JPH11176717A - Production method for semiconductor device, production management method/device for the semiconductor device - Google Patents

Production method for semiconductor device, production management method/device for the semiconductor device

Info

Publication number
JPH11176717A
JPH11176717A JP34536497A JP34536497A JPH11176717A JP H11176717 A JPH11176717 A JP H11176717A JP 34536497 A JP34536497 A JP 34536497A JP 34536497 A JP34536497 A JP 34536497A JP H11176717 A JPH11176717 A JP H11176717A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
time
production
work
extracted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34536497A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Ino
雅博 伊能
Shinichiro Yabe
伸一郎 谷部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP34536497A priority Critical patent/JPH11176717A/en
Publication of JPH11176717A publication Critical patent/JPH11176717A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

Landscapes

  • General Factory Administration (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method for a semiconductor device, especially which can substantially shorten the production lead time of a wafer process, reduce work in process, and supply the semiconductor device in a form which is close to just-in-time. SOLUTION: A work process for producing respective semiconductor devices is extricate, based on the production plan of the semiconductor device (step S1). Then, the work process is sequentially divided into work blocks which are the group of processes within a prescribed limited time (step S2). Actual scheduling is executed at respective scenes, so that the processing of the respective work blocks is advanced in synchronization with prescribed common reference time divided for respective line ducts at all the scenes in a line.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、任意の半導体集積
回路の生産に関し、特に、生産リードタイムを短縮で
き、仕掛かり品の数量を削減することができる半導体装
置の生産方法、および、半導体装置の生産管理方法とそ
の装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the production of an arbitrary semiconductor integrated circuit, and more particularly to a method of producing a semiconductor device capable of shortening the production lead time and reducing the number of products in process. The present invention relates to a production management method and an apparatus therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体技術や集積化技術の進展により、
近年では、あらゆる種類の電子回路が半導体装置として
構成され機器に組み込まれており、機器の信頼性の向上
や、小型化、低価格化に貢献している。そのような半導
体装置は、製造工程が極めて長く複雑なため、生産リー
ドタイムが、通常1ヶ月以上と非常に長い。しかし、最
近ではセット製品の寿命は短命化傾向にあり、タイムリ
ーに半導体製品を供給してほしいという要求が高まって
いる。そのため、大量の仕掛かり品(中間在庫)を製造
工程内にもつことにより、セット製品の製造現場からの
要求に応えている。特に、生産リードタイムに大きな影
響を与えるウェハ工程において、ウェハを大バッチロッ
トで流し、大量の仕掛かり品をもつような状態で、半導
体装置は生産されている。
2. Description of the Related Art As semiconductor technology and integration technology progress,
In recent years, all types of electronic circuits have been configured as semiconductor devices and incorporated in devices, contributing to improved reliability, reduced size, and lower prices of the devices. Such a semiconductor device has a very long and complicated manufacturing process, and therefore has a very long production lead time, usually one month or more. However, recently, the life of a set product has been shortened, and there is an increasing demand for a timely supply of semiconductor products. Therefore, a large number of in-process products (intermediate inventories) are provided in the manufacturing process, thereby responding to a request from a manufacturing site of a set product. In particular, in a wafer process that greatly affects the production lead time, semiconductor devices are manufactured in such a state that wafers are flowed in large batch lots and have a large number of in-process products.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな大量の仕掛かり品をもつ半導体装置の生産方法で
は、結果として効率よく半導体装置を生産できず、改善
が求められている。
However, in a method of manufacturing a semiconductor device having such a large number of in-process products, a semiconductor device cannot be efficiently produced as a result, and improvement is required.

【0004】たとえば、前述したウエハ工程において
は、工程が複雑であるために仕掛かりを工程全体で平準
化するウエハの流し方のルールが決められていない上
に、製造設備の価格が高いので投資の回収を少しでも早
く行うために生産高を上げるよう同一製品をまとめて処
理する傾向になっており、その結果、ウエハが大バッチ
ロットで流され過剰な中間在庫を持つことになってい
る。流し方のルールが無く大バッチで流されるウエハロ
ットは、必然的に生産リードタイムをさらに長くし、そ
れ故需要予測をはずれるウエハロットも多くなってしま
うという問題を生じる。一旦需要予測が外れた場合に
は、中間在庫の不良償却あるいは評価減をしなければな
らず、大きな損失となる上に、結果として適切に供給さ
れた半導体製品の単価を上げることにもなっている。
[0004] For example, in the above-described wafer process, since the process is complicated, rules for the flow of wafers for leveling the in-process in the entire process are not determined, and the cost of manufacturing equipment is high. There is a tendency to collectively process the same product in order to increase the production yield in order to recover the product as soon as possible, resulting in a large batch lot of wafers being washed away and having an excessive intermediate stock. A wafer lot flown in a large batch without a flow rule necessarily causes a longer production lead time, and thus a problem arises in that the number of wafer lots out of demand prediction is increased. Once the demand forecast is deviated, the intermediate inventory must be depreciated or written down, resulting in a large loss and, consequently, an increase in the unit price of properly supplied semiconductor products. I have.

