JPH09301915A - Flavone and naphthalene derivative - Google Patents

Flavone and naphthalene derivative

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JPH09301915A
JPH09301915A JP11396096A JP11396096A JPH09301915A JP H09301915 A JPH09301915 A JP H09301915A JP 11396096 A JP11396096 A JP 11396096A JP 11396096 A JP11396096 A JP 11396096A JP H09301915 A JPH09301915 A JP H09301915A
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JP
Japan
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single bond
double bond
benzyl
prenyl
bond
Prior art date
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Pending
Application number
JP11396096A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Fujimoto
克巳 藤本
Isamu Mikoshiba
勇 御子芝
Natsuki Tanaka
夏樹 田中
Yuji Iwano
雄次 岩野
Yasuteru Iijima
康輝 飯島
Motohiko Taki
基彦 瀧
Masahiro Kitaoka
政弘 北岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject derivative useful as an estrogenic agent for preventing and treating diseases such as menopausal disorders, prostatic cancer and prostatomegaly. SOLUTION: This new derivative is a flavone or naphthalene derivative shown by the formula (R<1> is OH or H; R<2> is a nonsubstituted 1-6C alkyl or nonsubstituted 2-6C alkenyl having one double bond; R<3> is H or a nonsubstituted 1-4C alkyl; R<4> and R<5> are each H or a nonsubstituted 1-4C alkyl; R<6> is OH, a halogen or nonsubstituted 1-4C alkyl; X is O or methylene; bond bearing ...mark is a single or double bond), e.g. 5,7-dihydroxy-2-(4-hydroxy-3- methoxyphenyl)-8-(3-methyl-2-butenyl)-4-chromanone.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エストロゲンリセ
プターに特異的に結合することによりエストロゲン作用
を発揮する化合物に関するものである。また、本発明
は、これらの化合物からなるエストロゲン作用剤として
有用な医薬、及び該化合物を有効成分として含む医薬用
組成物にも関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a compound that exerts an estrogenic effect by specifically binding to an estrogen receptor. The present invention also relates to a medicament comprising these compounds, which is useful as an estrogen agonist, and a pharmaceutical composition containing the compound as an active ingredient.

【0002】[0002]

【従来の技術】エストロゲンは女性ホルモンの一種であ
り、発情作用を示すホルモンおよび類似の作用を持つ物
質の総称である。天然に存在するエストロゲンとして
は、ステロイド系のエストロゲンであるエストラジオー
ルが主要なヒト・エストロゲンとして知られている。ス
テロイド系のエストロゲン作用剤としては、例えば、エ
ストロン、エストリオール、エキリン、ホモエストロ
ン、及びエチニルエストラジオール等も知られている。
また非ステロイド系のエストロゲン作用剤として、例え
ばジエチルスチルベステロールやヘキセストロール等が
知られている。
2. Description of the Related Art Estrogen is a kind of female hormone, and is a general term for hormones having an estrous effect and substances having a similar effect. As a naturally occurring estrogen, estradiol, which is a steroidal estrogen, is known as a major human estrogen. As steroid-based estrogen agonists, for example, estrone, estriol, equilin, homoestrone, ethinyl estradiol, etc. are also known.
Further, as nonsteroidal estrogen agonists, for example, diethylstilbestrol, hexestrol and the like are known.

【0003】これらのエストロゲン作用剤のうち、ステ
ロイド系のエストロゲン作用剤は、例えば、エストロゲ
ンの減少に起因する無月経、無排卵周期症、機能性子宮
出血、子宮発育不全などを適応症とする医薬として用い
られており、更年期障害の治療や乳汁分泌抑制などにも
用いられている。また、非ステロイド系のエストロゲン
作用剤は、主として前立腺癌及び前立腺肥大症などの治
療薬として使用されている。
Among these estrogen agonists, the steroidal estrogen agonists are, for example, pharmaceuticals indicated for amenorrhea, anovulatory cycle, functional uterine bleeding, uterine dysgenesis, etc. due to a decrease in estrogen. It is also used for the treatment of menopausal disorders and suppression of milk secretion. In addition, nonsteroidal estrogen agonists are mainly used as therapeutic agents for prostate cancer and benign prostatic hyperplasia.

【0004】現在使用されているエストロゲン作用剤
は、何れも、胃腸障害、血栓症、子宮出血、肝障害など
の副作用を有するという問題があり、長期投与すると、
子宮体癌や乳癌などが発現する場合があることが知られ
ている。従って、これらの副作用が軽減されたエストロ
ゲン作用剤が望まれている。
All of the estrogen agonists currently used have a problem that they have side effects such as gastrointestinal disorders, thrombosis, uterine bleeding, and liver disorders.
It is known that endometrial cancer and breast cancer may develop. Therefore, an estrogen agonist with reduced side effects is desired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、優れ
たエストロゲン様作用を有し、エストロゲン剤の有効成
分として有用な化合物を提供することにある。本発明の
別の課題は、優れたエストロゲン様作用を有し、かつ、
従来のエストロゲン剤が有する副作用が軽減された化合
物を提供することにある。本発明のさらに別の課題は、
上記の特徴を有する化合物を有効成分とする医薬を提供
することにあり、併せて、上記の医薬を用いることによ
り、エストロゲンの減少に起因する疾患(例えば、無月
経、無排卵周期症、機能性子宮出血、子宮発育不全等)
や、更年期障害、骨粗鬆症、前立腺癌、前立腺肥大症な
どを治療する方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a compound having an excellent estrogen-like action and useful as an active ingredient of an estrogen agent. Another object of the present invention is to have an excellent estrogenic effect, and
It is intended to provide a compound in which side effects of conventional estrogen agents are reduced. Yet another object of the present invention is to
The present invention provides a drug comprising a compound having the above characteristics as an active ingredient. In addition, by using the above drug, diseases caused by a decrease in estrogen (for example, amenorrhea, anovulatory cycle, functional Uterine bleeding, uterine growth failure, etc.)
Another object is to provide a method for treating menopausal disorders, osteoporosis, prostate cancer, benign prostatic hyperplasia, and the like.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決すべく鋭意検討を重ね、エストロゲンリセプター
へのエストラジオールの結合において、リガンドである
エストラジオールと拮抗する物質を見いだすべく種々の
化合物を合成した。その結果、特定のフラボン及びナフ
タレン誘導体が強いエストロゲン活性(アゴニスト活
性)を有することを見出した。本発明は、上記の知見を
基にして完成されたものである。
[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve the above problems, and have found various compounds in order to find a substance that antagonizes the ligand estradiol in binding estradiol to the estrogen receptor. Synthesized. As a result, it was found that specific flavone and naphthalene derivatives have strong estrogen activity (agonist activity). The present invention has been completed based on the above findings.

【0007】すなわち、本発明は、下記の一般式(I):That is, the present invention has the following general formula (I):

【0008】[0008]

【化2】 Embedded image

【0009】[式中、R1 は、水素原子又は水酸基を示
し、R2 は、無置換若しくはアリール置換のアルキル
基、又は無置換若しくはアリール置換のアルケニル基を
示し、R3 は、水素原子又は低級アルキル基を示し、R
4 及びR5 は、それぞれ独立に水素原子又は低級アルキ
ル基を示し、R6 は、水酸基、ハロゲン原子、又は低級
アルキル基を示し、Xは、酸素原子またはメチレン基を
示し、----は当該結合が単結合又は二重結合であること
を示す]で表される化合物及びその塩を提供するもので
ある。
[Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group, R 2 represents an unsubstituted or aryl-substituted alkyl group or an unsubstituted or aryl-substituted alkenyl group, and R 3 represents a hydrogen atom or Represents a lower alkyl group, R
4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 6 represents a hydroxyl group, a halogen atom, or a lower alkyl group, X represents an oxygen atom or a methylene group, and ---- represents The bond is a single bond or a double bond], and a salt thereof.

【0010】この発明の好ましい態様によれば、R2
無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置換のC
2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換若しくは無置
換フェニル基を置換基として有するC1-4アルキル基であ
り;R3 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;
4 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;R5
が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;R6 が水
酸基、ハロゲン原子、又は無置換C1-4アルキル基である
上記の化合物及びその塩が提供される。
According to a preferred embodiment of the present invention, R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 1 containing one double bond.
2-6 alkenyl group, or a C 1-4 be C 1-4 alkyl group having an alkyl substituted or unsubstituted phenyl group as a substituent; R 3 is hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group;
R 4 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 5
Is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; and R 6 is a hydroxyl group, a halogen atom, or an unsubstituted C 1-4 alkyl group, and a salt thereof.

【0011】さらに、上記の好ましい化合物及びその塩
において、R1 が水酸基であり、かつ、Xが酸素原子で
ある化合物及びその塩;R1 が水酸基であり、R6 が水
酸基であり、Xがメチレン基であり、かつ、----の付さ
れた結合が単結合である化合物及びその塩;R1 が水素
原子であり、R6 が水酸基であり、かつ、Xが酸素原子
である化合物及びその塩;並びに、R1 が水素原子であ
り、R3 が水素原子であり、R4 が水素原子であり、R
6 が水酸基であり、Xがメチレン基であり、かつ、----
の付された結合が単結合である化合物及びその塩が提供
される。
Furthermore, in the above preferred compounds and salts thereof, compounds wherein R 1 is a hydroxyl group and X is an oxygen atom and salts thereof; R 1 is a hydroxyl group, R 6 is a hydroxyl group, and X is A compound which is a methylene group and the bond to which ---- is attached is a single bond and a salt thereof; a compound in which R 1 is a hydrogen atom, R 6 is a hydroxyl group, and X is an oxygen atom. And a salt thereof; and R 1 is a hydrogen atom, R 3 is a hydrogen atom, R 4 is a hydrogen atom, and R
6 is a hydroxyl group, X is a methylene group, and ----
Provided are compounds and salts thereof in which the bond marked with is a single bond.

【0012】また、本発明の別の態様によれば、上記化
合物又は薬理学的に許容されるその塩からなる医薬、及
び上記化合物又は薬理学的に許容されるその塩を有効成
分として含む医薬用組成物が提供される。好ましい医薬
組成物として、エストロゲン作用剤として用いる上記組
成物;エストロゲンの減少に起因する疾患、更年期障
害、前立腺癌、及び前立腺肥大症からなる群から選択さ
れる疾患の予防及び/又は治療に用いる上記組成物;並
びに、乳汁分泌抑制に用いる上記組成物が提供される。
さらに本発明の別の態様により、上記各組成物の製造の
ための上記化合物又は薬理学的に許容されるその塩の使
用も提供される。
According to another aspect of the present invention, a drug comprising the above compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof, and a drug containing the above compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient. A composition for use is provided. As a preferred pharmaceutical composition, the above composition used as an estrogen agonist; the above composition used for the prevention and / or treatment of a disease selected from the group consisting of diseases caused by a decrease in estrogen, menopausal disorders, prostate cancer, and benign prostatic hyperplasia. A composition; and the above-mentioned composition used for suppressing lactation.
Further, according to another aspect of the present invention, there is also provided use of the above compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof for the production of each of the above compositions.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】上記の一般式(I) において、R2
は無置換若しくはアリール置換のアルキル基、又は無置
換若しくはアリール置換のアルケニル基を示す。R2
示すアルキル基は直鎖又は分岐鎖のいずれでもよい。ア
ルキル基としては、例えば、メチル、エチル、n-プロピ
ル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、
t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチ
ル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-
メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチ
ル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメ
チルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチ
ル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチ
ルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキ
シル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチル
ヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、
オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メ
チルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、
6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキ
シル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニル、3-メチルオクチ
ル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチルオ
クチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,6-
ジメチルヘプチル、デシル、1-メチルノニル、3-メチル
ノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-ジメ
チルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、ウンデシル、4,
8-ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、3,7,11- トリメチルドデシル、ヘキ
サデシル、4,8,12- トリメチルトリデシル、1-メチルペ
ンタデシル、14- メチルペンタデシル、13,13-ジメチル
テトラデシル、ヘプタデシル、15- メチルヘキサデシ
ル、オクタデシル、1-メチルヘプタデシル、ノナデシ
ル、アイコシル、3,7,11,15-テトラメチルヘキサデシ
ル、ヘニコシル、及びドコシルなどを挙げることができ
る。好適には、直鎖又は分枝鎖のC1-10 (炭素数3〜10
個の)アルキル基、より好ましくは直鎖又は分枝鎖のC
1-6アルキル基、特に好ましくは直鎖又は分枝鎖のC2-5
アルキル基を用いることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the above general formula (I), R 2
Represents an unsubstituted or aryl-substituted alkyl group, or an unsubstituted or aryl-substituted alkenyl group. The alkyl group represented by R 2 may be linear or branched. As the alkyl group, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl,
t-butyl, n-pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, n-hexyl, 4-
Methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3- Dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, heptyl, 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, 1-propylbutyl, 4,4- Dimethylpentyl,
Octyl, 1-methylheptyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl,
6-methylheptyl, 1-propylpentyl, 2-ethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl, nonyl, 3-methyloctyl, 4-methyloctyl, 5-methyloctyl, 6-methyloctyl, 1-propylhexyl, 2- Ethyl heptyl, 6,6-
Dimethylheptyl, decyl, 1-methylnonyl, 3-methylnonyl, 8-methylnonyl, 3-ethyloctyl, 3,7-dimethyloctyl, 7,7-dimethyloctyl, undecyl, 4,
8-dimethylnonyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, 3,7,11-trimethyldodecyl, hexadecyl, 4,8,12-trimethyltridecyl, 1-methylpentadecyl, 14-methylpentadecyl, 13,13- Examples thereof include dimethyltetradecyl, heptadecyl, 15-methylhexadecyl, octadecyl, 1-methylheptadecyl, nonadecyl, eicosyl, 3,7,11,15-tetramethylhexadecyl, henicosyl, and docosyl. Preferably, it is a straight chain or branched chain C 1-10 (having 3 to 10 carbon atoms).
C) alkyl groups, more preferably linear or branched C
1-6 alkyl groups, particularly preferably linear or branched C 2-5
Alkyl groups can be used.

【0014】R2 がアリール置換アルキル基を示す場
合、アルキル基としては上記に例示したものを用いるこ
とができるが、好ましくは直鎖又は分枝鎖のC1-4アルキ
ル基、より好ましくは直鎖のC1-4アルキル基を用いるこ
とができる。アルキル基上の置換基であるアリール基
(芳香環基)の位置は特に限定されず、アルキル基上の
任意の位置に置換していてもよい。また、アルキル基上
のアリール基の個数は特に限定されず、1個又は2個以
上、好ましくは1個のアリール基がアルキル基上に置換
していてもよい。アリール基としては、例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、又はピリジル基、好ましくはフェニ
ル基などを用いることができ、これらのアリール基は芳
香環上に1個又は2個以上、好ましくは1個の置換基を
有していてもよい。このような芳香環上の置換基として
は、例えば、直鎖又は分枝鎖のC1-4アルキル基、好まし
くはメチル基などを用いることができる。より具体的に
は、アリール置換アルキル基として、例えば、ベンジル
基、(2-メチルフェニル)メチル基、(3-メチルフェニ
ル)メチル基、(4-メチルフェニル)メチル基、(3,
4−ジメチルフェニル)メチル基、2−ナフチルメチル
基、4-ピリジルメチル基、2-フェニルエチル基、1-フェ
ニルエチル基、1-フェニルプロピル基、2-フェニルプロ
ピル基、3-フェニルプロピル基、3-フェニル-2- プロピ
ル基、2-フェニルブチル基、3-フェニルブチル基、3-フ
ェニル-2- ブチル基、4-フェニルブチル基、4-フェニル
-2- ブチル基、4-フェニル-3- ブチル基、3,3-ジフェニ
ルプロピル基などを挙げることができる。
When R 2 represents an aryl-substituted alkyl group, those exemplified above can be used as the alkyl group, preferably a linear or branched C 1-4 alkyl group, and more preferably a straight chain C 1-4 alkyl group. Chain C 1-4 alkyl groups can be used. The position of the aryl group (aromatic ring group), which is a substituent on the alkyl group, is not particularly limited, and it may be substituted at any position on the alkyl group. The number of aryl groups on the alkyl group is not particularly limited, and one or two or more, preferably one aryl group may be substituted on the alkyl group. As the aryl group, for example, a phenyl group, a naphthyl group, or a pyridyl group, preferably a phenyl group can be used, and these aryl groups have 1 or 2 or more, preferably 1 or more substituents on the aromatic ring. It may have a group. As such a substituent on the aromatic ring, for example, a linear or branched C 1-4 alkyl group, preferably a methyl group can be used. More specifically, examples of the aryl-substituted alkyl group include, for example, benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, (3
4-dimethylphenyl) methyl group, 2-naphthylmethyl group, 4-pyridylmethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylethyl group, 1-phenylpropyl group, 2-phenylpropyl group, 3-phenylpropyl group, 3-phenyl-2-propyl group, 2-phenylbutyl group, 3-phenylbutyl group, 3-phenyl-2-butyl group, 4-phenylbutyl group, 4-phenyl
Examples thereof include -2-butyl group, 4-phenyl-3-butyl group, and 3,3-diphenylpropyl group.

【0015】R2 が示すアルケニル基は直鎖又は分岐鎖
のいずれでもよい。アルケニル基中の二重結合の数は特
に限定されないが、1ないし3個、より好ましくは1又
は2個、特に好ましくは1個の二重結合を有していても
よい。アルケニル基に存在するそれぞれの二重結合は、
シス又はトランス配置のいずれの立体配置を有していて
もよい。アルケニル基としては、例えば、2-プロペニ
ル、1-メチル-2- プロペニル、2-メチル-2- プロペニ
ル、2-エチル-2- プロペニル、2-ブテニル、1-メチル-2
- ブテニル、2-メチル-2- ブテニル、1-エチル-2- ブテ
ニル、3-ブテニル、1-メチル-3- ブテニル、2-メチル-3
- ブテニル、3-メチル-2- ブテニル(プレニル)、1-エ
チル-3- ブテニル、2-ペンテニル、1-メチル-2- ペンテ
ニル、2-メチル-2- ペンテニル、3-ペンテニル、1-メチ
ル-3- ペンテニル、2-メチル-3- ペンテニル、4-ペンテ
ニル、1-メチル-4- ペンテニル、2-メチル-4- ペンテニ
ル、2-ヘキセニル、3-ヘキセニル、4-ヘキセニル、5-ヘ
キセニル、9-ヘキサデセニル、シス-9- オクタデセニ
ル、トランス-11-オクタデセニル、シス、シス-9,12-オ
クタデカジエニル、9,12,15-オクタデカトリエニル、6,
9,12- オクタデカトリエニル、9,11,13-オクタデカトリ
エニル、5,8,11,14-アイコサテトラエニル、シス-15-テ
トラコセニルのような直鎖又は分枝鎖のC2-25 アルケニ
ル基を用いることができる。
The alkenyl group represented by R 2 may be linear or branched. The number of double bonds in the alkenyl group is not particularly limited, but it may have 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1 double bond. Each double bond present in the alkenyl group is
It may have either cis or trans configuration. Examples of the alkenyl group include 2-propenyl, 1-methyl-2-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 2-butenyl and 1-methyl-2.
-Butenyl, 2-methyl-2-butenyl, 1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-butenyl, 2-methyl-3
-Butenyl, 3-methyl-2-butenyl (prenyl), 1-ethyl-3-butenyl, 2-pentenyl, 1-methyl-2-pentenyl, 2-methyl-2-pentenyl, 3-pentenyl, 1-methyl- 3-pentenyl, 2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-4-pentenyl, 2-methyl-4-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 5-hexenyl, 9- Hexadecenyl, cis-9-octadecenyl, trans-11-octadecenyl, cis, cis-9,12-octadecadienyl, 9,12,15-octadecatrienyl, 6,
Straight or branched chain C 2 such as 9,12-octadecatrienyl, 9,11,13-octadecatrienyl, 5,8,11,14-eicosatetraenyl, cis-15-tetracosenyl -25 alkenyl groups can be used.

【0016】これらのアルケニル基のうち、好ましくは
直鎖又は分枝鎖のC2-12 アルケニル基、さらに好ましく
は1個の二重結合を有する直鎖又は分枝鎖のC2-8アルケ
ニル基、特に好ましくは1個の二重結合を有する直鎖又
は分枝鎖のC2-6アルケニル基を用いることができる。例
えば、2-プロペニル、3-ブテニル、3ーメチル-2- ブテニ
ル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、2-ヘ
キセニル、4-ヘキセニル、及び9-ヘキサデセニルは特に
好適に使用できる。R2 がアリール置換アルケニル基を
示す場合、アルケニル基としては上記に例示したものを
用いることができるが、好ましくは直鎖又は分枝鎖のC
2-4アルケニル基、より好ましくは直鎖のC2-4アルケニ
ル基を用いることができる。アルケニル基上の置換基で
あるアリール基の位置は特に限定されず、任意の位置に
置換していてもよい。アリール基としては、上記に例示
した置換若しくは無置換のアリール基を用いることがで
き、アルケニル基上には1個又は2個以上、好ましくは
1個のアリール基が置換していてもよい。例えば、3-フ
ェニル-2- プロペニル、4-(4- メチルフェニル)-3-ブテ
ニルなどを用いることができる。
Of these alkenyl groups, preferably a straight-chain or branched-chain C 2-12 alkenyl group, more preferably a straight-chain or branched-chain C 2-8 alkenyl group having one double bond. Particularly preferably, a straight-chain or branched C 2-6 alkenyl group having one double bond can be used. For example, 2-propenyl, 3-butenyl, 3-methyl-2-butenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 4-pentenyl, 2-hexenyl, 4-hexenyl, and 9-hexadecenyl are particularly preferably used. When R 2 represents an aryl-substituted alkenyl group, those exemplified above can be used as the alkenyl group, but preferably a straight chain or branched chain C
A 2-4 alkenyl group, more preferably a linear C 2-4 alkenyl group, can be used. The position of the aryl group which is a substituent on the alkenyl group is not particularly limited, and it may be substituted at any position. As the aryl group, the substituted or unsubstituted aryl groups exemplified above can be used, and the alkenyl group may be substituted with one or two or more, preferably one aryl group. For example, 3-phenyl-2-propenyl, 4- (4-methylphenyl) -3-butenyl and the like can be used.

【0017】R3 、R4 、R5 、およびR6 における低
級アルキル基としては直鎖又は分枝鎖のいずれを用いて
もよい。低級アルキル基としては、例えば、メチル、エ
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、
2-メチルブチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-
ヘキシル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メ
チルペンチル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチ
ル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジ
メチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチ
ル、2-エチルブチルなどの直鎖又は分枝鎖のC1-6アルキ
ル基、好ましくは直鎖又は分枝鎖のC1-4アルキル基を用
いることができる。R6 におけるハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子
のいずれを用いてもよい。式(I) の化合物の母核内に存
在する結合のうち、----を付した結合(点線及び実線の
組み合わせで示される結合)は単結合又は二重結合のい
ずれかである。
The lower alkyl group for R 3 , R 4 , R 5 and R 6 may be linear or branched. Examples of the lower alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl,
2-methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, n-
Hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, Use a linear or branched C 1-6 alkyl group such as 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl or 2-ethylbutyl, preferably a linear or branched C 1-4 alkyl group. be able to. As the halogen atom for R 6, any of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom may be used. Among the bonds existing in the mother nucleus of the compound of the formula (I), the bond marked with ---- (the bond shown by the combination of the dotted line and the solid line) is either a single bond or a double bond.

【0018】上記一般式で示される化合物は、必要に応
じて塩、好ましくは薬理学上許容しうる塩としてもよ
い。このような塩として、例えば、ナトリウム塩、カリ
ウム塩、リチウム塩、カルシウム塩等の金属塩、アンモ
ニウム塩、モノメチルアミンやトリエチルアミン等の有
機アミン化合物塩などの塩基付加塩を挙げることができ
る。また、本発明の化合物は特定の異性体に限定される
ことはなく、アルケニル基に存在する二重結合に基づく
シス又はトランス異性体の他、分子中に存在することの
ある1又は2以上の不斉炭素に基づく任意の光学異性
体、ラセミ体、2以上の不斉炭素に基づく任意のジアス
テレオ異性体、光学異性体及び/又はジアステレオ異性
体の任意の混合物などもすべて本発明の範囲に包含され
る。さらに、遊離形態及び塩の形態の化合物についての
任意の溶媒和物及び水和物も本発明の範囲の包含され
る。
The compound represented by the above general formula may be a salt, preferably a pharmacologically acceptable salt, if necessary. Examples of such salts include metal salts such as sodium salts, potassium salts, lithium salts and calcium salts, ammonium salts, and base addition salts such as organic amine compound salts such as monomethylamine and triethylamine. Further, the compound of the present invention is not limited to a particular isomer, and in addition to a cis or trans isomer based on the double bond present in the alkenyl group, one or more isomers that may be present in the molecule Any optical isomers based on asymmetric carbons, racemates, any diastereoisomers based on two or more asymmetric carbons, optical isomers and / or any mixture of diastereomers are all within the scope of the present invention. Included in. Furthermore, any solvates and hydrates of the compounds in free and salt form are also within the scope of the invention.

【0019】本発明の好ましい化合物としては、例え
ば、 (a) 上記の一般式(I) において、R1 が水酸基又は水素
原子であり;R2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を
1個含む無置換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル
置換フェニル基若しくは無置換フェニル基が置換したC
1-4アルキル基であり;R3 が水素原子又は無置換C1-4
アルキル基であり;R4 が水素原子又は無置換C1-4アル
キル基であり;R5 が水素原子又は無置換C1-4アルキル
基であり;R6 が水酸基、ハロゲン原子、又は無置換C
1-4アルキル基であり;Xが酸素原子又はメチレン基で
あり;かつ、----が付された結合が単結合又は二重結合
である化合物を挙げることができる。
Preferred compounds of the present invention include, for example, (a) in the above formula (I), R 1 is a hydroxyl group or a hydrogen atom; R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, a double bond An unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing 1 or a C 1-4 alkyl-substituted phenyl group or a C substituted with an unsubstituted phenyl group
1-4 alkyl group; R 3 is a hydrogen atom or unsubstituted C 1-4
An alkyl group; R 4 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 6 is a hydroxyl group, a halogen atom, or an unsubstituted group C
1-4 alkyl group; X is an oxygen atom or a methylene group; and the bond with ---- is a single bond or a double bond.

【0020】より好ましい化合物は、例えば、 (b) 上記一般式(I) において、R1 が水酸基であり;R
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置換
のC2-6アルケニル基、、又はC1-4アルキル置換フェニル
基若しくは無置換フェニル基が置換したC1-4アルキル基
であり;R3 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であ
り;R4 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;
5 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;R6
が水酸基、ハロゲン原子、又は無置換C1-4アルキル基で
あり;Xが酸素原子であり;かつ、----が付された結合
が単結合又は二重結合である化合物; (c) 上記一般式(I) において、R1 が水酸基であり;R
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置換
のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換フェニル基
若しくは無置換フェニル基が置換したC1-4アルキル基で
あり;R3 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であ
り;R4 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;
5 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;R6
が水酸基であり;Xがメチレン基であり;かつ、----が
付された結合が単結合である化合物; (d) 上記一般式(I) において、R1 が水素原子であり;
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置
換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換フェニル
基若しくは無置換フェニル基が置換したC1-4アルキル基
であり;R3 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であ
り;R4 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;
5 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;R6
が水酸基であり;Xが酸素原子であり;かつ、----が付
された結合が単結合又は二重結合である化合物;及び (e) 上記一般式(I) において、R1 が水素原子であり;
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置
換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換フェニル
基若しくは無置換フェニル基が置換したC1-4アルキル基
であり;R3 が水素原子であり;R4 が水素原子であ
り;R5 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;
6 が水酸基であり;Xがメチレン基であり;かつ、--
--が付された結合が単結合である化合物を挙げることが
できる。
More preferred compounds include, for example, (b) in the above general formula (I), R 1 is a hydroxyl group;
2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted phenyl group or a C 1-4 substituted by an unsubstituted phenyl group An alkyl group; R 3 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 4 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group;
R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 6
Is a hydroxyl group, a halogen atom, or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; X is an oxygen atom; and the bond with ---- is a single bond or a double bond; (c) In the general formula (I), R 1 is a hydroxyl group; R
2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted phenyl group or a C 1-4 alkyl substituted with an unsubstituted phenyl group R 3 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 4 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group;
R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 6
Is a hydroxyl group; X is a methylene group; and the bond with ---- is a single bond; (d) In the general formula (I), R 1 is a hydrogen atom;
R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted phenyl group or a C 1-4 substituted by an unsubstituted phenyl group An alkyl group; R 3 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 4 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group;
R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 6
Is a hydroxyl group; X is an oxygen atom; and a bond having ---- is a single bond or a double bond; and (e) In the general formula (I), R 1 is hydrogen. Is an atom;
R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted phenyl group or a C 1-4 substituted by an unsubstituted phenyl group An alkyl group; R 3 is a hydrogen atom; R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group;
R 6 is a hydroxyl group; X is a methylene group; and
A compound in which the bond with --is a single bond can be mentioned.

【0021】特に好ましい化合物としては、 (f) 上記一般式(I) において、R1 が水酸基であり;R
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置換
のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換フェニル基
若しくは無置換フェニル基が置換したC1-4アルキル基で
あり;R3 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であ
り;R4 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;
5 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり;R6
が水酸基であり;Xが酸素原子であり;かつ、----が付
された結合が単結合又は二重結合である化合物; (g) 上記一般式(I) において、R1 が水酸基であり;R
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置換
のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換フェニル基
若しくは無置換フェニル基が置換したC1-4アルキル基で
あり;R3 が水素原子又は無置換C1-4アルキル基であ
り;R4 が水素原子であり;R5 が水素原子又は無置換
C1-4アルキル基であり;R6 が水酸基であり;Xがメチ
レン基であり;かつ、----が付された結合が単結合であ
る化合物; (h) 上記一般式(I) において、R1 が水素原子であり;
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置
換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換若しくは
無置換のベンジル基であり;R3 が水素原子であり;R
4 が水素原子であり;R5 が水素原子又は無置換C1-4
ルキル基であり;R6 が水酸基であり;Xが酸素原子で
あり;かつ、----が付された結合が単結合又は二重結合
である化合物;及び (i) 上記一般式(I) において、R1 が水素原子であり;
2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を1個含む無置
換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル置換若しくは
無置換のベンジル基であり;R3 が水素原子であり;R
4 が水素原子であり;R5 が水素原子又は無置換C1-4
ルキル基であり;R6 が水酸基であり;Xがメチレン基
であり;かつ、----が付された結合が単結合である化合
物を挙げることができる。
Particularly preferred compounds include (f) R 1 in the general formula (I) is a hydroxyl group;
2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted phenyl group or a C 1-4 alkyl substituted with an unsubstituted phenyl group R 3 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 4 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group;
R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 6
Is a hydroxyl group; X is an oxygen atom; and the bond with ---- is a single bond or a double bond; (g) In the above general formula (I), R 1 is a hydroxyl group. Yes; R
2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted phenyl group or a C 1-4 alkyl substituted with an unsubstituted phenyl group R 3 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted group
A compound having a C 1-4 alkyl group; R 6 a hydroxyl group; X a methylene group; and a bond with ---- being a single bond; (h) the above general formula (I) In, R 1 is a hydrogen atom;
R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted or unsubstituted benzyl group; R 3 is a hydrogen atom And R
4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 6 is a hydroxyl group; X is an oxygen atom; and the bond with ---- is A compound which is a single bond or a double bond; and (i) in the above general formula (I), R 1 is a hydrogen atom;
R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted or unsubstituted benzyl group; R 3 is a hydrogen atom And R
4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group; R 6 is a hydroxyl group; X is a methylene group; and the bond with ---- is Mention may be made of compounds which are single bonds.

【0022】本発明の化合物の好ましい化合物の具体例
を以下の表に示す。表中、例えば、R2欄に Et, Allyl,
Prenyl, Benzyl, 及び 3-Ph-2-Pro-と記載された化合物
は、それぞれ、一般式(I) においてR2がCH3CH2-, CH2=C
H-CH2-, CH3-CH(CH3)=CH-CH2-, C6H5-CH2-, 及び C6H5-
CH2-CH(CH3)-であることを示す。
Specific examples of preferred compounds of the compound of the present invention are shown in the following table. In the table, for example, Et to R 2 column, Allyl,
The compounds described as Prenyl, Benzyl, and 3-Ph-2-Pro- are each represented by the formula (I) in which R 2 is CH 3 CH 2- , CH 2 = C.
H-CH 2- , CH 3 -CH (CH 3 ) = CH-CH 2- , C 6 H 5 -CH 2- , and C 6 H 5-
CH 2 -CH (CH 3 )-.

【0023】[0023]

【化3】 Embedded image

【0024】[0024]

