JPH10340486A - Optical disk, master disk manufacturing device of the same and manufacture of the same - Google Patents

Optical disk, master disk manufacturing device of the same and manufacture of the same

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JPH10340486A
JPH10340486A JP9149163A JP14916397A JPH10340486A JP H10340486 A JPH10340486 A JP H10340486A JP 9149163 A JP9149163 A JP 9149163A JP 14916397 A JP14916397 A JP 14916397A JP H10340486 A JPH10340486 A JP H10340486A
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JP
Japan
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optical disk
light beam
manufacturing
master
land
Prior art date
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Application number
JP9149163A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Morishita
直樹 森下
Katsumi Suzuki
克己 鈴木
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress fluidizing substance to move a phase transition recording layer in a land along the scanning direction of a light beam when the same part is repeatedly overwritten by providing a recess in about the middle of the surface of the land to be irradiated with the light beam. SOLUTION: At the time of recording the master disk of the optical disk in order to record the land/groove, a side lobe is formed at a prescribed distance from the center of a laser beam for cutting the master disk, and the cutting is performed by the laser beam set for an intensity ratio of center peak intensity P1 to side lobe peak intensity P2 of a laser spot in a range of 1/20 to 1/5 to manufacture the master disk having the recess in about the middle of the land along the track direction, and the optical disk is manufactured based on this master disk. By this method, fluidization of substance in the land can be suppressed, thus maintaining the satisfactory characteristic without deteriorating a byte error rate against the repetition of overwriting the land part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、光ビームの照射
を受けて非晶質と結晶とに可逆的に相変化することを利
用して情報の記録を担う光ディスク、及びこの光ディス
クの原盤を製造する光ディスクの原盤製造装置並びに光
ディスク製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk for recording information by utilizing a reversible phase change between amorphous and crystalline under irradiation of a light beam, and a master for the optical disk. The present invention relates to an optical disc master manufacturing apparatus and an optical disc manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、大容量メモリとして光ディスクが
注目をあびている。光ディスクは、CDに代表される再
生専用型、CD−Rに代表される1回追記型、コンピュ
ータの外付けメモリに代表される書き換え可能型の3種
類に大別される。
2. Description of the Related Art In recent years, optical disks have attracted attention as large-capacity memories. Optical disks are roughly classified into three types: a read-only type represented by a CD, a one-time write once type represented by a CD-R, and a rewritable type represented by an external memory of a computer.

【0003】更に、書き換え可能型は、光磁気ディスク
と相変化光ディスクに大別される。相変化光ディスク
は、レーザビームの照射を受けて、非晶質と結晶との間
で可逆的に相変化する相変化記録層を用い、記録マーク
(非晶質)とバックグラウンドの結晶状態の反射率の差
を利用し情報の記録及び再生を担うものである。相変化
記録層におけるレーザ照射部分が、非晶質(記録マー
ク)になるか結晶(消去状態)になるかは、照射された
部分が相変化記録層を構成する材料の融点を越えるか、
又は結晶化温度を越えるかのみに依存する。従って、レ
ーザビーム走査時に、レーザビームを強弱変調すること
によりオーバライトが可能となる。
Further, the rewritable type is roughly classified into a magneto-optical disk and a phase change optical disk. A phase-change optical disc uses a phase-change recording layer that undergoes a reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase when irradiated with a laser beam, and reflects a recording mark (amorphous) and a background crystalline state. It is responsible for recording and reproduction of information by utilizing the difference in rates. Whether the laser irradiated portion in the phase change recording layer becomes amorphous (recording mark) or crystalline (erased state) depends on whether the irradiated portion exceeds the melting point of the material constituting the phase change recording layer,
Or it only depends on whether it exceeds the crystallization temperature. Therefore, at the time of laser beam scanning, overwriting can be performed by modulating the intensity of the laser beam.

【0004】ここで、図1を参照して、相変化光ディス
クの一般的な層構成について説明する。図1に示すよう
に、相変化光ディスク100は、レーザビームの照射を
受ける面の反対側の面から順に、ポリカーボネート又は
ガラス製の透明基板102、ZnS・SiO2 混合膜か
らなる第1誘電体保護層104、レーザビーム等の照射
により非晶質と結晶との間で可逆的に相変化する例えば
Ge2 Sb2 Te5 の3元合金からなる相変化記録層1
06、ZnS・SiO2 混合膜からなる第2誘電体保護
層108、AlMo合金からなる金属反射層110、デ
ィスクの取り扱い上で生じる傷を防止するためのUV硬
化樹脂保護層112が積層された構成となっている。
Here, a general layer structure of a phase change optical disk will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, a phase-change optical disc 100 includes a transparent substrate 102 made of polycarbonate or glass and a first dielectric protection layer made of a ZnS / SiO 2 mixed film in order from the surface opposite to the surface receiving the laser beam. Layer 104, a phase-change recording layer 1 made of, for example, a ternary alloy of Ge 2 Sb 2 Te 5 that changes reversibly between amorphous and crystalline by irradiation with a laser beam or the like.
06, a second dielectric protection layer 108 made of a ZnS / SiO 2 mixed film, a metal reflection layer 110 made of an AlMo alloy, and a UV cured resin protection layer 112 for preventing scratches generated during handling of the disk. It has become.

【0005】相変化記録層106は、レーザビームの照
射を受けて溶融し、急冷されることにより非晶質化する
が、この時、第1誘電体保護層104及び第2誘電体保
護層108は相変化記録層106が蒸発して穴が明くの
を防止する、いわゆる相変化記録層の耐熱保護の機能を
果たす。また、第1誘電体層104は、金属反射層11
0との相乗効果で信号再生時に光学的にエンハンスする
用に設計されており、通常その厚さは、500〜300
0[オングストローム]に設定されている。相変化記録
層106は、レーザビームの照射により溶融する必要か
ら、通常かなり薄く設計されており、50〜300[オ
ングストローム]に設定されている。第2誘電体層10
8は、レーザビームの照射を受けた時に溶融した記録層
の熱を出来るだけ急冷して非晶質化するために、金属反
射層110へ熱を逃がす必要から、通常かなり薄く設計
されており、50〜300[オングストローム]程度に
設定されている。金属反射層110は、再生信号のエン
ハンスと熱の逃げを良くする目的から、その厚さは通
常、500〜3000[オングストローム]程度の設定
となっている。
The phase-change recording layer 106 is melted by irradiation with a laser beam, and becomes amorphous by being rapidly cooled. At this time, the first dielectric protection layer 104 and the second dielectric protection layer 108 Serves to prevent the phase change recording layer 106 from evaporating and making a hole, that is, a function of protecting the phase change recording layer from heat. Further, the first dielectric layer 104 is formed of the metal reflection layer 11.
It is designed for optical enhancement at the time of signal reproduction by a synergistic effect with 0, and its thickness is usually 500 to 300.
0 [angstrom] is set. The phase change recording layer 106 is usually designed to be very thin because it needs to be melted by irradiation with a laser beam, and is set to 50 to 300 [angstrom]. Second dielectric layer 10
8 is usually designed to be quite thin because it is necessary to release heat to the metal reflective layer 110 in order to quench the heat of the recording layer melted when irradiated with the laser beam as quickly as possible to make it amorphous. It is set to about 50 to 300 [angstrom]. The thickness of the metal reflective layer 110 is usually set to about 500 to 3000 [angstrom] for the purpose of enhancing the reproduction signal and escaping heat.

