JPH1064300A - Semiconductor memory and its testing method - Google Patents

Semiconductor memory and its testing method

Info

Publication number
JPH1064300A
JPH1064300A JP8221228A JP22122896A JPH1064300A JP H1064300 A JPH1064300 A JP H1064300A JP 8221228 A JP8221228 A JP 8221228A JP 22122896 A JP22122896 A JP 22122896A JP H1064300 A JPH1064300 A JP H1064300A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
cell array
address
bit data
predetermined
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8221228A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3512953B2 (en
Inventor
Nobuo Shishikura
伸夫 宍倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP22122896A priority Critical patent/JP3512953B2/en
Publication of JPH1064300A publication Critical patent/JPH1064300A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3512953B2 publication Critical patent/JP3512953B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately understand whether a faulty address has been rescued appropriately or not. SOLUTION: A recognition bit part 19 has a storage part for outputting '0' when a specific row of a regular memory cell array 11 is accessed. Similarly, a recognition bit part 20 has a storage part for outputting '1' when the specific row of a preliminary memory cell array 13 is accessed. When an address signal for specifying a faulty address is supplied in a shipment test, it is judged that the faulty address has not been rescued properly if no '0' is outputted from the recognition bit part 19 and it is judged that the faulty address is rescued appropriately if '1' is outputted from a recognition bit part 20.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、リダンダンシ回路
を備えた半導体メモリに関し、正規メモリセルの一部が
予備メモリセルに正しく切り換えられたか否かを判定す
る際に使用されるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory having a redundancy circuit, and is used for determining whether or not a part of normal memory cells has been correctly switched to a spare memory cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、従来の半導体メモリの構成を示
すものである。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows a configuration of a conventional semiconductor memory.

【0003】この半導体メモリは、以下の説明を簡単に
するため、128のアドレス(00〜7F)、即ち32
のロウアドレス(R0〜R31)と4つのカラムアドレ
ス(C0〜C3)を有し、1つのアドレスには8ビット
のデ−タが対応している1024ビットの正規メモリセ
ルアレイ11を備えているものと仮定する。
In order to simplify the following description, this semiconductor memory has 128 addresses (00 to 7F), that is, 32 addresses.
Row address (R0 to R31) and four column addresses (C0 to C3), and one address includes a 1024-bit normal memory cell array 11 corresponding to 8-bit data. Assume that

【0004】また、半導体メモリは、DRAM、SRA
Mなどの揮発性半導体メモリであってもよく、マスクR
OM、EPROM、EEPROMなどの不揮発性半導体
メモリであってもよい。
[0004] Semiconductor memories include DRAMs, SRAs.
M or a volatile semiconductor memory such as a mask R
A nonvolatile semiconductor memory such as an OM, an EPROM, and an EEPROM may be used.

【0005】正規メモリセルアレイ11のロウ方向(ワ
−ド線R0〜R31が延在する方向)の端部には、ロウ
デコ−ダ12が配置されている。ロウデコ−ダ12は、
ロウアドレス信号に基づいて1つのロウを選択し、この
選択されたロウに高電位を供給する。
At the end of the normal memory cell array 11 in the row direction (the direction in which the word lines R0 to R31 extend), a row decoder 12 is arranged. The row decoder 12 is
One row is selected based on a row address signal, and a high potential is supplied to the selected row.

【0006】正規メモリセルアレイ11のカラム方向
(デ−タ線が延在する方向)の端部には、予備メモリセ
ルアレイ13が配置されている。
A spare memory cell array 13 is arranged at the end of the normal memory cell array 11 in the column direction (the direction in which the data lines extend).

【0007】予備メモリセルアレイ13は、例えば、1
6のアドレス(00〜0F)、即ち4つのロウアドレス
(r0〜r3)と4つのカラムアドレス(C0〜C3)
を有し、1つのアドレスには8ビットのデ−タが対応し
ている128ビットから構成されているものと仮定す
る。
The spare memory cell array 13 includes, for example, 1
6 addresses (00 to 0F), that is, four row addresses (r0 to r3) and four column addresses (C0 to C3)
It is assumed that one address is composed of 128 bits corresponding to 8-bit data.

【0008】選択回路14a〜14dは、予備メモリセ
ルアレイ13と読み出し回路16の間に配置されてい
る。カラムデコ−ダ15は、カラムアドレスに基づいて
1つの選択回路、即ち1つのカラムを選択し、この選択
されたカラムのデ−タを読み出し回路16に導く。
[0008] The selection circuits 14 a to 14 d are arranged between the spare memory cell array 13 and the read circuit 16. The column decoder 15 selects one selection circuit, that is, one column, based on the column address, and guides data of the selected column to the reading circuit 16.

【0009】アドレスレジスタ17は、当該半導体メモ
リが形成されるLSIチップの外部又は内部から供給さ
れるアドレス信号を、ロウアドレス信号とカラムアドレ
ス信号に分ける。
The address register 17 divides an address signal supplied from outside or inside an LSI chip on which the semiconductor memory is formed into a row address signal and a column address signal.

【0010】メモリセル切り換え回路18は、正規メモ
リセルアレイ11の不良のロウアドレスを記憶しておく
ための記憶部を有している。この記憶部は、例えば、複
数のフュ−ズにより構成され、ロウアドレスの記憶は、
この複数のヒュ−ズのうち所定のフュ−ズをレ−ザで切
断することにより行われる。
The memory cell switching circuit 18 has a storage unit for storing a defective row address of the normal memory cell array 11. This storage unit is composed of, for example, a plurality of fuses.
This is performed by cutting a predetermined fuse of the plurality of fuses with a laser.

【0011】メモリセル切り換え回路18の記憶部にロ
ウアドレスが記憶されている場合において、アドレスレ
ジスタ17から出力されるロウアドレスが、メモリセル
切り換え回路18の記憶部のロウアドレスに一致する
と、メモリセル切り換え回路18は、ロウデコ−ダ12
を不活性にする信号INH(inhibition)を
出力する。
When a row address is stored in the storage section of the memory cell switching circuit 18 and the row address output from the address register 17 matches the row address of the storage section of the memory cell switching circuit 18, The switching circuit 18 includes the row decoder 12.
(Inhibition) is output.

【0012】同時に、メモリセル切り換え回路18は、
予備メモリセルアレイ13の1つのロウを選択し、この
選択されたロウに高電位を供給する。これにより、正規
メモリセルアレイ11の不良のロウが、予備メモリセル
アレイの所定のロウに切り換えられる。
At the same time, the memory cell switching circuit 18
One row of the spare memory cell array 13 is selected, and a high potential is supplied to the selected row. As a result, the defective row of the normal memory cell array 11 is switched to a predetermined row of the spare memory cell array.

【0013】上記リダンダンシ回路(予備メモリセルア
レイ13及びメモリセル切り換え回路18の部分とす
る)を備えた半導体メモリにおいて、当該半導体メモリ
の動作テスト終了後、正規メモリセルアレイ11に不良
のロウが存在している場合には、メモリセル切り換え回
路18の記憶部には、その不良のロウのアドレスが記憶
される。
In a semiconductor memory provided with the above-mentioned redundancy circuit (part of the spare memory cell array 13 and the memory cell switching circuit 18), after the operation test of the semiconductor memory is completed, a defective row exists in the normal memory cell array 11. If there is, the storage section of the memory cell switching circuit 18 stores the address of the defective row.

【0014】また、不良のロウアドレスを記憶した後、
製品の出荷前には、正規メモリセルアレイ11の不良の
ロウが、予備メモリセルアレイの所定のロウにきちんと
切り換えられたか否かを検査する出荷テストが実施され
る。
After storing the defective row address,
Before shipping the product, a shipping test is performed to check whether the defective row of the normal memory cell array 11 has been properly switched to a predetermined row of the spare memory cell array.

【0015】従来、この出荷テストは、以下のようにし
て実施されている。
Conventionally, this shipping test has been performed as follows.

【0016】揮発性半導体メモリの場合、正規メモリセ
ルアレイ11の不良のロウを予備メモリセルアレイ13
の所定のロウに切り換える前の動作テストと全く同じ動
作テストを実行し、正常動作するか否かを確認し、正常
動作すれば、正規メモリセルアレイ11の不良のロウが
予備メモリセルアレイ13の所定のロウにきちんと切り
換えられたものと判定する。
In the case of a volatile semiconductor memory, the defective row of the normal memory cell array 11 is replaced with the spare memory cell array 13.
The same operation test as before the switching to the predetermined row is performed to confirm whether the normal operation is performed or not. If the normal operation is performed, the defective row of the normal memory cell array 11 It is determined that the row has been properly switched.

【0017】不揮発性半導体メモリの場合には、電源を
切ってもデ−タが消えることのない不揮発性半導体メモ
リの特徴を利用し、以下の二つの出荷テストが考えられ
ている。
In the case of a non-volatile semiconductor memory, the following two shipping tests have been considered, utilizing the characteristics of the non-volatile semiconductor memory that does not lose data even when the power is turned off.

【0018】a. まず、正規メモリセルアレイ11の
全メモリセルに、特定デ−タ(“1”デ−タ)を書き込
む。次に、正規メモリセルアレイ11の不良のロウを予
備メモリセルアレイ13の所定のロウに切り換える。こ
こで、予備メモリセルアレイ13の全メモリセルのデ−
タは、初期状態(“0”デ−タ)に設定されている。こ
の後、デ−タの読み出しを実行し、切り換えを行ったロ
ウのメモリセルから読み出されるデ−タが“0”である
か否かを確認する。
A. First, specific data ("1" data) is written to all memory cells of the normal memory cell array 11. Next, the defective row of the normal memory cell array 11 is switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13. Here, the data of all the memory cells of the spare memory cell array 13 is
The data is set to an initial state ("0" data). Thereafter, the data is read, and it is confirmed whether or not the data read from the memory cell of the switched row is "0".

【0019】また、切り換えを行ったロウのメモリセル
に特定デ−タを書き込み、当該メモリセルから特定デ−
タを読み出すことにより、正規メモリセルアレイ11の
不良のロウが予備メモリセルアレイ13の所定のロウに
きちんと切り換えられたか否かを判定する。
Also, specific data is written into the memory cell of the row where the switching has been performed, and the specific data is written from the memory cell.
By reading the data, it is determined whether or not the defective row of the normal memory cell array 11 has been properly switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13.

【0020】b. まず、正規メモリセルアレイ11の
全メモリセルに、特定デ−タ(“0”デ−タ)を書き込
む。次に、予備メモリセルアレイ13の全メモリセル
に、正規メモリセルアレイ11のメモリセルのデ−タと
区別できる特定デ−タ(“1”デ−タ)を書き込む。次
に、正規メモリセルアレイ11の不良のロウを予備メモ
リセルアレイ13の所定のロウに切り換える。
B. First, specific data ("0" data) is written to all the memory cells of the normal memory cell array 11. Next, specific data ("1" data) that can be distinguished from the data of the memory cells of the normal memory cell array 11 is written to all the memory cells of the spare memory cell array 13. Next, the defective row of the normal memory cell array 11 is switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13.

【0021】この後、デ−タの読み出しを実行し、切り
換えを行ったロウのメモリセルから読み出されるデ−タ
を確信し、当該デ−タが特定デ−タ(“1”デ−タ)で
ある場合には、不良のロウが予備メモリセルアレイ13
の所定のロウにきちんと切り換えられたと判定する。
Thereafter, the data is read, and the data read from the memory cell of the switched row is convinced, and the data is specified data ("1" data). , The defective row is assigned to the spare memory cell array 13.
Is determined to have been properly switched to the predetermined row.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】半導体メモリにおいて
は、動作の確認により、正規メモリセルアレイ11の不
良のロウと予備メモリセルアレイ13の所定のロウの切
り換えの有無を判定している。
In the semiconductor memory, whether or not a defective row of the normal memory cell array 11 and a predetermined row of the spare memory cell array 13 are switched is determined by confirming the operation.

【0023】従って、動作が正常であれば、正規メモリ
セルアレイ11の不良のロウが予備メモリセルアレイ1
3の所定のロウに実際は切り換わっていなくても、切り
換わったものとして判断してしまう。
Therefore, if the operation is normal, the defective row of the normal memory cell array 11
Even if it has not actually been switched to the third predetermined row, it is determined that it has been switched.

【0024】例えば、メモリセルの“1”(又は
“0”)レベル判定のマ−ジン不足を理由に不良とされ
た正規メモリセルアレイ11のロウが存在するにもかか
わらず、何らかのミスにより、当該不良のロウが予備メ
モリセルアレイ13の所定のロウにきちんと切り換えら
れなくても、出荷テストで正常動作すれば、切り換えが
行われたものと判定する。
For example, even though there is a row in the normal memory cell array 11 which is determined to be defective due to lack of margin for determining the "1" (or "0") level of the memory cell, any mistake may cause the error. Even if the defective row is not properly switched to the predetermined row of the spare memory cell array 13, if it operates normally in the shipping test, it is determined that the switching has been performed.

【0025】不揮発性半導体メモリの課題(テストa.
の場合)については、実際のテスト工程を考慮しつつ説
明することにする。
Problems of Nonvolatile Semiconductor Memory (Test a.
Will be described in consideration of the actual test process.

【0026】まず、1回目のダイソ−トテストで、C
(チェッカ−)パタ−ン、Dパタ−ン(対角線上のメモ
リセルについては書き込みを行わないパタ−ン)のデ−
タ書き込み及び読み出しを実行し、不良アドレスを検出
する。
First, in the first die sort test, C
(Checker) pattern, D pattern (a pattern in which writing is not performed on diagonal memory cells)
Data write and read to detect a defective address.

【0027】リダンダンシ回路で全ての不良アドレスを
救済できるか否かを判定し、救済可能な場合には、フュ
−ズブロ−装置などを用いてフュ−ズの切断(不良アド
レスの記憶)を行う。
It is determined whether or not all the defective addresses can be rescued by the redundancy circuit. If the resiliency can be remedied, the fuse is blown off (storage of the defective addresses) using a fuse blower or the like.

【0028】次に、2回目のダイソ−トテストで、不良
アドレスのメモリセル(切り換え後)について、デ−タ
の書き込み及び読み出しを実行し、正規メモリセルアレ
イ11の不良アドレスのメモリセルが予備メモリセルア
レイ13のメモリセルにきちんと切り換えられたか否か
を判定する。
Next, in the second die sort test, data writing and reading are executed for the memory cell of the defective address (after switching), and the memory cell of the defective address in the normal memory cell array 11 is replaced with the spare memory cell array. It is determined whether the memory cells have been properly switched to the thirteenth memory cells.

【0029】同時に、Dパタ−ンのデ−タを、正規メモ
リセルアレイ11及び予備メモリセルアレイ13に書き
込んだ状態で、高温放置などのメモリセルのエイジング
を行う。そして、3回目のダイソ−トテストで、Dパタ
−ンのデ−タを読み出し、保持特性の判定を行う。
At the same time, aging of the memory cell such as leaving it at a high temperature is performed with the data of the D pattern written in the normal memory cell array 11 and the spare memory cell array 13. Then, in the third die sort test, the data of the D pattern is read, and the holding characteristics are determined.

【0030】このようなテスト工程では、2回目のダイ
ソ−トテストにおいて、予備メモリセルアレイ13に初
めて特定デ−タを書き込んでいる。このような手法は、
正規メモリセルアレイ11の不良のロウが、予備メモリ
セルアレイ13の所定のロウにきちんと切り換わったか
否かを判定するために有効である。
In such a test process, specific data is written to the spare memory cell array 13 for the first time in the second die sort test. Such an approach,
This is effective for determining whether or not a defective row of the normal memory cell array 11 has been properly switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13.

【0031】しかし、この手法では、Dパタ−ンが完成
した後に、高温放置状態になるため、3回目のダイソ−
トテストが必要となる。
However, in this method, after the D pattern is completed, it is left in a high temperature state, so that the third die cutting is performed.
Test is required.

【0032】なお、メモリセルの切り換えがない場合に
は、1回目のダイソ−トテストにおいてDパタ−ンが完
成し、高温放置後、2回目のダイソ−トテストで保持特
性の判定が終了する。
If there is no switching of the memory cells, the D pattern is completed in the first die sort test, and after holding at high temperature, the determination of the holding characteristics is completed in the second die sort test.

