JPH10270166A - Electroluminescent element - Google Patents

Electroluminescent element

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JPH10270166A
JPH10270166A JP9074952A JP7495297A JPH10270166A JP H10270166 A JPH10270166 A JP H10270166A JP 9074952 A JP9074952 A JP 9074952A JP 7495297 A JP7495297 A JP 7495297A JP H10270166 A JPH10270166 A JP H10270166A
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JP
Japan
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electron
layer
hole
organic light
thickness
Prior art date
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Pending
Application number
JP9074952A
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Japanese (ja)
Inventor
Terukichi Mizutani
照吉 水谷
Tatsuo Mori
竜雄 森
Hitoshi Tsuge
仁志 柘植
Hideaki Ueda
秀昭 植田
Yoshihisa Terasaka
佳久 寺阪
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electroluminescent element for emitting lights with high luminance and high efficiency by containing an electron transport type light emitter and a hole transport member in an organic light emission layer or a hole transport type light emitter and an electron transport member in the same. SOLUTION: A hole transport layer 2, an organic light emission layer 3, an electron transport layer 4 and an electron injection electrode 5 are sequentially stacked on a hole injection electrode 1, and the hole injection electrode 1 and the electron injection electrode 5 are connected to each other by a lead wire 8 to apply a voltage and thereby a light is emitted from the organic light emission layer 3. For the organic light emission layer 3, a hole transport type light emitter or an electron transport type light emitter is used, a charge transport member is further mixed to increase an effective contact area between the charge transport member and the light emitter, a carrier re-coupling probability is increased and light emission is increased by energy excited following the re-coupling between the hole and the electrons. For the organic light emission layer 3, an electron transport material is used in the case of the hole transport type light emitter, and in the case of the electron transport type light emitter, a charge transport material is used. Thus, an electroluminescent element capable of performing low voltage driving and prolonging a service life is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、正孔注入電極と電
子注入電極との間に少なくとも正孔輸送層、有機発光
層、電子輸送層を有する電界発光素子に関する。
The present invention relates to an electroluminescent device having at least a hole transport layer, an organic light emitting layer and an electron transport layer between a hole injection electrode and an electron injection electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報機器の多様化に伴って、陰極
線管(ブラウン管)(CRT)より低消費電力で薄型の
平面表示素子のニーズが高まっている。このような平面
表示素子としては液晶、プラズマディスプレイ(PD)
等があるが、特に、最近は自己発光型で、表示が鮮明で
視野角の広い電界発光素子が注目されている。ここで、
上記電界発光素子は構成する材料により無機電界発光素
子と有機電界発光素子とに大別することができ、無機電
界発光素子は既に実用化され商品として市販されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, with the diversification of information equipment, the need for a flat display element which consumes less power than a cathode ray tube (CRT) (CRT) and which is thinner has increased. Liquid crystal, plasma display (PD) as such a flat display element
In particular, a self-luminous electroluminescent element with a clear display and a wide viewing angle has recently been receiving attention. here,
The electroluminescent device can be roughly classified into an inorganic electroluminescent device and an organic electroluminescent device depending on the constituent materials, and the inorganic electroluminescent device has already been put to practical use and commercially available as a product.

【0003】しかしながら、上記無機電界発光素子の駆
動電圧は高電界の印加によって、加速された電子が発光
中心に衝突して発光させるという、いわゆる衝突型励起
発光であるため、100V以上の高電圧で駆動させる必
要がある。このため、周辺機器の高コスト化を招来する
という課題を有していた。また、青色発光の良好な発光
体がないためフルカラーの表示ができないという課題も
あった。
However, the driving voltage of the above-mentioned inorganic electroluminescent element is so-called collision excitation light emission in which accelerated electrons collide with the light emission center and emit light when a high electric field is applied. It is necessary to drive. For this reason, there has been a problem that the cost of peripheral devices is increased. In addition, there is also a problem that a full-color display cannot be performed because there is no luminous body that emits blue light.

【0004】これに対して、有機電界発光素子は、電極
から注入された電荷(正孔及び電子)が発光体中で再結
合して励起子を生成し、それが発光体の分子を励起して
発光するという、いわゆる注入型発光であるため低電圧
で駆動することができる。しかも、有機化合物であるた
め発光体の分子構造を容易に変更することができ、任意
の発光色を得ることができる。従って、有機電界発光素
子はこれからの表示素子として非常に有望である。
On the other hand, in an organic electroluminescent device, charges (holes and electrons) injected from electrodes are recombined in a luminous body to generate excitons, which excite molecules of the luminous body. It is possible to drive at a low voltage because of so-called injection type light emission. Moreover, since it is an organic compound, the molecular structure of the luminous body can be easily changed, and any luminescent color can be obtained. Therefore, the organic electroluminescent device is very promising as a future display device.

【0005】ここで、有機電界発光素子としては正孔輸
送層と電子輸送性発光層の2層を備えた素子が、Tangと
VanSlykeによって提案された(C.W.TangおよびS.A.VanS
lyke;Appl.Phys.Lett.,51(1987)913)。その素子の構成
は、ガラス基板上に形成した陰極、正孔輸送層、電子輸
送性発光層、 陰極であった。
Here, as an organic electroluminescent device, a device having two layers, a hole transporting layer and an electron transporting light emitting layer, is called Tang.
Proposed by VanSlyke (CWTang and SAVanS
lyke; Appl. Phys. Lett., 51 (1987) 913). The structure of the device was a cathode formed on a glass substrate, a hole transporting layer, an electron transporting light emitting layer, and a cathode.

【0006】上記素子では、正孔輸送層が陽極から電子
輸送性発光層へ正孔を注入する働きをするとともに、陰
極から注入された電子が正孔と再結合することなく陽極
へ逃げるのを防ぎ、電子輸送性発光層内へ電子を封じ込
める役割をも果たしている。このため、この正孔輸送層
による電子の封じ込め効果により、従来の単層構造の素
子に比べてより効率良く電子と正孔の再結合が起こり、
駆動電圧の大幅な低下が可能になった。
In the above device, the hole transport layer functions to inject holes from the anode to the electron transporting light emitting layer, and also prevents the electrons injected from the cathode from escaping to the anode without recombination with the holes. It also serves to prevent electrons and to confine electrons in the electron-transporting light-emitting layer. For this reason, the recombination effect of electrons and holes occurs more efficiently than the conventional device having a single-layer structure due to the effect of confining electrons by the hole transport layer,
Driving voltage can be greatly reduced.

【0007】また、斎藤らは、2層構造の素子におい
て、電子輸送層だけでなく正孔輸送層も発光層と成り得
ることを示した(C.Adachi,T.TsutsuiおよびS.Saito;Ap
pl.Phys.Lett.,55(1989)1489)。
Saito et al. Have shown that, in a device having a two-layer structure, not only an electron transport layer but also a hole transport layer can be a light-emitting layer (C. Adachi, T. Tsutsui and S. Saito; Ap).
pl. Phys. Lett., 55 (1989) 1489).

【0008】2層構成の改良として正孔輸送層と電子輸
送層の間に有機発光層が挟まれた3層構造の有機電界発
光素子を斎藤らが提案した(C.Adachi,S.Tokito,T.Tsut
suiおよびS.Saito;Jpn.J.Appl.Phys.,27(1988)L269)。
これは、硝子基板上に形成した陽極、正孔輸送層、発
光層、電子輸送層、陰極からなり、正孔輸送層が電子を
発光層に封じ込める働きをするとともに、電子輸送層が
正孔を発光層に封じ込める働きをするため発光効率がさ
らに向上した。
As an improvement of the two-layer structure, Saito et al. Proposed an organic electroluminescent device having a three-layer structure in which an organic light-emitting layer was sandwiched between a hole transport layer and an electron transport layer (C. Adachi, S. Tokito, T.Tsut
sui and S. Saito; Jpn. J. Appl. Phys., 27 (1988) L269).
It consists of an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode formed on a glass substrate.The hole transport layer functions to confine electrons in the light emitting layer, and the electron transport layer traps holes. The luminous efficiency was further improved due to the function of confining in the light emitting layer.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】このように有機電界発
光素子の発光効率を向上させるために層構成からの改良
が行われてきたが、まだまだ発光の高輝度化や高効率化
が必要なのが現状である。また、有機電界発光素子を長
時間発光させるためにはより低電圧で低電流密度で発光
させることが必要となってくる。
As described above, improvements have been made from the layer structure in order to improve the luminous efficiency of the organic electroluminescent device, but it is still necessary to increase the luminance and efficiency of the luminescence. It is the current situation. Further, in order for the organic electroluminescent device to emit light for a long time, it is necessary to emit light at a lower voltage and a lower current density.

