JPH0980750A - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

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JPH0980750A
JPH0980750A JP23030395A JP23030395A JPH0980750A JP H0980750 A JPH0980750 A JP H0980750A JP 23030395 A JP23030395 A JP 23030395A JP 23030395 A JP23030395 A JP 23030395A JP H0980750 A JPH0980750 A JP H0980750A
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JP
Japan
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parts
group
formula
compd
substituted
Prior art date
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Pending
Application number
JP23030395A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiro Yamashita
克浩 山下
Satoshi Imahashi
▲聡▼ 今橋
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Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
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Publication of JPH0980750A publication Critical patent/JPH0980750A/en
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  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure high photosetting property to visible light of a long wavelength by combining a titanocemne compd. with a compd. having a specified structure. SOLUTION: This compsn. contains an ethylenically unsatd. compd. which is not gaseous at ordinary temp., a titanocene compd., p-aminophenyl unsatd. diketone represented by formula I and a glycine deriv. represented by formula II. In the formula I, (a) is a natural number of 0-2 and each of R<1> -R<10> may be H or may be replaced by other group. In the formula II, each of R<11> -R<15> is H, optionally substd. acyl or halogen substd. alkyl but R<11> -R<15> are not simultaneously H. Since this compsn. has high photosetting property to visible light, especially light of >=500nm, a light source for exposure is selected from among more various light sources. Many original plates can be exposed in a time allowed because of high sensitivity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は可視光の領域にまで
感度を有する新規な光重合性組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel photopolymerizable composition having sensitivity even in the visible light region.

【0002】[0002]

【従来の技術】光重合性組成物は多数の用途に広く利用
されており、例えば印刷、複写、レジスト形成その他に
商業的に利用されている。これらの組成物は一般にエチ
レン性不飽和化合物またはその他のタイプの重合性化合
物、光開始剤または光開始剤系そして好ましくは溶媒可
溶性または水性またはアルカリ可溶性有機重合体結合剤
化合物を含有している。ところが、これらの多くの既知
の有用な光重合性組成物は、使用されている開始剤がス
ペクトルの紫外部領域以外では活性化されないものが多
いため、その応用範囲が限定されているのが現状であ
る。また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり,
アルゴンイオンレーザー、FD−YAGレーザー、ヘリ
ウム−ネオンレーザーなどの可視部領域に大きな発振強
度を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術
として要求されている。 そのために可視光線に対して
高い感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対
して高感度な光開始剤の開発が望まれている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Photopolymerizable compositions are widely used in a number of applications, including printing, copying, resist formation and other commercial applications. These compositions generally contain an ethylenically unsaturated compound or other type of polymerizable compound, a photoinitiator or photoinitiator system and preferably a solvent soluble or aqueous or alkali soluble organic polymeric binder compound. However, many of these known useful photopolymerizable compositions are limited in their application range because many of the initiators used are not activated outside the ultraviolet region of the spectrum. Is. Also, use visible light instead of ultraviolet light as the light source,
Scanning exposure with a laser having a large oscillation intensity in the visible region such as an argon ion laser, an FD-YAG laser, and a helium-neon laser is required as an image forming technique. Therefore, a photopolymerizable material having high sensitivity to visible light is desired, and development of a photoinitiator having high sensitivity to visible light is desired.

