形態によれば、
600dpiなる高解像度な構成においてもボンディン
グワイヤ6部位での反射光や発光領域以外の箇所からの
不要な光が迷光となることに起因する画像品質の低下の
ないLEDアレイヘッド7となり、長期間に渡ってその
性能を維持し得ることがわかる。また、開口部13の表
面に反射層14が形成されているので、等倍結像光学系
8側に有効に入射する光が増えて感光体9に対する露光
光量が増加することから書込み速度も向上させることが
できたものである。
The LEs of these specific configuration examples and comparative configuration examples
An electrostatic latent image is formed on the photoreceptor 9 using a D array head, and the image quality is evaluated by attaching toner (the shape of the light emitting layer area of the LED light emitting element 2 is transferred well and an unnecessary pattern is generated. Those that were not evaluated were evaluated as “suitable”, and those in which the shape of the light-emitting layer region was significantly deformed or an unnecessary pattern was evaluated were evaluated as “unsuitable”. Immediately after or after the environmental resistance test (environmental resistance test of temperature cycle to reproduce the situation after long-term use), the evaluation was “suitable” in any case. The evaluation was also “unsuitable”. Thereby, according to the present embodiment,
Even in a high-resolution configuration of 600 dpi, the LED array head 7 has no deterioration in image quality due to stray light reflected from the bonding wire 6 and unnecessary light from a portion other than the light emitting region. It can be seen that the performance can be maintained over a period of time. In addition, since the reflection layer 14 is formed on the surface of the opening 13, the amount of light effectively entering the unit-magnification imaging optical system 8 increases, and the amount of exposure to the photoconductor 9 increases, so that the writing speed also increases. It was something that could be done.

【0020】また、別の具体的構成例について説明す
る。この具体的構成例では、石英ガラス基板に代えて、
金属塩を加えて暗褐色に着色したソーダガラス基板(光
学素子基板12)を使用して前述した具体的構成例と同
様の微小反射光学素子アレイ11を作製した。ただし、
この具体的構成例では、反射層14を形成しない構成と
した。
Another specific configuration example will be described. In this specific configuration example, instead of the quartz glass substrate,
Using a soda glass substrate (optical element substrate 12) colored dark brown by adding a metal salt, a micro-reflection optical element array 11 similar to the specific configuration example described above was produced. However,
In this specific configuration example, the reflection layer 14 is not formed.

【0021】このような微小反射光学素子アレイ11の
機能を調べるために図4に示したような光書込装置を製
作した。ここに、等倍結像光学系8としては日本板硝子
株式会社製のSLA12Dを用いた。また、LEDアレ
イヘッド7に関しては、シリコンウェハ(基板4)上に
ガリウム砒素結晶層をヘテロエピタキシャル法により成
長させ、このガリウム砒素結晶層に亜鉛(Zn)を拡散
させることでPN接合を形成し、ガリウム砒素結晶層を
塩素ガスによるドライエッチングにより10μm×10
μmの角柱形状が40μmピッチ(600dpi相当)
で直線状に配列されるようにパターニングすることで、
多数のLED発光素子2をアレイ状に形成した。続い
て、このような素子全面に絶縁膜として酸化シリコン膜
を5000Åの膜厚で推積させ、コンタクトホールを形
成し、LED発光素子2に対してアルミニウムにより配
線パターンを形成しその端部にボンディングパッド3を
形成した。より具体的には、LED発光素子2を中心と
してアレイ方向に直交する左右両側に配線パターンを引
き出し、LED発光素子2の発光領域より概ね300μ
m離れた位置にボンディングパッド3を配設し、基板側
ボンディングパッド5との間にボンディングワイヤ6を
結線した。このボンディングワイヤ6としては線径18
μmの金ワイヤを使用した。ついで、前述したように製
作した微小反射光学素子アレイ11をボンディングパッ
ド3の間隔よりも狭い幅にダイシングソーによって短冊
状に切り出し、LEDアレイチップ1上のLED発光素
子2とアライメントして紫外線硬化樹脂により接着固定
し、LEDアレイヘッド7として完成させた。
An optical writing apparatus as shown in FIG. 4 was manufactured in order to examine the function of such a micro-reflection optical element array 11. Here, SLA12D manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. was used as the 1 × imaging optical system 8. As for the LED array head 7, a PN junction is formed by growing a gallium arsenide crystal layer on a silicon wafer (substrate 4) by a heteroepitaxial method and diffusing zinc (Zn) into the gallium arsenide crystal layer. The gallium arsenide crystal layer is 10 μm × 10
40μm pitch (equivalent to 600dpi)
By patterning so that it is arranged in a straight line,
Many LED light emitting elements 2 were formed in an array. Subsequently, a silicon oxide film is deposited as an insulating film to a thickness of 5000 ° on the entire surface of such an element, a contact hole is formed, a wiring pattern is formed on the LED light emitting element 2 with aluminum, and bonding is performed on the end thereof. Pad 3 was formed. More specifically, a wiring pattern is drawn out on both left and right sides orthogonal to the array direction with the LED light emitting element 2 as a center, and approximately 300 μm from the light emitting area of the LED light emitting element 2.
The bonding pad 3 was disposed at a position m away from the substrate, and a bonding wire 6 was connected between the bonding pad 3 and the substrate-side bonding pad 5. The bonding wire 6 has a wire diameter of 18
A μm gold wire was used. Next, the micro-reflection optical element array 11 manufactured as described above is cut into a strip shape by a dicing saw to a width smaller than the interval between the bonding pads 3, and is aligned with the LED light-emitting element 2 on the LED array chip 1 to be cured with an ultraviolet curable resin. To complete the LED array head 7.

