JPH10106048A - Method of making and processing stamper for information recording disk and device therefor, and stamper and information recording disk - Google Patents

Method of making and processing stamper for information recording disk and device therefor, and stamper and information recording disk

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JPH10106048A
JPH10106048A JP27164596A JP27164596A JPH10106048A JP H10106048 A JPH10106048 A JP H10106048A JP 27164596 A JP27164596 A JP 27164596A JP 27164596 A JP27164596 A JP 27164596A JP H10106048 A JPH10106048 A JP H10106048A
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JP
Japan
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stamper
information recording
recording disk
electrolytic
information
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Application number
JP27164596A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Shirasagi
俊彦 白鷺
Hiroshi Yubi
啓 由尾
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Sony Music Solutions Inc
Original Assignee
Sony Disc Technology Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate peeling failure between each stamper and unevenness of peeling on disk substrate surface by electrolytic etching the stamper after an electrolytic cleaning process which is one of a stamper making processing operation. SOLUTION: During a processing operation of stamper 5, when a stamper consisting of a metal layer and a plating layer has been peeled off from a glass master disk, this stamper 5 is connected with a switching circuit 7 and immersed in electrolytic bath 2 filled with electrolytic solution 3. A polarity of a voltage is changed over with the switching circuit 7 so that an electrode 4 becomes an anode and the stamper 5 becomes a cathode. Thus, resist, etc., adhered to the surface of the stamper 5 are electrclytically cleaned. Next, the voltage polarity is changed over with the switching circuit 7 so that the electrode 4 becomes a cathode and the stamper becomes an anode. Thus, the surface of the stamper 5 is electrolytically etched and an oxide film is formed thereon.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、情報記録ディス
クを成形するためのスタンパの作成処理方法及びその装
置、並びにその作成処理方法又はその装置により作成さ
れたスタンパ及びそのスタンパにより成形された情報記
録ディスクに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for producing a stamper for molding an information recording disk, a stamper produced by the method or the apparatus, and an information recording apparatus formed by the stamper. It is about a disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】情報記録ディスクとしては、例えば光を
用いて情報が再生されるコンパクトディスク等の光ディ
スクがある。この光ディスクの情報を再生する光ディス
ク装置は、例えば以下のように動作する。即ち、光ディ
スク装置に内蔵されている光学ピックアップの発光素子
が、レーザー光等の光を回転駆動される光ディスクの信
号記録面に対して照射し、光学ピックアップの受光素子
が、この光ディスクの信号記録面からの戻り光を検出し
て情報信号に変換する。そして、光ディスク装置に内蔵
されている再生回路が、その情報信号を読み取ることに
より情報を再生する。
2. Description of the Related Art Information recording disks include, for example, optical disks such as compact disks from which information is reproduced using light. An optical disk device for reproducing information on the optical disk operates, for example, as follows. That is, a light emitting element of an optical pickup built in an optical disk device irradiates a signal recording surface of a rotationally driven optical disk with light such as a laser beam, and a light receiving element of the optical pickup emits a signal recording surface of the optical disk. , And converts it into an information signal. Then, a reproducing circuit built in the optical disk device reproduces information by reading the information signal.

【0003】このような光ディスクは、ポリカーボネイ
ト(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等
の透明な合成樹脂材料によって形成されるディスク基板
を備えている。このディスク基板は、後述するスタンパ
を用いて射出成形される。ディスク基板の主面上には、
所定の情報ピットにより情報信号が記録されている情報
信号層が設けられており、さらに、この情報信号層の表
面には、光を反射させるためのアルミニウム薄膜等の反
射膜が成膜されている。
Such an optical disk has a disk substrate formed of a transparent synthetic resin material such as polycarbonate (PC) and polymethyl methacrylate (PMMA). This disk substrate is injection molded using a stamper described later. On the main surface of the disk substrate,
An information signal layer in which an information signal is recorded by predetermined information pits is provided, and a reflection film such as an aluminum thin film for reflecting light is formed on a surface of the information signal layer. .

【0004】そして、情報信号層を機械的、化学的に保
護するために保護層が設けられている。この光ディスク
は単層構造であり、その透明なディスク基板は通常1.
2mmの厚みを有している。発光素子からの光は、ディ
スク基板を透過して情報信号層に照射される。そして、
情報信号層に成膜されている反射膜で反射された戻り光
の位相変化等が、受光素子にて検出されるようになって
いる。
[0004] A protection layer is provided for mechanically and chemically protecting the information signal layer. This optical disk has a single-layer structure, and its transparent disk substrate usually has a structure of 1.
It has a thickness of 2 mm. Light from the light emitting element passes through the disk substrate and irradiates the information signal layer. And
A phase change of the return light reflected by the reflective film formed on the information signal layer is detected by the light receiving element.