【0005】さらに、一旦ウエハ工程に製品が仕掛かる
と、受注情報の精度の高い製品から優先して処理に着手
しており、これが更に現場を混乱させ、ウエハ工程の長
い生産リードタイムに大きなばらつきを発生させてしま
うという問題も生じる。そして、これらのことより、工
程管理や工程能力の把握を難しいものとしている。ま
た、このような半導体装置の生産方法では、エンドユー
ザに対する半導体装置の供給も大まかに行われ、その納
入量も一度に大量に行われるといった方法になってしま
い、部品類の在庫を少なくしようとしているセット事業
所などに対して適切に部品を供給することができない。
[0005] Further, once a product is started in the wafer process, processing is started with priority given to a product with high accuracy of order information, which further confuses the site and causes a large variation in a long production lead time of the wafer process. Is generated. These facts make it difficult to grasp process control and process capability. Further, in such a semiconductor device production method, the supply of the semiconductor device to the end user is also roughly performed, and the amount of the supplied semiconductor device is also large at once. Parts cannot be supplied properly to the set-office establishments that have

【0006】したがって、本発明の目的は、特にウエハ
工程の生産リードタイムを大幅に短縮し、仕掛かり品を
少なくし、ジャスト・イン・タイムに近い形態で半導体
装置を供給できるような、半導体装置の生産方法を提供
することにある。また、本発明の他の目的は、半導体装
置の生産時における特にウエハ工程の生産リードタイム
を大幅に短縮し、仕掛かり品を少なくし、ジャスト・イ
ン・タイムに近い形態で半導体装置を供給できるよう
な、半導体装置の生産管理方法とその装置を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of providing a semiconductor device in a form close to just-in-time, in which the production lead time of a wafer process is significantly reduced, the number of products in process is reduced, and the like. To provide a production method. Another object of the present invention is to significantly reduce the production lead time in the production of semiconductor devices, particularly in the wafer process, reduce the number of products in progress, and supply semiconductor devices in a form close to just-in-time. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device production management method and an apparatus therefor.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、ウェハ工程の各工程を所定の単位時間ごとの工程に
分類し、その単位時間を基準として各段階で製造処理を
行い、その単位時間ごとに次工程に製品を流すようにし
た。
In order to solve the above-mentioned problems, each step of the wafer process is classified into steps for each predetermined unit time, and a manufacturing process is performed at each stage based on the unit time. The product was allowed to flow to the next process every hour.

【0008】したがって、本発明の半導体装置の生産方
法は、所望の半導体装置を生産するための工程を抽出
し、抽出した工程を、全体の処理時間が所定の時間以内
となるような作業ブロックに順次ブロック化し、前記所
定の時間ごとに区切られている時間帯の各々において、
前記ブロック化された各作業ブロックの各工程の処理を
行い、当該処理の結果物を、前記時間帯の区切りに後段
の作業ブロックに移し、前記半導体装置を生産する。
Therefore, the method for producing a semiconductor device according to the present invention extracts a process for producing a desired semiconductor device, and converts the extracted process into a work block in which the entire processing time is within a predetermined time. In each of the time zones that are sequentially divided into blocks and separated by the predetermined time,
The process of each step of each of the blocked work blocks is performed, and the result of the process is transferred to a subsequent work block at the time zone delimiter to produce the semiconductor device.

【0009】また、本発明の半導体装置の生産管理方法
は、所望の半導体装置を生産するための工程を抽出し、
抽出した工程を、全体の処理時間が所定の時間以内とな
るような作業ブロックに順次ブロック化し、前記所定の
時間ごとに区切られた時間帯を設定し、ブロック化され
た各作業ブロックが、前記時間帯ごとに適切に行われ、
当該各工程の結果物が前記時間帯の区切りに後段の作業
ブロックに移されるように、前記半導体装置の生産状態
を管理する。
Further, according to the production control method of a semiconductor device of the present invention, a process for producing a desired semiconductor device is extracted.
The extracted steps are sequentially blocked into work blocks such that the entire processing time is within a predetermined time, and a time zone divided for each of the predetermined times is set. Properly performed every time period,
The production state of the semiconductor device is managed so that the result of each step is transferred to a subsequent work block at the time zone break.