【0006】一方、相変化光ディスクの最大の欠点は、
オーバライトを繰り返した時の相変化記録層106の劣
化である。相変化光ディスクは、オーバライトされる
時、相変化記録層106の融点を越え、急冷されて非晶
質が形成されるが、このとき一時的に相変化記録層10
6が溶けるため、同一部分のオーバライトを繰り返す
と、相変化記録層106がレーザビームの走査方向に沿
って動いてしまう。例えば、図2に示すごとく、A点か
らレーザを照射し、ディスク1回転オーバライトを行
い、B点でレーザをオフする動作を1トラックジャンプ
で繰り返した場合、相変化記録層106は図2に示すよ
うにレーザビームの走査方向に沿って動いてしまう(以
下、これを物質流動という)。オーバライトの繰り返し
を行うと、この物質流動が加速され、場所によっては相
変化記録層106そのものが欠落してしまい、データを
破損してしまうこともある。
On the other hand, the biggest disadvantage of the phase change optical disk is that
This is deterioration of the phase change recording layer 106 when overwriting is repeated. When the phase-change optical disk is overwritten, it exceeds the melting point of the phase-change recording layer 106 and is rapidly cooled to form an amorphous phase.
When the overwriting of the same portion is repeated, the phase change recording layer 106 moves along the scanning direction of the laser beam because 6 melts. For example, as shown in FIG. 2, when the operation of irradiating a laser from point A, performing one rotation overwrite of the disk, and turning off the laser at point B is repeated by one track jump, the phase change recording layer 106 becomes As shown in the figure, the laser beam moves along the scanning direction of the laser beam (hereinafter, this will be referred to as a material flow). When the overwriting is repeated, the flow of the substance is accelerated, and the phase change recording layer 106 itself may be lost in some places, and data may be damaged.

【0007】このような物質流動を防止する物質流動防
止策として、図3に示すように、相変化記録層106の
上下に、流動を抑える接着層(SiO2 )、又は相変化
記録層との相対的な表面張力を小さくする抑制層105
及び107等を設ける方法が有る。その他、図4に示す
ように、相変化記録層106中に、レーザビームの照射
を受けても溶けないような融点の高い材料114を混入
させ、物質流動を起りにくくする方法が有る。
As a material flow preventing measure for preventing such a material flow, as shown in FIG. 3, an adhesive layer (SiO 2 ) for suppressing the flow and a phase change recording layer are provided above and below the phase change recording layer 106. Suppression layer 105 for reducing relative surface tension
And 107 are provided. In addition, as shown in FIG. 4, there is a method of mixing a material 114 having a high melting point that does not melt even when irradiated with a laser beam into the phase-change recording layer 106 to make it difficult to cause a substance flow.

【0008】光ディスクには、ランド及びグルーブと呼
ばれる領域が設けられており、これらランド及びグルー
ブによりトラックが形成されている。グルーブに対する
情報の記録により起り得る物質流動は、上記説明した物
質流動防止策で十分防ぐことができる。具体的に説明す
ると、上記物質流動防止策により、概ね10万回のオー
バライトを繰り返しても、実用上問題ないレベルにまで
達している。グルーブに対する情報の記録により起り得
る物質流動が、上記物質流動防止策で十分に防止される
一つの理由として、グルーブは物質流動が生じにくいと
いうことが上げられる。グルーブにおいて物質流動が生
じにくいのは、図1に示すように、グルーブGの両側に
壁があるからである。つまり、相変化記録層106と基
板102との接触面積が大きいためである。従って、グ
ルーブにおける物質流動の問題は、事実上、解決されて
おりドライブも製品化されている。
[0008] The optical disk is provided with areas called lands and grooves, and tracks are formed by these lands and grooves. Material flow that can occur due to recording of information in the groove can be sufficiently prevented by the above-described material flow prevention measures. More specifically, even if overwriting is performed approximately 100,000 times by the above-described substance flow prevention measure, the level reaches a practically acceptable level. One of the reasons that the substance flow that can occur due to the recording of information in the groove is sufficiently prevented by the substance flow prevention measure is that the groove is unlikely to cause the substance flow. The reason why the substance does not easily flow in the groove is that there are walls on both sides of the groove G as shown in FIG. That is, the contact area between the phase change recording layer 106 and the substrate 102 is large. Thus, the problem of material flow in the groove has been effectively solved and the drive has been commercialized.

【0009】一方、近年、光ディスクの記録密度を向上
させるため、光ディスクのランド及びグルーブ双方に対
して情報を記録するランド/グルーブ記録(以下、L/
G記録と称する)が提案されている(以前は、ランド及
びグルーブのどちらか一方に対してのみ情報が記録され
ていた)。このL/G記録では、レーザビームがグルー
ブを走っている時はランドに記録されたマークは見えな
いように、或はレーザビームがランドを走っている時は
グルーブに記録されたマークは見えないように、グルー
ブの深さが光学的に調整出来る。このL/G記録によれ
ば、グルーブ及びランドのうちのどちらか一方に対して
情報を記録する方式に比べて、記憶容量を2倍に出来る
という利点がある。
On the other hand, in recent years, land / groove recording (hereinafter referred to as L / G) for recording information on both lands and grooves of an optical disk has been proposed in order to improve the recording density of the optical disk.
G recording) has been proposed (previously, information was recorded only on one of the land and the groove). In this L / G recording, the mark recorded on the land is not visible when the laser beam is running on the groove, or the mark recorded on the groove is not visible when the laser beam is running on the land. Thus, the depth of the groove can be adjusted optically. According to this L / G recording, there is an advantage that the storage capacity can be doubled as compared with the method of recording information on either one of the groove and the land.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところが、L/G記録
の場合、グルーブにおける物質流動は上記した物資流動
防止策により防止できるが、ランドにおける適切な物質
流動防止策がないという問題点があった。
However, in the case of the L / G recording, the material flow in the groove can be prevented by the above-mentioned material flow prevention measure, but there is a problem that there is no appropriate material flow prevention measure in the land. .

【0011】この発明の目的は、上記したような事情に
鑑み成されたものであって、光ディスクに設けられたラ
ンドにおける物質流動を抑制できる光ディスク及びこの
光ディスクの原盤製造装置並びに光ディスク製造方法を
提供することにある。
An object of the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an optical disk capable of suppressing a material flow in a land provided on the optical disk, an apparatus for manufacturing a master of the optical disk, and an optical disk manufacturing method. Is to do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、この発明の光ディスク及び光ディスク
の原盤製造装置並びに光ディスク製造方法は、以下に示
す如くである。この発明は、同心円状又はスパイラル状
のランド及びグルーブのトラックを有し、光ビームの照
射を受けて非晶質と結晶とに可逆的に相変化することを
利用して少なくとも前記ランドで情報の記録を担う光デ
ィスクにおいて、前記ランドにおける光ビームの照射を
受ける面の略中央にトラック方向に沿った凹みを有す
る。
Means for Solving the Problems To solve the above problems and achieve the object, an optical disk, an optical disk master manufacturing apparatus and an optical disk manufacturing method of the present invention are as follows. The present invention has concentric or spiral land and groove tracks, and at least uses the fact that a phase is reversibly changed into an amorphous state and a crystal state by irradiation with a light beam, and information is recorded at least on the land. In an optical disk for recording, the land has a recess along the track direction substantially at the center of the surface of the land receiving the light beam.

【0013】この発明は、同心円状又はスパイラル状の
ランド及びグルーブのトラックを有し、光ビームの照射
を受けて非晶質と結晶とに可逆的に相変化することを利
用して情報の記録を担う光ディスクの原盤を製造する光
ディスクの原盤製造装置において、前記ランドにおける
光ビームの照射を受ける面の略中央にトラック方向に沿
った凹みを有する光ディスクの原盤を製造する。
The present invention has concentric or spiral tracks of lands and grooves, and records information by utilizing the fact that it undergoes a reversible phase change between amorphous and crystalline when irradiated with a light beam. In an optical disk master manufacturing apparatus for manufacturing an optical disk master, the optical disk master having a recess along the track direction substantially at the center of the surface of the land that is irradiated with the light beam is manufactured.

【0014】この発明は、M同心円状又はスパイラル状
のランド及びグルーブのトラックを有し、光ビームの照
射を受けて非晶質と結晶とに可逆的に相変化することを
利用して情報の記録を担う光ディスクの原盤を製造する
光ディスクの原盤製造装置において、前記原盤をカッテ
ィングするための光ビームを照射する照射手段と、前記
照射手段により照射される光ビームに所定のサイドロー
ブを生成するサイドローブ生成手段と、前記サイドロー
ブ生成手段により生成された所定のサイドローブを有す
る光ビームによる前記原盤のカッティングを制御する制
御手段とを備えている。
The present invention has M concentric or spiral tracks of lands and grooves, and utilizes the fact that it undergoes a reversible phase change between amorphous and crystalline under irradiation of a light beam, thereby taking advantage of the information. In an optical disc master manufacturing apparatus for manufacturing a master of an optical disc for recording, an irradiation unit for irradiating a light beam for cutting the master, and a side for generating a predetermined side lobe in the light beam irradiated by the irradiation unit A lobe generating unit; and a control unit for controlling cutting of the master by a light beam having a predetermined side lobe generated by the side lobe generating unit.