【表1】 X=Oの化合物 ─────────────────────────────── No. ---- R1 2 3 4 5 6 ─────────────────────────────── 1 単結合 OH Et H H H OH 2 単結合 OH Et H H H F 3 単結合 OH Et H H H Cl 4 単結合 OH Pr H H H OH 5 単結合 OH Pr H H H F 6 単結合 OH Pr H H Me OH 7 単結合 OH Pr H Me Me OH 8 単結合 OH Pr Me Me Me OH 9 単結合 OH Allyl H H H OH 10 単結合 OH Allyl H H H F 11 単結合 OH Allyl H H H Cl 12 単結合 OH Allyl H H H Br 13 単結合 OH Allyl H H Me OH 14 単結合 OH Allyl H Me Me OH 15 単結合 OH Allyl Me Me Me OH 16 単結合 OH Bu H H H OH 17 単結合 OH Bu H H Me OH 18 単結合 OH Bu H Me Me OH 19 単結合 OH Bu Me Me Me OH 20 単結合 OH 2-Butene H H H OH 21 単結合 OH 2-Butene H H Me OH 22 単結合 OH 2-Butene H Me Me OH 23 単結合 OH 2-Butene Me Me Me OH 24 単結合 OH 3-Butene H H H OH 25 単結合 OH 1-Butene H H H OH 26 単結合 OH Prenyl Me H H OH 27 単結合 OH Prenyl H H H F 28 単結合 OH Prenyl H H H Cl 29 単結合 OH Prenyl H H H Br 30 単結合 OH Prenyl H H H I 31 単結合 OH Prenyl H H H Me 32 単結合 OH Prenyl H H H Et 33 単結合 OH Prenyl H H H Pr 34 単結合 OH Prenyl H H Me OH 35 単結合 OH Prenyl H Me Me OH 36 単結合 OH Prenyl Me H Me OH 37 単結合 OH Prenyl H H Et OH 38 単結合 OH Prenyl H H Pr OH 39 単結合 OH Prenyl H H Bu OH 40 単結合 OH Prenyl H Me Et OH 41 単結合 OH Prenyl H Me Pr OH 42 単結合 OH Prenyl H Me Bu OH 43 単結合 OH Prenyl H Me tBu OH 44 単結合 OH Prenyl H Et Et OH 45 単結合 OH Prenyl H Et Pr OH 46 単結合 OH Prenyl H Et Bu OH 47 単結合 OH Prenyl H Et tBu OH 48 単結合 OH Prenyl H Pr Pr OH 49 単結合 OH Prenyl H Pr Bu OH 50 単結合 OH Prenyl H Pr tBu OH 51 単結合 OH Prenyl H Bu Bu OH 52 単結合 OH Prenyl H Bu tBu OH 53 単結合 OH Prenyl H tBu tBu OH 54 単結合 OH Prenyl Me H Me OH 55 単結合 OH Prenyl Me H Et OH 56 単結合 OH Prenyl Me H Pr OH 57 単結合 OH Prenyl Me H Bu OH 58 単結合 OH Prenyl Me Me Et OH 59 単結合 OH Prenyl Me Me Pr OH 60 単結合 OH Prenyl Me Me Bu OH 61 単結合 OH Prenyl Me Me tBu OH 62 単結合 OH Prenyl Me Et Et OH 63 単結合 OH Prenyl Me Et Pr OH 64 単結合 OH Prenyl Me Et Bu OH 65 単結合 OH Prenyl Me Et tBu OH 66 単結合 OH Prenyl Me Pr Pr OH 67 単結合 OH Prenyl Me Pr Bu OH 68 単結合 OH Prenyl Me Pr tBu OH 69 単結合 OH Prenyl Me Bu Bu OH 70 単結合 OH Prenyl Me Bu tBu OH 71 単結合 OH Prenyl Me tBu tBu OH 72 単結合 OH Prenyl Me tBu tBu OH 73 単結合 OH Pentyl H H H OH 74 単結合 OH Pentyl H H Me OH 75 単結合 OH Pentyl H Me Me OH 76 単結合 OH Pentyl Me Me Me OH 77 単結合 OH 1-Pentenyl H H H OH 78 単結合 OH 1-Pentenyl H H Me OH 79 単結合 OH 1-Pentenyl H Me Me OH 80 単結合 OH 1-Pentenyl Me Me Me OH 81 単結合 OH 2-Pentenyl H H H OH 82 単結合 OH 2-Pentenyl H H Me OH 83 単結合 OH 2-Pentenyl H Me Me OH 84 単結合 OH 2-Pentenyl Me Me Me OH 85 単結合 OH 3-Pentenyl H H H OH 86 単結合 OH 3-Pentenyl H H Me OH 87 単結合 OH 3-Pentenyl H Me Me OH 88 単結合 OH 3-Pentenyl Me Me Me OH 89 単結合 OH 4-Pentenyl H H H OH 90 単結合 OH 4-Pentenyl H H Me OH 91 単結合 OH 4-Pentenyl H Me Me OH 92 単結合 OH 4-Pentenyl Me Me Me OH 93 単結合 OH 3-MeBu H H H OH 94 単結合 OH 3-MeBu H H Me OH 95 単結合 OH 3-MeBu H Me Me OH 96 単結合 OH 3-MeBu Me Me Me OH 97 単結合 OH 2-MeBu H H H OH 98 単結合 OH 2-MeBu H H Me OH 99 単結合 OH 2-MeBu H Me Me OH 100 単結合 OH 2-MeBu Me Me Me OH 101 単結合 OH Benzyl H H H OH 102 単結合 OH Benzyl H H H F 103 単結合 OH Benzyl H H H Cl 104 単結合 OH Benzyl H H H Br 105 単結合 OH Benzyl H H H I 106 単結合 OH Benzyl H H H Me 107 単結合 OH Benzyl H H H Et 108 単結合 OH Benzyl H H H Pr 109 単結合 OH Benzyl H H Me OH 110 単結合 OH Benzyl H Me Me OH 111 単結合 OH Benzyl Me H Me OH 112 単結合 OH Benzyl H H Et OH 113 単結合 OH Benzyl H H Pr OH 114 単結合 OH Benzyl H H Bu OH 115 単結合 OH Benzyl H Me Et OH 116 単結合 OH Benzyl H Me Pr OH 117 単結合 OH Benzyl H Me Bu OH 118 単結合 OH Benzyl H Me tBu OH 119 単結合 OH Benzyl H Et Et OH 120 単結合 OH Benzyl H Et Pr OH 121 単結合 OH Benzyl H Et Bu OH 122 単結合 OH Benzyl H Et tBu OH 123 単結合 OH Benzyl H Pr Pr OH 124 単結合 OH Benzyl H Pr Bu OH 125 単結合 OH Benzyl H Pr tBu OH 126 単結合 OH Benzyl H Bu Bu OH 127 単結合 OH Benzyl H Bu tBu OH 128 単結合 OH Benzyl H tBu tBu OH 129 単結合 OH Benzyl Me H Me OH 130 単結合 OH Benzyl Me H Et OH 131 単結合 OH Benzyl Me H Pr OH 132 単結合 OH Benzyl Me H Bu OH 133 単結合 OH Benzyl Me Me Et OH 134 単結合 OH Benzyl Me Me Pr OH 135 単結合 OH Benzyl Me Me Bu OH 136 単結合 OH Benzyl Me Me tBu OH 137 単結合 OH Benzyl Me Et Et OH 138 単結合 OH Benzyl Me Et Pr OH 139 単結合 OH Benzyl Me Et Bu OH 140 単結合 OH Benzyl Me Et tBu OH 141 単結合 OH Benzyl Me Pr Pr OH 142 単結合 OH Benzyl Me Pr Bu OH 143 単結合 OH Benzyl Me Pr tBu OH 144 単結合 OH Benzyl Me Bu Bu OH 145 単結合 OH Benzyl Me Bu tBu OH 146 単結合 OH Benzyl Me tBu tBu OH 147 単結合 OH Benzyl Me tBu tBu OH 148 単結合 OH 2-MeBzl H H H OH 149 単結合 OH 2-MeBzl H H Me OH 150 単結合 OH 2-MeBzl H Me Me OH 151 単結合 OH 2-MeBzl Me Me Me OH 152 単結合 OH 3-MeBzl H H H OH 153 単結合 OH 3-MeBzl H H Me OH 154 単結合 OH 3-MeBzl H Me Me OH 155 単結合 OH 3-MeBzl Me Me Me OH 156 単結合 OH 4-MeBzl H H H OH 157 単結合 OH 4-MeBzl H H Me OH 158 単結合 OH 4-MeBzl H Me Me OH 159 単結合 OH 4-MeBzl Me Me Me OH 161 単結合 OH 2-PhEt H H Me OH 162 単結合 OH 2-PhEt H Me Me OH 163 単結合 OH 2-PhEt Me Me Me OH 164 単結合 OH 3-PhPr H H H OH 165 単結合 OH 3-PhPr H H Me OH 166 単結合 OH 3-PhPr H Me Me OH 167 単結合 OH 3-PhPr Me Me Me OH 168 単結合 OH 3-Ph-2-Prp H H H OH 169 単結合 OH 3-Ph-2-Prp H H Me OH 170 単結合 OH 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 171 単結合 OH 3-Ph-2-Prp Me Me Me OH 172 単結合 OH 3-PhBu H H H OH 173 単結合 OH 3-PhBu H H Me OH 174 単結合 OH 3-PhBu H Me Me OH 175 単結合 OH 3-PhBu Me Me Me OH 176 単結合 OH 4-PhBu H H H OH 177 単結合 OH 4-PhBu H H Me OH 178 単結合 OH 4-PhBu H Me Me OH 179 単結合 OH 4-PhBu Me Me Me OH 180 二重結合 OH Et H H H OH 181 二重結合 OH Et H H H F 182 二重結合 OH Et H H H Cl 183 二重結合 OH Pr H H H OH 184 二重結合 OH Pr H H H F 185 二重結合 OH Pr H H Me OH 186 二重結合 OH Pr H Me Me OH 187 二重結合 OH Pr Me Me Me OH 188 二重結合 OH Allyl H H H OH 189 二重結合 OH Allyl H H H F 190 二重結合 OH Allyl H H H Cl 191 二重結合 OH Allyl H H H Br 192 二重結合 OH Allyl H H Me OH 193 二重結合 OH Allyl H Me Me OH 194 二重結合 OH Allyl Me Me Me OH 195 二重結合 OH Bu H H H OH 196 二重結合 OH Bu H H Me OH 197 二重結合 OH Bu H Me Me OH 198 二重結合 OH Bu Me Me Me OH 199 二重結合 OH 2-Butene H H H OH 200 二重結合 OH 2-Butene H H Me OH 201 二重結合 OH 2-Butene H Me Me OH 202 二重結合 OH 2-Butene Me Me Me OH 203 二重結合 OH 3-Butene H H H OH 204 二重結合 OH 1-Butene H H H OH 205 二重結合 OH Prenyl Me H H OH 206 二重結合 OH Prenyl H H H F 207 二重結合 OH Prenyl H H H Cl 208 二重結合 OH Prenyl H H H Br 209 二重結合 OH Prenyl H H H I 210 二重結合 OH Prenyl H H H Me 211 二重結合 OH Prenyl H H H Et 212 二重結合 OH Prenyl H H H Pr 213 二重結合 OH Prenyl H H Me OH 214 二重結合 OH Prenyl H Me Me OH 215 二重結合 OH Prenyl Me H Me OH 216 二重結合 OH Prenyl H H Et OH 217 二重結合 OH Prenyl H H Pr OH 218 二重結合 OH Prenyl H H Bu OH 219 二重結合 OH Prenyl H Me Et OH 220 二重結合 OH Prenyl H Me Pr OH 221 二重結合 OH Prenyl H Me Bu OH 222 二重結合 OH Prenyl H Me tBu OH 223 二重結合 OH Prenyl H Et Et OH 224 二重結合 OH Prenyl H Et Pr OH 225 二重結合 OH Prenyl H Et Bu OH 226 二重結合 OH Prenyl H Et tBu OH 227 二重結合 OH Prenyl H Pr Pr OH 228 二重結合 OH Prenyl H Pr Bu OH 229 二重結合 OH Prenyl H Pr tBu OH 230 二重結合 OH Prenyl H Bu Bu OH 231 二重結合 OH Prenyl H Bu tBu OH 232 二重結合 OH Prenyl H tBu tBu OH 233 二重結合 OH Prenyl Me H Me OH 234 二重結合 OH Prenyl Me H Et OH 235 二重結合 OH Prenyl Me H Pr OH 236 二重結合 OH Prenyl Me H Bu OH 237 二重結合 OH Prenyl Me Me Et OH 238 二重結合 OH Prenyl Me Me Pr OH 239 二重結合 OH Prenyl Me Me Bu OH 240 二重結合 OH Prenyl Me Me tBu OH 241 二重結合 OH Prenyl Me Et Et OH 242 二重結合 OH Prenyl Me Et Pr OH 243 二重結合 OH Prenyl Me Et Bu OH 244 二重結合 OH Prenyl Me Et tBu OH 245 二重結合 OH Prenyl Me Pr Pr OH 246 二重結合 OH Prenyl Me Pr Bu OH 247 二重結合 OH Prenyl Me Pr tBu OH 248 二重結合 OH Prenyl Me Bu Bu OH 249 二重結合 OH Prenyl Me Bu tBu OH 250 二重結合 OH Prenyl Me tBu tBu OH 251 二重結合 OH Prenyl Me tBu tBu OH 252 二重結合 OH Pentyl H H H OH 253 二重結合 OH Pentyl H H Me OH 254 二重結合 OH Pentyl H Me Me OH 255 二重結合 OH Pentyl Me Me Me OH 256 二重結合 OH 1-Pentenyl H H H OH 257 二重結合 OH 1-Pentenyl H H Me OH 258 二重結合 OH 1-Pentenyl H Me Me OH 259 二重結合 OH 1-Pentenyl Me Me Me OH 260 二重結合 OH 2-Pentenyl H H H OH 261 二重結合 OH 2-Pentenyl H H Me OH 262 二重結合 OH 2-Pentenyl H Me Me OH 263 二重結合 OH 2-Pentenyl Me Me Me OH 264 二重結合 OH 3-Pentenyl H H H OH 265 二重結合 OH 3-Pentenyl H H Me OH 266 二重結合 OH 3-Pentenyl H Me Me OH 267 二重結合 OH 3-Pentenyl Me Me Me OH 268 二重結合 OH 4-Pentenyl H H H OH 269 二重結合 OH 4-Pentenyl H H Me OH 270 二重結合 OH 4-Pentenyl H Me Me OH 271 二重結合 OH 4-Pentenyl Me Me Me OH 272 二重結合 OH 3-MeBu H H H OH 273 二重結合 OH 3-MeBu H H Me OH 274 二重結合 OH 3-MeBu H Me Me OH 275 二重結合 OH 3-MeBu Me Me Me OH 276 二重結合 OH 2-MeBu H H H OH 277 二重結合 OH 2-MeBu H H Me OH 278 二重結合 OH 2-MeBu H Me Me OH 279 二重結合 OH 2-MeBu Me Me Me OH 280 二重結合 OH Benzyl H H H OH 281 二重結合 OH Benzyl H H H F 282 二重結合 OH Benzyl H H H Cl 283 二重結合 OH Benzyl H H H Br 284 二重結合 OH Benzyl H H H I 285 二重結合 OH Benzyl H H H Me 286 二重結合 OH Benzyl H H H Et 287 二重結合 OH Benzyl H H H Pr 288 二重結合 OH Benzyl H H Me OH 289 二重結合 OH Benzyl H Me Me OH 290 二重結合 OH Benzyl Me H Me OH 291 二重結合 OH Benzyl H H Et OH 292 二重結合 OH Benzyl H H Pr OH 293 二重結合 OH Benzyl H H Bu OH 294 二重結合 OH Benzyl H Me Et OH 295 二重結合 OH Benzyl H Me Pr OH 296 二重結合 OH Benzyl H Me Bu OH 297 二重結合 OH Benzyl H Me tBu OH 298 二重結合 OH Benzyl H Et Et OH 299 二重結合 OH Benzyl H Et Pr OH 300 二重結合 OH Benzyl H Et Bu OH 301 二重結合 OH Benzyl H Et tBu OH 302 二重結合 OH Benzyl H Pr Pr OH 303 二重結合 OH Benzyl H Pr Bu OH 304 二重結合 OH Benzyl H Pr tBu OH 305 二重結合 OH Benzyl H Bu Bu OH 306 二重結合 OH Benzyl H Bu tBu OH 307 二重結合 OH Benzyl H tBu tBu OH 308 二重結合 OH Benzyl Me H Me OH 309 二重結合 OH Benzyl Me H Et OH 310 二重結合 OH Benzyl Me H Pr OH 311 二重結合 OH Benzyl Me H Bu OH 312 二重結合 OH Benzyl Me Me Et OH 313 二重結合 OH Benzyl Me Me Pr OH 314 二重結合 OH Benzyl Me Me Bu OH 315 二重結合 OH Benzyl Me Me tBu OH 316 二重結合 OH Benzyl Me Et Et OH 317 二重結合 OH Benzyl Me Et Pr OH 318 二重結合 OH Benzyl Me Et Bu OH 319 二重結合 OH Benzyl Me Et tBu OH 320 二重結合 OH Benzyl Me Pr Pr OH 321 二重結合 OH Benzyl Me Pr Bu OH 322 二重結合 OH Benzyl Me Pr tBu OH 323 二重結合 OH Benzyl Me Bu Bu OH 324 二重結合 OH Benzyl Me Bu tBu OH 325 二重結合 OH Benzyl Me tBu tBu OH 326 二重結合 OH Benzyl Me tBu tBu OH 327 二重結合 OH 2-MeBzl H H H OH 328 二重結合 OH 2-MeBzl H H Me OH 329 二重結合 OH 2-MeBzl H Me Me OH 330 二重結合 OH 2-MeBzl Me Me Me OH 331 二重結合 OH 3-MeBzl H H H OH 332 二重結合 OH 3-MeBzl H H Me OH 333 二重結合 OH 3-MeBzl H Me Me OH 334 二重結合 OH 3-MeBzl Me Me Me OH 335 二重結合 OH 4-MeBzl H H H OH 336 二重結合 OH 4-MeBzl H H Me OH 337 二重結合 OH 4-MeBzl H Me Me OH 338 二重結合 OH 4-MeBzl Me Me Me OH 339 二重結合 OH 2-PhEt H H H OH 340 二重結合 OH 2-PhEt H H Me OH 341 二重結合 OH 2-PhEt H Me Me OH 342 二重結合 OH 2-PhEt Me Me Me OH 343 二重結合 OH 3-PhPr H H H OH 344 二重結合 OH 3-PhPr H H Me OH 345 二重結合 OH 3-PhPr H Me Me OH 346 二重結合 OH 3-PhPr Me Me Me OH 347 二重結合 OH 3-Ph-2-Prp H H H OH 348 二重結合 OH 3-Ph-2-Prp H H Me OH 349 二重結合 OH 3-Ph2-Prp H Me Me OH 350 二重結合 OH 3-Ph2-Prp Me Me Me OH 351 二重結合 OH 3-PhBu H H H OH 352 二重結合 OH 3-PhBu H H Me OH 353 二重結合 OH 3-PhBu H Me Me OH 354 二重結合 OH 3-PhBu Me Me Me OH 355 二重結合 OH 4-PhBu H H H OH 356 二重結合 OH 4-PhBu H H Me OH 357 二重結合 OH 4-PhBu H Me Me OH 358 二重結合 OH 4-PhBu Me Me Me OH ───────────────────────────────[Table 1] X = O compound ─────────────────────────────── No. ---- R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 ─────────────────────────────── 1 Single bond OH Et H H H OH 2 Single Bonded OH Et H H H F 3 Single bond OH Et H H H Cl 4 Single bond OH Pr H H H OH 5 Single bond OH Pr H H H F 6 Single bond OH Pr H H Me OH 7 Single bond OH Pr H Me Me OH 8 single bond OH Pr Me Me Me OH 9 single bond OH Allyl H H H OH 10 single bond OH Allyl H H H F 11 single bond OH Allyl H H H Cl 12 single bond OH Allyl H H H Br 13 single bond OH Allyl H H Me OH 14 single bond OH Allyl H Me Me OH 15 single bond OH Allyl Me Me Me OH 16 single bond OH Bu H H H OH 17 single bond OH Bu H H Me OH 18 single bond OH Bu H Me Me OH 19 single bond OH Bu Bu Me Me Me OH 20 single bond OH 2-Butene H H H OH 21 single bond OH 2-Butene H H Me OH 22 single bond OH 2-Butene H Me Me OH 23 single bond OH 2-Butene Me Me Me OH 24 single bond OH 3-Butene H H H OH 25 single bond OH 1-Butene H H H OH 26 single bond OH Prenyl Me H H OH 27 single bond OH Prenyl H H H F 28 single bond OH Prenyl H H H Cl 29 single bond OH Prenyl H H H Br 30 single bond OH Prenyl H H H I 31 single bond OH Prenyl H H H Me 32 single bond OH Prenyl H H H Et 33 single bond OH Prenyl H H H Pr 34 single bond OH Prenyl H H Me OH 35 single bond OH Prenyl H Me Me OH 36 single bond OH Prenyl Me H Me OH 37 Bonded OH Prenyl H H Et OH 38 Single Bonded OH Prenyl H H Pr OH 39 Single Bonded OH Prenyl H H Bu OH 40 Single Bonded OH Prenyl H Me Et OH 41 Single Bonded OH Prenyl H Me Pr OH 42 Single Bonded OH Prenyl H Me Bu OH 43 single bond OH Prenyl H MetBu OH 44 single bond OH Prenyl H Et Et OH 45 single bond OH Prenyl H Et Pr OH 46 single bond OH Prenyl H Et Bu OH 47 single bond OH Prenyl H Et tBu OH 48 single bond OH Prenyl H Pr Pr OH 49 single bond OH Prenyl H Pr Bu OH 50 single bond OH Prenyl H Pr tBu OH 51 single bond OH Prenyl H Bu Bu OH 52 single bond OH Prenyl H But t Bu OH 53 single bond OH Prenyl H tBu Bu OH 54 single bond OH Prenyl Me H Me OH 55 single bond OH Prenyl Me H Et OH 56 single OH Prenyl Me H Pr OH 57 single bond OH Prenyl Me H Bu OH 58 single bond OH Prenyl Me Me Et OH 59 single bond OH Prenyl Me Me Pr OH 60 single bond OH Prenyl Me Me Me OH 61 M single bond OH Prenyl tBu OH 62 single bond OH Prenyl Me Et Et OH 63 single bond OH Prenyl Me Et Pr OH 64 single bond OH Prenyl Me Et Bu OH 65 single bond OH Prenyl Me Et Et tBu OH 66 single bond OH PrenylPr Pr Pr Me Pr OH Prenyl Me Pr But OH 68 Single Bond OH Prenyl Me Pr ButBu OH 69 Single Bond OH Prenyl Me But Bu OH 70 Single Bond OH Prenyl Me But But OH 71 Single Bond OH Prenyl Met But But Pr OH 72 Single Bond OH Prenyl Me But But OH 71 Single Bond OH Prenyl Me But But OH 71 Single Bond OH 73 Single bond OH Pentyl H H H OH 74 Single bond Combined OH Pentyl H H Me OH 75 Single bond OH Pentyl H Me Me OH 76 Single bond OH Pentyl Me Me Me OH 77 Single bond OH 1-Pentenyl H H H OH 78 Single bond OH 1-Pentenyl H H Me OH 79 Single bond OH 1-Pentenyl H Me Me OH 80 single bond OH 1-Pentenyl Me Me Me OH 81 single bond OH 2-Pentenyl H H H OH 82 single bond OH 2-Pentenyl H H Me OH 83 single bond OH 2-Pentenyl H Me MeOH 84 Single bond OH 2-Pentenyl Me Me Me OH 85 Single bond OH 3-Pentenyl H H H OH 86 Single bond OH 3-Pentenyl H H Me OH 87 Single bond OH 3-Pentenyl H Me Me OH 88 Single bond OH 3-Pentenyl Me Me Me OH 89 Single bond OH 4-Pentenyl H H H OH 90 Single bond OH 4-Pentenyl H H Me OH 91 Single bond OH 4-Pentenyl H Me Me OH 92 Single bond OH 4-Pentenyl Me e Me OH 93 single bond OH 3-MeBu H H H OH 94 single bond OH 3-MeBu H H Me OH 95 single bond OH 3-MeBu H Me Me OH 96 single bond OH 3-MeBu Me Me Me OH 97 single bond OH 2-MeBu H H H OH 98 Single bond OH 2-MeBu H H Me OH 99 Single bond OH 2-MeBu H Me Me OH 100 Single bond OH 2-MeBu Me Me Me OH 101 Single bond OH Benzyl H H H OH 102 single bond OH Benzyl H H H F 103 single bond OH Benzyl H H H Cl 104 single bond OH Benzyl H H H Br 105 single bond OH Benzyl H H H I 106 single bond OH Benzyl H H H Me 107 single bond OH Benzyl H H H Et 108 single bond OH Benzyl H H H Pr 109 single bond OH Benzyl H H Me OH 110 single bond OH Benzyl H Me Me OH 111 single bond OH Benzyl Me H Me OH 112 single bond OH Benzyl H H Et OH 113 Single bond OH Benzyl H H Pr OH 114 Single bond OH Benzyl H H Bu OH 115 Single bond OH Benzyl H Me Et OH 116 Single bond OH Benzyl H Me Pr OH 117 Single bond OH Benzyl H Me Bu OH 118 Single bond OH Benzyl H MetBu OH 119 Single bond OH Benzyl H Et Et OH 120 Single bond OH Benzyl H Et Pr OH 121 Single bond OH Benzyl H Et Bu OH 122 Single bond OH Benzyl H Et tBu OH 123 Single bond OH Benzr H Pr 124 Pr Single bond OH Benzyl H Pr But OH 125 Single bond OH Benzyl H Pr tBu OH 126 Single bond OH Benzyl H But Bu OH 127 Single bond OH Benzyl H But But OH 128 Single bond OH Benzyl H tBu tBu OH yl 129 yl H Me OH 130 Single bond OH Benzyl Me H Et OH 131 Single bond OH Benzyl Me H Pr OH 132 Single bond OH Benzyl Me H Bu OH 133 Single bond OH Benzyl Me Me Et OH 134 Single bond OH Benzyl Me Me Pr Pr OH 135 Single bond OH Benzyl Me Me Bu Bu OH 136 Single bond OH Meu Benz Methyl Ben Bonded OH Benzyl Me Et Et OH 138 Single Bonded OH Benzyl Me Et Pr OH 139 Single Bonded OH Benzyl Me Et Et OH 140 Single Bonded OH Benzyl Me Et Et BuBu OH 141 Single Bonded OH Benzyl Me Benz Pr Pr OH 142 Single Bonded OH Benzyl Me Benz Pr Pr OH 142 Bu OH 143 Single bond OH Benzyl Me PrtBu OH 144 Single bond OH Benzyl Me Bu Bu OH 145 Single bond OH Benzyl Me But But OH 146 Single bond OH Benzyl Me Bu Benz But OH Benz benzyl OH Benz benzyl OH 2-MeBzl H H H OH 149 Single bond H 2-MeBzl H H Me OH 150 single bond OH 2-MeBzl H Me Me OH 151 single bond OH 2-MeBzl Me Me Me OH 152 single bond OH 3-MeBzl H H H OH 153 single bond OH 3-MeBzl H H Me OH 154 Single bond OH 3-MeBzl H Me Me OH 155 Single bond OH 3-MeBzl Me Me Me OH 156 Single bond OH 4-MeBzl H H H OH 157 Single bond OH 4-MeBzl H H Me OH 158 Single bond OH 4-MeBzl H Me Me OH 159 Single bond OH 4-MeBzl Me Me Me OH 161 Single bond OH 2-PhEt H H Me OH 162 Single bond OH 2-PhEt H Me Me OH 163 Single bond OH 2-PhEt Me Me Me OH 164 Single bond OH 3-PhPr H H H OH 165 Single bond OH 3-PhPr H H Me OH 166 Single bond OH 3-PhPr H Me Me OH 167 Single bond OH 3-PhPr Me Me Me OH 168 Single bond OH 3 -Ph-2-Prp H H H OH 169 Single bond O 3-Ph-2-Prp H H Me OH 170 Single bond OH 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 171 Single bond OH 3-Ph-2-Prp Me Me Me OH 172 Single bond OH 3-PhBu H H H OH 173 Single bond OH 3-PhBu H H Me OH 174 Single bond OH 3-PhBu H Me Me OH 175 Single bond OH 3-PhBu Me Me Me OH 176 Single bond OH 4-PhBu H H H OH 177 Single bond OH 4-PhBu H H Me OH 178 Single bond OH 4-PhBu H Me Me OH 179 Single bond OH 4-PhBu Me Me Me OH 180 Double bond OH Et H H H OH 181 Double bond OH Et H H H F 182 Double bond OH Et H H H Cl 183 Double bond OH Pr H H H OH 184 Double bond OH Pr H H H F 185 Double bond OH Pr H H Me OH 186 Double bond OH Pr H Me Me OH 187 Double bond OH Pr Me Me Me OH 188 Double bond OH Allyl H H H OH 189 Double bond OH Allyl H H H F 190 Double bond OH Allyl H H H Cl 191 Double bond OH Allyl H H H Br 192 Double bond OH Allyl H H Me OH 193 Double bond OH Allyl H Me Me OH 194 Double bond OH Allyl Me Me Me OH 195 Double bond OH Bu H H H OH 196 Double bond OH Bu H H Me OH 197 Double bond OH Bu H Me Me OH 198 Double bond OH Bu Me Me Me OH 199 Double bond OH 2-Butene H H H OH 200 Double bond OH 2-Butene H H Me OH 201 Double bond OH 2-Butene H Me Me OH 202 Double bond OH 2-Butene Me Me Me OH 203 Double bond OH 3-Butene H H H OH 204 Double bond OH 1-Butene H H H OH 205 Double bond OH Prenyl Me H H OH 206 Double bond OH Prenyl H H H F 207 Double bond Union OH Prenyl H H H Cl 208 double bond OH Prenyl H H H Br 209 double bond OH Prenyl H H H I 210 double bond OH Prenyl H H H Me 211 double bond OH Prenyl H H H Et 212 double bond OH Prenyl H H H Pr 213 double bond OH Prenyl H H Me OH 214 double bond OH Prenyl H Me Me OH 215 double bond OH Prenyl Me H Me OH 216 double bond OH Prenyl H H Et OH 217 double bond OH Prenyl H H Pr OH 218 Double bond OH Prenyl H H Bu OH 219 Double bond OH Prenyl H Me Et OH 220 Double bond OH Prenyl H Me Pr OH 221 Double bond OH Prenyl H Me Bu OH 222 Double bond OH Prenyl H MetBu OH 223 Double bond OH Prenyl H Et Et OH 224 Double bond OH Prenyl H Et Pr OH 225 Double bond OH Prenyl H Et Bu OH 2 26 Double bond OH Prenyl H Et tBu OH 227 Double bond OH Prenyl H Pr Pr OH 228 Double bond OH Prenyl H Pr Bu OH 229 Double bond OH Prenyl H Pr tBu OH 230 Double bond OH Prenyl H Bu Bu OH 231 Double bond OH Prenyl H But tBu OH 232 Double bond OH Prenyl H tBu tBu OH 233 Double bond OH Prenyl Me H Me OH 234 Double bond OH Prenyl Me H Et OH 235 Double bond OH Prenyl Me H Pr OH 236 Double bond OH Prenyl Me H Bu OH 237 Double bond OH Prenyl Me Me Et OH 238 Double bond OH Prenyl Me Me Pr OH 239 Double bond OH Prenyl Me Me Bu OH 240 Double bond OH Prenyl Me MetBu 241 Double bond OH Prenyl Me Et Et OH 242 Double bond OH Prenyl Me Et Pr OH 243 Double bond Combined OH Prenyl Me Et Bu OH 244 Double bond OH Prenyl Me Et tBu OH 245 Double bond OH Prenyl Me Pr Pr OH 246 Double bond OH Prenyl Me Pr Pr OH 247 Double bond OH Prenyl Me Pr 248Bu Bond OH Prenyl Me Bu Bu OH 249 Double bond OH Prenyl Me But But OH 250 Double bond OH Prenyl Me t But t Bu OH 251 Double bond OH Prenyl Me t But t Bu OH 252 Double bond OH Pentyl H H H OH 253 Bond OH Pentyl H H Me OH 254 Double Bond OH Pentyl H Me Me OH 255 Double Bond OH Pentyl Me Me Me OH 256 Double Bond OH 1-Pentenyl H H H OH 257 Double Bond OH 1-Pentenyl H H Me OH 258 Double bond OH 1-Pentenyl H Me Me OH 259 Double bond OH 1-Pentenyl Me Me Me OH 260 Bond OH 2-Pentenyl H H H OH 261 Double bond OH 2-Pentenyl H H Me OH 262 Double bond OH 2-Pentenyl H Me Me OH 263 Double bond OH 2-Pentenyl Me Me Me OH 264 Double bond OH 3-Pentenyl H H H OH 265 double bond OH 3-Pentenyl H H Me OH 266 double bond OH 3-Pentenyl H Me Me OH 267 double bond OH 3-Pentenyl Me Me OH 268 double bond OH 4- Pentenyl H H H OH 269 Double bond OH 4-Pentenyl H H Me OH 270 Double bond OH 4-Pentenyl H Me Me OH 271 Double bond OH 4-Pentenyl Me Me OH 272 Double bond OH 3-MeBu H H H OH 273 Double bond OH 3-MeBu H H Me OH 274 Double bond OH 3-MeBu H Me Me OH 275 Double bond OH 3-MeBu Me Me Me OH 276 Double bond OH 2-MeBu H H H OH 277 Double bond OH 2-MeBu H H Me OH 278 Double bond OH 2-MeBu H Me Me OH 279 Double bond OH 2-MeBu Me Me Me OH 280 Double bond OH Benzyl H H H OH 281 Double bond OH Benzyl H H H F 282 Double bond OH Benzyl H H H Cl 283 Double bond OH Benzyl H H H Br 284 Double bond OH Benzyl H H H I 285 Double bond OH Benzyl H H H Me 286 Double bond OH Benzyl H H H Et 287 Double bond OH Benzyl H H H Pr 288 Double bond OH Benzyl H H Me OH 289 Double bond OH Benzyl H Me Me OH 290 Double bond OH Benzyl Me H Me OH 291 Double bond OH Benzyl H H Et OH 292 Double bond OH Benzyl H H Pr OH 293 Double bond OH Benzyl H H Bu OH 294 Double bond OH Benzyl H Me Et OH 295 Double bond OH Benzyl H Me Pr OH 296 Double bond OH Benzyl H Me Bu OH 297 Double bond OH Benzyl H MetBu OH 298 Double bond OH Benzyl H Et Et OH 299 Double bond OH Benzyl H Et Pr OH 300 Double bond OH Benzyl H Et Bu OH 301 Double bond OH Benzyl H Et tBu OH 302 Double bond OH Benzyl H Pr Pr OH 303 Double bond OH Benzyl H Pr Bu OH 304 Double bond OH Benzyl H Pr tBu OH 305 Double bond OH Benzyl H Bu Bu OH 306 Double bond OH Benzyl H Bu tBu OH 307 Double bond OH Benzyl H tBu tBu OH 308 Double bond OH Benzyl Me H Me OH 309 Double bond OH Benzyl Me H Et OH 310 Double bond OH Benzyl Me H Pr OH 311 Double bond OH Benzyl Me H Bu OH 312 Double bond OH Benzyl Me Me Et OH 313 Double bond OH Benzyl Me Me Pr OH 314 N OH Benzyl Me Me Bu OH 315 Double Bond OH Benzyl Me MetBu OH 316 Double Bond OH Benzyl Me Et Et OH 317 Double Bond OH Benzyl Me Et Et Pr OH 318 Double Bond OH Benz Benz E Me Bond OH Benzyl Me Et tBu OH 320 Double bond OH Benzyl Me Pr Pr OH 321 Double bond OH Benzyl Me Pr Pr OH 322 Double bond OH Benzyl Me Pr PtBu OH 323 Double bond OH BenzuBu Mu bu BenzylBu Meu Bond OH Benzyl Me But But OH 325 Double Bond OH Benzyl Me But But t Bu OH 326 Double Bond OH Benzyl Met But tBu OH 327 Double Bond OH 2-MeBzl H H H OH 328 Double Bond OH 2-MeBzl H H OH 329 Double bond OH 2-MeBzl H Me Me OH 330 Double bond OH 2-MeBzl Me Me Me O H 331 Double bond OH 3-MeBzl H H H OH 332 Double bond OH 3-MeBzl H H Me OH 333 Double bond OH 3-MeBzl H Me Me OH 334 Double bond OH 3-MeBzl Me Me Me OH 335 Double bond OH 4-MeBzl H H H OH 336 Double bond OH 4-MeBzl H H Me OH 337 Double bond OH 4-MeBzl H Me Me OH 338 Double bond OH 4-MeBzl Me Me Me OH 339 Double Bond OH 2-PhEt H H H OH 340 Double bond OH 2-PhEt H H Me OH 341 Double bond OH 2-PhEt H Me Me OH 342 Double bond OH 2-PhEt Me Me Me OH 343 Double bond OH 3-PhPr H H H OH 344 double bond OH 3-PhPr H H Me OH 345 double bond OH 3-PhPr H Me Me OH 346 double bond OH 3-PhPr Me Me Me OH 347 double bond OH 3- Ph-2-Prp H H H OH 348 Double bond OH 3-Ph-2-Prp H H MeOH 349 Heavy bond OH 3-Ph2-Prp H Me Me OH 350 Double bond OH 3-Ph2-Prp Me Me Me OH 351 Double bond OH 3-PhBu H H H OH 352 Double bond OH 3-PhBu H H Me OH 353 Double bond OH 3-PhBu H Me Me OH 354 Double bond OH 3-PhBu Me Me Me OH 355 Double bond OH 4-PhBu H H H OH 356 Double bond OH 4-PhBu H H Me OH 357 II Heavy bond OH 4-PhBu H Me Me OH 358 Double bond OH 4-PhBu Me Me Me OH ───────────────────────────── ───

【0025】[0025]

【化4】 Embedded image

【0026】[0026]

【表2】 X=CH2 の化合物 ─────────────────────────────── No. ---- R1 2 3 4 5 6 ─────────────────────────────── 359 単結合 OH Et H H H OH 360 単結合 OH Et H H H F 361 単結合 OH Et H H H Cl 362 単結合 OH Pr H H H OH 363 単結合 OH Pr H H H F 364 単結合 OH Pr H H Me OH 365 単結合 OH Pr H Me Me OH 366 単結合 OH Pr Me Me Me OH 367 単結合 OH Allyl H H H OH 368 単結合 OH Allyl H H H F 369 単結合 OH Allyl H H H Cl 370 単結合 OH Allyl H H H Br 371 単結合 OH Allyl H H Me OH 372 単結合 OH Allyl H Me Me OH 373 単結合 OH Allyl Me Me Me OH 374 単結合 OH Bu H H H OH 375 単結合 OH Bu H H Me OH 376 単結合 OH Bu H Me Me OH 377 単結合 OH Bu Me Me Me OH 378 単結合 OH 2-Butene H H H OH 379 単結合 OH 2-Butene H H Me OH 380 単結合 OH 2-Butene H Me Me OH 381 単結合 OH 2-Butene Me Me Me OH 382 単結合 OH 3-Butene H H H OH 383 単結合 OH 1-Butene H H H OH 384 単結合 OH Prenyl H H H OH 385 単結合 OH Prenyl H H H F 386 単結合 OH Prenyl H H H Cl 387 単結合 OH Prenyl H H H Br 388 単結合 OH Prenyl H H H I 389 単結合 OH Prenyl H H H Me 390 単結合 OH Prenyl H H H Et 391 単結合 OH Prenyl H H H Pr 392 単結合 OH Prenyl H H Me OH 393 単結合 OH Prenyl H Me Me OH 394 単結合 OH Prenyl Me H H OH 395 単結合 OH Prenyl H H Et OH 396 単結合 OH Prenyl H H Pr OH 397 単結合 OH Prenyl H H Bu OH 398 単結合 OH Prenyl H Me Et OH 399 単結合 OH Prenyl H Me Pr OH 400 単結合 OH Prenyl H Me Bu OH 401 単結合 OH Prenyl H Me tBu OH 402 単結合 OH Prenyl H Et Et OH 403 単結合 OH Prenyl H Et Pr OH 404 単結合 OH Prenyl H Et Bu OH 405 単結合 OH Prenyl H Et tBu OH 406 単結合 OH Prenyl H Pr Pr OH 407 単結合 OH Prenyl H Pr Bu OH 408 単結合 OH Prenyl H Pr tBu OH 409 単結合 OH Prenyl H Bu Bu OH 410 単結合 OH Prenyl H Bu tBu OH 411 単結合 OH Prenyl H tBu tBu OH 412 単結合 OH Prenyl Me H Me OH 413 単結合 OH Prenyl Me H Et OH 414 単結合 OH Prenyl Me H Pr OH 415 単結合 OH Prenyl Me H Bu OH 416 単結合 OH Prenyl Me Me Et OH 417 単結合 OH Prenyl Me Me Pr OH 418 単結合 OH Prenyl Me Me Bu OH 419 単結合 OH Prenyl Me Me tBu OH 420 単結合 OH Prenyl Me Et Et OH 421 単結合 OH Prenyl Me Et Pr OH 422 単結合 OH Prenyl Me Et Bu OH 423 単結合 OH Prenyl Me Et tBu OH 424 単結合 OH Prenyl Me Pr Pr OH 425 単結合 OH Prenyl Me Pr Bu OH 426 単結合 OH Prenyl Me Pr tBu OH 427 単結合 OH Prenyl Me Bu Bu OH 428 単結合 OH Prenyl Me Bu tBu OH 429 単結合 OH Prenyl Me tBu tBu OH 430 単結合 OH Prenyl Me tBu tBu OH 431 単結合 OH Pentyl H H H OH 432 単結合 OH Pentyl H H Me OH 433 単結合 OH Pentyl H Me Me OH 434 単結合 OH Pentyl Me Me Me OH 435 単結合 OH 1-Pentenyl H H H OH 436 単結合 OH 1-Pentenyl H H Me OH 437 単結合 OH 1-Pentenyl H Me Me OH 438 単結合 OH 1-Pentenyl Me Me Me OH 439 単結合 OH 2-Pentenyl H H H OH 440 単結合 OH 2-Pentenyl H H Me OH 441 単結合 OH 2-Pentenyl H Me Me OH 442 単結合 OH 2-Pentenyl Me Me Me OH 443 単結合 OH 3-Pentenyl H H H OH 444 単結合 OH 3-Pentenyl H H Me OH 445 単結合 OH 3-Pentenyl H Me Me OH 446 単結合 OH 3-Pentenyl Me Me Me OH 447 単結合 OH 4-Pentenyl H H H OH 448 単結合 OH 4-Pentenyl H H Me OH 449 単結合 OH 4-Pentenyl H Me Me OH 450 単結合 OH 4-Pentenyl Me Me Me OH 451 単結合 OH 3-MeBu H H H OH 452 単結合 OH 3-MeBu H H Me OH 453 単結合 OH 3-MeBu H Me Me OH 454 単結合 OH 3-MeBu Me Me Me OH 455 単結合 OH 2-MeBu H H H OH 456 単結合 OH 2-MeBu H H Me OH 457 単結合 OH 2-MeBu H Me Me OH 458 単結合 OH 2-MeBu Me Me Me OH 459 単結合 OH Benzyl H H H OH 461 単結合 OH Benzyl H H H Cl 462 単結合 OH Benzyl H H H Br 463 単結合 OH Benzyl H H H I 464 単結合 OH Benzyl H H H Me 465 単結合 OH Benzyl H H H Et 466 単結合 OH Benzyl H H H Pr 467 単結合 OH Benzyl H H Me OH 468 単結合 OH Benzyl H Me Me OH 469 単結合 OH Benzyl Me H Me OH 470 単結合 OH Benzyl H H Et OH 471 単結合 OH Benzyl H H Pr OH 472 単結合 OH Benzyl H H Bu OH 473 単結合 OH Benzyl H Me Et OH 474 単結合 OH Benzyl H Me Pr OH 475 単結合 OH Benzyl H Me Bu OH 476 単結合 OH Benzyl H Me tBu OH 477 単結合 OH Benzyl H Et Et OH 478 単結合 OH Benzyl H Et Pr OH 479 単結合 OH Benzyl H Et Bu OH 480 単結合 OH Benzyl H Et tBu OH 481 単結合 OH Benzyl H Pr Pr OH 482 単結合 OH Benzyl H Pr Bu OH 483 単結合 OH Benzyl H Pr tBu OH 484 単結合 OH Benzyl H Bu Bu OH 485 単結合 OH Benzyl H Bu tBu OH 486 単結合 OH Benzyl H tBu tBu OH 487 単結合 OH Benzyl Me H Me OH 488 単結合 OH Benzyl Me H Et OH 489 単結合 OH Benzyl Me H Pr OH 490 単結合 OH Benzyl Me H Bu OH 491 単結合 OH Benzyl Me Me Et OH 492 単結合 OH Benzyl Me Me Pr OH 493 単結合 OH Benzyl Me Me Bu OH 494 単結合 OH Benzyl Me Me tBu OH 495 単結合 OH Benzyl Me Et Et OH 496 単結合 OH Benzyl Me Et Pr OH 497 単結合 OH Benzyl Me Et Bu OH 498 単結合 OH Benzyl Me Et tBu OH 499 単結合 OH Benzyl Me Pr Pr OH 500 単結合 OH Benzyl Me Pr Bu OH 501 単結合 OH Benzyl Me Pr tBu OH 502 単結合 OH Benzyl Me Bu Bu OH 503 単結合 OH Benzyl Me Bu tBu OH 504 単結合 OH Benzyl Me tBu tBu OH 505 単結合 OH Benzyl Me tBu tBu OH 506 単結合 OH 2-MeBzl H H H OH 507 単結合 OH 2-MeBzl H H Me OH 508 単結合 OH 2-MeBzl H Me Me OH 509 単結合 OH 2-MeBzl Me Me Me OH 510 単結合 OH 3-MeBzl H H H OH 511 単結合 OH 3-MeBzl H H Me OH 512 単結合 OH 3-MeBzl H Me Me OH 513 単結合 OH 3-MeBzl Me Me Me OH 514 単結合 OH 4-MeBzl H H H OH 515 単結合 OH 4-MeBzl H H Me OH 516 単結合 OH 4-MeBzl H Me Me OH 517 単結合 OH 4-MeBzl Me Me Me OH 519 単結合 OH 2-PhEt H H Me OH 520 単結合 OH 2-PhEt H Me Me OH 521 単結合 OH 2-PhEt Me Me Me OH 522 単結合 OH 3-PhPr H H H OH 523 単結合 OH 3-PhPr H H Me OH 524 単結合 OH 3-PhPr H Me Me OH 525 単結合 OH 3-PhPr Me Me Me OH 526 単結合 OH 3-Ph-2-Prp H H H OH 527 単結合 OH 3-Ph-2-Prp H H Me OH 528 単結合 OH 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 529 単結合 OH 3-Ph2-Prp Me Me Me OH 530 単結合 OH 3-PhBu H H H OH 531 単結合 OH 3-PhBu H H Me OH 532 単結合 OH 3-PhBu H Me Me OH 533 単結合 OH 3-PhBu Me Me Me OH 534 単結合 OH 4-PhBu H H H OH 535 単結合 OH 4-PhBu H H Me OH 536 単結合 OH 4-PhBu H Me Me OH 537 単結合 OH 4-PhBu Me Me Me OH ────────────────────────────────── [Table 2] X = CH 2 compound ─────────────────────────────── No. ---- R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 ─────────────────────────────── 359 Single bond OH Et H H H OH 360 Single bond OH Et H H H F 361 Single bond OH Et H H H Cl 362 Single bond OH Pr H H H OH 363 Single bond OH Pr H H H F 364 Single bond OH Pr H H Me OH 365 Single bond OH Pr H Me Me OH 366 Single bond OH Pr Me Me Me OH 367 Single bond OH Allyl H H H OH 368 Single bond OH Allyl H H H F F 369 Single bond OH Allyl H H H Cl 370 Single bond OH Allyl H H H Br 371 Single bond Bonded OH Allyl H H Me OH 372 Single bond OH Allyl H Me Me OH 373 Single bond OH Allyl Me Me Me OH 37 4 Single bond OH Bu H H H OH 375 Single bond OH Bu H H Me OH 376 Single bond OH Bu H Me Me OH 377 Single bond OH Bu Me Me Me OH 378 Single bond OH 2-Butene H H H OH 379 Single bond OH 2-Butene H H Me OH 380 single bond OH 2-Butene H Me Me OH 381 single bond OH 2-Butene Me Me Me OH 382 single bond OH 3-Butene H H H OH 383 single bond OH 1-Butene H H H OH 384 Single bond OH Prenyl H H H OH 385 Single bond OH Prenyl H H H F 386 Single bond OH Prenyl H H H Cl 387 Single bond OH Prenyl H H H Br 388 Single bond OH Prenyl H H H I 389 Single bond OH Prenyl H H H Me 390 Single bond OH Prenyl H H H Et 391 Single bond OH Prenyl H H H Pr 392 Single bond OH Prenyl H H Me OH 393 Single bond OH Prenyl H Me Me OH 394 Single bond OH Prenyl Me H H OH 395 Single bond OH Prenyl H H Et OH 396 Single bond OH Prenyl H H Pr OH 397 Single bond OH Prenyl H H Bu OH 398 Single bond OH Prenyl H Me Et OH 399 Single bond OH Prenyl H Me Pr OH 400 Single bond OH Prenyl H Me Bu OH 401 Single bond OH Prenyl H MetBu OH 402 Single bond OH Prenyl H Et Et OH 403 Single bond OH Prenyl H Et Pr OH 404 Single bond OH Prenyl H Et Bu OH 405 OH Prenyl H Et tBu OH 406 Single bond OH Prenyl H Pr Pr OH 407 Single bond OH Prenyl H Pr Bu OH 408 Single bond OH Prenyl H Pr tBu OH 409 Single bond OH Prenyl H Bu Bu OH 410 Single bond OH Prenyl H Buenyl H 411 Single bond OH Prenyl H tBu tBu OH 412 Single bond OH Prenyl Me H Me O 413 Single bond OH Prenyl Me H Et OH 414 Single bond OH Prenyl Me H Pr OH 415 Single bond OH Prenyl Me H Bu OH 416 Single bond OH Prenyl Me Me Et OH 417 Single bond OH Prenyl Me Me Pr Pr OH 418 Me Me Bu OH 419 Single bond OH Prenyl Me MetBu OH 420 Single bond OH Prenyl Me Et Et OH 421 Single bond OH Prenyl Me Et Pr OH 422 Single bond OH Prenyl Me Et Bu But OH Pr Pr enyl Single bond OH Prenyl Me Et Et OH 421 Single bond OH Prenyl Single bond OH Prenyl Me Pr Pr OH 425 Single bond OH Prenyl Me Pr Pr OH 426 Single bond OH Prenyl Me Pr tBu OH 427 Single bond OH Prenyl Me But Bu OH 428 Single bond OH Prenyl Me Bu OH But 428 tBu tBu OH 430 Single bond OH Prenyl Me ButtBu OH 431 Single bond OH Pentyl H H H OH 432 Single bond OH Pentyl H H Me OH 433 Single bond OH Pentyl H Me Me OH 434 Single bond OH Pentyl Me Me Me OH 435 Single bond OH 1-Pentenyl H H H OH 436 Single bond OH 1-Pentenyl H H Me OH 437 Single bond OH 1-Pentenyl H Me Me OH 438 Single bond OH 1-Pentenyl Me Me Me OH 439 Single bond OH 2-Pentenyl H H H OH 440 Single bond OH 2- Pentenyl H H MeOH 441 Single bond OH 2-Pentenyl H Me Me OH 442 Single bond OH 2-Pentenyl Me Me Me OH 443 Single bond OH 3-Pentenyl H H H OH 444 Single bond OH 3-Pentenyl H H Me OH 445 Single bond OH 3-Pentenyl H Me Me OH 446 Single bond OH 3-Pentenyl Me Me Me OH 447 Single bond OH 4-Pentenyl H H H OH 448 Single bond OH 4-Pentenyl H H Me O 449 Single bond OH 4-Pentenyl H Me Me OH 450 Single bond OH 4-Pentenyl Me Me Me OH 451 Single bond OH 3-MeBu H H H OH 452 Single bond OH 3-MeBu H H Me OH 453 Single bond OH 3- MeBu H Me Me OH 454 Single bond OH 3-MeBu Me Me Me OH 455 Single bond OH 2-MeBu H H H OH 456 Single bond OH 2-MeBu H H Me OH 457 Single bond OH 2-MeBu H Me Me OH 458 Single bond OH 2-MeBu Me Me Me OH 459 Single bond OH Benzyl H H H OH 461 Single bond OH Benzyl H H H Cl 462 Single bond OH Benzyl H H H Br 463 Single bond OH Benzyl H H H I 464 Single bond OH Benzyl H H H Me 465 Single bond OH Benzyl H H H Et 466 Single bond OH Benzyl H H H Pr 467 Single bond OH Benzyl H H Me OH 468 Single bond OH Benzyl H Me Me OH 469 Single bond OH Benzyl Me H e OH 470 Single bond OH Benzyl H H Et OH 471 Single bond OH Benzyl H H Pr OH 472 Single bond OH Benzyl H H Bu OH 473 Single bond OH Benzyl H Me Et OH 474 Single bond OH Benzyl H Me Pr Pr 475 475 OH Benzyl H Me Bu OH 476 single bond OH Benzyl H MetBu OH 477 single bond OH Benzyl H Et Et OH 478 single bond OH Benzyl H Et Pr OH 479 single bond OH Benzyl H Et Bu OH Bt OH benzyl single bond OH 481 Single bond OH Benzyl H Pr Pr OH 482 Single bond OH Benzyl H Pr Bu OH 483 Single bond OH Benzyl H Pr tBu OH 484 Single bond OH Benzyl H Butu OH 485 485 Single bond OH Benzyl H OH But 486 Benzyl H tBu tBu OH 487 Single bond OH Benzyl Me H Me OH 488 Single bond OH Ben zyl Me H Et OH 489 single bond OH Benzyl Me H Pr OH 490 single bond OH Benzyl Me H Bu OH 491 single bond OH Benzyl Me Me Et OH 492 single bond OH Benzyl Me Me Pr Pr OH 493yl single bond 494 Single bond OH Benzyl Me MetBu OH 495 Single bond OH Benzyl Me Et Et OH 496 Single bond OH Benzyl Me Et Pr OH 497 Single bond OH Benzyl Meyl Et Bu Bu OH 498 Single bond Benz But OH Et Benzoyl Me Pr Pr OH 500 Single bond OH Benzyl Me Pr Pr OH 501 Single bond OH Benzyl Me Pr TtBu OH 502 Single bond OH Benzyl Me Bu Bu OH 503 505 Single bond OH Benzyl Me But But Bu But OH Benzyl Single bond OH Benzyl Me tBu tBu OH 5 06 Single bond OH 2-MeBzl H H OH 507 Single bond OH 2-MeBzl H H Me OH 508 Single bond OH 2-MeBzl H Me Me OH 509 Single bond OH 2-MeBzl Me Me Me OH 510 Single bond OH 3- MeBzl H H H OH 511 single bond OH 3-MeBzl H H Me OH 512 single bond OH 3-MeBzl H Me Me OH 513 single bond OH 3-MeBzl Me Me Me OH 514 single bond OH 4-MeBzl H H H OH 515 Single bond OH 4-MeBzl H H Me OH 516 Single bond OH 4-MeBzl H Me Me OH 517 Single bond OH 4-MeBzl Me Me Me OH 519 Single bond OH 2-PhEt H H Me OH 520 Single bond OH 2-PhEt H Me Me OH 521 Single bond OH 2-PhEt Me Me Me OH 522 Single bond OH 3-PhPr H H H OH 523 Single bond OH 3-PhPr H H Me OH 524 Single bond OH 3-PhPr H Me Me OH 525 Single Bonding OH 3-PhPr Me Me Me OH 526 Bonded OH 3-Ph-2-Prp H H H OH 527 Single bond OH 3-Ph-2-Prp H H Me OH 528 Single bond OH 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 529 Single bond OH 3-Ph2 -Prp Me Me Me OH 530 Single bond OH 3-PhBu H H H OH 531 Single bond OH 3-PhBu H H Me OH 532 Single bond OH 3-PhBu H Me Me OH 533 Single bond OH 3-PhBu Me Me OH 534 Single bond OH 4-PhBu H H H OH 535 Single bond OH 4-PhBu H H Me OH 536 Single bond OH 4-PhBu H Me Me OH 537 Single bond OH 4-PhBu Me Me Me OH ───── ────────────────────────────

【0027】[0027]

【化5】 Embedded image

【0028】[0028]