【0005】図12は、従来のスタンパの作成処理方法
を示すフローチャートである。先ず、使用済みのガラス
原盤から残存しているニッケル及びレジスト等を除去
し、その表面を研磨してガラス原盤を再生する。そし
て、このガラス原盤を超音波洗浄等により洗浄して残存
している研磨材を除去する(ステップSTP1)。次
に、このガラス原盤を乾燥させ、その表面にレジスト
(HMDS)を塗布してレジスト層を形成する(ステッ
プSTP2)。
FIG. 12 is a flowchart showing a conventional stamper creation processing method. First, the remaining nickel, resist and the like are removed from the used glass master, and the surface thereof is polished to regenerate the glass master. Then, the glass master is cleaned by ultrasonic cleaning or the like to remove the remaining abrasive (step STP1). Next, the glass master is dried, and a resist (HMDS) is applied to the surface to form a resist layer (step STP2).

【0006】続いて、このレジスト層に所望の情報信号
を露光記録(カッティング)し(ステップSTP3)、
そのレジスト層を現像して露光部分を除去し、残存する
レジスト層で成る凹凸パターン(ピット)を形成する
(ステップSTP4)。さらに、このレジスト層の表面
にスパッタリング、蒸着または無電解メッキ等により薄
い金属層を形成(メタライゼーション)し(ステップS
TP5)、その金属層上にメッキ(電鋳)により所定厚
さのメッキ層を形成する(ステップSTP6)。
Subsequently, a desired information signal is exposed and recorded (cut) on the resist layer (step STP3).
The exposed portion is removed by developing the resist layer to form a concavo-convex pattern (pit) composed of the remaining resist layer (step STP4). Further, a thin metal layer is formed (metallization) on the surface of the resist layer by sputtering, vapor deposition, electroless plating or the like (Step S).
TP5) A plating layer having a predetermined thickness is formed on the metal layer by plating (electroforming) (step STP6).

【0007】その後、金属層とメッキ層とで成る部分を
ガラス原盤から引き剥がし、転写ピット面に付着してい
るレジスト等を電解洗浄してメタルマスタスタンパとす
る(ステップSTP7)。そして、このメタルマスタス
タンパを原型としてマザースタンパを作成し、そのマザ
ースタンパを原型としてスタンパを作成する。次に、こ
のスタンパを乾燥させ、保護膜層を形成し、裏面を研磨
した後(ステップSTP8)、余分な部分をプレス等に
よる打ち抜きにより除去する等の後工程を行い(ステッ
プSTP9)、最終的なスタンパとする。そして、この
ようにして作成されたスタンパを射出成形用金型にセッ
トしてディスク基板を射出成形する。
After that, the portion composed of the metal layer and the plating layer is peeled off from the glass master, and the resist or the like adhering to the transfer pit surface is electrolytically cleaned to obtain a metal master stamper (step STP7). Then, a mother stamper is created using the metal master stamper as a prototype, and a stamper is created using the mother stamper as a prototype. Next, the stamper is dried, a protective film layer is formed, the back surface is polished (Step STP8), and a post-process such as removal of an excess portion by punching with a press or the like is performed (Step STP9). A good stamper. Then, the stamper thus prepared is set in an injection mold, and a disk substrate is injection-molded.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のスタン
パの作成処理方法では、図13(A)〜(C)に示すよ
うに、例えばメタルマスタスタンパを原型としてマザー
スタンパを作成する場合、メタルマスタスタンパからマ
ザースタンパを剥離する際に、転写ピット同士の剥離不
良によりマザースタンパの転写ピットが図示点線で示す
ように削られることがあるという問題があった。
In the above-described conventional stamper creation processing method, as shown in FIGS. 13A to 13C, for example, when a mother stamper is created using a metal master stamper as a prototype, a metal master stamper is used. When the mother stamper is separated from the stamper, there is a problem that the transfer pits of the mother stamper may be cut off as shown by the dotted lines in the drawing due to defective separation between the transfer pits.

【0009】また、スタンパを射出成形用金型にセット
してディスク基板を射出成形する場合、ディスク基板表
面に剥離ムラが発生することがあるという問題があっ
た。この剥離ムラは、射出成形中及び直後の冷却中に、
成形されたディスク基板が収縮していることから、ディ
スク基板がスタンパから離型する際に斜めに引っ張ら
れ、ディスク基板の情報ピットの片側がスタンパの転写
ピットの角で引っかかれてしまうことが原因である。特
に、高密度ディスクになればなるほど、転写ピットの傾
斜角は鋭角となり、抜きテーパがより小さくなるので、
剥離ムラは発生し易くなる。
In addition, when the stamper is set in an injection molding die and the disc substrate is injection-molded, there is a problem that uneven peeling may occur on the surface of the disc substrate. This peeling unevenness occurs during injection molding and immediately after cooling,
Due to the shrinkage of the molded disk substrate, the disk substrate is pulled obliquely when it is released from the stamper, and one side of the information pit on the disk substrate is caught at the corner of the transfer pit of the stamper It is. In particular, the higher the density of the disk, the sharper the inclination angle of the transfer pit and the smaller the taper, so that
Peeling unevenness is likely to occur.