【0010】そこで、本発明は上記の点に鑑みて、高輝
度で高効率な発光を呈する電界発光素子を提供すること
を目的とする。
In view of the above, an object of the present invention is to provide an electroluminescent device which emits light with high luminance and high efficiency.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記問題点
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、正孔注入電極と電
子注入電極との間に少なくとも正孔輸送層、有機発光
層、電子輸送層を有する電界発光素子において、有機発
光層に電子輸送性発光体と正孔輸送材を含有させるこ
と、あるいは有機発光層に正孔輸送性発光体と電子輸送
材を含有させることが有効であることを見いだし、上記
課題を解決するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that at least a hole transport layer, an organic light emitting layer, In an electroluminescent device having an electron transport layer, it is effective that the organic light emitting layer contains an electron transporting luminescent material and a hole transporting material, or that the organic light emitting layer contains a hole transporting luminescent material and an electron transporting material. It was found that the above problem was solved.

【0012】本発明の有機発光層には正孔輸送性の発光
体または電子輸送性の発光体が用いられるが、そこにさ
らに電荷輸送材が混合される。従って、有機発光層にお
いては、電荷輸送材と発光材との有効接触面積が増加し
てキャリアの再結合確率が上昇し、発光中心における正
孔と電子の再結合に伴って励起されるエネルギーによる
発光が増加し、さらに電荷輸送材の励起エネルギー準位
が発光中心の励起準位より高いために電荷輸送材におけ
る正孔と電子の再結合に伴う励起エネルギーが発光中心
へ移動することによる発光も生じる。このため発光効率
が向上し、高輝度化が達成され、さらに低電圧駆動が可
能となるため長寿命化が達成される。
In the organic light emitting layer of the present invention, a hole transporting luminescent material or an electron transporting luminescent material is used, and a charge transport material is further mixed therein. Therefore, in the organic light emitting layer, the effective contact area between the charge transporting material and the light emitting material increases, the probability of carrier recombination increases, and energy due to the energy excited by the recombination of holes and electrons at the emission center. Light emission increases, and the excitation energy level of the charge transport material is higher than the excitation level of the emission center, so that the excitation energy due to recombination of holes and electrons in the charge transport material moves to the emission center. Occurs. As a result, luminous efficiency is improved, high luminance is achieved, and low voltage driving is possible, so that long life is achieved.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の電界発光素子は電極間に
少なくとも正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層で構成
される。図1〜図4に本発明の電界発光素子の取り得る
構成を模式的に例示した。図1中、(1)は正孔注入電
極(陽極)であり、その上に、正孔輸送層(2)と有機
発光層(3)、電子輸送層(4)および電子注入電極
(5)が順次積層された構成をとっており、該有機発光
層に有機発光体と電荷輸送材を含有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The electroluminescent device of the present invention comprises at least a hole transport layer, an organic light emitting layer and an electron transport layer between electrodes. 1 to 4 schematically illustrate possible configurations of the electroluminescent device of the present invention. In FIG. 1, (1) denotes a hole injection electrode (anode), on which a hole transport layer (2) and an organic light emitting layer (3), an electron transport layer (4), and an electron injection electrode (5). Are sequentially laminated, and the organic light emitting layer contains an organic light emitting material and a charge transport material.

【0014】図2において、(1)は正孔注入電極であ
り、その上に、正孔注入層(6)、正孔輸送層(2)と
有機発光層(3)、電子輸送層(4)および電子注入電
極(5)が順次積層された構成をとっており、該有機発
光層に電荷輸送性の有機発光体と電荷輸送材を含有す
る。
In FIG. 2, (1) is a hole injection electrode, on which a hole injection layer (6), a hole transport layer (2), an organic light emitting layer (3), and an electron transport layer (4). ) And an electron injecting electrode (5) are sequentially laminated, and the organic light emitting layer contains an organic light emitting material having a charge transporting property and a charge transporting material.

【0015】図3において、(1)は正孔注入電極であ
り、その上に、正孔輸送層(2)、有機発光層(3)と
電子輸送層(4)、電子注入層(7)および電子注入電
極(5)が順次積層された構成をとっており、該有機発
光層に電荷輸送性の有機発光体と電荷輸送材を含有す
る。
In FIG. 3, (1) is a hole injection electrode, on which a hole transport layer (2), an organic light emitting layer (3) and an electron transport layer (4), and an electron injection layer (7). And an electron injecting electrode (5) are sequentially laminated, and the organic light emitting layer contains a charge transporting organic light emitting material and a charge transporting material.

【0016】図4において、(1)は正孔注入電極であ
り、その上に、正孔注入層(6)、正孔輸送層(2)、
有機発光層(3)と電子輸送層(4)、電子注入層
(7)および電子注入電極(5)が順次積層された構成
をとっており、該有機発光層に電荷輸送性の有機発光体
と電荷輸送材を含有する。
In FIG. 4, (1) is a hole injection electrode, on which a hole injection layer (6), a hole transport layer (2),
An organic light emitting layer (3), an electron transporting layer (4), an electron injecting layer (7), and an electron injecting electrode (5) are sequentially laminated. And a charge transport material.

【0017】正孔注入電極(1)と電子注入電極(5)
にリード線(8)により接続され、両電極間に電圧を印
加することにより有機発光層(3)が発光する。
A hole injection electrode (1) and an electron injection electrode (5)
And an organic light-emitting layer (3) emits light by applying a voltage between both electrodes.

【0018】有機発光層に含有する電荷輸送材料として
は、発光体が正孔輸送性の時は電子輸送材料が、電子輸
送性の発光体の時は正孔輸送性の電荷輸送材料が用いら
れる。
As the charge transporting material contained in the organic light emitting layer, an electron transporting material is used when the luminous body has a hole transporting property, and a hole transporting charge transporting material is used when the luminous body is a light emitting substance. .

【0019】電界発光素子の正孔注入電極(1)として
使用される導電性物質としては4eVよりも大きい仕事
関数をもつものがよく、炭素、アルミニウム、バナジウ
ム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、タングステ
ン、銀、錫、金などおよびそれらの合金、酸化錫、酸化
インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化ジルコニ
ウムなどの導電性金属化合物が用いられる。
The conductive material used as the hole injection electrode (1) of the electroluminescent device preferably has a work function of more than 4 eV, and is preferably made of carbon, aluminum, vanadium, iron, cobalt, nickel, copper, zinc. , Tungsten, silver, tin, gold, and alloys thereof, and conductive metal compounds such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, and zirconium oxide are used.

【0020】電子注入電極(4)を形成する金属として
は4eVよりも小さい仕事関数を持つものがよく、マグ
ネシウム、カルシウム、チタニウム、イットリウムリチ
ウム、ガドリニウム、イッテルビウム、ルテニウム、マ
ンガンおよびそれらの合金が用いられる。
The metal forming the electron injection electrode (4) preferably has a work function of less than 4 eV, and magnesium, calcium, titanium, yttrium lithium, gadolinium, ytterbium, ruthenium, manganese and alloys thereof are used. .

【0021】電界発光素子においては、発光が見られる
ように、少なくとも正孔注入電極(1)あるいは電子注
入電極(4)は透明電極にする必要がある。この際、電
子注入電極を透明電極とすると透明電極が酸化劣化しや
すく、透明性が損なわれやすいので、正孔注入電極を透
明電極にすることが好ましい。
In the electroluminescent device, at least the hole injection electrode (1) or the electron injection electrode (4) needs to be a transparent electrode so that light emission can be seen. At this time, if the electron injection electrode is a transparent electrode, the transparent electrode is easily oxidized and deteriorated, and the transparency is easily impaired. Therefore, it is preferable that the hole injection electrode be a transparent electrode.

【0022】透明電極を形成する場合、透明基板上に、
上記したような導電性物質を用い、蒸着、スパッタリン
グ等の手段やゾルゲル法あるいは樹脂等に分散させて塗
布する等の手段を用いて所望の透光性と導電性が確保さ
れるように形成すればよい。
When forming a transparent electrode, on a transparent substrate,
Using a conductive material as described above, a device such as vapor deposition, sputtering, or a method such as a sol-gel method or a method of dispersing and applying in a resin or the like is used to secure desired translucency and conductivity. I just need.