【表3】 X=O の化合物 ─────────────────────────────── No. ---- R1 2 3 4 5 6 ─────────────────────────────── 538 単結合 H Et H H H OH 539 単結合 H Et H H H F 540 単結合 H Et H H H Cl 541 単結合 H Pr H H H OH 542 単結合 H Pr H H H F 543 単結合 H Pr H H Me OH 544 単結合 H Pr H Me Me OH 545 単結合 H Pr Me Me Me OH 546 単結合 H Allyl H H H OH 547 単結合 H Allyl H H H F 548 単結合 H Allyl H H H Cl 549 単結合 H Allyl H H H Br 550 単結合 H Allyl H H Me OH 551 単結合 H Allyl H Me Me OH 552 単結合 H Allyl Me Me Me OH 553 単結合 H Bu H H H OH 554 単結合 H Bu H H Me OH 555 単結合 H Bu H Me Me OH 556 単結合 H Bu Me Me Me OH 557 単結合 H 2-Butene H H H OH 558 単結合 H 2-Butene H H Me OH 559 単結合 H 2-Butene H Me Me OH 560 単結合 H 2-Butene Me Me Me OH 561 単結合 H 3-Butene H H H OH 562 単結合 H 1-Butene H H H OH 563 単結合 H Prenyl H H H OH 564 単結合 H Prenyl H H H F 565 単結合 H Prenyl H H H Cl 566 単結合 H Prenyl H H H Br 567 単結合 H Prenyl H H H I 568 単結合 H Prenyl H H H Me 569 単結合 H Prenyl H H H Et 570 単結合 H Prenyl H H H Pr 571 単結合 H Prenyl H H Me OH 572 単結合 H Prenyl H Me Me OH 573 単結合 H Prenyl Me H Me OH 574 単結合 H Prenyl H H Et OH 575 単結合 H Prenyl H H Pr OH 576 単結合 H Prenyl H H Bu OH 577 単結合 H Prenyl H Me Et OH 578 単結合 H Prenyl H Me Pr OH 579 単結合 H Prenyl H Me Bu OH 580 単結合 H Prenyl H Me tBu OH 581 単結合 H Prenyl H Et Et OH 582 単結合 H Prenyl H Et Pr OH 583 単結合 H Prenyl H Et Bu OH 584 単結合 H Prenyl H Et tBu OH 585 単結合 H Prenyl H Pr Pr OH 586 単結合 H Prenyl H Pr Bu OH 587 単結合 H Prenyl H Pr tBu OH 588 単結合 H Prenyl H Bu Bu OH 589 単結合 H Prenyl H Bu tBu OH 590 単結合 H Prenyl H tBu tBu OH 591 単結合 H Prenyl Me H Me OH 592 単結合 H Prenyl Me H Et OH 593 単結合 H Prenyl Me H Pr OH 594 単結合 H Prenyl Me H Bu OH 595 単結合 H Prenyl Me Me Et OH 596 単結合 H Prenyl Me Me Pr OH 597 単結合 H Prenyl Me Me Bu OH 598 単結合 H Prenyl Me Me tBu OH 599 単結合 H Prenyl Me Et Et OH 600 単結合 H Prenyl Me Et Pr OH 601 単結合 H Prenyl Me Et Bu OH 602 単結合 H Prenyl Me Et tBu OH 603 単結合 H Prenyl Me Pr Pr OH 604 単結合 H Prenyl Me Pr Bu OH 605 単結合 H Prenyl Me Pr tBu OH 606 単結合 H Prenyl Me Bu Bu OH 607 単結合 H Prenyl Me Bu tBu OH 608 単結合 H Prenyl Me tBu tBu OH 609 単結合 H Prenyl Me tBu tBu OH 610 単結合 H Pentyl H H H OH 611 単結合 H Pentyl H H Me OH 612 単結合 H Pentyl H Me Me OH 613 単結合 H Pentyl Me Me Me OH 614 単結合 H 1-Pentenyl H H H OH 615 単結合 H 1-Pentenyl H H Me OH 616 単結合 H 1-Pentenyl H Me Me OH 617 単結合 H 1-Pentenyl Me Me Me OH 618 単結合 H 2-Pentenyl H H H OH 619 単結合 H 2-Pentenyl H H Me OH 620 単結合 H 2-Pentenyl H Me Me OH 621 単結合 H 2-Pentenyl Me Me Me OH 622 単結合 H 3-Pentenyl H H H OH 623 単結合 H 3-Pentenyl H H Me OH 624 単結合 H 3-Pentenyl H Me Me OH 625 単結合 H 3-Pentenyl Me Me Me OH 626 単結合 H 4-Pentenyl H H H OH 627 単結合 H 4-Pentenyl H H Me OH 628 単結合 H 4-Pentenyl H Me Me OH 629 単結合 H 4-Pentenyl Me Me Me OH 630 単結合 H 3-MeBu H H H OH 631 単結合 H 3-MeBu H H Me OH 632 単結合 H 3-MeBu H Me Me OH 633 単結合 H 3-MeBu Me Me Me OH 634 単結合 H 2-MeBu H H H OH 635 単結合 H 2-MeBu H H Me OH 636 単結合 H 2-MeBu H Me Me OH 637 単結合 H 2-MeBu Me Me Me OH 638 単結合 H Benzyl H H H OH 639 単結合 H Benzyl H H H F 640 単結合 H Benzyl H H H Cl 641 単結合 H Benzyl H H H Br 642 単結合 H Benzyl H H H I 643 単結合 H Benzyl H H H Me 644 単結合 H Benzyl H H H Et 645 単結合 H Benzyl H H H Pr 646 単結合 H Benzyl H H Me OH 647 単結合 H Benzyl H Me Me OH 648 単結合 H Benzyl Me H Me OH 649 単結合 H Benzyl H H Et OH 650 単結合 H Benzyl H H Pr OH 651 単結合 H Benzyl H H Bu OH 652 単結合 H Benzyl H Me Et OH 653 単結合 H Benzyl H Me Pr OH 654 単結合 H Benzyl H Me Bu OH 655 単結合 H Benzyl H Me tBu OH 656 単結合 H Benzyl H Et Et OH 657 単結合 H Benzyl H Et Pr OH 658 単結合 H Benzyl H Et Bu OH 659 単結合 H Benzyl H Et tBu OH 660 単結合 H Benzyl H Pr Pr OH 661 単結合 H Benzyl H Pr Bu OH 662 単結合 H Benzyl H Pr tBu OH 663 単結合 H Benzyl H Bu Bu OH 664 単結合 H Benzyl H Bu tBu OH 665 単結合 H Benzyl H tBu tBu OH 666 単結合 H Benzyl Me H Me OH 667 単結合 H Benzyl Me H Et OH 668 単結合 H Benzyl Me H Pr OH 669 単結合 H Benzyl Me H Bu OH 670 単結合 H Benzyl Me Me Et OH 671 単結合 H Benzyl Me Me Pr OH 672 単結合 H Benzyl Me Me Bu OH 673 単結合 H Benzyl Me Me tBu OH 674 単結合 H Benzyl Me Et Et OH 675 単結合 H Benzyl Me Et Pr OH 676 単結合 H Benzyl Me Et Bu OH 677 単結合 H Benzyl Me Et tBu OH 678 単結合 H Benzyl Me Pr Pr OH 679 単結合 H Benzyl Me Pr Bu OH 680 単結合 H Benzyl Me Pr tBu OH 681 単結合 H Benzyl Me Bu Bu OH 682 単結合 H Benzyl Me Bu tBu OH 683 単結合 H Benzyl Me tBu tBu OH 684 単結合 H Benzyl Me tBu tBu OH 685 単結合 H 2-MeBzl H H H OH 686 単結合 H 2-MeBzl H H Me OH 687 単結合 H 2-MeBzl H Me Me OH 688 単結合 H 2-MeBzl Me Me Me OH 689 単結合 H 3-MeBzl H H H OH 690 単結合 H 3-MeBzl H H Me OH 691 単結合 H 3-MeBzl H Me Me OH 692 単結合 H 3-MeBzl Me Me Me OH 693 単結合 H 4-MeBzl H H H OH 694 単結合 H 4-MeBzl H H Me OH 695 単結合 H 4-MeBzl H Me Me OH 696 単結合 H 4-MeBzl Me Me Me OH 697 単結合 H 2-PhEt H H H OH 698 単結合 H 2-PhEt H H Me OH 699 単結合 H 2-PhEt H Me Me OH 700 単結合 H 2-PhEt Me Me Me OH 701 単結合 H 3-PhPr H H H OH 702 単結合 H 3-PhPr H H Me OH 703 単結合 H 3-PhPr H Me Me OH 704 単結合 H 3-PhPr Me Me Me OH 706 単結合 H 3-Ph-2-Prp H H Me OH 707 単結合 H 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 708 単結合 H 3-Ph-2-Prp Me Me Me OH 709 単結合 H 3-PhBu H H H OH 710 単結合 H 3-PhBu H H Me OH 711 単結合 H 3-PhBu H Me Me OH 712 単結合 H 3-PhBu Me Me Me OH 713 単結合 H 4-PhBu H H H OH 714 単結合 H 4-PhBu H H Me OH 715 単結合 H 4-PhBu H Me Me OH 716 単結合 H 4-PhBu Me Me Me OH 717 二重結合 H Et H H H OH 718 二重結合 H Et H H H F 719 二重結合 H Et H H H Cl 720 二重結合 H Pr H H H OH 721 二重結合 H Pr H H H F 722 二重結合 H Pr H H Me OH 723 二重結合 H Pr H Me Me OH 724 二重結合 H Pr Me Me Me OH 725 二重結合 H Allyl H H H OH 726 二重結合 H Allyl H H H F 727 二重結合 H Allyl H H H Cl 728 二重結合 H Allyl H H H Br 729 二重結合 H Allyl H H Me OH 730 二重結合 H Allyl H Me Me OH 731 二重結合 H Allyl Me Me Me OH 732 二重結合 H Bu H H H OH 733 二重結合 H Bu H H Me OH 734 二重結合 H Bu H Me Me OH 735 二重結合 H Bu Me Me Me OH 736 二重結合 H 2-Butene H H H OH 737 二重結合 H 2-Butene H H Me OH 738 二重結合 H 2-Butene H Me Me OH 739 二重結合 H 2-Butene Me Me Me OH 740 二重結合 H 3-Butene H H H OH 741 二重結合 H 1-Butene H H H OH 742 二重結合 H Prenyl H H H OH 743 二重結合 H Prenyl H H H F 744 二重結合 H Prenyl H H H Cl 745 二重結合 H Prenyl H H H Br 746 二重結合 H Prenyl H H H I 747 二重結合 H Prenyl H H H Me 748 二重結合 H Prenyl H H H Et 749 二重結合 H Prenyl H H H Pr 750 二重結合 H Prenyl H H Me OH 751 二重結合 H Prenyl H Me Me OH 752 二重結合 H Prenyl Me H Me OH 753 二重結合 H Prenyl H H Et OH 754 二重結合 H Prenyl H H Pr OH 755 二重結合 H Prenyl H H Bu OH 756 二重結合 H Prenyl H Me Et OH 757 二重結合 H Prenyl H Me Pr OH 758 二重結合 H Prenyl H Me Bu OH 759 二重結合 H Prenyl H Me tBu OH 760 二重結合 H Prenyl H Et Et OH 761 二重結合 H Prenyl H Et Pr OH 762 二重結合 H Prenyl H Et Bu OH 764 二重結合 H Prenyl H Pr Pr OH 765 二重結合 H Prenyl H Pr Bu OH 766 二重結合 H Prenyl H Pr tBu OH 767 二重結合 H Prenyl H Bu Bu OH 768 二重結合 H Prenyl H Bu tBu OH 769 二重結合 H Prenyl H tBu tBu OH 770 二重結合 H Prenyl Me H Me OH 771 二重結合 H Prenyl Me H Et OH 772 二重結合 H Prenyl Me H Pr OH 773 二重結合 H Prenyl Me H Bu OH 774 二重結合 H Prenyl Me Me Et OH 775 二重結合 H Prenyl Me Me Pr OH 776 二重結合 H Prenyl Me Me Bu OH 777 二重結合 H Prenyl Me Me tBu OH 778 二重結合 H Prenyl Me Et Et OH 779 二重結合 H Prenyl Me Et Pr OH 780 二重結合 H Prenyl Me Et Bu OH 781 二重結合 H Prenyl Me Et tBu OH 782 二重結合 H Prenyl Me Pr Pr OH 783 二重結合 H Prenyl Me Pr Bu OH 784 二重結合 H Prenyl Me Pr tBu OH 785 二重結合 H Prenyl Me Bu Bu OH 786 二重結合 H Prenyl Me Bu tBu OH 787 二重結合 H Prenyl Me tBu tBu OH 788 二重結合 H Prenyl Me tBu tBu OH 789 二重結合 H Pentyl H H H OH 790 二重結合 H Pentyl H H Me OH 791 二重結合 H Pentyl H Me Me OH 792 二重結合 H Pentyl Me Me Me OH 793 二重結合 H 1-Pentenyl H H H OH 794 二重結合 H 1-Pentenyl H H Me OH 795 二重結合 H 1-Pentenyl H Me Me OH 796 二重結合 H 1-Pentenyl Me Me Me OH 797 二重結合 H 2-Pentenyl H H H OH 798 二重結合 H 2-Pentenyl H H Me OH 799 二重結合 H 2-Pentenyl H Me Me OH 800 二重結合 H 2-Pentenyl Me Me Me OH 801 二重結合 H 3-Pentenyl H H H OH 802 二重結合 H 3-Pentenyl H H Me OH 803 二重結合 H 3-Pentenyl H Me Me OH 804 二重結合 H 3-Pentenyl Me Me Me OH 805 二重結合 H 4-Pentenyl H H H OH 806 二重結合 H 4-Pentenyl H H Me OH 807 二重結合 H 4-Pentenyl H Me Me OH 808 二重結合 H 4-Pentenyl Me Me Me OH 809 二重結合 H 3-MeBu H H H OH 810 二重結合 H 3-MeBu H H Me OH 811 二重結合 H 3-MeBu H Me Me OH 812 二重結合 H 3-MeBu Me Me Me OH 813 二重結合 H 2-MeBu H H H OH 814 二重結合 H 2-MeBu H H Me OH 815 二重結合 H 2-MeBu H Me Me OH 816 二重結合 H 2-MeBu Me Me Me OH 817 二重結合 H Benzyl H H H OH 818 二重結合 H Benzyl H H H F 819 二重結合 H Benzyl H H H Cl 820 二重結合 H Benzyl H H H Br 821 二重結合 H Benzyl H H H I 822 二重結合 H Benzyl H H H Me 823 二重結合 H Benzyl H H H Et 824 二重結合 H Benzyl H H H Pr 825 二重結合 H Benzyl H H Me OH 826 二重結合 H Benzyl H Me Me OH 827 二重結合 H Benzyl Me H Me OH 828 二重結合 H Benzyl H H Et OH 829 二重結合 H Benzyl H H Pr OH 830 二重結合 H Benzyl H H Bu OH 831 二重結合 H Benzyl H Me Et OH 832 二重結合 H Benzyl H Me Pr OH 833 二重結合 H Benzyl H Me Bu OH 834 二重結合 H Benzyl H Me tBu OH 835 二重結合 H Benzyl H Et Et OH 836 二重結合 H Benzyl H Et Pr OH 837 二重結合 H Benzyl H Et Bu OH 838 二重結合 H Benzyl H Et tBu OH 839 二重結合 H Benzyl H Pr Pr OH 840 二重結合 H Benzyl H Pr Bu OH 841 二重結合 H Benzyl H Pr tBu OH 842 二重結合 H Benzyl H Bu Bu OH 843 二重結合 H Benzyl H Bu tBu OH 844 二重結合 H Benzyl H tBu tBu OH 845 二重結合 H Benzyl Me H Me OH 846 二重結合 H Benzyl Me H Et OH 847 二重結合 H Benzyl Me H Pr OH 848 二重結合 H Benzyl Me H Bu OH 849 二重結合 H Benzyl Me Me Et OH 851 二重結合 H Benzyl Me Me Bu OH 852 二重結合 H Benzyl Me Me tBu OH 853 二重結合 H Benzyl Me Et Et OH 854 二重結合 H Benzyl Me Et Pr OH 855 二重結合 H Benzyl Me Et Bu OH 856 二重結合 H Benzyl Me Et tBu OH 857 二重結合 H Benzyl Me Pr Pr OH 858 二重結合 H Benzyl Me Pr Bu OH 859 二重結合 H Benzyl Me Pr tBu OH 860 二重結合 H Benzyl Me Bu Bu OH 861 二重結合 H Benzyl Me Bu tBu OH 862 二重結合 H Benzyl Me tBu tBu OH 863 二重結合 H Benzyl Me tBu tBu OH 864 二重結合 H 2-MeBzl H H H OH 865 二重結合 H 2-MeBzl H H Me OH 866 二重結合 H 2-MeBzl H Me Me OH 867 二重結合 H 2-MeBzl Me Me Me OH 868 二重結合 H 3-MeBzl H H H OH 869 二重結合 H 3-MeBzl H H Me OH 870 二重結合 H 3-MeBzl H Me Me OH 871 二重結合 H 3-MeBzl Me Me Me OH 872 二重結合 H 4-MeBzl H H H OH 873 二重結合 H 4-MeBzl H H Me OH 874 二重結合 H 4-MeBzl H Me Me OH 875 二重結合 H 4-MeBzl Me Me Me OH 876 二重結合 H 2-PhEt H H H OH 877 二重結合 H 2-PhEt H H Me OH 878 二重結合 H 2-PhEt H Me Me OH 880 二重結合 H 3-PhPr H H H OH 881 二重結合 H 3-PhPr H H Me OH 882 二重結合 H 3-PhPr H Me Me OH 883 二重結合 H 3-PhPr Me Me Me OH 884 二重結合 H 3-Ph-2-Prp H H H OH 885 二重結合 H 3-Ph-2-Prp H H Me OH 886 二重結合 H 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 887 二重結合 H 3-Ph-2-Prp Me Me Me OH 888 二重結合 H 3-PhBu H H H OH 889 二重結合 H 3-PhBu H H Me OH 890 二重結合 H 3-PhBu H Me Me OH 891 二重結合 H 3-PhBu Me Me Me OH 892 二重結合 H 4-PhBu H H H OH 893 二重結合 H 4-PhBu H H Me OH 894 二重結合 H 4-PhBu H Me Me OH 895 二重結合 H 4-PhBu Me Me Me OH ───────────────────────────────[Table 3] X = O compound ─────────────────────────────── No. ---- R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 ─────────────────────────────── 538 Single bond H Et H H H OH 539 Single Combined H Et H H H F 540 Single bond H Et H H H Cl 541 Single bond H Pr H H H OH 542 Single bond H Pr H H H F 543 Single bond H Pr H H Me OH 544 Single bond H Pr H Me Me OH 545 Single bond H Pr Me Me Me OH 546 Single bond H Allyl H H H OH 547 Single bond H Allyl H H H F 548 Single bond H Allyl H H H Cl 549 Single bond H Allyl H H H Br 550 Single bond H Allyl H H Me OH 551 Single bond H Allyl H Me Me OH 552 Single bond H Allyl Me Me Me OH 553 Single bond H Bu H H H OH 554 Single bond Bonded H Bu H H Me OH 555 Single bond H Bu H Me Me OH 556 Single bond H Bu Me Me Me OH 557 Single bond H 2-Butene H H H OH 558 Single bond H 2-Butene H H Me OH 559 Single bond H 2-Butene H Me Me OH 560 Single bond H 2-Butene Me Me Me OH 561 Single bond H 3-Butene H H H OH 562 Single bond H 1-Butene H H H OH 563 Single bond H Prenyl H H H OH 564 Single bond H Prenyl H H H F 565 Single bond H Prenyl H H H Cl 566 Single bond H Prenyl H H H Br 567 Single bond H Prenyl H H H I 568 Single bond H Prenyl H H H Me 569 Single bond H Prenyl H H H Et 570 Single bond H Prenyl H H H Pr 571 Single bond H Prenyl H H Me OH 572 Single bond H Prenyl H Me Me OH 573 Single bond H Prenyl Me H Me OH 574 Single bond H Prenyl H H Et OH 575 Single bond H Preny l H H Pr OH 576 single bond H Prenyl H H Bu OH 577 single bond H Prenyl H Me Et OH 578 single bond H Prenyl H Me Pr OH 579 single bond H Prenyl H Me Bu OH 580 single bond H Prenyl H MetBu OH 581 single bond H Prenyl H Et Et OH 582 single bond H Prenyl H Et Pr OH 583 single bond H Prenyl H Et Bu OH 584 single bond H Prenyl H Et tBu OH 585 single bond H Prenyl H Pr Pr OH 586 single bond H Prenyl HPrBu OH 587 Single bond H Prenyl H Prt Bu OH 588 Single bond H Prenyl H But Bu OH 589 Single bond H Prenyl H But Bu OH 590 Single bond H Prenyl H tBu tBu OH 591 Single bond H Prenyl Me H Me 592 Single bond H Prenyl Me H Et OH 593 Single bond H Prenyl Me H Pr OH 594 Single bond H Prenyl Me H Bu OH 595 Single bond H Prenyl Me Me Et OH 596 single bond H Prenyl Me Me Pr OH 597 single bond H Prenyl Me Me Bu OH 598 single bond H Prenyl Me MetBu OH 599 single bond H Prenyl Me Et Et OH 600M single bond H Prenyl OH 601 Single bond H Prenyl Me Et Bu OH 602 Single bond H Prenyl Me Et tBu OH 603 Single bond H Prenyl Me Pr Pr OH 604 Single bond H Prenyl Me Pr Pr OH 605 Single bond H Prenyl Me H Pr 606 Prenyl Me Bu But OH 607 single bond H Prenyl Me But But OH 608 single bond H Prenyl Me t But But Bu OH 609 single bond H Prenyl Me t But t Bu OH 610 single bond H Pentyl H H H OH 611 H single bond H Pentyl H 612 Single bond H Pentyl H Me Me OH 613 Single bond H Pentyl Me Me Me O 614 single bond H 1-Pentenyl H H H OH 615 single bond H 1-Pentenyl H H Me OH 616 single bond H 1-Pentenyl H Me Me OH 617 single bond H 1-Pentenyl Me Me Me OH 618 single bond H 2- Pentenyl H H H OH 619 Single bond H 2-Pentenyl H H Me OH 620 Single bond H 2-Pentenyl H Me Me OH 621 Single bond H 2-Pentenyl Me Me Me OH 622 Single bond H 3-Pentenyl H H H OH 623 Single bond H 3-Pentenyl H H MeOH 624 Single bond H 3-Pentenyl H Me Me OH 625 Single bond H 3-Pentenyl Me Me Me OH 626 Single bond H 4-Pentenyl H H H OH 627 Single bond H 4-Pentenyl H H MeOH 628 Single bond H 4-Pentenyl H Me Me OH 629 Single bond H 4-Pentenyl Me Me Me OH 630 Single bond H 3-MeBu H H H OH 631 Single bond H 3-MeBu H H Me OH 632 Single Bonded H 3-MeBu H Me Me OH 633 Single bond H 3-MeBu Me Me Me OH 634 Single bond H 2-MeBu H H H OH 635 Single bond H 2-MeBu H H Me OH 636 Single bond H 2-MeBu H Me Me OH 637 Single bond H 2-MeBu Me Me Me OH 638 Single bond H Benzyl H H H OH 639 Single bond H Benzyl H H HF F 640 Single bond H Benzyl H H H Cl 641 Single bond H Benzyl H H H Br 642 Single bond H Benzyl H H H I 643 Single bond H Benzyl H H H Me 644 single bond H Benzyl H H H Et 645 single bond H Benzyl H H H Pr 646 single bond H Benzyl H H Me OH 647 single bond H Benzyl H Me Me OH 648 single bond H Benzyl Me H MeOH 649 Single bond H Benzyl H H Et OH 650 Single bond H Benzyl H H Pr OH 651 Single bond H Benzyl H H Bu OH 652 Single bond H Benzyl H Me Et OH 653 Single bond H Benzyl H Me Pr OH 654 Single bond H Benzyl H Me Bu OH 655 Single bond H Benzyl H MetBu OH 656 Single bond H Benzyl H Et Et OH 657 Single bond H Benzyl H Et Pr OH 658 Single bond H Benzyl H Et Bu OH 659 Single bond H Benzyl H Et 660 Bu OH bond H Benzyl H Pr Pr OH 661 Single bond H Benzyl H Pr Bu OH 662 Single bond H Benzyl H Pr tBu OH 663 Single bond H Benzyl H Bu Bu OH 664 Single bond H Benzyl H But Bu OH 665 B u B H Benzyl OH 666 Single bond H Benzyl Me H Me OH 667 Single bond H Benzyl Me H Et OH 668 Single bond H Benzyl Me H Pr OH 669 Single bond H Benzyl Me H Bu OH 670 Single bond H Benzyl Me Me Me Et HOH 671 Benzyl Me Me Pr OH 672 Single bond H Benzyl Me Me Bu OH 673 Single bond H Benzyl Me MetBu OH 674 Single bond H Benzyl Me Et Et OH 675 Single bond H Benzyl Me Et Pr OH 676 Single bond H Benzyl Me Et Et Bu OH 677 Single bond H Benzyl Me Et Et Bu OH 678 Single bond H Benzyl Me Hyl Pr Pr 679 Pr Bu OH 680 single bond H Benzyl Me Pr tBu OH 681 single bond H Benzyl Me Bu Bu OH 682 single bond H Benzyl Me But But OH 683 single bond H Benzyl Me tBu tBu But HOH Benzyl 684 Bond H 2-MeBzl H H H OH 686 Single bond H 2-MeBzl H H Me OH 687 Single bond H 2-MeBzl H Me Me OH 688 Single bond H 2-MeBzl Me Me Me OH 689 Single bond H 3-MeBzl H H H OH 690 Single bond H 3-MeBzl H H Me OH 691 Single bond H 3-MeBzl H Me Me OH 692 Single bond H 3-MeBzl Me Me Me OH 693 Single bond H 4-MeBzl H H H OH 694 Single bond H 4-MeBzl H H Me OH 695 Single bond H 4-MeBzl H Me Me OH 696 Single bond H 4-MeBzl Me Me Me OH 697 Single bond H 2-PhEt H H H OH 698 Single bond H 2-PhEt H H Me OH 699 Single bond H 2-PhEt H Me Me OH 700 Single bond H 2-PhEt Me Me Me Me OH 701 Single bond H 3-PhPr H H H OH 702 Single Bonded H 3-PhPr H H MeOH 703 Single bond H 3-PhPr H Me Me OH 704 Single bond H 3-PhPr Me Me Me OH 706 Single bond H 3-Ph-2-Prp H H Me OH 707 Single bond H 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 708 single bond H 3-Ph-2-Prp Me Me Me OH 709 single bond H 3-PhBu H H H OH 710 single bond H 3-PhBu H H Me OH 711 single bond Bonded H 3-PhBu H Me MeOH 712 Single bond H 3-PhBu Me Me Me OH 713 Single bond H 4-PhBu H H H OH 714 Single bond H 4-PhBu H H MeOH 715 single bond H 4-PhBu H Me Me OH 716 single bond H 4-PhBu Me Me Me OH 717 double bond H Et H H H OH 718 double bond H Et H H H F 719 Double bond H Et H H H Cl 720 Double bond H Pr H H H OH 721 Double bond H Pr H H H F 722 Double bond H Pr H H Me OH 723 Double bond H Pr H Me Me OH 724 Double bond H Pr Me Me Me OH 725 Double bond H Allyl H H H OH 726 Double bond H Allyl H H H F 727 Double bond H Allyl H H H Cl 728 Double bond H Allyl H H H Br 729 Double bond H Allyl H H Me OH 730 Double bond H Allyl H Me Me OH 731 Double bond H Allyl Me Me Me OH 732 Double bond H Bu H H H OH 733 Double bond H Bu H H Me OH 734 Double bond H Bu H Me Me OH 735 Double bond H Bu Me Me Me OH 736 Double bond H 2-Butene H H H OH 737 Double bond H 2-Butene H H Me OH 738 Double bond H 2-Butene H Me Me OH 739 Double Bond H 2-Butene Me Me Me OH 740 Double bond H 3-Butene H H H OH 741 Double bond H 1-Butene H H H OH 742 Double bond H Prenyl H H H OH 743 Double bond H Prenyl H H HF 744 Double bond H Prenyl H H H Cl 745 Double bond H Prenyl H H H Br 746 Double bond H Prenyl H H HI 747 Double bond H Prenyl H H H Me 748 Double bond H Prenyl H H H Et 749 double bond H Prenyl H H H Pr 750 double bond H Prenyl H H Me OH 751 double bond H Prenyl H Me Me OH 752 double bond H Prenyl Me H Me OH 753 double bond H Prenyl H H Et OH 754 Double bond H Prenyl H H Pr O 755 Double bond H Prenyl H H Bu OH 756 Double bond H Prenyl H Me Et OH 757 Double bond H Prenyl H Me Pr OH 758 Double bond H Prenyl H Me Bu OH 759 Double bond H Prenyl H MetBu OH 760 Double bond H Prenyl H Et Et OH 761 Double bond H Prenyl H Et Pr OH 762 Double bond H Prenyl H Et Bu OH 764 Double bond H Prenyl H Pr Pr OH 765 Double bond H Prenyl H Pr Bu OH 766 Double bond H Prenyl H Pr tBu OH 767 Double bond H Prenyl H But Bu OH 768 Double bond H Prenyl H But Bu OH 769 Double bond H Prenyl H tBu tBu OH 770 Double bond H Prenyl Me H Me OH 771 double bond H Prenyl Me H Et OH 772 double bond H Prenyl Me H Pr OH 773 double bond H Prenyl Me H Bu OH 774 double bond H Prenyl M Me Et OH 775 Double bond H Prenyl Me Me Pr OH 776 Double bond H Prenyl Me Me Bu OH 777 Double bond H Prenyl Me MetBu OH 778 Double bond H Prenyl Me Et Et OH 779 Double bond H Prenyl Me Et Pr OH 780 Double bond H Prenyl Me Et Bu OH 781 Double bond H Prenyl Me Et tBu OH 782 Double bond H Prenyl Me Pr Pr OH 783 Double bond H Prenyl Me Pr Pr Bu OH 784 Double bond H Prenyl Me PrtBu OH 785 Double bond H Prenyl Me Bu Bu OH 786 Double bond H Prenyl Me But But OH 787 Double bond H Prenyl Me ButBu OH 788 Double bond H Prenyl Me tBu Bu 789 H Double Pen Htylyl H H OH 790 Double bond H Pentyl H H Me OH 791 Double bond H Pentyl H Me Me OH 792 Double bond Pentyl Me Me Me OH 793 Double bond H 1-Pentenyl H H H OH 794 Double bond H 1-Pentenyl H H Me OH 795 Double bond H 1-Pentenyl H Me Me OH 796 Double bond H 1-Pentenyl Me Me Me OH 797 Double bond H 2-Pentenyl H H H OH 798 Double bond H 2-Pentenyl H H Me OH 799 Double bond H 2-Pentenyl H Me Me OH 800 Double bond H 2-Pentenyl Me Me Me OH 801 Double bond H 3-Pentenyl H H H OH 802 Double bond H 3-Pentenyl H H Me OH 803 Double bond H 3-Pentenyl H Me Me OH 804 Double bond H 3-Pentenyl Me Me Me OH 805 Double bond H 4-Pentenyl H H H OH 806 Double bond H 4-Pentenyl H H Me OH 807 Double bond H 4-Pentenyl H Me Me OH 808 Double bond H 4-Pentenyl Me Me Me OH 809 Double Bonded H 3-MeBu H H H OH 810 Double bond H 3-MeBu H H MeOH 811 double bond H 3-MeBu H Me Me OH 812 double bond H 3-MeBu Me Me Me OH 813 double bond H 2-MeBu H H H OH 814 double bond H 2-MeBu H H Me OH 815 double bond H 2-MeBu H Me Me OH 816 double bond H 2-MeBu Me Me Me OH 817 double bond H Benzyl H H H OH 818 double bond H Benzyl H H H F 819 double bond H Benzyl H H H Cl 820 Double bond H Benzyl H H H Br 821 Double bond H Benzyl H H H I 822 Double bond H Benzyl H H H Me 823 Double bond H Benzyl H H H Et 824 Double bond H Benzyl H H H Pr 825 double bond H Benzyl H H Me OH 826 double bond H Benzyl H Me Me OH 827 double bond H Benzyl Me H Me OH 828 double bond H Benzyl H H Et OH 829 double bond H Benzyl H H Pr OH 830 Double bond H Benzyl H H Bu OH 831 double bond H Benzyl H Me Et OH 832 double bond H Benzyl H Me Pr OH 833 double bond H Benzyl H Me Bu OH 834 double bond H Benzyl H MetBu OH 835 double bond H Benzyl H Et Et OH 836 double bond H Benzyl H Et Pr OH 837 double bond H Benzyl H Et Bu OH 838 double bond H Benzyl H Et tBu OH 839 double bond H Benzyl H Pr Pr OH 840 double bond H Benzyl H Pr Bu OH 841 Double bond H Benzyl H Pr tBu OH 842 Double bond H Benzyl H But Bu OH 843 Double bond H Benzyl H But But OH 844 Double bond H Benzyl H tBu tBu OH 845 Double bond H Benzyl Me H Me OH 846 Double bond H Benzyl Me H Et OH 847 Double bond H Benzyl Me H Pr OH 848 Double bond H Benzyl Me H Bu OH 849 Double bond H Benzyl Me Me Et OH 851 double bond H Benzyl Me Me Bu OH 852 double bond H Benzyl Me MetBu OH 853 double bond H Benzyl Me Et Et OH 854 double bond H Benzyl Me Et Et OH double bond H Benzyl Me Et Bu OH 856 Double bond H Benzyl Me Et tBu OH 857 Double bond H Benzyl Me Pr Pr OH 858 Double bond H Benzyl Me Pr Pr OH 859 Double bond H Benzyl Me Pr Pr OH Bu bond H Benzyl Me Bu But OH 861 Double bond H Benzyl Me But But OH 862 Double bond H Benzyl Me But But t Bu OH 863 Double bond H Benzyl Met But t Bu OH 864 Double bond H 2-MeBzl H 2 H H OH Heavy bond H 2-MeBzl H H MeOH 866 Double bond H 2-MeBzl H Me Me OH 867 Double bond H 2-MeBzl Me Me Me O H 868 double bond H 3-MeBzl H H H OH 869 double bond H 3-MeBzl H H MeOH 870 double bond H 3-MeBzl H Me MeOH 871 double bond H 3-MeBzl Me Me Me OH 872 Double bond H 4-MeBzl H H H OH 873 Double bond H 4-MeBzl H H Me OH 874 Double bond H 4-MeBzl H Me Me OH 875 Double bond H 4-MeBzl Me Me Me OH 876 Double Bond H 2-PhEt H H H OH 877 Double bond H 2-PhEt H H MeOH 878 Double bond H 2-PhEt H Me Me OH 880 Double bond H 3-PhPr H H H OH 881 Double bond H 3-PhPr H H Me OH 882 double bond H 3-PhPr H Me Me OH 883 double bond H 3-PhPr Me Me Me OH 884 double bond H 3-Ph-2-Prp H H H OH 885 double bond Bonded H 3-Ph-2-Prp H H MeOH 886 Double bond H 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 887 Double bond H 3-Ph-2-Prp Me Me Me O 888 Double bond H 3-PhBu H H H OH 889 Double bond H 3-PhBu H H MeOH 890 Double bond H 3-PhBu H Me Me OH 891 Double bond H 3-PhBu Me Me Me OH 892 Two Heavy bond H 4-PhBu H H H OH 893 Double bond H 4-PhBu H H Me OH 894 Double bond H 4-PhBu H Me Me OH 895 Double bond H 4-PhBu Me Me OH ──── ────────────────────────────

【0029】[0029]

【化6】 [Chemical 6]

【0030】[0030]

【表4】 X=CH2 の化合物 ─────────────────────────────── No. ---- R1 2 3 4 5 6 ─────────────────────────────── 896 単結合 H Et H H H OH 897 単結合 H Et H H H F 898 単結合 H Et H H H Cl 899 単結合 H Pr H H H OH 900 単結合 H Pr H H H F 901 単結合 H Pr H H Me OH 902 単結合 H Pr H Me Me OH 903 単結合 H Pr Me Me Me OH 904 単結合 H Allyl H H H OH 905 単結合 H Allyl H H H F 906 単結合 H Allyl H H H Cl 907 単結合 H Allyl H H H Br 908 単結合 H Allyl H H Me OH 909 単結合 H Allyl H Me Me OH 910 単結合 H Allyl Me Me Me OH 911 単結合 H Bu H H H OH 912 単結合 H Bu H H Me OH 913 単結合 H Bu H Me Me OH 914 単結合 H Bu Me Me Me OH 915 単結合 H 2-Butene H H H OH 916 単結合 H 2-Butene H H Me OH 917 単結合 H 2-Butene H Me Me OH 918 単結合 H 2-Butene Me Me Me OH 919 単結合 H 3-Butene H H H OH 920 単結合 H 1-Butene H H H OH 921 単結合 H Prenyl H H H OH 922 単結合 H Prenyl H H H F 923 単結合 H Prenyl H H H Cl 924 単結合 H Prenyl H H H Br 925 単結合 H Prenyl H H H I 926 単結合 H Prenyl H H H Me 927 単結合 H Prenyl H H H Et 928 単結合 H Prenyl H H H Pr 929 単結合 H Prenyl H H Me OH 930 単結合 H Prenyl H Me Me OH 931 単結合 H Prenyl Me H Me OH 932 単結合 H Prenyl H H Et OH 933 単結合 H Prenyl H H Pr OH 934 単結合 H Prenyl H H Bu OH 935 単結合 H Prenyl H Me Et OH 936 単結合 H Prenyl H Me Pr OH 937 単結合 H Prenyl H Me Bu OH 938 単結合 H Prenyl H Me tBu OH 939 単結合 H Prenyl H Et Et OH 940 単結合 H Prenyl H Et Pr OH 941 単結合 H Prenyl H Et Bu OH 942 単結合 H Prenyl H Et tBu OH 943 単結合 H Prenyl H Pr Pr OH 944 単結合 H Prenyl H Pr Bu OH 945 単結合 H Prenyl H Pr tBu OH 946 単結合 H Prenyl H Bu Bu OH 947 単結合 H Prenyl H Bu tBu OH 948 単結合 H Prenyl H tBu tBu OH 949 単結合 H Prenyl Me H Me OH 950 単結合 H Prenyl Me H Et OH 952 単結合 H Prenyl Me H Bu OH 953 単結合 H Prenyl Me Me Et OH 954 単結合 H Prenyl Me Me Pr OH 955 単結合 H Prenyl Me Me Bu OH 956 単結合 H Prenyl Me Me tBu OH 957 単結合 H Prenyl Me Et Et OH 958 単結合 H Prenyl Me Et Pr OH 959 単結合 H Prenyl Me Et Bu OH 960 単結合 H Prenyl Me Et tBu OH 961 単結合 H Prenyl Me Pr Pr OH 962 単結合 H Prenyl Me Pr Bu OH 963 単結合 H Prenyl Me Pr tBu OH 964 単結合 H Prenyl Me Bu Bu OH 965 単結合 H Prenyl Me Bu tBu OH 966 単結合 H Prenyl Me tBu tBu OH 967 単結合 H Prenyl Me tBu tBu OH 968 単結合 H Pentyl H H H OH 969 単結合 H Pentyl H H Me OH 970 単結合 H Pentyl H Me Me OH 971 単結合 H Pentyl Me Me Me OH 972 単結合 H 1-Pentenyl H H H OH 973 単結合 H 1-Pentenyl H H Me OH 974 単結合 H 1-Pentenyl H Me Me OH 975 単結合 H 1-Pentenyl Me Me Me OH 976 単結合 H 2-Pentenyl H H H OH 977 単結合 H 2-Pentenyl H H Me OH 978 単結合 H 2-Pentenyl H Me Me OH 979 単結合 H 2-Pentenyl Me Me Me OH 981 単結合 H 3-Pentenyl H H Me OH 982 単結合 H 3-Pentenyl H Me Me OH 983 単結合 H 3-Pentenyl Me Me Me OH 984 単結合 H 4-Pentenyl H H H OH 985 単結合 H 4-Pentenyl H H Me OH 986 単結合 H 4-Pentenyl H Me Me OH 987 単結合 H 4-Pentenyl Me Me Me OH 988 単結合 H 3-MeBu H H H OH 989 単結合 H 3-MeBu H H Me OH 990 単結合 H 3-MeBu H Me Me OH 991 単結合 H 3-MeBu Me Me Me OH 992 単結合 H 2-MeBu H H H OH 993 単結合 H 2-MeBu H H Me OH 994 単結合 H 2-MeBu H Me Me OH 995 単結合 H 2-MeBu Me Me Me OH 996 単結合 H Benzyl H H H OH 997 単結合 H Benzyl H H H F 998 単結合 H Benzyl H H H Cl 999 単結合 H Benzyl H H H Br 1000 単結合 H Benzyl H H H I 1001 単結合 H Benzyl H H H Me 1002 単結合 H Benzyl H H H Et 1003 単結合 H Benzyl H H H Pr 1004 単結合 H Benzyl H H Me OH 1005 単結合 H Benzyl H Me Me OH 1006 単結合 H Benzyl Me H Me OH 1007 単結合 H Benzyl H H Et OH 1008 単結合 H Benzyl H H Pr OH 1009 単結合 H Benzyl H H Bu OH 1010 単結合 H Benzyl H Me Et OH 1011 単結合 H Benzyl H Me Pr OH 1012 単結合 H Benzyl H Me Bu OH 1013 単結合 H Benzyl H Me tBu OH 1014 単結合 H Benzyl H Et Et OH 1015 単結合 H Benzyl H Et Pr OH 1016 単結合 H Benzyl H Et Bu OH 1017 単結合 H Benzyl H Et tBu OH 1018 単結合 H Benzyl H Pr Pr OH 1019 単結合 H Benzyl H Pr Bu OH 1020 単結合 H Benzyl H Pr tBu OH 1021 単結合 H Benzyl H Bu Bu OH 1022 単結合 H Benzyl H Bu tBu OH 1023 単結合 H Benzyl H tBu tBu OH 1024 単結合 H Benzyl Me H Me OH 1025 単結合 H Benzyl Me H Et OH 1026 単結合 H Benzyl Me H Pr OH 1027 単結合 H Benzyl Me H Bu OH 1028 単結合 H Benzyl Me Me Et OH 1029 単結合 H Benzyl Me Me Pr OH 1030 単結合 H Benzyl Me Me Bu OH 1031 単結合 H Benzyl Me Me tBu OH 1032 単結合 H Benzyl Me Et Et OH 1033 単結合 H Benzyl Me Et Pr OH 1034 単結合 H Benzyl Me Et Bu OH 1035 単結合 H Benzyl Me Et tBu OH 1036 単結合 H Benzyl Me Pr Pr OH 1037 単結合 H Benzyl Me Pr Bu OH 1038 単結合 H Benzyl Me Pr tBu OH 1039 単結合 H Benzyl Me Bu Bu OH 1040 単結合 H Benzyl Me Bu tBu OH 1041 単結合 H Benzyl Me tBu tBu OH 1042 単結合 H Benzyl Me tBu tBu OH 1043 単結合 H 2-MeBzl H H H OH 1044 単結合 H 2-MeBzl H H Me OH 1045 単結合 H 2-MeBzl H Me Me OH 1046 単結合 H 2-MeBzl Me Me Me OH 1047 単結合 H 3-MeBzl H H H OH 1048 単結合 H 3-MeBzl H H Me OH 1049 単結合 H 3-MeBzl H Me Me OH 1050 単結合 H 3-MeBzl Me Me Me OH 1051 単結合 H 4-MeBzl H H H OH 1052 単結合 H 4-MeBzl H H Me OH 1053 単結合 H 4-MeBzl H Me Me OH 1054 単結合 H 4-MeBzl Me Me Me OH 1055 単結合 H 2-PhEt H H H OH 1056 単結合 H 2-PhEt H H Me OH 1057 単結合 H 2-PhEt H Me Me OH 1058 単結合 H 2-PhEt Me Me Me OH 1059 単結合 H 3-PhPr H H H OH 1060 単結合 H 3-PhPr H H Me OH 1061 単結合 H 3-PhPr H Me Me OH 1062 単結合 H 3-PhPr Me Me Me OH 1063 単結合 H 3-Ph-2-Prp H H H OH 1064 単結合 H 3-Ph-2-Prp H H Me OH 1065 単結合 H 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 1066 単結合 H 3-Ph-2-Prp Me Me Me OH 1068 単結合 H 3-PhBu H H Me OH 1069 単結合 H 3-PhBu H Me Me OH 1070 単結合 H 3-PhBu Me Me Me OH 1071 単結合 H 4-PhBu H H H OH 1072 単結合 H 4-PhBu H H Me OH 1073 単結合 H 4-PhBu H Me Me OH 1074 単結合 H 4-PhBu Me Me Me OH ─────────────────────────────── 本発明に好適な具体的化合物は、上記表中の No.1、
4、6、9、13、14、15、16、17、20、2
1、24、25、26、27、28、29、31、3
2、34、35、36、37、38、39、40、4
4、53、54、55、56、73、74、77、8
1、82、85、86、89、90、93、94、9
7、101、109、111、112、129、14
8、149、152、153、156、157、16
0、161、164、165、168、172、17
3、176、180、181、185、188、19
2、195、196、199、200、203、20
4、205、206、207、210、213、21
6、232、233、234、252、253、25
6、257、260、264、265、268、26
9、272、273、276、277、280、28
8、289、307、327、328、331、33
2、335、336、339、340、343、34
7、351、355、359、364、365、36
7、371、374、375、378、382、38
3、384、392、393、402、411、41
2、431、432、435、436、439、44
0、443、444、447、448、451、45
2、455、456、459、467、468、48
7、488、506、507、510、511、51
4、515、518、519、522、523、52
6、527、530、531、534、535、53
8、541、543、546、550、553、55
7、563、571、591、592、610、61
4、615、618、619、622、623、62
6、627、630、634、638、646、68
5、689、690、693、697、701、70
5、709、713、717、725、732、73
6、740、741、742、750、751、78
9、793、797、801、805、809、81
0、813、817、825、864、868、87
2、876、896、899、904、908、91
1、915、919、920、921、929、96
8、972、976、980、984、988、99
2、996、1004、1043、1047、105
1、及び1055の化合物である。
[Table 4] X = CH 2 compounds ─────────────────────────────── No. ---- R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 ─────────────────────────────── 896 Single bond H Et H H H OH 897 Single bond H Et H H H F 898 Single bond H Et H H H Cl 899 Single bond H Pr H H H OH 900 Single bond H Pr H H H F 901 Single bond H Pr H H Me OH 902 Single bond H Pr H Me Me OH 903 Single bond H Pr Pr Me Me Me OH 904 Single bond H Allyl H H H OH 905 Single bond H Allyl H H H F 906 Single bond H Allyl H H H Cl 907 Single bond H Allyl H H H Br 908 Single bond Combined H Allyl H H Me OH 909 Single bond H Allyl H Me Me OH 910 Single bond H Allyl Me Me Me OH 911 Single bond H Bu H H H OH 912 Single bond H Bu H H Me OH 913 Single bond H Bu H Me Me OH 914 Single bond H Bu Me Me Me OH 915 Single bond H 2-Butene H H H OH 916 Single bond H 2-Butene H H Me OH 917 Single Bond H 2-Butene H Me Me OH 918 Single bond H 2-Butene Me Me Me OH 919 Single bond H 3-Butene H H H OH 920 Single bond H 1-Butene H H H OH 921 Single bond H Prenyl H H H OH 922 Single bond H Prenyl H H H F 923 Single bond H Prenyl H H H Cl 924 Single bond H Prenyl H H H Br 925 Single bond H Prenyl H H H I 926 Single bond H Prenyl H H H Me 927 Single bond H Prenyl H H H Et 928 single bond H Prenyl H H H Pr 929 single bond H Prenyl H H Me OH 930 single bond H Prenyl H Me Me OH 931 single bond H Prenyl Me H Me OH 932 single bond H Prenyl H H Et OH 933 Single bond HP renyl H H Pr OH 934 single bond H Prenyl H H Bu OH 935 single bond H Prenyl H Me Et OH 936 single bond H Prenyl H Me Pr OH 937 single bond H Prenyl H Me Bu OH 938 single bond H Prenyl H MetBu OH 939 Single bond H Prenyl H Et Et OH 940 Single bond H Prenyl H Et Pr OH 941 Single bond H Prenyl H Et Bu OH 942 Single bond H Prenyl H Et tBu OH 943 Single bond H Prenyl H Pr Pr OH 944 Single bond H Prenyl HPrBu OH 945 Single bond H Prenyl H PrtBu OH 946 Single bond H Prenyl H Butu OH 947 Single bond H Prenyl H ButtBu OH 948 Single bond H Prenyl H tBu tBu OH 949 Single bond H Prenyl Me H 950 Me Single bond H Prenyl Me H Et OH 952 Single bond H Prenyl Me H Bu OH 953 Single bond H Prenyl Me Me Et OH 954 Single bond H Prenyl Me Me Pr OH 955 Single bond H Prenyl Me Me Bu OH 956 Single bond H Prenyl Me MetBu OH 957 Single bond H Prenyl Me Et Et OH 958 Single bond H Prenyl Me Et Pr Pr OH 959 Et Bu OH 960 single bond H Prenyl Me Et PrBu OH 961 single bond H Prenyl Me Pr Pr OH 962 single bond H Prenyl Me Pr Pr OH 963 single bond H Prenyl Me Pr Pr Bu OH 964 single OH B Prenyl Me Bonded H Prenyl Me ButBu OH 966 Single bond H Prenyl MetBu tBu OH 967 Single bond H Prenyl MetBu tBu OH 968 Single bond H Pentyl H H H OH 969 Single bond H Pentyl H H Me Me OH 970 M Single bond H Pentyl H MeOH 971 Single bond H Pentyl Me Me Me OH 972 Single bond H 1-Pentenyl H H H O H 973 Single bond H 1-Pentenyl H H MeOH 974 Single bond H 1-Pentenyl H Me Me OH 975 Single bond H 1-Pentenyl Me Me Me OH 976 Single bond H 2-Pentenyl H H H OH 977 Single bond H 2 -Pentenyl H H Me OH 978 single bond H 2-Pentenyl H Me Me OH 979 single bond H 2-Pentenyl Me Me Me OH 981 single bond H 3-Pentenyl H H Me OH 982 single bond H 3-Pentenyl H Me Me OH 983 Single bond H 3-Pentenyl Me Me Me OH 984 Single bond H 4-Pentenyl H H H OH 985 Single bond H 4-Pentenyl H H Me OH 986 Single bond H 4-Pentenyl H Me Me OH 987 Single bond H 4- Pentenyl Me Me Me OH 988 Single bond H 3-MeBu H H H OH 989 Single bond H 3-MeBu H H Me OH 990 Single bond H 3-MeBu H Me Me OH 991 Single bond H 3-MeBu Me Me OH 992 Single bond H 2-MeBu H H H OH 993 Single bond H 2-MeBu H H MeOH 994 single bond H 2-MeBu H Me Me OH 995 single bond H 2-MeBu Me Me Me OH 996 single bond H Benzyl H H H OH 997 single bond H Benzyl H H H F 998 single bond Single bond H Benzyl H H H Cl 999 Single bond H Benzyl H H H Br 1000 Single bond H Benzyl H H H I 1001 Single bond H Benzyl H H H Me 1002 Single bond H Benzyl H H H Et 1003 Single bond H Benzyl H H H Pr 1004 single bond H Benzyl H H Me OH 1005 single bond H Benzyl H Me Me OH 1006 single bond H Benzyl Me H Me OH 1007 single bond H Benzyl H H Et OH 1008 single bond H Benzyl H H Pr OH 1009 single bond H Benzyl H H Bu OH 1010 Single bond H Benzyl H Me Et OH 1011 Single bond H Benzyl H Me Pr OH 1012 Single bond H Benzyl H Me Bu OH 1013 Single bond H Benzyl H MetBu OH 1014 Single bond H Benzyl H Et Et OH 1015 Single bond H Benzyl H Et Pr OH 1016 Single bond H Benzyl H Et Bu OH 1017 Single bond H Benzyl H Et tBu OH 1018 Single bond H Benzyl H Pr Pr Pr OH 1019 Single bond H Benzyl H OH 1020 single bond H Benzyl H Pr tBu OH 1021 single bond H Benzyl H But Bu OH 1022 single bond H Benzyl H But But OH 1023 single bond H Benzyl H tButBu OH 1024 single bond H Benzyl Me H 25 Me OH bond Benzyl Me H Et OH 1026 single bond H Benzyl Me H Pr OH 1027 single bond H Benzyl Me H Bu OH 1028 single bond H Benzyl Me Me Et OH 1029 single bond H Benzyl Me Me Pr OH 1030 M single bond H Benzyl 1031 Single bond H Benzyl Me MetBu OH 1032 Single bond H Benzyl Me Et Et OH 1033 Single bond Combined H Benzyl Me Et Pr OH 1034 single bond H Benzyl Me Et Et OH 1035 single bond H Benzyl Me Et Et Bu OH 1036 single bond H Benzyl Me Pr Pr OH 1037 single bond H Benzyl Me Pr Pr OH 1036 single bond H Benzyl Me Pr Pr OH 1036 single bond tBu OH 1039 single bond H Benzyl Me Bu Bu OH 1040 single bond H Benzyl Me But Bu OH 1041 single bond H Benzyl Me tBu bu 1042 single bond H Benzyl Me OH tBenz Bu H OH 1043 10H single bond Single bond H 2-MeBzl H H MeOH 1045 Single bond H 2-MeBzl H Me Me OH 1046 Single bond H 2-MeBzl Me Me Me OH 1047 Single bond H 3-MeBzl H H H OH 1048 Single bond H 3-MeBzl H H MeOH 1049 Single bond H 3-MeBzl H Me Me OH 1050 Single bond H 3-MeBzl Me Me Me OH 1051 Single bond H 4-MeBzl H H H OH 1052 single bond H 4-MeBzl H H MeOH 1053 single bond H 4-MeBzl H Me Me OH 1054 single bond H 4-MeBzl Me Me Me OH 1055 single bond H 2-PhEt H H H OH 1056 single bond H 2- PhEt H H MeOH 1057 single bond H 2-PhEt H Me Me OH 1058 single bond H 2-PhEt Me Me Me OH 1059 single bond H 3-PhPr H H H OH 1060 single bond H 3-PhPr H H Me OH 1061 Single bond H 3-PhPr H Me Me OH 1062 Single bond H 3-PhPr Me Me Me OH 1063 Single bond H 3-Ph-2-Prp H H H OH 1064 Single bond H 3-Ph-2-Prp H H Me OH 1065 Single bond H 3-Ph-2-Prp H Me Me OH 1066 Single bond H 3-Ph-2-Prp Me Me OH 1068 Single bond H 3-PhBu H H Me OH 1069 Single bond H 3-PhBu H Me Me OH 1070 Single bond H 3-PhBu Me Me Me OH 1071 Single bond H 4-PhBu H H H OH 1072 Single bond H 4-PhBu H H e OH 1073 Single bond H 4-PhBu H Me Me OH 1074 Single bond H 4-PhBu Me Me Me OH ──────────────────────────── ───── Specific compounds suitable for the present invention are No. 1 in the above table,
4, 6, 9, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 2
1, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 31, 3
2, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 4
4, 53, 54, 55, 56, 73, 74, 77, 8
1, 82, 85, 86, 89, 90, 93, 94, 9
7, 101, 109, 111, 112, 129, 14
8, 149, 152, 153, 156, 157, 16
0, 161, 164, 165, 168, 172, 17
3, 176, 180, 181, 185, 188, 19
2, 195, 196, 199, 200, 203, 20
4, 205, 206, 207, 210, 213, 21
6, 232, 233, 234, 252, 253, 25
6, 257, 260, 264, 265, 268, 26
9, 272, 273, 276, 277, 280, 28
8, 289, 307, 327, 328, 331, 33
2, 335, 336, 339, 340, 343, 34
7, 351, 355, 359, 364, 365, 36
7, 371, 374, 375, 378, 382, 38
3, 384, 392, 393, 402, 411, 41
2, 431, 432, 435, 436, 439, 44
0, 443, 444, 447, 448, 451, 45
2, 455, 456, 459, 467, 468, 48
7, 488, 506, 507, 510, 511, 51
4, 515, 518, 519, 522, 523, 52
6,527,530,531,534,535,53
8, 541, 543, 546, 550, 553, 55
7, 563, 571, 591, 592, 610, 61
4, 615, 618, 619, 622, 623, 62
6, 627, 630, 634, 638, 646, 68
5,689,690,693,697,701,70
5, 709, 713, 717, 725, 732, 73
6, 740, 741, 742, 750, 751, 78
9, 793, 797, 801, 805, 809, 81
0, 813, 817, 825, 864, 868, 87
2, 876, 896, 899, 904, 908, 91
1, 915, 919, 920, 921, 929, 96
8, 972, 976, 980, 984, 988, 99
2,996,1004,1043,1047,105
1 and 1055.