【0022】比較構成例では、具体的構成例と同様にL
EDアレイヘッド7を形成するが、微小反射光学素子ア
レイ11を有しない従来構造例とした。そして、LED
発光素子2の発光領域外の部位を黒色の遮光性塗料で覆
った構成とした。
In the comparative example, as in the specific example, L
Although the ED array head 7 is formed, a conventional structure example without the micro-reflection optical element array 11 is used. And LED
The light-emitting element 2 was configured so that a portion outside the light-emitting region was covered with a black light-shielding paint.

【0023】これらの具体的構成例、比較構成例のLE
Dアレイヘッドを用いて感光体9上に静電潜像を形成
し、トナーを付着させてその画像品質を評価したとこ
ろ、上記具体的構成例による場合には、製造直後でも耐
環境試験後でも、何れも評価は「適」となったものであ
るが、比較構成例では何れの場合の評価も「不適」とな
ったものである。これにより、600dpiなる高解像
度な構成においてもボンディングワイヤ6部位での反射
光や発光領域以外の箇所からの不要な光が迷光となるこ
とに起因する画像品質の低下のないLEDアレイヘッド
7となり、長期間に渡ってその性能を維持し得ることが
わかる。また、この具体的構成例の場合、反射層14を
有しない分、書込み速度の向上は図れなかったが、反射
層14を形成しない分、前述の具体的構成例に比べて安
価に作製することができたものである。
The LEs of these specific configuration examples and comparative configuration examples
An electrostatic latent image was formed on the photoreceptor 9 using a D array head, and the image quality was evaluated by attaching toner. In the case of the above specific configuration example, the electrostatic latent image was obtained immediately after production or after an environmental resistance test. In each case, the evaluation was “suitable”, but in the comparative configuration example, the evaluation in each case was “unsuitable”. As a result, even in a high-resolution configuration of 600 dpi, the LED array head 7 does not suffer from deterioration in image quality due to reflected light from the bonding wire 6 and unnecessary light from a portion other than the light emitting region becoming stray light. It can be seen that the performance can be maintained for a long time. Further, in the case of this specific configuration example, the writing speed could not be improved because the reflective layer 14 was not provided. However, since the reflective layer 14 was not formed, the device was manufactured at a lower cost than the specific configuration example described above. Was made.

【0024】本発明の第二の実施の形態を図3に基づい
て説明する。本実施の形態では、微小反射光学素子アレ
イ11に関して、光学素子基板12の基板4側の面に逃
げ凹部15が形成されている。これらの逃げ凹部15は
基板4側において形成されている配線部16を逃げるよ
うに配線部16の位置、高さ等に対応させて形成されて
いる。
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, a relief recess 15 is formed on the surface of the optical element substrate 12 on the substrate 4 side with respect to the minute reflection optical element array 11. These escape recesses 15 are formed corresponding to the position, height, and the like of the wiring portion 16 so as to escape the wiring portion 16 formed on the substrate 4 side.