【0010】この発明は、以上の点に鑑み、各スタンパ
間の剥離不良やディスク基板表面の剥離ムラを無くすこ
とができる情報記録ディスク用のスタンパの作成処理方
法及びその装置並びにスタンパ及び情報記録ディスクを
提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above, the present invention provides a method and an apparatus for forming a stamper for an information recording disk, which can eliminate peeling failure between the stampers and uneven peeling of the disk substrate surface, and a stamper and an information recording disk. It is intended to provide.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的は、この発明に
よれば、情報記録ディスクを成形するためのスタンパの
作成処理工程の1つである電解洗浄処理の後に、前記ス
タンパを電解エッチング処理することにより達成され
る。
According to the present invention, the stamper is subjected to an electrolytic etching process after an electrolytic cleaning process, which is one of the processes for producing a stamper for molding an information recording disk. This is achieved by:

【0012】上記構成によれば、スタンパを電解エッチ
ング処理しているので、スタンパの表面を改質すること
ができ、対スタンパや対ディスク基板との剥離を良好の
ものとすることができる。
According to the above configuration, since the stamper is subjected to the electrolytic etching process, the surface of the stamper can be modified, and the separation from the stamper or the disk substrate can be improved.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を添付図を参照しながら詳細に説明する。尚、以下に述
べる実施形態は、この発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、この発
明の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの形態に限られるもので
はない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below are preferred specific examples of the present invention,
Although various technically preferred limitations are given, the scope of the present invention is not limited to these forms unless otherwise specified in the following description.

【0014】図1は、この発明の情報記録ディスク用の
スタンパの作成処理装置の第1の実施形態を示す概略構
成図である。このスタンパの作成処理装置1は、図12
に示す電解洗浄処理(ステップSTP7)に用いられる
と共に、続いて行われる電解エッチング処理に用いられ
る電解処理装置である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a processing apparatus for producing a stamper for an information recording disk according to the present invention. This stamper creation processing apparatus 1 is shown in FIG.
This is an electrolytic processing apparatus used in the electrolytic cleaning processing (step STP7) shown in FIG.

【0015】槽2内には、電解液3が注入され、電極4
及び例えばメタルマスタスタンパ(以下、単にスタンパ
という)5が、電解液3が満たされている槽2内に浸漬
されている。さらに、電極4及びスタンパ5は、DC電
源6からの印加電圧がスイッチング回路7を介して印加
可能なようにDC電源6に接続されている。また、配管
8、送液ポンプ9及びフィルタ10が、槽2内の電解液
3を循環濾過可能なように槽2に接続されている。電解
液3としては、例えばピロリン酸ナトリウム、リン酸三
ナトリウム等が用いられる。電極4としては、ステンレ
ス等の導通部材が用いられる。尚、DC電源6の代わり
にパルス電源等を用いても良い。
An electrolytic solution 3 is injected into the tank 2 and an electrode 4
And, for example, a metal master stamper (hereinafter simply referred to as a stamper) 5 is immersed in the tank 2 filled with the electrolyte 3. Further, the electrode 4 and the stamper 5 are connected to the DC power supply 6 so that an applied voltage from the DC power supply 6 can be applied via the switching circuit 7. Further, a pipe 8, a liquid feed pump 9 and a filter 10 are connected to the tank 2 so that the electrolyte 3 in the tank 2 can be circulated and filtered. As the electrolytic solution 3, for example, sodium pyrophosphate, trisodium phosphate, or the like is used. As the electrode 4, a conductive member such as stainless steel is used. Note that a pulse power supply or the like may be used instead of the DC power supply 6.

【0016】このような構成において、その処理動作例
を説明する。スタンパ5を作成処理する工程中、金属層
とメッキ層とで成るスタンパ5をガラス原盤から引き剥
がしたら、そのスタンパ5をスイッチング回路7と接続
して電解液3が満たされている槽2内に浸漬する。スタ
ンパ5とスイッチング回路7の接続には、例えばスタン
パ5を取り付けるための治具が用いられる。
An example of the processing operation in such a configuration will be described. During the step of forming and processing the stamper 5, when the stamper 5 composed of the metal layer and the plating layer is peeled off from the glass master, the stamper 5 is connected to the switching circuit 7 and is placed in the tank 2 filled with the electrolyte 3. Immerse. For connection between the stamper 5 and the switching circuit 7, for example, a jig for attaching the stamper 5 is used.

【0017】DC電源6は、スイッチング回路7を介し
て電極4及びスタンパ5に電圧印加するが、このときス
イッチング回路7は、電極4が陽電極(アノード)、ス
タンパ5が陰電極(カソード)となるように電圧の極性
を切り換える。これにより、スタンパ5の表面に付着し
ているレジスト等を電解洗浄(陰極洗浄)する。尚、こ
のときの電極4(陽電極(アノード))側の化学反応式
は化1で表され、スタンパ5(陰電極(カソード))側
の化学反応式は化2で表される。
The DC power supply 6 applies a voltage to the electrode 4 and the stamper 5 via a switching circuit 7. At this time, the switching circuit 7 includes a positive electrode (anode) for the electrode 4 and a negative electrode (cathode) for the stamper 5. Switch the polarity of the voltage so that Thus, the resist or the like adhering to the surface of the stamper 5 is subjected to electrolytic cleaning (cathode cleaning). At this time, the chemical reaction formula on the electrode 4 (positive electrode (anode)) side is represented by Chemical Formula 1, and the chemical reaction formula on the stamper 5 (negative electrode (cathode)) side is represented by Chemical Formula 2.