【0010】また、本発明の半導体装置の生産管理装置
は、所望の半導体装置を生産するための工程を抽出する
工程抽出手段と、前記抽出した工程を、全体の処理時間
が所定の時間以内となるような作業ブロックに順次ブロ
ック化するブロック化手段と、前記ブロック化された各
作業ブロックが、前記所定の時間ごとに区切られた時間
帯の各々において適切に行われ、当該各工程の結果物が
前記時間帯の区切りに後段の作業ブロックに移されるよ
うに、前記半導体装置の生産状態を管理する管理手段と
を有する。
Further, the semiconductor device production management device of the present invention comprises a process extracting means for extracting a process for producing a desired semiconductor device, and a process extracting device for setting the entire process time within a predetermined time. Blocking means for sequentially blocking the work blocks into such work blocks as described above, and each of the blocked work blocks is appropriately performed in each of the time zones divided by the predetermined time, and the result of each of the steps is obtained. And a management means for managing a production state of the semiconductor device so that the semiconductor device is moved to a subsequent work block at the time zone break.

【0011】好適には、前記抽出した工程のブロック化
は、各工程で使用する設備の種類、複数の工程で共通に
使用する設備の有無、各設備に投入するのに好適なウエ
ハ数、前記各設備の配置、ブロック化した工程を管理す
るのに必要な管理者の数、という条件の全て、いずれか
1つ、あるいはいずれか複数に基づいて行なう。特定的
には、前記所定の時間Yは、式3により求める。
Preferably, the extracted steps are divided into blocks by the types of equipment used in each step, the presence / absence of equipment commonly used in a plurality of steps, the number of wafers suitable for loading into each equipment, This is performed based on all, any one, or any plurality of conditions, such as the arrangement of each facility and the number of managers required to manage the blocked process. Specifically, the predetermined time Y is obtained by Expression 3.

【0012】[0012]

【数3】 Y=(所定期間中の生産時間)/(前記所定期間中に生産するウエハ量) ×(1つの時間帯の処理ウエハ量) ・・・(3) Y = (production time during a predetermined period) / (amount of wafers to be produced during the predetermined period) × (processed wafer amount in one time zone) (3)

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の半導体装置の生産管理方
法の一実施の形態を図1〜図10を参照して説明する。
まず、本実施の形態の半導体装置の生産管理方法の概要
について、図1を参照して説明する。図1は、その半導
体装置の生産管理方法を示すフローチャートである。図
1に示すように、本実施の形態においては、生産する半
導体装置に対して、作業抽出(ステップS1)、作業ブ
ロック化(ステップS2)、スケジューリング(ステッ
プS3)という処理を行って、その生産を管理する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a semiconductor device production management method according to the present invention will be described with reference to FIGS.
First, an outline of a semiconductor device production management method according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a flowchart showing a production management method for the semiconductor device. As shown in FIG. 1, in the present embodiment, processes such as work extraction (step S1), work blocking (step S2), and scheduling (step S3) are performed on a semiconductor device to be produced, and the production is performed. Manage.

【0014】まず、半導体装置の需要などに基づいて立
てられた生産計画に基づいて、各半導体装置を生産する
ための作業工程の抽出を行う(ステップS1)。この時
には、各工程の所要時間、各工程で使用する設備、およ
び、各工程を行うのに効率のよいロット数などの条件も
同時に抽出して把握しておく。
First, a work process for producing each semiconductor device is extracted based on a production plan established based on demand for the semiconductor device and the like (step S1). At this time, conditions such as the time required for each process, the equipment used in each process, and the number of lots that are efficient for performing each process are also extracted and grasped at the same time.

【0015】次に、その作業工程を、所定の制限時間以
内の工程の集団である作業ブロックに順次分割していく
(ステップS2)。そのために、まず、半導体工場のウ
エハの生産量などに基づいて、その制限時間(以後、こ
れをラインタクトと言う。)を決定する。このラインタ
クトは、そのラインの生産量が1日Xロットであるとす
ると、式4により求める。
Next, the work process is sequentially divided into work blocks which are a group of processes within a predetermined time limit (step S2). For that purpose, first, the time limit (hereinafter, this is referred to as line tact) is determined based on the amount of wafer production at a semiconductor factory. This line tact is obtained by Expression 4 assuming that the production volume of the line is X lots per day.

【0016】[0016]

【数4】 (ラインタクト)=(工場稼動時間)/X ・・・(4) (Line tact) = (factory operating time) / X (4)

【0017】そして、ステップS1で求められた各工程
を、そのラインタクト以内の処理時間となるようなブロ
ックに分割していく。この時に、1のブロックには、1
の作業者により処理が進められるような工程をまとめて
ブロック化しておく。また、同じ設備を用いる工程が複
数ある場合には、その工程を含む複数の作業ブロックの
全工程が1つのラインタクト内で処理できるように考慮
しながら、ブロック化を行う。具体的には、それら各作
業ブロックは余裕をもった作業ブロックとしておく。な
お、ラインタクト以内の処理が終了しない工程や、その
工程を効率よく行うためには複数ロット分をまとめてや
った方がよいような場合には、その旨のフラグや注釈を
加えた上で1の作業ブロックとしておく。
Then, each process obtained in step S1 is divided into blocks each having a processing time within the line tact. At this time, 1 block contains 1
Steps that can be processed by the operator are collectively blocked. If there are a plurality of processes using the same equipment, the process is divided into blocks while considering that all processes of a plurality of work blocks including the processes can be processed in one line tact. Specifically, each of these work blocks is a work block with a margin. If the process does not complete within the line tact, or if it is better to collect multiple lots in order to perform the process efficiently, add a flag or comment to that effect. 1 work block.