【0025】微小反射光学素子アレイ11は基板4上に
紫外線硬化樹脂等により接着する等の方法により適切な
間隔を持たせて或いは密着させて実装される。この際、
LEDアレイヘッド7側の構成によっては図3に示すよ
うにLED発光素子2の発光領域のすぐそばの位置に配
線パターン等の配線部16が非対称な形で設けられる場
合がある。この場合、微小反射光学素子アレイ11を実
装する上で配線部16の段差が妨げとなり、紫外線硬化
樹脂等の接着層の厚さが厚く製造工程において取付位置
の精度が低下したり位置合わせに要する時間が長くなる
懸念がある。この点、本実施の形態によれば、配線部1
6の形状に対応させて逃げ凹部15が形成されているの
で、配線部16の影響を受けることなく基板4上に微小
反射光学素子アレイ11を実装することができる。
The micro-reflection optical element array 11 is mounted on the substrate 4 at an appropriate interval or in close contact with the substrate 4 by a method such as bonding with an ultraviolet curable resin or the like. On this occasion,
Depending on the configuration of the LED array head 7 side, as shown in FIG. 3, a wiring portion 16 such as a wiring pattern may be provided in an asymmetric shape at a position immediately adjacent to the light emitting region of the LED light emitting element 2. In this case, the step of the wiring portion 16 hinders the mounting of the micro-reflection optical element array 11, and the thickness of the adhesive layer such as an ultraviolet curable resin is large, so that the accuracy of the mounting position is reduced in the manufacturing process or required for alignment. There is a concern that the time will be longer. In this regard, according to the present embodiment, the wiring unit 1
Since the escape recess 15 is formed corresponding to the shape of 6, the micro-reflection optical element array 11 can be mounted on the substrate 4 without being affected by the wiring section 16.

【0026】本実施の形態の場合の具体的構成例につい
て説明する。この具体的構成例では、前述した実施の形
態の何れかの具体的構成例による微小反射光学素子アレ
イ11に関して、光学素子基板12の裏面側に配線部1
6に相当する逃げ凹部15をフォトリソグラフィ法によ
りエッチングマスクを作成し、希フッ酸でエッチングす
ることにより形成した。後は、前述した具体的構成例と
同様とした。
A specific configuration example in the case of the present embodiment will be described. In this specific configuration example, with respect to the micro-reflection optical element array 11 according to any specific configuration example of the above-described embodiment, the wiring portion 1 is provided on the back surface side of the optical element substrate 12.
The escape recess 15 corresponding to No. 6 was formed by forming an etching mask by photolithography and etching with dilute hydrofluoric acid. The rest is the same as the specific configuration example described above.

【0027】このような逃げ凹部15が形成された微小
反射光学素子アレイ11によれば、LEDアレイヘッド
7側において図3に示すような配線部16が存在する場
合にも傾いたりすることなく微小反射光学素子アレイ1
1を実装することができ、位置合わせも短時間で済み、
製造コストの増加を招くこともなかったものである。
According to the micro-reflection optical element array 11 in which such a recess 15 is formed, even if the wiring section 16 as shown in FIG. Reflective optical element array 1
1 can be mounted, positioning is completed in a short time,
This does not lead to an increase in manufacturing cost.

【0028】[0028]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、基板上に
直線状に配列して形成されて各々個別に発光制御される
複数の発光素子を有する発光素子アレイを備えた光書込
装置に組込まれ、発光素子アレイに近接して配置される
微小反射光学素子アレイであって、光学素子基板にその
面内方向断面形状が発光素子アレイ側が先細のテーパ形
状とされた開口部が各発光素子に対応させて直線状に配
列して形成されているので、各発光素子から発せられる
本来の光は各々対応する開口部中を通り抜けて本来の方
向に向かわせることができるとともに、発光素子アレイ
側表面での反射等により本来の発光領域以外から生ずる
光があっても開口部の表面で反射させることで本来の光
と同じ方向に導かせることができ、よって、不規則な迷
光となることが無く、書込画像上に悪影響を及ぼすこと
を防止することができる。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an optical writing apparatus including a light emitting element array having a plurality of light emitting elements which are formed in a linear array on a substrate and each of which is individually controlled to emit light. And a micro-reflection optical element array which is disposed in close proximity to the light-emitting element array, and the light-emitting element array side has a tapered opening in the optical element substrate. Since they are formed in a linear array corresponding to the elements, the original light emitted from each light emitting element can pass through the corresponding opening and be directed in the original direction, and the light emitting element array Even if there is light generated from other than the original light emitting area due to reflection on the side surface, etc., the light can be guided in the same direction as the original light by being reflected on the surface of the opening, thereby causing irregular stray light. Is nothing , It is possible to prevent an adverse effect on the written image.

