JPH09281401A - Object inspecting instrument - Google Patents

Object inspecting instrument

Info

Publication number
JPH09281401A
JPH09281401A JP11832496A JP11832496A JPH09281401A JP H09281401 A JPH09281401 A JP H09281401A JP 11832496 A JP11832496 A JP 11832496A JP 11832496 A JP11832496 A JP 11832496A JP H09281401 A JPH09281401 A JP H09281401A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
intensity
polarization
phase difference
polarization directions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11832496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsuneyuki Hagiwara
恒幸 萩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP11832496A priority Critical patent/JPH09281401A/en
Publication of JPH09281401A publication Critical patent/JPH09281401A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simultaneously inspect, in a short time, the defect of the phase shift amount of a main area at the inside of reticle and foreign matter such as contaminant or the like hindering exposure. SOLUTION: A light beam for illumination i00 is made illuminating light beams EO and OE sheared by a Nomarski prism 10 and an objective lens 12. Light passing through an object surface S is synthesized by the objective lens 14 and the Nomarski prism 16, and is made incident on a half mirror 18. The interference components of transmitted light are taken out in different polarization directions by a 1/4 wavelength plate 20 and a polarizing beam splitter 22, and the intensity component of the illuminating light EO and OE of reflected light is taken out by the polarizing beam splitter 24. The inspection of the defect of an object is performed by an error signal obtained by performing the intensity adjustments of respective components.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、物体検査装置に
かかり、例えば、位相シフタを有するレチクル(又はマ
スク)の欠陥検査に好適な物体検査装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an object inspection apparatus, for example, an object inspection apparatus suitable for defect inspection of a reticle (or mask) having a phase shifter.

【0002】[0002]

【背景技術と発明が解決しようとする課題】位相シフタ
を有するレチクルの欠陥検査装置としては、例えば、
「SPEI,Proceeding Series Volume 2254, Photoma
sk and X-Ray Mask Technology,"P.294〜301"」に記載
されているシフタの位相シフト量測定装置がある。この
装置では、レチクル内の検査対象となる位相シフタ部分
が光学顕微鏡の視野内に位置するように調整される。そ
して、その視野内のサンプリングされた一点の位相量が
計測される。この作業が、各サンプリング点毎に繰り返
し行われる。
BACKGROUND ART A defect inspection apparatus for a reticle having a phase shifter includes, for example,
"SPEI, Proceeding Series Volume 2254, Photoma
sk and X-Ray Mask Technology, "P.294〜301""has a shifter phase shift measuring device. In this apparatus, the phase shifter portion to be inspected in the reticle is adjusted so as to be located within the visual field of the optical microscope. Then, the phase amount of one sampled point in the field of view is measured. This operation is repeated for each sampling point.

【0003】従って、この背景技術によれば、1回の測
定毎に、サンプリングされた1点毎の検査結果しか得ら
れない。このため、レチクル内におけるすべての欠陥を
検査することには、全く不向きである。また、位相シフ
タの他にクロムなどによる遮光部を有するようなタイプ
のレチクルの場合には、位相シフト量の欠陥の他に異物
も同時に検出できると、欠陥検査装置としては好都合で
ある。
Therefore, according to this background art, only the inspection result for each sampled point can be obtained for each measurement. Therefore, it is completely unsuitable for inspecting all the defects in the reticle. Further, in the case of a reticle of a type having a light-shielding portion made of chromium or the like in addition to the phase shifter, it is convenient as a defect inspection apparatus because it is possible to simultaneously detect foreign matters in addition to defects of the phase shift amount.

【0004】本発明は、このような事情に鑑み、短時間
でレチクル内の主要領域の位相シフト量の欠陥を検査す
ることができ、加えて露光に支障を来す汚染物などの異
物の検査も同時に行って、シフタなしレチクルに対して
は異物検査装置として使用することもできる物体検査装
置を提供することを、その目的とする。
In view of the above circumstances, the present invention can inspect defects in the amount of phase shift in the main area of the reticle in a short time, and in addition, inspect foreign matters such as contaminants that interfere with exposure. It is an object of the present invention to provide an object inspection device that can be used as a foreign matter inspection device for a reticle without a shifter by performing the above.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、照明用の直交
する第1及び第2の偏光方向の光を供給する照明手段
(50,54);これから得られた直交する第1及び第2の
偏光方向の光の光軸を相対的にシャーして観察対象の物
体に照射する光分離手段(10);物体を透過又は反射し
た前記第1及び第2の偏光方向の光を合成する光合成手
段(16);前記第1及び第2の偏光方向の光の位相差を
調整する位相差調整手段(10);前記光合成手段によっ
て合成された光から、第1及び第2の偏光方向の光の強
度成分をそれぞれ検出する強度成分検出手段(24,76,8
0);前記光合成手段によって合成された光から、第1
及び第2の偏光方向の干渉成分を検出するための干渉成
分検出手段(22,66,70);前記強度成分検出手段及び前
記干渉成分検出手段の検出結果から、物体の検査を行う
検査手段(72,82,88,90,86);を備えたことを特徴とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to illumination means (50, 54) for providing light in first and second orthogonal polarization directions for illumination; first and second orthogonal light sources obtained therefrom. (10) for irradiating an object to be observed by relatively shearing the optical axes of the light in the polarization directions of (1); Photosynthesis for combining the light in the first and second polarization directions transmitted or reflected by the object Means (16); Phase difference adjusting means (10) for adjusting the phase difference between the light in the first and second polarization directions; Light in the first and second polarization directions from the light combined by the light combining means Intensity component detection means (24,76,8
0); from the light synthesized by the photosynthetic means, the first
And an interference component detecting means (22, 66, 70) for detecting an interference component in the second polarization direction; an inspection means for inspecting an object from the detection results of the intensity component detecting means and the interference component detecting means ( 72,82,88,90,86);