【0031】本発明のさらに好適な化合物は、上記表中
の No.9、26、34、35、36、53、73、8
1、93、94、101、109、111、112、1
29、148、149、152、153、156、15
7、160、161、188、195、199、20
0、205、213、232、233、252、26
0、272、273、280、288、327、33
1、335、339、367、374、378、38
4、392、412、431、435、439、45
1、459、467、506、510、514、51
8、546、557、563、571、618、62
2、630、634、638、646、685、68
9、693、742、750、789、797、81
3、817、825、868、872、915、92
1、929、976、992、996、1043、10
47、及び1051の化合物である。もっとも、本発明
の範囲は、上記表中に例示した化合物、並びに上記の好
適な化合物に限定されることはない。
Further preferred compounds of the present invention are Nos. 9, 26, 34, 35, 36, 53, 73 and 8 in the above table.
1, 93, 94, 101, 109, 111, 112, 1
29, 148, 149, 152, 153, 156, 15
7, 160, 161, 188, 195, 199, 20
0, 205, 213, 232, 233, 252, 26
0, 272, 273, 280, 288, 327, 33
1, 335, 339, 367, 374, 378, 38
4,392,412,431,435,439,45
1, 459, 467, 506, 510, 514, 51
8, 546, 557, 563, 571, 618, 62
2,630,634,638,646,685,68
9, 693, 742, 750, 789, 797, 81
3, 817, 825, 868, 872, 915, 92
1, 929, 976, 992, 996, 1043, 10
47 and 1051. However, the scope of the present invention is not limited to the compounds exemplified in the above table and the above preferable compounds.

【0032】本発明の化合物は、例えば、以下に記載す
る方法によって製造することができる。以下に示す各ス
キームにおいてR1ないしR6はそれぞれ上記と同じものを
示し、R1' 及びR6' は、R1及びR6が水酸基の場合にはメ
トキシ基又はR7-O- と同一の基を表す(R7は水酸基の保
護基を示す)。R1及びR6が水酸基以外の基の場合には、
それぞれR1及びR6と同一の置換基を表す。
The compound of the present invention can be produced, for example, by the method described below. In each scheme shown below, R 1 to R 6 are the same as above, and R 1 ′ and R 6 ′ are the same as a methoxy group or R 7 -O- when R 1 and R 6 are hydroxyl groups. (R 7 represents a hydroxyl-protecting group). When R 1 and R 6 are groups other than a hydroxyl group,
Each represents the same substituent as R 1 and R 6 .

【0033】R7の表す水酸基の保護基としては、通常の
有機反応に用いられるものであれば特に限定はないが、
例えば、ホルミル、アセチル、メトキシアセチルの様な
低級アルコキシ基が置換していてもよいアルカノイル
基;ベンゾイル、4-クロロベンゾイル、4-トルオイルの
ようなハロゲン原子又は低級アルキル基が置換していて
もよいベンゾイル基;テトラヒドロピラン-2- イル、4-
メトキシテトラヒドロピラン-2- イル、テトラヒドロチ
オピラン-2- イルのような低級アルコキシ基が置換して
いてもよいテトラヒドロピラニル基又はテトラヒドロチ
オピラニル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、
tert- ブチルジメチルシリルの様な低級アルキルシリル
基;ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル
のような1又は2個のフェニル基が置換していてもよい
低級アルキルシリル基;メトキシメチル、1,1-ジメチル
-1- メトキシメチル、2-メトキシエトキシメチル、エト
キシメチル、エトキシエチルのような低級アルコキシ置
換低級アルキル基;ベンジル、4-メチルベンジル、4-メ
トキシベンジル、4-シアノベンジル、トリフェニルメチ
ルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、
又はシアノ基がベンゼン環に置換していてもよいアラル
キル基;メチルチオメチルのような低級アルキルチオメ
チル基を用いることができる。好適には、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルなどのような低級
アルキル基;ベンジル、4-メトキシベンジル、4-ニトロ
ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチルなど
のような芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル
基;テトラヒドロピラン-2- イル、4-メトキシテトラヒ
ドロピラン-2- イルのような低級アルコキシ基が置換し
ていてもよいテトラヒドロピラニル基;トリメチルシリ
ル、t-ブチルジメチルシリルのような低級アルキルシリ
ル基;メトキシメチル、1,1-ジメチル-1- メトキシメチ
ル、2-メトキシエトキシメチル、エトキシメチル、エト
キシエチルなどの様な低級アルコキシ置換低級アルキル
基;トリクロロエチル、2,2,2-トリクロロエチルなどの
ようなハロゲン原子が置換していてもよいアルキル基;
トリメチルシリルメチル、トリメチルシリルエチルなど
の様な低級アルキルシリル基が置換していてもよいアル
キル基などを用いることができる。これらのうち、メト
キシメチル基を特に好適に用いることができる。
The protective group for the hydroxyl group represented by R 7 is not particularly limited as long as it can be used in ordinary organic reactions.
For example, an alkanoyl group which may be substituted with a lower alkoxy group such as formyl, acetyl and methoxyacetyl; a halogen atom such as benzoyl, 4-chlorobenzoyl and 4-toluoyl or a lower alkyl group may be substituted Benzoyl group; tetrahydropyran-2-yl, 4-
Tetrahydropyranyl group or tetrahydrothiopyranyl group optionally substituted by a lower alkoxy group such as methoxytetrahydropyran-2-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl; trimethylsilyl, triethylsilyl,
lower alkylsilyl group such as tert-butyldimethylsilyl; lower alkylsilyl group optionally substituted by 1 or 2 phenyl groups such as diphenylmethylsilyl and diphenylbutylsilyl; methoxymethyl, 1,1-dimethyl
-1-Lower alkoxy-substituted lower alkyl groups such as methoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl; such as benzyl, 4-methylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 4-cyanobenzyl, triphenylmethyl Lower alkyl, lower alkoxy, halogen,
Alternatively, an aralkyl group in which a cyano group may be substituted on the benzene ring; a lower alkylthiomethyl group such as methylthiomethyl can be used. Preferably, it has a lower alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and the like; a substituent on the aromatic ring such as benzyl, 4-methoxybenzyl, 4-nitrobenzyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl and the like. An aralkyl group which may be substituted; a tetrahydropyranyl group which may be substituted with a lower alkoxy group such as tetrahydropyran-2-yl and 4-methoxytetrahydropyran-2-yl; trimethylsilyl and t-butyldimethylsilyl Lower alkylsilyl groups such as; lower alkoxy-substituted lower alkyl groups such as methoxymethyl, 1,1-dimethyl-1-methoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl; trichloroethyl, 2,2, An alkyl group which may be substituted with a halogen atom such as 2-trichloroethyl;
An alkyl group which may be substituted with a lower alkylsilyl group such as trimethylsilylmethyl and trimethylsilylethyl may be used. Of these, a methoxymethyl group can be particularly preferably used.

【0034】[0034]

【化7】 [Chemical 7]

【0035】〔工程1〕本工程は、酸または塩基存在下
で化合物2に対してR2-L (L は脱離基を示す)で示され
る化合物を作用させて化合物3を得る工程である。脱離
基としては通常の反応に於いて利用されるものであれば
特に限定はないが、例えば、塩素、臭素、沃素のような
ハロゲン原子;アセトキシ、プロピオニルオキシのよう
なアルキルカルボニルオキシ基;クロロアセチルオキ
シ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキ
シ、トリフルオロアセチルオキシのようなハロゲン化ア
ルキルカルボニルオキシ基;メトキシアセチルオキシの
ような低級アルコキシアルキルカルボニルオキシ基;
(E)-2-メチル-2- ブテノイルオキシのような不飽和アル
キルカルボニルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基;ベ
ンゾイルオキシのようなアリールカルボニルオキシ基;
2-ブロモベンゾイルオキシ、4-クロロベンゾイルオキシ
のようなハロゲン化アリールカルボニルオキシ基;2,4,
6-トリメチルベンゾイルオキシ、4-トルオイルオキシの
ような低級アルキル化アリールカルボニルオキシ基;4-
アニソイルオキシのような低級アルコキシ化アリールカ
ルボニルオキシ基;4-ニトロベンゾイルオキシ、2-ニト
ロベンゾイルオキシのようなニトロ化アリールカルボニ
ルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基;トリクロロメチ
ルオキシのようなトリハロゲノメチルオキシ基;メタン
スルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低
級アルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキ
シのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;
ベンゼンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキ
シのようなアリールスルホニルオキシ基などを用いるこ
とができる。さらに好適には、ハロゲン原子、低級アル
カンスルホニルオキシ基、ハロゲノ低級アルカンスルホ
ニルオキシ基、またはアリールスルホニルオキシ基を用
いることができる。
[Step 1] In this step, a compound represented by R 2 -L (L represents a leaving group) is reacted with compound 2 in the presence of an acid or a base to obtain compound 3. . The leaving group is not particularly limited as long as it can be used in a usual reaction, and examples thereof include halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine; alkylcarbonyloxy groups such as acetoxy and propionyloxy; chloro. Halogenated alkylcarbonyloxy groups such as acetyloxy, dichloroacetyloxy, trichloroacetyloxy, trifluoroacetyloxy; lower alkoxyalkylcarbonyloxy groups such as methoxyacetyloxy;
(E) -2-methyl-2-aliphatic acyloxy groups such as unsaturated alkylcarbonyloxy groups such as butenoyloxy; arylcarbonyloxy groups such as benzoyloxy;
Arylcarbonyloxy groups such as 2-bromobenzoyloxy and 4-chlorobenzoyloxy; 2,4,
Lower alkylated arylcarbonyloxy groups such as 6-trimethylbenzoyloxy, 4-toluoyloxy; 4-
Lower alkoxylated arylcarbonyloxy groups such as anisoyloxy; aromatic acyloxy groups such as nitrated arylcarbonyloxy groups such as 4-nitrobenzoyloxy and 2-nitrobenzoyloxy; trihalogenomethyl such as trichloromethyloxy Oxy group; lower alkanesulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy and ethanesulfonyloxy group; halogeno lower alkanesulfonyloxy group such as trifluoromethanesulfonyloxy and pentafluoroethanesulfonyloxy group;
An arylsulfonyloxy group such as benzenesulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy can be used. More preferably, a halogen atom, a lower alkanesulfonyloxy group, a halogeno lower alkanesulfonyloxy group, or an arylsulfonyloxy group can be used.

【0036】酸としては、通常の反応において酸触媒と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、若しくは燐酸
のような無機酸、又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホ
ン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、若
しくはトリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等
のブレンステッド酸、あるいは塩化亜鉛、四塩化スズ、
ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロント
リブロミドのようなルイス酸を用いることができる。好
適には、有機強酸又はルイス酸を用いることができ、さ
らに好適にはルイス酸が使用できる。
The acid is not particularly limited as long as it can be used as an acid catalyst in a usual reaction. For example, an inorganic acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, perchloric acid or phosphoric acid, Or Bronsted acid such as acetic acid, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, or organic acid such as trifluoromethanesulfonic acid, or zinc chloride, tin tetrachloride,
Lewis acids such as boron trichloride, boron trifluoride, boron tribromide can be used. A strong organic acid or a Lewis acid can be preferably used, and a Lewis acid can be more preferably used.

【0037】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムt-ブトキシド、リチウムメトキシドのようなアル
カリ金属アルコキシド類;メチルメルカプタンナトリウ
ム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタ
ンアルカリ金属類;トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類;又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を用いることができる。なお、反応を
効率的に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニ
ウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのよ
うな第4級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6
のようなクラウンエーテル類等を添加することもでき
る。好適にはアルカリ金属炭酸塩を用いることができ
る。
The base is not particularly limited as long as it can be used as a base in a usual reaction. For example, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate, hydrogen carbonate. Alkali metal hydrogen carbonates such as potassium and lithium hydrogen carbonate; Alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride; sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide and lithium hydroxide Inorganic bases such as alkali metal hydroxides; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide; mercaptan alkali such as methyl mercaptan sodium, ethyl mercaptan sodium Metals; Triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N- methylmorpholine, pyridine, 4-(N, N- dimethylamino) pyridine, N,
N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] Organic bases such as undec-7-ene (DBU); or organometallic bases such as butyllithium and lithium diisopropylamide can be used. In order to carry out the reaction efficiently, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetrabutylammonium chloride, dibenzo-18-crown-6 are used.
It is also possible to add such crown ethers. Suitably, an alkali metal carbonate can be used.

【0038】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はない。例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
ール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のような
アルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類;アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類を挙げることができ
る。好適にはハロゲン化炭化水素、アミド類、又はエー
テル類を用いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc. Halogenated hydrocarbons;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol , Alcohols such as methyl cellosolve; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide Amides such as, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide S; dimethyl sulfoxide, can be mentioned sulfoxides such as sulfolane. Halogenated hydrocarbons, amides, or ethers can be preferably used.

【0039】反応温度は-78 ℃〜100 ℃であり、好適に
は20℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲である。
反応時間は化合物や反応温度などの条件により変化する
が、通常1時間〜50時間程度であり、好適には10時間〜
30時間程度である。
The reaction temperature is -78 ° C to 100 ° C, preferably in the range of 20 ° C to the reflux temperature of the solvent used.
Although the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually about 1 hour to 50 hours, preferably 10 hours to
It is about 30 hours.

【0040】反応終了後、本反応の目的化合物3は常法
に従って反応混合物から採取される。例えば、反応混合
物を適宜中和し、不溶物が存在する場合には濾過により
適宜除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
して、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は、必要
ならば常法(例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィ−等の手段)によってさらに精製することができる。
After completion of the reaction, the target compound 3 of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are appropriately removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, and after washing with water, the organic layer containing the target compound is separated. It is then obtained by drying over anhydrous magnesium sulfate or the like and then distilling off the solvent. The desired compound thus obtained can be further purified, if necessary, by a conventional method (for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography).

【0041】〔工程2〕本工程は化合物3の水酸基を保
護して化合物4を得る工程である。保護基がアシル基の
場合には、一般式R7-L (L は脱離基を示す)又はR7-O-
R7と化合物3とを塩基存在下または非存在下に反応させ
る方法(方法1)か、あるいはR7-OH と各種エステル化
剤と化合物3とを塩基存在下に反応させる方法(方法
2)で行うことができる。
[Step 2] In this step, the hydroxyl group of compound 3 is protected to obtain compound 4. When the protecting group is an acyl group, it may be represented by the general formula R 7 -L (L represents a leaving group) or R 7 -O-
Method of reacting R 7 with compound 3 in the presence or absence of a base (method 1), or method of reacting R 7 —OH with various esterifying agents and compound 3 in the presence of a base (method 2) Can be done at.

【0042】方法1において用いる化合物R7-Lにおける
脱離基(L) は求核残基として脱離する基であれば特に限
定はないが、例えば、塩素、臭素の様なハロゲン原子;
アセトキシ様なアシルオキシ基;又はシアノ基などを用
いることができ、好適にはハロゲン原子又はアシルオキ
シ基を用いることができる。塩基としては、通常の反応
において塩基として使用されるものであれば特に限定は
ないが、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク-7-エン(DBU) のような有機塩基類を用いる
ことができる。なお、4-(N,N- ジメチルアミノ)ピリジ
ンや4-ピロリジノピリジンなどを他の塩基と組み合わせ
て触媒量用いることもでき、また反応を効率的に行わせ
るために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、
テトラブチルアンモニウムクロリドのような第4級アン
モニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6の様なクラウン
エーテル類などを添加することもできる。反応温度は、
通常、-20 ℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲で
行われるが、好適には0 ℃から使用する溶媒の還流温度
の範囲である。反応時間は、反応温度、原料化合物、使
用される塩基または使用される溶媒の種類などの条件に
よって異なるが、通常、10分〜3日程度であり、好適に
は、1時間〜6時間程度である。
The leaving group (L) in the compound R 7 -L used in Method 1 is not particularly limited as long as it is a group capable of leaving as a nucleophilic residue. For example, a halogen atom such as chlorine or bromine;
An acetoxy-like acyloxy group; or a cyano group can be used, and a halogen atom or an acyloxy group can be preferably used. The base is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction, for example, triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (N, N-dimethylamino) Pyridine, N,
N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] Organic bases such as undec-7-ene (DBU) can be used. Incidentally, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, 4-pyrrolidinopyridine or the like can be used in a catalytic amount in combination with other bases, and in order to carry out the reaction efficiently, benzyltriethylammonium chloride,
It is also possible to add quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium chloride, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6 and the like. The reaction temperature is
Usually, it is carried out in the range of -20 ° C to the reflux temperature of the solvent used, but is preferably in the range of 0 ° C to the reflux temperature of the solvent used. The reaction time varies depending on conditions such as reaction temperature, starting compound, type of base used or solvent used, etc., but is usually about 10 minutes to 3 days, preferably about 1 hour to 6 hours. is there.

【0043】一般式R7-Lで示される化合物の具体例とし
ては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリ
ド、ブチリルクロリド、バレリルクロリド、ヘキサノイ
ルクロリド等のような脂肪族アシルハライド;メトキシ
カルボニルクロリド、エトキシカルボニルクロリド、プ
ロポキシカルボニルクロリドのような低級アルコキシカ
ルボニルハライド;ベンゾイルクロリド、ナフトイルク
ロリドのようなアリールカルボニルハライドなどをあげ
ることができる。一般式R7-O- R7で示される化合物の具
体例としては、例えば、ギ酸と酢酸との間で生成される
ような混合酸無水物;無水酢酸、無水プロピオン酸、無
水バレリル酸等のような脂肪族カルボン酸無水物をあげ
ることができる。
Specific examples of the compound represented by the general formula R 7 -L include aliphatic acyl halides such as acetyl chloride, propionyl chloride, butyryl chloride, valeryl chloride, hexanoyl chloride and the like; methoxycarbonyl chloride. And lower alkoxycarbonyl halides such as ethoxycarbonyl chloride and propoxycarbonyl chloride; arylcarbonyl halides such as benzoyl chloride and naphthoyl chloride. Specific examples of the compound represented by the general formula R 7 —O—R 7 include, for example, mixed acid anhydrides formed between formic acid and acetic acid; acetic anhydride, propionic anhydride, valeric anhydride, and the like. Such aliphatic carboxylic acid anhydrides can be mentioned.

【0044】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類など
を用いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; acetonitrile, isobutyro Nitriles such as nitriles; formamide,
Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane can be used.

【0045】方法2においてエステル化剤としては、縮
合剤;クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチルのようなハ
ロゲン化ギ酸エステル;シアノリン酸エチルのようなシ
アノリン酸ジエステルなどを挙げることができる。縮合
剤としては、例えば、N-ヒドロキシサクシイミド、1-ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール、N-ヒドロキシ-5- ノルボ
ルネン-2,3- ジカルボキシイミドのようなN-ヒドロキシ
サクシンイミド誘導体とジシクロヘキシルカルボジイミ
ド等のカルボジイミドとの組み合わせ;2,2'-ジピリジ
ルジスルフィド等の活性ジスルフィド類とトリフェニル
ホスフィン等のトリアリールホスフィン類との組み合わ
せ;炭酸 N,N'-ジサクシニミジル等の炭酸ジサクシミニ
ジル誘導体;N,N'- ビス(2- オキソ-3- オキサゾリジニ
ル)ホスフィニッククロリドのようなホスフィニックク
ロリド化合物類;N,N'- ジスクシミジルオキザレート(D
SO) 、N,N'- ジフタールイミドオキザレート(DPO)、1,
1'- ビス(ベンゾトリアゾリル)オキザレート(BBTO)、
1,1'- ビス(6- クロロベンゾトリアゾリル)オキザレー
ト(BCTO)のようなオキザレート誘導体;アゾジカルボン
酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピルなどのア
ゾジカルボン酸誘導体とトリフェニルホスフィン、トリ
ブチルホスフィンなどのトリアラルキルホスフィンとの
組み合わせ;N-エチル-5- フェニルイソキサゾリウム-
3'-スルホナートのようなN-低級アルキル-5- フェニル
イソキサゾリウム-3'-スルホナート類;N,N'- ジシクロ
ヘキシルカルボジイミドのようなカルボジイミド類;2-
クロル-1- メチルピリジニウム・ヨウダイドのような2-
ハロ-1- 低級アルキルピリジニウム・ハライド類;ジフ
ェニルホスホリルアジドのようなジアリールホスホリル
アジド類を挙げることができるが、好適には、ハロゲン
化ギ酸エステル類を用いることができる。
Examples of the esterifying agent in Method 2 include condensing agents; halogenated formate esters such as methyl chloroformate and ethyl chloroformate; cyanophosphoric acid diesters such as ethyl cyanophosphate. Examples of the condensing agent include N-hydroxysuccinimide, 1-hydroxybenzotriazole, N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide, N-hydroxysuccinimide derivative and carbodiimide such as dicyclohexylcarbodiimide. Combination of active disulfides such as 2,2'-dipyridyl disulfide and triarylphosphines such as triphenylphosphine; N, N'-disuccinimidyl carbonate and disucciminidyl carbonate derivatives; N, N'-bis (2 -Oxo-3-oxazolidinyl) phosphinic chloride compounds such as N, N'-disuccimidyl oxalate (D
SO), N, N'-diphthalimide oxalate (DPO), 1,
1'-bis (benzotriazolyl) oxalate (BBTO),
Oxalate derivatives such as 1,1'-bis (6-chlorobenzotriazolyl) oxalate (BCTO); azodicarboxylic acid derivatives such as diethyl azodicarboxylate and diisopropyl azodicarboxylate and triphenylphosphine and tributylphosphine Combination with aralkylphosphine; N-ethyl-5-phenylisoxazolium-
N-lower alkyl-5-phenylisoxazolium-3'-sulfonates such as 3'-sulfonate; carbodiimides such as N, N'-dicyclohexylcarbodiimide; 2-
Chlor-1-, such as methylpyridinium iodide 2-
Halo-1-lower alkylpyridinium halides; diarylphosphoryl azides such as diphenylphosphoryl azide can be mentioned, but halogenated formic acid esters can be preferably used.

【0046】塩基としては方法1と同様のものを使用す
ることができる。溶媒としては、反応を阻害せず出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類などを用いることができる。
As the base, the same one as in method 1 can be used. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent,
Suitably, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate, etc. Esters; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, and cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide Amides such as; dimethyl sulfoxide, sulfoxides such as sulfolane, and the like can be used.

【0047】保護基が低級アルキルオキシ基、アラルキ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、1ないし3個のアリ
ール基で置換されたメチル基、又はアルキル基の場合に
は、化合物R7-L (L は脱離基を示す)を塩基又は酸の存
在下に化合物3と反応させる方法(方法3)、またはR7
O-C=NHCY3 (Y はハロゲン原子を示す)と酸とを化合物
3に作用させる方法(方法4)により保護基を導入する
ことができる。
When the protecting group is a lower alkyloxy group, an aralkyloxy group, a lower alkylthio group, a methyl group substituted with 1 to 3 aryl groups, or an alkyl group, the compound R 7 -L (L is a (Representing a leaving group) is reacted with Compound 3 in the presence of a base or an acid (Method 3), or R 7
A protecting group can be introduced by a method (Method 4) in which OC = NHCY 3 (Y represents a halogen atom) and an acid are allowed to act on Compound 3.

【0048】方法3において、化合物R7-Lの脱離基(L)
としては求核残基として脱離する基であれば特に限定は
ないが、例えば、メトキシ、エトキシなどの低級アルキ
ルオキシ基;塩素、臭素、ヨウ素のようなハロゲン原
子;メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオ
キシのような低級アルコキシカルボニルオキシ基;クロ
ロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロ
ロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシのよう
なハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基;メタンスル
ホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低級ア
ルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシの
ようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;ベン
ゼンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、
p-ニトロベンゼンスルホニルオキシのようなアリールス
ルホニルオキシ基を挙げることができ、更に好適には、
ハロゲン原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ
基、及びアリールスルホニルオキシ基などを用いること
ができる。
In Method 3, the leaving group (L) of the compound R 7 -L is
Is not particularly limited as long as it is a group capable of leaving as a nucleophilic residue, and examples thereof include lower alkyloxy groups such as methoxy and ethoxy; halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine; methoxycarbonyloxy and ethoxycarbonyloxy. Lower alkoxycarbonyloxy groups such as; halogenated alkylcarbonyloxy groups such as chloroacetyloxy, dichloroacetyloxy, trichloroacetyloxy, trifluoroacetyloxy; lower alkanesulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy Halogeno lower alkanesulfonyloxy groups such as trifluoromethanesulfonyloxy, pentafluoroethanesulfonyloxy; benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy,
An arylsulfonyloxy group such as p-nitrobenzenesulfonyloxy can be mentioned, and more preferably,
A halogen atom, a halogeno lower alkanesulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group and the like can be used.

【0049】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムt−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類;トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモ
ルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジ
ン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,
5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビ
シクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ
[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類;
又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドの
ような有機金属塩基類を用いることができ、好適にはア
ルカリ金属水素化物(特に水素化ナトリウム)を使用す
ることができる。
The base is not particularly limited as long as it can be used as a base in a usual reaction. For example, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate and hydrogen carbonate. Alkali metal hydrogen carbonates such as potassium and lithium hydrogen carbonate; Alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride; sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide and lithium hydroxide Inorganic bases such as alkali metal hydroxides; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide; triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine , Pyridine 4- (N, N- dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,
5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo
[5.4.0] Organic bases such as undec-7-ene (DBU);
Alternatively, an organometallic base such as butyllithium or lithium diisopropylamide can be used, and preferably an alkali metal hydride (particularly sodium hydride) can be used.

【0050】酸としては、通常の反応において酸触媒と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような
無機酸、又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パ
ラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオ
ロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド
酸、あるいは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリ
ド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのよう
なルイス酸を用いることができる。好適には有機酸、さ
らに好適には有機強酸を使用することができる。
The acid is not particularly limited as long as it can be used as an acid catalyst in a usual reaction, and examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, perchloric acid and phosphoric acid, or Bronsted acids such as acetic acid, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, organic acids such as trifluoromethanesulfonic acid, or zinc chloride, tin tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride, Lewis acids such as boron tribromide can be used. Preferably organic acids, more preferably strong organic acids can be used.

【0051】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を用
いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide,
Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane can be used.

【0052】方法4においてR7O-C=NHCY3 で表される化
合物のハロゲン原子(Y) としてはフッ素原子又は塩素原
子などを用いることができ、使用される酸としては、ト
リフルオロ酢酸のようなハロゲノ低級アルカン酸;トリ
フルオロメタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カ
ンファースルホン酸などの有機スルホン酸;強酸性イオ
ン交換樹脂などを挙げることができる。溶媒は、反応を
阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に
限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を用いることができる。
In Method 4, a fluorine atom, a chlorine atom or the like can be used as the halogen atom (Y) of the compound represented by R 7 OC = NHCY 3 , and the acid used is such as trifluoroacetic acid. Examples thereof include halogeno lower alkanoic acids; organic sulfonic acids such as trifluoromethane sulfonic acid, p-toluene sulfonic acid, camphor sulfonic acid; and strong acid ion exchange resins. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, and petroleum ether; benzene, toluene, xylene, etc. Aromatic hydrocarbons; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile Formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as hexamethylphosphoric triamide; dimethylsulfoxide, can be used sulfoxides such as sulfolane.

【0053】また、保護基がテトラヒドロピラニル基、
テトラヒドロトチオピラニル基、テトラヒドロフラニル
基、テトラヒドロチオフラニル基の場合には、ジヒドロ
ピランなどの対応するジヒドロ体を酸存在下に化合物3
と反応させることによって化合物4を製造することがで
きる(方法5)。
Further, the protecting group is a tetrahydropyranyl group,
In the case of a tetrahydrotothiopyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, or a tetrahydrothiofuranyl group, the corresponding dihydro compound such as dihydropyran is added to the compound 3 in the presence of an acid.
Compound 4 can be produced by reacting with (Method 5).

【0054】酸としては、通常の反応において酸触媒と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような
無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸
或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボ
ロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイ
ス酸を用いることができ、好適には有機酸、さらに好適
には有機強酸を使用することができる。
The acid is not particularly limited as long as it is used as an acid catalyst in a usual reaction, and examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, perchloric acid and phosphoric acid, or acetic acid. Bronsted acids such as organic acids such as, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid or zinc chloride, tin tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride, boron trifluoride A Lewis acid such as bromide can be used, preferably an organic acid, more preferably an organic strong acid.

【0055】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を用
いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide,
Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane can be used.

【0056】さらに、保護基がシリル基の場合には、一
般式R7-L (L は脱離基を示す)で表される化合物を塩基
の存在下又は非存在下に化合物3と反応させることによ
り化合物4を製造することができる(方法6)。
Further, when the protecting group is a silyl group, the compound represented by the general formula R 7 -L (L represents a leaving group) is reacted with the compound 3 in the presence or absence of a base. Thus, compound 4 can be produced (method 6).

【0057】R7-Lで示される化合物の脱離基(L) は求核
残基として脱離する基であれば特に限定はないが、例え
ば、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;アセトキ
シ、プロピオニルオキシのようなアルキルカルボニルオ
キシ基;クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキ
シ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチル
オキシのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ
基;メトキシアセチルオキシのような低級アルコキシア
ルキルカルボニルオキシ基;(E)-2-メチル-2- ブテノイ
ルオキシのような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等
の脂肪族アシルオキシ基;ベンゾイルオキシのようなア
リールカルボニルオキシ基;2-ブロモベンゾイルオキ
シ、4-クロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリ
ールカルボニルオキシ基;2,4,6-トリメチルベンゾイル
オキシ、4-トルオイルオキシのような低級アルキル化ア
リールカルボニルオキシ基;4-アニソイルオキシのよう
な低級アルコキシ化アリールカルボニルオキシ基;4-ニ
トロベンゾイルオキシ、2-ニトロベンゾイルオキシのよ
うなニトロ化アリールカルボニルオキシ基等の芳香族ア
シルオキシ基;トリクロロメチルオキシのようなトリハ
ロゲノメチルオキシ基;メタンスルホニルオキシ、エタ
ンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオ
キシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタ
フルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級
アルカンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキ
シ、p-トルエンスルホニルオキシのようなアリールスル
ホニルオキシ基を用いることができる。好適には、ハロ
ゲン原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基、
又はアリールスルホニルオキシ基などを用いることがで
きる。
The leaving group (L) of the compound represented by R 7 -L is not particularly limited as long as it is a group capable of leaving as a nucleophilic residue. For example, a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine; Alkylcarbonyloxy groups such as acetoxy and propionyloxy; halogenated alkylcarbonyloxy groups such as chloroacetyloxy, dichloroacetyloxy, trichloroacetyloxy, trifluoroacetyloxy; lower alkoxyalkylcarbonyloxy groups such as methoxyacetyloxy An aliphatic acyloxy group such as an unsaturated alkylcarbonyloxy group such as (E) -2-methyl-2-butenoyloxy; an arylcarbonyloxy group such as benzoyloxy; a 2-bromobenzoyloxy or 4-chlorobenzoyloxy group Aryl carbonyloxy groups such as 2,4, Lower alkylated arylcarbonyloxy groups such as 6-trimethylbenzoyloxy, 4-toluoyloxy; lower alkoxylated arylcarbonyloxy groups such as 4-anisoyloxy; 4-nitrobenzoyloxy, 2-nitrobenzoyloxy Aromatic acyloxy groups such as nitrated arylcarbonyloxy groups; trihalogenomethyloxy groups such as trichloromethyloxy; lower alkanesulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy; trifluoromethanesulfonyloxy, pentafluoro A halogeno lower alkanesulfonyloxy group such as ethanesulfonyloxy; an arylsulfonyloxy group such as benzenesulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy can be used. Preferably, a halogen atom, a halogeno lower alkanesulfonyloxy group,
Alternatively, an arylsulfonyloxy group or the like can be used.

【0058】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば、特に限定はないが、好適
には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジ
メチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-
ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5
- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO)
、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU)
のような有機塩基類;又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類などを用
いることができる。なお、4-(N,N'-ジメチルアミノ)ピ
リジン又は4-ピロリジノピリジンなどを他の塩基と組み
合わせて触媒量用いることができ、また、反応を効率的
に行わせるためにベンジルトリエチルアンモニウムクロ
リド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第4
級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のような
クラウンエーテル類等を添加することもできる。
The base is not particularly limited as long as it can be used as a base in a usual reaction, but preferably alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate. , Alkali metal hydrogencarbonates such as potassium hydrogen carbonate, lithium hydrogen carbonate; lithium hydride, sodium hydride,
Alkali metal hydrides such as potassium hydride; triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-
Diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nona-5
-Ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO)
, 1,8-Diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU)
Or an organic metal base such as butyllithium or lithium diisopropylamide can be used. In addition, 4- (N, N'-dimethylamino) pyridine or 4-pyrrolidinopyridine can be used in a catalytic amount in combination with other bases, and benzyltriethylammonium chloride can be used in order to carry out the reaction efficiently. Fourth, such as tetrabutylammonium chloride
It is also possible to add quaternary ammonium salts, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6, and the like.

【0059】溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好
適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類;ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類を用いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; methylene chloride,
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane Ethers such as dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide,
Amides such as hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane can be used.

【0060】〔工程3〕化合物4を塩基存在下にアルデ
ヒド化合物と縮合して化合物5を得る工程である。塩基
としては、通常の反応において塩基として使用されるも
のであれば特に限定はないが、例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属
炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類;水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物類;水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのような
アルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類;ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド類;メチルメルカプタンナトリウム、エチルメル
カプタンナトリウムのようなメルカプタンアルカリ金属
類;トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-
(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニリ
ン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.
0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタ
ン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク- 7-
エン(DBU) のような有機塩基類;又はブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類
を用いることができる。好適にはアルカリ金属水素化物
を使用することができる。反応を効率的に行わせるため
に、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドやテトラ
ブチルアンモニウムクロリドのような第4級アンモニウ
ム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のようなクラウンエー
テル類等を添加することもできる。
[Step 3] In this step, compound 5 is obtained by condensing compound 4 with an aldehyde compound in the presence of a base. The base is not particularly limited as long as it is used as a base in a usual reaction, and examples thereof include alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and carbonic acid. Alkali metal hydrogencarbonates such as lithium hydrogen; Alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride; alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide and lithium hydroxide Inorganic bases such as metal hydroxides; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide; mercaptan alkali metals such as methyl mercaptan sodium and ethyl mercaptan sodium; Triethyl Min, tributylamine, diisopropylethylamine, N- methylmorpholine, pyridine, 4-
(N, N-Dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.
0] Non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-
Organic bases such as ene (DBU); or butyllithium,
Organometallic bases such as lithium diisopropylamide can be used. Alkali metal hydrides can preferably be used. In order to carry out the reaction efficiently, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetrabutylammonium chloride, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6 and the like can be added.

【0061】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなア
ルコ−ル類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類を用いることができ、好
適にはアミド類を使用することができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, Alcohols such as cyclohexanol and methyl cellosolve; Nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; Amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; Dimethyl sulfoxide, sulfolane, etc. Different sulfoxides can be used, and amides can be preferably used.