【0023】透明基板としては、適度の強度を有し、電
界発光素子作製時、蒸着等による熱に悪影響を受けず、
透明なものであれば特に限定されないが、係るものを例
示すると、ガラス基板、透明な樹脂、例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルホン、ポリエー
テルエーテルケトン等を使用することも可能である。ガ
ラス基板上に透明電極が形成されたものとしてはITO
膜をガラス板上に設けたものや、SnO2を透明導電性
皮膜として用いたNESAガラスなどの市販品が知られ
ているがこれらを使用してもよい。
The transparent substrate has an appropriate strength and is not adversely affected by heat due to vapor deposition or the like during the production of the electroluminescent device.
The material is not particularly limited as long as it is transparent. For example, a glass substrate and a transparent resin such as polyethylene, polypropylene, polyethersulfone, and polyetheretherketone may be used. ITO with a transparent electrode formed on a glass substrate
Commercially available products such as those having a film provided on a glass plate and NESA glass using SnO 2 as a transparent conductive film are known, but these may be used.

【0024】上記電極を用いて正孔輸送層、有機発光
層、電子輸送層を積層した図1の構成の電界発光素子の
作製を例示的に説明する。
The fabrication of an electroluminescent device having the structure shown in FIG. 1 in which a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer are laminated using the above-described electrodes will be described as an example.

【0025】まず、上記した正孔注入電極(1)上に正
孔輸送層(2)を形成する。正孔輸送層(2)は、正孔
輸送材料を蒸着して形成してもよいし、正孔輸送材料を
溶解した溶液や適当な樹脂とともに溶解した液をディッ
プコートやスピンコートして形成してもよい。
First, a hole transport layer (2) is formed on the hole injection electrode (1). The hole transport layer (2) may be formed by evaporating a hole transport material, or by dip coating or spin coating a solution in which the hole transport material is dissolved or a solution in which a suitable resin is dissolved. You may.

【0026】蒸着法で形成する場合、その厚さは、通常
1〜500nmであり、塗布法で形成する場合は、5〜
1000nm程度に形成すればよい。
When formed by the vapor deposition method, the thickness is usually 1 to 500 nm, and when formed by the coating method, the thickness is 5 to 500 nm.
The thickness may be about 1000 nm.

【0027】形成する膜厚が厚いほど発光させるための
印加電圧を高くする必要があり発光効率が悪く電界発光
素子の劣化を招きやすい。また膜厚が薄くなると発光効
率はよくなるがブレイクダウンしやすくなり電界発光素
子の寿命が短くなる。
It is necessary to increase the applied voltage for emitting light as the thickness of the formed film increases, so that the luminous efficiency is poor and the electroluminescent element is liable to be deteriorated. When the film thickness is small, the luminous efficiency is improved, but the breakdown is easy and the life of the electroluminescent element is shortened.

【0028】正孔輸送層に用いられる正孔輸送材料とし
ては、公知のものが使用可能で、例えばN,N’−ジフ
ェニル−N,N’−ビス(3,4−ジメチルフェニル)
−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン、N,
N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニ
ル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン、
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(4−メチルフ
ェニル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミ
ン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(1−ナフ
チル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン、
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(2−ナフチ
ル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン、
N,N’−テトラ(4−メチルフェニル)−1,1’−
ジフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−テトラ
(4−メチルフェニル)−1,1’−ビス(3−メチル
フェニル)−4,4’−ジアミン、N,N’−ジフェニ
ル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’
−ビス(3−メチルフェニル)−4,4’−ジアミン、
N,N’−ビス(N−カルバゾリル)−1,1’−ジフ
ェニル−4,4’−ジアミン、4,4’,4”−トリス
(N−カルバゾリル)トリフェニルアミン、N,N’,
N”−トリフェニル−N,N’,N”−トリス(3−メ
チルフェニル)−1,3,5−トリ(4−アミノフェニ
ル)ベンゼン、4,4’,4”−トリス[N,N’,
N”−トリフェニル−N,N’,N”−トリス(3−メ
チルフェニル)]トリフェニルアミンなどを挙げること
ができる。これらのものは2種以上を混合して使用して
もよい。また下記する正孔輸送性の発光体を正孔輸送材
料として使用してもよい。
As the hole transporting material used for the hole transporting layer, known materials can be used. For example, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3,4-dimethylphenyl)
-1,1′-diphenyl-4,4′-diamine, N,
N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine;
N, N'-diphenyl-N, N'-bis (4-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (1- Naphthyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine;
N, N′-diphenyl-N, N′-bis (2-naphthyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine;
N, N'-tetra (4-methylphenyl) -1,1'-
Diphenyl-4,4'-diamine, N, N'-tetra (4-methylphenyl) -1,1'-bis (3-methylphenyl) -4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N , N'-bis (3-methylphenyl) -1,1 '
-Bis (3-methylphenyl) -4,4'-diamine,
N, N′-bis (N-carbazolyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N-carbazolyl) triphenylamine, N, N ′,
N "-triphenyl-N, N ', N" -tris (3-methylphenyl) -1,3,5-tri (4-aminophenyl) benzene, 4,4', 4 "-tris [N, N ',
N "-triphenyl-N, N ', N" -tris (3-methylphenyl)] triphenylamine. These may be used as a mixture of two or more. In addition, a hole transporting luminescent material described below may be used as the hole transporting material.

【0029】次に、正孔輸送層(2)の上に有機発光層
(3)を形成する。有機発光層には有機発光体と正孔輸
送材または電子輸送材等の電荷輸送材が混合される。混
合する電荷輸送材料の量は電荷輸送性の有機発光体に対
して0.5〜100重量%である。これは、少なすぎる
とその効果が無く、多すぎるとかえってエネルギー的な
トラップとなってかえって発光効率の低下を招くためで
ある。
Next, an organic light emitting layer (3) is formed on the hole transport layer (2). In the organic light emitting layer, an organic light emitting material and a charge transport material such as a hole transport material or an electron transport material are mixed. The amount of the charge transporting material to be mixed is 0.5 to 100% by weight based on the charge transporting organic luminescent material. This is because, if the amount is too small, the effect is not obtained, and if the amount is too large, it becomes an energy trap and causes a decrease in luminous efficiency.

【0030】正孔輸送材としては、前述した正孔輸送材
を始め、下記する正孔輸送性の有機発光体、その他の正
孔輸送材料が使用可能であり、2種以上を混合して使用
してもよい。
As the hole transporting material, the following hole transporting materials, the following hole transporting organic light-emitting materials, and other hole transporting materials can be used. May be.

【0031】電子輸送材料としては、例えば、2−(4
−ビフェニルイル)−5−(4−tert−ブチルフェニ
ル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−(1−ナフ
チル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,
4−オキサジアゾール、1,4−ビス{2−[5−(4
−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ
リル]}ベンゼン、1,3−ビス{2−[5−(4−te
rt−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾリ
ル]}ベンゼン、4,4’−ビス{2−[5−(4−te
rt−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾリ
ル]}ビフェニル、2−(4−ビフェニルイル)−5−
(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−チオジア
ゾール、2−(1−ナフチル)−5−(4−tert−ブチ
ルフェニル)−1,3,4−チオジアゾール、1,4−
ビス{2−[5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,
3,4−チオジアゾリル]}ベンゼン、1,3−ビス
{2−[5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,
4−チオジアゾリル]}ベンゼン、4,4’−ビス{2
−[5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−
チオジアゾリル]}ビフェニル、3−(4−ビフェニル
イル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニ
ル)−1,2,4−トリアゾール、3−(1−ナフチ
ル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニ
ル)−1,2,4−トリアゾール、1,4−ビス{3−
[4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−
1,2,4−トリアゾリル]}ベンゼン、1,3−ビス
{3−[4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニ
ル)−1,3,4−オキサジアゾリル]}ベンゼン、
4,4’−ビス{2−[4−フェニル−5−(4−tert
−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾリ
ル]}ビフェニル、1,3,5−トリス{2−[5−
(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジ
アゾリル]}ベンゼンなどを挙げることができる。これ
らのものは、2種以上を混合して使用してもよい。その
他にも後述する電子輸送性の発光体、その他の公知の電
子輸送材を使用できる。
As the electron transporting material, for example, 2- (4
-Biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2- (1-naphthyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,3
4-oxadiazole, 1,4-bis {2- [5- (4
-Tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl]} benzene, 1,3-bis} 2- [5- (4-te
rt-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl] {benzene, 4,4′-bis} 2- [5- (4-te
rt-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl] biphenyl, 2- (4-biphenylyl) -5-
(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-thiodiazole, 2- (1-naphthyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-thiodiazole, 1,4-
Bis {2- [5- (4-tert-butylphenyl) -1,
3,4-thiodiazolyl] {benzene, 1,3-bis} 2- [5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,3
4-thiodiazolyl] {benzene, 4,4′-bis} 2
-[5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-
Thiodiazolyl] biphenyl, 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole, 3- (1-naphthyl) -4-phenyl-5 -(4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole, 1,4-bis {3-
[4-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl)-
1,2,4-triazolyl] {benzene, 1,3-bis {3- [4-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl]} benzene,
4,4'-bis {2- [4-phenyl-5- (4-tert
-Butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl] {biphenyl, 1,3,5-tris} 2- [5-
(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl] @benzene. These may be used as a mixture of two or more. In addition, an electron transporting luminescent material described later and other known electron transporting materials can be used.