【化1】 Embedded image

【化2】 Embedded image

【0018】次に、スイッチング回路7は、電極4が陰
電極(カソード)、スタンパ5が陽電極(アノード)と
なるように電圧の極性を切り換える。これにより、スタ
ンパ5の表面を電解エッチング及び酸化膜形成(陽極酸
化)する。尚、このときの電極4(陰電極(カソー
ド))側の化学反応式は化3で表され、スタンパ5(陽
電極(アノード))側の化学反応式は化4で表される。
Next, the switching circuit 7 switches the polarity of the voltage so that the electrode 4 becomes a negative electrode (cathode) and the stamper 5 becomes a positive electrode (anode). Thus, the surface of the stamper 5 is electrolytically etched and an oxide film is formed (anodized). In this case, the chemical reaction formula on the electrode 4 (negative electrode (cathode)) side is represented by Chemical Formula 3, and the chemical reaction formula on the stamper 5 (positive electrode (anode)) side is represented by Chemical Formula 4.

【化3】 Embedded image

【化4】 Embedded image

【0019】尚、上記電解洗浄及び電解エッチングの処
理前後や処理中において、送液ポンプ9は、槽2内の電
解液3を配管8を通して循環させ、フィルタ10により
電解液3中に含まれる不純物を濾過する。
Before and after and during the electrolytic cleaning and electrolytic etching, the liquid feed pump 9 circulates the electrolytic solution 3 in the tank 2 through the pipe 8, and filters the impurities contained in the electrolytic solution 3 through the filter 10. Is filtered.

【0020】図2は、この発明の情報記録ディスク用の
スタンパの作成処理装置の第2の実施形態を示す概略構
成図である。このスタンパの作成処理装置20も、図1
2に示す電解洗浄処理(ステップSTP7)に用いられ
ると共に、続いて行われる電解エッチング処理に用いら
れる電解処理装置である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a second embodiment of a processing apparatus for producing a stamper for an information recording disk according to the present invention. This stamper creation processing device 20 is also shown in FIG.
This is an electrolytic processing apparatus used for the electrolytic cleaning process (Step STP7) shown in FIG. 2 and for the subsequent electrolytic etching process.

【0021】槽21内の下部には、スタンパ5を載置し
て回転するターンテーブル22が配置され、ターンテー
ブル22の上部には、電解液3を降り注ぐための複数の
孔が設けられた電極型ノズル23が配置されている。さ
らに、ターンテーブル22及び電極型ノズル23は、ス
イッチング回路が内蔵されている電源24からの印加電
圧が印加可能なように電源24に接続されている。
A turntable 22 on which the stamper 5 is mounted and which rotates is disposed in a lower part of the tank 21, and an electrode having a plurality of holes for pouring the electrolyte 3 is provided on the upper part of the turntable 22. A mold nozzle 23 is provided. Further, the turntable 22 and the electrode type nozzle 23 are connected to a power supply 24 so that an applied voltage from a power supply 24 having a built-in switching circuit can be applied.

【0022】また、配管25、タンク26、送液ポンプ
27及びフィルタ28が、槽21内の下部に溜まった電
解液3を循環濾過可能なように槽21に接続されてい
る。電解液3としては、例えばピロリン酸ナトリウム、
リン酸三ナトリウム等が用いられる。ターンテーブル2
2及び電極型ノズル23しては、ステンレス等の導通部
材が用いられる。尚、電源24としてDC電源やパルス
電源等が用いられる。
Further, a pipe 25, a tank 26, a liquid feed pump 27 and a filter 28 are connected to the tank 21 so that the electrolyte 3 accumulated in the lower part of the tank 21 can be circulated and filtered. Examples of the electrolyte 3 include sodium pyrophosphate,
Trisodium phosphate or the like is used. Turntable 2
A conductive member such as stainless steel is used for the second and electrode type nozzles 23. Note that a DC power supply, a pulse power supply, or the like is used as the power supply 24.

【0023】このような構成において、その処理動作例
を説明する。スタンパ5を作成処理する工程中、金属層
とメッキ層とで成るスタンパ5をガラス原盤から引き剥
がしたら、そのスタンパ5をターンテーブル22に載置
する。そして、ターンテーブル22が回転し、送液ポン
プ27が駆動して電解液3を電極型ノズル23の孔から
スタンパ5に降り注がせる。
An example of the processing operation in such a configuration will be described. When the stamper 5 including the metal layer and the plating layer is peeled off from the glass master during the process of forming the stamper 5, the stamper 5 is placed on the turntable 22. Then, the turntable 22 is rotated, and the liquid sending pump 27 is driven to drop the electrolyte 3 from the hole of the electrode type nozzle 23 to the stamper 5.

【0024】電源24は、ターンテーブル22及び電極
型ノズル23に電圧印加するが、このときスイッチング
回路により電極型ノズル23が陽電極(アノード)、タ
ーンテーブル22が陰電極(カソード)となるように電
圧の極性を切り換える。これにより、スタンパ5の表面
に付着しているレジスト等を電解洗浄(陰極洗浄)す
る。
The power supply 24 applies a voltage to the turntable 22 and the electrode type nozzle 23. At this time, the switching circuit makes the electrode type nozzle 23 a positive electrode (anode) and the turntable 22 a negative electrode (cathode). Switches the voltage polarity. Thus, the resist or the like adhering to the surface of the stamper 5 is subjected to electrolytic cleaning (cathode cleaning).

【0025】次に、スイッチング回路により電極型ノズ
ル23が陰電極(カソード)、ターンテーブル22が陽
電極(アノード)となるように電圧の極性を切り換え
る。これにより、スタンパ5の表面を電解エッチング及
び酸化膜形成(陽極酸化)する。尚、上記電解洗浄及び
電解エッチングの処理前後や処理中において、送液ポン
プ27は、タンク26内の電解液3を配管25を通して
循環させ、フィルタ28により電解液3中に含まれる不
純物を濾過する。
Next, the polarity of the voltage is switched by a switching circuit so that the electrode type nozzle 23 becomes a negative electrode (cathode) and the turntable 22 becomes a positive electrode (anode). Thus, the surface of the stamper 5 is electrolytically etched and an oxide film is formed (anodized). The liquid supply pump 27 circulates the electrolytic solution 3 in the tank 26 through the pipe 25 before and after or during the electrolytic cleaning and electrolytic etching processes, and filters impurities contained in the electrolytic solution 3 by the filter 28. .

【0026】図3は、この発明の情報記録ディスク用の
スタンパの作成処理装置の第3の実施形態を示す概略構
成図である。このスタンパの作成処理装置30は、図1
2に示す電鋳処理(ステップSTP6)及び電解洗浄処
理(ステップSTP7)に用いられると共に、続いて行
われる電解エッチング処理に用いられる電鋳・電解処理
装置であり、従来の電鋳処理装置を改良したものであ
る。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a third embodiment of a processing apparatus for producing a stamper for an information recording disk according to the present invention. This stamper creation processing device 30 is shown in FIG.
2 is an electroforming / electrolysis processing apparatus used in the electroforming process (step STP6) and the electrolytic cleaning process (step STP7) shown in FIG. 2 and used in the subsequent electrolytic etching process. It was done.

【0027】槽31内には、電解液3が注入され、槽3
1内の下部には、電極32が配置され、電極32の上部
には、スタンパ5を取り付けて回転する電極型回転ヘッ
ド33が配置されている。さらに、電極32及び電極型
回転ヘッド33は、スイッチング回路が内蔵されている
電源34からの印加電圧が印加可能なように、電源34
に接続されている。電解液3としては、例えばピロリン
酸ナトリウム、リン酸三ナトリウム等が用いられる。電
極32及び電極型回転ヘッド33としては、ステンレス
等の導通部材が用いられる。尚、電源34としてDC電
源やパルス電源等が用いられる。
The electrolytic solution 3 is injected into the tank 31,
An electrode 32 is arranged in a lower part of the inside 1, and an electrode type rotary head 33 that rotates by attaching the stamper 5 is arranged above the electrode 32. Further, the electrode 32 and the electrode type rotary head 33 are connected to a power source
It is connected to the. As the electrolytic solution 3, for example, sodium pyrophosphate, trisodium phosphate, or the like is used. As the electrode 32 and the electrode type rotary head 33, a conductive member such as stainless steel is used. Note that a DC power supply, a pulse power supply, or the like is used as the power supply 34.

【0028】このような構成において、その処理動作例
を説明する。スタンパ5を作成処理する工程中、レジス
ト層の表面にスパッタリング、蒸着または無電解メッキ
等により薄い金属層を形成(メタライゼーション)した
ら、それを電極型回転ヘッド33に取り付けて回転さ
せ、先ずその金属層上にメッキ(電鋳)により所定厚さ
のメッキ層を形成する電鋳処理を従来と同様に行う。
An example of the processing operation in such a configuration will be described. In the process of forming the stamper 5, if a thin metal layer is formed (metallization) on the surface of the resist layer by sputtering, vapor deposition, electroless plating, or the like, it is attached to the electrode type rotary head 33 and rotated. An electroforming process for forming a plating layer having a predetermined thickness on the layer by plating (electroforming) is performed in the same manner as in the related art.

【0029】次に、電源34は、電極32及び電極型回
転ヘッド33に電圧印加するが、このときスイッチング
回路により電極32が陽電極(アノード)、電極型回転
ヘッド33が陰電極(カソード)となるように電圧の極
性を切り換える。これにより、スタンパ5の表面に付着
しているレジスト等を電解洗浄(陰極洗浄)する。次
に、スイッチング回路により電極32が陰電極(カソー
ド)、電極型回転ヘッド33が陽電極(アノード)とな
るように電圧の極性を切り換える。これにより、スタン
パ5の表面を電解エッチング及び酸化膜形成(陽極酸
化)する。
Next, the power supply 34 applies a voltage to the electrode 32 and the electrode type rotary head 33. At this time, the switching circuit makes the electrode 32 a positive electrode (anode) and the electrode type rotary head 33 a negative electrode (cathode). Switch the polarity of the voltage so that Thus, the resist or the like adhering to the surface of the stamper 5 is subjected to electrolytic cleaning (cathode cleaning). Next, the polarity of the voltage is switched by the switching circuit so that the electrode 32 becomes a negative electrode (cathode) and the electrode type rotary head 33 becomes a positive electrode (anode). Thus, the surface of the stamper 5 is electrolytically etched and an oxide film is formed (anodized).