【0033】即ち、この手法では、リダンダンシイ回路
によりメモリセルの切り換えを行う場合には、メモリセ
ルの切り換えを行わない場合に比べて、ダイソ−トテス
トが1回だけ多くなる欠点がある。
That is, in this method, when the memory cells are switched by the redundancy circuit, there is a disadvantage that the number of the die sort tests is increased by one time as compared with the case where the memory cells are not switched.

【0034】この欠点を解決するための手法が考案され
ている。
A method has been devised to solve this drawback.

【0035】その手法は、1回目のダイソ−トテスト
で、正規メモリセルアレイ11の不良アドレスを検出す
ると共に、予め、予備メモリセルアレイ13に不良アド
レスのメモリセルの書き込みデ−タのパタ−ンと同一の
パタ−ンを書き込んでおくというものである。
In the first die sort test, a defective address of the normal memory cell array 11 is detected, and the pattern of the write data of the memory cell of the defective address in the spare memory cell array 13 is previously determined. Is written in advance.

【0036】このようにすれば、フュ−ズブロ−装置な
どによるフュ−ズの切断(不良アドレスの記憶)と高温
放置などのエイジングが行われた後、2回目のダイソ−
トテストでは、既に完成しているDパタ−ンの読み出し
が行える。
In this way, after the fuse has been cut (fault address storage) by a fuse blower or the like and subjected to aging such as leaving at a high temperature, the second die saw is performed.
In the test, the already completed D pattern can be read.

【0037】従って、2回のダイソ−トテストにより、
正規メモリセルの不良アドレスのメモリセルが予備メモ
リセルアレイのメモリセルに正しく切り換えられたか否
かの検査を行うことができる。
Therefore, by two die sort tests,
It is possible to check whether the memory cell of the defective address of the normal memory cell has been correctly switched to the memory cell of the spare memory cell array.

【0038】しかし、このような手法を用いたとして
も、さらに以下のような課題が存在する。
However, even if such a method is used, there are still the following problems.

【0039】第一に、メモリセルの“1”(又は
“0”)レベル判定のマ−ジン不足を理由に不良とされ
た正規メモリセルアレイ11のロウが存在するにもかか
わらず、何らかのミス(フュ−ズ未切断など)により、
当該不良のロウが予備メモリセルアレイ13の所定のロ
ウにきちんと切り換えられなくても、正常動作すれば、
切り換えが行われたものと判定してしまう(切り換え不
完全)。
First, although there is a row in the normal memory cell array 11 which is determined to be defective due to lack of margin for determining the "1" (or "0") level of the memory cell, some mistake ( Fuse uncut, etc.)
Even if the defective row is not properly switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13, if it operates normally,
It is determined that the switching has been performed (incomplete switching).

【0040】第二に、例えば、フュ−ズが中途半端に切
れ、予備メモリセルアレイ13のロウに切り換わっては
いるが、そのロウが所望のロウではなく、別のロウであ
る場合に、出荷テスト時に、たまたまその別のロウに所
望のロウと同じデ−タが書き込まれていると、不良を発
見することができない(重複アドレスアクセス)。
Second, for example, if the fuse is cut off halfway and is switched to the row of the spare memory cell array 13, but the row is not the desired row but another row, the shipment is performed. If the same data as that of the desired row is accidentally written in another row during the test, a defect cannot be found (duplicate address access).

【0041】この場合、当該別のロウのメモリセルに書
き込みデ−タと同一のデ−タが記憶されている場合に
は、不良のロウが予備メモリセルアレイ13の所定のロ
ウにきちんと切り換えられていなくても、切り換えが正
しく行われたものと判定してしまう。
In this case, when the same data as the write data is stored in the memory cell of the other row, the defective row has been properly switched to the predetermined row of the spare memory cell array 13. Even if not, it is determined that the switching has been correctly performed.

【0042】第三に、何らかのミスにより、不良のロウ
が予備メモリセルアレイ13の所定のロウにきちんと切
り換えられてなく、かつ、正規メモリセルの不良のロウ
とは別のロウをアクセスしてしまう場合がある(切り換
え不完全+重複アドレスアクセス)。
Third, a case where a defective row is not properly switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13 due to some mistake, and another row different from the defective row of the normal memory cell is accessed. (Incomplete switching + duplicate address access).

【0043】この場合、当該別のロウのメモリセルに書
き込みデ−タと同一のデ−タが記憶されている場合に
は、切り換えが正しく行われたものと判定してしまう。
In this case, if the same data as the write data is stored in the memory cell of the other row, it is determined that the switching has been correctly performed.

【0044】本発明は、上記欠点を解決すべくなされた
もので、その目的は、リダンダンシ回路を備えた半導体
メモリにおいて、不良アドレスの記憶を行った後に、正
規メモリセルアレイの不良アドレスのメモリセルが、き
ちんと予備メモリセルアレイのメモリセルに切り換わっ
たか否かを正確かつ確実に判定できるようにすること、
及び、予備メモリセルアレイの切り換えられたロウのア
ドレスを把握することである。
The present invention has been made in order to solve the above-described drawbacks. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory having a redundancy circuit, in which after storing a defective address, a memory cell having a defective address in a normal memory cell array is used. To accurately and reliably determine whether or not the memory cell has been properly switched to the spare memory cell array,
And to grasp the address of the switched row of the spare memory cell array.

【0045】[0045]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体メモリは、正規メモリセルアレイ
と、前記正規メモリセルアレイに付加的に設けられる予
備メモリセルアレイと、アドレス信号が前記正規メモリ
セルアレイの不良アドレスを指定する場合に、前記正規
メモリセルアレイの不良アドレスに代えて前記予備メモ
リセルアレイの所定アドレスを指定するメモリセル切り
換え回路と、前記正規メモリセルアレイの所定アドレス
が実際にアクセスされる場合に、前記正規メモリセルア
レイの所定アドレスがアクセスされたことを示す第1認
識ビットデ−タを出力し、前記予備メモリセルアレイの
所定アドレスが実際にアクセスされる場合に、前記予備
メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされたこと
を示す第2認識ビットデ−タを出力する認識ビット部
と、前記認識ビット部から出力される前記第1又は第2
認識ビットデ−タを読み出すビットデ−タ読み出し回路
とを備えている。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory according to the present invention comprises: a normal memory cell array; a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array; A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array in place of the defective address of the normal memory cell array when specifying a defective address of the normal memory cell array; And outputting first recognition bit data indicating that a predetermined address of the normal memory cell array has been accessed. When the predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed, the predetermined address of the spare memory cell array is accessed. Second recognition bit indicating that the - a recognition bit unit for outputting data, the first output from the recognition bit portion or the second
A bit data reading circuit for reading the recognition bit data.

【0046】本発明の半導体メモリは、正規メモリセル
アレイと、前記正規メモリセルアレイに付加的に設けら
れる予備メモリセルアレイと、アドレス信号が前記正規
メモリセルアレイの不良アドレスを指定する場合に、前
記正規メモリセルアレイの不良アドレスに代えて前記予
備メモリセルアレイの所定アドレスを指定するメモリセ
ル切り換え回路と、前記予備メモリセルアレイの所定ア
ドレスが実際にアクセスされる場合に、前記予備メモリ
セルアレイの所定アドレスを示すアドレスビットデ−タ
を出力するアドレスビット部と、前記アドレスビット部
から出力される前記アドレスビットデ−タを読み出すビ
ットデ−タ読み出し回路とを備えている。
The semiconductor memory according to the present invention comprises a normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and the normal memory cell array when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array in place of the defective address of the spare memory cell array; and an address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array when the predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. An address bit section for outputting data, and a bit data reading circuit for reading the address bit data output from the address bit section.

【0047】本発明の半導体メモリは、正規メモリセル
アレイと、前記正規メモリセルアレイに付加的に設けら
れる予備メモリセルアレイと、アドレス信号が前記正規
メモリセルアレイの不良アドレスを指定する場合に、前
記正規メモリセルアレイの不良アドレスに代えて前記予
備メモリセルアレイの所定アドレスを指定するメモリセ
ル切り換え回路と、前記正規メモリセルアレイの所定ア
ドレスが実際にアクセスされる場合に、前記正規メモリ
セルアレイの所定アドレスがアクセスされたことを示す
第1認識ビットデ−タを出力し、前記予備メモリセルア
レイの所定アドレスが実際にアクセスされる場合に、前
記予備メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされ
たことを示す第2認識ビットデ−タを出力する認識ビッ
ト部と、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスが実
際にアクセスされる場合に、前記予備メモリセルアレイ
の所定アドレスを示すアドレスビットデ−タを出力する
アドレスビット部と、前記認識ビット部から出力される
前記第1又は第2認識ビットデ−タ及び前記アドレスビ
ット部から出力される前記アドレスビットデ−タをそれ
ぞれ読み出すビットデ−タ読み出し回路とを備えてい
る。
The semiconductor memory of the present invention comprises a normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and the normal memory cell array when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array in place of the defective address, and a predetermined address of the normal memory cell array being accessed when a predetermined address of the normal memory cell array is actually accessed. And outputs second recognition bit data indicating that a predetermined address of the spare memory cell array has been accessed when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. The recognition bit portion to be When a predetermined address of the memory cell array is actually accessed, an address bit portion for outputting address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array, and the first or second output from the recognition bit portion. A bit data reading circuit for reading out the recognition bit data and the address bit data output from the address bit section, respectively.

【0048】前記予備メモリセルアレイは、前記正規メ
モリセルアレイのカラム方向の2つの端部のうちの1つ
に配置され、前記認識ビット部は、前記正規メモリセル
アレイ及び前記予備メモリセルアレイのロウ方向の2つ
の端部のうちの1つに配置されている。
The spare memory cell array is arranged at one of two ends in the column direction of the normal memory cell array, and the recognition bit portion is located at two ends of the normal memory cell array and the spare memory cell array in the row direction. At one of the two ends.

【0049】前記認識ビット部は、前記第1認識ビット
デ−タを記憶する第1記憶部と、前記第2認識ビットデ
−タを記憶する第2記憶部とを有し、前記正規メモリセ
ルアレイの所定のロウが実際にアクセスされる場合に、
前記第1記憶部から前記第1認識ビットデ−タが出力さ
れ、前記予備メモリセルアレイの所定のロウが実際にア
クセスされる場合に、前記第2記憶部から前記第2認識
ビットデ−タが出力される。
The recognition bit section has a first storage section for storing the first recognition bit data and a second storage section for storing the second recognition bit data. Is actually accessed,
The first recognition bit data is output from the first storage unit, and when a predetermined row of the spare memory cell array is actually accessed, the second recognition bit data is output from the second storage unit. You.

【0050】前記第1記憶部は、ソ−スが第1電源端子
に接続され、ゲ−トが前記正規メモリセルアレイの所定
のロウに接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出
し回路に接続される複数のMOSトランジスタから構成
され、前記第2記憶部は、ソ−スが第2電源端子に接続
され、ゲ−トが前記予備メモリセルアレイの所定のロウ
に接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し回路
に接続される複数のMOSトランジスタから構成され
る。
In the first storage section, a source is connected to a first power supply terminal, a gate is connected to a predetermined row of the normal memory cell array, and a drain is connected to the bit data read circuit. The second storage unit includes a plurality of MOS transistors, the source of which is connected to a second power supply terminal, the gate of which is connected to a predetermined row of the spare memory cell array, and the drain of which is the bit data readout. It is composed of a plurality of MOS transistors connected to the circuit.

【0051】前記第1記憶部は、前記ビットデ−タ読み
出し回路と第1電源端子との間に接続される抵抗から構
成され、前記第2記憶部は、ソ−スが第2電源端子に接
続され、ゲ−トが前記予備メモリセルアレイの所定のロ
ウに接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し回
路に接続される複数のMOSトランジスタから構成され
る。
The first storage section comprises a resistor connected between the bit data read circuit and a first power supply terminal, and the second storage section has a source connected to a second power supply terminal. The gate is connected to a predetermined row of the spare memory cell array, and the drain is composed of a plurality of MOS transistors connected to the bit data read circuit.

【0052】前記予備メモリセルアレイは、前記正規メ
モリセルアレイのカラム方向の2つの端部のうちの1つ
に配置され、前記アドレスビット部は、前記予備メモリ
セルアレイのロウ方向の2つの端部のうちの1つに配置
されている。
The spare memory cell array is disposed at one of two ends of the normal memory cell array in the column direction, and the address bit portion is provided at one of two ends of the spare memory cell array in the row direction. Are arranged in one of them.

【0053】前記アドレスビット部は、前記予備メモリ
セルアレイの各ロウのアドレスを示すアドレスビットデ
−タを記憶する記憶部を有し、前記予備メモリセルアレ
イの所定のロウが実際にアクセスされる場合に、前記記
憶部から当該所定のロウに対応するアドレスを示すアド
レスビットデ−タが出力される。
The address bit section has a storage section for storing address bit data indicating an address of each row of the spare memory cell array. When a predetermined row of the spare memory cell array is actually accessed. Address bit data indicating an address corresponding to the predetermined row is output from the storage unit.

【0054】前記記憶部は、ソ−スが第1電源端子又は
第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記予備メモリセル
アレイの所定のロウに接続され、ドレインが前記ビット
デ−タ読み出し回路に接続される複数のMOSトランジ
スタから構成される。
In the storage section, a source is connected to the first power supply terminal or the second power supply terminal, a gate is connected to a predetermined row of the spare memory cell array, and a drain is connected to the bit data read circuit. It is composed of a plurality of connected MOS transistors.

【0055】前記記憶部は、前記ビットデ−タ読み出し
回路と第1電源端子との間に接続される抵抗と、ソ−ス
が第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記予備メモリセ
ルアレイの所定のロウに接続され、ドレインが前記ビッ
トデ−タ読み出し回路に接続される複数のMOSトラン
ジスタとから構成される。
The storage section has a resistor connected between the bit data read circuit and the first power supply terminal, a source connected to the second power supply terminal, and a gate connected to the spare memory cell array. A plurality of MOS transistors connected to a predetermined row and having a drain connected to the bit data read circuit.

【0056】前記予備メモリセルアレイは、前記正規メ
モリセルアレイのロウ方向の2つの端部のうちの1つに
配置される。また、前記予備メモリセルアレイは、前記
正規メモリセルアレイのカラム方向の2つの端部のうち
の1つに配置され、前記正規メモリセルアレイのカラム
を選択する第1選択回路と、前記予備メモリセルアレイ
のカラム方向の2つの端部のうちの1つに配置され、前
記予備メモリセルアレイのカラムを選択する第2選択回
路とを備える。前記認識ビット部は、前記第1及び第2
選択回路に隣接して配置されている。
The spare memory cell array is arranged at one of two ends in the row direction of the normal memory cell array. The spare memory cell array is disposed at one of two ends in the column direction of the normal memory cell array, and a first selection circuit for selecting a column of the normal memory cell array; and a column of the spare memory cell array. A second selection circuit disposed at one of the two ends in the direction and selecting a column of the spare memory cell array. The recognition bit unit is configured to include the first and second
It is arranged adjacent to the selection circuit.

【0057】前記認識ビット部は、前記第1認識ビット
デ−タを記憶する第1記憶部と、前記第2認識ビットデ
−タを記憶する第2記憶部とを有し、前記正規メモリセ
ルアレイの所定のカラムが実際に選択される場合に、前
記第1記憶部から前記第1認識ビットデ−タが出力さ
れ、前記予備メモリセルアレイの所定のカラムが実際に
選択される場合に、前記複数の第2記憶部から前記第2
認識ビットデ−タが出力される。
The recognition bit section has a first storage section for storing the first recognition bit data and a second storage section for storing the second recognition bit data. When the first column is actually selected, the first recognition bit data is output from the first storage unit, and when a predetermined column of the spare memory cell array is actually selected, the plurality of second recognition bits are output. The second from the storage unit
Recognition bit data is output.