【0032】有機発光層に用いられる電荷輸送性の有機
発光体としては、公知のものを使用可能で、例えば電子
輸送性発光体としては、2,5−ビス[5,7−ジ−t
−ペンチル−2−ベンゾオキサゾリル]チオフェン、
2,2’−(1,4−フェニレンジビニレン)ビスベン
ゾチアゾール、2,2’−(4,4’−ビフェニレン)
ビスベンゾチアゾール、5−メチル−2−{2−[4−
(5−メチル−2−ベンゾオキサゾリル)フェニル]ビ
ニル}ベンゾオキサゾール、2,5−ビス(5−メチル
−2−ベンゾオキサゾリル)チオフェン、ペリノン、ク
マリン、2−(4−ビフェニル)−6−フェニルベンゾ
オキサゾール、アルミニウムトリスオキシン、マグネシ
ウムビスオキシン、ビス(ベンゾ−8−キノリノール)
亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニ
ウムオキサイド、インジウムトリスオキシン、アルミニ
ウムトリス(5−メチルオキシン)、リチウムオキシ
ン、ガリウムトリスオキシン、カルシウムビス(5−ク
ロロオキシン)、ポリ亜鉛−ビス(8−ヒドロキシ−5
−キノリノリル)メタン、ジリチウムエピンドリジオ
ン、亜鉛ビスオキシン、亜鉛ビスベンゾオキシン、1,
2−フタロペリノン、1,2−ナフタロペリノンなどを
挙げることができる。
As the charge transporting organic light emitting material used in the organic light emitting layer, known materials can be used. For example, as the electron transporting light emitting material, 2,5-bis [5,7-di-t is used.
-Pentyl-2-benzoxazolyl] thiophene,
2,2 ′-(1,4-phenylenedivinylene) bisbenzothiazole, 2,2 ′-(4,4′-biphenylene)
Bisbenzothiazole, 5-methyl-2- {2- [4-
(5-Methyl-2-benzoxazolyl) phenyl] vinyl} benzoxazole, 2,5-bis (5-methyl-2-benzoxazolyl) thiophene, perinone, coumarin, 2- (4-biphenyl)- 6-phenylbenzoxazole, aluminum trisoxine, magnesium bisoxin, bis (benzo-8-quinolinol)
Zinc, bis (2-methyl-8-quinolinol) aluminum oxide, indium trisoxin, aluminum tris (5-methyloxin), lithium oxine, gallium trisoxin, calcium bis (5-chlorooxin), polyzinc-bis (8 -Hydroxy-5
-Quinolinolyl) methane, dilithium epindridione, zinc bisoxin, zinc bisbenzooxin, 1,
Examples thereof include 2-phthaloperinone and 1,2-naphthaloperinone.

【0033】電子輸送性の発光体を使用する場合は正孔
輸送材とともに使用することが好ましい。好ましい組み
合わせとしては、電子輸送性の発光体としてキノリノー
ル錯体やベンゾキノリノール錯体を使用する場合は、正
孔輸送材にジアリールアミノ化合物を使用することが好
ましい。より好ましい組み合わせは、アルミニウムトリ
スオキシン(電子輸送性発光体)または亜鉛ビスベンゾ
オキシン(電子輸送性発光体)と、N,N’−ジフェニ
ル−N,N’−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−
1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン(正孔輸送
材)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メ
チルフェニル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジ
アミン(正孔輸送材)、下記化合物(A)(正孔輸送
材):
When an electron transporting luminescent material is used, it is preferably used together with a hole transporting material. As a preferable combination, when a quinolinol complex or a benzoquinolinol complex is used as the electron-transporting luminous body, it is preferable to use a diarylamino compound as the hole-transporting material. A more preferred combination is aluminum trisoxine (electron transporting luminescent material) or zinc bisbenzooxin (electron transporting luminescent material) and N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3,4-dimethylphenyl). −
1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (hole transporting material), N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4 '-Diamine (hole transporting material), the following compound (A) (hole transporting material):

【化1】 4,4’,4”−トリス(N−カルバゾリル)トリフェ
ニルアミン、またはN,N’,N”−トリフェニル−
N,N’,N”−トリス(3−メチルフェニル)−1,
3,5−トリ(4−アミノフェニル)ベンゼンである。
Embedded image 4,4 ', 4 "-tris (N-carbazolyl) triphenylamine or N, N', N" -triphenyl-
N, N ', N "-tris (3-methylphenyl) -1,
3,5-tri (4-aminophenyl) benzene.

【0034】正孔輸送性発光体としては、エピドリジ
ン、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレ
ン、クリセン、ペリレン、1,4−ジフェニルブタジエ
ン、テトラフェニルブタジエン、アクリジン、スチルベ
ン、ジスチリル化合物、1,4−ビス(1,1−ジフェ
ニルビニル)ベンゼン、1,3−ビス(1,1−ジフェ
ニルビニル)ベンゼン、4,4’−ビス(1,1−ジフ
ェニルビニル)ビフェニル、2,5−ビス(1,1−ジ
フェニルビニル)ピリジン、2,5−ビス(1,1−ジ
フェニルビニル)チオフェン、2,5−ビス(1,1−
ジフェニルビニル)フラン、5,5’−ビス(1,1−
ジフェニルビニル)−2,2’−ビチオフェン、フェナ
ントロリン錯体、ビピリジル錯体等を挙げることができ
る。
Examples of the hole-transporting luminescent material include epidolidine, anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, chrysene, perylene, 1,4-diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, acridine, stilbene, distyryl compound, 1,4-bis ( 1,1-diphenylvinyl) benzene, 1,3-bis (1,1-diphenylvinyl) benzene, 4,4′-bis (1,1-diphenylvinyl) biphenyl, 2,5-bis (1,1- Diphenylvinyl) pyridine, 2,5-bis (1,1-diphenylvinyl) thiophene, 2,5-bis (1,1-
Diphenylvinyl) furan, 5,5'-bis (1,1-
Diphenylvinyl) -2,2'-bithiophene, phenanthroline complex, bipyridyl complex and the like.

【0035】また、一般的な螢光染料、例えば螢光クマ
リン染料、螢光ペリレン染料、螢光ピラン染料、螢光チ
オピラン染料、螢光ポリメチン染料、螢光メシアニン染
料、螢光イミダゾール染料等も使用できる。
In addition, general fluorescent dyes such as fluorescent coumarin dyes, fluorescent perylene dyes, fluorescent pyran dyes, fluorescent thiopyran dyes, fluorescent polymethine dyes, fluorescent methyanine dyes, fluorescent imidazole dyes and the like are also used. it can.

【0036】正孔輸送性の発光体を使用する場合は電子
輸送材とともに使用することが好ましい。好ましい組み
合わせとしては、正孔輸送性の発光体として、ジスチリ
ル化合物、ベンジジン化合物、縮合多環体化合物を使用
する場合は、電子輸送材にオキサジアゾール化合物、ト
リアゾール化合物、オキサゾール化合物を使用すること
が好ましい。より好ましい組み合わせは、ジスチリル化
合物(正孔輸送性発光体)とオキサジアゾール化合物
(電子輸送材)またはトリアゾール化合物(電子輸送
材)である。
When a hole transporting luminescent material is used, it is preferable to use it together with an electron transporting material. As a preferable combination, when a distyryl compound, a benzidine compound, or a condensed polycyclic compound is used as a hole-transporting light-emitting substance, an oxadiazole compound, a triazole compound, or an oxazole compound may be used as an electron transporting material. preferable. A more preferred combination is a distyryl compound (hole transporting luminescent material) and an oxadiazole compound (electron transporting material) or a triazole compound (electron transporting material).

【0037】有機発光層は単層構成でもよいし、発光の
色、発光の強度等の特性を調整するために、多層構成と
してもよい。また、2種以上の発光物質を混合したり発
光層にドープしてもよい。
The organic light-emitting layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure in order to adjust characteristics such as light emission color and light emission intensity. Further, two or more kinds of light-emitting substances may be mixed or the light-emitting layer may be doped.