【0018】そして、最後に、各現場において実際に行
う作業のスケジューリングを行う(ステップS3)。ラ
イン中の全現場において共通の、ラインタクトごとに区
切られた所定の基準時間に同期して各作業ブロックの処
理を進めるように、各現場で実際のスケジューリングを
行なう。通常は、各現場においては、各ラインタクト期
間の始まりから、処理対象のロットに対する割り当てら
れた作業ブロックの各工程の処理を行なえばよい。一方
で、複数の作業ブロックにおいてその設備を使用する工
程が設定されているような設備を有する現場において
は、それら複数の作業ブロックをラインタクト内でどの
ような順番で行なうかなどのスケジューリングを行な
う。さらに、複数のラインタクト期間にまたがって所定
の作業ブロックを行なうような現場では、前工程より製
品が提供される状況などに基づいて、その現場での複数
ラインタクト期間にまたがった、作業スケジュールなど
を決定する。
Finally, the work actually performed at each site is scheduled (step S3). Actual scheduling is performed at each site so that the processing of each work block proceeds in synchronization with a predetermined reference time that is common to all sites in the line and is divided for each line tact. Normally, at each site, processing of each step of the assigned work block for the lot to be processed may be performed from the beginning of each line tact period. On the other hand, at a site having a facility in which a process for using the facility is set in a plurality of work blocks, scheduling such as the order in which the plurality of work blocks are performed in the line tact is performed. . Further, at a site where a predetermined work block is performed over a plurality of line tact periods, a work schedule or the like over a plurality of line tact periods at the site based on a situation where products are provided from a previous process. To determine.

【0019】そして、このようにして決定された各スケ
ジュールに基づいて、各現場で作業が行なわれることに
より、適切に管理された状態で半導体装置の生産が行わ
れる。
The work is performed at each site based on the schedules determined as described above, whereby the production of semiconductor devices is performed in a properly managed state.

【0020】次に、具体例を例示してこの半導体装置の
生産管理方法について説明する。まず、ある半導体装置
について生産計画が設定されたら、ステップS1におい
て、たとえば図2に示すようなその半導体装置の生産工
程を抽出する。図2の各工程は、前工程より順に、所定
のマスクパタンあるいは層の、パタンニング(LCS.
PR)、そのパタンの目視検査(LCS.OPT)、そ
のパタンの自動検査(LCS.MES)、ナイトライド
・エッチング(SIN.ET)、その自動検査(SI
N.MES)、エッチング(SN.ET)、その目視検
査(SN.OPT)、その自動検査(SN.MES)、
Pウェル形成工程の洗浄(PWL.WSH)、そのパタ
ンニング(PWL.PR)、その目視検査(PWL.O
PT)、イオン打ち込み(PWL.II)などを表す。
Next, a production control method for the semiconductor device will be described with reference to a specific example. First, when a production plan is set for a certain semiconductor device, in step S1, for example, a production process of the semiconductor device as shown in FIG. 2 is extracted. Each step in FIG. 2 is performed in order from the previous step by patterning (LCS.
PR), visual inspection of the pattern (LCS.OPT), automatic inspection of the pattern (LCS.MES), nitride etching (SIN.ET), automatic inspection of the pattern (SI
N. MES), etching (SN.ET), visual inspection (SN.OPT), automatic inspection (SN.MES),
Cleaning in the P-well formation step (PWL.WSH), its patterning (PWL.PR), and its visual inspection (PWL.O)
PT), ion implantation (PWL.II) and the like.

【0021】次に、ラインタクトの計算を行なう。な
お、ここでは、通常ウエハ工程においては、2ロット
(1ロットは25枚、2ロット=2×25枚=50枚)
を単位として処理する場合が多いので、ここではライン
タクトは2ロット単位で考えるものとする。そして、た
とえば1日の生産ロット数が16ロットとすると、式3
よりラインタクトは1.5hとなるが、2ロットを基準
として考えるので、ラインタクトは3hとなる。
Next, the line tact is calculated. Here, in the normal wafer process, 2 lots (1 lot is 25 sheets, 2 lots = 2 × 25 sheets = 50 sheets)
In many cases, line tact is considered in units of two lots. For example, if the number of production lots per day is 16 lots, Equation 3
Although the line tact is 1.5 h, the line tact is 3 h because two lots are used as a reference.