【0058】前記第1記憶部は、ソ−スが第1電源端子
に接続され、ゲ−トが前記第1選択回路に接続され、ド
レインが前記ビットデ−タ読み出し回路に接続される複
数のMOSトランジスタから構成され、前記第2記憶部
は、ソ−スが第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記第
2選択回路に接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読
み出し回路に接続される複数のMOSトランジスタから
構成される。
The first storage section includes a plurality of MOS transistors each having a source connected to a first power supply terminal, a gate connected to the first selection circuit, and a drain connected to the bit data read circuit. The second storage unit includes a plurality of transistors each having a source connected to a second power supply terminal, a gate connected to the second selection circuit, and a drain connected to the bit data read circuit. MOS transistors.

【0059】前記第1記憶部は、前記ビットデ−タ読み
出し回路と第1電源端子との間に接続される抵抗から構
成され、前記第2記憶部は、ソ−スが第2電源端子に接
続され、ゲ−トが前記第2選択回路に接続され、ドレイ
ンが前記ビットデ−タ読み出し回路に接続される複数の
MOSトランジスタから構成される。
The first storage section comprises a resistor connected between the bit data read circuit and a first power supply terminal, and the second storage section has a source connected to a second power supply terminal. The gate is connected to the second selection circuit, and the drain is composed of a plurality of MOS transistors connected to the bit data read circuit.

【0060】前記予備メモリセルアレイは、前記正規メ
モリセルアレイのロウ方向の2つの端部のうちの1つに
配置される。また、前記予備メモリセルアレイは、前記
正規メモリセルアレイのカラム方向の2つの端部のうち
の1つに配置され、前記正規メモリセルアレイのカラム
を選択する第1選択回路と、前記予備メモリセルアレイ
のカラム方向の2つの端部のうちの1つに配置され、前
記予備メモリセルアレイのカラムを選択する第2選択回
路とを備える。前記アドレスビット部は、前記第1及び
第2選択回路に隣接して配置されている。
The spare memory cell array is arranged at one of two ends in the row direction of the normal memory cell array. The spare memory cell array is disposed at one of two ends in the column direction of the normal memory cell array, and a first selection circuit for selecting a column of the normal memory cell array; and a column of the spare memory cell array. A second selection circuit disposed at one of the two ends in the direction and selecting a column of the spare memory cell array. The address bit section is arranged adjacent to the first and second selection circuits.

【0061】前記アドレスビット部は、前記予備メモリ
セルアレイの各カラムのアドレスを示すアドレスビット
デ−タを記憶する記憶部を有し、前記予備メモリセルア
レイの所定のカラムが実際にアクセスされる場合に、前
記記憶部から当該所定のカラムに対応するアドレスを示
すアドレスビットデ−タが出力される。
The address bit section has a storage section for storing address bit data indicating an address of each column of the spare memory cell array. When a predetermined column of the spare memory cell array is actually accessed. Then, address bit data indicating an address corresponding to the predetermined column is output from the storage unit.

【0062】前記記憶部は、ソ−スが第1電源端子又は
第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記第2選択回路に
接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し回路に
接続される複数のMOSトランジスタから構成される。
In the storage section, a source is connected to the first power supply terminal or the second power supply terminal, a gate is connected to the second selection circuit, and a drain is connected to the bit data read circuit. It is composed of a plurality of MOS transistors.

【0063】前記記憶部は、前記ビットデ−タ読み出し
回路と第1電源端子との間に接続される抵抗と、ソ−ス
が第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記第2選択回路
に接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し回路
に接続される複数のMOSトランジスタとから構成され
る。
The storage section has a resistor connected between the bit data readout circuit and the first power supply terminal, a source connected to the second power supply terminal, and a gate connected to the second selection circuit. And a plurality of MOS transistors whose drains are connected to the bit data read circuit.

【0064】本発明の半導体メモリは、正規メモリセル
アレイと、前記正規メモリセルアレイに付加的に設けら
れる予備メモリセルアレイと、アドレス信号が前記正規
メモリセルアレイの不良アドレスを指定する場合に、前
記正規メモリセルアレイの不良アドレスに代えて前記予
備メモリセルアレイの所定アドレスを指定するメモリセ
ル切り換え回路と、前記正規メモリセルアレイの所定ア
ドレスが実際にアクセスされる場合に、前記正規メモリ
セルアレイの所定アドレスがアクセスされたことを示す
第1認識ビットデ−タを出力し、前記予備メモリセルア
レイの所定アドレスが実際にアクセスされる場合に、前
記予備メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされ
たことを示す第2認識ビットデ−タを出力する手段とを
備えている。
A semiconductor memory according to the present invention includes a normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and a memory cell array when the address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array in place of the defective address, and a predetermined address of the normal memory cell array being accessed when a predetermined address of the normal memory cell array is actually accessed. And outputs second recognition bit data indicating that a predetermined address of the spare memory cell array has been accessed when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. Means.

【0065】本発明の半導体メモリは、正規メモリセル
アレイと、前記正規メモリセルアレイに付加的に設けら
れる予備メモリセルアレイと、アドレス信号が前記正規
メモリセルアレイの不良アドレスを指定する場合に、前
記正規メモリセルアレイの不良アドレスに代えて前記予
備メモリセルアレイの所定アドレスを指定するメモリセ
ル切り換え回路と、前記予備メモリセルアレイの所定ア
ドレスが実際にアクセスされる場合に、前記予備メモリ
セルアレイの所定アドレスを示すアドレスビットデ−タ
を出力する手段とを備えている。
The semiconductor memory according to the present invention includes a normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and a memory cell array when the address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array in place of the defective address of the spare memory cell array; and an address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array when the predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. Means for outputting data.

【0066】本発明の半導体メモリは、正規メモリセル
アレイと、前記正規メモリセルアレイに付加的に設けら
れる予備メモリセルアレイと、アドレス信号が前記正規
メモリセルアレイの不良アドレスを指定する場合に、前
記正規メモリセルアレイの不良アドレスに代えて前記予
備メモリセルアレイの所定アドレスを指定するメモリセ
ル切り換え回路と、前記正規メモリセルアレイの所定ア
ドレスが実際にアクセスされる場合に、前記正規メモリ
セルアレイの所定アドレスがアクセスされたことを示す
第1認識ビットデ−タを出力し、前記予備メモリセルア
レイの所定アドレスが実際にアクセスされる場合に、前
記予備メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされ
たことを示す第2認識ビットデ−タを出力する手段と、
前記予備メモリセルアレイの所定アドレスが実際にアク
セスされる場合に、前記予備メモリセルアレイの所定ア
ドレスを示すアドレスビットデ−タを出力する手段とを
備えている。
The semiconductor memory according to the present invention includes a normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and a memory cell array when the address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array in place of the defective address, and a predetermined address of the normal memory cell array being accessed when a predetermined address of the normal memory cell array is actually accessed. And outputs second recognition bit data indicating that a predetermined address of the spare memory cell array has been accessed when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. Means to
Means for outputting address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed.

【0067】本発明の半導体メモリのテスト方法は、ア
ドレス信号が正規メモリセルアレイの不良アドレスを指
定する場合に、前記正規メモリセルアレイの不良アドレ
スに代えて予備メモリセルアレイの所定アドレスを指定
するリダンダンシイ回路を備える半導体メモリを対象と
し、前記正規メモリセルアレイの所定アドレスがアクセ
スされる場合に第1認識ビットデ−タが出力され、前記
予備メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされる
場合に第2認識ビットデ−タが出力されるように設定
し、前記正規メモリセルアレイの不良アドレスを指定す
るアドレス信号を供給した場合に、前記第1認識ビット
デ−タが出力されるときは、前記正規メモリセルアレイ
の不良アドレスが前記予備メモリセルアレイの所定アド
レスに正しく切り換えられていないものと判断し、前記
第2認識ビットデ−タが出力されるときは、前記正規メ
モリセルアレイの不良アドレスが前記予備メモリセルア
レイの所定アドレスに正しく切り換えられたものと判断
する、というものである。
A semiconductor memory test method according to the present invention is characterized in that when an address signal specifies a defective address of a normal memory cell array, a redundancy circuit for specifying a predetermined address of a spare memory cell array instead of the defective address of the normal memory cell array. The first recognition bit data is output when a predetermined address of the normal memory cell array is accessed, and the second recognition bit data is output when a predetermined address of the spare memory cell array is accessed. When the first recognition bit data is output when an address signal designating a defective address of the normal memory cell array is supplied and the defective address of the normal memory cell array is Correct switching to the specified address in the spare memory cell array If the second recognition bit data is output, it is determined that the defective address of the normal memory cell array has been correctly switched to the predetermined address of the spare memory cell array. is there.

【0068】本発明の半導体メモリのテスト方法は、ア
ドレス信号が正規メモリセルアレイの不良アドレスを指
定する場合に、前記正規メモリセルアレイの不良アドレ
スに代えて予備メモリセルアレイの所定アドレスを指定
するリダンダンシイ回路を備える半導体メモリを対象と
し、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスがアクセ
スされる場合に、当該所定アドレスを示すアドレスビッ
トデ−タが出力されるように設定し、前記正規メモリセ
ルアレイの不良アドレスを指定するアドレス信号を供給
した場合に、前記アドレスビットデ−タを検出すること
により、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスを認
識する、というものである。
A semiconductor memory test method according to the present invention is characterized in that when an address signal specifies a defective address of a normal memory cell array, a redundancy circuit for specifying a predetermined address of a spare memory cell array instead of the defective address of the normal memory cell array. When a predetermined address of the spare memory cell array is accessed, address bit data indicating the predetermined address is set to be output, and a defective address of the normal memory cell array is designated. When an address signal is supplied, a predetermined address of the spare memory cell array is recognized by detecting the address bit data.

【0069】本発明の半導体メモリのテスト方法は、ア
ドレス信号が正規メモリセルアレイの不良アドレスを指
定する場合に、前記正規メモリセルアレイの不良アドレ
スに代えて予備メモリセルアレイの所定アドレスを指定
するリダンダンシイ回路を備える半導体メモリを対象と
し、前記正規メモリセルアレイの所定アドレスがアクセ
スされる場合に第1認識ビットデ−タが出力され、前記
予備メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされる
場合に第2認識ビットデ−タ及び当該所定アドレスを示
すアドレスビットデ−タが出力されるように設定し、前
記正規メモリセルアレイの不良アドレスを指定するアド
レス信号を供給した場合に、前記第1認識ビットデ−タ
が出力されるときは、前記正規メモリセルアレイの不良
アドレスが前記予備メモリセルアレイの所定アドレスに
正しく切り換えられていないものと判断し、前記第2認
識ビットデ−タが出力されるときは、前記正規メモリセ
ルアレイの不良アドレスが前記予備メモリセルアレイの
所定アドレスに正しく切り換えられたものと判断すると
共に、前記アドレスビットデ−タを検出することにより
前記予備メモリセルアレイの所定アドレスを認識する、
というものである。
A semiconductor memory test method according to the present invention is characterized in that, when an address signal specifies a defective address of a normal memory cell array, a redundancy circuit for specifying a predetermined address of a spare memory cell array instead of the defective address of the normal memory cell array. The first recognition bit data is output when a predetermined address of the normal memory cell array is accessed, and the second recognition bit data is output when a predetermined address of the spare memory cell array is accessed. And setting the address bit data indicating the predetermined address to be output and outputting the first recognition bit data when an address signal designating a defective address of the normal memory cell array is supplied. Indicates that the defective address of the normal memory cell array is When it is determined that the address has not been properly switched to the predetermined address of the memory cell array, and the second recognition bit data is output, the defective address of the normal memory cell array has been correctly switched to the predetermined address of the spare memory cell array. And a predetermined address of the spare memory cell array is recognized by detecting the address bit data.
That is.

【0070】[0070]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の半導体メモリについて詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a semiconductor memory according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0071】図1は、本発明の第1実施の形態に関わる
半導体メモリを示すものである。
FIG. 1 shows a semiconductor memory according to the first embodiment of the present invention.

【0072】この半導体メモリは、128のアドレス
(00〜7F)、即ち32のロウアドレス(R0〜R3
1)と4つのカラムアドレス(C0〜C3)を有し、1
つのアドレスには8ビットのデ−タが対応している10
24ビットの正規メモリセルアレイ11を有しているも
のとする。
This semiconductor memory has 128 addresses (00 to 7F), that is, 32 row addresses (R0 to R3).
1) and four column addresses (C0 to C3),
One address corresponds to 8-bit data.
It is assumed that the normal memory cell array 11 of 24 bits is provided.

【0073】また、予備メモリセルアレイ13は、正規
メモリセルアレイ11のカラム方向(デ−タ線が延在す
る方向)の端部に配置されているものとする。
It is assumed that spare memory cell array 13 is arranged at the end of normal memory cell array 11 in the column direction (the direction in which the data lines extend).

【0074】なお、半導体メモリは、DRAM、SRA
Mなどの揮発性半導体メモリであってもよく、マスクR
OM、EPROM、EEPROMなどの不揮発性半導体
メモリであってもよい。
The semiconductor memory is a DRAM, SRA
M or a volatile semiconductor memory such as a mask R
A nonvolatile semiconductor memory such as an OM, an EPROM, and an EEPROM may be used.

【0075】正規メモリセルアレイ11のロウ方向(ワ
−ド線R0〜R31が延在する方向)の2つの端部のう
ちの1つには、ロウデコ−ダ12が配置されている。ロ
ウデコ−ダ12は、ロウアドレス信号に基づいて1つの
ロウを選択し、この選択されたロウに高電位を供給す
る。
A row decoder 12 is arranged at one of two ends of the normal memory cell array 11 in the row direction (the direction in which the word lines R0 to R31 extend). The row decoder 12 selects one row based on a row address signal, and supplies a high potential to the selected row.

【0076】正規メモリセルアレイ11のカラム方向
(デ−タ線が延在する方向)の2つの端部のうちの1つ
には、予備メモリセルアレイ13が配置されている。
A spare memory cell array 13 is arranged at one of two ends of the normal memory cell array 11 in the column direction (the direction in which the data lines extend).

【0077】予備メモリセルアレイ13は、例えば、1
6のアドレス(00〜0F)、即ち4つのロウアドレス
(r0〜r3)と4つのカラムアドレス(C0〜C3)
を有し、1つのアドレスには8ビットのデ−タが対応し
ている128ビットから構成されているものとする。
The spare memory cell array 13 includes, for example, 1
6 addresses (00 to 0F), that is, four row addresses (r0 to r3) and four column addresses (C0 to C3)
It is assumed that one address consists of 128 bits corresponding to 8-bit data.

【0078】選択回路14a〜14dは、予備メモリセ
ルアレイ13と読み出し回路16の間に配置されてい
る。カラムデコ−ダ15は、カラムアドレスに基づいて
1つの選択回路、即ち1つのカラムを選択し、この選択
されたカラムのデ−タを読み出し回路16に導く。
The selection circuits 14 a to 14 d are arranged between the spare memory cell array 13 and the read circuit 16. The column decoder 15 selects one selection circuit, that is, one column, based on the column address, and guides data of the selected column to the reading circuit 16.

【0079】アドレスレジスタ17は、当該半導体メモ
リが形成されるLSIチップの外部又は内部から供給さ
れるアドレス信号を、ロウアドレス信号とカラムアドレ
ス信号に分ける。
The address register 17 divides an address signal supplied from outside or inside the LSI chip on which the semiconductor memory is formed into a row address signal and a column address signal.

【0080】メモリセル切り換え回路18は、正規メモ
リセルアレイ11の不良のロウアドレスを記憶しておく
ための記憶部を有している。この記憶部は、例えば、複
数のフュ−ズにより構成され、ロウアドレスの記憶は、
この複数のヒュ−ズのうち所定のフュ−ズをレ−ザで切
断することにより行われる。
The memory cell switching circuit 18 has a storage unit for storing a defective row address of the normal memory cell array 11. This storage unit is composed of, for example, a plurality of fuses.
This is performed by cutting a predetermined fuse of the plurality of fuses with a laser.