【0062】反応温度は-78 ℃〜30℃であり、好適には
-30 ℃〜10℃の範囲である。反応時間は、化合物の種類
や反応温度などの条件により変化するが、通常、1時間
〜20時間程度であり、好適には2時間〜5時間程度であ
る。反応終了後、溶剤を留去して得られる濃縮物に水を
注ぎ、この混合物を水と混和しない溶剤、例えば、ベン
ゼン、エーテル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液から
溶剤を留去することにより化合物5を得ることができ、
この生成物をさらに精製することなく次の工程に用いる
ことが可能である。もっとも、所望により各種クロマト
グラフィーあるいは再結晶法などの手法によりさらに精
製を行うことも可能である。
The reaction temperature is -78 ° C to 30 ° C, preferably
-30 ℃ ~ 10 ℃ range. The reaction time varies depending on the type of compound and reaction temperature, but is usually about 1 hour to 20 hours, preferably about 2 hours to 5 hours. After the reaction is completed, water is poured into the concentrate obtained by distilling off the solvent, and the mixture is extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and the solvent is distilled off from the extract. To obtain compound 5,
This product can be used in the next step without further purification. However, if desired, it is possible to further purify by various techniques such as chromatography or recrystallization.

【0063】〔工程4〕化合物5を塩基で処理すること
により閉環して化合物6を製造する工程である。塩基と
しては、通常の反応において塩基として使用されるもの
であれば特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属
炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類;水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物類;水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのような
アルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類;ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド類;トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オ
クタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク
- 7-エン(DBU) のような有機塩基類;又はブチルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩
基類を挙げることができる。好適にはアルカリ金属水酸
化物を用いることができる。反応を効率的に行わせるた
めに、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テト
ラブチルアンモニウムクロリドのような第4級アンモニ
ウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のようなクラウンエ
ーテル類等を添加することもできる。
[Step 4] In this step, compound 6 is produced by treating compound 5 with a base to effect ring closure. The base is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction, but preferably alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate. , Alkali metal hydrogen carbonates such as lithium hydrogen carbonate; alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride; sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide, lithium hydroxide Inorganic bases such as alkali metal hydroxides; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide; triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, Pyridine, 4- (N, N-dime Cylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo
[4.3.0] Non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec
-Organic bases such as 7-ene (DBU); or organometallic bases such as butyllithium and lithium diisopropylamide. Suitably, an alkali metal hydroxide can be used. In order to carry out the reaction efficiently, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetrabutylammonium chloride, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6 and the like can be added.

【0064】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のような
アルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類;アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類などを用いることがで
きる。好適にはアルコール類を用いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, Alcohols such as cyclohexanol, methyl cellosolve; Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, ketones such as cyclohexanone; Nitro compounds such as nitroethane, nitrobenzene; Acetonitrile, isobutyronitrile Nitriles; Amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide S; dimethyl sulfoxide, sulfoxides such as sulfolane may be employed. Alcohols can be preferably used.

【0065】反応温度は-50 ℃〜50℃の範囲、好適には
0 ℃〜30℃の範囲である。反応時間は、化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常1時間〜20時間程
度であり、好適には3時間〜10時間程度である。反応終
了後、溶剤を留去して得られた濃縮物を水に注ぎ、水と
混和しない溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エ
チルなどで抽出し、抽出液から溶剤を留去することによ
り化合物6を得ることができ、この生成物をさらに精製
することなく次の工程に用いることが可能である。もっ
とも、所望により各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手法によりさらに精製を行うことも可能であ
る。
The reaction temperature is in the range of -50 ° C to 50 ° C, preferably
It is in the range of 0 ° C to 30 ° C. The reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, but is usually about 1 to 20 hours, preferably about 3 to 10 hours. After completion of the reaction, the concentrate obtained by distilling off the solvent is poured into water, extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and the solvent is distilled off from the extract to obtain a compound. 6 can be obtained and this product can be used in the next step without further purification. However, if desired, it is possible to further purify by various techniques such as chromatography or recrystallization.

【0066】〔工程5]本工程は、化合物6の水酸基の
保護基を除去して、一般式(I)で示される本発明の化
合物においてXが酸素原子であり----が付された結合が
単結合である化合物(化合物7)を得る工程である。水
酸基の保護基の除去はその種類によって異なるが、一般
にこの分野の技術において周知の方法によって以下の様
に実施される。水酸基の保護基としてシリル基を使用し
た場合には、通常、フッ化テトラブチルアンモニウムの
ようなフッ素アニオンを生成する化合物で処理すること
により除去することができる。反応溶媒は、反応を阻害
しないものであれば特に限定はないが、テトラヒドロフ
ランやジオキサンのようなエーテル類が好適である。反
応温度及び反応時間は特に限定されないが、通常、室温
で10〜18時間程度実施される。水酸基の保護基がアラル
キル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場合に
は、通常、溶媒中で還元剤と接触させることにより(好
適には、触媒下に常温で接触還元することにより)除去
するか、あるいは酸化剤を用いて除去することができ
る。接触還元による除去において使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノール、エタノール、イソプロパノールのよう
なアルコ−ル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類;トルエン、ベンゼ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、
酢酸プロピルのようなエステル類;酢酸のような脂肪酸
類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるも
のであれば特に限定はないが、好適には、パラジウム炭
素、水酸化パラジウム、ラネ−ニッケル、酸化白金、白
金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホス
フィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムを用
いることができる。圧力は特に限定されないが、通常1
〜10気圧程度で行なうことができる。反応温度及び反応
時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等の条件により
異なるが、通常、0〜100 ℃で、5分〜24時間実施され
る。酸化による除去において溶媒としては、本反応に関
与しないものであれば特に限定はないが、好適には含水
有機溶媒を用いることができる。このような有機溶媒と
しては、例えば、アセトンのようなケトン類;メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなア
ミド類;及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類などを用いることができる。酸化剤としては、通常
の酸化反応に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ
-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) を用いることが
できる。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び
触媒の種類等の条件により異なるが、通常、0〜150 ℃
で10〜24時間程度実施される。また、液体アンモニア中
若しくはメタノール、エタノールのようなアルコ−ル中
において、−78℃〜−20℃で金属リチウム、金属ナトリ
ウムのようなアルカリ金属類を作用させることによって
も除去することが可能である。
[Step 5] In this step, the protective group for the hydroxyl group of compound 6 is removed, and in the compound of the present invention represented by the general formula (I), X is an oxygen atom, and ---- is added. This is a step of obtaining a compound (Compound 7) in which the bond is a single bond. The removal of the hydroxyl-protecting group varies depending on the type, but is generally carried out as follows by a method well known in the art. When a silyl group is used as a hydroxyl-protecting group, it can usually be removed by treatment with a compound that produces a fluorine anion, such as tetrabutylammonium fluoride. The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are preferable. Although the reaction temperature and the reaction time are not particularly limited, the reaction is usually performed at room temperature for about 10 to 18 hours. When the hydroxyl-protecting group is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group, it is usually removed by bringing it into contact with a reducing agent in a solvent (preferably by catalytic reduction at room temperature under a catalyst), or Alternatively, it can be removed using an oxidizing agent. The solvent used in the removal by catalytic reduction is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane. Aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene and xylene; Aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane, ethyl acetate,
Preference is given to esters such as propyl acetate; fatty acids such as acetic acid or a mixed solvent of these organic solvents and water. The catalyst is not particularly limited as long as it is usually used in a catalytic reduction reaction, but is preferably palladium carbon, palladium hydroxide, Raney-nickel, platinum oxide, platinum black, rhodium-aluminum oxide, trioxide. Phenylphosphine-rhodium chloride and palladium-barium sulfate can be used. The pressure is not particularly limited, but is usually 1
It can be performed at about 10 atm. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the conditions such as the starting material, solvent and type of catalyst, but they are usually carried out at 0 to 100 ° C. for 5 minutes to 24 hours. The solvent for removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but a water-containing organic solvent can be preferably used. Examples of such an organic solvent include ketones such as acetone; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride; nitriles such as acetonitrile; diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc. Ethers; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide can be used. The oxidizing agent is not particularly limited as long as it is a compound used in a usual oxidation reaction, but preferably potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium cerium nitrate (CAN), 2,3-dichloro
-5,6-Dicyano-p-benzoquinone (DDQ) can be used. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the conditions such as starting material, solvent and type of catalyst, but are usually 0 to 150 ° C.
Will be carried out for 10 to 24 hours. It can also be removed by reacting alkali metal such as metallic lithium or metallic sodium at -78 ° C to -20 ° C in liquid ammonia or alcohol such as methanol or ethanol. .

【0067】さらに、溶媒中で塩化アルミニウム−沃化
ナトリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのような
アルキルシリルハライド類を用いて除去することができ
る。溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特
に限定はないが、例えば、アセトニトリルのようなニト
リル類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類;又はこれらの混合溶媒を使用するこ
とができる。反応温度及び反応時間は、出発物質や溶媒
等の条件により異なるが、通常は0〜50℃で5分〜3日
間行えばよい。なお、反応基質が硫黄原子を有する場合
は、好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用
いられる。
Further, it can be removed by using aluminum chloride-sodium iodide or alkylsilyl halides such as trimethylsilyl iodide in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but for example, nitriles such as acetonitrile; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; or a mixed solvent thereof is used. You can The reaction temperature and reaction time will differ depending on the conditions such as the starting materials and the solvent, but usually they may be carried out at 0 to 50 ° C. for 5 minutes to 3 days. When the reaction substrate has a sulfur atom, aluminum chloride-sodium iodide is preferably used.

【0068】水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香
族アシル基、又はアルコキシカルボニル基である場合に
は、溶媒中で塩基で処理することにより除去することが
できる。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与え
ないものであれば特に限定はないが、例えば、ナトリウ
ムメトキシドのような金属アルコキシド類;炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金
属炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物;又はアンモニ
ア水、濃アンモニア−メタノールのようなアンモニア類
が用いられる。溶媒としては、通常の加水分解反応に使
用されるものであれば特に限定はないが、例えば、水;
メタノール、エタノール、n-プロパノールのようなアル
コール類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類等の有機溶媒、又は水と上記有機溶媒との混合
溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び使用される塩基等の条件に応じて異なり特
に限定はないが、副反応を抑制するために、通常は0〜
150 ℃の範囲の温度で1〜10時間程度行えばよい。
When the hydroxyl-protecting group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treating with a base in a solvent. The base is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound, and examples thereof include metal alkoxides such as sodium methoxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate. Salts; alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide; or aqueous ammonia, ammonia such as concentrated ammonia-methanol are used. The solvent is not particularly limited as long as it can be used in a usual hydrolysis reaction, for example, water;
Preference is given to alcohols such as methanol, ethanol and n-propanol; organic solvents such as ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, or mixed solvents of water and the above organic solvents. The reaction temperature and the reaction time are different depending on the conditions such as the starting material, the solvent and the base used, and are not particularly limited.
It may be carried out at a temperature in the range of 150 ° C. for about 1 to 10 hours.

【0069】水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニ
ル基又は置換されたエチル基である場合には、通常、溶
媒中で酸で処理することにより除去することができる。
酸としては、通常、ブレンステッド酸として使用される
ものであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸の
ような無機酸又は酢酸、パラトルエンスルホン酸のよう
な有機酸を用いることができるが、ダウエックス50Wの
ような強酸性の陽イオン交換樹脂を用いてもよい。溶媒
としては、本反応に関与しないものであれば特に限定は
ないが、メタノール、エタノールのようなアルコール
類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類;又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用
される酸の種類等の条件により異なるが、通常は0〜50
℃で10分〜18時間程度行えばよい。
The hydroxyl-protecting group is an alkoxymethyl group,
A tetrahydropyranyl group, a tetrahydrothiopyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydrothiofuranyl group or a substituted ethyl group can be usually removed by treating with an acid in a solvent.
The acid is not particularly limited as long as it is usually used as a Bronsted acid, and it is preferable to use an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid or an organic acid such as acetic acid or paratoluenesulfonic acid. However, a strongly acidic cation exchange resin such as Dowex 50W may be used. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; or a mixed solvent of these organic solvents and water is preferable. Is. The reaction temperature and the reaction time vary depending on the conditions such as the starting material, the solvent and the kind of the acid used, but are usually 0 to 50.
It may be carried out at ℃ for 10 minutes to 18 hours.

【0070】水酸基の保護基が、アルケニルオキシカル
ボニル基である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の
脂肪族アシル基、芳香族アシル基、又はアルコキシカル
ボニル基である場合の除去反応の条件と同様に、塩基と
処理することにより達成される。なお、アリルオキシカ
ルボニルの場合は、パラジウム、及びトリフェニルホス
フィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除
去する方法が簡便であり、副反応が少ないので好適であ
る。
When the hydroxyl-protecting group is an alkenyloxycarbonyl group, the removal reaction conditions are usually the same when the hydroxyl-protecting group is the above-mentioned aliphatic acyl group, aromatic acyl group or alkoxycarbonyl group. Similarly, it is achieved by treating with a base. In the case of allyloxycarbonyl, the method of removing it by using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is simple and has few side reactions, which is preferable.

【0071】〔工程6〕化合物7に酸化剤を作用させ
て、一般式(I)で示される本発明の化合物においてX
が酸素原子であり----が付された結合が二重結合である
化合物(化合物8)を得る工程である。本工程に使用さ
れる酸化剤としては、通常、酸化反応に使用されるもの
であれば特に限定はないが、例えば、過マンガン酸カリ
ウム、二酸化マンガンのような酸化マンガン類;四酸化
ルテニウムのような酸化ルテニウム類;二酸化ゼレンの
ようなゼレン化合物;塩化鉄のような鉄化合物;四酸化
オスミウムのようなオスミウム化合物;酸化銀のような
銀化合物;酢酸水銀のような水銀化合物;酸化鉛、四酢
酸鉛のような酸化鉛化合物;クロム酸カリウム、クロム
酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリジン錯体のようなクロム
酸化合物、アンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) の
ようなセリウム化合物等の無機金属酸化剤;塩素分子、
臭素分子、沃素分子のようなハロゲン分子;過沃素酸ナ
トリウムのような過沃素酸類;オゾン;過酸化水素水;
亜硝酸のような亜硝酸化合物;亜塩素酸カリウム、亜塩
素酸ナトリウムのような亜塩素酸化合物;過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウムのような過硫酸化合物等の無機酸
化剤;DMSO酸化に使用される試薬類(ジメチルスルホキ
シドとジシクロヘキシルカルボジイミド、オキザリルク
ロリド、無水酢酸若しくは五酸化燐との錯体又はピリジ
ン−無水硫酸の錯体);t-ブチルヒドロパーオキシドの
ようなパーオキシド類;トリフェニルメチルカチオンの
ような安定なカチオン類;N-ブロモコハク酸イミドのよ
うなコハク酸イミド類;次亜塩素酸t-ブチルのような次
亜塩素酸化合物;アゾジカルボン酸エステルのようなア
ゾジカルボン酸化合物;ジメチルジスルフィド、ジフェ
ニルジスルフィド、ジピリジルジスルフィドのようなジ
スルフィド類とトリフェニルホスフィン;亜硝酸メチル
のような亜硝酸エステル類;四臭化メタンのようなテト
ラハロゲン化炭素、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベ
ンゾキノン(DDQ) のようなキノン化合物等の有機酸化剤
を挙げることができる。好適にはハロゲン分子を用いる
ことができる。
[Step 6] The compound 7 is treated with an oxidizing agent to produce X in the compound of the present invention represented by the general formula (I).
Is an oxygen atom and the bond with ---- is a double bond (Compound 8). The oxidizing agent used in this step is not particularly limited as long as it is usually used in an oxidation reaction, and examples thereof include manganese oxides such as potassium permanganate and manganese dioxide; ruthenium tetraoxide. Ruthenium oxides; Zelenic compounds such as selene dioxide; Iron compounds such as iron chloride; Osmium compounds such as osmium tetroxide; Silver compounds such as silver oxide; Mercury compounds such as mercury acetate; Lead oxides, tetraoxides Lead oxide compounds such as lead acetate; inorganic metal oxidizers such as potassium chromate, chromic acid compounds such as chromic acid-sulfuric acid complex, chromic acid-pyridine complex, cerium compounds such as ammonium cerium nitrate (CAN); Chlorine molecule,
Halogen molecules such as bromine and iodine molecules; Periodic acids such as sodium periodate; Ozone; Hydrogen peroxide solution;
Nitrite compounds such as nitrous acid; Chlorite compounds such as potassium chlorite and sodium chlorite; Inorganic oxidizers such as potassium persulfate and persulfate compounds such as sodium persulfate; Used for DMSO oxidation Reagents such as dimethyl sulfoxide and dicyclohexylcarbodiimide, oxalyl chloride, acetic anhydride or phosphorus pentoxide complex or pyridine-sulfuric anhydride complex; peroxides such as t-butyl hydroperoxide; triphenylmethyl cation Stable cations; succinimides such as N-bromosuccinimide; hypochlorite compounds such as t-butyl hypochlorite; azodicarboxylic acid compounds such as azodicarboxylic acid esters; dimethyl disulfide, Disulfides such as diphenyl disulfide, dipyridyl disulfide and trif Phenylphosphine; nitrites such as methyl nitrite; tetrahalogenated carbon such as methane tetrabromide; quinone compounds such as 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone (DDQ) The organic oxidizers mentioned above can be mentioned. A halogen molecule can be preferably used.

【0072】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類;メタノール、エタノ
ール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなア
ルコール類;硫酸水のような希釈酸;水酸化ナトリウム
水のような希釈塩基;水;アセトン、メチルエチルケト
ンのようなケトン類;ピリジンのような有機塩基又はア
セトニトリルのようなニトリル類を用いることができ
る。好適にはピリジンを使用できる。反応温度は-50 ℃
〜100 ℃の範囲であり、反応時間は反応温度、原料化合
物又は使用される溶媒の種類などの条件によって異なる
が、通常30分〜15時間程度である。反応終了後、溶媒を
留去して濃縮された反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液から溶媒を留去することによって目的物
を単離することができる。所望により、各種クロマトグ
ラフィーあるいは再結晶法などの手段により精製するこ
とができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride, chloroform and the like. Halogenated hydrocarbons; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; methanol, ethanol, Alcohols such as n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, isoamyl alcohol; dilute acids such as sulfuric acid; dilute bases such as sodium hydroxide; water; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. An organic base such as pyridine or a nitrile such as acetonitrile can be used. Pyridine can be preferably used. Reaction temperature is -50 ℃
The reaction time is usually about 30 minutes to 15 hours, although it varies depending on the conditions such as the reaction temperature, the starting compound or the type of solvent used. After completion of the reaction, the solvent is distilled off and the concentrated reaction solution is poured into water, extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and the solvent is distilled off from the extract. The product can be isolated. If desired, it can be purified by various means such as chromatography or recrystallization.

【0073】[0073]

【化8】 Embedded image

【0074】〔工程7〕化合物9と化合物10を酸触媒存
在下に縮合して化合物11を得る工程である。酸触媒とし
ては通常の反応に於いて酸触媒として用いられるもので
あれば特に限定はないが、好適には、トリメチルシリル
トリフルオロメタンスルホネートのようなトリ低級アル
キルシリルトリフルオロメタンスルホネート類;四塩化
錫のような錫類;臭化亜鉛のような亜鉛類;四塩化チタ
ンのようなチタン類;過塩素酸銀、ホウフッ化銀のよう
な銀類;又は過塩素酸トリメチルシリルエステル、過塩
素酸トリフェニルメチルエステルのような過塩素酸類を
用いることができる。溶媒としては、反応を阻害せず出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類などを用いることができる。
[Step 7] In this step, compound 9 and compound 10 are condensed in the presence of an acid catalyst to give compound 11. The acid catalyst is not particularly limited as long as it can be used as an acid catalyst in a usual reaction, but it is preferable to use tri-lower alkylsilyltrifluoromethanesulfonates such as trimethylsilyltrifluoromethanesulfonate and tin tetrachloride. Tins; zinc such as zinc bromide; titanium such as titanium tetrachloride; silver such as silver perchlorate and silver borofluoride; or trimethylsilyl perchlorate, triphenylmethyl perchlorate Perchloric acids such as can be used. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, and petroleum ether; benzene, toluene, xylene Such as aromatic hydrocarbons; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, and cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide Amides such as; dimethyl sulfoxide, sulfoxides such as sulfolane, and the like can be used.

【0075】反応温度は、通常 -50℃〜60℃の範囲であ
り、好適には-10 ℃〜30℃である。反応時間は、化合物
や反応温度などの条件により変化するが、通常1時間〜
20時間であり、好適には2時間〜6時間程度である。反
応終了後、たとえば溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、
水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢
酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶媒を留去すること
によって目的物を単離することができ、得られた生成物
を精製することなく次の工程に用いることが可能であ
る。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手段により精製することもできる。
The reaction temperature is usually in the range of -50 ° C to 60 ° C, preferably -10 ° C to 30 ° C. The reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, but is usually 1 hour to
It is 20 hours, preferably about 2 to 6 hours. After completion of the reaction, for example, the solvent is distilled off and the reaction solution is poured into water,
The desired product can be isolated by extracting with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and distilling off the solvent from the extract to obtain the following product without purification. It can be used in the process. If desired, it can be purified by a means such as various chromatography or recrystallization method.

【0076】〔工程8〕本工程は、溶媒の存在下あるい
は非存在下で化合物11に対してウィティッヒ反応を行っ
て化合物12を得る工程である。ウィティッヒ試薬として
は、ジエチルホスホノ酢酸エチル、ジメチルホスホノ酢
酸エチルのようなホスホノ酢酸エチル類;ヨウ化エトキ
シカルボニルトリフェニルホスホニウム等のエトキシカ
ルボニルホスホニウム塩類等を挙げることができる。塩
基としては、通常の反応において塩基として使用される
ものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属
炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類;水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物類;水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのような
アルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類;ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド類;トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ)ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オ
クタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク
- 7-エン(DBU) のような有機塩基類又はブチルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩
基類を用いることができる。なお、反応を効率的に行わ
せるために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリ
ド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第4級
アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のようなク
ラウンエーテル類等を添加することもできる。
[Step 8] In this step, the compound 12 is obtained by carrying out a Wittig reaction on the compound 11 in the presence or absence of a solvent. Examples of the Wittig reagent include ethyl phosphonoacetates such as ethyl diethylphosphonoacetate and dimethylphosphonoacetate; ethoxycarbonylphosphonium salts such as ethoxycarbonyltriphenylphosphonium iodide. The base is not particularly limited as long as it is used as a base in a usual reaction, and examples thereof include alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and carbonic acid. Alkali metal hydrogencarbonates such as lithium hydrogen; Alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride; alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide and lithium hydroxide Inorganic bases such as metal hydroxides; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide; triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (N, N- dimethyl Lumino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo
[4.3.0] Non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec
It is possible to use organic bases such as 7-ene (DBU) or organic metal bases such as butyllithium and lithium diisopropylamide. In order to efficiently carry out the reaction, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetrabutylammonium chloride, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6 and the like can be added. .

【0077】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのような
エステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
ーテル類;メタノール、エタノール、n-プロパノール、
イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、t-
ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコール類;ニトロエ
タン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセト
ニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を用いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether Kinds; methanol, ethanol, n-propanol,
Isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-
Alcohols such as butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide, dimethylformamide, dimethyl Amides such as acetamide and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane can be used.

【0078】反応温度は通常0℃〜300 ℃の範囲であ
り、好適には 50 ℃〜200 ℃である。反応時間は化合物
や反応温度などの条件により変化するが、通常1時間〜
20時間程度であり、好適には3時間〜10時間程度であ
る。反応終了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶媒を留去することに
よって目的物を単離することができる。この生成物をさ
らに精製することなく次の工程に用いることが可能であ
る。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手段により精製することもできる。
The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 300 ° C, preferably 50 ° C to 200 ° C. The reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, but it is usually 1 hour to
It is about 20 hours, preferably about 3 to 10 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and the solvent is distilled off from the extract to isolate the desired product. can do. This product can be used in the next step without further purification. If desired, it can be purified by a means such as various chromatography or recrystallization method.

【0079】〔工程9〕本工程は、化合物12のα, β−
二重結合に対して接触水素添加反応を施して化合物13を
得る工程である。使用される触媒としては、例えば、パ
ラジウム炭素、酸化白金、ラネ−ニッケルなどを挙げる
ことができる。溶媒としては、例えば、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類;テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類;酢酸のような脂肪酸;
又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒等を用いること
ができる。反応温度は通常0℃〜100 ℃の範囲であり、
好適には10℃〜50℃である。反応時間は化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常1時間〜30時間程
度であり、好適には2時間〜10時間程度である。反応終
了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しな
い溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって目的
物を単離することができる。この生成物をそのまま次の
工程に用いることが可能である。所望により、各種クロ
マトグラフィーあるいは再結晶法などの手段によりさら
に精製を行うこともできる。
[Step 9] In this step, α, β-
In this step, compound 13 is obtained by subjecting the double bond to catalytic hydrogenation reaction. Examples of the catalyst used include palladium carbon, platinum oxide, Raney-nickel and the like. Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; tetrahydrofuran,
Ethers such as dioxane; fatty acids such as acetic acid;
Alternatively, a mixed solvent of these organic solvents and water can be used. The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C,
It is preferably 10 ° C to 50 ° C. Although the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually about 1 hour to 30 hours, preferably about 2 hours to 10 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and the solvent is distilled off from the extract to isolate the desired product. can do. This product can be used as it is in the next step. If desired, further purification can be carried out by means of various chromatography or recrystallization method.

【0080】〔工程10〕本工程は、不活性溶媒の存在下
あるいは非存在下で化合物13を酸触媒下に閉環して同時
に脱保護するか、または閉環した後に脱保護することに
よって化合物14を得る工程である。酸触媒としては、通
常の反応に於いて酸触媒として用いられるものであれば
特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、
過塩素酸、燐酸、ポリリン酸のような無機酸、又は酢
酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸のような有機酸等のブレンステッド酸;あるいは塩
化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリ
フルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸を用
いることができる。好適にはポリリン酸及びルイス酸を
使用することができる。
[Step 10] In this step, compound 14 is subjected to ring closure under acid catalysis in the presence or absence of an inert solvent for simultaneous deprotection, or compound 14 is subjected to ring closure and then deprotection to give compound 14 It is a process of obtaining. The acid catalyst is not particularly limited as long as it can be used as an acid catalyst in a normal reaction, and for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid,
Inorganic acids such as perchloric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, or Bronsted acids such as acetic acid, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and other organic acids; or Lewis acids such as zinc chloride, tin tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride, boron tribromide can be used. Polyphosphoric acid and Lewis acids can be preferably used.

【0081】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル
のような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類を挙げることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent, but preferably, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene. Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, carbonic acid Esters such as diethyl; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone,
Ketones such as cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide;
Amides such as hexamethyl phosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane.

【0082】反応温度は通常-100℃〜200 ℃であり、好
適には-78 ℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応
温度などの条件により変化するが、通常、1時間〜50時
間程度であり、好適には2時間〜30時間程度である。反
応終了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和
しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸エチル
などで抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって
目的物を単離することができ、このようにして得られた
生成物をさらに精製することなく次の工程に用いること
ができる。所望により、各種クロマトグラフィーあるい
は再結晶法などの手段により精製することもできる。
The reaction temperature is usually -100 ° C to 200 ° C, preferably -78 ° C to 100 ° C. While the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually about 1 hour to 50 hours, preferably about 2 hours to 30 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and the solvent is distilled off from the extract to isolate the desired product. The product thus obtained can be used in the next step without further purification. If desired, it can be purified by a means such as various chromatography or recrystallization method.

【0083】〔工程11〕本工程は、化合物14の水酸基を
塩基の存在下でR2-L (L は脱離基を示す)で表される化
合物と反応させて化合物15を得る工程である。R2-Lの化
合物における脱離基(L) としては、通常の反応に於いて
利用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩
素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;アセトキシ、プ
ロピオニルオキシのようなアルキルカルボニルオキシ
基、クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、
トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキ
シのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基;メ
トキシアセチルオキシのような低級アルコキシアルキル
カルボニルオキシ基;(E)-2-メチル-2- ブテノイルオキ
シのような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪
族アシルオキシ基;ベンゾイルオキシのようなアリ−ル
カルボニルオキシ基;2-ブロモベンゾイルオキシ、4-ク
ロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリ−ルカル
ボニルオキシ基;2,4,6-トリメチルベンゾイルオキシ、
4-トルオイルオキシのような低級アルキル化アリ−ルカ
ルボニルオキシ基;4-アニソイルオキシのような低級ア
ルコキシ化アリ−ルカルボニルオキシ基;4-ニトロベン
ゾイルオキシ、2-ニトロベンゾイルオキシのようなニト
ロ化アリ−ルカルボニルオキシ基等の芳香族アシルオキ
シ基;トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲノメ
チルオキシ基;メタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ基;
トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロ
エタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカン
スルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキシ、p-ト
ルエンスルホニルオキシのようなアリ−ルスルホニルオ
キシ基を用いることができる。より好適には、ハロゲン
原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、ハロゲノ低級
アルカンスルホニルオキシ基、またはアリールスルホニ
ルオキシ基などを使用することができる。
[Step 11] In this step, the hydroxyl group of compound 14 is reacted with the compound represented by R 2 -L (L represents a leaving group) in the presence of a base to give compound 15. . The leaving group (L) in the compound of R 2 -L is not particularly limited as long as it is used in a usual reaction, but for example, a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine; acetoxy, Alkylcarbonyloxy groups such as propionyloxy, chloroacetyloxy, dichloroacetyloxy,
Halogenated alkylcarbonyloxy group such as trichloroacetyloxy, trifluoroacetyloxy; Lower alkoxyalkylcarbonyloxy group such as methoxyacetyloxy; Unsaturated alkylcarbonyloxy such as (E) -2-methyl-2-butenoyloxy Groups such as aliphatic acyloxy groups; arylcarbonyloxy groups such as benzoyloxy; halogenated arylcarbonyloxy groups such as 2-bromobenzoyloxy and 4-chlorobenzoyloxy; 2,4,6-trimethyl Benzoyloxy,
Lower alkylated arylcarbonyloxy groups such as 4-toluoyloxy; lower alkoxylated arylcarbonyloxy groups such as 4-anisoyloxy; 4-nitrobenzoyloxy, 2-nitrobenzoyloxy Aromatic acyloxy groups such as nitrated arylcarbonyloxy groups; trihalogenomethyloxy groups such as trichloromethyloxy; lower alkanesulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy and ethanesulfonyloxy;
A halogeno lower alkanesulfonyloxy group such as trifluoromethanesulfonyloxy and pentafluoroethanesulfonyloxy; an arylsulfonyloxy group such as benzenesulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy can be used. More preferably, a halogen atom, a lower alkanesulfonyloxy group, a halogeno lower alkanesulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group or the like can be used.

【0084】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムt−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類;メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類;トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5-エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類;又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を用いることができ、好適にはアルカ
リ金属炭酸塩を使用することができる。反応を効率的に
行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロ
リド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第4
級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のような
クラウンエーテル類等を添加することもできる。
The base is not particularly limited as long as it can be used as a base in a usual reaction. For example, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate and hydrogen carbonate. Alkali metal hydrogen carbonates such as potassium and lithium hydrogen carbonate; Alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride; sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide and lithium hydroxide Inorganic bases such as alkali metal hydroxides; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide; mercaptan alkali such as methyl mercaptan sodium, ethyl mercaptan sodium Metals Triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N- methylmorpholine, pyridine, 4-(N, N- dimethylamino) pyridine, N,
N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] Organic bases such as undec-7-ene (DBU); or organometallic bases such as butyllithium and lithium diisopropylamide can be used, and alkali metal carbonates can be preferably used. . In order to carry out the reaction efficiently, a fourth compound such as benzyltriethylammonium chloride or tetrabutylammonium chloride is used.
It is also possible to add quaternary ammonium salts, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6, and the like.

【0085】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル
のような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類;メタノール、エタ
ノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノ
ール、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアル
コール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のよう
なアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンの
ようなケトン類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのよう
なニトロ化合物類;アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロ
トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、
スルホランのようなスルホキシド類を用いることができ
る。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, it is an aliphatic hydrocarbon such as hexane, heptane, ligroin or petroleum ether; benzene. Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, carbonic acid Esters such as diethyl; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol , T-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone; nitroethane, nitro such as nitrobenzene Compounds; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; dimethylsulfoxide,
Sulfoxides such as sulfolane can be used.

【0086】反応温度は通常0℃〜150 ℃であり、好適
には20℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応温度
などの条件により変化するが、通常1時間〜10時間程度
であり、好適には2時間〜5時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって目的物
を単離することができ、このようにして得られた生成物
をさらに精製することなく次の工程に用いることができ
る。所望により、各種クロマトグラフィーや再結晶法な
どの手段により精製することも可能である。
The reaction temperature is usually 0 ° C to 150 ° C, preferably 20 ° C to 100 ° C. While the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually about 1 hour to 10 hours, preferably about 2 hours to 5 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc. It can be separated and the product thus obtained can be used in the next step without further purification. If desired, it is possible to purify by various means such as chromatography and recrystallization.

【0087】〔工程12〕本工程は、化合物15を酸処理し
て転位反応により一般式(I)で表される本発明の化合
物においてXがメチレンであり----が付された結合が単
結合の化合物16を得る工程である。酸触媒としては、通
常の反応において酸触媒として使用されるものであれば
特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、
過塩素酸、燐酸のような無機酸、又は酢酸、蟻酸、蓚
酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような
有機酸等のブレンステッド酸;あるいは塩化亜鉛、四塩
化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、
ボロントリブロミド、塩化ガリウム、塩化ゲルマニウム
のようなルイス酸;モンモリロナイトの様な酸性粘土を
用いることができる。好適にはルイス酸および酸性粘土
を用いることができ、より好適には酸性粘土を使用する
ことができる。
[Step 12] In this step, the compound 15 of the present invention represented by the general formula (I) is treated with an acid to undergo a rearrangement reaction. This is a step of obtaining a compound 16 having a single bond. The acid catalyst is not particularly limited as long as it is used as an acid catalyst in a normal reaction, for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid,
Inorganic acids such as perchloric acid and phosphoric acid, or Bronsted acids such as organic acids such as acetic acid, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid; or zinc chloride, Tin tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride,
Lewis acids such as boron tribromide, gallium chloride, germanium chloride; acidic clays such as montmorillonite can be used. Lewis acids and acidic clays can be used preferably, and acidic clays can be used more preferably.

【0088】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
ール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなア
ルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類;アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類を用いることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol , Alcohols such as methyl cellosolve; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone and cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; formamide, Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide ; Can be used dimethyl sulfoxide, sulfoxides such as sulfolane.

【0089】反応温度は通常-20 ℃〜100 ℃であり、好
適には0℃〜50℃である。反応時間は化合物や反応温度
などの条件により変化するが、通常1時間〜30時間程度
であり、好適には5時間〜24時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって目的物
を単離することができる。所望により、各種クロマトグ
ラフィーあるいは再結晶法などの手法により精製するこ
とも可能である。
The reaction temperature is usually -20 ° C to 100 ° C, preferably 0 ° C to 50 ° C. Although the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually about 1 hour to 30 hours, preferably about 5 hours to 24 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, the mixture is extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc. Can be separated. If desired, it is possible to purify by various techniques such as chromatography or recrystallization.

【0090】[0090]

【化9】 Embedded image

【0091】〔工程13〕本工程は、化合物12を製造する
別法として上記スキームに示す方法の第一の工程であ
り、化合物11を金属及び金属塩存在下でブロモ酢酸エス
テルと処理することにより化合物17を得る工程である。
金属及び金属塩としては、通常の縮合反応に用いられる
ものであれば特に限定はないが、好適にはマグネシウ
ム、亜鉛、亜鉛銅合金、錫、二塩化錫、セリウム、塩化
セリウム、ヨウ化サマリウム等を用いることができる。
溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解
するものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエーテル類;ニトロベンゼンのようなニトロ
化合物類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよう
なニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホラ
ンのようなスルホキシド類を用いることができる。
[Step 13] This step is the first step of the method shown in the above scheme as an alternative method for producing compound 12, and compound 11 is treated with bromoacetic acid ester in the presence of a metal and a metal salt. This is the step of obtaining compound 17.
The metal and the metal salt are not particularly limited as long as they can be used in a usual condensation reaction, but are preferably magnesium, zinc, zinc-copper alloy, tin, tin dichloride, cerium, cerium chloride, samarium iodide and the like. Can be used.
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, hexane, heptane, ligroin, an aliphatic hydrocarbon such as petroleum ether; benzene, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene chloride, chloroform,
Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxy Ethers such as ethane and diethylene glycol dimethyl ether; Nitro compounds such as nitrobenzene; Nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; Formamide, dimethylformamide,
Amides such as dimethylacetamide and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane can be used.

【0092】反応温度は通常-100℃〜200 ℃であり、好
適には0℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常1時間〜20時間程
度であり、好適には3時間〜10時間程度である。反応終
了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しな
い溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって目的
物を単離することができ、このようにして得られた生成
物をさらに精製することなく次の工程に用いることがで
きる。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再
結晶法などの手法により精製することもできる。
The reaction temperature is usually -100 ° C to 200 ° C, preferably 0 ° C to 100 ° C. While the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually about 1 to 20 hours, preferably about 3 to 10 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc. It can be separated and the product thus obtained can be used in the next step without further purification. If desired, it can be purified by various techniques such as chromatography or recrystallization.

【0093】〔工程14〕本工程は、化合物17を塩基存在
下若しくは非存在下に脱水して化合物12を得る工程であ
る。脱水剤としては通常の反応に於いて脱水剤として用
いられるものであれば特に限定はないが、例えば、N-エ
チル-5- フェニルイソオキサゾリウム-3'-スルホナ−ト
のようなN-低級アルキル-5- アリールイソオキサゾリウ
ム-3'-スルホナ−ト類;N',N'-ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド(DCC) のようなN',N'-ジシクロアルキルカルボ
ジイミド類;ジ-2- ピリジルジセレニドのようなジヘテ
ロアリールジセレニド類;2-クロル-1- メチルピリジニ
ウム・ヨーダイドのような2-ハロ-1- 低級アルキルピリ
ジニウム・ハライド類;塩化チオニル;オキザリルクロ
リド;5塩化リン等などを用いることができる。
[Step 14] In this step, compound 12 is obtained by dehydrating compound 17 in the presence or absence of a base. The dehydrating agent is not particularly limited as long as it is used as a dehydrating agent in a usual reaction, and for example, N-ethyl-5-phenylisoxazolium-3'-sulfonate such as N- Lower alkyl-5-arylisoxazolium-3'-sulfonates; N ', N'-dicycloalkylcarbodiimides such as N', N'-dicyclohexylcarbodiimide (DCC); di-2-pyridyl Diheteroaryl diselenides such as diselenide; 2-halo-1-lower alkylpyridinium halides such as 2-chloro-1-methylpyridinium iodide; thionyl chloride; oxalyl chloride; phosphorus pentachloride Etc. can be used.

【0094】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム t- ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類;メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類;トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5-エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類;又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を用いることができる。反応を効率的
に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第
4級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のよう
なクラウンエーテル類等を添加することもできる。
The base is not particularly limited as long as it can be used as a base in a usual reaction. For example, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and lithium carbonate; sodium hydrogen carbonate, hydrogen carbonate. Alkali metal hydrogen carbonates such as potassium and lithium hydrogen carbonate; Alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride; sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide and lithium hydroxide Inorganic bases such as alkali metal hydroxides; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide; mercaptan alkalis such as methyl mercaptan sodium and ethyl mercaptan sodium Metals; Triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, N,
N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] Organic bases such as undec-7-ene (DBU); or organometallic bases such as butyllithium and lithium diisopropylamide can be used. In order to carry out the reaction efficiently, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetrabutylammonium chloride, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6 and the like can be added.

【0095】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類;アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノンのようなケトン類;ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙
げることができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene and toluene. , Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene;
Ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; diethyl ether,
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; acetonitrile, isobutyro Nitriles such as nitriles; formamide,
Examples thereof include amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane.

【0096】反応温度は通常-20 ℃〜150 ℃であり、好
適には0℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常1時間〜10時間で
あり、好適には2時間〜5時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって目的物
を単離することができ、このようにして得られた生成物
をさらに精製することなく次の工程に用いることができ
る。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手法により精製を行うことも出来る。
The reaction temperature is usually -20 ° C to 150 ° C, preferably 0 ° C to 100 ° C. While the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually 1 hour to 10 hours, preferably 2 hours to 5 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, the mixture is extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc. It can be separated and the product thus obtained can be used in the next step without further purification. If desired, purification can be carried out by a technique such as various chromatography or recrystallization method.

【0097】[0097]

【化10】 Embedded image

【0098】〔工程15〕本工程は、化合物18と化合物19
とを金属または金属塩存在下に反応させて化合物13を製
造する別の方法である。金属及び金属塩としては、通常
の縮合反応に用いられるものであれば特に限定はない
が、好適にはリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネ
シウム、亜鉛、亜鉛銅合金、錫、二塩化錫、セリウム、
塩化セリウム、ヨウ化サマリウム等を用いることができ
る。溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程度
溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ヘ
キサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような
脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テルのようなエーテル類;ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類;アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類を用いることがで
きる。
[Step 15] In this step, compound 18 and compound 19
Is another method for producing compound 13 by reacting and in the presence of a metal or a metal salt. The metal and the metal salt are not particularly limited as long as they are used in a usual condensation reaction, but are preferably lithium, sodium, potassium, magnesium, zinc, zinc copper alloy, tin, tin dichloride, cerium,
Cerium chloride, samarium iodide, or the like can be used. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to a certain extent, but preferably, hexane, heptane, ligroin, an aliphatic hydrocarbon such as petroleum ether; benzene, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate, etc. Esters; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane,
Ethers such as dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether; nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide A class can be used.

【0099】反応温度は通常-50 ℃〜50℃であり、好適
には-30 ℃〜20℃である。反応時間は化合物や反応温度
などの条件により変化するが、通常1時間〜10時間程度
であり、好適には2時間〜8時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって目的物
を単離することができ、このようにして得られた生成物
をさらに精製することなく次の工程に用いることができ
る。所望により、各種クロマトフラフィーあるいは再結
晶法などの手法により精製することもできる。
The reaction temperature is usually -50 ° C to 50 ° C, preferably -30 ° C to 20 ° C. While the reaction time varies depending on the conditions such as the compound and the reaction temperature, it is usually about 1 hour to 10 hours, preferably about 2 hours to 8 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off, the reaction solution is poured into water, the mixture is extracted with a solvent immiscible with water, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc. It can be separated and the product thus obtained can be used in the next step without further purification. If desired, it can be purified by a technique such as various chromatographic techniques or a recrystallization method.

【0100】以上、本発明の化合物の製造方法を詳細に
説明したが、本発明の化合物の製造方法はこれらに限定
されることはない。また、本明細書の実施例には、さら
に具体的に本発明の化合物の製造方法が説明されている
ので、本明細書の上記の開示や実施例の開示を参照する
ことにより、また、本明細書に説明されたこれらの方法
に必要に応じて適宜の改変や修飾を加えることにより、
上記一般式(I)に包含される本発明の化合物がいずれ
も製造可能であることは当業者に容易に理解されよう。
Although the method for producing the compound of the present invention has been described above in detail, the method for producing the compound of the present invention is not limited thereto. Further, since the examples of the present specification more specifically describe the method for producing the compound of the present invention, by referring to the above disclosure of the present specification and the disclosure of the examples, By adding appropriate alterations or modifications to these methods described in the specification, if necessary,
It will be easily understood by those skilled in the art that any of the compounds of the present invention included in the above general formula (I) can be prepared.

【0101】本発明の化合物又はその生理学的に許容さ
れる塩は、エストロゲン・リセプターに特異的に結合す
ることができ、優れたエストロゲン作用を発揮すること
ができる。従って、本発明の別の態様によれば、上記一
般式(I)で示される化合物及びその生理学的に許容さ
れる塩からなる医薬が提供される。本発明の上記医薬は
エストロゲン作用剤として有用であり、例えば、ヒトを
含む哺乳類、好ましくはヒトにおけるエストロゲン減少
に起因する無月経、無排卵周期症、機能性子宮出血、及
び子宮発育不全症などの疾患、更年期障害、骨粗鬆症、
前立腺癌、前立腺肥大症などの予防及び/又は治療のほ
か、乳汁分泌抑制などに用いることができる。本発明の
さらに別の態様によれば、エストロゲン減少に起因する
疾患、更年期障害、骨粗鬆症、前立腺癌、及び前立腺肥
大症からなる群から選ばれる疾患の予防及び/又は治療
方法であって、上記化合物の有効量をヒトを含む哺乳類
に投与する工程を含む方法、並びに、上記化合物の有効
量をヒトを含む哺乳類に投与する工程を含む乳汁分泌の
抑制方法が提供される。もっとも、本発明の化合物を医
薬として用いる場合の適用対象は上記のものに限定され
ることはない。
The compound of the present invention or a physiologically acceptable salt thereof can specifically bind to the estrogen receptor and exert an excellent estrogenic effect. Therefore, according to another aspect of the present invention, there is provided a medicine comprising the compound represented by the above general formula (I) and a physiologically acceptable salt thereof. The above-mentioned medicament of the present invention is useful as an estrogen agonist, and includes, for example, amenorrhea, anovulatory cycle, functional uterine bleeding, and uterine hypoplasia caused by decreased estrogen in mammals including humans, preferably humans. Disease, menopause, osteoporosis,
It can be used for prevention and / or treatment of prostate cancer, benign prostatic hyperplasia, etc., as well as suppression of milk secretion. According to yet another aspect of the present invention, there is provided a method for preventing and / or treating a disease caused by decreased estrogen, menopausal disorder, osteoporosis, prostate cancer, and benign prostatic hyperplasia, which comprises the above compound. And a method of suppressing lactation comprising administering an effective amount of the compound to a mammal, including a human. However, the application target when the compound of the present invention is used as a medicine is not limited to the above.