【0022】そして、図2に示した各工程を、この3h
(180分)以内にできる工程ごとに順次ブロック化し
ていくと図3のようになる。なお、以後この各作業ブロ
ックをキッチンということにする。
Then, the respective steps shown in FIG.
FIG. 3 shows the result of sequentially forming blocks for each process that can be performed within (180 minutes). Hereinafter, each of these work blocks will be referred to as a kitchen.

【0023】そして、最後に各製造現場において、割り
当てられた作業をラインタクト以内に順次消化するため
のスケジューリングを行なう。使用する設備が1つの工
程にのみ使用されて、作業ブロックの掛け持ちがない場
合には、図4に示すように、各ラインタクトの開始時間
よりその作業ブロックのその設備を使用する工程の処理
を行なうようにすればよい。
Finally, at each manufacturing site, scheduling is performed for sequentially completing assigned work within line tact. When the equipment to be used is used for only one process and there is no work block, as shown in FIG. 4, the process of the process using the equipment for the work block is started from the start time of each line tact. You can do it.

【0024】一方で、複数の作業ブロックの中に設定さ
れている複数の工程により共通的に使用される設備を有
する現場においては、その複数の工程をラインタクト期
間内に終了できるように、図5に示すように、ラインタ
クト期間をさらに時分割して、その現場または設備に対
する処理のスケジューリングを行なう。たとえばインプ
ラなどの高価な設備に対してはこのようなスケジューリ
ングが設定される場合が多い。
On the other hand, at a site having equipment commonly used by a plurality of processes set in a plurality of work blocks, a diagram is provided so that the plurality of processes can be completed within a line tact period. As shown in FIG. 5, the line tact period is further time-divided, and the processing for the site or the facility is scheduled. For example, such expensive scheduling such as an implant is often set.

【0025】また、処理単位である2ロットを越えるロ
ットを単位としてバッチ処理を行なう設備を有する現場
においては、処理対象のロットを獲得する複数のライン
タクト期間を抽出し、図6に示すような、それに合わせ
たその設備の稼動スケジュールの決定、すなわち処理の
スケジューリングを行なう。
On the other hand, at a site having equipment for performing batch processing in units of lots exceeding two lots as a processing unit, a plurality of line tact periods for acquiring a lot to be processed are extracted, as shown in FIG. Then, the operation schedule of the facility is determined in accordance with the schedule, that is, the processing is scheduled.

【0026】そして、このようにスケジューリングされ
た計画に基づいて、その半導体装置の生産を開始する。
各現場においては、図3のように設定された作業ブロッ
クがラインタクト期間内に順に処理され、処理された結
果の中間製品は、そのラインタクト期間に同期して順次
後工程に提供される。このような、処理の流れを図7に
模式的に示す。そして、これらの処理の管理は、図8に
示すように、ラインタクト期間と作業ブロックに基づい
て、これらを単位として行なされる。
Then, based on the plan thus scheduled, the production of the semiconductor device is started.
At each site, the work blocks set as shown in FIG. 3 are sequentially processed within the line tact period, and the intermediate products resulting from the processing are sequentially provided to subsequent processes in synchronization with the line tact period. Such a processing flow is schematically shown in FIG. Then, as shown in FIG. 8, the management of these processes is performed based on the line tact period and the work block in units of these.

【0027】なお、このような形態で生産をしているラ
インに、試作品や緊急を要するロットなどの少数ロット
を流す必要がある場合には、図9に示すように、既にス
ケジューリングされている処理の開始時刻を、ラインタ
クト期間内で移動させ、たとえば2ラインタクト期間に
またがる空き時間を作成し、そこでそのロットを流せば
よい。このようにすれば、主たるロットの生産に影響を
及ぼさずにその少数ロットを通過させる方法を簡単に知
ることができる。
When it is necessary to supply a small number of lots, such as prototypes and urgent lots, to the production line in such a form, the scheduling is already performed as shown in FIG. The start time of the processing may be moved within the line tact period, for example, an idle time spanning two line tact periods may be created, and the lot may be flown there. In this way, it is possible to easily know a method of passing a small lot without affecting the production of the main lot.

【0028】このように、本実施の形態によれば、この
ような形態で、半導体装置の生産を管理することによ
り、たとえば各ロットの進捗状況の管理を、ラインタク
ト期間と作業ブロックに基づいて容易に行なうことがで
き、簡単できめの細かい管理が可能となる。そして、生
産リードタイム(=ラインタクト時間×作業ブロック
数)、および、ライン内仕掛かり数(=作業ブロック
数)を明確に把握することができるので、余分な仕掛か
りを削減し生産リードタイムを大幅に削減することがで
きる。この管理方法を、実際のラインに適用した結果、
従来の方法に比べて、生産リードタイムおよび仕掛かり
数の両方を、1/2以下に削減することができた。
As described above, according to the present embodiment, by managing the production of semiconductor devices in such a manner, for example, the progress of each lot can be managed based on the line tact period and the work block. It can be easily performed and simple and detailed management is possible. In addition, since the production lead time (= line tact time × the number of work blocks) and the number of in-process works (= the number of work blocks) can be clearly grasped, unnecessary work in progress is reduced and the production lead time is reduced. It can be significantly reduced. As a result of applying this management method to actual lines,
Compared to the conventional method, both the production lead time and the number of processes in process could be reduced to 以下 or less.