【0006】主要な態様によれば、前記光分離手段及び
光合成主手段の少なくとも一方が複屈折性プリズムを含
む。また、前記位相差調整手段が、光軸を横切る方向に
前記光分離手段又は前記光合成手段の少なくとも一方を
移動させる手段,回転可能なポラライザ及び1/4波長
板,電圧によって屈折率が制御可能な液晶のいずれによ
って構成される。
According to a main aspect, at least one of the light splitting means and the main light combining means comprises a birefringent prism. Further, the phase difference adjusting means moves at least one of the light separating means or the light combining means in a direction crossing the optical axis, a rotatable polarizer and a quarter wavelength plate, and a refractive index can be controlled by a voltage. Composed of any liquid crystal.

【0007】また、他の発明によれば、前記検査手段
は、前記強度成分検出手段又は干渉成分検出手段によっ
て得られた検出成分を光電変換する撮像手段(66,70,7
6,80);これによって得られた各検出信号から、振幅微
分像及び強度微分像を得る演算手段(72,82);これに
よって得られた振幅微分像及び強度微分像に基づいて強
度を調整した誤差信号を生成する誤差信号生成手段(8
8,90);を備えたことを特徴とする。
According to another aspect of the invention, the inspection means includes an image pickup means (66, 70, 7) for photoelectrically converting the detection component obtained by the intensity component detection means or the interference component detection means.
6,80); computing means (72,82) for obtaining an amplitude differential image and an intensity differential image from the respective detection signals obtained thereby; adjusting the intensity based on the amplitude differential image and the intensity differential image thus obtained. Error signal generation means (8
8, 90); are provided.

【0008】他の態様によれば、前記強度成分検出手段
又は干渉成分検出手段の少なくとも一方が偏光ビームス
プリッタ(22,24)を含む。また、前記照明手段が、レ
ーザ光源と、これから出力されたレーザビームを走査す
る走査手段(54)を含む。前記走査手段は、物体に対す
る往路及び復路の光線が通過する光路中に配置される。
更に、前記光分離手段による光軸のシャー量が可変とな
るように構成される。
According to another aspect, at least one of the intensity component detecting means and the interference component detecting means includes a polarization beam splitter (22, 24). Further, the illumination means includes a laser light source and a scanning means (54) for scanning the laser beam output from the laser light source. The scanning means is arranged in an optical path through which light rays on the forward path and the backward path with respect to the object pass.
Further, the shear amount of the optical axis by the light separating means is variable.

【0009】本発明の主要な態様には、次のようなもの
もある。 (1)レチクルの欠陥を検査する欠陥検査装置であっ
て、第一の光線を射出するレーザー光源と、第一の光線
を、第一の偏光状態と第二の偏光状態の2つの直線偏光
であって互いに異なる方向に進行する光線に分離する光
線分離手段と、前記2つの直線偏光の光線を集光し、レ
チクル内の第一の領域内で2つのビームスポットを形成
するコンデンサレンズと、前記2つのビームスポット
を、前記第一の領域内で2次元走査する走査手段と、前
記光透過性レチクルから透過方向に発生する光線を集光
し得る対物レンズと、前記レチクルを透過し、前記対物
レンズによって屈折された前記2つの直線偏光の光線を
第三の偏光状態の第二の光線に合成する、光線合成手段
と、前記第二の光線の第一の偏光状態と第二の偏光状態
の二つの直線偏光の光線の相対的な位相差量である第一
の位相差を調整する第一の位相差調整手段と、前記第二
の光線を第三の光線と第四の光線に振幅分割するハーフ
ミラーと、前記第三の光線を、第四の偏光状態と第五の
偏光状態の2つの直線偏光の光線に分割する、第一の偏
光分離手段と、前記第四の光線を、第六の偏光状態と第
七の偏光状態の2つの直線偏光の光線に分離する、第二
の偏光分離手段と、前記第三の光線の成分であって、前
記第一の偏光状態に平行な直線偏光の成分と第二の偏光
状態に平行な直線偏光の成分の間の相対的な位相差量で
ある第二の位相差を調整する第二の位相差調整手段と、
The main aspects of the present invention include the following. (1) A defect inspection device for inspecting a reticle for defects, which comprises a laser light source for emitting a first light beam and a first light beam with two linearly polarized light of a first polarization state and a second polarization state. And a condenser lens for condensing the two linearly polarized light rays and forming two beam spots in a first region in the reticle, Scanning means for two-dimensionally scanning two beam spots in the first region, an objective lens capable of condensing light rays generated in the transmission direction from the light transmissive reticle, and an objective lens that transmits the reticle Ray combining means for synthesizing the two linearly polarized rays refracted by the lens into a second ray having a third polarization state; and a second ray state having a first polarization state and a second polarization state. Two linearly polarized rays A first phase difference adjusting means for adjusting a first phase difference which is a relative phase difference amount, a half mirror for amplitude-dividing the second light ray into a third light ray and a fourth light ray, A first polarization splitting means for splitting the third light ray into two linearly polarized light rays having a fourth polarization state and a fifth polarization state, and the fourth light ray having a sixth polarization state and a sixth polarization state. A second polarization splitting means for splitting the light into two linearly polarized light beams having a seven polarization state; and a linearly polarized light component that is a component of the third light beam and is parallel to the first polarization state, and a second Second phase difference adjusting means for adjusting the second phase difference which is the relative phase difference amount between the components of the linearly polarized light parallel to the polarization state of,