【0102】本発明の化合物を医薬として用いる際に
は、それ自体を経口的あるいは非経口的に投与してもよ
いが、上記化合物の1種又は2種以上と製剤上許容され
る他の添加物とを含む医薬用組成物の形態で用いること
が好ましい。従って、本発明のさらに別の態様により、
本発明の化合物と製剤上許容される添加物とを含む医薬
組成物が提供され、さらに上記医薬組成物の製造のため
の本発明の化合物の使用も提供される。このような医薬
用組成物としては、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒
剤、散剤、若しくはシロップ剤などの経口用組成物;又
は、注射剤、点滴剤、座剤、貼付剤、外用剤などの非経
口投与用組成物を例示することができるが、本発明の医
薬用組成物はこれらに限定されることはない。
When the compound of the present invention is used as a medicine, it may be administered orally or parenterally, but one or more of the above compounds and other pharmaceutically acceptable additives may be added. It is preferably used in the form of a pharmaceutical composition containing the product. Thus, according to yet another aspect of the invention,
There is provided a pharmaceutical composition comprising a compound of the invention and a pharmaceutically acceptable additive, as well as the use of a compound of the invention for the manufacture of said pharmaceutical composition. Such pharmaceutical compositions include, for example, oral compositions such as tablets, capsules, granules, powders, or syrups; or injections, infusions, suppositories, patches, external preparations, etc. Examples thereof include compositions for parenteral administration, but the pharmaceutical composition of the present invention is not limited thereto.

【0103】このような組成物の製造には、例えば、賦
形剤(例えば、乳糖、マンニット、トウモロコシデンプ
ン、結晶セルロース等);結合剤(例えば、セルロース
誘導体、アラビアゴム、ゼラチン等);崩壊剤(例え
ば、カルボキシメチルセルロースカルシウム等);滑沢
剤(例えば、タルク、ステアリン酸マグネシウム等);
安定剤;矯味矯臭剤;注射剤用溶剤(例えば、注射用蒸
留水、エタノール、グリセリン等)等を用いることがで
き、当業界で周知の方法に従って製剤化することが可能
である。投与量は化合物の種類、症状、治療又は予防の
目的、患者の年齢など種々の要因を勘案して適宜決定さ
れるべきであるが、例えば、成人一日あたりの投与量の
下限は約 0.6 mg 、好ましくは 6 mg 程度であり、上限
は約 600 mg 、好適には 120 mg 程度である。このよう
な一日投与量を数回に分けて投与することもできる。
For the production of such a composition, for example, an excipient (eg lactose, mannitol, corn starch, crystalline cellulose etc.); a binder (eg cellulose derivative, gum arabic, gelatin etc.); disintegration Agents (eg, carboxymethyl cellulose calcium); lubricants (eg, talc, magnesium stearate etc.);
Stabilizers; flavoring agents; solvents for injections (for example, distilled water for injection, ethanol, glycerin, etc.) and the like can be used, and they can be formulated according to methods well known in the art. The dose should be appropriately determined in consideration of various factors such as the type of compound, symptoms, purpose of treatment or prevention, and age of the patient.For example, the lower limit of the dose per day for an adult is about 0.6 mg. , Preferably about 6 mg, and the upper limit is about 600 mg, preferably about 120 mg. Such a daily dose may be divided into several doses for administration.

【0104】[0104]

【0105】[0105]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらに実施例に限定され
ることはない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

【0106】[0106]

【実施例1】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メトキシフェニ
ル)-8 -(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (1a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 13.4 g
(79.7 mmol)をTHF に溶解し、イソプレニルクロライド
10.8 g (104 mmol)及び炭酸カリウム14.3 g (104mmol)
を加えて 20 時間加熱還流した後、溶媒を留去し、残渣
を酢酸エチルに溶解して水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノール=2
0:1)に付して精製して 9.79 g (52%) の結晶を得た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン:メタノール=10:1, シリカ
ゲル t.l.c. MERCK 社製, Kieselgel 60 F254)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD)δ:5.81(s,1H,aro-H),5.
22(dt,1H,J=1.32,5.27Hz,CH=C),3.27(d,2H,J=7.25Hz,CH
2),2.64(s,3H,Me),1.78(s,3H,Me),1.69(s,3H,Me)(1b) 3
- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン
5.13 g (21.7 mmol) をTHF 200 mlに溶解し、氷冷下に
メトキシメチルクロライド 9.62 g (119.5mmol)及びジ
イソプロピルエチルアミン 16.82 g (130.4 mmol) を加
えて室温で8時間攪拌後、溶媒を留去し、酢酸エチルを
加えて水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル
=6:1) に付して精製し、3.85g (52.7%)の油状物を得
た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.81(s,1H,OH),6.39(s,1
H,arom-H),5.25(s,2H,-CH2),3.51(s,3H,-OMe),3.47(s,3
H,-OMe),3.30(d,2H,J=7.26Hz,-CH2),2.66(s,3H,-CH3),
1.78(s,3H,-CH3),1.66(s,3H,-Me) (1c) ジモム保護3-イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキ
シアセトフェノン 1 g (3 mmol) をDMF 20 ml に溶解
し、氷冷下で水素化ナトリウム 285 mg (6 mmol)を加え
て30分攪拌後、モム保護 3- メトキシ-4- ヒドロキシベ
ンズアルデヒド 600mg (11.9 mmol) を加えて室温で3
時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて有機
層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチ
ル=6:1) に付して精製し、1 g (64.4%) の油状物を得
た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ: 13.8(s,1H,-OH),7.83(d,
1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.73(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.26-
7.15(m,3H,arom-H),6.37(s,1H,arom-H),5.27(s,2H,-OCH
2),5.26(s,2H,-OCH2),5.24(s,2H,-OCH2),5.22(m,1H,-C
H),3.92(s,3H,-OCH3),3.52(s,3H,3H,-OCH3,-OCH3),3.48
(s,3H,-OCH3),3.33(d,2H,J=6.8Hz,-CH2),1.79(s,3H,-CH
3),1.67(s,3H,-CH3) (1d) カルコン体 500 mg (1.2 mmol)をメタノール 30
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪拌
後、2N-HCl 15ml を加えて6時間加熱攪拌した。溶媒を
留去して飽和重曹水、水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:
ヘキサン=2:1) に付して精製し所望の化合物 130 mg (1
7.0%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 (酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 194
〜196 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ :12.09(s,1H,-OH),7.02-
6.92(m,3H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.57(d,d,1H,J=
1.32,5.28Hz,-CH),5.22(m,1H,-CH=C),3.92(s,3H,OMe),
3.24(d,2H,J=6.6Hz,-CH2),2.93(d,d,d,2H,J=3.3,12.54,
17.15Hz,-CH2),1.65(s,3H,Me),1.65(s,3H,Me )
Example 1 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxy-3-methoxyphenyi
) -8- (3-Methyl-2-butenyl) -4-chromanone (1a) 2,4,6-trihydroxyacetophenone 13.4 g
(79.7 mmol) was dissolved in THF and isoprenyl chloride was added.
10.8 g (104 mmol) and potassium carbonate 14.3 g (104 mmol)
After heating and refluxing for 20 hours, the solvent was evaporated, the residue was dissolved in ethyl acetate and washed with water, dried over magnesium sulfate, the solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography ( Methylene chloride: methanol = 2
It was purified by subjecting it to 0: 1) to obtain 9.79 g (52%) of crystals. TLC: Rf = 0.4 (methylene chloride: methanol = 10: 1, silica gel tlc MERCK, Kieselgel 60 F 254 ) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 5.81 (s, 1H, aro- H), 5.
22 (dt, 1H, J = 1.32,5.27Hz, CH = C), 3.27 (d, 2H, J = 7.25Hz, CH
2 ), 2.64 (s, 3H, Me), 1.78 (s, 3H, Me), 1.69 (s, 3H, Me) (1b) 3
-Isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone
Dissolve 5.13 g (21.7 mmol) in 200 ml of THF, add 9.62 g (119.5 mmol) of methoxymethyl chloride and 16.82 g (130.4 mmol) of diisopropylethylamine under ice cooling and stir at room temperature for 8 hours, then evaporate the solvent. Then, ethyl acetate was added and the mixture was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate).
= 6: 1) for purification to give 3.85 g (52.7%) of an oil. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.81 (s, 1H, OH), 6.39 (s, 1
H, arom-H), 5.25 (s, 2H, -CH 2 ), 3.51 (s, 3H, -OMe), 3.47 (s, 3
H, -OMe), 3.30 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ), 2.66 (s, 3H, -CH 3 ),
1.78 (s, 3H, -CH 3 ), 1.66 (s, 3H, -Me) (1c) Zymom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 1 g (3 mmol) dissolved in 20 ml DMF Then, under ice-cooling, 285 mg (6 mmol) of sodium hydride was added and the mixture was stirred for 30 minutes, then 600 mg (11.9 mmol) of mom-protected 3-methoxy-4-hydroxybenzaldehyde was added and the mixture was stirred at room temperature for 3 minutes.
Stir for hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 6: 1) to give 1 g. An oily product (64.4%) was obtained. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.83 (d,
1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.73 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.26-
7.15 (m, 3H, arom-H), 6.37 (s, 1H, arom-H), 5.27 (s, 2H, -OCH
2 ), 5.26 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.24 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.22 (m, 1H, -C
H), 3.92 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.52 (s, 3H, 3H, -OCH 3 , -OCH 3 ), 3.48
(s, 3H, -OCH 3 ), 3.33 (d, 2H, J = 6.8Hz, -CH 2 ), 1.79 (s, 3H, -CH
3 ), 1.67 (s, 3H, -CH 3 ) (1d) chalcone 500 mg (1.2 mmol) in methanol 30
The solution was dissolved in ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 15 ml of 2N-HCl was added and stirred with heating for 6 hours. The solvent was evaporated, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate:
The desired compound 130 mg (1
7.0%) was obtained as crystals. TLC: Rf = 0.35 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 194
~ 196 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.09 (s, 1H, -OH), 7.02-
6.92 (m, 3H, arom-H), 5.99 (s, 1H, arom-H), 5.57 (d, d, 1H, J =
1.32,5.28Hz, -CH), 5.22 (m, 1H, -CH = C), 3.92 (s, 3H, OMe),
3.24 (d, 2H, J = 6.6Hz, -CH 2 ), 2.93 (d, d, d, 2H, J = 3.3,12.54,
17.15Hz, -CH 2 ), 1.65 (s, 3H, Me), 1.65 (s, 3H, Me)

【0107】[0107]

【実施例2】5,7-ジヒドロキシ-2-(3-ヒドロキシ-3- メトキシフェニ
ル)-8 -(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (2a) 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフ
ェノン 1 g (3 mmol) をDMF 20 ml に溶解し氷冷下、水
素化ナトリウム 285 mg (6 mmol)を加えて30分攪拌し、
その後、モム保護 3- ヒドロキシ-4- メトキシベンズア
ルデヒド 600 mg(11.9 mmol) を加えて室温で3時間攪
拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて有機層を水
洗した。飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル
=2:1) に付して精製し、1.24 g(79.8%)の油状物を得
た。
Example 2 5,7-Dihydroxy-2- (3-hydroxy-3-methoxyphenyi
) -8- (3-Methyl-2-butenyl) -4-chromanone (2a) 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 1 g (3 mmol) was dissolved in 20 ml DMF and cooled on ice. , 285 mg (6 mmol) of sodium hydride was added and stirred for 30 minutes,
Thereafter, mom-protected 3-hydroxy-4-methoxybenzaldehyde (600 mg, 11.9 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate).
= 2: 1) for purification to obtain 1.24 g (79.8%) of an oil.

【0108】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.9(s,1H,-OH),7.84(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.72(d,2H,J=15.8Hz,-CH=C),7.50-
6.88(m,3H,arom-H),6.41(s,1H,arom-H),5.28(s,2H,-OCH
2),5.26(s,2H,-OCH2),5.24(s,2H,-OCH2),5.20(m,1H,-C
H),3.91(s,3H,-OCH3),3.53(s,2H,-OCH3),3.48(s,3H,-OC
H3),3.33(d,2H,J=7.26Hz,-CH),1.78(s,3H,-CH3),1.67
(s,3H,-CH3) (2b) カルコン体 730 mg (1.5 mmol)をメタノール 40
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪拌
後、2N-HCl 15 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶媒を
留去し、酢酸エチルを加えて飽和重曹水、水及び飽和食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精製し所望
の化合物100mg (18%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.3(酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 105 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:12.10(s,1H,-OH),7.01(m,
3H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.45(d,d,2H,J=3.3,12.
54Hz),5.19(m,1H),3.900(s,1H,-OMe),3.23(d,2H,J=7.26
Hz),2.83(d,d,d,2H,J=3.3,12.54,17.16Hz),1.65(s,3H,-
Me),1.64(s,3H,-Me)
TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ: 13.9 (s, 1H, -OH), 7.84 (d, 1)
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.72 (d, 2H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.50-
6.88 (m, 3H, arom-H), 6.41 (s, 1H, arom-H), 5.28 (s, 2H, -OCH
2 ), 5.26 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.24 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.20 (m, 1H, -C
H), 3.91 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.53 (s, 2H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OC
H 3 ), 3.33 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH), 1.78 (s, 3H, -CH 3 ), 1.67
(s, 3H, -CH 3 ) (2b) Chalcone 730 mg (1.5 mmol) was added to methanol 40
It was dissolved in ml, several drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 100 mg (18%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.3 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 105 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.10 (s, 1H, -OH), 7.01 (m,
3H, arom-H), 5.99 (s, 1H, arom-H), 5.45 (d, d, 2H, J = 3.3,12.
54Hz), 5.19 (m, 1H), 3.900 (s, 1H, -OMe), 3.23 (d, 2H, J = 7.26
Hz), 2.83 (d, d, d, 2H, J = 3.3,12.54,17.16Hz), 1.65 (s, 3H,-
Me), 1.64 (s, 3H, -Me)

【0109】[0109]

【実施例3】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8 -(3-メ
チルブチル)-4-クロマノン (3a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 370 mgをエタノール 30 mlに溶解
し、10% Pd-C 150 mg を加えて水素気流下に接触水素添
加を行った。4時間後にセライト濾過し、溶媒を留去し
て残渣をカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=3:1) に付して精製し、油状物 150 mg (40%) を得
た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),6.38(s,1
H,arom-H),5.25(s,2H,-OCH2),5.22(s,2H,-OCH2),3.51
(s,3H,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH3),2.65(s,3H,O=C-CH3),
2.62-2.56(m,2H,-CH2),1.78-1.53(m,1H,-CH),1.40-1.31
(m,3H,-CH3),0.95(s,3H,-CH3),0.92(s,3H,-CH3) (3b) 3-(3-メチルブチル)-2,4,6-トリヒドロキシアセト
フェノン 150 mg (0.4 mmol)をDMF 10 ml に溶解した。
氷冷下、水素化ナトリウム 44 mg (0.8 mmol) を加えて
30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズアルデヒ
ド 76 mg (0.4 mmol) を加えて室温で3時間攪拌した。
溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて有機層を水洗した。
飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付
して精製し、150 mg(68.4%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.54
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.05(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH2),5.23(s,2H,-OC
H2),5.20(s,2H,-OCH2),3.52(s,3H,-OCH3),3.49(s,3H,-O
CH3),3.48(s,3H,-OCH3),2.62(m,2H,-CH2),1.60(m,1H,-C
H),1.39(m,2H,-CH2),0.96(s,3H,-CH3),0.94(s,3H,-CH3) (3c) カルコン体 150 mg (0.456 mmol)をメタノール 3
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した。その後、2N-HCl 15ml を加ええ6時間加熱攪拌
し、溶媒を留去した。酢酸エチルを加えて飽和重曹水、
水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付
して精製し所望の化合物 16 mg (11.4 %) を結晶として
得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)m p 196
〜198 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:12.11(s,1H,-OH),7.30(d,
2H,J=8.58Hz,arom-H),6.87(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),5.9
7(s,1H,arom-H),5.32(d,d,1H,J=2.64,12.54Hz),2.89(d,
d,d,2H,J=3.0,12.54,17.16Hz),2.52(d,d,2H,J=7.92,10.
56Hz),1.53(m,1H,CH=Me),1.35(d,d,2H,J=7.92,10.56H
z),0.89(s,3H,Me),0.86(s,3H,Me)
Example 3 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxyphenyl) -8- (3-me
(Cytylbutyl ) -4-chromanone (3a) Dymom protected 3-Isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 370 mg is dissolved in ethanol 30 ml, 10% Pd-C 150 mg is added and contact hydrogen is added under hydrogen flow. The addition was made. After 4 hours, the mixture was filtered through Celite, the solvent was distilled off, and the residue was purified by column chromatography (hexane: ethyl acetate = 3: 1) to obtain 150 mg (40%) of an oily substance. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 6.38 (s, 1
H, arom-H), 5.25 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.22 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.51
(s, 3H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.65 (s, 3H, O = C-CH 3 ),
2.62-2.56 (m, 2H, -CH 2 ), 1.78-1.53 (m, 1H, -CH), 1.40-1.31
(m, 3H, -CH 3 ), 0.95 (s, 3H, -CH 3 ), 0.92 (s, 3H, -CH 3 ) (3b) 3- (3-methylbutyl) -2,4,6-trihydroxy Acetophenone 150 mg (0.4 mmol) was dissolved in DMF 10 ml.
Add 44 mg (0.8 mmol) of sodium hydride under ice cooling.
After stirring for 30 minutes, 76 mg (0.4 mmol) of mom-protected p-hydroxybenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.
The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water.
After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain 150 mg (68.4%) of an oily substance. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.83 (d, 1
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.75 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.54
(d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 7.05 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H),
6.38 (s, 1H, arom-H), 5.26 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.23 (s, 2H, -OC
H 2 ), 5.20 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.52 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.49 (s, 3H, -O
CH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.62 (m, 2H, -CH 2 ), 1.60 (m, 1H, -C
H), 1.39 (m, 2H, -CH 2 ), 0.96 (s, 3H, -CH 3 ), 0.94 (s, 3H, -CH 3 ) (3c) Chalcone 150 mg (0.456 mmol) in methanol 3
It was dissolved in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Then, 15 ml of 2N-HCl was added and the mixture was heated with stirring for 6 hours, and the solvent was distilled off. Add ethyl acetate and add saturated sodium bicarbonate water,
After washing with water and saturated saline, it was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 16 mg (11.4%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1) mp 196
~ 198 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.11 (s, 1H, -OH), 7.30 (d,
2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.87 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 5.9
7 (s, 1H, arom-H), 5.32 (d, d, 1H, J = 2.64,12.54Hz), 2.89 (d,
d, d, 2H, J = 3.0,12.54,17.16Hz), 2.52 (d, d, 2H, J = 7.92,10.
56Hz), 1.53 (m, 1H, CH = Me), 1.35 (d, d, 2H, J = 7.92,10.56H
z), 0.89 (s, 3H, Me), 0.86 (s, 3H, Me)

【0110】[0110]

【実施例4】8-アリル- 5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニ
ル)-4-クロマノン (4a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 4.76 g (2
8.3 mmol) をTHF 300 mlに溶解し、アリルブロミド 2.6
g (33.9 mmol)及び炭酸カリウム9.3 g (56.6 mmol) を
加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去し、残渣 420 m
g にTHF 100 mlを加えて溶解し、氷冷下にメトキシメチ
ルクロライド 760 mg (0.95 mmol) 及びジイソプロピル
エチルアミン 1.46 g (1.8 mmol)を加えて室温で8時間
攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=6:1) に
付して精製し、140 mg (1.5%)の黄色油状物を得た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン:メタノ−ル=10:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:13.8(ns,1H,-OH),
6.41(s,1H,arom-H),6.01-5.86(m,1H,-CH=C),5.26(s,2H,
-OCH2),5.22(s,2H,-OCH2),5.12-4.91(m,2H,-CH2),3.51
(s,3H,-OCH3),3.46(s,3H,-OCH3),3.35(m,2H,-CH2),2.67
(s,3H,-CH3) (4b) ジモム保護 3- アリル-2,4,6- トリヒドロキシア
セトフェノン 140 mg (6.47 mmol) をDMF 10 ml に溶解
した。氷冷下、水素化ナトリウム 42 mg (0.94 mmol)を
加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズア
ルデヒド 78 mg (0.47 mmol)を加えて室温で3時間攪拌
した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に
付して精製し 160 mg (71.2%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.84(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.77(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.54
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.06(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.40(s,1H,arom-H),6.01-5.89(m,1H,-CH),5.28(s,2H,-O
CH2),5.24(s,2H,-OCH2),5.21(s,2H,-OCH2),5.12-4.48
(m,2H,-CH=CH-),3.59(s,3H,-OCH3),3.49(s,3H,-OCH3),
3.48(s,3H,-OCH3),3.39(m,2H,-CH2) (4c) カルコン体 160 mg (0.3 mmol)をメタノール 30
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪拌し
た。2N-HCl 15 mlを加えて6時間加熱攪拌した後、溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和
食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下に
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精製し所望
の化合物 30 mg (20.2%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 193-19
5 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:12.1(s,1H,-OH),7.29(d,2
H,J=8.58Hz,arom-H),6.92(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.00
(s,1H,arom-H),5.91(m,1H,CH=C),5.33(d,d,1H,J=3.3,1
3.2Hz,-CH),4.95(d,d,1H,J=3.3,9.3Hz,CH=C),3.29(d,2
H,J=5.94Hz),2.90(d,d,d,2H,J=2.64,12.54,17.16Hz )
Example 4 8-allyl-5,7-dihydroxy-2- (4-hydroxyphenyl)
) -4-Chromanone (4a) 2,4,6-trihydroxyacetophenone 4.76 g (2
8.3 mmol) in THF (300 ml) and allyl bromide 2.6
g (33.9 mmol) and potassium carbonate 9.3 g (56.6 mmol) were added, and the mixture was heated under reflux for 20 hours. The solvent was distilled off, and the residue was 420 m.
To 100 g of THF was added and dissolved, and 760 mg (0.95 mmol) of methoxymethyl chloride and 1.46 g (1.8 mmol) of diisopropylethylamine were added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 6: 1) to obtain 140 mg (1.5%) of a yellow oily substance. TLC: Rf = 0.4 (methylene chloride: methanol = 10: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 13.8 (ns, 1H, -OH),
6.41 (s, 1H, arom-H), 6.01-5.86 (m, 1H, -CH = C), 5.26 (s, 2H,
-OCH 2 ), 5.22 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.12-4.91 (m, 2H, -CH 2 ), 3.51
(s, 3H, -OCH 3 ), 3.46 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.35 (m, 2H, -CH 2 ), 2.67
(s, 3H, -CH 3 ) (4b) Zymom-protected 3-allyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 140 mg (6.47 mmol) was dissolved in DMF 10 ml. Sodium hydride (42 mg, 0.94 mmol) was added under ice-cooling and the mixture was stirred for 30 minutes, then mom-protected p-hydroxybenzaldehyde (78 mg, 0.47 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1) to give 160 mg ( An oil (71.2%) was obtained. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.84 (d, 1
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.77 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.54
(d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 7.06 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H),
6.40 (s, 1H, arom-H), 6.01-5.89 (m, 1H, -CH), 5.28 (s, 2H, -O
CH 2 ), 5.24 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.21 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.12-4.48
(m, 2H, -CH = CH-), 3.59 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.49 (s, 3H, -OCH 3 ),
3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.39 (m, 2H, -CH 2 ) (4c) chalcone form 160 mg (0.3 mmol) in methanol 30
It was dissolved in ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. After adding 15 ml of 2N-HCl and heating and stirring for 6 hours, the solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine. The extract was dried over magnesium sulfate, the solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 30 mg (20.2%) of the desired compound as crystals. . TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 193-19
5 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.1 (s, 1H, -OH), 7.29 (d, 2
H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.92 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.00
(s, 1H, arom-H), 5.91 (m, 1H, CH = C), 5.33 (d, d, 1H, J = 3.3,1
3.2Hz, -CH), 4.95 (d, d, 1H, J = 3.3,9.3Hz, CH = C), 3.29 (d, 2
H, J = 5.94Hz), 2.90 (d, d, d, 2H, J = 2.64,12.54,17.16Hz)

【0111】[0111]

【実施例5】5,7-ジヒドロキシ-2-(3,4-ジヒドロキシフェニル)-8-(3
- メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (5a) 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフ
ェノン 299 mg (0.8 mmol)をDMF 10 ml に溶解し、氷冷
下に水素化ナトリウム 88 mg (1.6 mmol) を加え30分攪
拌した。その後、ジモム保護3,4-ジヒドロキシベンズア
ルデヒド 1.97 g(11.9 mmol) を加えて室温で3時間攪
拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水
洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
4:1) に付して精製し300 mg (85.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.73(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.50-
7.18(m,4H,arom-H),6.41(s,1H,arom-H),5.28(s,2H, -OC
H2),5.24(s,2H,-OCH2),5.22(s,2H,-OCH2),3.52(s,3H,3
H,-OCH3,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH3),3.32(d,2H,J=7.26H
z,-CH2),1.78(s,3H,-CH3),1.67(s,3H,-CH3) (5b) カルコン体 300 mg (0.58 mmol) をメタノール 3
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 15ml を加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下
に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精製し
所望の化合物 22 mg (9.6%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=1:1), m.p. 168 ℃1 H-NMR(270MHz, CDCl3) δ:12.11(s,1H,-OH),7.30-6.80
(m,3H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.40(d,d,2H,J=3.3,
12.54Hz),5.19(m,1H),3.24(d,2H,J=6.6Hz,-CH2),2.93
(d,d,d,2H,J=3.3,12.54,17.15Hz,-CH2),1.65(s,3H,-M
e),1.65(s,3H,-CH2)
Example 5 5,7-Dihydroxy-2- (3,4-dihydroxyphenyl) -8- (3
-Methyl-2-butenyl) -4-chromanone (5a) 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 299 mg (0.8 mmol) was dissolved in DMF 10 ml and sodium hydride 88 mg under ice cooling. (1.6 mmol) was added and stirred for 30 minutes. Then, 1.97 g (11.9 mmol) of zymom-protected 3,4-dihydroxybenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate =
After purification by 4: 1), 300 mg (85.8%) of an oily substance was obtained. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 2: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.83 (d, 1
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.73 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.50-
7.18 (m, 4H, arom-H), 6.41 (s, 1H, arom-H), 5.28 (s, 2H, -OC
H 2 ), 5.24 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.22 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.52 (s, 3H, 3
H, -OCH 3 , -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.32 (d, 2H, J = 7.26H
z, -CH 2 ), 1.78 (s, 3H, -CH 3 ), 1.67 (s, 3H, -CH 3 ) (5b) Chalcone 300 mg (0.58 mmol) in methanol 3
After dissolving in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH were added and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 2 ml of 2N-HCl was added and the mixture was heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 22 mg (9.6%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 1: 1), mp 168 ° C 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.11 (s, 1H, -OH), 7.30-6.80
(m, 3H, arom-H), 5.99 (s, 1H, arom-H), 5.40 (d, d, 2H, J = 3.3,
12.54Hz), 5.19 (m, 1H), 3.24 (d, 2H, J = 6.6Hz, -CH 2 ), 2.93
(d, d, d, 2H, J = 3.3,12.54,17.15Hz, -CH 2 ), 1.65 (s, 3H, -M
e), 1.65 (s, 3H, -CH 2 )

【0112】[0112]

【実施例6】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-3-メチル
-8-(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (6a) 2,4,6- トリヒドロキシプロピオフェノン 5 g (2
7.4 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、イソプレニルクロラ
イド 2.87 g (27.4 mmol) 及び炭酸カリウム 7.58g (5
4.8 mmol) を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去
し、残渣 680 mg にTHF 200 mlを加えて溶解し、氷冷下
にメトキシメチルクロライド 1.09 g (13.5 mmol) 及び
ジイソプロピルエチルアミン 2.1 g (16.2 mmol)を加え
て室温で8時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを
加えて水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸
エチル=5:1) に付して精製し、330 mg (3.5%) の油状物
を得た。 TLC:Rf=0.4 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:13.8(s,1H,-OH),6.
39(s,1H,arom-H),5.24(s,2H,-OCH2),5.22(s,2H,-OCH2),
5.20(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH3),3.47(s,3H,-OCH3),
3.30(d,2H,J=8.26Hz,-CH2),3.06(q,2H,J=7.26Hz,-CH2),
1.77(s,3H,-CH3),1.65(s,3H,-CH3),1.17(t,3H,J=7.26H
z,-CH3) (6b) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシプロピオフェノン 330 mg (0.97 mmol) をDMF 10 m
l に溶解し氷冷下、水素化ナトリウム 106 mg (2.1 mmo
l)を加えて30分攪拌した後、モム保護 4- ヒドロキシベ
ンズアルデヒド 162 mg (0.97 mmol) を加えて室温で3
時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機
層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=5:1)に付して精製し、180 mg(44.1%)の油状物を
得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:11.4(s,1H,-OH),7.34(d,2
H,J=8.58Hz,arom-H),7.04(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.79
(m,1H,-CH=C),6.43(s,1H,arom-H),5.27(m,1H,-CH),5.23
(s,2H,-OCH2),5.18(s,2H,-OCH2),5.03(s,2H,-OCH2),3.4
7(s,3H,3H,-OCH3,-OCH3),3.32(s,3H,-OCH3),2.19(m,3H,
C=C-CH3),1.79(s,3H,-CH3),1.68(s,3H,-CH3) (6c) カルコン体 180 mg (0.41 mmol) をメタノール 1
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 15 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル: ヘキサン=2:1) に付してト
ランス体、シス体を分別精製し、トランス体 40 mg(36.
2%) 及びシス体 11 mg (0.099%) を結晶として得た。 トランス体:TLC:Rf=0.3 (ヘキサン: 酢酸エチル=2:1),
m.p.157-160℃ シス体 :TLC:Rf=0.25(ヘキサン: 酢酸エチル=2:1),
m.p.60-63℃ トランス体:1H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:12.28(s,1H,
-OH),7.27(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.87(d,2H,J=8.58H
z,arom-H),5.98(s,1H,arom-H),5.16(m,1H,-OH),4.89(d,
1H,J=11.88Hz,-CH),3.18(d,2H,J=7.26Hz,-CH2),2.96(d,
q,1H,J=7.26,11.87Hz,-CH),1.64(s,3H,-Me),1.56(s,3H,
-Me),1.01(d,3H,J=7.26Hz,-Me) シス体 : 1H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:12.16(s,1H,
-OH),7.38-6.84(m,4H,arom-H),6.00(s,1H,arom-H),5.44
(d,1H,J=3.3Hz,-CH),5.23(m,1H),3.30(d,2H,J=7.0Hz,-C
H2),2.48(d,q,1H,J=2.64,7.26Hz,-CH),1.72(s,3H,-Me),
1.68(s,3H,-Me),1.00(d,3H,J=7.26Hz,-Me)
Example 6 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxyphenyl) -3-methyl
-8- (3-Methyl-2-butenyl) -4-chromanone (6a) 2,4,6-trihydroxypropiophenone 5 g (2
7.4 mmol) was dissolved in 300 ml of THF and 2.87 g (27.4 mmol) of isoprenyl chloride and 7.58 g (5
4.8 mmol) was added and the mixture was heated under reflux for 20 hours. The solvent was evaporated, and 680 mg of the residue was added with 200 ml of THF to dissolve the residue. Under ice cooling, 1.09 g (13.5 mmol) of methoxymethyl chloride and 2.1 g (16.2 mmol) of diisopropylethylamine were added and stirred at room temperature for 8 hours. . The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain 330 mg (3.5%) of an oily substance. TLC: Rf = 0.4 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 6.
39 (s, 1H, arom-H), 5.24 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.22 (s, 2H, -OCH 2 ),
5.20 (m, 1H, -CH), 3.50 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.47 (s, 3H, -OCH 3 ),
3.30 (d, 2H, J = 8.26Hz, -CH 2 ), 3.06 (q, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ),
1.77 (s, 3H, -CH 3 ), 1.65 (s, 3H, -CH 3 ), 1.17 (t, 3H, J = 7.26H
z, -CH 3 ) (6b) Dimom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxypropiophenone 330 mg (0.97 mmol) in DMF 10 m
Dissolve in 10 ml of sodium hydride under ice-cooling 106 mg (2.1 mmo
l) was added and stirred for 30 minutes, then 162 mg (0.97 mmol) of mom-protected 4-hydroxybenzaldehyde was added and the mixture was stirred at room temperature for 3 minutes.
Stir for hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain 180 mg (44.1%) of an oily substance. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 11.4 (s, 1H, -OH), 7.34 (d, 2
H, J = 8.58Hz, arom-H), 7.04 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.79
(m, 1H, -CH = C), 6.43 (s, 1H, arom-H), 5.27 (m, 1H, -CH), 5.23
(s, 2H, -OCH 2 ), 5.18 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.03 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.4
7 (s, 3H, 3H, -OCH 3 , -OCH 3 ), 3.32 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.19 (m, 3H,
C = C-CH 3 ), 1.79 (s, 3H, -CH 3 ), 1.68 (s, 3H, -CH 3 ) (6c) 180 mg (0.41 mmol) of chalcone compound in methanol 1
The solution was dissolved in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 15 ml of 2N-HCl was added and heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to separate and purify the trans form and the cis form, and 40 mg of the trans form (36.
2%) and 11 mg (0.099%) of cis isomer were obtained as crystals. Trans form: TLC: Rf = 0.3 (hexane: ethyl acetate = 2: 1),
mp157-160 ℃ cis isomer: TLC: Rf = 0.25 (hexane: ethyl acetate = 2: 1),
mp 60-63 ℃ Trans form: 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.28 (s, 1H,
-OH), 7.27 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.87 (d, 2H, J = 8.58H
z, arom-H), 5.98 (s, 1H, arom-H), 5.16 (m, 1H, -OH), 4.89 (d,
1H, J = 11.88Hz, -CH), 3.18 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ), 2.96 (d,
q, 1H, J = 7.26,11.87Hz, -CH), 1.64 (s, 3H, -Me), 1.56 (s, 3H,
-Me), 1.01 (d, 3H, J = 7.26Hz, -Me) cis isomer: 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.16 (s, 1H,
-OH), 7.38-6.84 (m, 4H, arom-H), 6.00 (s, 1H, arom-H), 5.44
(d, 1H, J = 3.3Hz, -CH), 5.23 (m, 1H), 3.30 (d, 2H, J = 7.0Hz, -C
H 2 ), 2.48 (d, q, 1H, J = 2.64,7.26Hz, -CH), 1.72 (s, 3H, -Me),
1.68 (s, 3H, -Me), 1.00 (d, 3H, J = 7.26Hz, -Me)

【0113】[0113]

【実施例7】2-(4- クロロフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル
-2- ブテニル)-4-クロマノン (7a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 500mg (1.47 mmol) をDMF 30 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 142 mg (2.94 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、p-クロロベンズアルデヒ
ド 200 mg (1.47mmol) を加えて室温で3時間攪拌し
た。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)
に付して精製し、500 mg(73%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.7(s,1H,-OH),7.87(d,1
H,J=15.1Hz,-CH=C),7.68(d,1H,J=15.1Hz,-CH=C),7.51
(d,2H,J=8.57Hz,arom-H),7.36(d,2H,J=8.57Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH2),5.24(s,2H,-OC
H2),5.22(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH
3),3.32(d,2H,J=7.26Hz,-CH2),1.79(s,3H,-CH3),1.67
(s,3H,-CH3) (7b) カルコン体 500 mg (1 mmol)をメタノール 30 ml
に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪拌した
後、2N-HCl 20 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶媒を
留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和食
塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下
に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=4:1) に付して精製し
所望の化合物 70 mg (18%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=3:1), m.p. 162 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.0(s,1H,-OH),7.
39(m,4H,arom-H) 5.99(s,1H,arom-H),5.38(dd,1H,J=3.
3,12.5Hz,-CH),5.18(m,1H,-CH),3.23(d,2H,J=7.26Hz,-C
H2),2.88(ddd,2H,J=3.3,12.5,17.1Hz,-CH2),1.66(s,3H,
-CH3),1.63(s,3H,-CH3)
Example 7 2- (4-chlorophenyl) -5,7-dihydroxy-8- (3-methyl
-2-butenyl) -4-chromanone (7a) Zymom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 500 mg (1.47 mmol) in DMF 30 ml
Dissolve in 142 mg (2.94 mm) of sodium hydride under ice cooling.
was added and stirred for 30 minutes, 200 mg (1.47 mmol) of p-chlorobenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. Silica gel column chromatography of the residue (hexane: ethyl acetate = 5: 1)
And purified to give 500 mg (73%) of an oil. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.7 (s, 1H, -OH), 7.87 (d, 1
H, J = 15.1Hz, -CH = C), 7.68 (d, 1H, J = 15.1Hz, -CH = C), 7.51
(d, 2H, J = 8.57Hz, arom-H), 7.36 (d, 2H, J = 8.57Hz, arom-H),
6.38 (s, 1H, arom-H), 5.26 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.24 (s, 2H, -OC
H 2 ), 5.22 (m, 1H, -CH), 3.50 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH
3 ), 3.32 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ), 1.79 (s, 3H, -CH 3 ), 1.67
(s, 3H, -CH 3 ) (7b) Chalcone 500 mg (1 mmol) in methanol 30 ml
The solution was dissolved in the above solution, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then, 20 ml of 2N-HCl was added, and the mixture was heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 4: 1) to obtain 70 mg (18%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 3: 1), mp 162 ° C 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.0 (s, 1H, -OH), 7.
39 (m, 4H, arom-H) 5.99 (s, 1H, arom-H), 5.38 (dd, 1H, J = 3.
3,12.5Hz, -CH), 5.18 (m, 1H, -CH), 3.23 (d, 2H, J = 7.26Hz, -C
H 2 ), 2.88 (ddd, 2H, J = 3.3,12.5,17.1Hz, -CH 2 ), 1.66 (s, 3H,
-CH 3 ), 1.63 (s, 3H, -CH 3 )

【0114】[0114]

【実施例8】2-(4- ブロモフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル
-2- ブテニル)-4-クロマノン (8a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 450mg (1.33 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 128 mg (2.66 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、p-ブロモベンズアルデヒ
ド 246 mg (1.33mmol) を加えて室温で3時間攪拌し
た。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)
に付して精製し、590 mg(87.4%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.7(bs,1H,-OH),7.88(d,
1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.67(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.52
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.44(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH2),5.24(s,2H,-OC
H2),5.21(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH
3),3.33(d,2H,J=7.26Hz,-CH2),1.78(s,3H,-CH3),1.67
(s,3H,-CH3) (8b) カルコン体 590 mg (1.16 mmol) をメタノール 4
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加え室温で6時間攪拌し
た後、2N-HCl 25 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和
食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=4:1) に付して精製
し所望の化合物 60 mg (15.1%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=3:1), m.p. 164℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :12.0(bs,1H,-OH),
7.54(d,2H,J=7.9Hz,arom-H),7.34(d,2H,J=7.9Hz,arom-
H),5.99(s,1H,arom-H),5.37(dd,1H,J=3.3,12.5Hz,-CH),
5.18(m,1H,-CH),3.24(d,2H,J=7.2Hz,-CH2),2.88(ddd,2
H,J=3.3,12.5,17.1Hz,-CH2),1.66(s,3H,-CH3),1.63(s,3
H,-CH3)
Example 8 2- (4-Bromophenyl) -5,7-dihydroxy-8- (3-methyl
-2-butenyl) -4-chromanone (8a) Zymom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 450 mg (1.33 mmol) in DMF 40 ml
Dissolved in 128 mg (2.66 mm) of sodium hydride under ice cooling.
ol) was added and the mixture was stirred for 30 minutes, 246 mg (1.33 mmol) of p-bromobenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. Silica gel column chromatography of the residue (hexane: ethyl acetate = 3: 1)
After purification by filtration, 590 mg (87.4%) of an oily substance was obtained. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.7 (bs, 1H, -OH), 7.88 (d,
1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.67 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.52
(d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 7.44 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H),
6.38 (s, 1H, arom-H), 5.26 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.24 (s, 2H, -OC
H 2 ), 5.21 (m, 1H, -CH), 3.50 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH
3 ), 3.33 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ), 1.78 (s, 3H, -CH 3 ), 1.67
(s, 3H, -CH 3 ) (8b) Chalcone 590 mg (1.16 mmol) was added to methanol 4
After dissolving in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH were added and stirred at room temperature for 6 hours, then 25 ml of 2N-HCl was added and stirred with heating for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 4: 1) to obtain 60 mg (15.1%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 3: 1), mp 164 ° C 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.0 (bs, 1H, -OH),
7.54 (d, 2H, J = 7.9Hz, arom-H), 7.34 (d, 2H, J = 7.9Hz, arom-
H), 5.99 (s, 1H, arom-H), 5.37 (dd, 1H, J = 3.3,12.5Hz, -CH),
5.18 (m, 1H, -CH), 3.24 (d, 2H, J = 7.2Hz, -CH 2 ), 2.88 (ddd, 2
H, J = 3.3,12.5,17.1Hz, -CH 2 ), 1.66 (s, 3H, -CH 3 ), 1.63 (s, 3
H, -CH 3 )

【0115】[0115]

【実施例9】2-(4- フルオロフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチ
ル-2- ブテニル)-4-クロマノン (9a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 400mg (1.18 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 113 mg (2.36 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、p-フロロベンズアルデヒ
ド 147 mg (1.18mmol) を加えて室温で3時間攪拌し
た。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)
に付して精製し、450 mg(86%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz,CDCl3) δ:13.7(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.71(d.1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.56-
7.14(m,4H,arom-H),6.38(s,1H,arom-H),5.27(s,2H,-OCH
2),5.24(s,2H,-OCH2),5.22(m,1H,-CH),3.51(s,3H,-OC
H3),3.48(s,3H,-OCH3),3.43(d,2H,J=6.6Hz,-CH2),1.79
(s,3H,-CH3),1.67(s,3H,-CH3) (9b) カルコン体 450 mg (1 mmol)をメタノール 40 ml
に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪拌した
後、2N-HCl 25 mlを加え6時間加熱攪拌した。溶媒を留
去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)に付して精製し所
望の化合物130 mg (17.0%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.6(酢酸エチル:ヘキサン=3:1), m.p. 152-15
3 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.0(s,1H,-OH),7.
46-7.08(m,4H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.39(dd,1H,
J=3.3,12.5Hz,-CH),5.18(m,1H,-CH),3.24(d,2H,J=7.26H
z,-CH2),2.86(ddd,2H,J=2.6,12.5,17.1Hz,-CH2),1.66
(s,3H,-CH3),1.63(s3H,-CH3)
Example 9 2- (4-Fluorophenyl) -5,7-dihydroxy-8- (3-methyl
Ru-2-butenyl) -4-chromanone (9a) Zymom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 400 mg (1.18 mmol) in DMF 40 ml
Sodium hydride (113 mg (2.36 mm)
ol) was added and the mixture was stirred for 30 minutes, 147 mg (1.18 mmol) of p-fluorobenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. Silica gel column chromatography of the residue (hexane: ethyl acetate = 5: 1)
And purified to give 450 mg (86%) of an oil. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.7 (s, 1H, -OH), 7.83 (d, 1
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.71 (d.1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.56-
7.14 (m, 4H, arom-H), 6.38 (s, 1H, arom-H), 5.27 (s, 2H, -OCH
2 ), 5.24 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.22 (m, 1H, -CH), 3.51 (s, 3H, -OC
H 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.43 (d, 2H, J = 6.6Hz, -CH 2 ), 1.79
(s, 3H, -CH 3 ), 1.67 (s, 3H, -CH 3 ) (9b) Chalcone 450 mg (1 mmol) in methanol 40 ml
The solution was dissolved in the above solution, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then, 25 ml of 2N-HCl was added, and the mixture was heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 130 mg (17.0%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.6 (ethyl acetate: hexane = 3: 1), mp 152-15
3 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.0 (s, 1H, -OH), 7.
46-7.08 (m, 4H, arom-H), 5.99 (s, 1H, arom-H), 5.39 (dd, 1H,
J = 3.3,12.5Hz, -CH), 5.18 (m, 1H, -CH), 3.24 (d, 2H, J = 7.26H
z, -CH 2 ), 2.86 (ddd, 2H, J = 2.6,12.5,17.1Hz, -CH 2 ), 1.66
(s, 3H, -CH 3 ), 1.63 (s3H, -CH 3 )

【0116】[0116]

【実施例10】2-(4- アセトアミノフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-
メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (10a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 700mg (2 mmol)をDMF 40 ml に溶
解し、氷冷下に水素化ナトリウム 200 mg (4 mmol)を加
えて30分攪拌した後、p-アセトアミノベンズアルデヒド
340 mg (2 mmol)を加えて室温で3時間攪拌した。溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗した。飽和
食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
して減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル)に付して精製し、400
mg(39.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.6 (酢酸エチル)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.84(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.70(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.69
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.51(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.28(s,2H,-OCH2),5.24(s,2H,-OC
H2),5.22(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH
3),3.32(d,2H,J=7.26Hz,-CH2),2.18(s,3H,O=C-CH3),1.7
8(s,3H,-CH3),1.60(s,3H,-CH3) (10b) カルコン体 400 mg (0.82 mmol) をメタノール 8
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 20 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精
製し所望の化合物 13.9 mg (4.1%) を結晶として得た。
Example 10 2- (4-acetaminophenyl) -5,7-dihydroxy-8- (3-
Methyl-2-butenyl) -4-chromanone (10a) Zymom protected 3-Isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 700 mg (2 mmol) was dissolved in DMF 40 ml and sodium hydride 200 mg under ice cooling. (4 mmol) was added and stirred for 30 minutes, then p-acetaminobenzaldehyde was added.
340 mg (2 mmol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate).
Obtained mg (39.8%) of an oil. TLC: Rf = 0.6 (Ethyl acetate) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.84 (d, 1
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.70 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.69
(d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 7.51 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H),
6.38 (s, 1H, arom-H), 5.28 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.24 (s, 2H, -OC
H 2 ), 5.22 (m, 1H, -CH), 3.50 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH
3 ), 3.32 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ), 2.18 (s, 3H, O = C-CH 3 ), 1.7
8 (s, 3H, -CH 3 ), 1.60 (s, 3H, -CH 3 ) (10b) 400 mg (0.82 mmol) of chalcone compound in methanol 8
After dissolving in 0 ml, several drops of 1N-NaOH were added and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, 20 ml of 2N-HCl was added, and the mixture was heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 13.9 mg (4.1%) of the desired compound as crystals.