【0029】なお、本発明は本実施の形態に限られるも
のではなく、種々の改変が可能である。たとえば、前述
した半導体装置の生産管理方法は、任意の形態で装置と
して実施することができる。たとえば、任意の入出力
部、記憶部および演算処理部を有する通常のパーソナル
コンピュータのような構成の装置に、半導体装置の種類
ごとの生産工程、各工程の所要時間、各工程で使用する
設備、その設備の配置状況などのデータを記憶してお
き、前述したような管理方法をプログラムとして設定し
ておけば、生産対象の半導体装置を入力するのみで、工
程の洗い出し、作業ブロックの形成、スケジューリング
の処理を自動的に行わせることができる。
The present invention is not limited to the present embodiment, and various modifications are possible. For example, the semiconductor device production management method described above can be implemented as an apparatus in any form. For example, an apparatus having a configuration such as an ordinary personal computer having an arbitrary input / output unit, a storage unit, and an arithmetic processing unit includes a production process for each type of semiconductor device, a time required for each process, equipment used in each process, If data such as the arrangement status of the equipment is stored, and the above-described management method is set as a program, only inputting a semiconductor device to be produced can be performed to identify processes, form work blocks, and schedule. Can be automatically performed.

【0030】また、そのような処理を専用の管理装置と
して実施してもよい。また、そのような装置において、
スケジューリングした結果の出力方法などは任意の方法
でよい。スケジューリング結果を紙面上に印刷出力する
ようにしてもよいし、ディスプレイ上に表示するように
してもよい。また、各作業ブロックの現場に、関連個所
のスケジューリング結果のみを直接表示して、作業員に
支持を与えるようにしてもよい。また、得られた結果を
さらに加工して、たとえば図10に示すような、作業員
への作業指示書のようなものを出力するようにしてもよ
い。
Further, such processing may be performed as a dedicated management device. Also, in such a device,
The method of outputting the result of the scheduling may be any method. The scheduling result may be printed out on paper or may be displayed on a display. Alternatively, only the scheduling result of the relevant location may be directly displayed on the site of each work block to give the support to the worker. Further, the obtained result may be further processed to output, for example, a work instruction to a worker as shown in FIG.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置の生産方法によれば、生産リードタイムを大幅に短縮
し、仕掛かり品の数を大幅に削減し、ジャスト・イン・
タイムに近い形態で半導体装置を生産することができ
る。また、本発明の半導体装置の生産管理方法およびそ
の装置を用いれば、生産リードタイムを大幅に短縮し、
仕掛かり品の数を大幅に削減し、ジャスト・イン・タイ
ムに近い形態で半導体装置を供給できるように半導体装
置の生産を管理することができる。
As described above, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, the production lead time is greatly reduced, the number of products in process is greatly reduced, and just-in-
A semiconductor device can be manufactured in a form close to time. In addition, the use of the semiconductor device production management method and the device of the present invention significantly reduces the production lead time,
The number of products in process can be significantly reduced, and the production of semiconductor devices can be managed so that the semiconductor devices can be supplied in a form close to just-in-time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の半導体装置の生産管理
方法を説明するためのフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart illustrating a production management method for a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】抽出された半導体装置を生産するための製造工
程の例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process for producing an extracted semiconductor device.

【図3】図2に示した各工程がブロック化された状態を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a state where each step shown in FIG. 2 is blocked.

【図4】各設備において、通常の作業のスケジューリン
グ状態を説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a scheduling state of normal work in each facility.

【図5】同一の設備を、複数の作業ブロックの複数の工
程で共通に使用する場合の、作業のスケジューリング状
態を説明するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a work scheduling state when the same equipment is commonly used in a plurality of steps of a plurality of work blocks.

【図6】1回のバッチ処理が、1ラインタクト期間を越
えるような処理に対する、作業のスケジューリング状態
を説明するための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a work scheduling state for a process in which one batch process exceeds one line tact period.

【図7】作業ブロックを単位とした生産方法を模式的に
示す図である。
FIG. 7 is a diagram schematically illustrating a production method in units of work blocks.

【図8】作業ブロックおよびラインタクトを基準とし
て、半導体装置の生産状態が管理されている例を示す図
である。
FIG. 8 is a diagram illustrating an example in which the production state of a semiconductor device is managed based on a work block and a line tact.

【図9】試作品ななどの少数ロットの割り込みが生じた
場合の、作業のスケジューリング状態を説明するための
図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a work scheduling state when an interruption occurs in a small number of lots such as a prototype.