【0029】請求項2記載の発明によれば、請求項1記
載の微小反射光学素子アレイにおいて、光学素子基板の
発光素子アレイ側の面にこの発光素子アレイ上の配線部
の形状に対応させた逃げ凹部が形成されているので、発
光素子アレイ側の構成によっては発光領域のすぐそばの
位置に配線パターンが設けられている場合があるが、配
線部の影響を受けることなく発光素子アレイ上に実装す
ることができる。
According to the second aspect of the present invention, in the micro-reflection optical element array according to the first aspect, the surface of the optical element substrate on the light emitting element array side is made to correspond to the shape of the wiring portion on the light emitting element array. Since the escape recess is formed, a wiring pattern may be provided at a position immediately adjacent to the light emitting region depending on the configuration of the light emitting element array side, but the wiring pattern is not affected by the wiring portion on the light emitting element array. Can be implemented.

【0030】請求項3記載の発明によれば、請求項1又
は2記載の微小反射光学素子アレイにおいて、開口部の
表面にアルミニウム、チタン、金、銀、タングステン、
ニッケル又はクロム中より選択された何れかの金属材料
の薄膜又はこれらの薄膜の積層体による反射層が形成さ
れているので、発光素子アレイ側表面での反射等により
本来の発光領域以外から生じて開口部の表面に向かう光
に関してこの表面上に形成された所定材料による反射層
によって本来の光と同じ方向に確実かつ効率よく導くこ
とができ、等倍結像光学系等に有効に光を導かせること
で、書込み光量を増加させることができるため、より高
速書込み化を図ったり、書込み光量が増加することで画
像の明るさが増すことから、感度の低めの感光体を使用
することができる等のメリットが得られる。
According to a third aspect of the present invention, in the micro-reflection optical element array according to the first or second aspect, aluminum, titanium, gold, silver, tungsten,
Since the reflection layer is formed by a thin film of any metal material selected from nickel or chromium or a laminated body of these thin films, it is generated from a region other than the original light emitting region due to reflection on the light emitting element array side surface or the like. Light directed toward the surface of the opening can be reliably and efficiently guided in the same direction as the original light by the reflective layer of a predetermined material formed on the surface, and the light is effectively guided to the 1 × imaging optical system and the like. By increasing the amount of writing, the amount of writing light can be increased, so that higher-speed writing can be achieved, and the brightness of an image can be increased by increasing the amount of writing light, so that a photosensitive member with lower sensitivity can be used. And other advantages.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】微小反射光学素子アレイ単体を示す斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view showing a minute reflection optical element array alone.

【図3】本発明の第二の実施の形態を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【図4】従来例を示す概略側面図である。FIG. 4 is a schematic side view showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 発光素子 4 基板 7 発光素子アレイ 12 光学素子基板 13 開口部 14 反射層 15 逃げ凹部 16 配線部 Reference Signs List 2 light emitting element 4 substrate 7 light emitting element array 12 optical element substrate 13 opening 14 reflection layer 15 escape recess 16 wiring section

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に直線状に配列して形成されて各
々個別に発光制御される複数の発光素子を有する発光素
子アレイを備えた光書込装置に組込まれ、前記発光素子
アレイに近接して配置される微小反射光学素子アレイで
あって、光学素子基板にその面内方向断面形状が前記発
光素子アレイ側が先細のテーパ形状とされた開口部が前
記各発光素子に対応させて直線状に配列して形成されて
いることを特徴とする微小反射光学素子アレイ。
1. A light-emitting device including a light-emitting element array having a plurality of light-emitting elements formed in a straight line on a substrate and individually controlled for light emission, and incorporated in an optical writing device. A micro-reflection optical element array arranged in such a manner that an in-plane cross-sectional shape of the optical element substrate is tapered toward the light-emitting element array side and an opening is formed in a straight line corresponding to each of the light-emitting elements. A micro-reflection optical element array characterized by being formed in a matrix.
【請求項2】 光学素子基板の発光素子アレイ側の面に
この発光素子アレイ上の配線部の形状に対応させた逃げ
凹部が形成されていることを特徴とする請求項1記載の
微小反射光学素子アレイ。
2. The micro-reflection optics according to claim 1, wherein an escape recess corresponding to the shape of the wiring portion on the light-emitting element array is formed on the surface of the optical element substrate on the light-emitting element array side. Element array.
【請求項3】 開口部の表面にアルミニウム、チタン、
金、銀、タングステン、ニッケル又はクロム中より選択
された何れかの金属材料の薄膜又はこれらの薄膜の積層
体による反射層が形成されていることを特徴とする請求
項1又は2記載の微小反射光学素子アレイ。
3. An aluminum, titanium,
3. The microreflection according to claim 1, wherein the reflection layer is formed by a thin film of any metal material selected from gold, silver, tungsten, nickel and chromium, or a laminate of these thin films. Optical element array.
JP3106598A 1998-01-30 1998-02-13 Minute reflection optical element array Pending JPH11227248A (en)

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