【0038】有機発光層(3)は、有機発光体と電荷輸
送材料を共蒸着して形成してもよいし、該発光物質と電
荷輸送材料を溶解した溶液や適当な樹脂とともに溶解し
た液をディップコートやスピンコートして形成してもよ
い。
The organic light-emitting layer (3) may be formed by co-evaporation of an organic light-emitting substance and a charge transport material, or a solution in which the light-emitting substance and the charge transport material are dissolved or a solution in which a suitable resin is dissolved. It may be formed by dip coating or spin coating.

【0039】蒸着法で形成する場合、その厚さは、通常
1〜500nmであり、塗布法で形成する場合は、5〜
1000nm程度に形成すればよい。
The thickness is usually from 1 to 500 nm when formed by a vapor deposition method, and from 5 to 500 nm when formed by a coating method.
The thickness may be about 1000 nm.

【0040】形成する膜厚が厚いほど発光させるための
印加電圧を高くする必要があり発光効率が悪く電界発光
素子の劣化を招きやすい。また膜厚が薄くなると発光効
率はよくなるがブレイクダウンしやすくなり電界発光素
子の寿命が短くなる。
It is necessary to increase the applied voltage for emitting light as the thickness of the formed film increases, so that the luminous efficiency is poor and the electroluminescent element is liable to be deteriorated. When the film thickness is small, the luminous efficiency is improved, but the breakdown is easy and the life of the electroluminescent element is shortened.

【0041】有機発光層(3)の上に電子輸送層(4)
を形成する。電子輸送層には、上記した電子輸送材料お
よび電子輸送性の発光体を電子輸送材料として使用して
もよい。
Electron transport layer (4) on organic light emitting layer (3)
To form For the electron transporting layer, the above-described electron transporting material and the electron transporting luminescent material may be used as the electron transporting material.

【0042】電子輸送層は電子輸送材料を蒸着してもよ
いし、電子輸送材料を溶解した溶液や適当な樹脂ととも
に溶解した液をディップコートやスピンコートしてもよ
い。
The electron transporting layer may be formed by vapor deposition of an electron transporting material, or dip coating or spin coating of a solution in which the electron transporting material is dissolved or a solution in which a suitable resin is dissolved.

【0043】蒸着法で形成する場合、その厚さは、通常
1〜500nmであり、塗布法で形成する場合は、5〜
1000nm程度に形成すればよい。
When formed by the vapor deposition method, the thickness is usually 1 to 500 nm, and when formed by the coating method, the thickness is 5 to 500 nm.
The thickness may be about 1000 nm.

【0044】形成する膜厚が厚いと発光させるための印
加電圧を高くする必要があり、電界発光素子の劣化を招
きやすい。また膜厚が薄いと発光効率は向上するがブレ
イクダウンしやすくなり、電界発光素子の寿命が短くな
る。次に、電子輸送層の上に、前記した電子注入電極を
形成する。
When the film thickness is large, it is necessary to increase the applied voltage for causing light emission, which easily causes deterioration of the electroluminescent element. Further, when the film thickness is small, the luminous efficiency is improved, but the breakdown is easy, and the life of the electroluminescent element is shortened. Next, the above-described electron injection electrode is formed on the electron transport layer.

【0045】以上、正孔注入電極(1)上に正孔輸送層
(2)、有機発光層(3)および、電子輸送層(4)、
電子注入電極(5)を順次積層して電界発光素子を形成
する場合について説明したが、正孔注入電極(1)上に
正孔注入層(6)、正孔輸送層(2)、有機発光層
(3)、電子輸送層(4)および電子注入電極(5)を
順次積層したり、電子注入電極(5)上に、電子輸送層
(4)、有機発光層(3)および、正孔輸送層(2)、
正孔注入電極(1)を順次積層したり、正孔注入電極
(1)上に正孔輸送層(2)、有機発光層(3)、電子
輸送層(4)、電子注入層(7)および、電子注入電極
(5)を順次積層したり、正孔注入電極(1)上に正孔
注入層(6)、正孔輸送層(2)、有機発光層(3)お
よび、電子輸送層(4)、電子注入層(7)、正孔注入
電極(5)を順次積層したりしてももちろん構わない。
As described above, the hole transport layer (2), the organic light emitting layer (3), and the electron transport layer (4) were formed on the hole injection electrode (1).
The case where the electron injecting electrode (5) is sequentially laminated to form the electroluminescent element has been described. The hole injecting layer (6), the hole transporting layer (2), and the organic light emitting element are formed on the hole injecting electrode (1). The layer (3), the electron transport layer (4) and the electron injection electrode (5) are sequentially laminated, or the electron transport layer (4), the organic light emitting layer (3), and the hole are provided on the electron injection electrode (5). Transport layer (2),
The hole injection electrode (1) is sequentially laminated, or a hole transport layer (2), an organic light emitting layer (3), an electron transport layer (4), and an electron injection layer (7) are formed on the hole injection electrode (1). And, the electron injection electrode (5) is sequentially laminated, or the hole injection layer (6), the hole transport layer (2), the organic light emitting layer (3), and the electron transport layer are formed on the hole injection electrode (1). Of course, (4), the electron injection layer (7) and the hole injection electrode (5) may be sequentially laminated.

【0046】図2あるいは図4に示したごとく正孔注入
電極(1)上に正孔注入層(6)を形成する場合、正孔
輸送材料や、フタロシアニン化合物、炭素等を用い、蒸
着法にて薄膜を形成することにより厚さ1〜20nm程
度に形成される。その厚さが厚すぎると輸送性が悪いた
め発光強度が弱かったり、劣化をまねきやすくなったり
といった弊害があり、薄すぎると膜としての機能が働か
ず、ブレークダウンが生じたり、劣化の原因となる問題
が生じる。
When the hole injection layer (6) is formed on the hole injection electrode (1) as shown in FIG. 2 or FIG. 4, a hole transporting material, a phthalocyanine compound, carbon or the like is used, and a vapor deposition method is used. By forming a thin film, the thickness is about 1 to 20 nm. If the thickness is too thick, the light-emitting intensity is weak because of poor transportability, or there is an adverse effect such that deterioration tends to be caused.If the thickness is too thin, the function as a film does not work, breakdown occurs or the cause of deterioration is caused. Problem arises.

【0047】また図3あるいは図4に示したごとく電子
注入層(7)を形成する場合、電子注入層は、例えば電
子輸送材料と電子注入電極の金属材料を用い、共蒸着す
ることにより、厚さ1〜20nmの程度に形成される。
その厚さが厚すぎると、電子の輸送が充分でなかった
り、劣化したりする。薄すぎると膜としての機能を達成
できなくなる。
When the electron injecting layer (7) is formed as shown in FIG. 3 or FIG. 4, the electron injecting layer is made of, for example, an electron transporting material and a metal material for an electron injecting electrode, and is formed by co-evaporation. The thickness is about 1 to 20 nm.
If the thickness is too large, electron transport is not sufficient or the electron is deteriorated. If it is too thin, the function as a film cannot be achieved.

【0048】電子注入電極と正孔注入電極の1組の透明
電極は、各電極にニクロム線、金線、銅線、白金線等の
適当なリード線(8)を接続し、電界発光素子は両電極
に適当な電圧(Vs)を印加することにより発光する。
本発明の電界発光素子は、各種の表示装置、あるいはデ
ィスプレイ装置等に適用可能である。
One set of transparent electrodes, ie, an electron injection electrode and a hole injection electrode, is connected to an appropriate lead wire (8) such as a nichrome wire, a gold wire, a copper wire, a platinum wire, etc. Light is emitted by applying an appropriate voltage (Vs) to both electrodes.
The electroluminescent device of the present invention is applicable to various display devices, display devices, and the like.

【0049】[0049]

【実施例】以下に実施例を記載し本発明を説明する。 実施例1 インジウムスズ酸化物被覆ガラス基板上に正孔輸送層と
して、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−ジメチ
ルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミン
を蒸着により厚さ40nmの薄膜を形成した。次に、有
機発光層としてアルミニウムトリスオキシンとN,N'−
ジフェニル−N,N'−ビス(3−ジメチルフェニル)−
1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミンを重量比で10
0:1になるように共蒸着により20nmの厚さで薄膜
を形成した。次に、電子輸送層としてアルミニウムトリ
スオキシンを蒸着により40nmの厚さになるように薄
膜を形成した。次に、陰極としてAlを蒸着により20
0nmの厚さになるように薄膜を形成した。このように
して、電界発光素子を作製した。
The present invention will be described below with reference to examples. Example 1 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-dimethylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'- as a hole transport layer on an indium tin oxide-coated glass substrate Diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 40 nm. Next, aluminum trisoxine and N, N'-
Diphenyl-N, N'-bis (3-dimethylphenyl)-
1,1'-diphenyl-4,4'-diamine was added in a weight ratio of 10
A thin film having a thickness of 20 nm was formed by co-evaporation so as to have a ratio of 0: 1. Next, a thin film having a thickness of 40 nm was formed by vapor deposition of aluminum trisoxine as an electron transport layer. Next, as a cathode, Al was vapor-deposited for 20 minutes.
A thin film was formed so as to have a thickness of 0 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0050】実施例2 実施例1において有機発光層として、アルミニウムトリ
スオキシンとN,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−
ジメチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジ
アミンを重量比で10:1になるように共蒸着により2
0nmの厚さに薄膜を形成すること以外は実施例1と全
く同様にして電界発光素子を作製した。
Example 2 In Example 1, aluminum trisoxine and N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-
(Dimethylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine by co-evaporation at a weight ratio of 10: 1.
An electroluminescent device was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that a thin film was formed to a thickness of 0 nm.