【0081】メモリセル切り換え回路18の記憶部にロ
ウアドレスが記憶されている場合において、アドレスレ
ジスタ17から出力されるロウアドレスが、メモリセル
切り換え回路18の記憶部のロウアドレスに一致する
と、メモリセル切り換え回路18は、ロウデコ−ダ12
を不活性にする信号INH(inhibition)を
出力する。
When a row address is stored in the storage unit of the memory cell switching circuit 18 and the row address output from the address register 17 matches the row address of the storage unit of the memory cell switching circuit 18, The switching circuit 18 includes the row decoder 12.
(Inhibition) is output.

【0082】同時に、メモリセル切り換え回路18は、
予備メモリセルアレイ13の1つのロウを選択し、この
選択されたロウに高電位を供給する。これにより、正規
メモリセルアレイ11の不良のロウが、予備メモリセル
アレイの所定のロウに切り換えられる。
At the same time, the memory cell switching circuit 18
One row of the spare memory cell array 13 is selected, and a high potential is supplied to the selected row. As a result, the defective row of the normal memory cell array 11 is switched to a predetermined row of the spare memory cell array.

【0083】正規メモリセルアレイ11のロウ方向の2
つの端部のうちの他の1つには、認識ビット部19が配
置されている。認識ビット部19は、正規メモリセルア
レイ11の1つのロウR0〜R31に対応して1ビット
のデ−タ(“0”又は“1”)を記憶できる1つの記憶
部を有している。
In the normal memory cell array 11,
The other one of the two ends is provided with a recognition bit unit 19. The recognition bit unit 19 has one storage unit that can store 1-bit data (“0” or “1”) corresponding to one row R0 to R31 of the normal memory cell array 11.

【0084】各記憶部には、例えば、デ−タ“0”が記
憶される。そして、正規メモリセルアレイ11の所定の
ロウ(ワ−ド線)R0〜R31に高電位が供給される
と、その所定のロウに対応する記憶部からデ−タ“0”
が出力される。
For example, data "0" is stored in each storage unit. When a high potential is supplied to a predetermined row (word line) R0 to R31 of the normal memory cell array 11, data "0" is stored in a storage unit corresponding to the predetermined row.
Is output.

【0085】この記憶部は、MOSトランジスタや不揮
発性半導体メモリなどから構成することができる。
This storage section can be composed of a MOS transistor, a nonvolatile semiconductor memory or the like.

【0086】予備メモリセルアレイ13のロウ方向の2
つの端部のうち、認識ビット部19が設けられる側と同
じ側の端部には、認識ビット部20が配置されている。
認識ビット部20は、予備メモリセルアレイ13の1つ
のロウr0〜r3に対応して1ビットのデ−タ(“0”
又は“1”)を記憶できる1つの記憶部を有している。
2 in the row direction of spare memory cell array 13
Of the two ends, the recognition bit section 20 is disposed at the end on the same side as the side where the recognition bit section 19 is provided.
The recognition bit section 20 stores 1-bit data ("0") corresponding to one row r0 to r3 of the spare memory cell array 13.
Or "1").

【0087】各記憶部には、例えば、デ−タ“1”(認
識ビット部19の記憶部のデ−タと逆のデ−タ)が記憶
される。そして、予備メモリセルアレイ13の所定のロ
ウ(ワ−ド線)r0〜r3に高電位が供給されると、そ
の所定のロウに対応する記憶部からデ−タ“1”が出力
される。
For example, data "1" (data opposite to the data in the storage unit of the recognition bit unit 19) is stored in each storage unit. When a high potential is supplied to predetermined rows (word lines) r0 to r3 of the spare memory cell array 13, data "1" is output from the storage unit corresponding to the predetermined row.

【0088】この記憶部は、MOSトランジスタや不揮
発性半導体メモリなどから構成することができる。
This storage section can be composed of a MOS transistor, a nonvolatile semiconductor memory, or the like.

【0089】認識ビット部19,20から読み出される
デ−タは、ビットデ−タ読み出し回路22によって、本
発明の半導体メモリが形成されるLSIチップの外部へ
出力される。
The data read from the recognition bit sections 19 and 20 is output by a bit data read circuit 22 to the outside of the LSI chip on which the semiconductor memory of the present invention is formed.

【0090】予備メモリセルアレイ13のロウ方向の2
つの端部のうち、認識ビット部20が設けられる側と同
じ側の端部には、アドレスビット部21が配置されてい
る。アドレスビット部21は、予備メモリセルアレイ1
3の1つのロウr0〜r3に対応して2ビットのデ−タ
(“00”“01”“10”又は“11”)を記憶でき
る1つの記憶部を有している。
2 in the row direction of spare memory cell array 13
Of the two ends, an address bit section 21 is arranged at the end on the same side as the side where the recognition bit section 20 is provided. The address bit unit 21 is used for the spare memory cell array 1
There is one storage unit that can store 2-bit data (“00”, “01”, “10”, or “11”) corresponding to one of the three rows r0 to r3.

【0091】なお、予備メモリセルアレイのロウの数を
n とした場合、アドレスビット部21の記憶部のビッ
ト数は、nとなる。
When the number of rows in the spare memory cell array is 2 n , the number of bits in the storage section of the address bit section 21 is n.

【0092】各記憶部には、それぞれ異なるデ−タが記
憶される。そして、予備メモリセルアレイ13の所定の
ロウ(ワ−ド線)r0〜r3に高電位が供給されると、
その所定のロウに対応する記憶部からそのロウに対応し
た所定のデ−タ“00”、“01”、“10”又は“1
1”が出力される。
Each storage unit stores different data. When a high potential is supplied to predetermined rows (word lines) r0 to r3 of the spare memory cell array 13,
The predetermined data "00", "01", "10" or "1" corresponding to the row from the storage unit corresponding to the predetermined row.
1 "is output.

【0093】この記憶部は、MOSトランジスタや不揮
発性半導体メモリなどから構成することができる。
This storage unit can be composed of a MOS transistor, a nonvolatile semiconductor memory, or the like.

【0094】アドレスビット部21から読み出されるデ
−タは、ビットデ−タ読み出し回路22によって、本発
明の半導体メモリが形成されるLSIチップの外部へ出
力される。
The data read from the address bit section 21 is output by a bit data read circuit 22 to the outside of the LSI chip on which the semiconductor memory of the present invention is formed.

【0095】図2は、図1の認識ビット部19,20、
アドレスビット部21及びビットデ−タ読み出し回路2
2の構成の一例を示すものである。
FIG. 2 shows the recognition bit units 19 and 20 of FIG.
Address bit section 21 and bit data read circuit 2
2 shows an example of the configuration of FIG.

【0096】認識ビット部19は、ソ−スが電源端子3
1に接続される32個のNチャネル型MOSトランジス
タT0〜T31から構成されている。電源端子31に
は、高電位VDDが印加されている。各MOSトランジ
スタT0〜T31のゲ−トは、正規メモリセルアレイ1
1の所定の1本のワ−ド線R0〜R31に接続されてい
る。MOSトランジスタT0〜T31のドレインは、ビ
ットデ−タ読み出し回路22のインバ−タI0に接続さ
れている。
The source of the recognition bit section 19 is the power supply terminal 3.
It is composed of 32 N-channel type MOS transistors T0 to T31 connected to 1. The high potential VDD is applied to the power supply terminal 31. The gates of the MOS transistors T0 to T31 are connected to the normal memory cell array 1
It is connected to one predetermined word line R0 to R31. The drains of the MOS transistors T0 to T31 are connected to the inverter I0 of the bit data read circuit 22.

【0097】認識ビット部20は、ソ−スが電源端子3
2に接続される4個のNチャネル型MOSトランジスタ
Q0〜Q3から構成されている。電源端子32には、低
電位VSSが印加されている。各MOSトランジスタQ
0〜Q3のゲ−トは、予備メモリセルアレイ13の所定
の1本のワ−ド線r0〜r3に接続されている。MOS
トランジスタQ0〜Q3のドレインは、ビットデ−タ読
み出し回路22のインバ−タI0に接続されている。
The source of the recognition bit section 20 is
2 comprises four N-channel MOS transistors Q0 to Q3. The low potential VSS is applied to the power supply terminal 32. Each MOS transistor Q
The gates 0 to Q3 are connected to one predetermined word line r0 to r3 of the spare memory cell array 13. MOS
The drains of the transistors Q0 to Q3 are connected to the inverter I0 of the bit data read circuit 22.

【0098】アドレスビット部21は、ソ−スが電源端
子31に接続されるNチャネル型MOSトランジスタQ
00,Q01,Q10,Q21と、ソ−スが電源端子3
2に接続されるNチャネル型MOSトランジスタQ1
1,Q20,Q30,Q31とから構成されている。
The address bit section 21 includes an N-channel MOS transistor Q whose source is connected to the power supply terminal 31.
00, Q01, Q10, Q21 and the source is the power supply terminal 3.
N-channel MOS transistor Q1 connected to
1, Q20, Q30 and Q31.

【0099】MOSトランジスタQ00,Q01のゲ−
トは、予備メモリセルアレイ13の所定の1本のワ−ド
線r0に接続され、MOSトランジスタQ10,Q11
のゲ−トは、予備メモリセルアレイ13の所定の1本の
ワ−ド線r1に接続され、MOSトランジスタQ20,
Q21のゲ−トは、予備メモリセルアレイ13の所定の
1本のワ−ド線r2に接続され、MOSトランジスタQ
30,Q31のゲ−トは、予備メモリセルアレイ13の
所定の1本のワ−ド線r3に接続される。
Gate of MOS transistors Q00 and Q01
Is connected to a predetermined word line r0 of the spare memory cell array 13, and MOS transistors Q10, Q11
Is connected to a predetermined word line r1 of the spare memory cell array 13, and the MOS transistors Q20,
The gate of Q21 is connected to a predetermined one word line r2 of the spare memory cell array 13, and the MOS transistor Q
Gates 30 and Q31 are connected to one predetermined word line r3 of the spare memory cell array 13.

【0100】MOSトランジスタQ00,Q10,Q2
0,Q30のドレインは、ビットデ−タ読み出し回路2
2のインバ−タI1に接続され、MOSトランジスタQ
01,Q11,Q21,Q31のドレインは、ビットデ
−タ読み出し回路22のインバ−タI2に接続されてい
る。
MOS transistors Q00, Q10, Q2
The drains of 0 and Q30 are the bit data read circuit 2
2 inverter I1 and the MOS transistor Q
The drains of 01, Q11, Q21 and Q31 are connected to the inverter I2 of the bit data read circuit 22.

【0101】図3は、図1の認識ビット部19,20、
アドレスビット部21及びビットデ−タ読み出し回路2
2の構成の他の一例を示すものである。
FIG. 3 shows the recognition bit units 19 and 20 of FIG.
Address bit section 21 and bit data read circuit 2
13 shows another example of the configuration of FIG.

【0102】この実施の形態は、ビットデ−タ読み出し
回路22のインバ−タI0〜I2の入力端と電源端子3
1の間にそれぞれ抵抗RE0〜RE2を設けることによ
り、図2のNチャネル型MOSトランジスタのうち、ソ
−スが電源端子31に接続されるものを省略したもので
ある。
In this embodiment, the input terminals of the inverters I0 to I2 of the bit data read circuit 22 and the power supply terminal 3
By arranging the resistors RE0 to RE2 between the MOS transistors 1, the N-channel MOS transistors of FIG. 2 whose source is connected to the power supply terminal 31 are omitted.

【0103】この場合、認識ビット部19は、ビットデ
−タ読み出し回路22のインバ−タI0の入力端と電源
端子31の間に接続される抵抗RE0から構成される。
In this case, the recognition bit section 19 comprises a resistor RE0 connected between the input terminal of the inverter I0 of the bit data read circuit 22 and the power supply terminal 31.

【0104】また、アドレスビット部21は、ビットデ
−タ読み出し回路22のインバ−タI1の入力端と電源
端子31の間に接続される抵抗RE1、ビットデ−タ読
み出し回路22のインバ−タI2の入力端と電源端子3
1の間に接続される抵抗RE2、及び、ソ−スが電源端
子32に接続されるNチャネル型MOSトランジスタQ
11,Q20,Q30,Q31から構成され、ソ−スが
電源端子31に接続されるNチャネル型MOSトランジ
スタが省略される。
The address bit section 21 includes a resistor RE1 connected between the input terminal of the inverter I1 of the bit data read circuit 22 and the power supply terminal 31, and an inverter I2 of the bit data read circuit 22. Input terminal and power terminal 3
1 and an N-channel MOS transistor Q whose source is connected to the power supply terminal 32.
An N-channel MOS transistor composed of 11, Q20, Q30, and Q31 and having a source connected to the power supply terminal 31 is omitted.

【0105】MOSトランジスタQ11のゲ−トは、予
備メモリセルアレイ13のワ−ド線r1に接続され、M
OSトランジスタQ20のゲ−トは、予備メモリセルア
レイ13のワ−ド線r2に接続され、MOSトランジス
タQ30,Q31のゲ−トは、予備メモリセルアレイ1
3のワ−ド線r3に接続される。
The gate of MOS transistor Q11 is connected to word line r1 of spare memory cell array 13, and
The gate of the OS transistor Q20 is connected to the word line r2 of the spare memory cell array 13, and the gate of the MOS transistors Q30 and Q31 is connected to the spare memory cell array 1.
3 is connected to the third word line r3.

【0106】MOSトランジスタQ20,Q30のドレ
インは、ビットデ−タ読み出し回路22のインバ−タI
1に接続され、MOSトランジスタQ11,Q31のド
レインは、ビットデ−タ読み出し回路22のインバ−タ
I2に接続されている。
The drains of the MOS transistors Q20 and Q30 are connected to the inverter I of the bit data read circuit 22.
1 and the drains of the MOS transistors Q11 and Q31 are connected to the inverter I2 of the bit data read circuit 22.

【0107】認識ビット部20の構成は、図2の場合と
何ら変わらない。
The configuration of the recognition bit unit 20 is not different from that of FIG.

【0108】即ち、認識ビット部20は、ソ−スが電源
端子32に接続される4個のNチャネル型MOSトラン
ジスタQ0〜Q3から構成されている。電源端子32に
は、低電位VSSが印加されている。
That is, the recognition bit section 20 is composed of four N-channel MOS transistors Q0 to Q3 whose sources are connected to the power supply terminal 32. The low potential VSS is applied to the power supply terminal 32.

【0109】各MOSトランジスタQ0〜Q3のゲ−ト
は、予備メモリセルアレイ13の所定の1本のワ−ド線
r0〜r3に接続されている。MOSトランジスタQ0
〜Q3のドレインは、ビットデ−タ読み出し回路22の
インバ−タI0に接続されている。
The gates of the MOS transistors Q0 to Q3 are connected to one predetermined word line r0 to r3 of the spare memory cell array 13. MOS transistor Q0
The drains of .about.Q3 are connected to the inverter I0 of the bit data read circuit 22.

【0110】認識ビット部20の全てのMOSトランジ
スタがオフ状態のとき、インバ−タI0には、高電位が
入力されるため、インバ−タI0は、認識ビットデ−タ
“0”を出力する。認識ビット部20の少なくとも1つ
のMOSトランジスタがオン状態のとき、インバ−タI
0には、低電位が入力されるため、インバ−タI0は、
認識ビットデ−タ“1”を出力する。
When all the MOS transistors of the recognition bit section 20 are off, a high potential is input to the inverter I0, and the inverter I0 outputs recognition bit data "0". When at least one MOS transistor of the recognition bit unit 20 is on, the inverter I
Since a low potential is input to 0, the inverter I0 is
The recognition bit data "1" is output.

【0111】同様に、例えば、アドレスビット部21の
全てのMOSトランジスタがオフ状態のとき(ロウr0
が選択されたとき)、インバ−タI1,I2には、高電
位が入力されるため、インバ−タI1,I2は、アドレ
スビットデ−タ“0”を出力する。
Similarly, for example, when all the MOS transistors of the address bit section 21 are off (row r0
Is selected), a high potential is input to the inverters I1 and I2, so that the inverters I1 and I2 output address bit data "0".