【0117】TLC:Rf=0.4(酢酸エチル:ヘキサン=1:1),
m.p. 222-223 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:11.9(s,1H,-OH),7.
56(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.40(d,2H,J=8.58Hz,arom-
H),6.03(s,1H,arom-H),5.37(dd,1H,J=3.3,12.58Hz,-C
H),5.20(m,1H,-CH),3.28(d,2H,J=7.26Hz,-CH2),2.89(dd
d,2H,J=3.0,12.5,17.1Hz,-CH2),2.20(s,3H,O=C-CH3),1.
68(s,3H,3H,-CH3,-CH3)
TLC: Rf = 0.4 (ethyl acetate: hexane = 1: 1),
mp 222-223 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 11.9 (s, 1H, -OH), 7.
56 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 7.40 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-
H), 6.03 (s, 1H, arom-H), 5.37 (dd, 1H, J = 3.3,12.58Hz, -C
H), 5.20 (m, 1H, -CH), 3.28 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ), 2.89 (dd
d, 2H, J = 3.0,12.5,17.1Hz, -CH 2 ), 2.20 (s, 3H, O = C-CH 3 ), 1.
68 (s, 3H, 3H, -CH 3 , -CH 3 )

【0118】[0118]

【実施例11】5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル-2- ブテニル)-2-フェニ
ル- 4-クロマノン (11a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 400mg (1.18 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 62 mg (2.36 mmo
l)を加えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 142 mg
(1.18 mmol) を加えて室温で3時間攪拌した。溶媒を留
去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗した。飽和食塩
水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付して精製
し、470 mg(89.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.87(d,1
H,J=15.18Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.18Hz,-CH=C),7.49
(d,2H,J=7.9Hz,arom-H),7.20(d,2H,J=7.9Hz,arom-H),6.
39(s,2H),5.26(s,2H,-OCH2),5.20(s,2H,-OCH2),5.17(m,
1H,-CH),3.57(s,3H,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH3),3.32(d,2
H,J=7.26Hz,-CH3),2.37(s,3H,-CH3),1.78(s,3H,-CH3),
1.67(s,3H,-CH3) (11b) カルコン体 470 mg (1 mmol)をメタノール 50 ml
に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪拌した
後、2N-HCl 20 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶媒を
留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル:ヘキサン=4:1)に付して精製し所望
の化合物 64 mg (17%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.7(酢酸エチル:ヘキサン=3:1), m.p. 162-16
3 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.1(s,1
H,−OH),7.34(d,2H,J=8.58H
z,arom−H),7.22(d,2H,J=8.5
8Hz,arom−H),5.98(s,1H,aro
m−H),5.37(dd,1H,J=3.3,12.
5Hz,−CH),5.20(m,1H,−CH=
C),3.24(d,2H,J=6.6Hz,−C
),2.79(ddd,2H,J=2.6,12.
5,17.1Hz,−CH),2.31(s,3H,
−CH),1.66(s,3H,−CH),1.6
3(s,3H,−CH
Example 11 5,7-Dihydroxy-8- (3-methyl-2-butenyl) -2- phenyl
Ru-4-chromanone (11a) Zymom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 400 mg (1.18 mmol) in DMF 40 ml
Dissolve in 62 mg of sodium hydride under ice cooling (2.36 mmo
l) was added and stirred for 30 minutes, then benzaldehyde 142 mg
(1.18 mmol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain 470 mg (89.8%) of an oily substance. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.87 (d, 1
H, J = 15.18Hz, -CH = C), 7.75 (d, 1H, J = 15.18Hz, -CH = C), 7.49
(d, 2H, J = 7.9Hz, arom-H), 7.20 (d, 2H, J = 7.9Hz, arom-H), 6.
39 (s, 2H), 5.26 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.20 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.17 (m,
1H, -CH), 3.57 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.32 (d, 2
H, J = 7.26Hz, -CH 3 ), 2.37 (s, 3H, -CH 3 ), 1.78 (s, 3H, -CH 3 ),
1.67 (s, 3H, -CH 3 ) (11b) chalcone 470 mg (1 mmol) in methanol 50 ml
The solution was dissolved in the above solution, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 4: 1) to obtain the desired compound 64 mg (17%) as crystals. TLC: Rf = 0.7 (ethyl acetate: hexane = 3: 1), mp 162-16
3 ° C. 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.1 (s, 1
H, -OH), 7.34 (d, 2H, J = 8.58H
z, arom-H), 7.22 (d, 2H, J = 8.5.
8Hz, arom-H), 5.98 (s, 1H, aro
m-H), 5.37 (dd, 1H, J = 3.3, 12.
5 Hz, -CH), 5.20 (m, 1H, -CH =
C), 3.24 (d, 2H, J = 6.6 Hz, -C)
H 2 ), 2.79 (ddd, 2H, J = 2.6, 12.
5,17.1Hz, -CH 2), 2.31 ( s, 3H,
-CH 3), 1.66 (s, 3H, -CH 3), 1.6
3 (s, 3H, -CH 3 )

【0119】[0119]

【実施例12】5,7−ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メチルフェ
ニル)-8-(3- メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (12a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 400mg (1.18 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 113 mg (2.36 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、モム保護 3- メチル-4-
ヒドロキシベンズアルデヒド 213 mg (1.18 mmol) を加
えて室温で3時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチル
を加え、有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し
て残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=6:1)に付して精製し、480 mg(80.8%)
の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.81(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.73(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.41-
7.04(m,3H,arom-H),6.83(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-C
H2),5.24(s,2H,2H,-CH2,-CH2),5.20(m,1H,-CH),3.56(s,
3H,-OCH3),3.52(s,3H,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH3),3.32
(d,2H,J=6.6Hz,-CH2),2.26(s,3H,-CH3),1.78(s,3H,-C
H3),1.66(s,3H,-CH3) (12b) カルコン体 480 mg (0.95 mmol) をメタノール 4
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 25 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=4:1) に付して精
製し、所望の化合物 20 mg (5.9%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 156-15
8 ℃1 H-NMR(270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:7.32−6.78
(m,3H,arom−H),5.97(s,1H,a
rom−H),5.29(dd,1H,J=3.3,1
2.8Hz,−CH),5.19(m,1H,−C
H),3.22(d,2H,J=7.26Hz,−CH
),2.89(ddd,2H,J=3.2,12.
8,17.2Hz,−CH),2.26(s,3H,
−CH),1.65(s,3H,−CH),1.6
3(s,3H,−CH
Example 12 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxy-3-methylphene)
Nil) -8- (3-Methyl-2-butenyl) -4-chromanone (12a) dimom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 400 mg (1.18 mmol) in DMF 40 ml
Sodium hydride (113 mg (2.36 mm)
ol) and stirred for 30 minutes, and then mom-protected 3-methyl-4-
213 mg (1.18 mmol) of hydroxybenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 6: 1) to give 480 mg. (80.8%)
Oil was obtained. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.81 (d, 1
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.73 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.41-
7.04 (m, 3H, arom-H), 6.83 (s, 1H, arom-H), 5.26 (s, 2H, -C
H 2 ), 5.24 (s, 2H, 2H, -CH 2 , -CH 2 ), 5.20 (m, 1H, -CH), 3.56 (s,
3H, -OCH 3 ), 3.52 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.32
(d, 2H, J = 6.6Hz, -CH 2 ), 2.26 (s, 3H, -CH 3 ), 1.78 (s, 3H, -C
H 3 ), 1.66 (s, 3H, -CH 3 ) (12b) Chalcone 480 mg (0.95 mmol) was added to methanol 4
The solution was dissolved in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 25 ml of 2N-HCl was added, and the mixture was heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 4: 1) to obtain 20 mg (5.9%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 156-15
8 ° C. 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.32-6.78
(M, 3H, arom-H), 5.97 (s, 1H, a
rom-H), 5.29 (dd, 1H, J = 3.3, 1)
2.8 Hz, -CH, 5.19 (m, 1H, -C
H), 3.22 (d, 2H, J = 7.26 Hz, -CH
2 ), 2.89 (ddd, 2H, J = 3.2, 12.
8,17.2Hz, -CH 2), 2.26 ( s, 3H,
-CH 3), 1.65 (s, 3H, -CH 3), 1.6
3 (s, 3H, -CH 3 )

【0120】[0120]

【実施例13】7−ヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(3- メチ
ル-2- ブテニル)-4-クロマノン (13a) 2,4-ジヒドロキシアセトフェノン 7 g (46 mmol)
をTHF 300 mlに溶解し、イソプレニルクロライド 4.78
g (46 mmol) 及び炭酸カリウム 19.1 g (138 mmol)を加
えて20時間加熱還流した後、溶媒を留去した。残渣 2.6
9 g にTHF 200 mlを加えて溶解し、氷冷下にメトキシメ
チルクロライド 1.97 g (24.4 mmol) 及びジイソプロピ
ルエチルアミン 3.15 g (24.4 mmol) を加えて室温で8
時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去して残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=6:1)に
付して精製し、1.63 g (61%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.6 (塩化メチレン:メタノ−ル=10:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:12.8(s,1H,-OH),7.61-6.6
4(m,2H,arom-H),5.28(s,2H,-OCH2),5.21(m,1H,-CH),3.5
0(s,3H,-OCH3),3.39(d,2H,J=7.26Hz,-CH2),2.58(s,3H,O
=C-CH3),1.81(s,3H,-CH3),1.69(s,3H,-CH3) (13b) モム保護 3- イソプレニル-2,4- ジヒドロキシア
セトフェノン 500 mg (1.89 mmol) をDMF 10 ml に溶解
し、氷冷下に水素化ナトリウム 173 mg (3.78 mmol) を
加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズア
ルデヒド 314 mg(3.78 mmol) を加えて室温で3時間攪
拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水
洗した。飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル
=6:1)に付して精製し、660 mg(81.3%)の油状物を得
た。
Example 13 7-Hydroxy-2- (4-hydroxyphenyl) -8- (3-methyl
Ru-2-butenyl) -4-chromanone (13a) 2,4-dihydroxyacetophenone 7 g (46 mmol)
Is dissolved in 300 ml of THF, and isoprenyl chloride 4.78 is dissolved.
After adding g (46 mmol) and potassium carbonate 19.1 g (138 mmol) and heating and refluxing for 20 hours, the solvent was distilled off. Residue 2.6
THF (200 ml) was added to 9 g to dissolve, and methoxymethyl chloride (1.97 g, 24.4 mmol) and diisopropylethylamine (3.15 g, 24.4 mmol) were added under ice-cooling at room temperature.
Stir for hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 6: 1) to give 1.63 g. An oil (61%) was obtained. TLC: Rf = 0.6 (methylene chloride: methanol = 10: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 12.8 (s, 1H, -OH), 7.61-6.6
4 (m, 2H, arom-H), 5.28 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.21 (m, 1H, -CH), 3.5
0 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.39 (d, 2H, J = 7.26Hz, -CH 2 ), 2.58 (s, 3H, O
= C-CH 3 ), 1.81 (s, 3H, -CH 3 ), 1.69 (s, 3H, -CH 3 ) (13b) Mom protected 3-isoprenyl-2,4-dihydroxyacetophenone 500 mg (1.89 mmol) It was dissolved in 10 ml of DMF, 173 mg (3.78 mmol) of sodium hydride was added under ice cooling and stirred for 30 minutes, then 314 mg (3.78 mmol) of mom-protected p-hydroxybenzaldehyde was added and stirred for 3 hours at room temperature. . The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate).
= 6: 1) and purified to give 660 mg (81.3%) of an oil.

【0121】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=4:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:12.8(s,1H,-OH),7.88(d,1
H,15.8Hz,-CH=C),7.80-6.71(m,6H,arom-H),7.51(d,1H,J
=15.8Hz,-CH=C),5.31(s,2H,-OCH2),5.27(m,1H,-CH),5.2
5(s,2H,-OCH2),3.51(s,3H,3H,-OCH3,-OCH3),3.44(d,2H,
J=7.26Hz,-CH2),1.82(s,3H,-CH3),1.72(s,3H,-CH3) (13c) カルコン体 660 mg (1.59 mmol) をメタノール 5
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 25 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去した後に酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及
び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)に付し
て精製し、所望の化合物 86.7 mg (16.8%)を結晶として
得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 183 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.8(s,1H,-OH),7.
67-6.51(m,6H,arom-H),5.34(dd,1H,J=3.3,12.5Hz,-CH),
5.21(m,1H,-CH),3.32(d,2H,J=7.2Hz,-CH2),2.79(ddd,2
H,J=3.3,12.5,17.1Hz,-CH2),1.65(s,3H,-CH3),1.64(s,3
H,-CH3)
TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 4: 1) 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ: 12.8 (s, 1H, -OH), 7.88 (d, 1
H, 15.8Hz, -CH = C), 7.80-6.71 (m, 6H, arom-H), 7.51 (d, 1H, J
= 15.8Hz, -CH = C), 5.31 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.27 (m, 1H, -CH), 5.2
5 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.51 (s, 3H, 3H, -OCH 3 , -OCH 3 ), 3.44 (d, 2H,
J = 7.26Hz, -CH 2 ), 1.82 (s, 3H, -CH 3 ), 1.72 (s, 3H, -CH 3 ) (13c) Chalcone 660 mg (1.59 mmol) in methanol 5
The solution was dissolved in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 25 ml of 2N-HCl was added, and the mixture was heated and stirred for 6 hours. After the solvent was distilled off, ethyl acetate was added, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 86.7 mg (16.8%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 183 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.8 (s, 1H, -OH), 7.
67-6.51 (m, 6H, arom-H), 5.34 (dd, 1H, J = 3.3,12.5Hz, -CH),
5.21 (m, 1H, -CH), 3.32 (d, 2H, J = 7.2Hz, -CH 2 ), 2.79 (ddd, 2
H, J = 3.3,12.5,17.1Hz, -CH 2 ), 1.65 (s, 3H, -CH 3 ), 1.64 (s, 3
H, -CH 3 )

【0122】[0122]

【実施例14】8-シンナミル-5,7- ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェ
ニル)-4-クロマノン (14a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 5 g (2
9.5 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、シンナミルブロミド
5.8 g (29.5 mmol)及び炭酸カリウム 12.2 g (88.4 mmo
l) を加えて20時間加熱還流した後、溶媒を留去して残
渣を酢酸エチルに溶解した。水洗後、硫酸マグネシウム
で乾燥して減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノール=2
0:1)に付して精製し 2.42 g (23.7%) の黄色結晶を得
た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン:メタノ−ル=10:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:7.33 -7.13(m,5H,a
rom-H),6.49-6.29(m,2H,-CH2),5.84(s,1H,arom-H),3.46
-3.45(m,2H,-CH2),2.67(s,3H,-CH3) (14b) 3- シンナミル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフ
ェノン 2 g (6.9 mmol)をTHF 80 ml に溶解し、氷冷下
にメトキシメチルクロライド 2.8g (34.8 mmol)及びジ
イソプロピルエチルアミン 5.4 g (41.8 mmol)を加えて
室温で8時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加
えて水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=6:1)に付して精製し、800 mg(30.8%)の黄色油状
物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.31-7.1
0(m,5H,arom-H),6.44-6.26(m,2H,-CH=CH),6.40(s,1H,ar
om-H),5.25(s,2H,-OCH2),5.24(s,2H,-OCH2),3.50(s,3H,
-OCH3),3.45(s,3H,-OCH3),2.66(s,3H,-CH3) (14c) ジモム保護 3- シンナミル-2,4,6- トリヒドロキ
シアセトフェノン 740 mg (1.99 mmol) をDMF 10 ml に
溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 100 mg (3.8mmol)
を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズ
アルデヒド 331 mg (1.99 mmol) を加えて室温で3時間
攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を
水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル
=4:1)に付して精製し、310 mg(29.3%)の油状物を得
た。
Example 14 8-Cinnamyl-5,7-dihydroxy-2- (4-hydroxyphen)
Nyl) -4-chromanone (14a) 2,4,6-trihydroxyacetophenone 5 g (2
9.5 mmol) in THF (300 ml) and add cinnamyl bromide.
5.8 g (29.5 mmol) and potassium carbonate 12.2 g (88.4 mmo
l) was added and the mixture was heated under reflux for 20 hours, the solvent was evaporated, and the residue was dissolved in ethyl acetate. After washing with water, drying over magnesium sulfate and evaporation of the solvent under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography (methylene chloride: methanol = 2
The product was purified by subjecting it to 0: 1) to obtain 2.42 g (23.7%) of yellow crystals. TLC: Rf = 0.4 (methylene chloride: methanol = 10: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.33 -7.13 (m, 5H, a
rom-H), 6.49-6.29 (m , 2H, -CH 2), 5.84 (s, 1H, arom-H), 3.46
-3.45 (m, 2H, -CH 2 ), 2.67 (s, 3H, -CH 3 ) (14b) 3-cinnamyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 2 g (6.9 mmol) dissolved in THF 80 ml Then, under ice cooling, 2.8 g (34.8 mmol) of methoxymethyl chloride and 5.4 g (41.8 mmol) of diisopropylethylamine were added, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 6: 1) to obtain 800 mg (30.8%) of a yellow oily substance. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.31-7.1
0 (m, 5H, arom-H), 6.44-6.26 (m, 2H, -CH = CH), 6.40 (s, 1H, ar
om-H), 5.25 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.24 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.50 (s, 3H,
-OCH 3 ), 3.45 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.66 (s, 3H, -CH 3 ) (14c) Zymom protected 3-cinnamyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 740 mg (1.99 mmol) Was dissolved in 10 ml of DMF, and 100 mg (3.8 mmol) of sodium hydride under ice cooling.
Was added and stirred for 30 minutes, then 331 mg (1.99 mmol) of mom-protected p-hydroxybenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate).
= 4: 1) to give 310 mg (29.3%) of an oily substance.

【0123】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.9(s,1H,-OH),7.82(d,1
H,J=15.18Hz,-CH=C),7.76(d,1H,J=15.18Hz,-CH=C),7.56
-7.04(m,9H,arom-H),6.47-6.29(m,2H,-CH2),5.28(s,2H,
-OCH2),5.26(s,2H,-OCH2),5.17(s,2H,-OCH2),3.59(s,3
H,-OCH3),3.49(s,3H,-OCH3),3.47(s,3H,-OCH3) (14d) カルコン体 310 mg (0.58 mmol) をメタノール 4
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 15 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精
製し、所望の化合物 40 mg (17.5%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 (酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 90-9
2 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.1(s,1
H,−OH),7.302−6.83(m,9H,ar
om−H),6.39−6.21(m,2H,−CH=
CH),6.01(s,1H,arom−H),5.3
2(d,1H,J=2.64,12.54Hz,−C
H),3.42(m,2H,−CH),3.09−
2.73(m,2H,−CH
TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 2: 1) 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ: 13.9 (s, 1H, -OH), 7.82 (d, 1)
H, J = 15.18Hz, -CH = C), 7.76 (d, 1H, J = 15.18Hz, -CH = C), 7.56
-7.04 (m, 9H, arom-H), 6.47-6.29 (m, 2H, -CH 2 ), 5.28 (s, 2H,
-OCH 2 ), 5.26 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.17 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.59 (s, 3
H, -OCH 3 ), 3.49 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.47 (s, 3H, -OCH 3 ) (14d) Chalcone 310 mg (0.58 mmol) in methanol 4
The solution was dissolved in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 15 ml of 2N-HCl was added and heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 40 mg (17.5%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.35 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 90-9
2 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.1 (s, 1
H, -OH), 7.302-6.83 (m, 9H, ar
om-H), 6.39-6.21 (m, 2H, -CH =
CH), 6.01 (s, 1H, arom-H), 5.3.
2 (d, 1H, J = 2.64, 12.54Hz, -C
H), 3.42 (m, 2H , -CH 2), 3.09-
2.73 (m, 2H, -CH 2 )

【0124】[0124]

【実施例15】8−ベンジル-5,7- ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェ
ニル)-4-クロマノン (15a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 5 g (2
9.6 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、ベンジルブロミド 5
g (29.6 mmol)及び炭酸カリウム 12.2 g (88.8 mmol)
を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去して残渣を酢
酸エチルに溶解し、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(塩化メチレン:メタノール=20:1)に
付して精製し510 mg (6.65%) の結晶を得た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン:メタノ−ル=10:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:7.32-7.04(m,5H,ar
om-H),5.82(s,1H,arom-H),3.89(s,2H,-CH2Ph),2.63(s,3
H,-CH3) (15b) 3- ベンジル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフェ
ノン 510 mg (1.97 mmol) をTHF 70 ml に溶解し、氷冷
下にメトキシメチルクロライド 795 mg (9.85 mmol) 及
びジイソプロピルエチルアミン 1.53 g (11.8 mmol) を
加えて室温で8時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチ
ルを加えて有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン:酢酸エチル=5:1)に付して精製し、240 mg (3
4.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.7 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.9(s,1H,-OH),7.30-6.9
9(m,5H,arom-H),6.39(s,1H,arom-H),5.25(s,2H,-OCH2),
5.20(s,2H,-OCH2),3.96(s,2H,CH2Ph), 3.50(s,3H,-OC
H3),3.35(s,3H,-OCH3),2.65(s,3H,-CH3) (15c) ジモム保護 3- ベンジル-2,4,6- トリヒドロキシ
アセトフェノン 240g (0.69 mmol) をDMF 20 ml に溶解
し、氷冷下に水素化ナトリウム 67 mg (13.8 mmol)を加
えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 115 mg (0.69
mmol) を加えて室温で3時間攪拌した。溶媒を留去して
酢酸エチルを加え、有機層を水洗した。飽和食塩水で洗
浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に付して精製し、14
0 mg(40.7%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.9(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.0Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.0Hz,-CH=C),7.75-
7.04(m,9H,arom-H),6.40(s,1H,arom-H),5.27(s,2H-OC
H2),5.22(s,2H,-OCH2),5.21(s,2H,-OCH2),3.99(bs,2H,-
CH2),3.52(s,3H,-CH3),3.48(s,3H,-CH3),3.36(s,3H,-CH
3) (15d) カルコン体 140 mg (0.28 mmol) をメタノール 1
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 10 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)に付して精
製し、所望の化合物 10 mg (9.8%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 (酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 218-
219 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.2(s,1H,-OH),7.
29-6.91(m,9H,arom-H),6.08(s,1H,arom-H),5.41(dd,1H,
J=3.0,12.5Hz,-CH),3.85(s,2H,-CH2Ph),2.99(m,2H,-C
H2)
Example 15 8-Benzyl-5,7-dihydroxy-2- (4-hydroxyphene)
Nyl) -4-chromanone (15a) 2,4,6-trihydroxyacetophenone 5 g (2
9.6 mmol) in THF (300 ml) and benzyl bromide 5
g (29.6 mmol) and potassium carbonate 12.2 g (88.8 mmol)
Was added and the mixture was heated under reflux for 20 hours. The solvent was evaporated, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (methylene chloride: methanol = 20: 1) to obtain 510 mg (6.65%) of crystals. TLC: Rf = 0.4 (methylene chloride: methanol = 10: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.32-7.04 (m, 5H, ar
om-H), 5.82 (s, 1H, arom-H), 3.89 (s, 2H, -CH 2 Ph), 2.63 (s, 3
H, -CH 3 ) (15b) 3-Benzyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 510 mg (1.97 mmol) was dissolved in THF 70 ml, and methoxymethyl chloride 795 mg (9.85 mmol) and Diisopropylethylamine (1.53 g, 11.8 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated brine, the organic layer was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1), and 240 mg (3
An oily substance (4.8%) was obtained. TLC: Rf = 0.7 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.9 (s, 1H, -OH), 7.30-6.9
9 (m, 5H, arom-H), 6.39 (s, 1H, arom-H), 5.25 (s, 2H, -OCH 2 ),
5.20 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.96 (s, 2H, CH 2 Ph), 3.50 (s, 3H, -OC
H 3 ), 3.35 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.65 (s, 3H, -CH 3 ) (15c) Zymom protected 3-benzyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 240 g (0.69 mmol) in DMF Dissolve in 20 ml, add 67 mg (13.8 mmol) of sodium hydride under ice-cooling and stir for 30 minutes, then add benzaldehyde 115 mg (0.69
mmol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 4: 1).
0 mg (40.7%) of oil was obtained. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 2: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.9 (s, 1H, -OH), 7.83 (d, 1
H, J = 15.0Hz, -CH = C), 7.75 (d, 1H, J = 15.0Hz, -CH = C), 7.75-
7.04 (m, 9H, arom-H), 6.40 (s, 1H, arom-H), 5.27 (s, 2H-OC
H 2 ), 5.22 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.21 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.99 (bs, 2H,-
CH 2 ), 3.52 (s, 3H, -CH 3 ), 3.48 (s, 3H, -CH 3 ), 3.36 (s, 3H, -CH
3 ) (15d) 140 mg (0.28 mmol) of chalcone compound in methanol 1
After dissolving in 0 ml, a few drops of 1N-NaOH were added and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 10 ml of 2N-HCl was added and stirred with heating for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 10 mg (9.8%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.35 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 218-
219 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.2 (s, 1H, -OH), 7.
29-6.91 (m, 9H, arom-H), 6.08 (s, 1H, arom-H), 5.41 (dd, 1H,
J = 3.0,12.5Hz, -CH), 3.85 (s, 2H, -CH 2 Ph), 2.99 (m, 2H, -C
H 2 )

【0125】[0125]

【実施例16】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(3- フ
ェニルプロピル)-4-クロマノン (16a) ジモム保護 3- シンナミル-2,4,6- トリヒドロキ
シアセトフェノン 340 mg (1 mmol)をエタノール 80 ml
に溶解し、10% Pd-C 200 mg を加え室温で水素気流下に
接触水素添加を行った。3時間後、反応液をセライト濾
過した濾液から溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1) に付
して精製し mg の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:13.8(s,1H,-OH),7.
27-7.11(m,5H,arom-H),6.37(s,1H,arom-H),5.23(s,2H,-
OCH2),5.19(s,2H,-OCH2),3.50(s,3H,-OCH3),3.44(s,3H,
-OCH3),2.69-2.65(m,4H,-CH2,-CH2),1.83(m,2H,-CH2) (16b) ジモム保護 3- フェニルプロピル-2,4,6- トリヒ
ドロキシアセトフェノン340 mg (0.91 mmol) をDMF 20
ml に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 83 mg(1.82 m
mol)を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベ
ンズアルデヒド151 mg (0.91 mmol) を加えて室温で3
時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機
層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=5:1) に付して精製し、320 mg(71.3%)の無色油状
物を得た。 TLC:Rf=0.6 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.1Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.1Hz,-CH=C),7.56-
7.04(m,9H,arom-H),6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH
2),5.21(s,2H,2H,-OCH2,-OCH2),3.52(s,3H,-OCH3),3.48
(s,3H,-OCH3),3.46(s,3H,-OCH3),2.69(m,2H,2H,-CH2,-C
H2),1.85(m,2H,-CH2) (16c) カルコン体 320 mg (0.85 mmol) をメタノール 5
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で6時間攪拌
した後、2N-HCl 14 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精
製し、所望の化合物 80 mg (24%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 (酢酸エチル:ヘキサン=1:1), m.p. 161
-162℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.0(s,1H,-OH),7.
26-6.85(m,9H,arom-H),5.98(s,1H,arom-H),5.38(dd,1H,
J=2.6,12.5Hz,-CH),2.88(ddd,2H,J=2.6,12.5,17.1Hz,-C
H2),2.64-2.56(m,2H,2H,-CH2,-CH2),1.88-1.78(m,2H,-C
H2)
Example 16 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxyphenyl) -8- (3-phenyl)
(Phenylpropyl ) -4-chromanone (16a) Zymom protected 3-cinnamyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 340 mg (1 mmol) in ethanol 80 ml
Dissolved in 10% Pd-C (200 mg), and catalytic hydrogenation was carried out at room temperature under a hydrogen stream. After 3 hours, the reaction solution was filtered through Celite, the solvent was distilled off from the filtrate, and the residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 3: 1) to obtain mg of an oily substance. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.
27-7.11 (m, 5H, arom-H), 6.37 (s, 1H, arom-H), 5.23 (s, 2H,-
OCH 2 ), 5.19 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.50 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.44 (s, 3H,
-OCH 3 ), 2.69-2.65 (m, 4H, -CH 2 , -CH 2 ), 1.83 (m, 2H, -CH 2 ) (16b) Zymom protected 3-phenylpropyl-2,4,6-trihydroxy Acetophenone 340 mg (0.91 mmol) in DMF 20
Dissolve in 83 ml of sodium hydride under ice-cooling 83 mg (1.82 m
mol) and stirred for 30 minutes, then added mom-protected p-hydroxybenzaldehyde (151 mg, 0.91 mmol) and allowed to stand at room temperature for 3 minutes.
Stir for hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1) to give 320 mg (71.3%) of a colorless oil. TLC: Rf = 0.6 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.83 (d, 1
H, J = 15.1Hz, -CH = C), 7.75 (d, 1H, J = 15.1Hz, -CH = C), 7.56-
7.04 (m, 9H, arom-H), 6.38 (s, 1H, arom-H), 5.26 (s, 2H, -OCH
2 ), 5.21 (s, 2H, 2H, -OCH 2 , -OCH 2 ), 3.52 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.48
(s, 3H, -OCH 3 ), 3.46 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.69 (m, 2H, 2H, -CH 2 , -C
H 2 ), 1.85 (m, 2H, -CH 2 ) (16c) Chalcone 320 mg (0.85 mmol) was added to methanol 5
The solution was dissolved in 0 ml, 1N-NaOH was added dropwise and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 2N-HCl (14 ml) was added and the mixture was heated and stirred for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 80 mg (24%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.35 (ethyl acetate: hexane = 1: 1), mp 161
-162 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.0 (s, 1H, -OH), 7.
26-6.85 (m, 9H, arom-H), 5.98 (s, 1H, arom-H), 5.38 (dd, 1H,
J = 2.6,12.5Hz, -CH), 2.88 (ddd, 2H, J = 2.6,12.5,17.1Hz, -C
H 2 ), 2.64-2.56 (m, 2H, 2H, -CH 2 , -CH 2 ), 1.88-1.78 (m, 2H, -C
H 2 )

【0126】[0126]

【実施例17】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(2- メ
チルベンジル)-4-クロマノン (17a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 6 g (3
2.2 mmol)をTHF 400 mlに溶解し、2-メチルベンジルブ
ロミド 6 g (32.3 mmol)及び炭酸カリウム 13.4 g(96.9
mmol) を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去し、
残渣 820 mg にTHF200 mlを加えて溶解し、氷冷下にメ
トキシメチルクロライド 1.21 g (15 mmol)及びジイソ
プロピルエチルアミン 1.94 g (15 mmol) を加えて室温
で8時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、
有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢
酸エチル=5:1) に付して精製し、410 mg (3.53%)の油状
物を得た。 TLC:Rf=0.4 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:13.89(s,1H,-OH),
7.24 -6.89(m,4H,arom-H),6.43(s,1H,arom-H),5.28(s,2
H,-OCH2),5.15(s,2H,-OCH2),3.90(s,2H,-CH2Ph),3.53
(s,3H,-OCH3),3.28(s,3H,-OCH3),2.97(s,3H,-CH3),2.43
(s,3H,-CH3) (17b) ジモム保護 3-(2-メチルベンジル)-2,4,6-トリヒ
ドロキシアセトフェノン410 mg (1.13 mmol) をDMF 20
ml に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 100 mg (2.2
mmol)を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシ
ベンズアルデヒド190 mg (1.13 mmol) を加えて室温で
3時間攪拌した。溶媒を留去しえ酢酸エチルを加え、有
機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸
エチル=4:1) に付して精製し、430 mg(74%)の油状物を
得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.9(s,1H,-OH),7.85(d,1
H,J=15.1Hz,-CH=C),7.76(d,1H,J=15.1Hz,-CH=C),7.56-
6.89(m,8H,arom-H),6.43(s,1H,-CH),5.30(s,2H,-OCH2),
5.20(s,2H,-OCH2),5.16(s,2H,-OCH2),3.93(s,2H,-CH2P
h),3.54(s,2H,-OCH3),3.48(s,3H,-OCH3),3.28(s,3H,-OC
H3),2.44(s,3H,-CH3) (17c) カルコン体 430 mg (0.8 mmol)をメタノール 50
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪拌し
た後、2N-HCl 20 mlを加えて6時間加熱攪拌した。溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精製し、
所望の化合物 50 mg (15.7%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 198 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.1(s,1H,-OH),7.
11-6.77(m,8H,arom-H),6.02(s,1H,arom-H),5.26(dd,1H,
J=3.3,12.5Hz,-CH),3.83(s,2H,-CH2Ph),2.98(ddd,2H,J=
3.3,12.5,17.1Hz,-CH2),2.29(s,3H,-CH3)
Example 17 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxyphenyl) -8- (2-me
Cylbenzyl) -4-chromanone (17a) 2,4,6-trihydroxyacetophenone 6 g (3
2.2 mmol) in THF 400 ml, 2-methylbenzyl bromide 6 g (32.3 mmol) and potassium carbonate 13.4 g (96.9
mmol) was added and the mixture was heated under reflux for 20 hours. Evaporate the solvent,
THF (200 ml) was added to the residue (820 mg) to dissolve it, and methoxymethyl chloride (1.21 g (15 mmol)) and diisopropylethylamine (1.94 g (15 mmol)) were added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. The solvent was distilled off and ethyl acetate was added,
The organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1) to give 410 mg (3.53%) of an oil. TLC: Rf = 0.4 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 13.89 (s, 1H, -OH),
7.24 -6.89 (m, 4H, arom-H), 6.43 (s, 1H, arom-H), 5.28 (s, 2
H, -OCH 2 ), 5.15 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.90 (s, 2H, -CH 2 Ph), 3.53
(s, 3H, -OCH 3 ), 3.28 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.97 (s, 3H, -CH 3 ), 2.43
(s, 3H, -CH 3 ) (17b) Dimom-protected 3- (2-methylbenzyl) -2,4,6-trihydroxyacetophenone 410 mg (1.13 mmol) in DMF 20
100 ml of sodium hydride (2.2 mg
mmol) and stirred for 30 minutes, 190 mg (1.13 mmol) of mom-protected p-hydroxybenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain 430 mg (74%) of an oily substance. TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 2: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 13.9 (s, 1H, -OH), 7.85 (d, 1
H, J = 15.1Hz, -CH = C), 7.76 (d, 1H, J = 15.1Hz, -CH = C), 7.56-
6.89 (m, 8H, arom-H), 6.43 (s, 1H, -CH), 5.30 (s, 2H, -OCH 2 ),
5.20 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.16 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.93 (s, 2H, -CH 2 P
h), 3.54 (s, 2H, -OCH 3 ), 3.48 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.28 (s, 3H, -OC
H 3 ), 2.44 (s, 3H, -CH 3 ) (17c) Chalcone 430 mg (0.8 mmol) in methanol 50
After dissolving in ml, several drops of 1N-NaOH were added and stirred at room temperature for 6 hours, then 20 ml of 2N-HCl was added and stirred with heating for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1),
50 mg (15.7%) of the desired compound was obtained as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 198 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.1 (s, 1H, -OH), 7.
11-6.77 (m, 8H, arom-H), 6.02 (s, 1H, arom-H), 5.26 (dd, 1H,
J = 3.3,12.5Hz, -CH), 3.83 (s, 2H, -CH 2 Ph), 2.98 (ddd, 2H, J =
3.3,12.5,17.1Hz, -CH 2 ), 2.29 (s, 3H, -CH 3 )

【0127】[0127]

【実施例18】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(3- メ
チルベンジル)-4-クロマノン (18a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 6 g (3
2.4 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、3-メチルベンジルブ
ロミド 6 g (32.3 mmol)及び炭酸カリウム 13.4 g(96.9
mmol) を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去した
残渣 1.25 g にTHF200 mlを加えて溶解し、氷冷下にメ
トキシメチルクロライド 1.85 g (22.9 mmol) 及びジイ
ソプロピルエチルアミン 3 g (22.9 mmol)を加えて室温
で8時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、
有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢
酸エチル=6:1) に付して精製し、660 mg (5.68%)の油状
物を得た。 TLC:Rf=0.4 (ヘキサン:酢酸エチル=3:1 )1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:13.89(s,1H,-OH),
7.19 -6.84(m,4H,arom-H),6.43(s,1H,arom-H),5.27(s,2
H,-OCH2),5.13(s,2H,-OCH2),3.91(s,2H,-CH2Ph),3.53
(s,3H,-OCH3),3.28(s,3H,-OCH3),2.98(s,3H,-CH3),2.38
(s,3H,-CH3) (18b) ジモム保護 3-(3-メチルベンジル)-2,4,6-トリヒ
ドロキシアセトフェノン330 mg (0.9 mmol)をDMF 20 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム80 mg (1.8 mmo
l)を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベン
ズアルデヒド 152mg (0.9 mmol)を加えて室温で3時間
攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を
水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル
=4:1) に付して精製し、270 mg(57.7%)の油状物を得
た。
Example 18 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxyphenyl) -8- (3-me
Cylbenzyl) -4-chromanone (18a) 2,4,6-trihydroxyacetophenone 6 g (3
2.4 mmol) in 300 ml of THF, 6 g (32.3 mmol) of 3-methylbenzyl bromide and 13.4 g (96.9 g of potassium carbonate).
mmol) was added and the mixture was heated under reflux for 20 hours. THF (200 ml) was added to the solvent-distilled residue (1.25 g) to dissolve it, and methoxymethyl chloride (1.85 g, 22.9 mmol) and diisopropylethylamine (3 g, 22.9 mmol) were added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. The solvent was distilled off and ethyl acetate was added,
The organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 6: 1) to obtain 660 mg (5.68%) of an oily substance. TLC: Rf = 0.4 (hexane: ethyl acetate = 3: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 13.89 (s, 1H, -OH),
7.19 -6.84 (m, 4H, arom-H), 6.43 (s, 1H, arom-H), 5.27 (s, 2
H, -OCH 2 ), 5.13 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.91 (s, 2H, -CH 2 Ph), 3.53
(s, 3H, -OCH 3 ), 3.28 (s, 3H, -OCH 3 ), 2.98 (s, 3H, -CH 3 ), 2.38
(s, 3H, -CH 3 ) (18b) Dimomu-protected 3- (3-methylbenzyl) -2,4,6-trihydroxyacetophenone 330 mg (0.9 mmol) in DMF 20 ml
80 mg of sodium hydride (1.8 mmo
l) was added and the mixture was stirred for 30 minutes, then 152 mg (0.9 mmol) of mom-protected p-hydroxybenzaldehyde was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with water. After washing with saturated saline, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate).
= 4: 1) for purification to obtain 270 mg (57.7%) of an oil.