【図10】スケジューリング結果に基づいて作成した作
業者の作業時間割りの例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a work time schedule created by an operator based on a scheduling result.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】所望の半導体装置を生産するための工程を
抽出し、 前記抽出した工程を、全体の処理時間が所定の時間以内
となるような作業ブロックに順次ブロック化し、 前記所定の時間ごとに区切られている時間帯の各々にお
いて、前記ブロック化された各作業ブロックの各工程の
処理を行い、当該処理の結果物を、前記時間帯の区切り
に後段の作業ブロックに移し、前記半導体装置を生産す
る半導体装置の生産方法。
1. A process for producing a desired semiconductor device is extracted. The extracted processes are sequentially divided into work blocks such that the entire processing time is within a predetermined time. In each of the divided time zones, the processing of each step of each of the divided work blocks is performed, and the result of the processing is transferred to a subsequent work block at the time zone delimiter, For producing semiconductor devices.
【請求項2】前記抽出した工程のブロック化は、各工程
で使用する設備の種類、複数の工程で共通に使用する設
備の有無、各設備に投入するのに好適なウエハ数、前記
各設備の配置、ブロック化した工程を管理するのに必要
な管理者の数、という条件の全て、いずれか1つ、ある
いはいずれか複数に基づいて行なうことを特徴とする請
求項1記載の半導体装置の生産方法。
2. The method according to claim 1, wherein the extracted steps are divided into types of equipment used in each step, presence / absence of equipment commonly used in a plurality of steps, a suitable number of wafers to be supplied to each equipment, 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the arrangement is performed based on all, one, or any of a plurality of conditions necessary for managing the blocked process. Production method.
【請求項3】前記時間帯を区切る所定の時間Yは、式1
により求めることを特徴とする請求項1記載の半導体装
置の生産方法。 【数1】 Y=(所定期間中の生産時間)/(前記所定期間中に生産するウエハ量) ×(1つの時間帯の処理ウエハ量) ・・・(1)
3. The predetermined time Y dividing the time zone is given by the following equation (1).
2. The method for producing a semiconductor device according to claim 1, wherein: ## EQU1 ## Y = (production time during predetermined period) / (amount of wafers produced during the predetermined period) × (processed wafer amount during one time period) (1)
【請求項4】所望の半導体装置を生産するための工程を
抽出し、前記抽出した工程を、全体の処理時間が所定の
時間以内となるような作業ブロックに順次ブロック化
し、 前記所定の時間ごとに区切られた時間帯を設定し、 前記ブロック化された各作業ブロックが、前記時間帯ご
とに適切に行われ、当該各工程の結果物が前記時間帯の
区切りに後段の作業ブロックに移されるように、前記半
導体装置の生産状態を管理する半導体装置の生産管理方
法。
4. A process for producing a desired semiconductor device is extracted, and the extracted processes are sequentially divided into work blocks such that the entire processing time is within a predetermined time. Each of the divided work blocks is appropriately performed for each of the time zones, and the result of each process is transferred to a subsequent work block at the time zone delimiter. Thus, a semiconductor device production management method for managing the production state of the semiconductor device.
【請求項5】前記抽出した工程のブロック化は、各工程
で使用する設備の種類、複数の工程で共通に使用する設
備の有無、各設備に投入するのに好適なウエハ数、前記
各設備の配置、ブロック化した工程を管理するのに必要
な管理者の数、という条件の全て、いずれか1つ、ある
いはいずれか複数に基づいて行なうことを特徴とする請
求項4記載の半導体装置の生産管理方法。
5. The method of claim 1, wherein the extracted steps are classified into a type of equipment used in each step, presence or absence of equipment commonly used in a plurality of steps, a suitable number of wafers to be put into each equipment, 5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the arrangement is performed based on all, one, or any of a plurality of conditions necessary for managing the blocked process. Production control method.
【請求項6】前記所定の時間Yは、式2により求めるこ
とを特徴とする請求項4記載の半導体装置の生産管理方
法。 【数2】 Y=(所定期間中の生産時間)/(前記所定期間中に生産するウエハ量) ×(1つの時間帯の処理ウエハ量) ・・・(2)
6. The method according to claim 4, wherein the predetermined time Y is obtained by Expression 2. Y = (production time during a predetermined period) / (amount of wafers to be produced during the predetermined period) × (processed wafer amount in one time zone) (2)
【請求項7】所望の半導体装置を生産するための工程を
抽出する工程抽出手段と、 前記抽出した工程を、全体の処理時間が所定の時間以内
となるような作業ブロックに順次ブロック化するブロッ
ク化手段と、 前記ブロック化された各作業ブロックが、前記所定の時
間ごとに区切られた時間帯の各々において適切に行わ
れ、当該各工程の結果物が前記時間帯の区切りに後段の
作業ブロックに移されるように、前記半導体装置の生産
状態を管理する管理手段とを有する半導体装置の生産管
理装置。
7. A process extracting means for extracting a process for producing a desired semiconductor device, and a block for sequentially dividing the extracted process into work blocks whose entire processing time is within a predetermined time. Means, and each of the blocked work blocks is appropriately performed in each of the time zones delimited by the predetermined time, and the result of each step is a work block of a subsequent stage at the time zone delimiter. And a management unit for managing a production state of the semiconductor device.
JP34536497A 1997-12-15 1997-12-15 Production method for semiconductor device, production management method/device for the semiconductor device Pending JPH11176717A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34536497A JPH11176717A (en) 1997-12-15 1997-12-15 Production method for semiconductor device, production management method/device for the semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34536497A JPH11176717A (en) 1997-12-15 1997-12-15 Production method for semiconductor device, production management method/device for the semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11176717A true JPH11176717A (en) 1999-07-02