【0112】上記リダンダンシ回路(予備メモリセルア
レイ13及びメモリセル切り換え回路18の部分とす
る)を備えた半導体メモリにおいて、当該半導体メモリ
の動作テスト終了後、正規メモリセルアレイ11に不良
のロウが存在している場合には、メモリセル切り換え回
路18の記憶部には、その不良のロウのアドレスが記憶
される。
In a semiconductor memory provided with the above-mentioned redundancy circuit (part of the spare memory cell array 13 and the memory cell switching circuit 18), after the operation test of the semiconductor memory is completed, a defective row exists in the normal memory cell array 11. If there is, the storage section of the memory cell switching circuit 18 stores the address of the defective row.

【0113】また、不良のロウアドレスを記憶した後、
製品の出荷前には、正規メモリセルアレイ11の不良の
ロウが、予備メモリセルアレイ13の所定のロウにきち
んと切り換えられたか否かを検査する出荷テストが実施
される。
After storing the defective row address,
Before shipment of the product, a shipment test is performed to check whether the defective row of the normal memory cell array 11 has been properly switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13.

【0114】この出荷テストは、以下のようにして実施
されている。
This shipping test is performed as follows.

【0115】なお、前提条件としては、表1に示すよう
に、正規メモリセルアレイ11のアドレス1C〜1Fの
メモリセルに不良が存在し、このアドレス1C〜1Fの
メモリセルを予備メモリセルアレイのアドレス00〜0
3のメモリセルに切り換えるものとする。
As a precondition, as shown in Table 1, a defect exists in the memory cells at addresses 1C to 1F of the normal memory cell array 11, and the memory cells at addresses 1C to 1F are replaced with the address 00 of the spare memory cell array. ~ 0
3 memory cells.

【0116】即ち、メモリセル切り換え回路18の記憶
部には、不良アドレス1C〜1Fが記憶されているもの
とする。
That is, it is assumed that defective addresses 1C to 1F are stored in the storage section of the memory cell switching circuit 18.

【0117】[0117]

【表1】 [Table 1]

【0118】まず、例えば、アドレス00が供給される
と、ロウデコ−ダ12は、正規メモリセルアレイ11の
ロウ(ワ−ド線)R0を選択し、このロウR0に高電位
を供給する。正規メモリセルアレイ11のロウR0に高
電位が供給されると、認識ビット部19からはデ−タ
“0”(注意:高電位VDD)が出力されるため、ビッ
トデ−タ読み出し回路22は、認識ビットデ−タ“0”
(低電位VSS)を出力する。
First, for example, when the address 00 is supplied, the row decoder 12 selects the row (word line) R0 of the normal memory cell array 11, and supplies a high potential to this row R0. When a high potential is supplied to the row R0 of the normal memory cell array 11, data "0" (attention: high potential VDD) is output from the recognition bit section 19, and the bit data read circuit 22 recognizes the data. Bit data "0"
(Low potential VSS).

【0119】即ち、この認識ビットデ−タ“0”をLS
Iチップ外部のテスタで認識することにより、正規メモ
リセルアレイ11の所定のロウが選択されたことを把握
することができる。
That is, the recognition bit data "0" is set to LS
By recognizing with a tester outside the I chip, it can be grasped that a predetermined row of the normal memory cell array 11 has been selected.

【0120】次に、例えば、アドレス1Cが供給される
と、メモリセル切り換え回路18は、ロウデコ−ダ12
を非活性化し、予備メモリセルアレイ13のロウ(ワ−
ド線)r0を選択し、このロウr0に高電位を供給す
る。予備メモリセルアレイ13のロウr0に高電位が供
給されると、認識ビット部20からはデ−タ“1”(注
意:低電位VSS)が出力されるため、ビットデ−タ読
み出し回路22は、認識ビットデ−タ“1”(高電位V
DD)を出力する。
Next, for example, when the address 1C is supplied, the memory cell switching circuit 18 makes the row decoder 12
Is deactivated, and the row (word) of the spare memory cell array 13 is deactivated.
Line r0), and a high potential is supplied to the row r0. When a high potential is supplied to the row r0 of the spare memory cell array 13, data "1" (attention: low potential VSS) is output from the recognition bit unit 20, so that the bit data read circuit 22 recognizes the data. Bit data "1" (high potential V
DD).

【0121】即ち、この認識ビットデ−タ“1”をLS
Iチップ外部のテスタで認識することにより、正規メモ
リセルアレイ11の不良のロウが予備メモリセルアレイ
13の所定のロウにきちんと切り換えられていることが
把握できる。
That is, this recognition bit data "1" is
By recognizing with a tester outside the I chip, it can be understood that the defective row of the normal memory cell array 11 is properly switched to a predetermined row of the spare memory cell array 13.

【0122】もし、この際に、ビットデ−タ読み出し回
路22が認識ビットデ−タ“0”を出力するときは、正
規メモリセルアレイ11の不良のロウが予備メモリセル
アレイ13の所定のロウにきちんと切り換えられていな
いことを把握することができる。
If the bit data read circuit 22 outputs the recognized bit data "0" at this time, the defective row of the normal memory cell array 11 is properly switched to the predetermined row of the spare memory cell array 13. Can understand that it is not.

【0123】また、アドレス1Cが供給される場合、予
備メモリセルアレイ13のロウr0には高電位が供給さ
れるため、アドレスビット部21からはデ−タ“00”
が出力される。このアドレスビットデ−タ“00”は、
ビットデ−タ読み出し回路22により、LSIチップ外
部に出力される。
When the address 1C is supplied, a high potential is supplied to the row r0 of the spare memory cell array 13, so that the data "00" is supplied from the address bit section 21.
Is output. This address bit data "00" is
The data is output to the outside of the LSI chip by the bit data read circuit 22.

【0124】つまり、このアドレスビットデ−タ“0
0”をLSIチップ外部のテスタで認識することによ
り、正規メモリセルアレイ11の不良のロウが予備メモ
リセルアレイ13のいずれのロウに切り換えられたのか
を把握することができる。
That is, the address bit data "0"
By recognizing “0” by a tester outside the LSI chip, it is possible to know which row of the spare memory cell array 13 has been replaced with the defective row of the normal memory cell array 11.

【0125】図4は、本発明の第2実施の形態に関わる
半導体メモリを示すものである。
FIG. 4 shows a semiconductor memory according to the second embodiment of the present invention.

【0126】この半導体メモリは、128のアドレス
(00〜7F)、即ち32のロウアドレス(R0〜R3
1)と4つのカラムアドレス(C0〜C3)を有し、1
つのアドレスには8ビットのデ−タが対応している10
24ビットの正規メモリセルアレイ11を有しているも
のとする。
This semiconductor memory has 128 addresses (00 to 7F), that is, 32 row addresses (R0 to R3).
1) and four column addresses (C0 to C3),
One address corresponds to 8-bit data.
It is assumed that the normal memory cell array 11 of 24 bits is provided.

【0127】また、予備メモリセルアレイ23は、正規
メモリセルアレイ11のロウ方向(ワ−ド線が延在する
方向)の端部に配置されているものとする。
The spare memory cell array 23 is arranged at the end of the normal memory cell array 11 in the row direction (the direction in which the word line extends).

【0128】なお、半導体メモリは、DRAM、SRA
Mなどの揮発性半導体メモリであってもよく、マスクR
OM、EPROM、EEPROMなどの不揮発性半導体
メモリであってもよい。
The semiconductor memory is a DRAM, SRA
M or a volatile semiconductor memory such as a mask R
A nonvolatile semiconductor memory such as an OM, an EPROM, and an EEPROM may be used.

【0129】正規メモリセルアレイ11のロウ方向(ワ
−ド線R0〜R31が延在する方向)の2つの端部のう
ちの1つには、ロウデコ−ダ12が配置されている。ロ
ウデコ−ダ12は、ロウアドレス信号に基づいて1つの
ロウを選択し、この選択されたロウに高電位を供給す
る。
A row decoder 12 is arranged at one of the two ends of the normal memory cell array 11 in the row direction (the direction in which the word lines R0 to R31 extend). The row decoder 12 selects one row based on a row address signal, and supplies a high potential to the selected row.

【0130】正規メモリセルアレイ11のロウ方向の2
つの端部のうちの他の1つには、予備メモリセルアレイ
23が配置されている。
2 in the row direction of the normal memory cell array 11
A spare memory cell array 23 is arranged at the other one of the ends.

【0131】予備メモリセルアレイ23は、例えば、6
4のアドレス(00〜3F)、即ち32のロウアドレス
(R0〜R31)と2つのカラムアドレス(c0,c
1)を有し、1つのアドレスには8ビットのデ−タが対
応している512ビットから構成されているものとす
る。
The spare memory cell array 23 includes, for example, 6
4 addresses (00-3F), that is, 32 row addresses (R0-R31) and two column addresses (c0, c
1), and one address is composed of 512 bits corresponding to 8-bit data.

【0132】選択回路14a〜14fは、正規メモリセ
ルアレイ11及び予備メモリセルアレイ13の2つの端
部のうちの1つに配置されている。カラムデコ−ダ15
は、カラムアドレスに基づいて、選択回路14a〜14
dのうちの1つの選択回路、即ち1つのカラムを選択
し、この選択されたカラムのデ−タを読み出し回路16
に導く。
The selection circuits 14a to 14f are arranged at one of two ends of the normal memory cell array 11 and the spare memory cell array 13. Column decoder 15
Are selected based on the column address.
d, one of the selection circuits, that is, one column is selected, and the data of the selected column is read out by the read circuit 16.
Lead to.

【0133】アドレスレジスタ17は、当該半導体メモ
リが形成されるLSIチップの外部又は内部から供給さ
れるアドレス信号を、ロウアドレス信号とカラムアドレ
ス信号に分ける。
The address register 17 divides an address signal supplied from outside or inside the LSI chip on which the semiconductor memory is formed into a row address signal and a column address signal.

【0134】メモリセル切り換え回路18は、正規メモ
リセルアレイ11の不良のカラムアドレスを記憶してお
くための記憶部を有している。この記憶部は、例えば、
複数のフュ−ズにより構成され、カラムアドレスの記憶
は、この複数のヒュ−ズのうち所定のフュ−ズをレ−ザ
で切断することにより行われる。
The memory cell switching circuit 18 has a storage unit for storing a defective column address of the normal memory cell array 11. This storage unit, for example,
It is composed of a plurality of fuses, and the storage of the column address is performed by cutting a predetermined fuse out of the plurality of fuses with a laser.

【0135】メモリセル切り換え回路18の記憶部にカ
ラムアドレスが記憶されている場合において、アドレス
レジスタ17から出力されるカラムアドレスが、メモリ
セル切り換え回路18の記憶部のカラムアドレスに一致
すると、メモリセル切り換え回路18は、カラムデコ−
ダ15を不活性にする信号INH(inhibitio
n)を出力する。
When a column address is stored in the storage unit of the memory cell switching circuit 18 and the column address output from the address register 17 matches the column address of the storage unit of the memory cell switching circuit 18, The switching circuit 18 is a column deco
A signal INH (inhibitio) for inactivating the
n) is output.

【0136】同時に、メモリセル切り換え回路18は、
予備メモリセルアレイ23の1つのカラム、即ち選択回
路14e,14fのうちの1つを選択し、この選択され
たカラムのデ−タを読み出し回路16に導く。これによ
り、正規メモリセルアレイ11の不良のカラムが、予備
メモリセルアレイ23の所定のカラムに切り換えられる
ことになる。
At the same time, the memory cell switching circuit 18
One column of the spare memory cell array 23, that is, one of the selection circuits 14e and 14f is selected, and the data of the selected column is led to the read circuit 16. As a result, the defective column of the normal memory cell array 11 is switched to a predetermined column of the spare memory cell array 23.

【0137】正規メモリセルアレイ11の選択回路14
a〜14dに対応して、認識ビット部19が配置されて
いる。認識ビット部19は、正規メモリセルアレイ11
の1つのカラムC0〜C3に対応して1ビットのデ−タ
(“0”又は“1”)を記憶できる1つの記憶部を有し
ている。
Selection circuit 14 of normal memory cell array 11
Recognition bit units 19 are arranged corresponding to a to 14d. The recognition bit section 19 is provided for the normal memory cell array 11.
Has one storage unit capable of storing 1-bit data ("0" or "1") corresponding to one column C0 to C3.

【0138】各記憶部には、例えば、デ−タ“0”が記
憶される。そして、正規メモリセルアレイ11の所定の
カラムC0〜C3が選択されると、その所定のカラムに
対応する記憶部からデ−タ“0”が出力される。
For example, data “0” is stored in each storage unit. When a predetermined column C0 to C3 of the normal memory cell array 11 is selected, data "0" is output from the storage unit corresponding to the predetermined column.

【0139】この記憶部は、MOSトランジスタや不揮
発性半導体メモリなどから構成することができる。
This storage section can be composed of a MOS transistor, a nonvolatile semiconductor memory or the like.

【0140】予備メモリセルアレイ23の選択回路14
e,14fに対応して、認識ビット部20が配置されて
いる。認識ビット部20は、予備メモリセルアレイ23
の1つのカラムc0,c1に対応して1ビットのデ−タ
(“0”又は“1”)を記憶できる1つの記憶部を有し
ている。
Selection circuit 14 of spare memory cell array 23
Recognition bit units 20 are arranged corresponding to e and 14f. The recognition bit section 20 includes a spare memory cell array 23
One column c0, c1 has one storage unit capable of storing 1-bit data ("0" or "1").

【0141】各記憶部には、例えば、デ−タ“1”(認
識ビット部19の記憶部のデ−タと逆のデ−タ)が記憶
される。そして、予備メモリセルアレイ23の所定のカ
ラムc0,c1が選択されると、その所定のカラムに対
応する記憶部からデ−タ“1”が出力される。
For example, data "1" (data opposite to the data in the storage unit of the recognition bit unit 19) is stored in each storage unit. When a predetermined column c0, c1 of the spare memory cell array 23 is selected, data "1" is output from the storage section corresponding to the predetermined column.

【0142】この記憶部は、MOSトランジスタや不揮
発性半導体メモリなどから構成することができる。
This storage section can be composed of a MOS transistor, a nonvolatile semiconductor memory, or the like.

【0143】認識ビット部19,20から読み出される
デ−タは、ビットデ−タ読み出し回路22によって、本
発明の半導体メモリが形成されるLSIチップの外部へ
出力される。
The data read from the recognition bit units 19 and 20 are output by a bit data read circuit 22 to the outside of the LSI chip on which the semiconductor memory of the present invention is formed.

【0144】予備メモリセルアレイ23の選択回路14
e,14fに対応して、アドレスビット部21が配置さ
れている。アドレスビット部21は、予備メモリセルア
レイ23の1つのカラムc0,c1に対応して1ビット
のデ−タ(“0”又は“1”)を記憶できる1つの記憶
部を有している。
Selection circuit 14 of spare memory cell array 23
Address bit portions 21 are arranged corresponding to e and 14f. The address bit unit 21 has one storage unit that can store 1-bit data (“0” or “1”) corresponding to one column c0, c1 of the spare memory cell array 23.

【0145】なお、予備メモリセルアレイのカラムの数
を2n とした場合、アドレスビット部21の記憶部のビ
ット数は、nとなる。
When the number of columns in the spare memory cell array is 2 n , the number of bits in the storage section of the address bit section 21 is n.

【0146】各記憶部には、それぞれ異なるデ−タが記
憶される。そして、予備メモリセルアレイ23の所定の
カラムc0,c1が選択されると、その所定のカラムに
対応する記憶部からそのカラムに対応した所定のデ−タ
“0”又は“1”が出力される。
Each storage unit stores different data. When a predetermined column c0, c1 of the spare memory cell array 23 is selected, predetermined data "0" or "1" corresponding to the column is output from the storage unit corresponding to the predetermined column. .

【0147】この記憶部は、MOSトランジスタや不揮
発性半導体メモリなどから構成することができる。
This storage section can be composed of a MOS transistor, a nonvolatile semiconductor memory or the like.

【0148】アドレスビット部21から読み出されるデ
−タは、ビットデ−タ読み出し回路22によって、本発
明の半導体メモリが形成されるLSIチップの外部へ出
力される。
Data read from the address bit section 21 is output by a bit data read circuit 22 to the outside of the LSI chip on which the semiconductor memory of the present invention is formed.