【0003】そこで高感度を有する光開始剤として、特
開昭54−155292号公報にはヘキサアリールビス
イミダゾールを含む系、特開昭58−15503号公報
には活性ハロゲン化合物と3−ケト置換クマリン化合物
の系、特開昭56−4604号公報には3−ケト置換ク
マリンとN−フェニルグリシンの系、特開昭61−97
650号公報には3−置換クマリンとキナゾリノン誘導
体との組合せ、特開昭61−123603号公報にはヘ
キサアリールビスイミダゾールと3−ケト置換クマリン
との組合せの光開始剤系が開示されている。しかしなが
ら、前記の光開始剤系では感度が不十分である。アルゴ
ンイオンレーザーの波長488nmの発振光に高感度で
ある光重合性組成としては、特開平4−184344号
公報に示されたものがある。ここで用いられている開始
剤系は、鉄アレン錯体とチタノセン化合物と特定の構造
の色素の組み合わせであるが、この組成物は、波長50
0nm以上の光に対する感光性が十分でない。
As a photoinitiator having high sensitivity, JP-A-54-155292 discloses a system containing hexaarylbisimidazole, and JP-A-58-15503 discloses an active halogen compound and a 3-keto-substituted coumarin. A system of compounds, a system of 3-keto-substituted coumarin and N-phenylglycine in JP-A-56-4604, JP-A-61-97.
Japanese Patent No. 650 discloses a photoinitiator system comprising a combination of a 3-substituted coumarin and a quinazolinone derivative, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-123603 discloses a combination of a hexaarylbisimidazole and a 3-keto substituted coumarin. However, the photoinitiator system described above is not sufficiently sensitive. As a photopolymerizable composition having a high sensitivity to an oscillating light having a wavelength of 488 nm of an argon ion laser, there is one disclosed in JP-A-4-184344. The initiator system used here is a combination of an iron arene complex, a titanocene compound and a dye of a specific structure, but this composition has a wavelength of 50
Photosensitivity to light of 0 nm or more is insufficient.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は可視光線に対
し高い感光性を有する光重合性組成物、特にアルゴンイ
オンレーザーの波長488nmの発振光のみでなく、ア
ルゴンイオンレーザーの波長515nmの発振光やFD
−YAGレーザーの波長532nmの発振光に対し高い
感光性を有する光重合性組成物を提供せんとするもので
ある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a photopolymerizable composition having high photosensitivity to visible light, particularly not only oscillating light having a wavelength of 488 nm of an argon ion laser but also oscillating light having a wavelength of 515 nm of an argon ion laser. And FD
-To provide a photopolymerizable composition having high photosensitivity to oscillation light having a wavelength of 532 nm of a YAG laser.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は以上の課題を解
決する目的で光開始剤系について鋭意、研究、努力を行
った結果、チタノセン化合物と特定の構造を有する化合
物の組み合わせが、長波長の可視光に対し高い硬化性を
与える事を発明するに到った。すなわち本発明は少なく
とも (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物 (b)チタノセン化合物 (c)下記一般式化3で示されるp−アミノフェニル不
飽和ジケトン (d)下記一般式化4で示されるグリシン誘導体 を含有する光重合性組成物である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION In the present invention, as a result of earnestly researching and striving for a photoinitiator system for the purpose of solving the above problems, a combination of a titanocene compound and a compound having a specific structure has a long wavelength. Invented to give high curability to visible light. That is, the present invention is at least (a) at least one non-gaseous ethylenically unsaturated compound at room temperature (b) titanocene compound (c) p-aminophenyl unsaturated diketone represented by the following general formula 3 (d) It is a photopolymerizable composition containing the glycine derivative shown by Formula 4.

【0006】[0006]

【化3】 (化3中aは0〜2の自然数で、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10は水素原子で
もよく、他の基で置換されていてもよい。)
Embedded image (In the chemical formula 3, a is a natural number of 0 to 2, and R 1 , R 2 , R 3 , R
4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 may be hydrogen atoms or may be substituted with other groups. )

【0007】[0007]

【化4】 (化4中R11、R12、R13、R14、R15はそれぞれ独立
に水素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロ
ゲン置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14
15は同時に水素原子ではない。) 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した単
量体であり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど
が挙げられる。
Embedded image (Wherein R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , and R 15 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted acyl group, or a halogen-substituted alkyl group, and R 11 , R 12 , R 13 , R 14 ,
R 15 is not a hydrogen atom at the same time. ) The ethylenically unsaturated compound used in the present invention is
Monomers suitable for free radical initiated chain growth addition reactions such as pentaerythritol triacrylate, polyethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylol. Examples thereof include propane triacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate.

【0008】第2の成分(b)のチタノセン化合物は下
記一般式化5で表される化合物が好ましい。
The titanocene compound as the second component (b) is preferably a compound represented by the following general formula 5.

【0009】[0009]

【化5】 (化5中、R16、R17はそれぞれ置換または非置換のシ
クロペンタジエニル基である。R18、R19はそれぞれ置
換または非置換のフェニル基であり、特にハロゲン原子
で置換されていることが好ましい。) 好ましい第2成分(b)の具体例を以下に示す。
Embedded image (In Chemical Formula 5, R 16 and R 17 are each a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group. R 18 and R 19 are each a substituted or unsubstituted phenyl group, and are particularly substituted with a halogen atom. Specific examples of preferred second component (b) are shown below.

【0010】[0010]

【化6】 [Chemical 6]

【0011】[0011]

【化7】 [Chemical 7]

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】[0013]

【化9】 Embedded image

【0014】[0014]

【化10】 Embedded image

【0015】第3の成分(c)のp−アミノフェニル不
飽和ジケトンは、一般式化1(化3)で示される。一般
式化1において、aは0〜2の自然数で、R1 、R2
3、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10はそ
れぞれ水素原子でもよく、他の基で置換されていてもよ
い。好ましくは、それぞれ独立に水素原子、C1 〜C 12
のアルキル基、C2 〜C12のアルケニル基、C2 〜C12
のアルキニル基、C1〜C8 のアルコキシ基、C2 〜C
12のアルキルオキシアルキレン基、C1 〜C8のアルキ
ルチオ基、C6 〜C10のアリールオキシ基、C6 〜C20
の置換および非置換アリール基、カルボキシル基、ヒド
ロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、アミノ基、C1
12のモノアルキルアミノ基、C2 〜C24のジアルキル
アミノ基、C1 〜C12のシアノアルキル基、C1 〜C12
のアルコキシカルボニル基、C2〜C24のアルコキシカ
ルボニルアルキル基、C1 〜C12のヒドロキシカルボニ
ルアルキル基、C1 〜C12のアシロキシ基、またはC2
〜C24のアシルオキシカルボニル基である。また、R6
はR9 とともに、R8 はR10とともにC2 〜C5 のアル
キレン基を形成してもよい。一般式化1で表される化合
物は具体例として以下の構造のものが挙げられる。
The third component (c), the p-aminophenyl derivative
The saturated diketone is represented by the general formula 1 (formula 3). General
In Formula 1, a is a natural number of 0 to 2 and R1, R2,
RThree, RFour, RFive, R6, R7, R8, R9, RTenHaso
Each may be a hydrogen atom or may be substituted with another group.
Yes. Preferably, each independently a hydrogen atom, C1~ C 12
Alkyl group of C2~ C12Alkenyl group of C2~ C12
An alkynyl group of C1~ C8Alkoxy group of C2~ C
12An alkyloxyalkylene group of C1~ C8The archi
Luthio group, C6~ CTenAryloxy group, C6~ C20
Substituted and unsubstituted aryl groups, carboxyl groups, and
Roxy group, cyano group, halogen atom, amino group, C1~
C12Monoalkylamino group, C2~ Ctwenty fourDialkyl
Amino group, C1~ C12Cyanoalkyl group, C1~ C12
An alkoxycarbonyl group of C2~ Ctwenty fourAlkoxyka
Rubonylalkyl group, C1~ C12Hydroxycarboni
Rualkyl group, C1~ C12Acyloxy group or C2
~ Ctwenty fourIs an acyloxycarbonyl group. Also, R6
Is R9With R8Is RTenWith C2~ CFiveAl
A xylene group may be formed. Compound represented by general formula 1
Specific examples include those having the following structures.

【0016】[0016]

【化11】 Embedded image

【0017】[0017]

【化12】 [Chemical 12]

【0018】[0018]

【化13】 Embedded image

【0019】[0019]

【化14】 Embedded image

【0020】[0020]

【化15】 [Chemical 15]

【0021】本発明組成中に鉄アレン錯体を存在させる
と硬化性が低下することがある為、鉄アレン錯体の添加
は好ましくない。第4の成分(d)のグリシン誘導体
は、一般式化2(化4)で示される。一般式化2におい
て、R11、R12、R13、R14、R15はそれぞれ独立に水
素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロゲン
置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14、R15
は同時に水素原子ではない。一般式化2で示される化合
物の具体例としては、N−(p−アセチルフェニル)グ
リシン、N−(m−トリフルオロメチルフェニル)グリ
シン、N−(m−アセチルフェニル)グリシン、N−
(p−トリフルオロメチルフェニル)グリシンなどが挙
げられる。
When an iron allene complex is present in the composition of the present invention, the curability may be deteriorated, so addition of the iron allene complex is not preferred. The glycine derivative of the fourth component (d) is represented by the general formula 2 (formula 4). In the general formula 2, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , and R 15 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted acyl group, or a halogen-substituted alkyl group, and R 11 , R 12 , and R 13 , R 14 , R 15
Are not simultaneously hydrogen atoms. Specific examples of the compound represented by the general formula 2 include N- (p-acetylphenyl) glycine, N- (m-trifluoromethylphenyl) glycine, N- (m-acetylphenyl) glycine and N-.
(P-trifluoromethylphenyl) glycine and the like can be mentioned.

【0022】本発明組成中には、下記一般式化16で示
される環状ジケトン化合物を存在させてもよい。
A cyclic diketone compound represented by the following general formula 16 may be present in the composition of the present invention.

【化16】 (式中R20は水素または置換または非置換アルキルまた
はアラルキル基であり、Gは二価の有機基である。) 前記一般式化16で表される環状ジケトン化合物として
は、不安定な水素原子を有する活性メチレン基のある環
状β−ジカルボニル化合物である。式中R20は水素、ア
ルキル、置換アルキル、またはアラルキルであり、Gは
二価の有機基で基の鎖中にヘテロ原子を含有していても
よく、また場合により炭素またはヘテロ原子の一方また
はその両者が置換基を有していてもよいものである。前
記においてアルキル基はC1 〜C12のアルキルであり、
置換アルキルとして、例えばヒドロキシルアルキル、シ
アノアルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキレン、
アルキレンチオエーテル、アリールオキシアルキレンな
どが挙げられる。アラルキル基のアリール部分は6〜1
0個の炭素原子を含有し得る。前記二価の有機基Gは環
を完成させるものである。この部分はヘテロ原子、例え
ば窒素、酸素および硫黄を含有し得る。これらの化合物
の具体例として、5,5 −ジメチル−1,3 −シクロヘキサ
ンジオン、2−メチル−1,3 −シクロヘキサンジオン、
2−メチル−1,3 −シクロペンタンジオン、2,4 −ジエ
チル−1,3 −シクロブタンジオン、2−メチル−1,3 −
シクロブタンジオン、5−メチル−2−チオバルビツー
ル酸、バルビツール酸、3−エチルテトロン酸、2,4 −
ジメチル−3−オキソ−5−ヒドロキシ−5−メトキシ
ペンテン酸δ−ラクトン、1,3,5 −トリメチルバルビツ
ール酸、1,3 −ジメチル−5−エチルバルビツール酸、
2−メチルジメドン、1,3 −インダンジオン、2−メチ
ルインダンジオン、ビス−[5−(1,3 −ジメチルバル
ビツリル)]メタン、1,5 −ジフェニル−3−[2−
(フェニルチオ)エチル]−2,4 −ピロリジンジオン、
1−フェニル−3,5 −ジケト−4−n−ブチルテトラヒ
ドロピラゾール、2,2 −ジメチル−m−ジオキサン−4,
6 −ジオン、2,2,5 −トリメチル−m−ジオキサン−4,
6 −ジオンなどが挙げられる。
Embedded image (In the formula, R 20 is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl or aralkyl group, and G is a divalent organic group.) The cyclic diketone compound represented by the general formula 16 is an unstable hydrogen atom. Is a cyclic β-dicarbonyl compound having an active methylene group. Wherein R 20 is hydrogen, alkyl, substituted alkyl, or aralkyl, G is a divalent organic group and may contain a heteroatom in the chain of the group, and optionally carbon or a heteroatom or Both of them may have a substituent. In the above, the alkyl group is C 1 -C 12 alkyl,
As the substituted alkyl, for example, hydroxylalkyl, cyanoalkyl, haloalkyl, alkoxyalkylene,
Examples thereof include alkylene thioether and aryloxy alkylene. The aryl part of the aralkyl group is 6-1
It may contain 0 carbon atoms. The divalent organic group G completes the ring. This moiety may contain heteroatoms such as nitrogen, oxygen and sulfur. Specific examples of these compounds include 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione, 2-methyl-1,3-cyclohexanedione,
2-methyl-1,3-cyclopentanedione, 2,4-diethyl-1,3-cyclobutanedione, 2-methyl-1,3-
Cyclobutanedione, 5-methyl-2-thiobarbituric acid, barbituric acid, 3-ethyltetronic acid, 2,4-
Dimethyl-3-oxo-5-hydroxy-5-methoxypentenoic acid δ-lactone, 1,3,5-trimethylbarbituric acid, 1,3-dimethyl-5-ethylbarbituric acid,
2-methyldimedone, 1,3-indandione, 2-methylindandione, bis- [5- (1,3-dimethylbarbituryl)] methane, 1,5-diphenyl-3- [2-
(Phenylthio) ethyl] -2,4-pyrrolidinedione,
1-phenyl-3,5-diketo-4-n-butyltetrahydropyrazole, 2,2-dimethyl-m-dioxane-4,
6-dione, 2,2,5-trimethyl-m-dioxane-4,
6-dione and the like.

【0023】本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高
分子量有機重合体結合剤を存在させてもよい。重合体結
合剤タイプとしては(i)テレフタル酸、イソフタル
酸、セバシン酸、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフ
タル酸に基くコポリエステル、(ii)ポリアミド、 (ii
i)ビニリデンクロリド共重合体、(iv)エチレン/ビニ
ルアセテート共重合体、(v)セルロースエーテル、
(vi)ポリエチレン、 (vii)合成ゴム、(viii)セルロー
スエステル、(ix)ポリビニルアセテート/アクリレー
トおよびポリビニルアセテート/メタクリレート共重合
体を含むポリビニルエステル、(x)ポリアクリレート
およびポリα−アルキルアクリレートエステル例えばポ
リメチルアクリレートおよびポリエチルメタクリレー
ト、(xi)(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エ
ステルの共重合体、(xii)4,000 〜4,000,000の重量平
均分子量を有する高分子量エチレンオキシド重合体(ポ
リエチレングリコール)、(xiii)ポリ塩化ビニルおよび
その共重合体、(xiv) ポリビニルアセタール、(xv)ポリ
ホルムアルデヒド、(xvi) ポリウレタン、(xvii)ポリカ
ーボネートおよび(xviii) ポリスチレンが挙げられる。
A thermoplastic high molecular weight organic polymer binder may preferably be present in the composition of the present invention. Polymeric binder types include (i) terephthalic acid, isophthalic acid, sebacic acid, adipic acid and hexahydroterephthalic acid based copolyesters, (ii) polyamides, (ii)
i) vinylidene chloride copolymer, (iv) ethylene / vinyl acetate copolymer, (v) cellulose ether,
(Vi) polyethylene, (vii) synthetic rubber, (viii) cellulose ester, (ix) polyvinyl ester including polyvinyl acetate / acrylate and polyvinyl acetate / methacrylate copolymer, (x) polyacrylate and poly α-alkyl acrylate ester, for example Polymethyl acrylate and polyethyl methacrylate, (xi) copolymer of (meth) acrylic acid and (meth) acrylic ester, (xii) high molecular weight ethylene oxide polymer having a weight average molecular weight of 4,000 to 4,000,000 (polyethylene glycol), (xiii) polyvinyl chloride and copolymers thereof, (xiv) polyvinyl acetal, (xv) polyformaldehyde, (xvi) polyurethane, (xvii) polycarbonate and (xviii) polystyrene.

【0024】本発明組成物において、特に好ましい光重
合性結合剤としては、未露光光重合性コーティングが例
えばアルカリ性溶液である主として水性の溶液には可溶
性であるが、活性線放射の露光後は比較的それに不溶性
となるような重合体結合剤が好ましい。典型的にはこれ
らの要求を満足させる重合体はカルボキシル化重合体、
例えば遊離カルボン酸基含有ビニル付加重合体であるメ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロトン酸
共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイ
ン酸共重合体などがある。また側鎖にカルボキシル基を
有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合体に
環状酸無水物を付加させた物などがある。
In the compositions of the present invention, a particularly preferred photopolymerizable binder is one in which the unexposed photopolymerizable coating is soluble in predominantly aqueous solutions, for example alkaline solutions, but after exposure to actinic radiation a comparison is made. Polymer binders that are physically insoluble therein are preferred. Polymers that typically meet these requirements are carboxylated polymers,
For example, there are methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, which are vinyl addition polymers containing free carboxylic acid groups. Further, there are cellulose having a carboxyl group in a side chain, and a product in which a cyclic acid anhydride is added to a polymer having a hydroxyl group in a side chain.

【0025】更に、その他に光重合性組成物を製造中あ
るいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合
物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤
を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤として
は、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t
−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、ジ−t−ブ
チルカテコール、ベンゾキノン、2−メルカプトベンズ
イミダゾール、N−ニトロフェニルヒドロキシアミン第
一セリウムなどが挙げられる。また必要に応じて、不活
性添加物、例えば非重合性可塑剤、染料、顔料および充
填剤などは光重合性を著しく阻害しない程度に配合して
もよい。
In addition, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photopolymerizable composition. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol and di-t.
-Butyl-p-cresol, pyrogallol, di-t-butylcatechol, benzoquinone, 2-mercaptobenzimidazole, N-nitrophenylhydroxyamine primary cerium and the like. Further, if necessary, an inert additive such as a non-polymerizable plasticizer, a dye, a pigment and a filler may be blended to such an extent that the photopolymerizability is not significantly impaired.

【0026】本発明の光重合性組成物の好ましい配合比
率を成分(a) であるエチレン性不飽和化合物100 重量部
に対する重量部で表すと、成分(b) であるチタノセン化
合物は0.01〜50重量部、特に好ましくは0.1 〜30重量
部、成分(c)であるp−アミノフェニル不飽和ジケト
ンは、0.01〜20重量部、特に好ましくは0.1 〜20重量
部、成分(d)であるグリシン誘導体は、0.01〜20重量
部、特に好ましくは0.1 〜20重量部、環状ジケトン化合
物は0 〜20重量部、特に好ましくは0.1 〜20重量部、結
合剤は、0 〜1000重量部、好ましくは0 〜200 重量部で
ある。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物に対して、0.
01〜5%が好ましい。
When the preferable blending ratio of the photopolymerizable composition of the present invention is expressed in parts by weight relative to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound which is the component (a), the titanocene compound which is the component (b) is 0.01 to 50 parts by weight. Part, particularly preferably 0.1 to 30 parts by weight, 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 20 parts by weight, of the component (c), p-aminophenyl unsaturated diketone, and the glycine derivative as the component (d), 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 20 parts by weight, the cyclic diketone compound is 0 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 20 parts by weight, and the binder is 0 to 1000 parts by weight, preferably 0 to 200 parts by weight. Parts by weight. The amount of the thermal polymerization inhibitor added was 0.
01-5% is preferable.

【0027】なお本発明光重合性組成物は広範囲な種類
の基材上にコーティングすることができる。ここで「基
材」とはすべての天然または合成支持体、好ましくは可
撓性または剛性のフィルムまたはシートの形で存在し得
るものを意味している。例えば素材は金属シートまたは
箔、合成有機樹脂のシートまたはフィルム、セルロース
紙、ファイバーボードその他またはこれらの物質の2種
またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の素材
としてはアルミナプラストアルミニウム、アノード処理
アルミニウム、アルミプラストポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、
静電放電処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リビニルアルコールをコーティングした紙、交又結合ポ
リエステルコーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロ
ースアセテートフィルムその他が挙げられる。
The photopolymerizable composition of the present invention can be coated on a wide variety of substrates. By "substrate" herein is meant any natural or synthetic support, preferably one that may be present in the form of a flexible or rigid film or sheet. For example, the material can be a metal sheet or foil, a synthetic organic resin sheet or film, cellulose paper, fiberboard, or a composite of two or more of these materials. Specific materials include alumina plast aluminum, anodized aluminum, aluminum plast polyethylene terephthalate film, polyethylene terephthalate film,
Examples include electrostatic discharge treated polyethylene terephthalate film, polyvinyl alcohol coated paper, cross-linked polyester coated paper, nylon, glass, cellulose acetate film and the like.

【0028】特定の素材は一般に関連する適用目的によ
り決定される。例えば印刷回路が製造される場合には、
素材はファイバーボード上に銅をコーティングしたプレ
ートでありうる。平版印刷プレートの製造においては、
素材はアノード処理アルミニウムでありうる。本発明に
おいて、光重合性組成物の厚みは 0.1〜 250μmであ
り、好ましくは0.5〜50μmである。望ましい厚みは用
途により決められる。基板に設けられた光重合性組成物
の層の上には、空気中の酸素による重合抑制作用を防止
するために、ポリビニルアルコールなどのような酸素遮
断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けるか、ポリ
エチレンテレフタレートフィルムなどのカバーフィルム
をラミネートしてもよい。本発明光重合性組成物は紫外
光から可視光の幅広い領域の活性光線に対して高い感度
を有する。したがって、光源としては超高圧、高圧、中
圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯、キセノン灯、メタルハライド灯、アルゴンイオンレ
ーザー、FD−YAGレーザー、ヘリウム−ネオンレー
ザー、ヘリウム−カドミウムレーザーなどのレーザー、
蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光などが使用でき
る。
The particular material is generally determined by the relevant application purpose. For example, when a printed circuit is manufactured,
The material can be a plate coated with copper on fiberboard. In the manufacture of lithographic printing plates,
The material can be anodized aluminum. In the present invention, the thickness of the photopolymerizable composition is 0.1 to 250 μm, preferably 0.5 to 50 μm. The desired thickness is determined by the application. On the layer of the photopolymerizable composition provided on the substrate, a protective layer made of a polymer having excellent oxygen barrier properties, such as polyvinyl alcohol, is provided in order to prevent a polymerization suppression effect due to oxygen in the air. Alternatively, a cover film such as a polyethylene terephthalate film may be laminated. The photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity to actinic rays in a wide range from ultraviolet light to visible light. Therefore, as a light source, ultra high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, argon ion lasers, FD-YAG lasers, helium-neon lasers, helium-cadmium lasers, etc. Laser,
A fluorescent lamp, a tungsten lamp, sunlight, etc. can be used.

【0029】[0029]

【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、ここでの部および%は重量基準である。下引き層を
有する 100μm厚さの透明なポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に下記組成の感光層塗工液を塗布し、熱風
乾燥機にて90℃1分間乾燥し、厚さ2μmの塗膜を得
た。次いでその上に7%ポリビニルアルコール(完全ケ
ン化、重合度 500)の水溶液を塗布し熱風乾燥機で90℃
1分間乾燥して厚さ1μmのオーバー コート層を設け
て、感度テスト片を得た。この感度テスト片上にグレー
フィルムスケールを重ね、アルゴンイオンレーザの51
5nmの光で走査露光した。この後、30℃、0.7 %炭酸
ナトリウム水溶液に10秒間浸漬し、水洗して未硬化部分
を除去し 乾燥した後、完全硬化の段数(ステップ)を
調べた。 (感光層塗工液組成) (実施例1) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, in which parts and percentages are by weight. A 100 μm thick transparent polyethylene terephthalate film having an undercoat layer was coated with a photosensitive layer coating solution having the following composition and dried at 90 ° C. for 1 minute with a hot air drier to obtain a coating film having a thickness of 2 μm. Then, an aqueous solution of 7% polyvinyl alcohol (completely saponified, degree of polymerization 500) was applied on it, and heated at 90 ° C with a hot air dryer.
After drying for 1 minute, an overcoat layer having a thickness of 1 μm was provided to obtain a sensitivity test piece. A gray film scale was placed on this sensitivity test piece, and an Argon ion laser 51
Scanning exposure was performed with light of 5 nm. After that, it was immersed in a 0.7% sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C. for 10 seconds, washed with water to remove the uncured portion, and dried, and then the number of stages (steps) of complete curing was examined. (Composition of photosensitive layer coating liquid) (Example 1) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 parts

【0030】[0030]

【化17】 5部Embedded image 5 copies

【0031】[0031]

【化18】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例2) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部Embedded image 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts (Example 2) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 Department

【0032】[0032]

【化19】 5部Embedded image 5 copies

【0033】[0033]

【化20】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例3) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部Embedded image 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts (Example 3) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 Department

【0034】[0034]

【化21】 5部[Chemical 21] 5 copies

【0035】[0035]

【化22】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例4) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部Embedded image 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts (Example 4) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 Department

【0036】[0036]

【化23】 5部Embedded image 5 copies

【0037】[0037]

【化24】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (実施例5) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部Embedded image 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts (Example 5) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 Department

【0038】[0038]

【化25】 5部Embedded image 5 copies

【0039】[0039]

【化26】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 測定結果を表1に示す。[Chemical formula 26] 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts The measurement results are shown in Table 1.

【0040】[0040]

【表1】 比較例として下記組成の感光層塗工液を調整し、実施例
と同様の実験を行った。 (感光層塗工液組成) (比較例1) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部
[Table 1] As a comparative example, a photosensitive layer coating solution having the following composition was prepared, and the same experiment as that of the example was conducted. (Composition of photosensitive layer coating liquid) (Comparative Example 1) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 parts

【0041】[0041]

【化27】 5部Embedded image 5 copies

【0042】[0042]

【化28】 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (比較例2) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部Embedded image 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts (Comparative Example 2) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 parts

【0043】[0043]

【化29】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (比較例3) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部[Chemical 29] 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts (Comparative Example 3) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 Department

【0044】[0044]

【化30】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 (比較例4) ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸) 52部 70/30モル比 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部Embedded image 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts (Comparative Example 4) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 Department

【0045】[0045]

【化31】 5部[Chemical 31] 5 copies

【0046】[0046]

【化32】 3部 N−(p−アセチルフェニル)グリシン 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 測定結果を表2に示す。Embedded image 3 parts N- (p-acetylphenyl) glycine 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts The measurement results are shown in Table 2.

【0047】[0047]

【表2】 表1、表2より明らかなように、本発明の実施例1〜5
は比較例1〜4に比べ515nmの光に対し高感度であ
ることがわかる。
[Table 2] As is clear from Table 1 and Table 2, Examples 1 to 5 of the present invention
It can be seen that is more sensitive to light of 515 nm than Comparative Examples 1 to 4.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、可視光、特
に500nm以上の光に対し高い光硬化性を有する為、
露光光源の選択の幅が広がる。また、高感度である為、
与えられた時間内に多数の原版を露光できる。また、露
光源を原版より遠ざけることができるため、その光線が
平行化され、例えば網点画像を形成する場合、垂直の側
部を有するシャープな網点を形成することができるなど
種々の利点を有する。
The photopolymerizable composition of the present invention has a high photocurability against visible light, particularly light having a wavelength of 500 nm or more.
The range of choice of exposure light source is expanded. Also, because of its high sensitivity,
Multiple masters can be exposed within a given time. Further, since the exposure source can be moved away from the original plate, its light rays are collimated, and when forming a halftone dot image, various advantages such as forming a sharp halftone dot having a vertical side portion are obtained. Have.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも、 (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物 (b)チタノセン化合物 (c)下記一般式化1で示されるp−アミノフェニル不
飽和ジケトン (d)下記一般式化2で示されるグリシン誘導体 を含有する光重合性組成物。 【化1】 化1 中aは0 〜2 の自然数で、R1 、R2 、R3
4 、R5 、R6 、R7 、R 8 、R9 、R10は水素原子
でもよく、他の基で置換されていてもよい。) 【化2】 化2中R11、R12、R13、R14、R15はそれぞれ独立に
水素原子、置換または非置換のアシル基、またはハロゲ
ン置換アルキル基であり、R11、R12、R13、R14、R
15は同時に水素原子ではない。)
1. At least: (a) at least one kind of non-gaseous ethylenic ethylene at room temperature
Saturated compound (b) Titanocene compound (c) p-aminophenyl compound represented by the following general formula 1
Saturated diketone (d) A photopolymerizable composition containing a glycine derivative represented by the following general formula 2. [Chemical 1]In chemical formula 1, a is a natural number from 0 to 2 and R1, R2, RThree,
RFour, RFive, R6, R7, R 8, R9, RTenIs a hydrogen atom
However, it may be substituted with another group. )R in chemical formula 211, R12, R13, R14, RFifteenAre independently
Hydrogen atom, substituted or unsubstituted acyl group, or halogen
R-substituted alkyl group, R11, R12, R13, R14, R
FifteenAre not hydrogen atoms at the same time. )
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1635219A1 (en) 2004-08-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1701213A2 (en) 2005-03-08 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
DE112010000772T5 (en) 2009-02-13 2012-06-14 Mitsubishi Paper Mills Limited Photosensitive lithographic printing plate material
DE112011101165T5 (en) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material

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DE112011101165T5 (en) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material

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