Family

ID=18376105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34536497A Pending JPH11176717A (en) 1997-12-15 1997-12-15 Production method for semiconductor device, production management method/device for the semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11176717A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005339552A (en) * 2004-05-27 2005-12-08 Palo Alto Research Center Inc System, method and product utilizing temporal constraint to coordinate multiple planning session
US7177716B2 (en) 2004-02-28 2007-02-13 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for material control system interface
US7218983B2 (en) 2003-11-06 2007-05-15 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for integrating large and small lot electronic device fabrication facilities
US7221993B2 (en) 2003-01-27 2007-05-22 Applied Materials, Inc. Systems and methods for transferring small lot size substrate carriers between processing tools
US7274971B2 (en) 2004-02-28 2007-09-25 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for electronic device manufacturing system monitoring and control
US7720557B2 (en) 2003-11-06 2010-05-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for enhanced operation of substrate carrier handlers
US7778721B2 (en) 2003-01-27 2010-08-17 Applied Materials, Inc. Small lot size lithography bays
US8954970B2 (en) 2008-07-31 2015-02-10 Canon Kabushiki Kaisha Determining executable processes based on a size of detected release-forgotten memory area and selecting a next process that achieves a highest production quantity

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7221993B2 (en) 2003-01-27 2007-05-22 Applied Materials, Inc. Systems and methods for transferring small lot size substrate carriers between processing tools
US7711445B2 (en) 2003-01-27 2010-05-04 Applied Materials, Inc. Systems and methods for transferring small lot size substrate carriers between processing tools
US7778721B2 (en) 2003-01-27 2010-08-17 Applied Materials, Inc. Small lot size lithography bays
US7218983B2 (en) 2003-11-06 2007-05-15 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for integrating large and small lot electronic device fabrication facilities
US7720557B2 (en) 2003-11-06 2010-05-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for enhanced operation of substrate carrier handlers
US8204617B2 (en) 2003-11-06 2012-06-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for enhanced operation of substrate carrier handlers
US7177716B2 (en) 2004-02-28 2007-02-13 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for material control system interface
US7274971B2 (en) 2004-02-28 2007-09-25 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for electronic device manufacturing system monitoring and control
JP2005339552A (en) * 2004-05-27 2005-12-08 Palo Alto Research Center Inc System, method and product utilizing temporal constraint to coordinate multiple planning session
US8954970B2 (en) 2008-07-31 2015-02-10 Canon Kabushiki Kaisha Determining executable processes based on a size of detected release-forgotten memory area and selecting a next process that achieves a highest production quantity

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5442561A (en) Production management system and its application method
Johri Practical issues in scheduling and dispatching in semiconductor wafer fabrication
TW422954B (en) Production estimate management system
KR20000076601A (en) Method and apparatus for forming a production plan
JPH09153090A (en) Method and device for forming working process production plan
CN109740813B (en) Analysis and prediction method for on-line product batch running state in wafer manufacturing
US6871110B1 (en) Method and system for efficiently coordinating orders with product materials progressing through a manufacturing flow
JPH11176717A (en) Production method for semiconductor device, production management method/device for the semiconductor device
JP2002333912A (en) Ic card and production control system and its method
JPH06203042A (en) Production line plan generating method
US20050250226A1 (en) Method for generating work-in-process schedules
JPH06266413A (en) Method and system for production management
JP2606112B2 (en) Semiconductor device manufacturing system
JPH06176032A (en) System and method for production control
JP2811827B2 (en) Production scheduling device
JPH09260231A (en) Production control system and its equipment
JP2011003097A (en) Work completion date prediction system
JP2004145436A (en) Method and device for creating production plan
JPH03239460A (en) Production completion schedule calculating method and device
JP2832318B2 (en) Electronic package manufacturing equipment
JPH06176031A (en) System and method for production control
JP2000322119A (en) Substitutive lot determination system
JPH0744614A (en) Device for controlling production and method therefor
JP2004296765A (en) Production scheduling method and system in semiconductor device manufacturing
JPH10198403A (en) Production of many kinds