【0149】図5は、図4の認識ビット部19,20、
アドレスビット部21及びビットデ−タ読み出し回路2
2の構成の一例を示すものである。
FIG. 5 shows the recognition bit units 19 and 20 of FIG.
Address bit section 21 and bit data read circuit 2
2 shows an example of the configuration of FIG.

【0150】認識ビット部19は、ソ−スが電源端子3
1に接続される4個のNチャネル型MOSトランジスタ
TC0〜TC3から構成されている。電源端子31に
は、高電位VDDが印加されている。各MOSトランジ
スタTC0〜TC3のゲ−トは、正規メモリセルアレイ
11の所定のカラムを選択するカラム選択線C0〜C3
に接続されている。MOSトランジスタTC0〜TC3
のドレインは、ビットデ−タ読み出し回路22のインバ
−タI0に接続されている。
The source of the recognition bit section 19 is the power supply terminal 3.
It is composed of four N-channel type MOS transistors TC0 to TC3 connected to 1. The high potential VDD is applied to the power supply terminal 31. The gates of the MOS transistors TC0 to TC3 are connected to column selection lines C0 to C3 for selecting a predetermined column of the normal memory cell array 11.
It is connected to the. MOS transistors TC0 to TC3
Is connected to the inverter I0 of the bit data read circuit 22.

【0151】認識ビット部20は、ソ−スが電源端子3
2に接続される2個のNチャネル型MOSトランジスタ
QC0,QC1から構成されている。電源端子32に
は、低電位VSSが印加されている。各MOSトランジ
スタQC0,QC1のゲ−トは、予備メモリセルアレイ
23の所定のカラムを選択するカラム選択線c0,c1
に接続されている。MOSトランジスタQC0,QC1
のドレインは、ビットデ−タ読み出し回路22のインバ
−タI0に接続されている。
The source of the recognition bit section 20 is the power supply terminal 3.
2 is composed of two N-channel type MOS transistors QC0 and QC1. The low potential VSS is applied to the power supply terminal 32. The gates of the MOS transistors QC0 and QC1 are connected to column selection lines c0 and c1 for selecting a predetermined column of the spare memory cell array 23.
It is connected to the. MOS transistors QC0, QC1
Is connected to the inverter I0 of the bit data read circuit 22.

【0152】アドレスビット部21は、ソ−スが電源端
子31に接続されるNチャネル型MOSトランジスタQ
C00と、ソ−スが電源端子32に接続されるNチャネ
ル型MOSトランジスタQC11とから構成されてい
る。
The address bit portion 21 includes an N-channel MOS transistor Q having a source connected to the power supply terminal 31.
C00 and an N-channel MOS transistor QC11 whose source is connected to the power supply terminal 32.

【0153】MOSトランジスタQC00のゲ−トは、
予備メモリセルアレイ23のカラムc0を選択するカラ
ム選択線c0に接続され、MOSトランジスタQC11
のゲ−トは、予備メモリセルアレイ23のカラムc1を
選択するカラム選択線c1に接続されている。
The gate of the MOS transistor QC00 is
The MOS transistor QC11 is connected to a column selection line c0 for selecting the column c0 of the spare memory cell array 23.
Are connected to a column selection line c1 for selecting a column c1 of the spare memory cell array 23.

【0154】MOSトランジスタQ00,Q11のドレ
インは、ビットデ−タ読み出し回路22のインバ−タI
1に接続されている。
The drains of the MOS transistors Q00 and Q11 are connected to the inverter I of the bit data read circuit 22.
1 connected.

【0155】図6は、図5の認識ビット部19,20、
アドレスビット部21及びビットデ−タ読み出し回路2
2の構成の他の一例を示すものである。
FIG. 6 shows the recognition bit units 19 and 20 of FIG.
Address bit section 21 and bit data read circuit 2
13 shows another example of the configuration of FIG.

【0156】この実施の形態は、ビットデ−タ読み出し
回路22のインバ−タI0,I1の入力端と電源端子3
1の間にそれぞれ抵抗RE0,RE1を設けることによ
り、図5のNチャネル型MOSトランジスタのうち、ソ
−スが電源端子31に接続されるものを省略したもので
ある。
In this embodiment, the input terminals of the inverters I0 and I1 of the bit data read circuit 22 and the power supply terminal 3
By arranging the resistors RE0 and RE1 between the power supply terminals 1, the N-channel MOS transistors of FIG. 5 whose source is connected to the power supply terminal 31 are omitted.

【0157】この場合、認識ビット部19は、ビットデ
−タ読み出し回路22のインバ−タI0の入力端と電源
端子31の間に接続される抵抗RE0から構成される。
In this case, the recognition bit section 19 comprises a resistor RE0 connected between the input terminal of the inverter I0 of the bit data read circuit 22 and the power supply terminal 31.

【0158】また、アドレスビット部21は、ビットデ
−タ読み出し回路22のインバ−タI1の入力端と電源
端子31の間に接続される抵抗RE1と、ソ−スが電源
端子32に接続されるNチャネル型MOSトランジスタ
QC11とから構成され、ソ−スが電源端子31に接続
されるNチャネル型MOSトランジスタが省略される。
The address bit section 21 has a resistor RE1 connected between the input terminal of the inverter I1 of the bit data read circuit 22 and the power supply terminal 31, and a source connected to the power supply terminal 32. An N-channel MOS transistor composed of an N-channel MOS transistor QC11 and having a source connected to the power supply terminal 31 is omitted.

【0159】MOSトランジスタQC11のゲ−トは、
予備メモリセルアレイ23のカラムc1を選択するカラ
ム選択線c1に接続される。MOSトランジスタQC1
1のドレインは、ビットデ−タ読み出し回路22のイン
バ−タI1に接続される。
The gate of the MOS transistor QC11 is
It is connected to a column selection line c1 for selecting a column c1 of the spare memory cell array 23. MOS transistor QC1
The drain of 1 is connected to the inverter I1 of the bit data read circuit 22.

【0160】認識ビット部20の構成は、図5の場合と
何ら変わらない。
The configuration of the recognition bit unit 20 is not different from that of FIG.

【0161】即ち、認識ビット部20は、ソ−スが電源
端子32に接続される2個のNチャネル型MOSトラン
ジスタQC0,QC1から構成されている。電源端子3
2には、低電位VSSが印加されている。
That is, the recognition bit section 20 is composed of two N-channel MOS transistors QC0 and QC1 whose sources are connected to the power supply terminal 32. Power terminal 3
2, a low potential VSS is applied.

【0162】各MOSトランジスタQC0,QC1のゲ
−トは、予備メモリセルアレイ23の所定の1本のカラ
ムを選択するカラム選択線c0,c1に接続されてい
る。MOSトランジスタQC0,QC1のドレインは、
ビットデ−タ読み出し回路22のインバ−タI0に接続
されている。
The gates of the MOS transistors QC0 and QC1 are connected to column selection lines c0 and c1 for selecting one predetermined column of the spare memory cell array 23. The drains of the MOS transistors QC0 and QC1
It is connected to the inverter I0 of the bit data read circuit 22.

【0163】認識ビット部20の全てのMOSトランジ
スタがオフ状態のとき、インバ−タI0には、高電位が
入力されるため、インバ−タI0は、認識ビットデ−タ
“0”を出力する。認識ビット部20の少なくとも1つ
のMOSトランジスタがオン状態のとき、インバ−タI
0には、低電位が入力されるため、インバ−タI0は、
認識ビットデ−タ“1”を出力する。
When all the MOS transistors of the recognition bit section 20 are off, a high potential is input to the inverter I0, and the inverter I0 outputs recognition bit data "0". When at least one MOS transistor of the recognition bit unit 20 is on, the inverter I
Since a low potential is input to 0, the inverter I0 is
The recognition bit data "1" is output.

【0164】同様に、例えば、アドレスビット部21の
MOSトランジスタQC11がオフ状態のとき(カラム
c0が選択されたとき)、インバ−タI1には、高電位
が入力されるため、インバ−タI1は、アドレスビット
デ−タ“0”を出力する。
Similarly, for example, when the MOS transistor QC11 of the address bit section 21 is off (when the column c0 is selected), a high potential is input to the inverter I1. Outputs address bit data "0".

【0165】上記リダンダンシ回路(予備メモリセルア
レイ23及びメモリセル切り換え回路18の部分とす
る)を備えた半導体メモリにおいて、当該半導体メモリ
の動作テスト終了後、正規メモリセルアレイ11に不良
のカラムが存在している場合には、メモリセル切り換え
回路18の記憶部には、その不良のカラムのアドレスが
記憶される。
In the semiconductor memory provided with the redundancy circuit (part of the spare memory cell array 23 and the memory cell switching circuit 18), after the operation test of the semiconductor memory is completed, a defective column exists in the normal memory cell array 11. If there is, the storage section of the memory cell switching circuit 18 stores the address of the defective column.

【0166】また、不良のカラムアドレスを記憶した
後、製品の出荷前には、正規メモリセルアレイ11の不
良のカラムが、予備メモリセルアレイ23の所定のカラ
ムにきちんと切り換えられたか否かを検査する出荷テス
トが実施される。
After storing the defective column address, before shipment of the product, the shipment for checking whether the defective column of the normal memory cell array 11 has been properly switched to the predetermined column of the spare memory cell array 23 or not. A test is performed.

【0167】この出荷テストは、以下のようにして実施
されている。
The shipping test is performed as follows.

【0168】なお、前提条件としては、表2に示すよう
に、正規メモリセルアレイ11のアドレス01,05,
09,…7Dのカラムのメモリセルに不良が存在し、こ
のカラムのメモリセルを予備メモリセルアレイのアドレ
ス00,02,03,…3Eのカラムのメモリセルに切
り換えるものとする。
As a precondition, as shown in Table 2, addresses 01, 05,
It is assumed that there is a defect in the memory cells in the columns 09,... 7D, and the memory cells in this column are switched to the memory cells in the columns of addresses 00, 02, 03,.

【0169】即ち、メモリセル切り換え回路18の記憶
部には、不良のカラムアドレス01,05,09,…7
Dが記憶されているものとする。
That is, in the storage section of the memory cell switching circuit 18, defective column addresses 01, 05, 09,...
It is assumed that D is stored.

【0170】[0170]

【表2】 [Table 2]

【0171】まず、例えば、アドレス00が供給される
と、カラムデコ−ダ15は、正規メモリセルアレイ11
のカラムC0を選択し、カラム選択線C0に高電位を供
給する。正規メモリセルアレイ11のカラム選択線C0
に高電位が供給されると、認識ビット部19からはデ−
タ“0”(注意:高電位VDD)が出力されるため、ビ
ットデ−タ読み出し回路22は、認識ビットデ−タ
“0”(低電位VSS)を出力する。
First, for example, when the address 00 is supplied, the column decoder 15 starts the normal memory cell array 11
And a high potential is supplied to the column selection line C0. Column select line C0 of normal memory cell array 11
Is supplied with a high potential, the recognition bit unit 19 outputs data.
Since the data "0" (attention: high potential VDD) is output, the bit data read circuit 22 outputs the recognition bit data "0" (low potential VSS).

【0172】即ち、この認識ビットデ−タ“0”をLS
Iチップ外部のテスタで認識することにより、正規メモ
リセルアレイ11の所定のカラムが選択されたことを把
握することができる。
That is, this recognition bit data "0" is
By recognizing with a tester outside the I chip, it is possible to know that a predetermined column of the normal memory cell array 11 has been selected.

【0173】次に、例えば、アドレス01が供給される
と、メモリセル切り換え回路18は、カラムデコ−ダ1
5を非活性化し、予備メモリセルアレイ23のカラムc
0を選択し、このカラムのカラム選択線c0に高電位を
供給する。予備メモリセルアレイ23のカラム選択線c
0に高電位が供給されると、認識ビット部20からはデ
−タ“1”(注意:低電位VSS)が出力されるため、
ビットデ−タ読み出し回路22は、認識ビットデ−タ
“1”(高電位VDD)を出力する。
Next, for example, when the address 01 is supplied, the memory cell switching circuit 18 makes the column decoder 1
5 is deactivated, and the column c of the spare memory cell array 23 is deactivated.
0 is selected, and a high potential is supplied to the column selection line c0 of this column. Column select line c of spare memory cell array 23
When a high potential is supplied to 0, data "1" (attention: low potential VSS) is output from the recognition bit unit 20.
The bit data read circuit 22 outputs recognition bit data "1" (high potential VDD).

【0174】即ち、この認識ビットデ−タ“1”をLS
Iチップ外部のテスタで認識することにより、正規メモ
リセルアレイ11の不良のカラムが予備メモリセルアレ
イ23の所定のカラムにきちんと切り換えられているこ
とが把握できる。
That is, this recognition bit data "1" is
By recognizing with a tester outside the I chip, it can be understood that a defective column of the normal memory cell array 11 is properly switched to a predetermined column of the spare memory cell array 23.

【0175】もし、この際に、ビットデ−タ読み出し回
路22が認識ビットデ−タ“0”を出力するときは、正
規メモリセルアレイ11の不良のカラムが予備メモリセ
ルアレイ23の所定のカラムにきちんと切り換えられて
いないことを把握することができる。
At this time, if the bit data read circuit 22 outputs the recognized bit data "0", the defective column of the normal memory cell array 11 is properly switched to the predetermined column of the spare memory cell array 23. Can understand that it is not.

【0176】また、アドレス01が供給される場合、予
備メモリセルアレイ23のカラム選択線c0には高電位
が供給されるため、アドレスビット部21からはデ−タ
“0”(注意:高電位VDD)が出力される。ビットデ
−タ読み出し回路22は、アドレスビットデ−タ“0”
(低電位VSS)をLSIチップ外部に出力する。
When the address 01 is supplied, since a high potential is supplied to the column selection line c0 of the spare memory cell array 23, data "0" is output from the address bit portion 21 (note: high potential VDD). ) Is output. The bit data read circuit 22 outputs the address bit data "0".
(Low potential VSS) is output outside the LSI chip.

【0177】つまり、このアドレスビットデ−タ“0”
をLSIチップ外部のテスタで認識することにより、正
規メモリセルアレイ11の不良のカラムが予備メモリセ
ルアレイ23のいずれのカラムに切り換えられたのかを
把握することができる。
That is, this address bit data "0"
Is recognized by a tester outside the LSI chip, it is possible to know which column of the spare memory cell array 23 the defective column of the normal memory cell array 11 has been switched to.

【0178】[0178]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明の半導体
メモリによれば、次のような効果を奏する。
As described above, according to the semiconductor memory of the present invention, the following effects can be obtained.

【0179】ロウ方向(ワ−ド線が延在する方向)のメ
モリセルの救済を行リダンダンシ回路を備える場合、正
規メモリセルアレイの所定のロウが選択されたことを示
す認識ビット部と、予備メモリセルアレイの所定のロウ
が選択されたことを示す認識ビット部をそれぞれ設け、
さらに、これら認識ビット部から出力されるデ−タを出
力する読み出し回路を設けている。
When a row redundancy circuit is provided for repairing memory cells in the row direction (the direction in which word lines extend), a recognition bit portion indicating that a predetermined row of the normal memory cell array has been selected, and a spare memory Providing a recognition bit portion indicating that a predetermined row of the cell array is selected,
Further, there is provided a reading circuit for outputting data output from these recognition bit portions.

【0180】従って、リダンダンシ回路によりメモリセ
ルの救済を実行した後、出荷テスト時において、通常の
動作テストを行うことにより、正規メモリセルアレイの
不良のロウがきちんと予備メモリセルアレイの所定のロ
ウに切り換わっているか否かを容易に検査することがで
きる。
Therefore, after performing the repair of the memory cell by the redundancy circuit, the normal operation test is performed at the time of the shipping test, whereby the defective row of the normal memory cell array is properly switched to the predetermined row of the spare memory cell array. Can be easily inspected.

【0181】また、予備メモリセルアレイの所定のロウ
が選択される場合において、予備メモリセルアレイのロ
ウ毎に、そのロウ特有のアドレスを出力するアドレスビ
ット部を設けている。
When a predetermined row of the spare memory cell array is selected, an address bit portion for outputting an address specific to the row is provided for each row of the spare memory cell array.

【0182】従って、予備メモリセルアレイの所定のロ
ウが選択される場合に、いずれのロウが選択されたかを
容易に把握することができる。
Therefore, when a predetermined row of the spare memory cell array is selected, it is possible to easily know which row has been selected.