【0051】実施例3 インジウムスズ酸化物被覆ガラス基板上に正孔輸送層と
して、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−メチル
フェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミンを
蒸着により厚さ30nmの薄膜を形成した。次に、有機
発光層としてアルミニウムトリスオキシンとN,N'−ジ
フェニル−N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−1,1'
−ジフェニル−4,4'−ジアミンを重量比で100:1
になるように共蒸着により40nmの厚さで薄膜を形成
した。次に、電子輸送層としてアルミニウムトリスオキ
シンを蒸着により30nmの厚さになるように薄膜を形
成した。次に、陰極としてAl蒸着により200nmの
厚さになるように薄膜を形成した。このようにして、電
界発光素子を作製した。
Example 3 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) was formed on a glass substrate coated with indium tin oxide. A thin film having a thickness of 30 nm was formed by vapor deposition of 4′-diamine. Next, aluminum trisoxine and N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1 ′ were used as an organic light emitting layer.
-Diphenyl-4,4'-diamine in a weight ratio of 100: 1
Then, a thin film having a thickness of 40 nm was formed by co-evaporation. Next, a thin film having a thickness of 30 nm was formed by vapor deposition of aluminum trisoxine as an electron transporting layer. Next, a thin film was formed as a cathode by Al vapor deposition to have a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0052】実施例4 実施例1において有機発光層として、アルミニウムトリ
スオキシンとN,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−
ジメチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジ
アミンを重量比で10:1になるように共蒸着により4
0nmの厚さに薄膜を形成すること以外は実施例1と全
く同様にして電界発光素子を作製した。
Example 4 In Example 1, aluminum trisoxine and N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-
(Dimethylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine by co-evaporation at a weight ratio of 10: 1.
An electroluminescent device was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that a thin film was formed to a thickness of 0 nm.

【0053】実施例5 実施例1において有機発光層として、アルミニウムトリ
スオキシンとN,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−
ジメチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジ
アミンを重量比で1:1になるように共蒸着により40
nmの厚さに薄膜を形成すること以外は実施例1と全く
同様にして電界発光素子を作製した。
Example 5 In Example 1, aluminum trisoxine and N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-
(Dimethylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was co-deposited in a weight ratio of 1: 1 by co-evaporation.
An electroluminescent device was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that a thin film was formed to a thickness of nm.

【0054】実施例6 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−ジメ
チルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミ
ンを蒸着により厚さ45nmの薄膜を形成した。次に、
有機発光層としてアルミニウムトリスオキシンとN,N'
−ジフェニル−N,N'−ビス(3−ジメチルフェニル)−
1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミンを重量比で1:
1になるように共蒸着により10nmの厚さで薄膜を形
成した。次に、電子輸送層としてアルミニウムトリスオ
キシンを蒸着により45nmの厚さになるように薄膜を
形成した。次に、陰極としてAlを蒸着により200n
mの厚さになるように薄膜を形成した。このようにし
て、電界発光素子を作製した。
Example 6 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-dimethylphenyl) -1,1'-diphenyl-4 was used as a hole transport layer on a substrate of indium tin oxide coated glass. A thin film having a thickness of 45 nm was formed by vapor deposition of 4,4'-diamine. next,
Aluminum trisoxine and N, N 'as organic light emitting layer
-Diphenyl-N, N'-bis (3-dimethylphenyl)-
1,1′-diphenyl-4,4′-diamine is added in a weight ratio of 1:
A thin film having a thickness of 10 nm was formed by co-evaporation to have a thickness of 1. Next, a thin film having a thickness of 45 nm was formed by vapor deposition of aluminum trisoxine as an electron transporting layer. Next, as a cathode, Al was vapor-deposited for 200 n.
A thin film was formed to have a thickness of m. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0055】比較例1 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−メチ
ルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミン
を蒸着により厚さ50nmの薄膜を形成した。次に、有
機発光層としてアルミニウムトリスオキシンを蒸着によ
り厚さ50nmの薄膜を形成した。次に、陰極としてA
lを蒸着により200nmの厚さになるように薄膜を形
成した。このようにして、二層型の電界発光素子を作製
した。
Comparative Example 1 N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-diphenyl-4 was formed as a hole transport layer on a substrate of indium tin oxide coated glass. A thin film having a thickness of 50 nm was formed by vapor deposition of 4,4′-diamine. Next, a thin film having a thickness of 50 nm was formed as an organic light emitting layer by vapor deposition of aluminum trisoxine. Next, A as a cathode
A thin film was formed by vapor deposition to a thickness of 200 nm. Thus, a two-layer type electroluminescent device was manufactured.

【0056】評価 実施例1〜6および比較例1で得られた電界発光素子
を、そのガラス電極を陽極として、直流電圧を徐々に印
加し、20mA/cm2の電流密度で作動させた時およ
び60mA/cm2の電流密度で作動させた時の発光輝
度(cd/m2)を測定した。測定結果を表1にまとめて
示す。
Evaluation When the electroluminescent devices obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 were operated at a current density of 20 mA / cm 2 by gradually applying a DC voltage using the glass electrode as an anode, and The emission luminance (cd / m 2 ) when operated at a current density of 60 mA / cm 2 was measured. Table 1 summarizes the measurement results.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】実施例7 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3,4−ジ
メチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジア
ミンを蒸着し厚さ50nmの薄膜を形成した。次に、有
機発光層として、アルミニウムトリスオキシンとN,N'
−ジフェニル−N,N'−ビス(3,4−ジメチルフェニ
ル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミンを重量比
で10:1になるように共蒸着し、20nmの厚さに薄
膜を形成した。
Example 7 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3,4-dimethylphenyl) -1,1'-diphenyl was used as a hole transport layer on a glass substrate coated with indium tin oxide. -4,4'-Diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 50 nm. Next, as an organic light emitting layer, aluminum trisoxine and N, N '
-Diphenyl-N, N'-bis (3,4-dimethylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine is co-deposited in a weight ratio of 10: 1, and has a thickness of 20 nm. Then, a thin film was formed.

【0059】次に、電子輸送層としてアルミニウムトリ
スオキシンを蒸着し50nmの厚さになるように薄膜を
形成した。
Next, aluminum trisoxin was deposited as an electron transporting layer to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【0060】最後に、電子注入電極として10:1の原
子比のMgおよびAgを蒸着し200nmの厚さになる
ように薄膜を形成した。このようにして、電界発光素子
を作製した。
Finally, Mg and Ag were deposited at an atomic ratio of 10: 1 as an electron injection electrode to form a thin film having a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0061】実施例8 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−メチ
ルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミン
を蒸着により厚さ50nmの薄膜を形成した。
Example 8 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4 was used as a hole transport layer on a glass substrate coated with indium tin oxide. A thin film having a thickness of 50 nm was formed by vapor deposition of 4,4′-diamine.

【0062】次に、有機発光層としてアルミニウムトリ
スオキシンとN,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−
メチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジア
ミンを重量比で20:1になるように共蒸着し20nm
の厚さに薄膜を形成した。
Next, aluminum trisoxine and N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-
Methylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was co-deposited at a weight ratio of 20: 1, and 20 nm
To form a thin film.

【0063】次に、電子輸送層としてアルミニウムトリ
スオキシンを蒸着により50nmの厚さになるように薄
膜を形成した。
Next, as an electron transporting layer, a thin film was formed to a thickness of 50 nm by vapor deposition of aluminum trisoxine.

【0064】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着し200nmの厚さになるよ
うに薄膜を形成した。このようにして、電界発光素子を
作製した。
Next, Mg and Ag having an atomic ratio of 10: 1 were deposited as an electron injection electrode to form a thin film having a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0065】実施例9 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、下記化合物(A)を蒸着し厚さ50nmの薄膜を
形成した。
Example 9 The following compound (A) was deposited as a hole transport layer on a glass substrate coated with indium tin oxide to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【化2】 Embedded image

【0066】次に、有機発光層としてアルミニウムトリ
スオキシンと化合物(A)を重量比で30:1になるよう
に共蒸着し30nmの厚さにで薄膜を形成した。
Next, aluminum trisoxine and the compound (A) were co-deposited as an organic light emitting layer at a weight ratio of 30: 1 to form a thin film having a thickness of 30 nm.

【0067】次に、電子輸送層として下記トリアゾール
化合物(B)を蒸着し30nmの厚さになるように薄膜を
形成した。
Next, the following triazole compound (B) was deposited as an electron transporting layer to form a thin film having a thickness of 30 nm.

【化3】 Embedded image

【0068】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着により200nmの厚さにな
るように薄膜を形成した。このようにして、電界発光素
子を作製した。
Next, a thin film of 200 nm in thickness was formed by vapor deposition of Mg and Ag in an atomic ratio of 10: 1 as an electron injection electrode. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0069】実施例10 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔注入層
として下記化合物(C)を蒸着により厚さ10nmの薄膜
を形成した。
Example 10 A thin film having a thickness of 10 nm was formed on a substrate of indium tin oxide-coated glass by vapor deposition of the following compound (C) as a hole injection layer.

【化4】 Embedded image

【0070】次に、正孔注入層の上に、正孔輸送層とし
て、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(1−ナフチル)
−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジアミンを蒸着し、厚
さ50nmの薄膜を形成した。
Next, on the hole injection layer, as a hole transport layer, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (1-naphthyl)
-1,1′-Diphenyl-4,4′-diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【0071】次に、有機発光層としてアルミニウムトリ
スオキシンとN,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(1−
ナフチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジ
アミンを重量比で15:1になるように共蒸着し、30
nmの厚さで薄膜を形成した。
Next, aluminum trisoxine and N, N'-diphenyl-N, N'-bis (1-
(Naphthylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was co-deposited in a weight ratio of 15: 1, and 30
A thin film was formed with a thickness of nm.

【0072】次に、電子輸送層として下記のオキサジア
ゾール化合物(D)を蒸着し40nmの厚さになるように
薄膜を形成した。
Next, the following oxadiazole compound (D) was deposited as an electron transport layer to form a thin film having a thickness of 40 nm.

【化5】 Embedded image

【0073】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着し200nmの厚さになるよ
うに薄膜を形成した。このようにして、電界発光素子を
作製した。
Next, Mg and Ag having an atomic ratio of 10: 1 were deposited as an electron injection electrode to form a thin film having a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0074】実施例11 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔注入層
として、4,4',4"−トリス[N,N',N"−トリフェニ
ル−N,N',N"−トリス(3−メチルフェニル)]トリフ
ェニルアミンを蒸着し厚さ5nmの薄膜を形成した。
Example 11 4,4 ', 4 "-tris [N, N', N" -triphenyl-N, N ', N "as a hole injection layer on a substrate of indium tin oxide coated glass [Tris (3-methylphenyl)] triphenylamine was deposited to form a thin film having a thickness of 5 nm.

【0075】次に、正孔注入層の上に、正孔輸送層とし
て、4,4',4"−トリス(N−カルバゾリル)トリフェニ
ルアミンを蒸着し厚さ45nmの薄膜を形成した。
Next, on the hole injecting layer, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N-carbazolyl) triphenylamine was deposited as a hole transporting layer to form a thin film having a thickness of 45 nm.

【0076】次に、有機発光層として亜鉛ビスベンゾオ
キシンと4,4',4"−トリス(N−カルバゾリル)トリフ
ェニルアミンを重量比で100:1になるように共蒸着
し15nmの厚さで薄膜を形成した。
Next, zinc bisbenzooxine and 4,4 ', 4 "-tris (N-carbazolyl) triphenylamine were co-deposited as an organic light emitting layer in a weight ratio of 100: 1, and a thickness of 15 nm was obtained. To form a thin film.

【0077】その上に電子輸送層として、3−(4−ビ
フェニルイル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチル
フェニル)−1,2,4−トリアゾ−ルを蒸着し30nm
の厚さになるように薄膜を形成した。
On top of that, 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole was deposited as an electron transporting layer to a thickness of 30 nm.
A thin film was formed to have a thickness of.

【0078】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着により200nmの厚さにな
るように薄膜を形成した。このようにして、電界発光素
子を作製した。
Next, as an electron injection electrode, a thin film was formed by vapor deposition of Mg and Ag at an atomic ratio of 10: 1 to a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0079】実施例12 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3,4−ジ
メチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジア
ミンを蒸着し厚さ50nmの薄膜を形成した。
Example 12 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3,4-dimethylphenyl) -1,1'-diphenyl was used as a hole transport layer on an indium tin oxide coated glass substrate. -4,4'-Diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【0080】次に、有機発光層として下記ジスチリル化
合物(E)とオキサジアゾール化合物(D)を重量比で2
0:3になるように共蒸着により20nmの厚さで薄膜
を形成した。
Next, the following distyryl compound (E) and oxadiazole compound (D) were used in an organic light emitting layer in a weight ratio of 2:
A thin film having a thickness of 20 nm was formed by co-evaporation so that the ratio became 0: 3.

【化6】 Embedded image

【0081】次に、電子輸送層としてオキサジアゾール
化合物(D)を蒸着し30nmの厚さになるように薄膜を
形成した。
Next, an oxadiazole compound (D) was deposited as an electron transporting layer to form a thin film having a thickness of 30 nm.

【0082】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着により200nmの厚さにな
るように薄膜を形成した。このようにして、電界発光素
子を作製した。
Next, as an electron injection electrode, a thin film having a thickness of 200 nm was formed by vapor deposition of Mg and Ag at an atomic ratio of 10: 1. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0083】実施例13 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N',N"−トリフェニル−N,N',N"−トリ
ス(3−メチルフェニル)−1,3,5−トリ(4−アミノ
フェニル)ベンゼンを蒸着により厚さ50nmの薄膜を
形成した。
Example 13 N, N ', N "-triphenyl-N, N', N" -tris (3-methylphenyl) -1 was used as a hole transport layer on a glass substrate coated with indium tin oxide. A thin film having a thickness of 50 nm was formed by vapor deposition of 3,5-tri (4-aminophenyl) benzene.

【0084】次に、有機発光層としてアルミニウムトリ
スオキシンとN,N',N"−トリフェニル−N,N',N"−
トリス(3−メチルフェニル)−1,3,5−トリ(4−ア
ミノフェニル)ベンゼンを重量比で20:1になるよう
に共蒸着し30nmの厚さで薄膜を形成した。
Next, aluminum trisoxine and N, N ', N "-triphenyl-N, N', N"-
Tris (3-methylphenyl) -1,3,5-tri (4-aminophenyl) benzene was co-deposited at a weight ratio of 20: 1 to form a thin film having a thickness of 30 nm.

【0085】次に、電子輸送層としてアルミニウムトリ
スオキシンを蒸着し45nmの厚さになるように薄膜を
形成した。
Next, aluminum trisoxine was deposited as an electron transport layer to form a thin film having a thickness of 45 nm.

【0086】その上に、電子注入層としてアルミニウム
トリオキシンとMgを重量比で30:1となるように共
蒸着し5nmの厚さで薄膜を形成した。
Further, aluminum trioxin and Mg were co-deposited as an electron injection layer at a weight ratio of 30: 1 to form a thin film having a thickness of 5 nm.

【0087】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着し200nmの厚さになるよ
うに薄膜を形成した。このようにして、電界発光素子を
作製した。
Next, as an electron injection electrode, Mg and Ag having an atomic ratio of 10: 1 were deposited to form a thin film having a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0088】実施例14 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3,4−ジ
メチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジア
ミンを蒸着し厚さ50nmの薄膜を形成した。
Example 14 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3,4-dimethylphenyl) -1,1'-diphenyl was used as a hole transport layer on a glass substrate coated with indium tin oxide. -4,4'-Diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【0089】次に、有機発光層としてジスチリル化合物
(E)と下記トリアゾール化合物(F)を重量比で30:
1になるように共蒸着し20nmの厚さで薄膜を形成し
た。
Next, a distyryl compound is used as the organic light emitting layer.
(E) and the following triazole compound (F) in a weight ratio of 30:
The thin film was formed by co-evaporation so as to have a thickness of 20 nm.