【0010】前記第四〜第七の偏光状態の光線をそれぞ
れ光電変換する第一〜第四の光電変換素子と、前記第一
の光電変換素子と、前記第二の光電変換素子の各々の光
電変換信号の信号強度の差である第一の差信号を生成す
る、第一の差信号生成手段と、前記第三の光電変換素子
と、前記第四の光電変換素子の各々の光電変換信号の信
号強度の差である第二の差信号を生成する、第二の差信
号生成手段と、第二の差信号の信号強度を調整し第三の
信号として出力する、信号強度調整手段と、前記第一の
差信号と第三の信号の差である誤差信号を算出する、誤
差信号算出手段と、前記誤差信号を2値化し2値化信号
を出力する2値化手段を有し、前記誤差信号の2値化信
号に基づいて欠陥ありと判定することを特徴とする物体
検査装置。
The photoelectric conversion elements for photoelectrically converting the light rays of the fourth to seventh polarization states, the first photoelectric conversion element, and the photoelectric conversion elements of the second photoelectric conversion element, respectively. Generating a first difference signal that is a difference in signal strength of the converted signal, a first difference signal generation unit, the third photoelectric conversion element, and the photoelectric conversion signal of each of the fourth photoelectric conversion element A second difference signal generating means for generating a second difference signal which is a difference in signal strength, a signal strength adjusting means for adjusting the signal strength of the second difference signal and outputting as a third signal, The error signal calculating means for calculating an error signal which is a difference between the first difference signal and the third signal, and the binarizing means for binarizing the error signal and outputting the binarized signal are provided. An object inspection apparatus characterized by determining that there is a defect based on a binarized signal.

【0011】(2)レチクルの欠陥を検査する欠陥検査
装置であって、第一の光線を射出するレーザー光源と、
前記光反射性のレチクルから反射方向に発生する光線を
集光し得る光軸に沿って配置された対物レンズと、前記
第一の光線を、前記光軸に沿って配置された前記対物レ
ンズに向けて反射させる第一のハーフミラーと、前記第
一のハーフミラーで反射された第一の光線を、第一の偏
光状態と第二の偏光状態の2つの直線偏光であって互い
に異なる方向に進行する光線に分離する光線分離手段を
有し、前記対物レンズは前記2つの直線偏光の光線を集
光し、レチクル内の第一の領域内で2つのビームスポッ
トを形成し、前記第一の偏光状態と第二の偏光状態の2
つの直線偏光であって互いに異なる方向に進行する光線
は、前記対物レンズを通過し、前記レチクルに衝突し、
反射され、再び該対物レンズに入射し、前記光線分離手
段に再び入射し、第三の偏光状態の第二の光線になって
該光線分離手段を射出し、前記第一のハーフミラーを透
過し、更に、前記2つのビームスポットを、前記第一の
領域内で2次元走査する走査手段と、前記第一の偏光状
態と第二の偏光状態の二つの直線偏光の光線の相対的な
位相差量である第一の位相差を調整する第一の位相差調
整手段と、前記第二の光線を第三の光線と第四の光線に
振幅分割する第二のハーフミラーと、前記第三の光線
を、第四の偏光状態と第五の偏光状態の2つの直線偏光
の光線に分割する第一の偏光分離手段と、前記第四の光
線を、第六の偏光状態と第七の偏光状態の2つの直線偏
光の光線に分離する第二の偏光分離手段と、前記第三の
光線の成分であって、前記第一の偏光状態に平行な直線
偏光の成分と第二の偏光状態に平行な直線偏光の成分の
間の相対的な位相差量である第二の位相差を調整する第
二の位相差調整手段と、
(2) A defect inspection apparatus for inspecting a reticle for defects, which comprises a laser light source for emitting a first light beam,
An objective lens arranged along an optical axis capable of condensing a light beam generated in the reflection direction from the light-reflecting reticle, and the first light beam to the objective lens arranged along the optical axis. A first half-mirror for reflecting the first half-mirror and a first light ray reflected by the first half-mirror in two directions of linearly polarized light having a first polarization state and a second polarization state, which are different from each other. The objective lens collects the two linearly polarized light beams to form two beam spots in a first region in the reticle, 2 of polarization state and second polarization state
Rays of two linearly polarized lights traveling in different directions pass through the objective lens and strike the reticle,
It is reflected, then again enters the objective lens, then enters the light beam separating means again, becomes a second light beam having a third polarization state, exits the light beam separating means, and passes through the first half mirror. Further, a scanning means for two-dimensionally scanning the two beam spots in the first region, and a relative phase difference between two linearly polarized light rays of the first polarization state and the second polarization state. A first phase difference adjusting means for adjusting the first phase difference which is an amount, a second half mirror for amplitude-dividing the second light ray into a third light ray and a fourth light ray, and the third A first polarization splitting means for splitting the light beam into two linearly polarized light beams having a fourth polarization state and a fifth polarization state; and the fourth light beam having a sixth polarization state and a seventh polarization state. A second polarization splitting means for splitting into two linearly polarized light rays of A second phase difference for adjusting a second phase difference which is a relative phase difference amount between the linearly polarized light component parallel to the first polarization state and the linearly polarized light component parallel to the second polarization state. Adjusting means,