【0128】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.14-
6.93(m,8H,arom-H),6.40(s,1H,arom-H),5.27(s,2H,-OCH
2),5.23(s,2H,-OCH2),5.21(s,2H,-OCH2),3.96(s,2H,-CH
2),3.52(s,3H,-OCH3),3.49(s,3H,-OCH3),3.39(s,3H,-OC
H3),2.28(s,3H,-CH3) (18c) カルコン体 270 mg (0.52 mmol) をメタノール 2
00 ml に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪
拌した後、2N-HCl 10 mlを加えて6時間加熱攪拌した。
溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して
精製し、所望の化合物 20 mg(11.3%) を結晶として得
た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 215 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.1(s,1H,-OH),7.
35-6.83(m,8H,arom-H),5.98(s,1H,arom-H),5.29(dd,1H,
J=3.3,12.5Hz,-CH),3.83(s,2H,-CH2Ph),2.88(ddd,2H,J=
3.3,12.5,17.1Hz,-CH2),2.21(s,3H,-CH3)
TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 2: 1) 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8 (s, 1H, -OH), 7.83 (d, 1)
H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.75 (d, 1H, J = 15.8Hz, -CH = C), 7.14-
6.93 (m, 8H, arom-H), 6.40 (s, 1H, arom-H), 5.27 (s, 2H, -OCH
2 ), 5.23 (s, 2H, -OCH 2 ), 5.21 (s, 2H, -OCH 2 ), 3.96 (s, 2H, -CH
2 ), 3.52 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.49 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.39 (s, 3H, -OC
H 3 ), 2.28 (s, 3H, -CH 3 ) (18c) chalcone 270 mg (0.52 mmol) in methanol 2
It was dissolved in 00 ml, a few drops of 1N-NaOH was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, 10 ml of 2N-HCl was added, and the mixture was heated and stirred for 6 hours.
The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 20 mg (11.3%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 215 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.1 (s, 1H, -OH), 7.
35-6.83 (m, 8H, arom-H), 5.98 (s, 1H, arom-H), 5.29 (dd, 1H,
J = 3.3,12.5Hz, -CH), 3.83 (s, 2H, -CH 2 Ph), 2.88 (ddd, 2H, J =
3.3,12.5,17.1Hz, -CH 2 ), 2.21 (s, 3H, -CH 3 )

【0129】[0129]

【実施例19】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3,5- ジメチルフェ
ニル)-8-(3- メチル-2-ブテニル)-4-クロマノン (19a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 300mg (0.9 mmol)をDMF 10 ml に
溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 81 mg (1.9mmol)
を加えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 180 mg
(0.8 mmol)を加えて室温で3時間攪拌した。溶媒を留去
してメタノール 20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて
室温で6時間攪拌した後、2N-HCl 15 mlを加え6時間加
熱攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
2:1) に付して精製し、所望の化合物 61 mg (19.2%)を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.58 (酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 139-
140 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:7.06(s,2H,arom-
H),6.01(s,1H,arom-H),5.31 -5.26(m,1H,-CH),5.25-5.2
0(m,1H,-CH=C),3.31(d,2H,J=7.2Hz,-CH2),3.11-2.79(m,
2H,-CH2),2.28(s,3H,3H,-CH3,-CH3),1.57(s,3H,-CH3)
Example 19 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxy-3,5-dimethylphene
Nil) -8- (3-Methyl-2-butenyl) -4-chromanone (19a) Zymom protected 3-isoprenyl-2,4,6-trihydroxyacetophenone 300 mg (0.9 mmol) is dissolved in DMF 10 ml and iced. Sodium hydride under cold 81 mg (1.9 mmol)
Was added and stirred for 30 minutes, then benzaldehyde 180 mg
(0.8 mmol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was distilled off, the residue was dissolved in methanol (20 ml), several drops of 1N-NaOH were added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 2N-HCl (15 ml) was added and the mixture was heated with stirring for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane =
The product was purified by 2: 1) to give 61 mg (19.2%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.58 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 139-
140 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.06 (s, 2H, arom-
H), 6.01 (s, 1H, arom-H), 5.31 -5.26 (m, 1H, -CH), 5.25-5.2
0 (m, 1H, -CH = C), 3.31 (d, 2H, J = 7.2Hz, -CH 2 ), 3.11-2.79 (m,
2H, -CH 2 ), 2.28 (s, 3H, 3H, -CH 3 , -CH 3 ), 1.57 (s, 3H, -CH 3 )

【0130】[0130]

【実施例20】2-(3,5- ジ t-ブチル-4- ヒドロキシフェニル)-5,7-ジ
ヒドロキシ-8-(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシア
セトフェノン 300 mg(0.9 mmol)をDMF 10 ml に溶解
し、氷冷下に水素化ナトリウム 81 mg (1.9 mmol) を加
えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 257 mg (0.9 m
mol)を加えて室温で3時間攪拌した。溶媒を留去してメ
タノール 20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で
6時間攪拌した後、2N-HCl 15 mlを加えて6時間加熱攪
拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹
水、水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に
付して精製し、所望の化合物 52 mg (12.7%)を結晶とし
て得た。 TLC:Rf=0.58 (酢酸エチル:ヘキサン=3:1), m.p. 190-
195 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:7.26(s,2H,arom-
H),6.01(s,1H,arom-H),5.36-5.30(m,1H,-CH),5.26-5.21
(m,1H,-CH),3.31(m,2H,-CH2),3.15-2.77(m,2H,-CH2),1.
71(s,6H,-CH3,-CH3),1.46(s,18H,t-Bu)
Example 20 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -5,7-di
Hydroxy-8- (3-methyl-2-butenyl) -4-chromanone Jimomu protected 3 isoprenyl-2,4,6-trihydroxy acetophenone 300 mg of (0.9 mmol) were dissolved in DMF 10 ml, under ice-cooling 81 mg (1.9 mmol) of sodium hydride was added and stirred for 30 minutes, and then benzaldehyde 257 mg (0.9 m
mol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The solvent was distilled off, the residue was dissolved in methanol (20 ml), several drops of 1N-NaOH were added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then 2N-HCl (15 ml) was added and the mixture was heated with stirring for 6 hours. The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 52 mg (12.7%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.58 (ethyl acetate: hexane = 3: 1), mp 190-
195 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.26 (s, 2H, arom-
H), 6.01 (s, 1H, arom-H), 5.36-5.30 (m, 1H, -CH), 5.26-5.21
(m, 1H, -CH), 3.31 (m, 2H, -CH 2 ), 3.15-2.77 (m, 2H, -CH 2 ), 1.
71 (s, 6H, -CH 3 , -CH 3 ), 1.46 (s, 18H, t-Bu)

【0131】[0131]

【実施例21】7-ヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3,5- ジメチルフェニ
ル)- 8-(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン モム保護 3- イソプレニル-2,4- ジヒドロキシアセトフ
ェノン 300 mg (1.1 mmol)をDMF 10 ml に溶解し、氷冷
下に水素化ナトリウム 100 mg (2.2 mmol)を加えて30分
攪拌した後、ベンズアルデヒド 220 mg (1.1 mmol)を加
えて室温で3時間攪拌した。溶媒を留去してメタノール
20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪
拌した後、2N-HCl 15 mlを加えて6時間加熱攪拌した。
溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び
飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精製
し、所望の化合物 68.4 mg(17%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.25 (酢酸エチル:ヘキサン=3:1), m.p. 174-
175 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:7.76(d,1H,J=8.6H
z,arom-H),7.08(s,2H,arom-H),6.53(d,1H,J=8.6Hz,arom
-H),5.35 -5.34(m,1H,-CH),5.30-5.29(m,1H,-CH=C),3.4
2(d,2H,J=6.83Hz,-CH2),3.06-2.74(m,2H,-CH2),2.29(s,
3H,3H,-CH3,-CH3),1.76(s,3H,3H,-CH3,-CH3)
Example 21 7-Hydroxy-2- (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyi
Le) - 8- (3-methyl-2-butenyl) -4-chromanone Mom protected 3 isoprenyl-2,4-dihydroxy acetophenone 300 mg of (1.1 mmol) were dissolved in DMF 10 ml, hydrogenated under ice-cooling After adding sodium 100 mg (2.2 mmol) and stirring for 30 minutes, benzaldehyde 220 mg (1.1 mmol) was added and it stirred at room temperature for 3 hours. Distill off the solvent to remove methanol
The mixture was dissolved in 20 ml, 1N-NaOH was added in a few drops, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then, 2N-HCl (15 ml) was added, and the mixture was heated and stirred for 6 hours.
The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 68.4 mg (17%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.25 (ethyl acetate: hexane = 3: 1), mp 174-
175 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.76 (d, 1H, J = 8.6H
z, arom-H), 7.08 (s, 2H, arom-H), 6.53 (d, 1H, J = 8.6Hz, arom
-H), 5.35 -5.34 (m, 1H, -CH), 5.30-5.29 (m, 1H, -CH = C), 3.4
2 (d, 2H, J = 6.83Hz, -CH 2 ), 3.06-2.74 (m, 2H, -CH 2 ), 2.29 (s,
3H, 3H, -CH 3 , -CH 3 ), 1.76 (s, 3H, 3H, -CH 3 , -CH 3 )

【0132】[0132]

【実施例22】2-(3,5- ジ t-ブチル-4- ヒドロキシフェニル)-7-ヒド
ロキシ-8-(3-メチル-2-ブテニル)-4-クロマノン モム保護 3- イソプレニル-2,4- ジヒドロキシアセトフ
ェノン 300 mg (1.1 mmol)をDMF 10 ml に溶解し、氷冷
下に水素化ナトリウム 100 mg (2.2 mmol)を加えて30分
攪拌した後、ベンズアルデヒド 315 mg (1.1 mmol)を加
えて室温で3時間攪拌した。溶媒を留去してメタノール
20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で6時間攪
拌した後、2N-HCl 15 mlを加えて6時間加熱攪拌した。
溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び
飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して精製
し、所望の化合物 89.7 mg(18%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.58 (酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 180-
184 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:7.70−7.6
7(m,2H,arom−H),6.54−6.51
(m,2H,arom−H),5.37(dd,1H,
J=2.9,13.2Hz,−CH),5.28(m,
1H,−CH),3.37(m,2H,−CH),
3.09−2.77(m,2H,−CH),1.66
(s,3H,3H,−CH,−CH),1.46
(s,18H,t−Bu)
Example 22 2- (3,5-di t-butyl-4-hydroxyphenyl) -7-hydr
Proxy-8- (3-methyl-2-butenyl) -4-chromanone Mom protected 3 isoprenyl-2,4-dihydroxy acetophenone 300 mg of (1.1 mmol) were dissolved in DMF 10 ml, sodium hydride under ice-cooling After 100 mg (2.2 mmol) was added and stirred for 30 minutes, benzaldehyde 315 mg (1.1 mmol) was added and stirred at room temperature for 3 hours. Distill off the solvent to remove methanol
The mixture was dissolved in 20 ml, 1N-NaOH was added in a few drops, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours, then, 2N-HCl (15 ml) was added and the mixture was heated and stirred for 6 hours.
The solvent was evaporated, ethyl acetate was added, the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 89.7 mg (18%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.58 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 180-
184 ° C. 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.70-7.6
7 (m, 2H, arom-H), 6.54-6.51
(M, 2H, arom-H), 5.37 (dd, 1H,
J = 2.9, 13.2 Hz, -CH), 5.28 (m,
1H, -CH), 3.37 (m , 2H, -CH 2),
3.09-2.77 (m, 2H, -CH 2 ), 1.66
(S, 3H, 3H, -CH 3, -CH 3), 1.46
(S, 18H, t-Bu)

【0133】[0133]

【実施例23】7−ヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8- (3-メチ
ル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 136 mg (0.42mmol)をピリジン 10 mlに溶
解し、室温でヨウ素 107 mg (0.42 mmol) を加えた後、
90℃で5時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:1) に付して精製し、所望の化合物 66 mg (49%)を結
晶として得た。 TLC:Rf=0.10 (酢酸エチル:ヘキサン=1:1), m.p. 152-
153 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :7.90-6.23(m,6H,a
rom-H),6.66(s,1H,-CH ),5.31(m,1H,-CH),3.67(d,2H,-C
H2),1.84(s,3H,-CH3),1.70(s,3H,-CH3)
Example 23 7-Hydroxy-2- (4-hydroxyphenyl) -8- (3-methyl
Ru-2-butenyl) -4 (4H) -chromenone flavanone derivative 136 mg (0.42 mmol) was dissolved in 10 ml of pyridine, and after adding 107 mg (0.42 mmol) of iodine at room temperature,
The mixture was heated and stirred at 90 ° C for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane =
Purification was performed by 1: 1) to obtain 66 mg (49%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.10 (ethyl acetate: hexane = 1: 1), mp 152-
153 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.90-6.23 (m, 6H, a
rom-H), 6.66 (s, 1H, -CH), 5.31 (m, 1H, -CH), 3.67 (d, 2H, -C
H 2 ), 1.84 (s, 3H, -CH 3 ), 1.70 (s, 3H, -CH 3 )

【0134】[0134]

【実施例24】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メチルフェニ
ル)-8- (3-メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 48.8 mg (0.14mmol) をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素35 mg (0.14mmol) を加えた後、9
0℃で5時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:1) に付して精製し、所望の化合物 11.6 mg (24%)を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.31 (酢酸エチル:ヘキサン=1:1), m.p. 145-
153 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :7.69−6.
87(m,3H,arom−H),6.53(s,1
H,arom−H),6.30(s,1H,−CH),
5.28(dd,1H,−CH),3.54(d,2
H,J=7.75Hz,−CH),2.30(s,3
H,−CH),1.84(s,3H,−CH),
1.70(s,3H,−CH
Example 24 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxy-3-methylphenyi
) -8- (3-Methyl-2-butenyl) -4 (4H) -chromenone flavanone derivative 48.8 mg (0.14 mmol) was dissolved in 10 ml of pyridine, and 35 mg (0.14 mmol) of iodine was added at room temperature. , 9
The mixture was heated and stirred at 0 ° C for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane =
1: 1) and purified to obtain 11.6 mg (24%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.31 (ethyl acetate: hexane = 1: 1), mp 145-
153 ° C. 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.69-6.
87 (m, 3H, arom-H), 6.53 (s, 1
H, arom-H), 6.30 (s, 1H, -CH),
5.28 (dd, 1H, -CH), 3.54 (d, 2)
H, J = 7.75Hz, -CH 2 ), 2.30 (s, 3
H, -CH 3), 1.84 ( s, 3H, -CH 3),
1.70 (s, 3H, -CH 3 )

【0135】[0135]

【実施例25】2−(4− ブロモフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-
メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 27 mg (0.07mmol) をピリジン 10 mlに溶
解し、室温でヨウ素 17 mg (0.07 mmol)を加えた後、90
℃で5時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重曹
水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=4:
1) に付して精製し、所望の化合物 5 mg (19%) を結晶
として得た。 TLC:Rf=0.35 (酢酸エチル:ヘキサン=3:1), m.p. 220-
224 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :7.76-7.65(m,4H,a
rom-H),6.66(s,1H,-CH),6.34(s,1H,arom-H),5.29(m,1H-
U),3.59(d,2H,J=7.04Hz,-CH2),1.86(s,3H,-CH3),1.77
(s,3H,-CH3)
Example 25 2- (4-Bromophenyl) -5,7-dihydroxy-8- (3-
Methyl-2-butenyl) -4 (4H) -chromenone flavanone derivative 27 mg (0.07 mmol) was dissolved in 10 ml of pyridine, and iodine (17 mg, 0.07 mmol) was added at room temperature.
The mixture was heated and stirred at 5 ° C for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 4:
After purification by subjecting to 1), 5 mg (19%) of the desired compound was obtained as crystals. TLC: Rf = 0.35 (ethyl acetate: hexane = 3: 1), mp 220-
224 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.76-7.65 (m, 4H, a
rom-H), 6.66 (s, 1H, -CH), 6.34 (s, 1H, arom-H), 5.29 (m, 1H-
U), 3.59 (d, 2H, J = 7.04Hz, -CH 2 ), 1.86 (s, 3H, -CH 3 ), 1.77
(s, 3H, -CH 3 )

【0136】[0136]

【実施例26】2-(4- クロロフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル
-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 45.8 mg (0.13 mmol)をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素32 mg (0.13 mmol)を加えた後、9
0℃で5時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
2:1) に付して精製し、所望の化合物 8.3 mg (18%) を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.34 (酢酸エチル:ヘキサン=4:1), m.p. 198-
202 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :7.88−7.
50(m,4H,arom−H),6.64(s,1
H,−CH),6.32(s,1H,arom−H),
5.25−5.19(m,1H,−CH),3.55
(d,2H,−CH),1.82(s,3H,−CH
),1.70(s,3H,−CH
Example 26 2- (4-chlorophenyl) -5,7-dihydroxy-8- (3-methyl
-2-Butenyl) -4 (4H) -chromenone flavanone derivative 45.8 mg (0.13 mmol) was dissolved in 10 ml of pyridine, and 32 mg (0.13 mmol) of iodine was added at room temperature.
The mixture was heated and stirred at 0 ° C for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane =
2: 1) to obtain the desired compound (8.3 mg, 18%) as crystals. TLC: Rf = 0.34 (ethyl acetate: hexane = 4: 1), mp 198-
202 ℃ 1 H-NMR (270MHz , CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.88-7.
50 (m, 4H, arom-H), 6.64 (s, 1
H, -CH), 6.32 (s, 1H, arom-H),
5.25-5.19 (m, 1H, -CH), 3.55
(D, 2H, -CH 2) , 1.82 (s, 3H, -CH
3), 1.70 (s, 3H , -CH 3)

【0137】[0137]

【実施例27】5,7−ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メトキシフ
ェニル)-8- (3-メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 132.8 mg (0.36 mmol) をピリジン 15 ml
に溶解し、室温でヨウ素 91 mg (0.36 mmol)を加えた
後、90℃で5時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽
和重曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネ
シウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサ
ン=2:1) に付して精製し、所望の化合物 49.7 mg (38%)
を結晶として得た。 TLC:Rf=0.26 (酢酸エチル:ヘキサン=3:2), m.p. 200-
210 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :7.46-7.00(m,3H,a
rom-H),6.55(s,1H,-CH),6.30(s,1H,arom-H),5.31(m,1H,
-CH),3.97(s,3H,-OCH3),3.54(m,2H,-CH2),1.81(s,3H,-C
H3),1.69(s,3H,-CH3)
Example 27 5,7-Dihydroxy-2- (4-hydroxy-3-methoxyphenol
Phenyl) -8- (3-methyl-2-butenyl) -4 (4H) -chromenone flavanone derivative 132.8 mg (0.36 mmol) in pyridine (15 ml)
Was dissolved in water, and 91 mg (0.36 mmol) of iodine was added at room temperature, followed by heating with stirring at 90 ° C for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1), and the desired compound 49.7 mg (38%)
Was obtained as crystals. TLC: Rf = 0.26 (ethyl acetate: hexane = 3: 2), mp 200-
210 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.46-7.00 (m, 3H, a
rom-H), 6.55 (s, 1H, -CH), 6.30 (s, 1H, arom-H), 5.31 (m, 1H,
-CH), 3.97 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.54 (m, 2H, -CH 2 ), 1.81 (s, 3H, -C
H 3 ), 1.69 (s, 3H, -CH 3 )

【0138】[0138]

【実施例28】5,7-ジヒドロキシ-2-(3-ヒドロキシ-4- メトキシフェニ
ル)-8- (3-メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 74.6 mg (0.2 mmol) をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素51 mg (0.2 mmol) を加えた後、9
0℃で5時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
2:1) に付して精製し、所望の化合物 26.1 mg (35%)を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.25 (酢酸エチル:ヘキサン=3:2), m.p. 190-
198 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :7.47−6.
96(m,3H,arom−H),6.54(s,1
H,−CH),6.30(s,1H,arom−H),
5.27(m,1H,−CH),3.54(m,2H,
−CH),1.83(s,3H,−CH),1.7
0(s,3H,−CH
Example 28 5,7-Dihydroxy-2- (3-hydroxy-4-methoxyphenyi
) -8- (3-Methyl-2-butenyl) -4 (4H) -chromenone flavanone derivative 74.6 mg (0.2 mmol) was dissolved in 10 ml of pyridine, and after adding 51 mg (0.2 mmol) of iodine at room temperature. , 9
The mixture was heated and stirred at 0 ° C for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane =
2: 1) for purification to obtain 26.1 mg (35%) of the desired compound as crystals. TLC: Rf = 0.25 (ethyl acetate: hexane = 3: 2), mp 190-
198 ° C. 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.47-6.
96 (m, 3H, arom-H), 6.54 (s, 1
H, -CH), 6.30 (s, 1H, arom-H),
5.27 (m, 1H, -CH), 3.54 (m, 2H,
-CH 2), 1.83 (s, 3H, -CH 3), 1.7
0 (s, 3H, -CH 3 )

【0139】[0139]

【実施例29】5,7−ジヒドロキシ-2-(4-メチルフェニル)-8- (3-メ
チル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 48.9 mg (0.14 mmol)をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素37 mg (0.14 mmol)を加えた後、9
0℃で5時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
3:1) に付して精製し、所望の化合物 8.3 mg (17%) を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.47 (酢酸エチル:ヘキサン=2:1), m.p. 220-
222 ℃1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ :7.83-7.32(m,4H,a
rom-H),6.63(s,1H,-CH,),6.30(s,1H,arom-H),5.28(m,1
H,-CH),3.55(d,2H,J=6.69Hz,-CH2),2.45(s,3H,-CH3)
Example 29 5,7-Dihydroxy-2- (4-methylphenyl) -8- (3-me
Tyl-2-butenyl) -4 (4H) -chromenone flavanone derivative 48.9 mg (0.14 mmol) was dissolved in 10 ml of pyridine, and after adding 37 mg (0.14 mmol) of iodine at room temperature, 9
The mixture was heated and stirred at 0 ° C for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane =
3: 1) to obtain the desired compound (8.3 mg, 17%) as crystals. TLC: Rf = 0.47 (ethyl acetate: hexane = 2: 1), mp 220-
222 ℃ 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 7.83-7.32 (m, 4H, a
rom-H), 6.63 (s, 1H, -CH,), 6.30 (s, 1H, arom-H), 5.28 (m, 1
H, -CH), 3.55 (d, 2H, J = 6.69Hz, -CH 2 ), 2.45 (s, 3H, -CH 3 )

【0140】[0140]

【実施例30】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5- (3-メ
チル-2- ブテニル)-3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オ
(30a) 乾燥THF 30 ml に予めヘキサンで洗浄したリチウ
ム分散物 200 mg を懸濁させ、窒素雰囲気下に3,5-ジメ
トキシベンジルクロライド 1 g (5.3 mmol) およびp-メ
トキシケイ皮酸メチルエステル 1 g (5.3mmol)を-20 ℃
で加えて4時間攪拌した。反応液をTHF で希釈し、次い
で飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて有機層を抽出し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸
エチル:ヘキサン=4:1) に付して精製し、所望の化合物
546 mg (27%) を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン:酢酸エチル=4:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:7.06(d,2H,J=8.58Hz,arom
-H),6.80(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.26(m,1H,arom-H),
6.18-6.17(m,2H,arom-H),3.78(s,3H,OCH3),3.70(s,3H,3
H,OCH3,OCH3),3.52(s,3H,OCH3),3.34(m,1H,-CH),2.80
(m,2H,-CH2),2.63(m,2H,-CH2) (30b) エステル体 300 mg (0.87mmol)にポリリン酸 5 g
を加え、窒素気流下に 80 ℃で2時間加熱攪拌した。水
及び酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、飽和重曹水、
水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣 260 mg を塩化メ
チレン70 ml に溶解し 1M 三臭化ボロン溶液 5.2 ml を
-78℃で加えて室温で8時間攪拌した。メタノール、酢
酸エチル、水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:1)に付して精製し、所望の化合物 200 mg (87.5%) を
得た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.8(s,1H,-OH),7.
11(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.81(d,2H,J=8.58Hz,arom-
H),6.22-6.21(m,2H,arom-H),3.37-3.24(m,2H,-CH),3.01
-2.98(m,2H,-CH2),2.81 -2.71(m,2H,-CH2) (30c) トリフェノール体 200 mg (0.75 mmol) をDMF 20
ml に溶解し、イソプレニルクロリド 78 mg (0.75 mmo
l)および炭酸カリウム 100 mg (0.75 mmol) を加えて80
℃で3時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重曹
水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:
1) に付して精製し、所望の化合物 230 mg (90%) を得
た。 TLC:Rf=0.5(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:12.8(s,1H,-OH),7.
12(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.82(d,2H,arom-H),6.30-6.
29(m,2H,arom-H),5.48 -5.42(m,1H,-CH),4.54-4.51(m,2
H,-CH2),3.37-3.25(m,1H,-CH),3.02-2.99(m,2H,-CH2),
2.88-2.71(m,2H,-CH2),1.79(s,3H,-CH3),1.73(s,3H,-CH
3) (30d) モノイソプレニルエーテル 230 mg (0.67 mmol)
を塩化メチレン 10 mlに溶解し、窒素気流下にモンモリ
ロナイトKSF 50 mg を懸濁させて一昼夜攪拌した。反応
液をセライト濾過し、濾液に酢酸エチルを加えて水及び
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:1) に付して
精製し、所望の化合物 20 mg (8.6%) を得た。 TLC:Rf=0.4(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3+CD3OD) δ:13.7(s,1H,-OH),7.
12(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.82(d,2H,J=8.58Hz,arom-
H),6.23(s,1H,arom-H),5.05-4.99(m,1H,-CH),3.28-3.25
(m,2H,-CH2),3.23-3.13(m,2H,-CH2),2.98 -2.71(m,m,2
H,1H,-CH2,-CH),1.69(s,3H,-CH3),1.66(s,3H,-CH3) (30e) 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 3 g (15.4 mmol)を
ベンゼン 50 mlに懸濁させ、氷冷下にオキザリルクロリ
ド 2 g (16.0 mmol)及びDMF 2滴を加えて3時間攪拌し
た。溶媒を留去した後、アニソール 10 ml及び塩化アル
ミ 2.1 g (15.8 mmol)を加えて室温で3時間攪拌した。
希塩酸及び酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=3:1) に付して
精製し、所望の化合物 3.18 g (72.4%) を得た。 TLC:Rf=0.7(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:7.99(d,2H,J=8.6Hz,arom-
H),6.92(d,2H,J=8.6Hz,arom-H),6.43-6.34(m,3H,arom-
H),4.15(s,2H,-CH2),3.85(s,3H,-CH3),3.76(s,3H,3H,-O
CH3,-OCH3) (30f) 予めヘキサンで洗浄したナトリウムヒドリド 14
g (62.5 mmol) を氷冷下でトリエチルフォスフォノアセ
テート 14 g (62.5 mmol) に加えて30分攪拌した後、
(3,5- ジメトキシベンジル)(4'- メトキシフェニル) ケ
トン 3.18 g (11.1mmol) を加えて120 ℃で3時間攪拌
した。反応液に酢酸エチルを加えて水及び飽和食塩水で
洗浄して溶媒を留去した。残渣 3 gをエタノール 100 m
l に溶解して10% Pd-C 500 mgを加え、水素気流下に室
温で3時間接触水素添加した。反応液をセライト濾過し
た後、濾液の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=6:1) に付し
て精製し、所望の化合物 2.38g (60%) を得た。 TLC:Rf=0.7(酢酸エチル:ヘキサン=5:1)1 H-NMR (270MHz, CDCl3) δ:7.02(d,2H,J=8.6Hz,arom-
H),6.79(d,2H,J=8.6Hz,arom-H),6.28-6.26(m,1H,arom-
H),6.20-6.19(m,2H,arom-H),3.99(q,2H,J=7.1Hz,-CH2),
3.76(s,3H,-OCH3),3.71(s,3H,3H,-OCH3,-OCH3),3.38-3.
32(m,1H,-CH),2.83-2.79(m,2H,-CH2),2.68-2.50(m,2H,-
CH2),1.11(t,3H,J=7.1Hz,-CH3) (30g) (3,5- ジメトキシベンジル) (4'-メトキシフェニ
ル) ケトン 7.47 g (26mmol) をTHF 150 mlに溶解し、
亜鉛−銅合金(約亜鉛 91%及び銅 5%) 3.2 gとブロモ酢
酸エチル 3.5 ml を加えて窒素雰囲気下で6時間環流し
た。反応液に希塩酸及び酢酸エチルを加えて抽出し、有
機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣 7.61 g に
ベンゼン 100 ml 及びp-トルエンスルホンニルクロリド
100 mg (0.524 mmol ) を加えて窒素気流下で3時間環
流させた。反応液に水及び酢酸エチルを加えて抽出し、
有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣 7.18 g
をエタノール 100 ml に溶解して 10% Pd-C 500 mgを加
えて水素気流下に室温で6時間接触水素添加した。反応
液をセライト濾過した後に溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン
=6:1) に付して精製し、所望の化合物 5.66 g(57%)を得
た。この化合物の物理化学的性状は、上記(30f) で得ら
れた化合物と同一であった。
Example 30 6,8-Dihydroxy-3- (4-hydroxyphenyl) -5- (3-me
Cyl-2-butenyl) -3,4-dihydro-2H-naphthalene-1-o
Down (30a) dry THF 30 ml to is previously suspended lithium dispersion 200 mg of washed with hexane under nitrogen atmosphere 3,5-dimethoxybenzyl chloride 1 g (5.3 mmol) and p- methoxycinnamate methyl ester 1 g (5.3 mmol) at -20 ° C
And stirred for 4 hours. The reaction solution was diluted with THF, a saturated aqueous solution of ammonium chloride was added, the organic layer was extracted, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 4: 1) to give the desired compound.
Obtained 546 mg (27%). TLC: Rf = 0.5 (hexane: ethyl acetate = 4: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 7.06 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom
-H), 6.80 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.26 (m, 1H, arom-H),
6.18-6.17 (m, 2H, arom-H), 3.78 (s, 3H, OCH 3 ), 3.70 (s, 3H, 3
H, OCH 3 , OCH 3 ), 3.52 (s, 3H, OCH 3 ), 3.34 (m, 1H, -CH), 2.80
(m, 2H, -CH 2 ), 2.63 (m, 2H, -CH 2 ) (30b) Ester 300 mg (0.87 mmol) to polyphosphoric acid 5 g
Was added and the mixture was heated with stirring at 80 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. Water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate,
After washing with water and saturated saline, it was dried over magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. Dissolve 260 mg of the residue in 70 ml of methylene chloride and add 5.2 ml of 1M boron tribromide solution.
The mixture was added at -78 ° C and stirred at room temperature for 8 hours. The extract was washed with methanol, ethyl acetate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane =
Purification by 1: 1) yielded 200 mg (87.5%) of the desired compound. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.8 (s, 1H, -OH), 7.
11 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.81 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-
H), 6.22-6.21 (m, 2H, arom-H), 3.37-3.24 (m, 2H, -CH), 3.01
-2.98 (m, 2H, -CH 2 ), 2.81 -2.71 (m, 2H, -CH 2 ) (30c) Triphenol derivative 200 mg (0.75 mmol) in DMF 20
Dissolve in 78 ml of isoprenyl chloride 78 mg (0.75 mmo
l) and 100 mg (0.75 mmol) of potassium carbonate, and add 80
The mixture was heated and stirred at ℃ for 3 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2:
After purification by subjecting to 1), 230 mg (90%) of the desired compound was obtained. TLC: Rf = 0.5 (ethyl acetate: hexane = 2: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 12.8 (s, 1H, -OH), 7.
12 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.82 (d, 2H, arom-H), 6.30-6.
29 (m, 2H, arom-H), 5.48 -5.42 (m, 1H, -CH), 4.54-4.51 (m, 2
H, -CH 2 ), 3.37-3.25 (m, 1H, -CH), 3.02-2.99 (m, 2H, -CH 2 ),
2.88-2.71 (m, 2H, -CH 2 ), 1.79 (s, 3H, -CH 3 ), 1.73 (s, 3H, -CH
3 ) (30d) Monoisoprenyl ether 230 mg (0.67 mmol)
Was dissolved in 10 ml of methylene chloride, 50 mg of montmorillonite KSF was suspended in a nitrogen stream, and the mixture was stirred for 24 hours. The reaction solution was filtered through Celite, ethyl acetate was added to the filtrate, washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 2: 1) to obtain 20 mg (8.6%) of the desired compound. TLC: Rf = 0.4 (ethyl acetate: hexane = 2: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 + CD 3 OD) δ: 13.7 (s, 1H, -OH), 7.
12 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-H), 6.82 (d, 2H, J = 8.58Hz, arom-
H), 6.23 (s, 1H, arom-H), 5.05-4.99 (m, 1H, -CH), 3.28-3.25
(m, 2H, -CH 2 ), 3.23-3.13 (m, 2H, -CH 2 ), 2.98 -2.71 (m, m, 2
H, 1H, -CH 2 , -CH), 1.69 (s, 3H, -CH 3 ), 1.66 (s, 3H, -CH 3 ) (30e) 3,5-dimethoxyphenylacetic acid 3 g (15.4 mmol) It was suspended in 50 ml of benzene, 2 g (16.0 mmol) of oxalyl chloride and 2 drops of DMF were added under ice cooling, and the mixture was stirred for 3 hours. After the solvent was distilled off, 10 ml of anisole and 2.1 g (15.8 mmol) of aluminum chloride were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.
Dilute hydrochloric acid and ethyl acetate were added for extraction, the organic layer was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 3: 1) to obtain 3.18 g (72.4%) of the desired compound. TLC: Rf = 0.7 (ethyl acetate: hexane = 2: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 7.99 (d, 2H, J = 8.6Hz, arom-
H), 6.92 (d, 2H, J = 8.6Hz, arom-H), 6.43-6.34 (m, 3H, arom-
H), 4.15 (s, 2H , -CH 2), 3.85 (s, 3H, -CH 3), 3.76 (s, 3H, 3H, -O
CH 3, sodium hydride 14 washing with -OCH 3) (30f) in advance hexane
g (62.5 mmol) was added to triethylphosphonoacetate 14 g (62.5 mmol) under ice cooling and stirred for 30 minutes,
3.18 g (11.1 mmol) of (3,5-dimethoxybenzyl) (4′-methoxyphenyl) ketone was added, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 3 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water and saturated saline, and the solvent was evaporated. 3 g of residue is 100 m of ethanol
10% Pd-C (500 mg) was added to the solution, and the mixture was catalytically hydrogenated at room temperature for 3 hours under a hydrogen stream. The reaction solution was filtered through Celite, the solvent in the filtrate was evaporated, and the residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 6: 1) to obtain 2.38 g (60%) of the desired compound. It was TLC: Rf = 0.7 (ethyl acetate: hexane = 5: 1) 1 H-NMR (270MHz, CDCl 3 ) δ: 7.02 (d, 2H, J = 8.6Hz, arom-
H), 6.79 (d, 2H, J = 8.6Hz, arom-H), 6.28-6.26 (m, 1H, arom-
H), 6.20-6.19 (m, 2H, arom-H), 3.99 (q, 2H, J = 7.1Hz, -CH 2 ),
3.76 (s, 3H, -OCH 3 ), 3.71 (s, 3H, 3H, -OCH 3 , -OCH 3 ), 3.38-3.
32 (m, 1H, -CH), 2.83-2.79 (m, 2H, -CH 2 ), 2.68-2.50 (m, 2H,-
CH 2 ), 1.11 (t, 3H, J = 7.1Hz, -CH 3 ) (30g) (3,5-dimethoxybenzyl) (4'-methoxyphenyl) ketone 7.47 g (26 mmol) was dissolved in THF 150 ml. ,
3.2 g of a zinc-copper alloy (about 91% zinc and 5% copper) and 3.5 ml of ethyl bromoacetate were added, and the mixture was refluxed for 6 hours under a nitrogen atmosphere. Dilute hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the reaction solution for extraction, the organic layer was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. To the residue (7.61 g) was added 100 ml of benzene and p-toluenesulfonyl chloride.
100 mg (0.524 mmol) was added and the mixture was refluxed for 3 hours under a nitrogen stream. Water and ethyl acetate were added to the reaction solution for extraction,
The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. Residue 7.18 g
Was dissolved in 100 ml of ethanol, 500 mg of 10% Pd-C was added, and catalytic hydrogenation was carried out at room temperature for 6 hours under a hydrogen stream. The reaction solution was filtered through Celite, the solvent was evaporated, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane).
= 6: 1) to give the desired compound 5.66 g (57%). The physicochemical properties of this compound were the same as those of the compound obtained in (30f) above.

【0141】[0141]

【発明の効果】本発明の化合物はエストロゲンリセプタ
ーに特異的に結合するので、エストロゲン作用剤などの
医薬として有用である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY Since the compound of the present invention specifically binds to the estrogen receptor, it is useful as a drug such as an estrogen agonist.

【0142】[0142]

【試験例】[Test example]

【0143】[0143]

【試験例1】エストロゲンレセプターへの親和性 エストロゲンレセプターへの親和性は、Thibodeau,S.N.
らの方法(Clin. Chem., 27, 678-691 (1981) )を一部
改変し、用いることにより測定した。即ち、ウシ子宮を
摩砕し、100,000Gで、1時間超遠心して得られる細胞可
溶画分中のエストロゲンリセプター(エストロゲン結合
蛋白質)を用いて試験を行なった。最終濃度が、1nM
となるように希釈した〔3 H〕エストラジオール(13
6Ci/mmol)溶液10μl 、検体溶液(若しくは溶媒
のみ)10μl 、前記細胞可溶画分200μl を含む反
応液を混和した後に、4℃の状態で一晩保存した。反応
液中の遊離の〔3 H〕エストラジオールをデキストラン
(Dextran T70、ファルマシア社製)被覆活性炭(C
4386、シグマ社製)で吸着除去した後、エストロゲ
ンリセプターに結合した〔3 H〕エストラジオール量
を、液体シンチレーションカウンターで測定することに
より、エストロゲンリセプターに結合した〔3 H〕エス
トラジオール量を求めた。非特異的結合測定のために
は、検体溶液の代わりに、〔3 H〕エストラジオールの
500倍過剰のエストラジオールを添加し、同様の処理
をした。検体のエストロゲンレセプターへの親和性は、
3 H〕エストラジオールのエストロゲンリセプターに
対する結合の阻害率として、次式で求めた。 結合阻害率=100−(a/b×100) a:検体添加のdpm−非特異的結合のdpm b:検体非添加のdpm−非特異的結合のdpm なお、エストラジオール拮抗作用を示す対照化合物とし
て、ゲニステインを用いた。
[Test Example 1] Affinity to estrogen receptor Affinity to estrogen receptor was determined by Thibodeau, SN
The measurement was carried out by partially modifying and using the above method (Clin. Chem., 27 , 678-691 (1981)). That is, the test was performed using an estrogen receptor (estrogen binding protein) in a cell-soluble fraction obtained by grinding a bovine uterus and ultracentrifuging at 100,000 G for 1 hour. Final concentration of 1 nM
[ 3 H] estradiol (13
(6 Ci / mmol) solution, 10 μl of the sample solution (or solvent only) and 200 μl of the cell-soluble fraction were mixed, and then stored overnight at 4 ° C. Free [ 3 H] estradiol in the reaction solution was converted to dextran (Dextran T70, manufactured by Pharmacia) -coated activated carbon (C
4386, manufactured by Sigma), and the amount of [ 3 H] estradiol bound to the estrogen receptor was measured with a liquid scintillation counter to determine the amount of [ 3 H] estradiol bound to the estrogen receptor. For non-specific binding measurement, a 500-fold excess of [ 3 H] estradiol was added to estradiol instead of the sample solution, and the same treatment was performed. The affinity of the sample for the estrogen receptor is
The inhibition rate of the binding of [ 3 H] estradiol to the estrogen receptor was determined by the following equation. Binding inhibition rate = 100- (a / b × 100) a: dpm of sample addition-dpm of non-specific binding b: dpm of sample non-addition-dpm of non-specific binding As a control compound showing an estradiol antagonism , Genistein was used.

【0144】[0144]

【化11】 Embedded image

【0145】[0145]

【試験例2】エストロゲン活性:培養細胞に対する効果 エストロゲンにより増殖が促進されるヒト乳癌由来細胞
T47D(Reddel, R.R. & Sutherland, R. L., Eur.
J. Clin. Oncol., 20, 1419-1424 (1984))を用いて、
本発明化合物のエストロゲン様活性を試験した。即ち、
T47D細胞3000個を、96穴のマイクロテストプ
レートの各穴に播種し、細胞が接着した後に、200I
U/Iのインスリン及び内在性のエストロゲンを活性炭
で除去したウシ胎児血清を10%含むRPMI1640
培地に代えた。ここに、検体溶液(又は溶媒のみ)を加
え、37℃で4日間培養した。
[Test Example 2] Estrogen activity: effect on cultured cells Human breast cancer-derived cells T47D whose proliferation is promoted by estrogen (Reddel, RR & Sutherland, RL, Eur.
J. Clin. Oncol., 20 , 1419-1424 (1984))
The compounds of the invention were tested for estrogenic activity. That is,
3000 T47D cells were seeded in each well of a 96-well microtest plate, and after cells adhered, 200I
RPMI 1640 containing 10% fetal bovine serum with U / I insulin and endogenous estrogen removed with activated charcoal
The medium was replaced. A sample solution (or solvent alone) was added to the mixture, and the mixture was incubated at 37 ° C for 4 days.

【0146】また、エストラジオール細胞増殖効果に、
本発明の化合物が拮抗するか否かを確認するために、
0.1nMエストラジオール溶液と検体溶液(又は0.
1nMエストラジオール溶液のみ)を同時に加えた実験
も行った。培養後、T47D細胞の増殖の度合いを、Ca
rmichael, J.らの方法(Cancer Res., 47, 936-942 (19
87) )に従い、MTT〔(3-(4,5-dimethyl-2-thiazoly
l)-2,5-diphenyl-2H-tetrazolium bromide)〕を用い
て、波長550nmにおける吸光度を指標として検出し
た。増殖促進率は以下の式により求めた。 増殖促進率=a/b×100 a:検体添加時の吸光度 b:検体非添加時の吸光度 各検体の種々の濃度での増殖促進率をプロットして、各
検体の最大効果のエストラジオールの最大効果に対する
割合(Emax )、Emax の1/2の効果を与える濃度
(EC50)及び0.1nMエストラジオールの作用に5
0%拮抗する濃度(IC50(T47D))を求めた。な
お、対照化合物として、ゲニステインを用いた。
In addition, for the estradiol cell proliferation effect,
To determine whether the compounds of the present invention antagonize,
0.1 nM estradiol solution and sample solution (or 0.1.
An experiment in which 1 nM estradiol solution only) was added at the same time was also performed. After culture, the degree of proliferation of T47D cells
rmichael, J. et al. (Cancer Res., 47 , 936-942 (19
87)), MTT [(3- (4,5-dimethyl-2-thiazoly
l) -2,5-diphenyl-2H-tetrazolium bromide)] and the absorbance at a wavelength of 550 nm was used as an index. The growth promotion rate was determined by the following equation. Growth promotion rate = a / b × 100 a: Absorbance when sample is added b: Absorbance when sample is not added The growth promotion rate of each sample at various concentrations is plotted, and the maximum effect of estradiol is the maximum effect of each sample. To the concentration (E max ), the concentration giving a half effect of E max (EC 50 ) and the effect of 0.1 nM estradiol on 5
The 0% antagonistic concentration (IC 50 (T47D)) was determined. In addition, genistein was used as a control compound.

【0147】本発明の化合物は、細胞増殖促進効果を有
するが(EC50の結果から)、ゲニステインのようなフ
ルアゴニストではなく、パーシャルアゴニストであり
(Emax の結果から)、ゲニステインにはない、エスト
ロゲンアンタゴニスト活性を有する(IC50の結果か
ら)ことから、子宮癌や乳癌の増殖をもたらさない、骨
粗鬆症の予防剤又は治療剤となる。
The compound of the present invention has a cell growth promoting effect (from the result of EC 50 ) but is not a full agonist like genistein but a partial agonist (from the result of E max ) and is not present in genistein, Since it has an estrogen antagonist activity (from the result of IC 50 ), it is a preventive or therapeutic agent for osteoporosis that does not cause the growth of uterine cancer or breast cancer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/35 AEK A61K 31/35 AEK C07D 311/30 C07D 311/30 311/32 311/32 (72)発明者 岩野 雄次 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 飯島 康輝 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 瀧 基彦 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 北岡 政弘 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication location A61K 31/35 AEK A61K 31/35 AEK C07D 311/30 C07D 311/30 311/32 311/32 ( 72) Inventor Yuji Iwano 1-58 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo stock company (72) Inventor Yasuki Iijima 1-2-58 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo stock company (72) Inventor Motohiko Taki 1-58 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo stock company (72) Inventor Masahiro Kitaoka 1-2-58 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo stock company

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の式: 【化1】 [式中、 R1 は、水酸基又は水素原子を示し、 R2 は、無置換若しくはアリール置換のアルキル基、又
は無置換若しくはアリール置換のアルケニル基を示し、 R3 は、水素原子又は低級アルキル基を示し、 R4 及びR5 はそれぞれ独立に水素原子又は低級アルキ
ル基を示し、 R6 は水酸基、ハロゲン原子、又は低級アルキル基を示
し、 Xは酸素原子またはメチレン基を示し、 ----の付された結合は当該結合が単結合又は二重結合で
あることを示す]で表される化合物及びその塩。
1. The following formula: [In the formula, R 1 represents a hydroxyl group or a hydrogen atom, R 2 represents an unsubstituted or aryl-substituted alkyl group or an unsubstituted or aryl-substituted alkenyl group, and R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 6 represents a hydroxyl group, a halogen atom, or a lower alkyl group, X represents an oxygen atom or a methylene group, and ---- The bond indicated by means that the bond is a single bond or a double bond] and a salt thereof.
【請求項2】R2 が、無置換C1-6アルキル基、二重結合
を1個含む無置換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキ
ル置換若しくは無置換フェニル基を置換基として有する
C1-4アルキル基であり、 R3 が、水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり、 R4 が、水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり、 R5 が、水素原子又は無置換C1-4アルキル基であり、 R6 が、水酸基、ハロゲン原子、又は無置換C1-4アルキ
ル基である請求項1に記載の化合物及びその塩。
2. R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted or unsubstituted phenyl group. Have as
C 1-4 alkyl group, R 3 is hydrogen atom or unsubstituted C 1-4 alkyl group, R 4 is hydrogen atom or unsubstituted C 1-4 alkyl group, R 5 is hydrogen The compound or a salt thereof according to claim 1, which is an atom or an unsubstituted C 1-4 alkyl group, and R 6 is a hydroxyl group, a halogen atom, or an unsubstituted C 1-4 alkyl group.
【請求項3】R1 が水酸基であり、かつ、Xが酸素原子
である請求項2に記載の化合物及びその塩。
3. The compound and salt thereof according to claim 2, wherein R 1 is a hydroxyl group and X is an oxygen atom.
【請求項4】R6 が水酸基である請求項3に記載の化合
物及びその塩。
4. The compound or a salt thereof according to claim 3, wherein R 6 is a hydroxyl group.
【請求項5】R1 が水酸基であり、R6 が水酸基であ
り、Xがメチレン基であり、かつ、----の付された結合
が単結合である請求項2に記載の化合物及びその塩。
5. The compound according to claim 2, wherein R 1 is a hydroxyl group, R 6 is a hydroxyl group, X is a methylene group, and the bond with ---- is a single bond. Its salt.
【請求項6】R4 が水素原子である請求項5に記載の化
合物及びその塩。
6. The compound and salt thereof according to claim 5, wherein R 4 is a hydrogen atom.
【請求項7】R1 が水素原子であり、R6 が水酸基であ
り、かつ、Xが酸素原子である請求項2に記載の化合物
及びその塩。
7. The compound and salt thereof according to claim 2, wherein R 1 is a hydrogen atom, R 6 is a hydroxyl group, and X is an oxygen atom.
【請求項8】R2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合を
1個含む無置換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキル
置換若しくは無置換のベンジル基であり、R3 が水素原
子であり、かつ、R4 が水素原子である請求項7に記載
の化合物及びその塩。
8. R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted or unsubstituted benzyl group, The compound and salt thereof according to claim 7, wherein R 3 is a hydrogen atom and R 4 is a hydrogen atom.
【請求項9】R1 が水素原子であり、R3 が水素原子で
あり、R4 が水素原子であり、R6が水酸基であり、X
がメチレン基であり、かつ、----の付された結合が単結
合である請求項2に記載の化合物及びその塩。
9. R 1 is a hydrogen atom, R 3 is a hydrogen atom, R 4 is a hydrogen atom, R 6 is a hydroxyl group, X
Is a methylene group, and the bond marked with ---- is a single bond.
【請求項10】R2 が無置換C1-6アルキル基、二重結合
を1個含む無置換のC2-6アルケニル基、又はC1-4アルキ
ル置換若しくは無置換のベンジル基である請求項9に記
載の化合物及びその塩。
10. R 2 is an unsubstituted C 1-6 alkyl group, an unsubstituted C 2-6 alkenyl group containing one double bond, or a C 1-4 alkyl-substituted or unsubstituted benzyl group. Item 9. A compound or a salt thereof according to item 9.
【請求項11】請求項1ないし10のいずれか1項に記
載の化合物又は薬理学的に許容されるその塩からなる医
薬。
11. A medicine comprising the compound according to any one of claims 1 to 10 or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項12】請求項1ないし10のいずれか1項に記
載の化合物又は薬理学的に許容されるその塩を有効成分
として含む医薬用組成物。
12. A pharmaceutical composition comprising the compound according to any one of claims 1 to 10 or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient.
【請求項13】エストロゲン作用剤として用いる請求項
12に記載の医薬用組成物。
13. The pharmaceutical composition according to claim 12, which is used as an estrogen agonist.
【請求項14】エストロゲンの減少に起因する疾患、更
年期障害、前立腺癌、及び前立腺肥大症からなる群から
選択される疾患の予防及び/又は治療に用いる請求項1
3に記載の医薬用組成物。
14. Use for prevention and / or treatment of a disease selected from the group consisting of a disease caused by a decrease in estrogen, menopausal disorder, prostate cancer, and benign prostatic hyperplasia.
The pharmaceutical composition according to 3.
【請求項15】乳汁分泌抑制に用いる請求項13に記載
の医薬用組成物。
15. The pharmaceutical composition according to claim 13, which is used for suppressing milk secretion.
【請求項16】請求項12ないし15のいずれか1項に
記載の医薬組成物の製造のための請求項1ないし10の
いずれか1項に記載の化合物の使用。
16. Use of a compound according to any one of claims 1 to 10 for the manufacture of a pharmaceutical composition according to any one of claims 12 to 15.
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