【化7】 Embedded image

【0090】次に、電子輸送層としてトリアゾール化合
物(F)を蒸着し30nmの厚さになるように薄膜を形
成した。
Next, a triazole compound (F) was deposited as an electron transporting layer to form a thin film having a thickness of 30 nm.

【0091】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着し200nmの厚さになるよ
うに薄膜を形成した。このようにして、電界発光素子を
作製した。
Next, as an electron injection electrode, Mg and Ag having an atomic ratio of 10: 1 were deposited to form a thin film having a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0092】比較例2 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3,4−ジ
メチルフェニル)−1,1'−ジフェニル−4,4'−ジア
ミンを蒸着し厚さ50nmの薄膜を形成した。
Comparative Example 2 N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3,4-dimethylphenyl) -1,1′-diphenyl was used as a hole transport layer on a substrate of indium tin oxide coated glass. -4,4'-Diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【0093】次に、有機発光層としてアルミニウムトリ
スオキシンを蒸着し20nmの厚さで薄膜を形成した。
Next, aluminum trisoxin was deposited as an organic light emitting layer to form a thin film having a thickness of 20 nm.

【0094】次に、電子輸送層としてアルミニウムトリ
スオキシンを蒸着し50nmの厚さになるように薄膜を
形成した。
Next, aluminum trisoxine was deposited as an electron transporting layer to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【0095】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着し200nmの厚さになるよ
うに薄膜を形成した。このようにして、電界発光素子を
作製した。
Next, as an electron injection electrode, Mg and Ag having an atomic ratio of 10: 1 were deposited to form a thin film having a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0096】比較例3 インジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に正孔輸送層
として、化合物(A)を蒸着し厚さ50nmの薄膜を形成
した。
Comparative Example 3 A compound (A) was deposited as a hole transport layer on a substrate of indium tin oxide coated glass to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【0097】次に、有機発光層としてアルミニウムトリ
スオキシンを蒸着し30nmの厚さで薄膜を形成した。
Next, aluminum trisoxin was deposited as an organic light emitting layer to form a thin film having a thickness of 30 nm.

【0098】次に、電子輸送層としてトリアゾール化合
物(B)を蒸着し30nmの厚さになるように薄膜を形成
した。
Next, a triazole compound (B) was deposited as an electron transporting layer to form a thin film having a thickness of 30 nm.

【0099】次に、電子注入電極として10:1の原子
比のMgおよびAgを蒸着し200nmの厚さになるよ
うに薄膜を形成した。このようにして、電界発光素子を
作製した。
Next, Mg and Ag having an atomic ratio of 10: 1 were deposited as an electron injection electrode to form a thin film having a thickness of 200 nm. Thus, an electroluminescent device was manufactured.

【0100】評価 実施例7〜14および比較例1〜3で得られた電界発光
素子を、そのガラス電極を正孔注入電極として、直流電
圧を除々に電圧を印加した時に発光を開始する電圧(V)
および、10Vの直流電圧をかけた時の発光輝度(cd
/m2)を測定した。
Evaluation The voltage at which light emission starts when the DC voltage is gradually applied to the electroluminescent devices obtained in Examples 7 to 14 and Comparative Examples 1 to 3 with a glass electrode used as a hole injection electrode is used. V)
And the emission luminance (cd) when a DC voltage of 10 V is applied.
/ M 2 ) was measured.

【0101】また、5mA/cm2の電流密度で10時
間作動させた時の初期出力の低下率(%)(10時間後の
出力(mW/cm2)/初期出力(mW/cm2)×100)
を求めた。測定結果を表2にまとめて示す。
Also, the decrease rate (%) of the initial output when operated at a current density of 5 mA / cm 2 for 10 hours (output (mW / cm 2 ) after 10 hours / initial output (mW / cm 2 ) × 100)
I asked. Table 2 summarizes the measurement results.

【0102】[0102]

【表2】 [Table 2]

【0103】表2からわかるように、本発明の電界発光
素子は低電位で発光を開始し、良好な発光輝度を示し
た。
As can be seen from Table 2, the electroluminescent device of the present invention started to emit light at a low potential and exhibited good light emission luminance.

【0104】また、本発明の電界発光素子は出力低下が
少なく、寿命の長い安定な発光を観測することができ
た。
Further, in the electroluminescent device of the present invention, stable light emission having a long life and little decrease in output was able to be observed.

【0105】本発明の電界発光素子は発光効率、発光輝
度の向上と長寿命化を達成するものであり、併せて使用
される発光物質、発光補助材料、電荷輸送材料、増感
剤、樹脂、電極材料等および素子作製方法に限定される
ものではない。
The electroluminescent device of the present invention achieves an improvement in luminous efficiency, luminous brightness and a long life. The luminescent substance, luminescent auxiliary material, charge transport material, sensitizer, resin, It is not limited to the electrode material and the like and the element manufacturing method.

【0106】[0106]

【発明の効果】本発明により、正孔注入電極上に正孔輸
送層と有機発光層、電子輸送層および電子注入電極を設
けた電界発光素子において、有機発光層に電荷輸送材料
を含有することにより、発光輝度が高く発光開始電圧が
低い耐久性に優れた電界発光素子を得ることができる。
According to the present invention, in an electroluminescent device having a hole transport layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer and an electron injection electrode provided on a hole injection electrode, the organic light emitting layer contains a charge transport material. As a result, an electroluminescent element having high light emission luminance, low light emission start voltage, and excellent durability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る電界発光素子の一構成例の概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of one configuration example of an electroluminescent device according to the present invention.

【図2】 本発明に係る電界発光素子の一構成例の概略
断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a configuration example of an electroluminescent device according to the present invention.

【図3】 本発明に係る電界発光素子の一構成例の概略
断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a configuration example of an electroluminescent device according to the present invention.

【図4】 本発明に係る電界発光素子の一構成例の概略
断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view of a configuration example of an electroluminescent device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:正孔注入電極 2:正孔輸送層 3:有機発光層 4:電子輸送層 5:電子注入電極 6:正孔注入層 7:電子注入層 8:リード線 1: hole injection electrode 2: hole transport layer 3: organic light emitting layer 4: electron transport layer 5: electron injection electrode 6: hole injection layer 7: electron injection layer 8: lead wire

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 竜雄 愛知県名古屋市中川区西日置1丁目5番6 号 (72)発明者 柘植 仁志 三重県桑名市大山田5丁目7番地5 (72)発明者 植田 秀昭 大阪府大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 寺阪 佳久 大阪府大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tatsuo Mori 1-5-6, Nishihioki, Nakagawa-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture (72) Inventor Hitoshi Tsuge 5-7-5 Oyamada, Kuwana-shi, Mie Prefecture (72) Invention Person Hideaki Ueda 2-3-113 Azuchicho, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Osaka International Building Minolta Co., Ltd. (72) Inventor Yoshihisa Terasaka 2-3-13-Azuchicho, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Osaka International Building Minolta stock In company

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 正孔注入電極と電子注入電極との間に少
なくとも正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を有する
電界発光素子において、有機発光層が電子輸送性発光体
と正孔輸送材を含有することを特徴とする電界発光素
子。
1. An electroluminescent device having at least a hole transporting layer, an organic light emitting layer, and an electron transporting layer between a hole injecting electrode and an electron injecting electrode, wherein the organic light emitting layer is composed of an electron transporting luminescent material and a hole transporting material. An electroluminescent device comprising a material.
【請求項2】 正孔注入電極と電子注入電極との間に少
なくとも正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を有する
電界発光素子において、有機発光層が正孔輸送性発光体
と電子輸送材を含有することを特徴とする電界発光素
子。
2. An electroluminescent device having at least a hole transporting layer, an organic light emitting layer, and an electron transporting layer between a hole injecting electrode and an electron injecting electrode, wherein the organic light emitting layer has a hole transporting light emitting material and an electron transporting layer. An electroluminescent device comprising a material.
【請求項3】 有機発光層に含まれる正孔輸送材の量が
電子輸送性発光体の0.5〜100重量%含有すること
を特徴とする請求項1記載の電界発光素子。
3. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the amount of the hole transporting material contained in the organic light emitting layer is 0.5 to 100% by weight of the electron transporting luminescent material.
【請求項4】 有機発光層に含まれる電子輸送材の量が
正孔輸送性発光体の0.5〜100重量%含有すること
を特徴とする請求項2記載の電界発光素子。
4. The electroluminescent device according to claim 2, wherein the amount of the electron transporting material contained in the organic light emitting layer is 0.5 to 100% by weight of the hole transporting luminescent material.
JP9074952A 1997-03-27 1997-03-27 Electroluminescent element Pending JPH10270166A (en)

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