【0012】前記第四〜第七の偏光状態の光線をそれぞ
れ光電変換する第一〜第四の光電変換素子と、前記第一
の光電変換素子と、前記第二の光電変換素子の各々の光
電変換信号の信号強度の差である第一の差信号を生成す
る第一の差信号生成手段と、前記第三の光電変換素子
と、前記第四の光電変換素子の各々の光電変換信号の信
号強度の差である第二の差信号を生成する第二の差信号
生成手段と、第二の差信号の信号強度を調整し第三の信
号として出力する信号強度調整手段と、前記第一の差信
号と第三の信号の差である誤差信号を算出する誤差信号
算出手段と、前記誤差信号を2値化して、2値化信号を
出力する2値化手段を有し、前記誤差信号の2値化信号
に基づいて欠陥ありと判定することを特徴とする物体検
査装置。
The first to fourth photoelectric conversion elements for photoelectrically converting the light rays in the fourth to seventh polarization states, the first photoelectric conversion element, and the photoelectric conversion elements of the second photoelectric conversion element, respectively. A first difference signal generating unit that generates a first difference signal that is a difference in signal intensity of the converted signal, the third photoelectric conversion element, and a signal of the photoelectric conversion signal of each of the fourth photoelectric conversion elements. A second difference signal generating means for generating a second difference signal which is a difference in strength, a signal strength adjusting means for adjusting the signal strength of the second difference signal and outputting the third signal as the third signal, The error signal calculating means for calculating an error signal which is a difference between the difference signal and the third signal, and the binarizing means for binarizing the error signal and outputting a binarized signal are provided. An object inspection apparatus characterized by determining that there is a defect based on a binary signal.

【0013】(3)前記第一の位相差は、πの整数倍で
あって、前記第二の位相差はπの整数倍にπ/2を加え
た値であることを特徴とする前記(1)記載の物体検査
装置。 (4)前記第二の位相差は、πの整数倍であって、前記
第一の位相差はπの整数倍にπ/2を加えた値であるこ
とを特徴とする前記(1)記載の物体検査装置。
(3) The first phase difference is an integral multiple of π, and the second phase difference is a value obtained by adding π / 2 to an integral multiple of π. 1) The object inspection device described above. (4) The above-mentioned (1), wherein the second phase difference is an integral multiple of π, and the first phase difference is a value obtained by adding π / 2 to an integral multiple of π Object inspection device.

【0014】(5)前記第六の偏光状態は、前記第一の
偏光状態の直線偏光と平行な偏波面の直線偏光であるこ
とを特徴とする、前記(1)記載の物体検査装置。 (6)前記光線分離手段と前記光線合成手段の一方又は
両方が複屈折性プリズムであることを特徴とする前記
(1)記載の物体検査装置。
(5) The object inspection apparatus according to (1), wherein the sixth polarization state is a linear polarization having a plane of polarization parallel to the linear polarization of the first polarization state. (6) The object inspection device according to (1), wherein one or both of the light beam splitting unit and the light beam combining unit is a birefringent prism.

【0015】(7)前記第一の位相差調整手段は、1/
4波長板と光軸を中心として回転可能なポラライザとの
組合せであることを特徴とする前記(1)記載の物体検
査装置。 (8)前記第二の位相差調整手段は1/4波長板である
ことを特徴とする前記(1)記載の物体検査装置。
(7) The first phase difference adjusting means is 1 /
The object inspection apparatus according to (1) above, which is a combination of a four-wave plate and a polarizer that can rotate about an optical axis. (8) The object inspection device according to (1), wherein the second phase difference adjusting means is a quarter-wave plate.

【0016】(9)前記第一の位相差調整手段は、前記
光線分離手段と前記光線合成手段の一方又は両方を、光
軸を横切る方向に移動させることによって位相差を調整
し得ることを特徴とする前記(1)記載の物体検査装
置。 (10)前記第一又は第2の偏光分離手段の一方又は両方
が偏光ビームスプリッタであることを特徴とする前記
(1)記載の物体検査装置。
(9) The first phase difference adjusting means can adjust the phase difference by moving one or both of the light beam separating means and the light beam combining means in a direction crossing the optical axis. The object inspection apparatus according to (1) above. (10) The object inspection apparatus according to (1) above, wherein one or both of the first and second polarization separation means is a polarization beam splitter.