【0015】この発明は、同心円状又はスパイラル状の
ランド及びグルーブのトラックを有し、光ビームの照射
を受けて非晶質と結晶とに可逆的に相変化することを利
用して情報の記録を担う光ディスクを製造する光ディス
ク製造方法において、前記ランドにおける光ビームの照
射を受ける面の略中央にトラック方向に沿った凹みを有
する光ディスクを製造する。
The present invention has a concentric or spiral track of land and groove, and records information by utilizing a reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase when irradiated with a light beam. In the optical disk manufacturing method for manufacturing an optical disk, the method includes manufacturing an optical disk having a depression along the track direction at substantially the center of the surface of the land receiving the light beam.

【0016】この発明は、同心円状又はスパイラル状の
ランド及びグルーブのトラックを有し、光ビームの照射
を受けて非晶質と結晶とに可逆的に相変化することを利
用して情報の記録を担う光ディスクを製造する光ディス
ク製造方法において、前記ランドにおける光ビームの照
射を受ける面の略中央にトラック方向に沿った凹みを有
する光ディスクの原盤を製造し、この製造された原盤に
基づき光ディスクを製造する。
The present invention has a concentric or spiral track of land and groove, and records information by utilizing the fact that it undergoes a reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase when irradiated with a light beam. An optical disk manufacturing method for manufacturing an optical disk, the method comprising: manufacturing an optical disk master having a recess along the track direction substantially at the center of a surface of the land receiving a light beam, and manufacturing an optical disk based on the manufactured master. I do.

【0017】この発明は、同心円状又はスパイラル状の
ランド及びグルーブのトラックを有し、光ビームの照射
を受けて非晶質と結晶とに可逆的に相変化することを利
用して情報の記録を担う光ディスクを製造する光ディス
ク製造方法において、前記光ディスクの原盤をカッティ
ングするための光ビームを照射し、この照射された光ビ
ームに所定のサイドローブを発生させ、この所定のサイ
ドローブが発生した光ビームによる前記原盤のカッティ
ングを制御し、この制御によるカッティングにより製造
された原盤に基づき光ディスクを製造する。
The present invention has a concentric or spiral track of land and groove, and records information by utilizing the fact that it undergoes a reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase when irradiated with a light beam. In an optical disk manufacturing method for manufacturing an optical disk, a light beam for cutting the master disk of the optical disk is irradiated, a predetermined side lobe is generated in the irradiated light beam, and a light beam having the predetermined side lobe is generated. The cutting of the master by the beam is controlled, and an optical disc is manufactured based on the master manufactured by the cutting under the control.

【0018】上記手段を講じた結果、次のような作用が
生じる。 (1)この発明の光ディスクは、ランドにおける光ビー
ムの照射を受ける面の略中央にトラック方向に沿った凹
みを有しているので、この凹みにより物質流動という現
象が抑制され、オーバーライトに対して強くできる。
As a result of taking the above-described measures, the following operation occurs. (1) Since the optical disk of the present invention has a dent along the track direction substantially at the center of the surface of the land that is irradiated with the light beam, the phenomenon of material flow is suppressed by this dent, and overwriting is prevented. Can be strong.

【0019】(2)この発明の光ディスクの原盤製造装
置によれば、ランドにおける光ビームの照射を受ける面
の略中央にトラック方向に沿った凹みを有する光ディス
クの原盤が製造される。従って、この光ディスクの原盤
製造装置により製造された原盤に基づき製造される光デ
ィスクはランドに凹みを有し、この凹みにより物質流動
という現象が抑制され、オーバーライトに対して強くで
きる。
(2) According to the optical disk master manufacturing apparatus of the present invention, an optical disk master having a depression along the track direction at substantially the center of the surface of the land that is irradiated with the light beam is manufactured. Therefore, an optical disk manufactured based on the master manufactured by the optical disk master manufacturing apparatus has a dent in the land, and the phenomenon of material flow is suppressed by the dent, thereby making it more resistant to overwriting.

【0020】(3)この発明の光ディスク製造方法によ
れば、ランドにおける光ビームの照射を受ける面の略中
央にトラック方向に沿った凹みを有する光ディスクが製
造される。従って、この光ディスク製造方法により製造
された光ディスクはランドに凹みを有し、この凹みによ
り物質流動という現象が抑制され、オーバーライトに対
して強くできる。
(3) According to the optical disk manufacturing method of the present invention, an optical disk having a depression along the track direction at approximately the center of the surface of the land that is irradiated with the light beam is manufactured. Therefore, the optical disk manufactured by this optical disk manufacturing method has a dent in the land, and the phenomenon of material flow is suppressed by the dent, and the optical disk can be resistant to overwriting.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。図5は、光ディスクの金
型となるスタンパ(原盤)を作成する(マスタリング工
程)カッテング装置(原盤製造装置)を示すものであ
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 5 shows a cutting apparatus (master manufacturing apparatus) for producing a stamper (master) serving as a mold for an optical disc (mastering step).

【0022】図5に示すカッティング装置は、記録、再
生用の相変化光ディスク(DVD−RAM)の原盤とな
るフォトレジストが塗布された凹凸の無いガラス原盤1
を所定の速度で回転し、このガラス原盤1に対してレー
ザビームを照射し、フォトレジストを溶融して、ランド
トラック(凹部)を形成するとともに、凹形状のピット
(記録マーク)を形成する。つまり、カッティング装置
は、ガラス原盤1に対して、所定のタイミングでオン、
オフするレーザビームを照射することにより、ガラス原
盤1の所定位置にランドトラック及びピットを形成す
る。
The cutting apparatus shown in FIG. 5 is a glass master 1 having no irregularities on which a photoresist is applied as a master of a phase change optical disk (DVD-RAM) for recording and reproduction.
Is rotated at a predetermined speed to irradiate the glass master 1 with a laser beam to melt the photoresist to form land tracks (recesses) and to form concave pits (recording marks). That is, the cutting device is turned on at a predetermined timing with respect to the glass master 1,
By irradiating the laser beam to be turned off, land tracks and pits are formed at predetermined positions of the glass master 1.

【0023】図1において、フォトレジストが塗布され
たガラス原盤1は、モータ3によって例えば一定の速度
で回転される。このモータ3は、モータ制御回路4によ
って制御されている。
In FIG. 1, a glass master 1 coated with a photoresist is rotated by a motor 3 at a constant speed, for example. The motor 3 is controlled by a motor control circuit 4.

【0024】ガラス原盤1へのカッティング処理は、こ
のガラス原盤1に対してレーザビームを照射する照射手
段としての光学ヘッド5によって行われる。この光学ヘ
ッド5は、リニアモータ6の可動部を構成する駆動コイ
ル7に固定されており、この駆動コイル7はリニアモー
タ制御回路8に接続されている。
The cutting of the glass master 1 is performed by an optical head 5 as an irradiating means for irradiating the glass master 1 with a laser beam. The optical head 5 is fixed to a drive coil 7 constituting a movable portion of a linear motor 6, and the drive coil 7 is connected to a linear motor control circuit 8.

【0025】このリニアモータ制御回路8には、速度検
出器9が接続されており、この速度検出器9の速度信号
はリニアモータ制御回路8に送られるようになってい
る。また、リニアモータ6の固定部には、図示しない永
久磁石が設けられており、駆動コイル7がリニアモータ
制御回路8によって励磁されることにより、光学ヘッド
5は、ガラス原盤1の半径方向に移動されるようになっ
ている。
A speed detector 9 is connected to the linear motor control circuit 8, and a speed signal of the speed detector 9 is sent to the linear motor control circuit 8. Further, a permanent magnet (not shown) is provided at a fixed portion of the linear motor 6. When the drive coil 7 is excited by the linear motor control circuit 8, the optical head 5 moves in the radial direction of the glass master 1. It is supposed to be.

【0026】光学ヘッド5には、対物レンズ10が図示
しないワイヤあるいは板ばねによって保持されており、
この対物レンズ10は、駆動コイル12によってフォー
カシング方向(レンズの光軸方向)に移動され、駆動コ
イル11によってトラッキング方向(レンズの光軸と直
交方向)に移動可能とされている。
The optical head 5 holds an objective lens 10 by a wire or a leaf spring (not shown).
The objective lens 10 is moved in the focusing direction (the optical axis direction of the lens) by the drive coil 12 and is movable in the tracking direction (the direction orthogonal to the optical axis of the lens) by the drive coil 11.

【0027】また、レーザ制御回路13によって駆動さ
れるレーザ発振器(例えばアルゴンネオンレーザ発振
器)19より発生されたレーザ光は、コリメータレンズ
20、ハーフプリズム21、対物レンズ10、リング2
00を介してガラス原盤1上に照射され、このガラス原
盤1からの反射光は、リング200、対物レンズ10、
ハーフプリズム21、集光レンズ22、およびシリンド
リカルレンズ23を介して光検出器24に導かれる。な
お、リング200の機能は後に説明するものとする。
A laser beam generated by a laser oscillator (for example, an argon neon laser oscillator) 19 driven by the laser control circuit 13 is supplied to a collimator lens 20, a half prism 21, an objective lens 10, and a ring 2.
00, the reflected light from the glass master 1 is reflected by the ring 200, the objective lens 10,
The light is guided to a photodetector 24 via a half prism 21, a condenser lens 22, and a cylindrical lens 23. The function of the ring 200 will be described later.

【0028】光検出器24は、4分割の光検出セル24
a、24b、24c、24dによって構成されている。
光検出器24の光検出セル24aの出力信号は、増幅器
25aを介して加算器26a、26dの一端に供給さ
れ、光検出セル24bの出力信号は、増幅器25bを介
して加算器26b、26cの一端に供給され、光検出セ
ル24cの出力信号は、増幅器24cを介して加算器2
6a、26cの他端に供給され、光検出セル24dの出
力信号は、増幅器25dを介して加算器26b、26d
の他端に供給されるようになっている。
The photodetector 24 is a four-divided photodetector cell 24.
a, 24b, 24c and 24d.
The output signal of the photodetector cell 24a of the photodetector 24 is supplied to one end of adders 26a and 26d via the amplifier 25a, and the output signal of the photodetector cell 24b is supplied to the adders 26b and 26c via the amplifier 25b. The output signal supplied to one end and output from the photodetection cell 24c is supplied to the adder 2 via the amplifier 24c.
The output signals of the photodetection cells 24d supplied to the other ends of the photodetectors 6a and 26c are added to adders 26b and 26d via an amplifier 25d.
Is supplied to the other end.

【0029】加算器26aの出力信号は差動増幅器OP
2の反転入力端に供給され、この差動増幅器OP2の非
反転入力端には加算器26bの出力信号が供給される。
これにより、差動増幅器OP2は、加算器26a、26
bの差に応じてフォーカス点に関する信号をフォーカシ
ング制御回路27に供給するようになっている。このフ
ォーカシング制御回路27の出力信号は、フォーカシン
グ駆動コイル12に供給され、レーザ光がガラス原盤1
上で常時ジャストフォーカスとなるように制御される。
The output signal of the adder 26a is a differential amplifier OP
2 and the non-inverting input terminal of the differential amplifier OP2 is supplied with the output signal of the adder 26b.
As a result, the differential amplifier OP2 includes the adders 26a, 26
A signal related to the focus point is supplied to the focusing control circuit 27 in accordance with the difference b. The output signal of the focusing control circuit 27 is supplied to the focusing drive coil 12, and the laser light is applied to the glass master 1
The above is controlled so that it is always in just focus.

【0030】加算器26dの出力信号は差動増幅器OP
1の反転入力端に供給され、この差動増幅器OP1の非
反転入力端には加算器26cの出力信号が供給される。
これにより、差動増幅器OP1は、加算器26d、26
cの差に応じてトラック差信号をトラッキング制御回路
28に供給するようになっている。トラッキング制御回
路28は、差動増幅器OP1から供給されるトラック差
信号に応じてトラック駆動信号を作成するものである。
The output signal of the adder 26d is a differential amplifier OP
1, and the output signal of the adder 26c is supplied to the non-inverting input terminal of the differential amplifier OP1.
As a result, the differential amplifier OP1 includes the adders 26d and 26d.
A track difference signal is supplied to the tracking control circuit 28 in accordance with the difference c. The tracking control circuit 28 creates a track drive signal according to the track difference signal supplied from the differential amplifier OP1.

【0031】トラッキング制御回路28から出力される
トラック駆動信号は、トラッキング方向の駆動コイル1
1に供給される。また、トラッキング制御回路28で用
いられたトラック差信号はリニアモータ制御回路8に供
給されるようになっている。
The track drive signal output from the tracking control circuit 28 is applied to the drive coil 1 in the tracking direction.
1 is supplied. The track difference signal used in the tracking control circuit 28 is supplied to the linear motor control circuit 8.

【0032】駆動コイル11にトラック駆動信号が供給
されることにより、ガラス原盤1が1回転する間に、対
物レンズ10が徐々に移動してグルーブからグルーブ、
あるいはランドからランドへ1トラック分移動するよう
になっている。
The supply of the track drive signal to the drive coil 11 causes the objective lens 10 to gradually move during the rotation of the glass master 1 by one rotation, thereby changing the groove from the groove.
Alternatively, it moves by one track from land to land.

【0033】また、トラッキング制御回路28で対物レ
ンズ10が移動されている際、リニアモータ制御回路8
は、対物レンズ10が光学ヘッド5内の中心位置近傍に
位置するようにリニアモータ6つまり光学ヘッド5を移
動するようになっている。
When the tracking control circuit 28 moves the objective lens 10, the linear motor control circuit 8
Moves the linear motor 6, that is, the optical head 5, so that the objective lens 10 is located near the center position in the optical head 5.

【0034】また、レーザ制御回路13の前段にはデー
タ生成回路14が設けられている。このデータ生成回路
14には、後述するエラー訂正回路32から供給される
記録データとしてのECCブロックのフォーマットデー
タを、ECCブロック用の同期コードを付与した記録用
のECCブロックのフォーマットデータに変換するEC
Cブロックデータ生成回路14aと、このECCブロッ
クデータ生成回路14aからの記録データを8−15コ
ード変換方式等で変換(変調)する変調回路14bとを
有している。
A data generation circuit 14 is provided at a stage preceding the laser control circuit 13. The data generation circuit 14 converts the format data of the ECC block as the recording data supplied from the error correction circuit 32 described later into the format data of the recording ECC block to which the synchronization code for the ECC block is added.
It has a C block data generation circuit 14a and a modulation circuit 14b that converts (modulates) the recording data from the ECC block data generation circuit 14a by an 8-15 code conversion method or the like.

【0035】データ生成回路14には、エラー訂正回路
32によりエラー訂正符号(ECC)が付与された記録
データが供給されるようになっている。エラー訂正回路
32には外部装置としての制御装置36からの記録デー
タがインターフェース回路45およびバス29を介して
供給されるようになっている。
The data generation circuit 14 is supplied with recording data to which an error correction code (ECC) has been added by an error correction circuit 32. The recording data from the control device 36 as an external device is supplied to the error correction circuit 32 via the interface circuit 45 and the bus 29.

【0036】エラー訂正回路32は、制御装置36から
供給される32Kバイトの記録データを4Kバイトごと
のセクタ単位の記録データに対する横方向と縦方向のそ
れぞれのエラー訂正符号を付与するとともに、セクタI
Dを付与し、ECCブロックフォーマットデータを生成
するようになっている。
The error correction circuit 32 applies the horizontal and vertical error correction codes to the 32 Kbytes of the recording data supplied from the control device 36 to the recording data in units of 4 Kbytes in units of sectors.
D to generate ECC block format data.

【0037】また、このカッテング装置にはそれぞれフ
ォーカシング制御回路27、トラッキング制御回路2
8、リニアモータ制御回路8とCPU30との間でデー
タの授受を行うために用いられるD/A変換器31が設
けられている。
The focusing device has a focusing control circuit 27 and a tracking control circuit 2 respectively.
8, a D / A converter 31 used to transfer data between the linear motor control circuit 8 and the CPU 30 is provided.

【0038】レーザ制御回路13、フォーカシング制御
回路27、トラッキング制御回路28、リニアモータ制
御回路8、モータ制御回路4、記録信号作成回路14等
は、バス29を介してCPU30によって制御されるよ
うになっており、このCPU30は操作パネル34から
のカッテング開始の指示およびメモリ33に記憶された
プログラムによって所定の動作を行うようになされてい
る。
The laser control circuit 13, the focusing control circuit 27, the tracking control circuit 28, the linear motor control circuit 8, the motor control circuit 4, the recording signal creation circuit 14 and the like are controlled by the CPU 30 via the bus 29. The CPU 30 performs a predetermined operation in accordance with a cutting start instruction from the operation panel 34 and a program stored in the memory 33.

【0039】上記したようなカッティング装置により、
ガラス原盤1のフォトレジストが全面に対する記録デー
タに応じて溶融されることによりカッティング処理が終
了した後、現像と導電化処理を行い、ガラス原盤を作成
する。このガラス原盤を用いて、ニッケル等により構成
されるスタンパを電気メッキ等を用いて作成する。この
スタンパを用いて、射出成形法等で光ディスク100を
作成する。
With the cutting device as described above,
After the cutting process is completed by melting the photoresist of the glass master 1 in accordance with the recording data for the entire surface, development and conductivity are performed to produce a glass master. Using this glass master, a stamper made of nickel or the like is created by electroplating or the like. Using this stamper, the optical disc 100 is prepared by an injection molding method or the like.

【0040】次に、光ディスク100にデータを記録し
たり、その記録されているデータを再生する光ディスク
装置について図6を用いて説明する。なお、カッティン
グ装置とほぼ同じ構成なので、同じ部分については同一
符号を付し、説明を省略する。
Next, an optical disk apparatus for recording data on the optical disk 100 and reproducing the recorded data will be described with reference to FIG. Since the configuration is almost the same as that of the cutting device, the same portions are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0041】すなわち、フォーカシング、トラッキング
を行った状態での光検出器24の各光検出セル24a〜
24dの出力の和信号、つまり加算器26eからの出力
信号は、トラックのグルーブとランド上に形成されたピ
ット(記録データ)からの反射率の変化が反映されてい
る。この信号は、データ再生回路18に供給され、この
データ再生回路18において、記録する目的のIDのE
CCブロックに対するアクセス許可信号が出力された
り、再生する目的のIDのECCブロックに対する再生
データが出力されるようになっている。
That is, each of the photodetection cells 24a to 24c of the photodetector 24 in a state where focusing and tracking are performed.
The sum signal of the output of 24d, that is, the output signal from the adder 26e, reflects the change in the reflectance from the pits (recording data) formed on the grooves and lands of the track. This signal is supplied to the data reproducing circuit 18, where the E of the ID to be recorded is recorded.
An access permission signal for the CC block is output, and reproduction data for the ECC block of the ID to be reproduced is output.

【0042】このデータ再生回路18で再生された再生
データはエラー訂正回路32で付与されているエラー訂
正符号ECCを用いてエラー訂正を行った後、インター
フェース回路35を介して外部装置としての制御装置3
6に出力されるようになっている。
The reproduced data reproduced by the data reproducing circuit 18 is subjected to error correction by using an error correction code ECC provided by an error correction circuit 32, and then transmitted to a control device as an external device via an interface circuit 35. 3
6 is output.

【0043】レーザ制御回路13は、対象とする光ディ
スクに応じてレーザ光の強度を変更するようになってい
る。データ生成回路14は、データ記録時、ヘッダ読取
回路63からのアクセス許可信号に応じて記録データを
レーザ制御回路13へ出力するようになっている。
The laser control circuit 13 changes the intensity of the laser light according to the target optical disk. The data generation circuit 14 outputs recording data to the laser control circuit 13 in response to an access permission signal from the header reading circuit 63 during data recording.

【0044】次に、光ディスクのフォーマットについて
簡単に説明する。光ディスクには、上記説明したよう
に、同心円状又はスパイラル状のランド及びグルーブの
トラックが形成されている。さらに、このトラックには
複数のセクタが設けられている。1セクタは、図7に示
すような構成となっている。
Next, the format of the optical disk will be briefly described. As described above, concentric or spiral tracks of lands and grooves are formed on the optical disc. Further, this track is provided with a plurality of sectors. One sector has a configuration as shown in FIG.

【0045】すなわち、1セクタは、およそ2697バ
イトで構成され、128バイトのヘッダ領域、2バイト
のミラー領域、2567バイトのレコーディング領域か
ら構成されている。
That is, one sector is composed of about 2697 bytes, and is composed of a header area of 128 bytes, a mirror area of 2 bytes, and a recording area of 2567 bytes.

【0046】ヘッダ領域及びミラー領域は、出荷前に凹
凸形状として記録(プリフォーマット)される部分であ
る。レコーディング領域には、ランド及びグルーブが設
けられているだけである。ミラー領域は、トラッキング
エラー信号のオフセット補正、ランド/グルーブ切り替
え信号のタイミング発生等に利用される。
The header area and the mirror area are parts that are recorded (pre-formatted) as uneven shapes before shipment. The recording area only has lands and grooves. The mirror area is used for offset correction of a tracking error signal, timing generation of a land / groove switching signal, and the like.

【0047】レコーディング領域は、(10+J/1
6)バイトのギャップ領域、(20+K)バイトのガー
ド1領域、35バイトのVFO3領域、3バイトのPS
(pre-synchronous code)領域、2418バイトのデー
タ領域、1バイトのポストアンブルPA3領域、(55
−K)バイトのガード2領域、および(25−J/1
6)バイトのバッファ領域により構成されている。因み
に、Jは0〜15、Kは0〜7の整数でランダムな値を
とる。
The recording area is (10 + J / 1)
6) Gap area of byte, guard 1 area of (20 + K) bytes, VFO3 area of 35 bytes, PS of 3 bytes
(Pre-synchronous code) area, 2418-byte data area, 1-byte postamble PA3 area, (55
-K) Guard 2 area of bytes, and (25-J / 1)
6) It is composed of a byte buffer area. Incidentally, J takes an integer of 0 to 15 and K takes an integer of 0 to 7 and takes a random value.

【0048】続いて、この発明の光ディスクの原盤の製
造について説明する。なお、この発明の光ディスクの原
盤は図5に示すカッティング装置により製造されるもの
とする。
Next, the manufacture of the master of the optical disk of the present invention will be described. It is assumed that the master of the optical disk of the present invention is manufactured by a cutting device shown in FIG.

【0049】図5に示すカッティング装置のレーザ発信
器19(波長458nmのArレーザ出力)及び、対物
レンズ10(NA(ニューメリカル アパーチャー)
0.9)を用いて、レーザビームをガラス原盤1上のフ
ォトレジストに集光する。この時の集光スポット径は、
1/e2 で0.46μm、半値幅で約0.28μmであ
る。このようなスポット径のレーザビームでカッティン
グを行う場合、原盤の回転数と送りピッチを調整する
と、DVD−RAM規格に則った、概ねグルーブ幅0.
74μm、ランド幅0.74μmのL/G記録用の光デ
ィスクの基板を作製することができる。このようなカッ
ティング処理に続いて、現像、メッキによるスタンパの
作製、及び成形の一連の行程を経て作製された光ディス
クの基板を本実施形態においてサンプルAと名付ける。
The laser oscillator 19 (Ar laser output at a wavelength of 458 nm) and the objective lens 10 (NA (numerical aperture)) of the cutting apparatus shown in FIG.
0.9), the laser beam is focused on the photoresist on the glass master 1. The focused spot diameter at this time is
It is 0.46 μm in 1 / e 2 and about 0.28 μm in half width. When cutting is performed with a laser beam having such a spot diameter, by adjusting the number of revolutions and the feed pitch of the master, a groove width of approximately 0.1 in accordance with the DVD-RAM standard is obtained.
A substrate of an optical disk for L / G recording having a size of 74 μm and a land width of 0.74 μm can be manufactured. Subsequent to such a cutting process, a substrate of an optical disk manufactured through a series of steps of development, production of a stamper by plating, and molding is referred to as a sample A in the present embodiment.