【0030】上述した電解エッチング処理により、図4
(A)に示すように、スタンパ5の転写ピット5a頂上
部のエッジに電流を集中させることができるので、エッ
ジを滑らかとすることができると共に、スタンパ5のラ
ンドやグルーブの表面5bを適度に荒らすことができ
る。このようにスタンパ5の転写ピット5a頂上部のエ
ッジを滑らかとすることができるので、スタンパ5とマ
ザースタンパ11との剥離性を向上させることができ、
マザースタンパ11の転写ピット11aの変形を防止す
ることができる。
By the above-described electrolytic etching, FIG.
As shown in (A), the current can be concentrated on the edge of the top of the transfer pit 5a of the stamper 5, so that the edge can be made smooth and the land or groove surface 5b of the stamper 5 can be appropriately adjusted. Can be devastated. Since the edge of the top of the transfer pit 5a of the stamper 5 can be made smooth in this manner, the removability between the stamper 5 and the mother stamper 11 can be improved,
The deformation of the transfer pit 11a of the mother stamper 11 can be prevented.

【0031】また、スタンパ5のランドやグルーブの表
面5bを適度に荒らすことができるので、このスタンパ
5により作成されるランドやグルーブの表面が適度に荒
れた最終的なスタンパとディスク基板との密着力を低減
させて、ディスク基板の離型性を向上させることがで
き、ディスク基板表面の剥離ムラの発生を防止すること
ができる(同図(B)及び(C))。
Further, since the surface 5b of the land or groove of the stamper 5 can be appropriately roughened, the final stamper formed by this stamper 5 has a moderately roughened surface and the final stamper is brought into close contact with the disk substrate. The force can be reduced, the releasability of the disk substrate can be improved, and the occurrence of peeling unevenness on the disk substrate surface can be prevented (FIGS. (B) and (C)).

【0032】上述した情報記録ディスク用のスタンパの
作成処理装置を用いて、以下に示す電解液3及び電解条
件で処理したときのスタンパ5の表面状態を図5〜図1
1に示す。電解液としては、10g/lのピロリン酸ナ
トリウム及び10g/lのリン酸三ナトリウムを各1.
0wt%とした混合溶液を50°Cにして用いた。電解
条件としては、極間距離を5cm、電流密度を6.4A
/dm2(電圧7.5V、電流20A、極板面積314
cm2)、電解時間を30秒×(1回〜10回)とし
た。
FIGS. 5 to 1 show the surface condition of the stamper 5 when the stamper 5 is processed under the following electrolytic solution 3 and electrolysis conditions using the processing apparatus for producing a stamper for an information recording disk described above.
It is shown in FIG. As the electrolytic solution, 10 g / l of sodium pyrophosphate and 10 g / l of trisodium phosphate were each used for 1.
A mixed solution of 0 wt% was used at 50 ° C. As the electrolysis conditions, the distance between the electrodes was 5 cm, and the current density was 6.4 A.
/ Dm2 (voltage 7.5 V, current 20 A, electrode plate area 314
cm2) and the electrolysis time was 30 seconds × (1 to 10 times).

【0033】図5は、上記処理を行っていないコンパク
トディスク(CD)用のスタンパ5の表面状態の一例を
示す電子顕微鏡写真であり、図6は、上記処理(電解時
間は30秒×3回)を行ったコンパクトディスク(C
D)用のスタンパ5の表面状態の一例を示す電子顕微鏡
写真である。これらから明らかなように、上記処理を行
うことによりスタンパ5の転写ピット5a頂上部のエッ
ジを滑らかとすることができると共に、スタンパ5のラ
ンドやグルーブの表面5bを適度に荒らすことができ
る。
FIG. 5 is an electron micrograph showing an example of the surface state of the compact disk (CD) stamper 5 that has not been subjected to the above treatment. FIG. 6 shows the above treatment (the electrolysis time is 30 seconds × 3 times). ) Compact disc (C
4 is an electron micrograph showing an example of a surface state of a stamper 5 for D). As is clear from the above, by performing the above processing, the edge of the top of the transfer pit 5a of the stamper 5 can be made smooth, and the land or groove surface 5b of the stamper 5 can be appropriately roughened.

【0034】図7は、上記処理を行っていないデジタル
ビデオディスク(DVD)用のスタンパ5の表面状態の
一例を示す電子顕微鏡写真であり、図8〜図11は、上
記処理(電解時間は30秒×1回、30秒×3回、30
秒×5回、30秒×10回)を行ったデジタルビデオデ
ィスク(DVD)用のスタンパ5の表面状態の一例を示
す電子顕微鏡写真である。図8では、ランドの表面5b
が少し荒れている。図9及び図10では、転写ピット5
a頂上部のエッジ及びランドの表面5bが適度に荒れて
いる。図11では、転写ピット5a及びランドやグルー
ブの表面5b全体が極端に溶解している。
FIG. 7 is an electron micrograph showing an example of the surface state of the stamper 5 for a digital video disk (DVD) that has not been subjected to the above-described processing. FIGS. Second × 1 time, 30 seconds × 3 times, 30
5 is an electron micrograph showing an example of the surface state of a stamper 5 for a digital video disk (DVD) that has been subjected to (sec × 5 times, 30 sec × 10 times). In FIG. 8, the land surface 5b
Is a bit rough. 9 and 10, the transfer pit 5
a The top edge and the land surface 5b are moderately rough. In FIG. 11, the transfer pit 5a and the entire surface 5b of the land or groove are extremely dissolved.

【0035】これらから明らかなように、上記処理を行
うことによりスタンパの転写ピット5a頂上部のエッジ
を滑らかとすることができると共に、スタンパ5のラン
ドやグルーブの表面5bを適度に荒らすことができる。
そして、電解条件(例えば電解時間)を変化させること
により、スタンパ5のランドやグルーブの表面粗さを自
由に制御することができる。
As is apparent from the above, by performing the above-described processing, the edge of the top of the transfer pit 5a of the stamper can be made smooth and the land or groove surface 5b of the stamper 5 can be appropriately roughened. .
Then, by changing the electrolysis conditions (for example, electrolysis time), the surface roughness of the land or groove of the stamper 5 can be freely controlled.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
不良スタンパの発生率を減少させることができると共
に、ディスク基板の歩留りや品質を向上させることがで
きる。
As described above, according to the present invention,
The occurrence rate of defective stampers can be reduced, and the yield and quality of the disk substrate can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の情報記録ディスク用のスタンパの作
成処理装置の第1の実施形態を示す概略構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a processing apparatus for creating a stamper for an information recording disk according to the present invention.

【図2】この発明の情報記録ディスク用のスタンパの作
成処理装置の第2の実施形態を示す概略構成図。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a second embodiment of a processing device for producing a stamper for an information recording disk according to the present invention.

【図3】この発明の情報記録ディスク用のスタンパの作
成処理装置の第3の実施形態を示す概略構成図。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a third embodiment of a stamper creation processing device for an information recording disk according to the present invention.

【図4】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタン
パの作成処理装置による処理状態を示す断面側面図。
FIG. 4 is a cross-sectional side view showing a processing state of the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS. 1 to 3;

【図5】通常のスタンパの表面状態を示す第1の写真。FIG. 5 is a first photograph showing a surface state of a normal stamper.

【図6】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタン
パの作成処理装置により処理された図5に示すスタンパ
の表面状態を示す第1の写真。
FIG. 6 is a first photograph showing a surface state of the stamper shown in FIG. 5 which has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【図7】通常のスタンパの表面状態を示す第2の写真。FIG. 7 is a second photograph showing a surface state of a normal stamper.

【図8】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタン
パの作成処理装置により処理された図7に示すスタンパ
の表面状態を示す第1の写真。
8 is a first photograph showing the surface state of the stamper shown in FIG. 7 which has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【図9】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタン
パの作成処理装置により処理された図7に示すスタンパ
の表面状態を示す第2の写真。
9 is a second photograph showing the surface state of the stamper shown in FIG. 7 which has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【図10】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタ
ンパの作成処理装置により処理された図7に示すスタン
パの表面状態を示す第3の写真。
10 is a third photograph showing the surface state of the stamper shown in FIG. 7 that has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【図11】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタ
ンパの作成処理装置により処理された図7に示すスタン
パの表面状態を示す第4の写真。
11 is a fourth photograph showing the surface state of the stamper shown in FIG. 7 processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【図12】従来のスタンパの作成処理方法を示すフロー
チャート。
FIG. 12 is a flowchart showing a conventional stamper creation processing method.

【図13】従来の情報記録ディスク用のスタンパの作成
処理装置による処理状態を示す断面側面図。
FIG. 13 is a cross-sectional side view showing a processing state of a conventional information recording disk stamper creation processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、20、30・・・スタンパの作成処理装置、2、2
1、31・・・槽、3・・・電解液、4、32・・・電
極、5・・・スタンパ、5a・・・転写ピット、5b・
・・ランドやグルーブの表面5b、6・・・DC電源、
7・・・スイッチング回路、8、25・・・配管、9、
27・・・送液ポンプ、10、28・・・フィルタ、2
2・・・ターンテーブル、23・・・電極型ノズル、2
4、34・・・電源、26・・・タンク、33・・・電
極型回転ヘッド印刷層
1, 20, 30... Stamper creation processing device, 2, 2
Reference numerals 1, 31, tank, 3 electrolyte, 4, 32 electrode, 5 stamper, 5a transfer pit, 5b
..Surfaces 5b and 6 of lands and grooves DC power supply
7: switching circuit, 8, 25: piping, 9,
27: liquid feed pump, 10, 28: filter, 2
2 ... turntable, 23 ... electrode type nozzle, 2
4, 34: power supply, 26: tank, 33: electrode type rotary head print layer

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年12月17日[Submission date] December 17, 1996

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図5[Correction target item name] Fig. 5