【0017】(11)前記第四の偏光状態は、直線偏光で
あって、前記第一の偏光状態の直線偏光の偏波面に対し
て45゜の角度をなすことを特徴とする(1)記載の物
体検査装置。 (12)前記第五の偏光状態は、直線偏光であって、前記
第一の偏光状態の直線偏光の偏波面に対して45゜の角
度をなすことを特徴とする(1)記載の物体査装置。
(11) The first polarization state is linearly polarized light and forms an angle of 45 ° with respect to the plane of polarization of the linearly polarized light in the first polarization state. Object inspection device. (12) The object inspection according to (1), wherein the fifth polarization state is linearly polarized light and forms an angle of 45 ° with the plane of polarization of the linearly polarized light in the first polarization state. apparatus.

【0018】(13)振幅微分像と強度微分像を独立に画
像化し得る顕微鏡手段と、前記振幅微分像と強度微分像
を独立に光電変換し、振幅微分信号と強度微分信号を生
成する光電変換手段と、前記振幅微分信号と強度微分信
号の相対的な強度比を調整し得る強度調整手段を有し、
前記強度調整手段によって相対的な強度調整した後に、
双方の信号強度の差である誤差信号を算出し、該誤差信
号に基づいて欠陥検査を行うことを特徴とする物体検査
装置。
(13) Microscope means capable of independently forming an amplitude differential image and an intensity differential image, and photoelectric conversion for independently photoelectrically converting the amplitude differential image and the intensity differential image to generate an amplitude differential signal and an intensity differential signal. Means, and an intensity adjusting means capable of adjusting a relative intensity ratio of the amplitude differential signal and the intensity differential signal,
After adjusting the relative strength by the strength adjusting means,
An object inspection apparatus characterized by calculating an error signal which is a difference between signal strengths of the two and performing a defect inspection based on the error signal.

【0019】本発明によれば、シャーした2つの光線を
用いて、物体の反射側又は透過側で、強度微分像(強
度)及び振幅微分像(干渉像)が検出される。そして、
これらの微分像に対して強度調整を行った誤差信号が演
算され、これによって物体の検査が行われる。
According to the present invention, an intensity differential image (intensity) and an amplitude differential image (interference image) are detected on the reflection side or the transmission side of an object by using two sheared light rays. And
An error signal whose intensity is adjusted with respect to these differential images is calculated to inspect the object.

【0020】この発明の前記及び他の目的,特徴,利点
は、以下の詳細な説明及び添付図面から明瞭になろう。
The above and other objects, features and advantages of the present invention will be apparent from the following detailed description and the accompanying drawings.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態について
詳細に説明する。本発明の理解を容易にするため、最初
に基本的な形態と作用について説明し、その後好適ない
くつかの実施例を説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below. To facilitate an understanding of the present invention, the basic form and operation will be described first, and then some preferred embodiments will be described.

【0022】[0022]

【第1の基本的形態】最初に、図1を参照しながら、本
発明の第1の基本的な構成と作用を説明する。図1の形
態は、透過型の構成となっており、照明光の透過側に振
幅微分干渉顕微鏡と強度微分干渉顕微鏡の両方が含まれ
ている。
[First Basic Form] First, the first basic structure and operation of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of FIG. 1 is of a transmission type, and includes both an amplitude differential interference microscope and an intensity differential interference microscope on the transmission side of illumination light.

【0023】なお、同図中の各素子に対して、それぞれ
直交座標(X1,Y1)〜(X7,Y7)を、光軸AXに対
して直交しかつ同じ方位となるように、つまり各座標軸
が重なるように座標を設定する。以下、それらの方位を
単に(x,y)と表現する。また、理解を容易にするた
め、以下の説明では主光線のみを用いる。また、紙面の
都合上、光軸AXが二分割して表示されており、点A,
A′は本来つながっている。
For each element in the figure, the orthogonal coordinates (X1, Y1) to (X7, Y7) are orthogonal to the optical axis AX and have the same orientation, that is, each coordinate axis. Set the coordinates so that they overlap. Hereinafter, those directions will be simply expressed as (x, y). Further, in order to facilitate understanding, only the chief ray is used in the following description. In addition, the optical axis AX is divided into two and displayed due to space limitations.
A'is originally connected.

【0024】同図において、図示しない光源から出力さ
れた光線i00は、x軸(X1軸)に対して方位角θ1=4
5゜の偏波面の直線偏光のレーザー光線である。この光
線i00は、光軸AXに沿って進行し、ノマルスキープリ
ズム10と対物レンズ12の作用によって、(X2,Y
2)座標面である物体面S上で2δシャーした照明光E
O,OEとなる。照明光EOは、y軸に平行な偏波面の
直線偏光,照明光OEはx軸に平行な偏波面の直線偏光
である。
In the figure, a light ray i00 output from a light source (not shown) has an azimuth angle θ1 = 4 with respect to the x axis (X1 axis).
It is a linearly polarized laser beam with a polarization plane of 5 °. This ray i00 travels along the optical axis AX, and by the action of the Nomarski prism 10 and the objective lens 12, (X2, Y
2) Illumination light E that is 2δ sheared on the object plane S that is the coordinate plane
O and OE. The illumination light EO is linearly polarized light having a plane of polarization parallel to the y-axis, and the illumination light OE is linearly polarized light having a plane of polarization parallel to the x-axis.