【0183】カラム方向(デ−タ線が延在する方向)の
メモリセルの救済を行リダンダンシ回路を備える場合に
おいても、正規メモリセルアレイの所定のカラムが選択
されたことを示す認識ビット部と、予備メモリセルアレ
イの所定のカラムが選択されたことを示す認識ビット部
をそれぞれ設け、さらに、これら認識ビット部から出力
されるデ−タを出力する読み出し回路を設けている。
Even when a row redundancy circuit is provided for repairing memory cells in the column direction (the direction in which the data lines extend), a recognition bit portion indicating that a predetermined column of the normal memory cell array has been selected, Recognition bit sections each indicating that a predetermined column of the spare memory cell array has been selected are provided, and a readout circuit for outputting data output from these recognition bit sections is provided.

【0184】従って、リダンダンシ回路によりメモリセ
ルの救済を実行した後、出荷テスト時において、通常の
動作テストを行うことにより、正規メモリセルアレイの
不良のカラムがきちんと予備メモリセルアレイの所定の
カラムに切り換わっているか否かを容易に検査すること
ができる。
Therefore, after performing the repair of the memory cells by the redundancy circuit, the normal operation test is performed at the time of the shipping test, whereby the defective column of the normal memory cell array is properly switched to the predetermined column of the spare memory cell array. Can be easily inspected.

【0185】また、予備メモリセルアレイの所定のカラ
ムが選択される場合において、予備メモリセルアレイの
カラム毎に、そのカラム特有のアドレスを出力するアド
レスビット部を設けている。
When a predetermined column of the spare memory cell array is selected, an address bit section for outputting an address unique to the column is provided for each column of the spare memory cell array.

【0186】従って、予備メモリセルアレイの所定のカ
ラムが選択される場合に、いずれのカラムが選択された
かを容易に把握することができる。
Therefore, when a predetermined column of the spare memory cell array is selected, it can be easily grasped which column has been selected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施の形態に関わる半導体メモリ
を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a semiconductor memory according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の認識ビット部、アドレスビット部、読み
出し回路の構成を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a recognition bit section, an address bit section, and a read circuit of FIG. 1;

【図3】図1の認識ビット部、アドレスビット部、読み
出し回路の構成を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a recognition bit unit, an address bit unit, and a read circuit of FIG. 1;

【図4】本発明の第2実施の形態に関わる半導体メモリ
を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a semiconductor memory according to a second embodiment of the present invention.

【図5】図4の認識ビット部、アドレスビット部、読み
出し回路の構成を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a recognition bit unit, an address bit unit, and a read circuit of FIG. 4;

【図6】図4の認識ビット部、アドレスビット部、読み
出し回路の構成を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a recognition bit unit, an address bit unit, and a read circuit of FIG. 4;

【図7】従来の半導体メモリを示す図。FIG. 7 is a diagram showing a conventional semiconductor memory.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 :正規メモリセルアレイ、 12 :ロウデコ−ダ、 13,23 :予備メモリセルアレイ、 14a〜14f :選択回路、 15 :カラムデコ−ダ、 16 :読み出し回路、 17 :アドレスレジスタ、 18 :メモリセル切り換え回
路、 19,20 :認識ビット部、 21 :アドレスビット部、 22 :ビットデ−タ読み出し回
路、 31,32 :電源端子、 T0〜T31,Q0〜Q3,Q00,Q01,Q10,
Q11,Q20,Q21,Q30,Q31,TC0〜T
C3,QC0,QC1,QC00,QC11:Nチャネ
ル型MOSトランジスタ、 I0〜I2 :インバ−タ、 RE0〜RE2 :抵抗、 R0〜R31,r0〜r3 :ロウ(ワ−ド線)、 C0〜C3,c0,c1 :カラム(カラム選択
線)。
11: normal memory cell array, 12: row decoder, 13, 23: spare memory cell array, 14a to 14f: selection circuit, 15: column decoder, 16: read circuit, 17: address register, 18: memory cell switching circuit, 19, 20: recognition bit portion, 21: address bit portion, 22: bit data read circuit, 31, 32: power supply terminal, T0 to T31, Q0 to Q3, Q00, Q01, Q10,
Q11, Q20, Q21, Q30, Q31, TC0-T
C3, QC0, QC1, QC00, QC11: N-channel MOS transistors, I0 to I2: inverters, RE0 to RE2: resistors, R0 to R31, r0 to r3: rows (word lines), C0 to C3 c0, c1: columns (column selection lines).