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図5】通常のスタンパの表面状態を示す第1の顕微鏡
写真。
FIG. 5 is a first micrograph showing a surface state of a normal stamper.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図6[Correction target item name] Fig. 6

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図6】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタン
パの作成処理装置により処理された図5に示すスタンパ
の表面状態を示す第1の顕微鏡写真。
FIG. 6 is a first photomicrograph showing a surface state of the stamper shown in FIG. 5 which has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図7[Correction target item name] Fig. 7

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図7】通常のスタンパの表面状態を示す第2の顕微鏡
写真。
FIG. 7 is a second micrograph showing the surface state of a normal stamper.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図8[Correction target item name] Fig. 8

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図8】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタン
パの作成処理装置により処理された図7に示すスタンパ
の表面状態を示す第1の顕微鏡写真。
8 is a first photomicrograph showing a surface state of the stamper shown in FIG. 7 which has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図9[Correction target item name] Fig. 9

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図9】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタン
パの作成処理装置により処理された図7に示すスタンパ
の表面状態を示す第2の顕微鏡写真。
9 is a second photomicrograph showing the surface state of the stamper shown in FIG. 7 that has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図10[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図10】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタ
ンパの作成処理装置により処理された図7に示すスタン
パの表面状態を示す第3の顕微鏡写真。
FIG. 10 is a third micrograph showing the surface state of the stamper shown in FIG. 7 which has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図11[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図11】図1〜図3に示す情報記録ディスク用のスタ
ンパの作成処理装置により処理された図7に示すスタン
パの表面状態を示す第4の顕微鏡写真。
FIG. 11 is a fourth microscope photograph showing the surface state of the stamper shown in FIG. 7 which has been processed by the information recording disk stamper creation processing apparatus shown in FIGS.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 情報記録ディスクを成形するためのスタ
ンパの作成処理工程の1つである電解洗浄処理の後に、
前記スタンパを電解エッチング処理することを特徴とす
るスタンパの作成処理方法。
1. An electrolytic cleaning process, which is one of the processes for producing a stamper for molding an information recording disk,
A method for producing a stamper, comprising subjecting the stamper to electrolytic etching.
【請求項2】 情報記録ディスクを成形するためのスタ
ンパの作成処理工程である電解洗浄処理及び電解エッチ
ング処理を続けて行うスタンパの作成処理装置であっ
て、 前記スタンパに正または負の電圧を印加すると共に、電
解液に負または正の電圧を印加する電圧印加手段と、 前記電解洗浄処理のときは前記スタンパに負の電圧、前
記電解液に正の電圧を印加するように切り換え、前記電
解エッチング処理のときは前記スタンパに正の電圧、前
記電解液に負の電圧を印加するように切り換える切り換
え手段とを備えたことを特徴とするスタンパの作成処理
装置。
2. A stamper producing apparatus for continuously performing an electrolytic cleaning process and an electrolytic etching process as a process for producing a stamper for molding an information recording disk, wherein a positive or negative voltage is applied to the stamper. Voltage applying means for applying a negative or positive voltage to the electrolytic solution, and switching to apply a negative voltage to the stamper and a positive voltage to the electrolytic solution during the electrolytic cleaning process, Switching means for switching so that a positive voltage is applied to the stamper and a negative voltage is applied to the electrolyte during processing.
【請求項3】 表面に形成された情報ピットにより情報
が記録される情報記録ディスクを成形するためのスタン
パにおいて、 電解洗浄処理及び電解エッチング処理を行うことによ
り、前記表面を成形するための転写面を一様かつ適度に
粗面とし、前記情報ピットを成形するための転写ピット
の頂上部のエッジを滑らかとしたことを特徴とするスタ
ンパ。
3. A stamper for molding an information recording disk on which information is recorded by information pits formed on the surface, wherein a transfer surface for molding the surface by performing an electrolytic cleaning process and an electrolytic etching process. Characterized in that the surface of the transfer pit for forming the information pit is smooth and the edge of the top of the transfer pit for forming the information pit is smooth.
【請求項4】 表面に形成された情報ピットにより情報
が記録される情報記録ディスクにおいて、 電解洗浄処理及び電解エッチング処理を行うことによ
り、前記表面を成形するための転写面を一様かつ適度に
粗面とし、前記情報ピットを成形するための転写ピット
の頂上部のエッジを滑らかとしたスタンパにより成形し
たことを特徴とする情報記録ディスク。
4. An information recording disk on which information is recorded by information pits formed on the surface, wherein an electrolytic cleaning process and an electrolytic etching process are performed to uniformly and appropriately transfer a transfer surface for forming the surface. An information recording disk having a rough surface formed by a stamper having a smooth top edge of a transfer pit for forming said information pit.
JP27164596A 1996-09-20 1996-09-20 Method of making and processing stamper for information recording disk and device therefor, and stamper and information recording disk Pending JPH10106048A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003517727A (en) * 1999-10-29 2003-05-27 ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム High precision orientation alignment and gap control devices for imprint lithography
US7968017B2 (en) 2001-04-06 2011-06-28 Sony Corporation Stamper for optical disc, method for manufacturing optical disc, and optical disc

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