【0050】次に、図8に示すような強度プロファイル
のレーザビームでカッティングを行うとする。なお、こ
のようにレーザスポットのピーク強度P1に対して、所
定の半径位置にサイドローブを発生させる方法として
は、例えば、Jpn.J.Appl.Phys.Vo
l.31(1992)pp.557−567に記載され
ているアポダイザー技術を用いる。すなわち、レーザビ
ームが対物レンズ10に入射する直前位置に、リング状
のマスク200を配置することにより、図8に示すよう
なレーザビームを得ることができる。また、マスク20
0の径の大きさ、及び穴径の大きさを適正化すること
で、レーザスポットの中心のピーク強度P1とサイドロ
ーブのピーク強度P2との比、及びレーザスポットの中
心位置からサイドローブのピーク位置(山の部分)まで
の距離Lをコントロールすることができる。
Next, it is assumed that cutting is performed with a laser beam having an intensity profile as shown in FIG. As a method for generating a side lobe at a predetermined radial position with respect to the peak intensity P1 of the laser spot as described above, for example, Jpn. J. Appl. Phys. Vo
l. 31 (1992) pp. The apodizer technique described in 557-567 is used. That is, by disposing the ring-shaped mask 200 at a position immediately before the laser beam enters the objective lens 10, a laser beam as shown in FIG. 8 can be obtained. Also, the mask 20
By optimizing the size of the diameter of 0 and the size of the hole diameter, the ratio of the peak intensity P1 at the center of the laser spot to the peak intensity P2 of the side lobe, and the peak of the side lobe from the center position of the laser spot The distance L to the position (mountain) can be controlled.

【0051】ここで、レーザスポットの中心位置からサ
イドローブのピーク位置までの距離L(実際にはサイド
ローブはリング状なので半径)を0.74μmに固定し
て、レーザスポットの中心のピーク強度P1とサイドロ
ーブのピーク強度P2との強度比を1/30、1/2
0、1/10、1/5と変化させて原盤記録を行い、光
ディスクの基板を製造する場合について説明する。
Here, the distance L from the center position of the laser spot to the peak position of the side lobe (actually, since the side lobe has a ring shape, the radius) is fixed to 0.74 μm, and the peak intensity P1 at the center of the laser spot is set. And the intensity ratio between the peak intensity P2 of the side lobe and 1/30, 1/2
A case will be described in which the master recording is performed while changing to 0, 1/10, and 1/5 to manufacture an optical disk substrate.

【0052】図9の(ST1)〜(ST5)に至る行程
(レーザビーム照射(ST1)、溶融(ST2)、メッ
キ(ST3)、スタンパ作製(ST4)、基板成形(S
T5))を経てできた光ディスクの基板を、強度比が小
さい順に、サンプルB、サンプルC、サンプルD、サン
プルEと名付ける。
The steps from (ST1) to (ST5) in FIG. 9 (laser beam irradiation (ST1), melting (ST2), plating (ST3), stamper fabrication (ST4), substrate molding (S
The substrates of the optical disk obtained after T5)) are named sample B, sample C, sample D, and sample E in order of decreasing intensity ratio.

【0053】ランド部の凹みが浅い場合の典型的な例、
すなわちサンプルBの基板表面をSTM(走査型トンネ
ル電子顕微鏡)により測定した結果を図10に示す。ま
た、ランド部の凹みが深い場合の典型的な例、すなわち
サンプルEの基板表面をSTMにより測定した結果を図
11に示す。図11から分るように、サンプルEの場
合、ランドの表面に深さ5−20nm程度の凹みができ
ていることが確認できる。
A typical example in which the dent of the land is shallow,
That is, FIG. 10 shows the result of measuring the substrate surface of Sample B by STM (scanning tunnel electron microscope). FIG. 11 shows a typical example in which the dent of the land portion is deep, that is, the result of measuring the substrate surface of sample E by STM. As can be seen from FIG. 11, in the case of the sample E, it can be confirmed that a recess having a depth of about 5 to 20 nm is formed on the surface of the land.

【0054】このようにして作製されたサンプルA〜サ
ンプルEの基板に対して、図示しない真空スパッタ装置
を用いて、図3に示す層構成の相変化光ディスクを作製
する。すなわち、これらサンプルA〜サンプルEの基板
(102)上に、第1誘電体保護層104を厚さ180
0[オングストローム]、物質流動防止のための接着層
105を厚さ100[オングストローム]、相変化記録
層106を厚さ200[オングストローム]、接着層1
07を厚さ100[オングストローム]、第2誘電体保
護層108を厚さ200[オングストローム]、金属反
射層110を1000[オングストローム]を成膜し
た。このように作製した光ディスクを便宜上、サンプル
A、B、C、D、Eに対応して、ディスクA、B、C、
D、Eと呼ぶことにする。
A phase change optical disk having the layer structure shown in FIG. 3 is manufactured on the substrates of the samples A to E manufactured as described above using a vacuum sputtering apparatus (not shown). That is, the first dielectric protection layer 104 is formed on the substrate (102) of each of the samples A to E by the thickness of 180.
0 [angstrom], the adhesive layer 105 for preventing material flow is 100 [angstrom] thick, the phase change recording layer 106 is 200 [angstrom] thick, the adhesive layer 1
07 was formed to a thickness of 100 [angstrom], the second dielectric protection layer 108 was formed to a thickness of 200 [angstrom], and the metal reflective layer 110 was formed to a thickness of 1000 [angstrom]. For the sake of convenience, the optical disks manufactured in this manner correspond to the samples A, B, C, D, and E, and the disks A, B, C,
We will call them D and E.

【0055】次に、図6に示す光ディスク装置を用い
て、相変化光ディスクのオーバライト繰り返し特性につ
いて説明する。なお、図6に示す光ディスク装置のレー
ザ発振器19から出力されるレーザビームの波長は68
0nm、対物レンズ10はNA0.6であるものとす
る。また、相変化光ディスク100の各半径位置で線速
度が6.0m/sで一定となるようにモータ3が制御さ
れるものとする。
Next, the overwrite repetition characteristics of the phase change optical disk will be described using the optical disk device shown in FIG. The wavelength of the laser beam output from the laser oscillator 19 of the optical disk device shown in FIG.
0 nm, and the objective lens 10 has an NA of 0.6. Further, it is assumed that the motor 3 is controlled so that the linear velocity is constant at 6.0 m / s at each radial position of the phase change optical disc 100.

【0056】相変化光ディスクのオーバライト繰り返し
特性に関するテストを実行するにあたり、光ディスク装
置において次のような制御が行われる。一つ目は、レー
ザ制御回路13により、最短マーク長が0.62μmと
なるような周波数でレーザビームの強弱変調を行うよう
レーザ発振器19が制御された。二つ目は、トラッキン
グ制御回路28により、光ディスク1回転ごとにトラッ
クジャンプを行い、常に同じトラック(ランドまたはグ
ルーブのいずれか)にオーバライトが行われるように制
御した。このランド又はグルーブに対する1回転分オー
バライトを10万回繰り返し、1万回ごとにバイト誤り
率(B.E.R.)を測定し、欠陥の成長を記録した。
In executing the test on the overwrite repetition characteristic of the phase change optical disk, the following control is performed in the optical disk device. First, the laser oscillator 19 is controlled by the laser control circuit 13 so as to perform intensity modulation of the laser beam at a frequency such that the shortest mark length becomes 0.62 μm. Second, the tracking control circuit 28 performs a track jump every one rotation of the optical disk, and controls so that overwriting is always performed on the same track (either land or groove). The overwriting for one rotation of this land or groove was repeated 100,000 times, and the byte error rate (BER) was measured every 10,000 times, and the growth of defects was recorded.

【0057】図12は、所定のグルーブに対してオーバ
ライトの繰り返しを行った場合の、バイト誤り率を示す
図である。当然であるが、グルーブは、ディスクA、
B、C、D、Eとも形状は同じであるはずであるため、
物質流動によるオーバライト繰り返し劣化は、ほとんど
起きていないことが確認された。
FIG. 12 is a diagram showing the byte error rate when overwriting is repeatedly performed on a predetermined groove. Naturally, the groove is disk A,
Since the shapes of B, C, D, and E should be the same,
It was confirmed that the overwrite repetitive deterioration due to the material flow hardly occurred.

【0058】図13は、所定のランドに対してオーバラ
イトの繰り返しを行った場合の、バイト誤り率を示す図
である。ディスクAとディスクBは、ランドにおける再
生・記録のためのレーザビームの照射を受ける面の略中
央には、ほとんど凹部が形成されていない。そのため、
約1万回のオーバライトで劣化が始まり、2万回のオー
バライトで、バイト誤り率の上限である10-4に達し、
最終的には10-3台になってしまっている。
FIG. 13 is a diagram showing the byte error rate when overwriting is repeatedly performed on a predetermined land. In the discs A and B, almost no recess is formed at substantially the center of the surface of the land that is irradiated with the laser beam for reproduction / recording. for that reason,
Degradation starts after about 10,000 overwrites and reaches the upper limit of the byte error rate of 10 -4 after 20,000 overwrites.
In the end, it has become 10-3 .

【0059】これに対し、ディスクCでは、約7万回の
オーバライトまではバイト誤り率に変化はない。また、
10万回のオーバライトに対しても、バイト誤り率の上
限である10-4は越えなかった。ディスクDとディスク
Eは、グルーブに対してオーバライト記録したのと同じ
ように、10万回のオーバライト記録に対してバイト誤
り率はほとんど変化しなかった。但し、図11で示した
ように、ディスクEの場合は、ランドの中央はかなり削
られており、これ以上ランドの中央に凹部を形成してし
まうと、レーザビームによるトラッキング時にトラッキ
ング差信号が乱れてしまい、もう一本のグルーブがある
とも判断しかねないため、強度比の上限はディスクEに
相当するもの(レーザスポットの中心のピーク強度P1
とサイドローブのピーク強度P2との強度比1/5)が
適当と考えられる。
On the other hand, in the disk C, the byte error rate does not change until about 70,000 overwrites. Also,
Even for 100,000 overwrites, the upper limit of the byte error rate of 10 -4 was not exceeded. In the case of disks D and E, the byte error rate hardly changed after 100,000 times of overwriting as in the case of overwriting on the groove. However, as shown in FIG. 11, in the case of the disk E, the center of the land is considerably shaved, and if a concave portion is further formed in the center of the land, the tracking difference signal will be disturbed during tracking by the laser beam. Since it may be judged that there is another groove, the upper limit of the intensity ratio is equivalent to that of the disk E (the peak intensity P1 at the center of the laser spot).
It is considered that the intensity ratio (1 / of the peak intensity of the side lobe to 1/5) is appropriate.

【0060】以上説明したように、相変化記録膜を用い
L/G記録を行う光ディスクにおいて、光ディスクの原
盤記録時に、この原盤をカッティングするレーザビーム
の中心に対して所定の距離をおいたサイドローブを形成
し、レーザスポットの中心ピーク強度とサイドローブの
ピーク強度との強度比を1/20〜1/5の範囲に設定
し、このように設定された強度比のレーザビームにより
カッティングを行う。以後現像、メッキ、スタンパ作
製、成形を経て作製された光ディスクの基板上に相変化
記録膜を成膜した相変化光ディスクでは、ランド部分の
オーバライト繰り返し、例えば10万回の繰り返しに対
してもバイト誤り率が低下することなく、良好に特性を
維持できる。
As described above, in an optical disc on which L / G recording is performed using a phase-change recording film, when recording the master of the optical disc, the side lobe at a predetermined distance from the center of the laser beam cutting the master. Is formed, the intensity ratio between the center peak intensity of the laser spot and the side lobe peak intensity is set in the range of 1/20 to 1/5, and cutting is performed with the laser beam having the thus set intensity ratio. Thereafter, in a phase change optical disk in which a phase change recording film is formed on a substrate of an optical disk manufactured through development, plating, stamper manufacturing, and molding, overwrite repetition of a land portion, for example, 100,000 times of repetition of a byte. Good characteristics can be maintained without lowering the error rate.

【0061】[0061]

【発明の効果】この発明によれば下記の光ディスク及び
光ディスクの原盤製造装置並びに光ディスク製造方法を
提供できる。 (1)光ディスクに設けられたランドにおける物質流動
を抑制できる光ディスク。つまり、オーバーライトに対
して強い光ディスク。
According to the present invention, the following optical disk, optical disk master manufacturing apparatus and optical disk manufacturing method can be provided. (1) An optical disc capable of suppressing a material flow in a land provided on the optical disc. In other words, an optical disk that is strong against overwriting.

【0062】(2)光ディスクに設けられたランドにお
ける物質流動を抑制できる光ディスクの原盤製造装置。
つまり、オーバーライトに対して強い光ディスクの原盤
製造装置。 (3)光ディスクに設けられたランドにおける物質流動
を抑制できる光ディスク製造方法。つまり、オーバーラ
イトに対して強い光ディスク製造方法。
(2) An optical disk master manufacturing apparatus capable of suppressing a material flow in a land provided on the optical disk.
In other words, an optical disk master manufacturing apparatus that is resistant to overwriting. (3) An optical disc manufacturing method capable of suppressing a material flow in a land provided on an optical disc. In other words, an optical disc manufacturing method that is resistant to overwriting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】相変化光ディスクの層構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a layer configuration of a phase change optical disc.

【図2】相変化光ディスクに対するオーバライトの繰り
返しが原因で生じる物質流動による劣化の原理を説明す
るための図。
FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of deterioration due to material flow caused by repetition of overwriting on a phase change optical disk.

【図3】物質流動防止策が施された相変化光ディスクの
層構成を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a layer configuration of a phase change optical disc on which a substance flow prevention measure is applied.

【図4】物質流動防止策が施された相変化光ディスクの
層構成を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a layer configuration of a phase change optical disc on which a substance flow prevention measure is applied.

【図5】光ディスクの金型となるスタンパ(原盤)を作
成するカッテング装置の概略構成を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of a cutting device for creating a stamper (master) serving as a mold of an optical disc.

【図6】光ディスクに対してデータの記録を行うととも
に、光ディスクに記録されたデータを再生する光ディス
ク装置の概略構成を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of an optical disc device that records data on the optical disc and reproduces data recorded on the optical disc.

【図7】セクタフォーマットの一例を示す図。FIG. 7 is a diagram showing an example of a sector format.

【図8】ランドに凹みを有する光ディスクの原盤をカッ
ティングするためのレーザビームの強度プロファイルを
示す図。
FIG. 8 is a view showing an intensity profile of a laser beam for cutting a master disc of an optical disc having a depression in a land.

【図9】図8に示す強度プロファイルのレーザビーム
(サイドローブを有するレーザビーム)による原盤のカ
ッティング、さらにその後の行程(現像、メッキ、スタ
ンパ作製、成形)を示す図。
9 is a diagram showing cutting of a master by a laser beam (laser beam having side lobes) having the intensity profile shown in FIG. 8, and further subsequent steps (development, plating, stamper production, molding).

【図10】ランド部の凹みが浅い場合(サンプルB)の
基板表面をSTMにより測定した結果を示す図。
FIG. 10 is a diagram showing a result of measuring a substrate surface by STM when a dent of a land portion is shallow (sample B).

【図11】ランド部の凹みが深い場合(サンプルE)の
基板表面をSTMにより測定した結果を示す図。
FIG. 11 is a diagram showing the result of measuring the substrate surface by STM when the dent of the land is deep (sample E).

【図12】グルーブにおけるオーバーライトの回数とバ
イト誤り率との関係を示す図。
FIG. 12 is a diagram showing a relationship between the number of overwrites in a groove and a byte error rate.

【図13】ランドにおけるオーバーライトの回数とバイ
ト誤り率との関係を示す図。
FIG. 13 is a diagram illustrating a relationship between the number of overwrites on a land and a byte error rate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス原盤 10…対物レンズ 100…光ディスク 102…基板 104…第1誘電体保護層 106…相変化記録層 108…第2誘電体保護層 110…金属反射層 112…UV硬貨樹脂保護層 200…リング DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass master disk 10 ... Objective lens 100 ... Optical disk 102 ... Substrate 104 ... 1st dielectric protection layer 106 ... Phase change recording layer 108 ... 2nd dielectric protection layer 110 ... Metal reflection layer 112 ... UV coin resin protection layer 200 ... ring

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】同心円状又はスパイラル状のランド及びグ
ルーブのトラックを有し、光ビームの照射を受けて非晶
質と結晶とに可逆的に相変化することを利用して少なく
とも前記ランドで情報の記録を担う光ディスクにおい
て、 前記ランドにおける光ビームの照射を受ける面の略中央
にトラック方向に沿った凹みを有することを特徴とする
光ディスク。
1. A method according to claim 1, further comprising a concentric or spiral land and groove tracks, wherein at least the land has information by utilizing a reversible phase change between an amorphous state and a crystal state when irradiated with a light beam. An optical disc characterized by having a recess along the track direction substantially at the center of the surface of the land receiving the light beam irradiation.
【請求項2】前記凹みの深さが、5〜20nmであるこ
とを特徴とする請求項1記載の光ディスク。
2. The optical disk according to claim 1, wherein the depth of the recess is 5 to 20 nm.
【請求項3】同心円状又はスパイラル状のランド及びグ
ルーブのトラックを有し、光ビームの照射を受けて非晶
質と結晶とに可逆的に相変化することを利用して情報の
記録を担う光ディスクの原盤を製造する光ディスクの原
盤製造装置において、 前記ランドにおける光ビームの照射を受ける面の略中央
にトラック方向に沿った凹みを有する光ディスクの原盤
を製造することを特徴とする光ディスクの原盤製造装
置。
3. It has concentric or spiral tracks of lands and grooves, and records information by utilizing a reversible phase change between amorphous and crystalline when irradiated with a light beam. An optical disk master manufacturing apparatus for manufacturing an optical disk master, comprising: manufacturing an optical disk master having a recess along a track direction substantially at a center of a surface of the land to be irradiated with a light beam. apparatus.
【請求項4】前記凹みの深さが、5〜20nmであるこ
とを特徴とする請求項3記載の光ディスクの原盤製造装
置。
4. The apparatus according to claim 3, wherein the depth of the recess is 5 to 20 nm.
【請求項5】同心円状又はスパイラル状のランド及びグ
ルーブのトラックを有し、光ビームの照射を受けて非晶
質と結晶とに可逆的に相変化することを利用して情報の
記録を担う光ディスクの原盤を製造する光ディスクの原
盤製造装置において、 前記原盤をカッティングするための光ビームを照射する
照射手段と、 前記照射手段により照射される光ビームに所定のサイド
ローブを生成するサイドローブ生成手段と、 前記サイドローブ生成手段により生成された所定のサイ
ドローブを有する光ビームによる前記原盤のカッティン
グを制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とする光ディスクの原盤製造装置。
5. It has concentric or spiral land and groove tracks, and records information by utilizing a reversible phase change between amorphous and crystalline when irradiated with a light beam. In an optical disc master manufacturing apparatus for manufacturing an optical disc master, an irradiation unit for irradiating a light beam for cutting the master, and a side lobe generating unit for generating a predetermined side lobe in the light beam irradiated by the irradiation unit An optical disc master manufacturing apparatus, comprising: a control unit that controls cutting of the master by a light beam having a predetermined side lobe generated by the side lobe generating unit.
【請求項6】前記照射手段により照射される光ビームの
中心の光強度のピーク値に対して、この光ビームのサイ
ドサイドローブの光強度のピーク値が、1/20〜1/
5となることを特徴とする請求項5記載の光ディスクの
原盤製造装置。
6. A peak value of a light intensity of a side side lobe of a light beam with respect to a peak value of a light intensity at a center of a light beam irradiated by the irradiation means.
6. The optical disk master manufacturing apparatus according to claim 5, wherein:
【請求項7】同心円状又はスパイラル状のランド及びグ
ルーブのトラックを有し、光ビームの照射を受けて非晶
質と結晶とに可逆的に相変化することを利用して情報の
記録を担う光ディスクを製造する光ディスク製造方法に
おいて、 前記ランドにおける光ビームの照射を受ける面の略中央
にトラック方向に沿った凹みを有する光ディスクを製造
することを特徴とする光ディスク製造方法。
7. It has concentric or spiral tracks of lands and grooves, and records information by utilizing a reversible phase change between amorphous and crystalline when irradiated with a light beam. An optical disk manufacturing method for manufacturing an optical disk, comprising: manufacturing an optical disk having a depression along a track direction substantially at a center of a surface of the land that is irradiated with a light beam.
【請求項8】同心円状又はスパイラル状のランド及びグ
ルーブのトラックを有し、光ビームの照射を受けて非晶
質と結晶とに可逆的に相変化することを利用して情報の
記録を担う光ディスクを製造する光ディスク製造方法に
おいて、 前記ランドにおける光ビームの照射を受ける面の略中央
にトラック方向に沿った凹みを有する光ディスクの原盤
を製造し、 この製造された原盤に基づき光ディスクを製造する、 ことを特徴とする光ディスク製造方法。
8. It has concentric or spiral tracks of lands and grooves, and records information by utilizing a reversible phase change between amorphous and crystalline when irradiated with a light beam. An optical disk manufacturing method for manufacturing an optical disk, comprising: manufacturing a master disk of an optical disk having a recess along a track direction at substantially the center of a surface of the land receiving light beam irradiation; manufacturing an optical disk based on the manufactured master disk; An optical disk manufacturing method characterized by the above-mentioned.
【請求項9】前記凹みの深さが、5〜20nmであるこ
とを特徴とする請求項7又は請求項8記載の光ディスク
製造方法。
9. The method according to claim 7, wherein the depth of the recess is 5 to 20 nm.
【請求項10】同心円状又はスパイラル状のランド及び
グルーブのトラックを有し、光ビームの照射を受けて非
晶質と結晶とに可逆的に相変化することを利用して情報
の記録を担う光ディスクを製造する光ディスク製造方法
において、 前記光ディスクの原盤をカッティングするための光ビー
ムを照射し、 この照射された光ビームに所定のサイドローブを発生さ
せ、 この所定のサイドローブが発生した光ビームによる前記
原盤のカッティングを制御し、 この制御によるカッティングにより製造された原盤に基
づき光ディスクを製造する、 ことを特徴とする光ディスク製造方法。
10. It has concentric or spiral tracks of lands and grooves, and records information by utilizing a reversible phase change between amorphous and crystalline when irradiated with a light beam. In an optical disk manufacturing method for manufacturing an optical disk, a light beam for cutting the master of the optical disk is irradiated, a predetermined side lobe is generated in the irradiated light beam, and a light beam generated by the predetermined side lobe is used. An optical disc manufacturing method, comprising: controlling the cutting of the master, and manufacturing an optical disc based on the master manufactured by cutting under the control.
【請求項11】前記照射される光ビームの中心の光強度
のピーク値に対して、この光ビームのサイドローブの光
強度のピーク値が、1/20〜1/5となることを特徴
とする請求項10記載の光ディスク製造方法。
11. A light source according to claim 1, wherein the peak value of the light intensity of the side lobe of the light beam is 1/20 to 1/5 of the peak value of the light intensity at the center of the irradiated light beam. 11. The method for manufacturing an optical disk according to claim 10, wherein:
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