Claims (25)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 正規メモリセルアレイと、前記正規メモ
リセルアレイに付加的に設けられる予備メモリセルアレ
イと、アドレス信号が前記正規メモリセルアレイの不良
アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセルアレイ
の不良アドレスに代えて前記予備メモリセルアレイの所
定アドレスを指定するメモリセル切り換え回路と、前記
正規メモリセルアレイの所定アドレスが実際にアクセス
される場合に、前記正規メモリセルアレイの所定アドレ
スがアクセスされたことを示す第1認識ビットデ−タを
出力し、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスが実
際にアクセスされる場合に、前記予備メモリセルアレイ
の所定アドレスがアクセスされたことを示す第2認識ビ
ットデ−タを出力する認識ビット部と、前記認識ビット
部から出力される前記第1又は第2認識ビットデ−タを
読み出すビットデ−タ読み出し回路とを具備することを
特徴とする半導体メモリ。
1. A normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and a substitute for a defective address of the normal memory cell array when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for specifying a predetermined address of the spare memory cell array, and a first recognition indicating that the predetermined address of the normal memory cell array has been accessed when the predetermined address of the normal memory cell array is actually accessed. A recognition bit section for outputting bit data and outputting second recognition bit data indicating that a predetermined address of the spare memory cell array has been accessed when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed; Before output from the recognition bit portion A bit data reading circuit for reading the first or second recognition bit data.
【請求項2】 正規メモリセルアレイと、前記正規メモ
リセルアレイに付加的に設けられる予備メモリセルアレ
イと、アドレス信号が前記正規メモリセルアレイの不良
アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセルアレイ
の不良アドレスに代えて前記予備メモリセルアレイの所
定アドレスを指定するメモリセル切り換え回路と、前記
予備メモリセルアレイの所定アドレスが実際にアクセス
される場合に、前記予備メモリセルアレイの所定アドレ
スを示すアドレスビットデ−タを出力するアドレスビッ
ト部と、前記アドレスビット部から出力される前記アド
レスビットデ−タを読み出すビットデ−タ読み出し回路
とを具備することを特徴とする半導体メモリ。
2. A normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and a substitute for a defective address of the normal memory cell array when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array, and outputting address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array when the predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. A semiconductor memory comprising: an address bit portion; and a bit data read circuit for reading the address bit data output from the address bit portion.
【請求項3】 正規メモリセルアレイと、前記正規メモ
リセルアレイに付加的に設けられる予備メモリセルアレ
イと、アドレス信号が前記正規メモリセルアレイの不良
アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセルアレイ
の不良アドレスに代えて前記予備メモリセルアレイの所
定アドレスを指定するメモリセル切り換え回路と、前記
正規メモリセルアレイの所定アドレスが実際にアクセス
される場合に、前記正規メモリセルアレイの所定アドレ
スがアクセスされたことを示す第1認識ビットデ−タを
出力し、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスが実
際にアクセスされる場合に、前記予備メモリセルアレイ
の所定アドレスがアクセスされたことを示す第2認識ビ
ットデ−タを出力する認識ビット部と、前記予備メモリ
セルアレイの所定アドレスが実際にアクセスされる場合
に、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスを示すア
ドレスビットデ−タを出力するアドレスビット部と、前
記認識ビット部から出力される前記第1又は第2認識ビ
ットデ−タ及び前記アドレスビット部から出力される前
記アドレスビットデ−タをそれぞれ読み出すビットデ−
タ読み出し回路とを具備することを特徴とする半導体メ
モリ。
3. A normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and a replacement of the normal memory cell array with a defective address when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for specifying a predetermined address of the spare memory cell array, and a first recognition indicating that the predetermined address of the normal memory cell array has been accessed when the predetermined address of the normal memory cell array is actually accessed. A recognition bit section for outputting bit data and outputting second recognition bit data indicating that a predetermined address of the spare memory cell array has been accessed when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed; A predetermined address of the spare memory cell array. An address bit section for outputting address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array when the address is actually accessed; and the first or second recognition bit data output from the recognition bit section. And bit data for reading the address bit data output from the address bit portion.
A semiconductor memory comprising a data read circuit.
【請求項4】 前記予備メモリセルアレイは、前記正規
メモリセルアレイのカラム方向の2つの端部のうちの1
つに配置され、前記認識ビット部は、前記正規メモリセ
ルアレイ及び前記予備メモリセルアレイのロウ方向の2
つの端部のうちの1つに配置されていることを特徴とす
る請求項1又は3記載の半導体メモリ。
4. The spare memory cell array includes one of two ends in a column direction of the normal memory cell array.
And the recognition bit portion is provided in the row direction of the normal memory cell array and the spare memory cell array.
4. The semiconductor memory according to claim 1, wherein the semiconductor memory is arranged at one of the two ends.
【請求項5】 前記認識ビット部は、前記第1認識ビッ
トデ−タを記憶する第1記憶部と、前記第2認識ビット
デ−タを記憶する第2記憶部とを有し、 前記正規メモリセルアレイの所定のロウが実際にアクセ
スされる場合に、前記第1記憶部から前記第1認識ビッ
トデ−タが出力され、 前記予備メモリセルアレイの所定のロウが実際にアクセ
スされる場合に、前記第2記憶部から前記第2認識ビッ
トデ−タが出力されることを特徴とする請求項4記載の
半導体メモリ。
5. The normal memory cell array, wherein the recognition bit unit has a first storage unit for storing the first recognition bit data and a second storage unit for storing the second recognition bit data. When the predetermined row is actually accessed, the first recognition bit data is output from the first storage unit, and when the predetermined row of the spare memory cell array is actually accessed, the second recognition bit data is output. 5. The semiconductor memory according to claim 4, wherein said second recognition bit data is output from a storage unit.
【請求項6】 前記第1記憶部は、ソ−スが第1電源端
子に接続され、ゲ−トが前記正規メモリセルアレイの所
定のロウに接続され、ドレインが前記テストモ−ド読み
出し回路に接続される複数のMOSトランジスタから構
成され、 前記第2記憶部は、ソ−スが第2電源端子に接続され、
ゲ−トが前記予備メモリセルアレイの所定のロウに接続
され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し回路に接続
される複数のMOSトランジスタから構成されることを
特徴とする請求項5記載の半導体メモリ。
6. The first storage section has a source connected to a first power supply terminal, a gate connected to a predetermined row of the normal memory cell array, and a drain connected to the test mode read circuit. The second storage unit has a source connected to a second power supply terminal,
6. The semiconductor memory according to claim 5, wherein a gate is connected to a predetermined row of said spare memory cell array, and a drain comprises a plurality of MOS transistors connected to said bit data read circuit.
【請求項7】 前記第1記憶部は、前記テストモ−ド読
み出し回路と第1電源端子との間に接続される抵抗から
構成され、 前記第2記憶部は、ソ−スが第2電源端子に接続され、
ゲ−トが前記予備メモリセルアレイの所定のロウに接続
され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し回路に接続
される複数のMOSトランジスタから構成されることを
特徴とする請求項5記載の半導体メモリ。
7. The first storage section comprises a resistor connected between the test mode readout circuit and a first power supply terminal. The second storage section has a source connected to a second power supply terminal. Connected to
6. The semiconductor memory according to claim 5, wherein a gate is connected to a predetermined row of said spare memory cell array, and a drain comprises a plurality of MOS transistors connected to said bit data read circuit.
【請求項8】 前記予備メモリセルアレイは、前記正規
メモリセルアレイのカラム方向の2つの端部のうちの1
つに配置され、前記アドレスビット部は、前記予備メモ
リセルアレイのロウ方向の2つの端部のうちの1つに配
置されていることを特徴とする請求項2又は3記載の半
導体メモリ。
8. The spare memory cell array includes one of two ends in a column direction of the normal memory cell array.
4. The semiconductor memory according to claim 2, wherein the address bit portion is disposed at one of two ends in a row direction of the spare memory cell array. 5.
【請求項9】 前記アドレスビット部は、前記予備メモ
リセルアレイの各ロウのアドレスを示すアドレスビット
デ−タを記憶する記憶部を有し、 前記予備メモリセルアレイの所定のロウが実際にアクセ
スされる場合に、前記記憶部から当該所定のロウに対応
するアドレスを示すアドレスビットデ−タが出力される
ことを特徴とする請求項8記載の半導体メモリ。
9. The address bit section has a storage section for storing address bit data indicating an address of each row of the spare memory cell array, and a predetermined row of the spare memory cell array is actually accessed. 9. The semiconductor memory according to claim 8, wherein in the case, address bit data indicating an address corresponding to the predetermined row is output from the storage unit.
【請求項10】 前記記憶部は、ソ−スが第1電源端子
又は第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記予備メモリ
セルアレイの所定のロウに接続され、ドレインが前記ビ
ットデ−タ読み出し回路に接続される複数のMOSトラ
ンジスタから構成されることを特徴とする請求項9記載
の半導体メモリ。
10. The storage section has a source connected to a first power supply terminal or a second power supply terminal, a gate connected to a predetermined row of the spare memory cell array, and a drain connected to the bit data readout. 10. The semiconductor memory according to claim 9, comprising a plurality of MOS transistors connected to a circuit.
【請求項11】 前記記憶部は、前記テストモ−ド読み
出し回路と第1電源端子との間に接続される抵抗と、ソ
−スが第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記予備メモ
リセルアレイの所定のロウに接続され、ドレインが前記
ビットデ−タ読み出し回路に接続される複数のMOSト
ランジスタとから構成されることを特徴とする請求項9
記載の半導体メモリ。
11. The storage unit includes a resistor connected between the test mode readout circuit and a first power supply terminal, a source connected to a second power supply terminal, and a gate connected to the spare memory. 10. A plurality of MOS transistors connected to a predetermined row of the cell array and having a drain connected to the bit data read circuit.
The semiconductor memory according to any one of the preceding claims.
【請求項12】 前記予備メモリセルアレイは、前記正
規メモリセルアレイのロウ方向の2つの端部のうちの1
つに配置され、 さらに、前記正規メモリセルアレイのカラム方向の2つ
の端部のうちの1つに配置され、前記正規メモリセルア
レイのカラムを選択する第1選択回路と、前記予備メモ
リセルアレイのカラム方向の2つの端部のうちの1つに
配置され、前記予備メモリセルアレイのカラムを選択す
る第2選択回路とを備え、 前記認識ビット部は、前記第1及び第2選択回路に隣接
して配置されていることを特徴とする請求項1又は3記
載の半導体メモリ。
12. The spare memory cell array includes one of two ends of the normal memory cell array in a row direction.
A first selection circuit disposed at one of two ends of the normal memory cell array in the column direction for selecting a column of the normal memory cell array; And a second selection circuit for selecting a column of the spare memory cell array, wherein the recognition bit unit is disposed adjacent to the first and second selection circuits. The semiconductor memory according to claim 1, wherein:
【請求項13】 前記認識ビット部は、前記第1認識ビ
ットデ−タを記憶する第1記憶部と、前記第2認識ビッ
トデ−タを記憶する第2記憶部とを有し、 前記正規メモリセルアレイの所定のカラムが実際に選択
される場合に、前記第1記憶部から前記第1認識ビット
デ−タが出力され、 前記予備メモリセルアレイの所定のカラムが実際に選択
される場合に、前記第2記憶部から前記第2認識ビット
デ−タが出力されることを特徴とする請求項12記載の
半導体メモリ。
13. The normal memory cell array, wherein the recognition bit section has a first storage section for storing the first recognition bit data and a second storage section for storing the second recognition bit data. When the predetermined column is actually selected, the first recognition bit data is output from the first storage unit, and when the predetermined column of the spare memory cell array is actually selected, the second recognition bit data is output. 13. The semiconductor memory according to claim 12, wherein said second recognition bit data is output from a storage unit.
【請求項14】 前記第1記憶部は、ソ−スが第1電源
端子に接続され、ゲ−トが前記第1選択回路に接続さ
れ、ドレインが前記テストモ−ド読み出し回路に接続さ
れる複数のMOSトランジスタから構成され、 前記第2記憶部は、ソ−スが第2電源端子に接続され、
ゲ−トが前記第2選択回路に接続され、ドレインが前記
ビットデ−タ読み出し回路に接続される複数のMOSト
ランジスタから構成されることを特徴とする請求項13
記載の半導体メモリ。
14. The first storage section, wherein a source is connected to a first power supply terminal, a gate is connected to the first selection circuit, and a drain is connected to the test mode readout circuit. Wherein the second storage unit has a source connected to a second power supply terminal,
14. The gate of claim 13, wherein the gate is connected to the second selection circuit, and the drain is composed of a plurality of MOS transistors connected to the bit data read circuit.
The semiconductor memory according to any one of the preceding claims.
【請求項15】 前記第1記憶部は、前記ビットデ−タ
読み出し回路と第1電源端子との間に接続される抵抗か
ら構成され、 前記第2記憶部は、ソ−スが第2電源端子に接続され、
ゲ−トが前記第2選択回路に接続され、ドレインが前記
ビットデ−タ読み出し回路に接続される複数のMOSト
ランジスタから構成されることを特徴とする請求項13
記載の半導体メモリ。
15. The first storage section comprises a resistor connected between the bit data read circuit and a first power supply terminal. The second storage section has a source connected to a second power supply terminal. Connected to
14. The gate of claim 13, wherein the gate is connected to the second selection circuit, and the drain is composed of a plurality of MOS transistors connected to the bit data read circuit.
The semiconductor memory according to any one of the preceding claims.
【請求項16】 前記予備メモリセルアレイは、前記正
規メモリセルアレイのロウ方向の2つの端部のうちの1
つに配置され、 さらに、前記正規メモリセルアレイのカラム方向の2つ
の端部のうちの1つに配置され、前記正規メモリセルア
レイのカラムを選択する第1選択回路と、前記予備メモ
リセルアレイのカラム方向の2つの端部のうちの1つに
配置され、前記予備メモリセルアレイのカラムを選択す
る第2選択回路とを備え、 前記アドレスビット部は、前記第2選択回路に隣接して
配置されていることを特徴とする請求項2又は3記載の
半導体メモリ。
16. The spare memory cell array includes one of two ends of the normal memory cell array in a row direction.
A first selection circuit disposed at one of two ends of the normal memory cell array in the column direction for selecting a column of the normal memory cell array; And a second selection circuit for selecting a column of the spare memory cell array, wherein the address bit section is disposed adjacent to the second selection circuit. 4. The semiconductor memory according to claim 2, wherein:
【請求項17】 前記アドレスビット部は、前記予備メ
モリセルアレイの各カラムのアドレスを示すアドレスビ
ットデ−タを記憶する記憶部を有し、 前記予備メモリセルアレイの所定のカラムが実際にアク
セスされる場合に、前記記憶部から当該所定のカラムに
対応するアドレスを示すアドレスビットデ−タが出力さ
れることを特徴とする請求項16記載の半導体メモリ。
17. The address bit section has a storage section for storing address bit data indicating an address of each column of the spare memory cell array, and a predetermined column of the spare memory cell array is actually accessed. 17. The semiconductor memory according to claim 16, wherein in the case, address bit data indicating an address corresponding to the predetermined column is output from the storage unit.
【請求項18】 前記記憶部は、ソ−スが第1電源端子
又は第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記第2選択回
路に接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し回
路に接続される複数のMOSトランジスタから構成され
ることを特徴とする請求項17記載の半導体メモリ。
18. The storage section, wherein a source is connected to a first power supply terminal or a second power supply terminal, a gate is connected to the second selection circuit, and a drain is connected to the bit data read circuit. 18. The semiconductor memory according to claim 17, comprising a plurality of MOS transistors.
【請求項19】 前記記憶部は、前記ビットデ−タ読み
出し回路と第1電源端子との間に接続される抵抗と、ソ
−スが第2電源端子に接続され、ゲ−トが前記第2選択
回路に接続され、ドレインが前記ビットデ−タ読み出し
回路に接続される複数のMOSトランジスタとから構成
されることを特徴とする請求項17記載の半導体メモ
リ。
19. The storage section, wherein a resistor connected between the bit data read circuit and a first power supply terminal, a source is connected to a second power supply terminal, and a gate is connected to the second power supply terminal. 18. The semiconductor memory according to claim 17, further comprising a plurality of MOS transistors connected to the selection circuit and having a drain connected to the bit data read circuit.
【請求項20】 正規メモリセルアレイと、前記正規メ
モリセルアレイに付加的に設けられる予備メモリセルア
レイと、アドレス信号が前記正規メモリセルアレイの不
良アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセルアレ
イの不良アドレスに代えて前記予備メモリセルアレイの
所定アドレスを指定するメモリセル切り換え回路と、前
記正規メモリセルアレイの所定アドレスが実際にアクセ
スされる場合に、前記正規メモリセルアレイの所定アド
レスがアクセスされたことを示す第1認識ビットデ−タ
を出力し、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスが
実際にアクセスされる場合に、前記予備メモリセルアレ
イの所定アドレスがアクセスされたことを示す第2認識
ビットデ−タを出力する手段とを具備することを特徴と
する半導体メモリ。
20. A normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and, when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array, replacing the defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for specifying a predetermined address of the spare memory cell array, and a first recognition indicating that the predetermined address of the normal memory cell array has been accessed when the predetermined address of the normal memory cell array is actually accessed. Means for outputting bit data and outputting second recognition bit data indicating that a predetermined address of the spare memory cell array has been accessed when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. A semiconductor memory characterized in that:
【請求項21】 正規メモリセルアレイと、前記正規メ
モリセルアレイに付加的に設けられる予備メモリセルア
レイと、アドレス信号が前記正規メモリセルアレイの不
良アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセルアレ
イの不良アドレスに代えて前記予備メモリセルアレイの
所定アドレスを指定するメモリセル切り換え回路と、前
記予備メモリセルアレイの所定アドレスが実際にアクセ
スされる場合に、前記予備メモリセルアレイの所定アド
レスを示すアドレスビットデ−タを出力する手段とを具
備することを特徴とする半導体メモリ。
21. A normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and, when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array, replacing the defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for designating a predetermined address of the spare memory cell array, and outputting address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array when the predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed. Semiconductor memory comprising:
【請求項22】 正規メモリセルアレイと、前記正規メ
モリセルアレイに付加的に設けられる予備メモリセルア
レイと、アドレス信号が前記正規メモリセルアレイの不
良アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセルアレ
イの不良アドレスに代えて前記予備メモリセルアレイの
所定アドレスを指定するメモリセル切り換え回路と、前
記正規メモリセルアレイの所定アドレスが実際にアクセ
スされる場合に、前記正規メモリセルアレイの所定アド
レスがアクセスされたことを示す第1認識ビットデ−タ
を出力し、前記予備メモリセルアレイの所定アドレスが
実際にアクセスされる場合に、前記予備メモリセルアレ
イの所定アドレスがアクセスされたことを示す第2認識
ビットデ−タを出力する手段と、前記予備メモリセルア
レイの所定アドレスが実際にアクセスされる場合に、前
記予備メモリセルアレイの所定アドレスを示すアドレス
ビットデ−タを出力する手段とを具備することを特徴と
する半導体メモリ。
22. A normal memory cell array, a spare memory cell array additionally provided to the normal memory cell array, and, when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array, replacing the defective address of the normal memory cell array. A memory cell switching circuit for specifying a predetermined address of the spare memory cell array, and a first recognition indicating that the predetermined address of the normal memory cell array has been accessed when the predetermined address of the normal memory cell array is actually accessed. Means for outputting bit data and outputting second recognition bit data indicating that a predetermined address of the spare memory cell array has been accessed when a predetermined address of the spare memory cell array is actually accessed; Predetermined address of spare memory cell array Means for outputting address bit data indicating a predetermined address of the spare memory cell array when the memory cell is actually accessed.
【請求項23】 アドレス信号が正規メモリセルアレイ
の不良アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセル
アレイの不良アドレスに代えて予備メモリセルアレイの
所定アドレスを指定するリダンダンシイ回路を備える半
導体メモリのテスト方法において、 前記正規メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスさ
れる場合に第1認識ビットデ−タが出力され、前記予備
メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされる場合
に第2認識ビットデ−タが出力されるように設定し、 前記正規メモリセルアレイの不良アドレスを指定するア
ドレス信号を供給した場合に、 前記第1認識ビットデ−タが出力されるときは、前記正
規メモリセルアレイの不良アドレスが前記予備メモリセ
ルアレイの所定アドレスに正しく切り換えられていない
ものと判断し、 前記第2認識ビットデ−タが出力されるときは、前記正
規メモリセルアレイの不良アドレスが前記予備メモリセ
ルアレイの所定アドレスに正しく切り換えられたものと
判断することを特徴とする半導体メモリのテスト方法。
23. A method for testing a semiconductor memory comprising a redundancy circuit for designating a predetermined address of a spare memory cell array in place of the defective address of the normal memory cell array when the address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. The first recognition bit data is output when a predetermined address of the normal memory cell array is accessed, and the second recognition bit data is output when a predetermined address of the spare memory cell array is accessed. When the first recognition bit data is output when an address signal designating a defective address of the normal memory cell array is supplied, the defective address of the normal memory cell array is replaced with a predetermined address of the spare memory cell array. It is determined that the And a step of determining that the defective address of the normal memory cell array has been correctly switched to a predetermined address of the spare memory cell array when the second recognition bit data is output. Method.
【請求項24】 アドレス信号が正規メモリセルアレイ
の不良アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセル
アレイの不良アドレスに代えて予備メモリセルアレイの
所定アドレスを指定するリダンダンシイ回路を備える半
導体メモリのテスト方法において、 前記予備メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスさ
れる場合に、当該所定アドレスを示すアドレスビットデ
−タが出力されるように設定し、 前記正規メモリセルアレイの不良アドレスを指定するア
ドレス信号を供給した場合に、前記アドレスビットデ−
タを検出することにより、前記予備メモリセルアレイの
所定アドレスを認識することを特徴とする半導体メモリ
のテスト方法。
24. A method for testing a semiconductor memory comprising a redundancy circuit for designating a predetermined address of a spare memory cell array in place of a defective address of a normal memory cell array when an address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. When a predetermined address of the spare memory cell array is accessed, address bit data indicating the predetermined address is set to be output, and an address signal specifying a defective address of the normal memory cell array is supplied. The address bit data
A test method for a semiconductor memory, wherein a predetermined address of the spare memory cell array is recognized by detecting data.
【請求項25】 アドレス信号が正規メモリセルアレイ
の不良アドレスを指定する場合に、前記正規メモリセル
アレイの不良アドレスに代えて予備メモリセルアレイの
所定アドレスを指定するリダンダンシイ回路を備える半
導体メモリのテスト方法において、 前記正規メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスさ
れる場合に第1認識ビットデ−タが出力され、前記予備
メモリセルアレイの所定アドレスがアクセスされる場合
に第2認識ビットデ−タ及び当該所定アドレスを示すア
ドレスビットデ−タが出力されるように設定し、 前記正規メモリセルアレイの不良アドレスを指定するア
ドレス信号を供給した場合に、 前記第1認識ビットデ−タが出力されるときは、前記正
規メモリセルアレイの不良アドレスが前記予備メモリセ
ルアレイの所定アドレスに正しく切り換えられていない
ものと判断し、 前記第2認識ビットデ−タが出力されるときは、前記正
規メモリセルアレイの不良アドレスが前記予備メモリセ
ルアレイの所定アドレスに正しく切り換えられたものと
判断すると共に、前記アドレスビットデ−タを検出する
ことにより前記予備メモリセルアレイの所定アドレスを
認識することを特徴とする半導体メモリのテスト方法。
25. A test method for a semiconductor memory comprising a redundancy circuit for designating a predetermined address of a spare memory cell array in place of the defective address of the normal memory cell array when the address signal specifies a defective address of the normal memory cell array. When a predetermined address of the normal memory cell array is accessed, first recognition bit data is output, and when a predetermined address of the spare memory cell array is accessed, second recognition bit data and an address indicating the predetermined address. When the bit data is set to be output and an address signal designating a defective address of the normal memory cell array is supplied, and when the first recognition bit data is output, the normal memory cell array is output. If the defective address is in the spare memory cell array, When it is determined that the address has not been properly switched to the fixed address, and when the second recognition bit data is output, it is determined that the defective address of the normal memory cell array has been correctly switched to the predetermined address of the spare memory cell array. A semiconductor memory test method for recognizing a predetermined address of the spare memory cell array by detecting the address bit data.
JP22122896A 1996-08-22 1996-08-22 Semiconductor memory and test method thereof Expired - Fee Related JP3512953B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22122896A JP3512953B2 (en) 1996-08-22 1996-08-22 Semiconductor memory and test method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22122896A JP3512953B2 (en) 1996-08-22 1996-08-22 Semiconductor memory and test method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1064300A true JPH1064300A (en) 1998-03-06
JP3512953B2 JP3512953B2 (en) 2004-03-31

Family

ID=16763484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22122896A Expired - Fee Related JP3512953B2 (en) 1996-08-22 1996-08-22 Semiconductor memory and test method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3512953B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10052705B2 (en) 2012-08-30 2018-08-21 Universal Instruments Corporation 3D TSV assembly method for mass reflow
JP2020013628A (en) * 2018-07-20 2020-01-23 ラピスセミコンダクタ株式会社 Semiconductor memory device
US11363725B2 (en) 2017-11-02 2022-06-14 Universal Instruments Corporation Fixture to hold part before and after reflow, and method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10052705B2 (en) 2012-08-30 2018-08-21 Universal Instruments Corporation 3D TSV assembly method for mass reflow
US11363725B2 (en) 2017-11-02 2022-06-14 Universal Instruments Corporation Fixture to hold part before and after reflow, and method
JP2020013628A (en) * 2018-07-20 2020-01-23 ラピスセミコンダクタ株式会社 Semiconductor memory device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3512953B2 (en) 2004-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100591026B1 (en) Integrated Circuit Memory with Fuse Detection Circuit
US6404683B1 (en) Nonvolatile semiconductor memory device and test method with memory-assisted roll call
KR960002014B1 (en) Semiconductor memory device having fault repairing redundant
US6940765B2 (en) Repair apparatus and method for semiconductor memory device to be selectively programmed for wafer-level test or post package test
US9293227B1 (en) Semiconductor memory apparatus and semiconductor integrated circuit apparatus
US10726937B2 (en) Semiconductor device and operating method thereof
KR19980026248A (en) Semiconductor memory device with automatic fault block mapping
JPS62293598A (en) Semiconductor storage device
US20060197178A1 (en) Electrical fuses with redundancy
JP2619170B2 (en) Semiconductor memory and test method thereof
US6208570B1 (en) Redundancy test method for a semiconductor memory
US7372750B2 (en) Integrated memory circuit and method for repairing a single bit error
KR20120115854A (en) Method for repair and intergrated circuit using the same
US6634003B1 (en) Decoding circuit for memories with redundancy
US6731550B2 (en) Redundancy circuit and method for semiconductor memory devices
US6985395B2 (en) Semiconductor memory device and method of testing the device
US7054209B2 (en) Semiconductor memory device and test method thereof
US6847563B2 (en) Semiconductor storage device and method for remedying defects of memory cells
US6809982B2 (en) Defective cell remedy method capable of automatically cutting capacitor fuses within the fabrication process
US11335427B1 (en) Memory test circuit
JP3512953B2 (en) Semiconductor memory and test method thereof
US7106640B2 (en) Semiconductor memory device capable of detecting repair address at high speed
JPH10334692A (en) Matrix device provided with redundant fuse for integrated circuit memory
US6373770B1 (en) Integrated circuit memory devices with configurable block decoder circuits
JP2000339988A (en) Circuit device for inspecting state of storage

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040108

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080116

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees