JPH0936238A - Method and device for reutilizing lsi layout pattern - Google Patents

Method and device for reutilizing lsi layout pattern

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JPH0936238A
JPH0936238A JP7186013A JP18601395A JPH0936238A JP H0936238 A JPH0936238 A JP H0936238A JP 7186013 A JP7186013 A JP 7186013A JP 18601395 A JP18601395 A JP 18601395A JP H0936238 A JPH0936238 A JP H0936238A
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JP
Japan
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wiring
layout
pattern
cell
layout pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP7186013A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Kawakita
北 真 裕 川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0936238A publication Critical patent/JPH0936238A/en
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately and quickly prepare a new layout by utilizing an already existing layout pattern. SOLUTION: The addition, correction, deletion, etc., of functional cells and wiring to an original LSI circuit are decided (S2) and functional cells to be added and corrected are arranged by securing spaces by deleting patterns which have become unnecessary (S4). A wiring channel graph is prepared (S6) and areas are roughly assigned to wiring routes and through holes on the wiring channel graph (S8). Then partial route correction is performed (S10) and a detailed layout pattern is prepared (S12).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、LSIレイアウトパタ
ーンの再利用装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an LSI layout pattern reusing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の多品種化や多機能化に伴っ
て、LSIユーザからLSIの仕様について多様な要求
がなされている。このような、ニーズに応えるべく、更
にLSIの多品種化及び多機能化が進められているが、
より細かい要求に応えるためには、LSIの再設計が必
要となる。例えば、LSIの主要な機能回路部分をその
ままに、メモリ容量や、インタフェース部等の一部の付
属的な回路をユーザの仕様に合わせて部分的に設計を変
更するのである。このような、ユーザの求める仕様に木
目細かく答えて、LSIを効率よく設計する必要が高ま
っている。
2. Description of the Related Art With the increasing variety and functionality of electronic equipment, various demands have been made from LSI users for the specifications of LSI. In order to meet such needs, the LSIs are being made more diversified and have more functions.
To meet more detailed requirements, LSI redesign is required. For example, while the main functional circuit portion of the LSI is left as it is, the design of the memory capacity and some auxiliary circuits such as the interface portion is partially changed according to the user's specifications. There is an increasing need to efficiently design LSIs by responding to such specifications required by users in detail.

【0003】そこで、従来は、以前に設計したLSIパ
ターンの詳細レイアウトデータを利用して、下位階層の
機能セル及び配線の追加・削除等を人手によって行い、
設計を変更する。ここで、下位階層の機能セルとは、例
えば、演算ブロック(上位階層の機能セル)に含まれる
加算器(下位階層の機能セル)、加算器(上位階層の機
能セル)に含まれるトランジスタ(下位階層の機能セ
ル)の如きをいうものとする。この設計変更の際に、L
SI製造上のデザインルールを考慮したレイアウト修正
(変更)が必要となる。また、一部分のレイアウト修正
に伴って、他の部分で修正が必要となるため、人為的な
ミスが発生したり、著しく作業時間を要することにな
る。
Therefore, conventionally, the detailed layout data of the LSI pattern previously designed is used to manually add / delete functional cells and wirings in the lower hierarchy.
Change the design. Here, the functional cell of the lower layer is, for example, an adder (a functional cell of a lower layer) included in an operation block (a functional cell of a higher layer) or a transistor (a lower layer of a functional cell) included in an adder (a functional cell of an upper layer). Function cell of the hierarchy). At the time of this design change, L
It is necessary to modify (change) the layout considering the design rules for SI manufacturing. In addition, since the layout of one part needs to be corrected, the other part needs to be corrected, so that a human error occurs or a considerable work time is required.

【0004】これに対処するための手段の1つとして、
既に設計されている、設計済の回路及びレイアウトパタ
ーンの再利用を図る手法が提案されている。例えば、岡
田、小野寺、田丸、「形状最適化コンパクション」(電
子情報通信学会、信学技法、CAS-11,VLD93-11,DSP93-21
(1993-05),pp.73-80)では、形状の変化するレイアウト
要素への配線を考慮しつつ局所的な形状の変更を繰返
し、全体の圧縮と形状最適化を同時に行う手法が提案さ
れている。この手法によれば、素子形状の選択の自動化
やレイアウトの再利用が可能となる。
As one of the means for coping with this,
A method for reusing an already designed circuit and layout pattern has been proposed. For example, Okada, Onodera, Tamaru, "Shape Optimization Compaction" (The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, IEEJ, CAS-11, VLD93-11, DSP93-21
(1993-05), pp.73-80), a method is proposed in which local shape changes are repeatedly taken into consideration while taking into account wiring to layout elements whose shapes change, and overall compression and shape optimization are performed simultaneously. ing. According to this method, it is possible to automate the selection of the element shape and reuse the layout.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記手
法は、設計済みのLSIの詳細なレイアウトパターンを
そのまま再利用するものであり、演算部、加算器、トラ
ンジスタ等の、LSIにおける一定の機能単位を実現す
る機能セルを置換等することまでは考慮していないか
ら、再設計に十分に活用できない。再設計を支援する装
置には、LSIの既存のレイアウトパターンに、ユーザ
の仕様を満たすべく、下位階層の機能セルや配線の追加
・修正・削除等の新たな設計変更を行う機能を設けて、
効率良くレイアウトパターンを完成させることが不可欠
である。
However, the above-mentioned method reuses the detailed layout pattern of the designed LSI as it is, and a certain functional unit in the LSI such as an arithmetic unit, an adder, and a transistor is used. Since the replacement of the functional cells to be realized is not considered, it cannot be fully utilized for redesign. The device supporting the redesign is provided with a function for making a new design change such as addition / correction / deletion of a functional cell or wiring in a lower hierarchy in the existing layout pattern of the LSI so as to meet the user's specifications.
It is essential to efficiently complete the layout pattern.

【0006】よって、本発明は、以前に設計したレイア
ウトパターンを利用して、部分回路の変更に対応した高
密度・高品質なレイアウトを正確かつ迅速に作成でき
る、LSIレイアウトパターンの再利用方法(装置)を
提供することを目的とする。
Therefore, according to the present invention, a reuse method of an LSI layout pattern capable of accurately and promptly creating a high-density and high-quality layout corresponding to a change in a partial circuit by utilizing a layout pattern previously designed ( Device).

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のLSIレイアウトパターンの再利用方法
は、既に作成されている原LSI回路のレイアウトパタ
ーンに部分的に変更を加えて、新LSI回路のレイアウ
トパターンを完成させるLSIレイアウトパターンの再
利用方法において、原LSI回路と新LSI回路との回
路データを比較して原LSI回路への機能セル・配線の
追加・修正・削除等の決定を行う変更部分決定ステップ
と、上記決定に基づいて、原LSI回路のレイアウトパ
ターンから、削除すべき機能セル、配線及びスルーホー
ル等の不要となったパターンを削ってスペースを確保
し、追加・修正すぺき機能セルを配置し、原LSI回路
のレイアウトパターンを部分的に変更してセル配置変更
パターンを得る部分変更ステップと、上記セル配置変更
パターン上に機能セルの配置位置に基づいて配線チャネ
ルのグラフを作成する配線チャネルグラフ作成ステップ
と、上記セル配置変更パターンにおいて再利用される原
LSI回路の配線とスルーホールを上記配線チャネルグ
ラフ上に表される概略配線経路とスルーホールに割当
て、配線パターン同士の相対的な配置関係を決定する相
対配置決定ステップと、上記配線パターン同士の相対的
な配置関係が決定された上記セル配置変更パターンに対
し、機能セルの追加・修正・削除に伴って生じ得る、未
結線配線の経路決定や配線の部分的な経路修正を行う経
路修正ステップと、上記変更領域において再利用される
配線、上記配線チャネルのグラフ、上記概略配線経路等
を参照して、上記経路修正ステップを経たセル配置変更
パターンに具体化された機能セル及び配線の詳細レイア
ウトパターンを作成する詳細レイアウトパターン作成ス
テップと、を備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method of reusing an LSI layout pattern according to the present invention is such that a layout pattern of an original LSI circuit that has already been created is partially modified to create a new LSI. In the method of reusing the LSI layout pattern for completing the circuit layout pattern, the circuit data of the original LSI circuit and the new LSI circuit are compared to determine whether to add / correct / delete functional cells / wiring to the original LSI circuit. Based on the change part determination step to be performed and the above determination, the unnecessary pattern such as the functional cell, wiring, and through hole to be deleted is deleted from the layout pattern of the original LSI circuit to secure a space, and the addition / correction is performed. Partial modification by arranging functional cells and partially modifying the layout pattern of the original LSI circuit to obtain a cell layout modification pattern Step, a wiring channel graph creating step for creating a wiring channel graph based on the layout position of the functional cells on the cell layout changing pattern, and wiring and through holes of the original LSI circuit reused in the cell layout changing pattern Is assigned to the schematic wiring paths and through holes shown on the wiring channel graph, and the relative placement determining step of determining the relative placement relationship between the wiring patterns and the relative placement relationship between the wiring patterns are determined. In addition to the above-mentioned cell arrangement change pattern, a route correction step for determining a route of an unconnected wiring or a partial route correction of the wiring, which may be caused by addition / correction / deletion of a functional cell, and reuse in the changed area Connected wiring, the wiring channel graph, the schematic wiring route, etc. , Details layout pattern generating step of generating a detailed layout pattern embodied functional cells and wiring arrangement change pattern, characterized in that it comprises a.

【0008】また、第2発明のLSIレイアウトパター
ンの再利用装置は、既に作成されている原LSI回路の
レイアウトパターンに部分的に変更を加えて、新LSI
回路のレイアウトパターンを完成させるLSIレイアウ
トパターンの再利用装置において、原LSI回路と新L
SI回路との回路データを比較して原LSI回路への機
能セル・配線の追加・修正・削除等の決定を行う変更部
分決定手段と、上記決定に基づいて、原LSI回路のレ
イアウトパターンから、削除すべき機能セル、配線及び
スルーホール等の不要となったパターンを削ってスペー
スを確保し、追加・修正すぺき機能セルを配置し、原L
SI回路のレイアウトパターンを部分的に変更してセル
配置変更パターンを得る部分変更手段と、上記セル配置
変更パターン上に機能セルの配置位置に基づいて配線チ
ャネルのグラフを作成する配線チャネルグラフ作成手段
と、上記セル配置変更パターンにおいて再利用される原
LSI回路の配線とスルーホールを上記配線チャネルグ
ラフ上に表される概略配線経路とスルーホールに割当
て、配線パターン同士の相対的な配置関係を決定する相
対配置決定手段と、上記配線パターン同士の相対的な配
置関係が決定された上記セル配置変更パターンに対し、
機能セルの追加・修正・削除に伴って生じ得る、未結線
配線の経路決定や配線の部分的な経路修正を行う経路修
正手段と、上記変更領域において再利用される配線、前
記配線チャネルのグラフ、上記概略配線経路等を参照し
て、上記経路修正手段によって処理されたセル配置変更
パターンに具体化された機能セル及び配線の詳細レイア
ウトパターンを作成する詳細レイアウトパターン作成手
段と、を備えることを特徴とする。
The LSI layout pattern reusing apparatus according to the second aspect of the invention uses the new LSI by partially modifying the layout pattern of the original LSI circuit that has already been created.
In an LSI layout pattern reuse device that completes a circuit layout pattern, an original LSI circuit and a new L
From the layout pattern of the original LSI circuit, based on the above-mentioned determination, the changed portion determining means for comparing the circuit data with the SI circuit to determine addition / correction / deletion of functional cells / wiring to the original LSI circuit, A space is secured by scraping away unnecessary patterns such as function cells, wiring and through holes that should be deleted, and add / modify special function cells are arranged.
Partial changing means for partially changing the layout pattern of the SI circuit to obtain a cell layout changing pattern, and wiring channel graph creating means for creating a wiring channel graph based on the layout position of the functional cells on the cell layout changing pattern And the wirings and through holes of the original LSI circuit that are reused in the cell layout change pattern are assigned to the schematic wiring paths and through holes shown on the wiring channel graph, and the relative layout relationship between the wiring patterns is determined. Relative placement determining means, for the cell placement change pattern, the relative placement relationship between the wiring patterns is determined,
Route correction means for determining the route of unconnected wiring and partial route correction of wiring that may occur with addition / correction / deletion of functional cells, wiring reused in the changed area, and graph of the wiring channel A detailed layout pattern creating means for creating a detailed layout pattern of functional cells and wirings embodied in the cell placement change pattern processed by the path correcting means, with reference to the above-mentioned schematic wiring path and the like. Characterize.

【0009】[0009]

【作用】上記構成において、まず、回路設計者は、以前
に設計されている、利用可能なレイアウトパターンの回
路図と、新たな回路図とを比較し、利用するレイアウト
パターンに追加・修正・削除する下位階層の機能セルを
決定する。それに伴うネットの接続情報の追加・変更・
削除についても決定する。また、必要に応じて、設計者
が回路図上で配線の相対位置関係やスルーホールの相対
位置関係を保存したい部分を指定することができる。部
分変更ステップ(あるいは手段)は、レイアウトの無駄
なスペースの除去や必要スペースの確保を自動的に行
い、レイアウト修正をミスなく、容易に実現する。配線
チャネルグラフ作成ステップ(あるいは手段)は、修正
されたレイアウトに対して概略配線経路の探索を行う際
に必要な配線チャネルグラフを作成する。相対配置決定
ステップ(あるいは手段)は、作成済みの配線とスルー
ホールに関する詳細レイアウトパターンを参照して、チ
ャネルグラフ上の概略配線経路と、スルーホールの相対
位置を決定する。経路修正ステップ(あるいは手段)
は、レイアウトの修正に伴う未結線ネットの経路決定
や、一部分のネットの経路修正を行う。詳細レイアウト
パターン作成手段は、既に作成済みの詳細レイアウトパ
ターンを参照して、概略配線経路やスルーホールの相対
位置から、最終的な詳細レイアウトパターンを作成す
る。
In the above structure, the circuit designer first compares the previously designed circuit diagram of the usable layout pattern with the new circuit diagram, and adds / corrects / deletes the used layout pattern. The functional cell of the lower hierarchy to be used is determined. Addition / change of connection information of the net with it
Also decide to delete. Further, if necessary, the designer can specify a portion on the circuit diagram in which the relative positional relationship of the wiring and the relative positional relationship of the through hole are desired to be stored. The partial change step (or means) automatically removes a wasteful space in the layout and secures a necessary space, so that the layout can be easily corrected without making a mistake. The wiring channel graph creating step (or means) creates a wiring channel graph necessary for searching a rough wiring route for the corrected layout. In the relative placement determining step (or means), the relative positions of the through-holes and the rough wiring route on the channel graph are determined with reference to the detailed layout patterns regarding the created wirings and through-holes. Route correction step (or means)
Determines the route of unconnected nets and the route correction of a part of nets due to the layout modification. The detailed layout pattern creating means refers to the already created detailed layout pattern and creates a final detailed layout pattern from the relative positions of the rough wiring paths and the through holes.

【0010】この結果、特に、迂回のない最短配線経路
の決定や、配線同士の交差回数及びスルーホール数の最
小化等を大域的に最適化することができ、高密度で高品
質なレイアウトの設計を効率良く作成することが可能と
なる。
As a result, in particular, it is possible to globally optimize the determination of the shortest wiring route without detours and the minimum number of crossings between wirings and the number of through holes, resulting in a high-density and high-quality layout. It is possible to efficiently create a design.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。図2は、本発明のLSIレイアウトパター
ンの再利用装置(コンピュータシステム)の全体構成を
示している。レイアウトパターンの再利用装置は、キー
ボード1と、マウス、タブレット等の座標を入力するポ
インティングデバイス2と、レイアウトパターンの再利
用及び作成に必要な情報を格納するデータベース3と、
キーボード1及びマウス2から入力された指示に従い、
データベース3のデータを用いてレイアウトパターンの
再利用及び作成に関する種々の処理を行うデータ処理装
置4と、回路図やデータ処理装置により作成されたレイ
アウトパターンを表示するグラフィックディスプレイ5
とからなる。全処理が終了し、作成されたレイアウトパ
ターンは、新規のLSI製造用マスクパターンデータ6
として図示しないデータベースや記録媒体に出力され
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 shows the overall configuration of an LSI layout pattern reusing apparatus (computer system) according to the present invention. A layout pattern reuse device includes a keyboard 1, a pointing device 2 for inputting coordinates such as a mouse and a tablet, a database 3 for storing information required for reuse and creation of layout patterns,
Follow the instructions entered from the keyboard 1 and mouse 2,
A data processing device 4 that performs various processes related to the reuse and creation of layout patterns using the data of the database 3, and a graphic display 5 that displays a layout pattern created by a circuit diagram or data processing device.
Consists of After all the processing is completed, the created layout pattern is the new LSI manufacturing mask pattern data 6
Is output to a database or recording medium (not shown).

【0012】次に、フローチャートを参照して、データ
処理装置における処理を説明する。図1に示すフローチ
ャートは本発明の全体的な構成を示しており、後述する
図3乃至図8のフローチャート及び図9乃至図11の説
明図は、以下に述べる図1に示す各ステップのより具体
的な内容を説明している。
Next, the processing in the data processing device will be described with reference to the flow chart. The flowchart shown in FIG. 1 shows the overall configuration of the present invention, and the flowcharts of FIGS. 3 to 8 and the explanatory diagrams of FIGS. 9 to 11 to be described later are more specific of each step shown in FIG. 1 described below. The specific content.

【0013】まず、全体的な動作を図1を参照して説明
する。図1に示すように、データベース3から設計変更
の対象となる元のLSI回路の回路データと、作成すべ
き新規回路のデータとを比較して、下位階層の機能セル
の追加・修正・削除を決定する。また、これに伴う配線
の追加・削除・修正を決定する(ステップS2、図9
(a))。
First, the overall operation will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the circuit data of the original LSI circuit, which is the target of the design change, is compared with the data of the new circuit to be created from the database 3 to add / correct / delete the functional cells in the lower hierarchy. decide. In addition, the addition / deletion / correction of wiring is determined accordingly (step S2, FIG.
(A)).

【0014】追加・修正する下位階層の機能セルを配置
するスペースを確保すべく、元のLSI回路のレイアウ
トパターンから削除する機能セルや配線・スルーホール
の無駄スペースを削り、新規配置セルのスペースを確保
する。追加・修正した新規機能セルの配置を行う(ステ
ップS4、図9(b)及び同図(c)、図10
(a))。
In order to secure a space for arranging a function cell of a lower hierarchy to be added / corrected, a waste space of a function cell, wiring, and a through hole to be deleted from the layout pattern of the original LSI circuit is reduced, and a space of a newly arranged cell is reduced. Secure. The added / modified new function cell is arranged (step S4, FIG. 9B and FIG. 10C).
(A)).

【0015】概略配線経路の探索を行う際に必要な、配
線チャネルグラフを作成する(ステップS6、図10
(b))。チャネルは、1つ若しくは複数の配線が形成
され得る領域であり、概略配線と詳細配線との二段階の
手法による配線ルートの決定に用いられる。概略配線は
チャネルグラフ上で大域的に経路が決定される配線情報
であり、詳細配線は設計規則(デザインルール)を満足
するように配線層や詳細経路(位置)が決定される配線
情報である。
A wiring channel graph, which is necessary when searching a rough wiring route, is created (step S6, FIG. 10).
(B)). A channel is a region where one or more wirings can be formed, and is used for determining a wiring route by a two-step method of rough wiring and detailed wiring. The rough wiring is wiring information in which a route is globally determined on a channel graph, and the detailed wiring is wiring information in which a wiring layer and a detailed route (position) are determined so as to satisfy a design rule (design rule). .

【0016】既に、作成済の元のLSI回路の配線とス
ルーホールに関する詳細レイアウトパターンに対して、
チャネルグラフ上の概略配線経路とスルーホールの相対
配置位置を決定する(ステップS8、図10(c))。
With respect to the detailed layout pattern of the wiring and through holes of the original LSI circuit which has already been created,
Relative arrangement positions of the rough wiring route and the through hole on the channel graph are determined (step S8, FIG. 10C).

【0017】レイアウトの修正に伴う未結線ネットの経
路決定及び一部分のネットの経路修正を行う(ステップ
S10、図11(a))。
The route of the unconnected net is determined and the route of a part of the net is corrected in accordance with the layout correction (step S10, FIG. 11A).

【0018】既に作成済の元のLSI回路の詳細レイア
ウトパターンを参照して概略配線経路やスルーホールの
相対位置から、最終的な詳細レイアウトパターンを作成
する(ステップS12、図11(b))。
With reference to the detailed layout pattern of the original LSI circuit that has already been created, the final detailed layout pattern is created from the relative positions of the rough wiring paths and through holes (step S12, FIG. 11B).

【0019】次に、上述した各ステップについて説明す
る。図3は、ステップS2のより具体的な手順を示すフ
ローチャートである。すなわち、設計済みのレイアウト
パターンをストックしているデータベース3から、図9
(a)に示すような、再利用の対象となるLSIの回路
図(旧回路図)のデータを読出す。設計者が、要求仕様
を満足するように回路を修正し、新規回路図を設計す
る。あるいは、予め図示しない装置で修正された新規回
路図をデータベース3に記憶しておく。旧回路図のデー
タと設計すべき新回路図のデータとを読出す(ステップ
S202)。修正前と修正後の引用されている機能セル
リストの比較を行う(ステップS204)。追加、修
正、削除される必要のある下位階層の機能セルを決定す
る(ステップS206)。
Next, the above steps will be described. FIG. 3 is a flowchart showing a more specific procedure of step S2. That is, from the database 3 that stocks the designed layout patterns,
The data of the circuit diagram (old circuit diagram) of the LSI to be reused as shown in (a) is read. The designer modifies the circuit to meet the required specifications and designs a new circuit diagram. Alternatively, a new circuit diagram modified by a device (not shown) is stored in the database 3 in advance. The data of the old circuit diagram and the data of the new circuit diagram to be designed are read (step S202). The quoted functional cell lists before and after the modification are compared (step S204). The functional cell of the lower hierarchy that needs to be added, modified or deleted is determined (step S206).

【0020】また、読込んだ旧回路図のデータと新回路
図のデータとから(ステップS212)、新・旧回路図
についてネット単位で接続端子の集合のリストを作成す
る(ステップS214)。新・旧回路図の端子集合のリ
ストを比較して(ステップS216)、削除するネッ
ト、追加するネット、修正するネットを決定する(ステ
ップS218)。例えば、図9(a)に示す回路図にお
いて、新旧回路図のデータの比較の結果、機能セルB,
C,Fを取除き、機能セルG,Hを追加すべきことが決
定される。
Further, from the read data of the old circuit diagram and the data of the new circuit diagram (step S212), a list of a set of connection terminals is created for each new / old circuit diagram on a net basis (step S214). The lists of terminal sets of the new and old circuit diagrams are compared (step S216), and the net to be deleted, the net to be added, and the net to be corrected are determined (step S218). For example, in the circuit diagram shown in FIG. 9A, as a result of comparison of data between the old and new circuit diagrams, the functional cell B,
It is decided that C and F should be removed and functional cells G and H should be added.

【0021】これ等の情報を元に、既に作成済みのレイ
アウトパターンにおいてスペース確保を行い、設計者が
追加・修正した機能セルの配置場所を指定する(ステッ
プS4)。すなわち、データ処理システムは、既設計パ
ターン、再利用パターン領域、削除・追加・修正機能セ
ルのデータ、削除・追加・修正ネットのデータ、設計規
則等のデータを取込む(ステップS402)。そして、
削除セル、削除ネットに関係したレイアウトパターンの
削除処理を行う(ステップS404)。更に、修正ネッ
トの一部の配線パターンの削除処理を行って、図9
(b)に示すように、機能セルと既配線の削除を行う
(ステップS406)。追加、修正セルの配置、方向の
決定を行う(ステップS408)。X方向のスペースの
作成処理を行う(ステップS410)。更に、Y方向の
スペースの作成処理を行って、図9(c)に示すよう
に、追加セルのスペースを空ける(ステップS41
2)。図10(a)に示すように、追加・修正セルの配
置処理を行う(ステップS414)。これ等の処理によ
り、機能セルの配置パターン、再利用する配線パターン
を得る(ステップS416)。
Based on these pieces of information, a space is secured in the already created layout pattern, and the layout location of the functional cell added / modified by the designer is designated (step S4). That is, the data processing system takes in the data of the already designed pattern, the reuse pattern area, the data of the deletion / addition / correction function cell, the data of the deletion / addition / correction net, the design rule and the like (step S402). And
The layout pattern related to the deleted cell and the deleted net is deleted (step S404). Further, a part of the wiring pattern of the correction net is deleted, and the result of FIG.
As shown in (b), the functional cell and the existing wiring are deleted (step S406). Addition, correction cell placement, and direction determination are performed (step S408). A process of creating a space in the X direction is performed (step S410). Further, a process for creating a space in the Y direction is performed to make space for an additional cell as shown in FIG. 9C (step S41).
2). As shown in FIG. 10 (a), an addition / correction cell placement process is performed (step S414). By these processes, the layout pattern of the functional cells and the wiring pattern to be reused are obtained (step S416).

【0022】次に、配線チャネルグラフの作成を行う
(ステップS6)。すなわち、機能セルの配置パターン
を取込み、X方向における配線可能領域の探索を行い、
X方向の空きスペースを判別する。例えば、図12
(a)に示すように、レイアウト領域上下の外側には、
仮想的に大きな機能セルが存在すると仮定し、上下に隣
接する機能セル間に挟まれる領域x1〜x8が配線可能
領域として判別される(ステップS604)。機能セル
で上下を挟まれた配線可能領域x1〜x8の中央に直線
を作成する(ステップS606)。
Next, a wiring channel graph is created (step S6). That is, by taking in the layout pattern of the functional cells, searching for the wirable area in the X direction,
Determine the free space in the X direction. For example, in FIG.
As shown in (a), outside the layout area above and below,
Assuming that a virtually large functional cell exists, areas x1 to x8 sandwiched between vertically adjacent functional cells are discriminated as wirable areas (step S604). A straight line is created at the center of the wirable areas x1 to x8 sandwiched between the functional cells (step S606).

【0023】同様に、機能セルの配置パターンから、Y
方向における配線可能領域の探索を行い、空きスペース
を判別する。例えば、図12(b)に示すように、レイ
アウト領域の左右の外側に、仮想的に大きなセルが存在
すると仮定し、左右の機能セル間に挟まれる領域y1〜
y8が配線可能領域として判別される(ステップS60
8)。機能セルで左右を挟まれた配線可能領域y1〜y
8の中央に直線を作成する(ステップS610)。この
結果、X方向・Y方向に延在する直線(点線)で表され
るグラフが作成される(ステップS612)。機能セル
の端子から、図10(b)に示すように、グラフのエッ
ジにチャネルを引出し、引出しチャネルを作成する(ス
テップS614)。この結果、配線チャネルグラフのデ
ータが得られる(ステップS616)。
Similarly, from the arrangement pattern of the functional cells, Y
A wirable area in the direction is searched to determine an empty space. For example, as shown in FIG. 12B, it is assumed that virtually large cells exist outside the left and right of the layout area, and areas y1 to y sandwiched between the left and right functional cells are arranged.
y8 is determined as the wirable area (step S60).
8). Wirable areas y1 to y sandwiched by functional cells on the left and right
A straight line is created at the center of 8 (step S610). As a result, a graph represented by a straight line (dotted line) extending in the X and Y directions is created (step S612). As shown in FIG. 10B, a channel is drawn from the terminal of the functional cell to the edge of the graph to create a drawn channel (step S614). As a result, wiring channel graph data is obtained (step S616).

【0024】次に、チャネルグラフ上の概略配線経路と
スルーホールの相対位置を決定する(ステップS8)。
すなわち、配線チャネルのデータと、再利用する配線パ
ターンと、を取込み(ステップS802)、配線パター
ンをX方向、Y方向の配線セグメントに分解する(ステ
ップS802)。配線パターン同士の相対順番、配線
層、配線の交差に関する情報を記憶する(ステップS8
06)。図10(c)に示すように、配線パターンを同
一方向の最も近いチャネルにマッピングする(ステップ
S808)。この結果、再利用する配線パターンのチャ
ネルグラフ上の配線経路、配線パターン同士の相対順
番、配線層、交差情報が得られる(ステップS81
0)。
Next, the relative positions of the rough wiring route and the through hole on the channel graph are determined (step S8).
That is, the wiring channel data and the wiring pattern to be reused are fetched (step S802), and the wiring pattern is decomposed into wiring segments in the X and Y directions (step S802). Information about the relative order of wiring patterns, wiring layers, and wiring intersections is stored (step S8).
06). As shown in FIG. 10C, the wiring pattern is mapped to the closest channel in the same direction (step S808). As a result, the wiring route on the channel graph of the wiring pattern to be reused, the relative order of the wiring patterns, the wiring layer, and the intersection information are obtained (step S81).
0).

【0025】次に、レイアウトの修正に伴う未結線ネッ
トの経路決定、ネットの経路修正を行う(ステップS1
0)。すなわち、配線チャネルグラフ、追加・修正する
ネット情報、再利用する配線パターンのチャネルグラフ
上の配線経路のデータを取込み(ステップS100
2)、チャネルグラフ上の配線経路を参照し、既配線部
分を認識する(ステップS1004)。ネット単位でチ
ャネルグラフ上の配線パターンの経路候補集合を生成す
る(ステップS1006)。図11(a)に示すよう
に、経路候補の組合せの中で、最適な配線経路を決定す
る(ステップS1008)。この結果、配線チャネルグ
ラフ上の配線経路を得る(ステップS1010)。
Next, the route of the unconnected net is determined and the route of the net is corrected in accordance with the layout correction (step S1).
0). That is, the wiring channel graph, the net information to be added / modified, and the data of the wiring route on the channel graph of the wiring pattern to be reused are fetched (step S100).
2) Referring to the wiring route on the channel graph, the already-wired portion is recognized (step S1004). A route candidate set of wiring patterns on the channel graph is generated for each net (step S1006). As shown in FIG. 11A, the optimum wiring route is determined from the combinations of route candidates (step S1008). As a result, the wiring route on the wiring channel graph is obtained (step S1010).

【0026】次に、最終的な詳細レイアウトパターンを
作成する(ステップS12)。すなわち、配線チャネル
グラフ、配線チャネル上の配線経路、再利用する配線パ
ターン同士の相対順番、配線層、交差情報等を取込み
(ステップS1202)、チャネル単位で配線同士の相
対順番を決定する。この際、配線同士の交差の数が最小
になるようにする(ステップS1204)。X方向、Y
方向のコンパクションを実行し、配線スペースを確保す
る(ステップS1206)。配線層の決定と、必要によ
りスルーホールの発生を行う(ステップS1208)。
Next, a final detailed layout pattern is created (step S12). That is, the wiring channel graph, the wiring route on the wiring channel, the relative order of the wiring patterns to be reused, the wiring layer, the intersection information, and the like are fetched (step S1202), and the relative order of the wirings is determined for each channel. At this time, the number of intersections between the wirings is minimized (step S1204). X direction, Y
Directional compaction is performed to secure a wiring space (step S1206). The wiring layer is determined and through holes are generated if necessary (step S1208).

【0027】この結果、例えば、第11図(b)に示す
ように、そのまま再利用される大部分の機能セルと、新
規に追加された機能セルG,Hと、点×で示されるスル
ーホール及び点線で示される交差配線による多層配線
と、によって構成される配線パターンの詳細なデータや
各機能セルの配置データが得られる(ステップS121
0)。
As a result, for example, as shown in FIG. 11 (b), most of the functional cells that are reused as they are, the newly added functional cells G and H, and the through-holes indicated by points X are used. And detailed data of the wiring pattern constituted by the multi-layer wiring by the cross wiring shown by the dotted line and the arrangement data of each functional cell are obtained (step S121).
0).

【0028】なお、図13の131 に示すように、多層
配線を行うLSI回路では、機能セル上を通過するチャ
ネル131 を設けることができる。これを、例えば、ス
テップS8において追加し、より高密度なレイアウトパ
ターンを作成するようにすることができる。同図におい
て、132 は機能セル配置位置、133 はチャネルグラ
フ、134 は下位階層の機能セル、135 は配線端子を
表している。
As shown by 131 in FIG. 13, a channel 131 passing through the functional cell can be provided in an LSI circuit having multilayer wiring. For example, this can be added in step S8 to create a higher density layout pattern. In the figure, 132 is a functional cell arrangement position, 133 is a channel graph, 134 is a lower level functional cell, and 135 is a wiring terminal.

【0029】また、図14のA及びBに示すように、作
成されたチャネルのうち、チャネルの両側が実際の下位
階層の機能セルではなく、かつ、チャネルの配線容量が
設計者により予め規定された値以下の場合には、同一方
向の複数のチャネルを1つにまとめることも可能であ
る。
Further, as shown in FIGS. 14A and 14B, of the created channels, both sides of the channel are not actual functional cells of the lower hierarchy, and the wiring capacity of the channel is defined in advance by the designer. When the value is equal to or less than the above value, it is possible to combine a plurality of channels in the same direction into one.

【0030】このように、本発明によれば、既存のレイ
アウトパターンを再利用するため、LSIの設計期間の
短縮が可能となる。問題のない既存回路を使用し、これ
に一定のアルゴリズムに従って機能セルや配線の追加・
修正・削除を行うので、デザインルール違反に関連した
ミスもなくすることが可能となる。修正したレイアウト
上に発生した無駄な面積を削除するすることもできるた
め、高密度のレイアウトを作成可能である。また、配線
についても新たに修正・発生させる際に、設計済み部分
の配線経路や配線同士の交差状況を考慮することがで
き、配線の迂回、不要な配線交差やスルーホールの発生
をなくすことによる高品質なレイアウトパターンの作成
が可能となる。
As described above, according to the present invention, since the existing layout pattern is reused, the LSI design period can be shortened. Use existing circuits that do not have any problems and add functional cells and wiring according to a certain algorithm.
Since correction / deletion is performed, it is possible to eliminate mistakes related to design rule violation. Since a useless area generated on the corrected layout can be deleted, a high-density layout can be created. In addition, when newly modifying / generating wiring, it is possible to consider the wiring route of the designed part and the crossing situation of the wiring, and to eliminate the detour of the wiring and the generation of unnecessary wiring crossing and through holes. It is possible to create a high quality layout pattern.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
既存のレイアウトパターンを再利用するため、LSIの
設計期間の短縮が可能となる。
As described above, according to the present invention,
Since the existing layout pattern is reused, the LSI design period can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるレイアウトパターンの再利用を概
略的に説明するフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart schematically illustrating reuse of a layout pattern according to the present invention.

【図2】本発明を実行するCAD装置の全体構成を概略
的に示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram schematically showing an overall configuration of a CAD device that executes the present invention.

【図3】図1に示すフローチャートのステップS2をよ
り具体的に説明するフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart explaining step S2 of the flowchart shown in FIG. 1 more specifically.

【図4】図1に示すフローチャートのステップS4をよ
り具体的に説明するフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart for more specifically explaining step S4 of the flowchart shown in FIG.

【図5】図1に示すフローチャートのステップS6をよ
り具体的に説明するフローチャートである。
5 is a flowchart for explaining step S6 of the flowchart shown in FIG. 1 more specifically. FIG.

【図6】図1に示すフローチャートのステップS8をよ
り具体的に説明するフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart for more specifically explaining step S8 of the flowchart shown in FIG.

【図7】図1に示すフローチャートのステップS10を
より具体的に説明するフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart for explaining step S10 of the flowchart shown in FIG. 1 more specifically.

【図8】図1に示すフローチャートのステップS12を
より具体的に説明するフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart for more specifically explaining step S12 of the flowchart shown in FIG.

【図9】図9(a)〜図9(c)は、回路のレイアウト
を段階的に説明する説明図である。
FIG. 9A to FIG. 9C are explanatory diagrams for explaining a circuit layout step by step.

【図10】図10(a)〜図10(c)は、回路のレイ
アウトを段階的に説明する説明図である。
FIG. 10A to FIG. 10C are explanatory diagrams for explaining a circuit layout step by step.

【図11】図11(a)及び同図(b)は、回路のレイ
アウトを段階的に説明する説明図である。
FIG. 11A and FIG. 11B are explanatory diagrams for explaining a circuit layout step by step.

【図12】図12(a)及び同図(b)は、チャネルグ
ラフの作成段階における空き領域探索を説明する説明図
である。
FIG. 12A and FIG. 12B are explanatory diagrams for explaining the empty area search at the stage of creating a channel graph.

【図13】チャネルグラフの作成を説明する説明図であ
る。
FIG. 13 is an explanatory diagram illustrating generation of a channel graph.

【図14】同一方向の複数チャネルのマージ処理を説明
する説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram illustrating merge processing of a plurality of channels in the same direction.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 キーボード 2 マウス(ポインティングデバイス) 3 データベースサーバ 4 データ処理装置 5 グラフィックディスプレイ 1 keyboard 2 mouse (pointing device) 3 database server 4 data processor 5 graphic display

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】既に作成されている原LSI回路のレイア
ウトパターンに部分的に変更を加えて、新LSI回路の
レイアウトパターンを完成させるLSIレイアウトパタ
ーンの再利用方法であって、 原LSI回路と新LSI回路との回路データを比較して
原LSI回路への機能セル・配線の追加・修正・削除等
の決定を行う変更部分決定ステップと、 前記決定に基づいて、原LSI回路のレイアウトパター
ンから、削除すべき機能セル、配線及びスルーホール等
の不要となったパターンを削ってスペースを確保し、追
加・修正すぺき機能セルを配置し、原LSI回路のレイ
アウトパターンを部分的に変更してセル配置変更パター
ンを得る部分変更ステップと、 前記セル配置変更パターン上に機能セルの配置位置に基
づいて配線チャネルのグラフを作成する配線チャネルグ
ラフ作成ステップと、 前記セル配置変更パターンにおいて再利用される原LS
I回路の配線とスルーホールを前記配線チャネルグラフ
上に表される概略配線経路とスルーホールに割当て、配
線パターン同士の相対的な配置関係を決定する相対配置
決定ステップと、 前記配線パターン同士の相対的な配置関係が決定された
前記セル配置変更パターンに対し、機能セルの追加・修
正・削除に伴って生じ得る、未結線配線の経路決定や配
線の部分的な経路修正を行う経路修正ステップと、 前記変更領域において再利用される配線、前記配線チャ
ネルのグラフ、前記概略配線経路等を参照して、前記経
路修正ステップを経たセル配置変更パターンに具体化さ
れた機能セル及び配線の詳細レイアウトパターンを作成
する詳細レイアウトパターン作成ステップと、 を備えることを特徴とする、LSIレイアウトパターン
の再利用方法。
1. A method of reusing an LSI layout pattern, wherein a layout pattern of an original LSI circuit that has already been created is partially modified to complete a layout pattern of a new LSI circuit. A changed portion determination step of comparing circuit data with the LSI circuit to determine addition / correction / deletion of functional cells / wiring to the original LSI circuit; and based on the determination, from a layout pattern of the original LSI circuit, A cell is created by removing unnecessary patterns such as function cells, wiring and through holes to be deleted to secure space, arranging add / modify function cells, and partially changing the layout pattern of the original LSI circuit. A partial changing step for obtaining a placement change pattern, and a wiring channel graph based on the placement position of the functional cells on the cell placement change pattern. A wiring channel graph generating step of generating the original LS is reused in the cell arrangement change pattern
Relative layout determining step of allocating wirings and through holes of the I circuit to the schematic wiring paths and through holes shown on the wiring channel graph to determine a relative layout relationship between the wiring patterns, and a relative layout determining step between the wiring patterns. A route correction step for determining a route of an unconnected wiring or a partial route correction of a wiring, which may occur with the addition / correction / deletion of a functional cell with respect to the cell layout change pattern for which a specific layout relationship is determined. , A detailed layout pattern of functional cells and wiring embodied in the cell layout change pattern that has undergone the route correction step, with reference to the wirings reused in the changed region, the wiring channel graph, the general wiring route, etc. And a detailed layout pattern creating step for creating an LSI layout pattern. .
【請求項2】前記相対配置決定ステップは、前記機能セ
ル上を通過するチャネルを作成する機能を有する、 ことを特徴とする請求項1記載のLSIレイアウトパタ
ーンの再利用方法。
2. The method of reusing an LSI layout pattern according to claim 1, wherein the relative placement determining step has a function of creating a channel passing on the functional cell.
【請求項3】前記配線チャネルグラフ作成ステップは、
チャネルの両側に機能セルが存在せず、かつ、チャネル
の配線容量が規定された値以下であるとき、隣接するチ
ャネル同士を1つのチャネルに表現する、 ことを特徴とする請求項1又は2記載のLSIレイアウ
トパターンの再利用方法。
3. The wiring channel graph creating step comprises:
The function cell does not exist on both sides of the channel, and when the wiring capacitance of the channel is equal to or less than a specified value, adjacent channels are expressed as one channel. Reusing method of LSI layout pattern.
【請求項4】既に作成されている原LSI回路のレイア
ウトパターンに部分的に変更を加えて、新LSI回路の
レイアウトパターンを完成させるLSIレイアウトパタ
ーンの再利用装置であって、 原LSI回路と新LSI回路との回路データを比較して
原LSI回路への機能セル・配線の追加・修正・削除等
の決定を行う変更部分決定手段と、 前記決定に基づいて、原LSI回路のレイアウトパター
ンから、削除すべき機能セル、配線及びスルーホール等
の不要となったパターンを削ってスペースを確保し、追
加・修正すぺき機能セルを配置し、原LSI回路のレイ
アウトパターンを部分的に変更してセル配置変更パター
ンを得る部分変更手段と、 前記セル配置変更パターン上に機能セルの配置位置に基
づいて配線チャネルのグラフを作成する配線チャネルグ
ラフ作成手段と、 前記セル配置変更パターンにおいて再利用される原LS
I回路の配線とスルーホールを前記配線チャネルグラフ
上に表される概略配線経路とスルーホールに割当て、配
線パターン同士の相対的な配置関係を決定する相対配置
決定手段と、 前記配線パターン同士の相対的な配置関係が決定された
前記セル配置変更パターンに対し、機能セルの追加・修
正・削除に伴って生じ得る、未結線配線の経路決定や配
線の部分的な経路修正を行う経路修正手段と、 前記変更領域において再利用される配線、前記配線チャ
ネルのグラフ、前記概略配線経路等を参照して、前記経
路修正手段によって処理されたセル配置変更パターンに
具体化された機能セル及び配線の詳細レイアウトパター
ンを作成する詳細レイアウトパターン作成手段と、 を備えることを特徴とする、LSIレイアウトパターン
の再利用装置。
4. An LSI layout pattern reuse apparatus for partially modifying a layout pattern of an original LSI circuit that has already been created to complete a layout pattern of a new LSI circuit. A changed portion determining unit that compares circuit data with the LSI circuit to determine addition / correction / deletion of a functional cell / wiring to the original LSI circuit; and a layout pattern of the original LSI circuit based on the determination, A cell is created by removing unnecessary patterns such as function cells, wiring and through holes to be deleted to secure space, arranging add / modify function cells, and partially changing the layout pattern of the original LSI circuit. Partial changing means for obtaining a layout change pattern, and creating a wiring channel graph based on the layout position of the functional cells on the cell layout change pattern A wiring channel graph generator that, original LS is reused in the cell arrangement change pattern
Relative arrangement determining means for allocating the wirings and through holes of the I circuit to the schematic wiring paths and through holes shown on the wiring channel graph to determine the relative arrangement relationship between the wiring patterns, and the relative arrangement between the wiring patterns. With respect to the cell layout change pattern for which the physical layout relationship is determined, route correction means for determining the route of unconnected wiring and partial route correction of wiring, which may occur with the addition / correction / deletion of functional cells. , Details of functional cells and wiring embodied in the cell layout change pattern processed by the route correction means, with reference to the wirings reused in the changed area, the graph of the wiring channel, the general wiring route, etc. An LSI layout pattern reusing apparatus, comprising: a detailed layout pattern creating means for creating a layout pattern.
JP7186013A 1995-07-21 1995-07-21 Method and device for reutilizing lsi layout pattern Pending JPH0936238A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6421819B1 (en) 1998-10-07 2002-07-16 Nec Corporation Integrated circuit layout designing system and power source eliminating method to be employed in the same using arranging power blocks
US7653517B2 (en) 2003-04-15 2010-01-26 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Design data generating apparatus and design data generating method

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