【0025】物体面S上には、例えば検査対象であるレ
チクル(図示せず)が配置されており、これを透過した
照明光は、対物レンズ14,ノマルスキープリズム16
の作用により再び1つの光線に合成される。なお、物体
が例えば回路パターンや位相差の無い完全な平行平板で
ある場合に、2つのノマルスキープリズム10,16の
間で照明光EO,OE間に与えられる位相差が2πの整
数倍となるように、ノマルスキープリズム26の位置が
光軸AXを横切る方向に調整される。
On the object plane S, for example, a reticle (not shown) to be inspected is arranged, and the illumination light transmitted through this is the objective lens 14 and the Nomarski prism 16.
Is combined again into one ray by the action of. When the object is, for example, a perfect parallel plate having no circuit pattern or phase difference, the phase difference provided between the illumination lights EO and OE between the two Nomarski prisms 10 and 16 is an integral multiple of 2π. Further, the position of the Nomarski prism 26 is adjusted in the direction crossing the optical axis AX.

【0026】ノマルスキープリズム16によって再び1
つになった光線は、ハーフミラー18に入射する。そし
て、全振幅の50%の光は、ハーフミラー18を透過
し、更には、1/4波長板20を透過して偏光ビームス
プリッタ(アナライザ)22に至る。他方、ハーフミラ
ー18に入射した光線の残りの50%は、ハーフミラー
18によって反射され、光軸AX2に沿って進行して、
偏光ビームスプリッタ24に至る。
1 again by the Nomarski prism 16.
The combined rays enter the half mirror 18. Then, 50% of the total amplitude of light passes through the half mirror 18, and further through the quarter wavelength plate 20, and reaches the polarization beam splitter (analyzer) 22. On the other hand, the remaining 50% of the light rays incident on the half mirror 18 are reflected by the half mirror 18 and travel along the optical axis AX2,
It reaches the polarization beam splitter 24.

【0027】1/4波長板20は、光学軸である早い軸
neとこれに直交する遅い軸noを有し、遅い軸noの方
位はx軸に平行,早い軸neの方位はy軸に対して平行
に設定されている。従って、x軸に平行な偏波面の直線
偏光成分は、y軸に平行な偏波面の直線偏光成分に対し
て−π/2(1/4波長,90゜)の位相差(π/2の
位相遅れ)が生ずる。本実施例では、照明光EOの偏光
方向がy軸に平行となっており、照明光OEの偏光方向
がx軸に平行となっている。従って、照明光OEが照明
光EOに対して1/4波長位相遅れを生ずるようにな
る。
The quarter-wave plate 20 has a fast axis ne, which is an optical axis, and a slow axis no orthogonal to the optical axis ne. The slow axis no has an azimuth parallel to the x axis and the fast axis ne has an azimuth y axis. It is set to be parallel to. Therefore, the linear polarization component of the plane of polarization parallel to the x-axis has a phase difference (π / 2 of −π / 2 (1/4 wavelength, 90 °)) with respect to the linear polarization component of the plane of polarization parallel to the y-axis. Phase delay) occurs. In this embodiment, the polarization direction of the illumination light EO is parallel to the y axis, and the polarization direction of the illumination light OE is parallel to the x axis. Therefore, the illumination light OE has a 1/4 wavelength phase delay with respect to the illumination light EO.

【0028】このような位相差が付与された光線は、偏
光ビームスプリッタ22に入射する。偏光ビームスプリ
ッタ22に達した光線のうち、x軸に対してθ2=45
゜の方位に平行な偏波面の成分は透過して光線i1とな
り、x軸に対してθ3=135゜の方位に平行な偏波面
の成分は反射されて光線i2となり、光軸AX1に沿って
進行する。これにより、照明光OE,EOからそれぞれ
振幅干渉成分が取り出され、後述するように、両者の差
分から振幅微分像(干渉像)が得られる。
The light beam having such a phase difference is incident on the polarization beam splitter 22. Of the light rays reaching the polarization beam splitter 22, θ2 = 45 with respect to the x-axis
The component of the plane of polarization parallel to the azimuth is transmitted and becomes the ray i1, and the component of the plane of polarization parallel to the azimuth of θ3 = 135 ° with respect to the x-axis is reflected and becomes the ray i2, along the optical axis AX1. proceed. As a result, the amplitude interference components are extracted from the illumination lights OE and EO, and an amplitude differential image (interference image) is obtained from the difference between the two, as will be described later.

【0029】一方、ハーフミラー18によって反射され
た光線は、偏光ビームスプリッタ24に入射する。偏光
ビームスプリッタ24に達した光線のうち、x軸に対し
てθ4=0゜の方位に平行な偏波面の成分は透過して光
線i11となり、x軸に対しθ5=90゜の方位に平行な
偏波面の成分は反射されて光線i22となり、光軸AX2
に沿って進行する。これにより、照明光OE,EOから
それぞ強度成分が取り出され、後述するように、両者の
差分から強度微分像が得られる。なお、直交座標(X3,
Y3)〜(X7,Y7)に示した矢印は、偏波面の向きを示
す。
On the other hand, the light beam reflected by the half mirror 18 enters the polarization beam splitter 24. Of the rays reaching the polarization beam splitter 24, the component of the plane of polarization parallel to the azimuth of θ4 = 0 ° with respect to the x-axis is transmitted and becomes a ray i11, which is parallel to the azimuth of θ5 = 90 ° with respect to the x-axis. The component of the plane of polarization is reflected to form the ray i22, and the optical axis AX2
Proceed along. As a result, intensity components are extracted from the illumination lights OE and EO, respectively, and an intensity differential image is obtained from the difference between the two, as will be described later. The Cartesian coordinates (X3,
The arrows shown in (Y3) to (X7, Y7) indicate the directions of the planes of polarization.

【0030】以上のように、図1に示した光学系によっ
て、物体を透過した照明光EO,OEの干渉(振幅)成
分と強度成分がそれぞれ取り出される。
As described above, the interference (amplitude) component and the intensity component of the illumination lights EO and OE transmitted through the object are extracted by the optical system shown in FIG.

【0031】次に、レンズのOTFの影響は考えないも
のとし、物体であるレチクルの段差位置における光線i
1,光線i2,光線i11,光線i22による微分像の強度を
求める。なお、観察対象の物体の段差は、基本的に一次
元の構造であるので以下の解析では光学系を含めてすべ
ての1次元で行うこととする。実際の光学系は二次元で
あるが、以下の議論では一次元の仮定で全く差し支えな
い。また、以下の説明では、結像型の微分干渉顕微鏡の
結像面における点像の強度をもって説明するが、レーザ
走査光学系の微分干渉顕微鏡によっても焦点深度が異な
る以外は、結像型の微分干渉顕微鏡における照明系のσ
値を適当に設定すれば全く同一の微分干渉像が得られる
ので、走査型のものにも基本的に適用可能である。
Next, assuming that the influence of the OTF of the lens is not considered, the light ray i at the step position of the reticle which is the object is
The intensity of the differential image of 1, ray i2, ray i11, and ray i22 is obtained. Since the step of the object to be observed is basically a one-dimensional structure, the following analysis will be performed in all one-dimensional including the optical system. The actual optical system is two-dimensional, but in the following discussion, the one-dimensional assumption is perfectly acceptable. Further, in the following description, the intensity of the point image on the image plane of the image-forming differential interference microscope will be described. However, except that the depth of focus also differs depending on the differential interference microscope of the laser scanning optical system, the image-forming differential Σ of the illumination system in the interference microscope
Since the same differential interference contrast image can be obtained by setting the values appropriately, it is basically applicable to the scanning type.

【0032】また、この実施例は微分干渉顕微鏡の光学
系を踏襲したレーザ走査顕微鏡の構成となっている。こ
のため、光線分離手段であるノマルスキープリズム12
によって生じる物体上の2つのビームの振幅や位相情報
は、光線合成手段であるノマルスキープリズム16内に
おける2つの光波の干渉によって生じる1つの光線に保
存される。従って、像平面以外の位置,例えば瞳共役平
面近傍などに設置された光電変換素子によっても微分干
渉像を得ることができる。干渉像を得るための撮像手段
(例えば光電変換素子)の設置位置は、光線合成手段以
降ならばどこでもよい。
Further, the present embodiment has a structure of a laser scanning microscope which follows the optical system of the differential interference microscope. For this reason, the Nomarski prism 12 which is a light beam separating means.
Amplitude and phase information of the two beams on the object caused by is stored in one light beam generated by the interference of the two light waves in the Nomarski prism 16 which is a light beam combining means. Therefore, the differential interference contrast image can be obtained also by a photoelectric conversion element installed at a position other than the image plane, for example, near the pupil conjugate plane. The image pickup means (for example, a photoelectric conversion element) for obtaining the interference image may be installed at any position after the light beam combining means.

【0033】微分干渉顕微鏡によって得られる一つの像
点には、ノマルスキープリズム12のシャーによる間隔
2δだけ互いに離れた2つの物点が対応する。これらを
O(x+δ)、O(x−δ)として両者の相対的な位相
差をψとすれば、次の(1)式のようになる。「j」は
虚数単位である。
One image point obtained by the differential interference microscope corresponds to two object points separated from each other by the interval 2δ due to the shear of the Nomarski prism 12. If these are O (x + δ) and O (x−δ) and the relative phase difference between them is ψ, the following equation (1) is obtained. “J” is an imaginary unit.

【0034】[0034]

【数1】 [Equation 1]

【0035】微分干渉顕微鏡(主として1/4波長板2
0)によって付加される位相差をα1,α2とすれば、光
線i1,i2,i11,i22に対応した像点における強度I
i1(x,α1),Ii2(x,α2),Ii11(x),Ii22
(x)は、Cを定数として次の(2)式のようになる。
ここで、振幅差動出力Sa,強度差動出力Siを次の
(3)式のように定義する。
Differential interference microscope (mainly 1/4 wave plate 2
0) the phase difference added by α1 and α2, the intensity I at the image point corresponding to the rays i1, i2, i11 and i22
i1 (x, α1), Ii2 (x, α2), Ii11 (x), Ii22
(X) is expressed by the following equation (2) with C as a constant.
Here, the amplitude differential output Sa and the intensity differential output Si are defined by the following equation (3).

【0036】[0036]

【数2】 [Equation 2]

【数3】 (Equation 3)

【0037】この(3)式に前記(2)式を代入すると、
次の(4),(5)式が得られる。ここで、誤差信号Sr
を、kを定数として次の(6)式で定義する。
Substituting the equation (2) into the equation (3),
The following equations (4) and (5) are obtained. Here, the error signal Sr
Is defined by the following equation (6), where k is a constant.

【0038】[0038]

【数4】 (Equation 4)

【数5】 (Equation 5)

【数6】 (Equation 6)

【0039】ところで、無欠陥の2値レチクル上の回路
パターンを透過照明によって観察するとき、振幅差動出
力Sa,強度差動出力Siは、いずれも段差部分でのみゼ
ロ以外の値を持つ。すなわち、段差以外の部分では、シ
ャーした2つの光線に対して同一の位相変化がレチクル
によって付与されるので、それら差動出力はゼロとな
る。ところが、段差部分では、一方の光線が段差にかか
るため、両者の間に異なる位相差が付与されるようにな
り、その結果段差部分では差動出力がゼロ以外の値を持
つようになる。一方、簡単な2値化処理による欠陥検出
を行う場合を考えると、2値レチクル上の回路パターン
が無欠陥の場合に最小(若しくはゼロ)となるような誤
差信号Srが得られることが望ましい。
By the way, when observing a circuit pattern on a defect-free binary reticle by transmitted illumination, the amplitude differential output Sa and the intensity differential output Si both have a value other than zero only at the step portion. That is, in the portion other than the step, the same phase change is imparted to the two sheared light rays by the reticle, so that their differential outputs become zero. However, in the step portion, since one light ray impinges on the step, different phase differences are given between the two, and as a result, the differential output has a value other than zero in the step portion. On the other hand, considering the case of performing defect detection by a simple binarization process, it is desirable to obtain an error signal Sr that is the minimum (or zero) when the circuit pattern on the binary reticle is defect-free.

【0040】無欠陥の2値レチクル上の回路パターンの
段差を示す複素振幅透過率分布としては、2つの場合が
考えられる。第一にはガラス部分と位相シフタ部分の境
界の段差であり、第二にはガラス部分とクロム遮光膜と
の境界の段差である。これらは、いずれも次の(7)式
の形で表わされ、定数a0,b0,Ψ0の値が変わるだけ
である。従って、検査対象のレチクルの品種が決定すれ
ば、定数a0,b0,Ψ0の値が決まり、この値に基づい
て、次の(8)式から定数kを算出すれば、誤差信号Sr
をレチクルの無欠陥部分のあらゆる段差及び平坦部分,
つまりすべての部分でゼロにすることが可能となる。
There are two possible cases of the complex amplitude transmittance distribution showing the step of the circuit pattern on the defect-free binary reticle. The first is the step at the boundary between the glass portion and the phase shifter portion, and the second is the step at the boundary between the glass portion and the chromium light shielding film. These are all expressed in the form of the following equation (7), and only the values of the constants a0, b0 and Ψ0 change. Therefore, if the type of reticle to be inspected is determined, the values of the constants a0, b0, Ψ0 are determined, and if the constant k is calculated from the following equation (8) based on these values, the error signal Sr
For all steps and flat parts of the reticle with no defects,
In other words, it is possible to make all parts zero.

【0041】[0041]

【数7】 (Equation 7)

【数8】 (Equation 8)

【0042】従って、誤差信号Srを適当なスライスレ
ベルで2値化すれば、位相シフタ部分の位相シフト量の
欠陥や異物などの汚染物の検出を同時に行うことが可能
となる。なお、定数a0,b0,Ψ0が未知である場合
は、無欠陥部分における誤差信号がゼロとなるように定
数kを実験的に定めるようにしてもよい。
Therefore, if the error signal Sr is binarized at an appropriate slice level, it becomes possible to detect contaminants such as defects and foreign matters in the phase shift amount of the phase shifter portion at the same time. When the constants a0, b0, Ψ0 are unknown, the constant k may be experimentally determined so that the error signal in the defect-free portion becomes zero.

【0043】[0043]

【第2の基本的形態】次に、図2を参照しながら第2の
基本的形態について説明する。この形態は、上述した第
1の形態を落射照明法で実施するようにしたものであ
る。この落射照明法では、前記コンデンサーレンズ12
と対物レンズ14が対物レンズ32によって共用されて
おり、ノマルスキープリズム10,16もノマルスキー
プリズム30一つになる。また、物体からの反射光は、
ハーフミラー28によって照明光学系の光軸AX0と別
の方向に取り出される。
[Second Basic Form] Next, the second basic form will be described with reference to FIG. In this mode, the above-described first mode is implemented by an epi-illumination method. In this epi-illumination method, the condenser lens 12
And the objective lens 14 are shared by the objective lens 32, and the Nomarski prisms 10 and 16 also become one Nomarski prism 30. Also, the reflected light from the object is
It is extracted by the half mirror 28 in a direction different from the optical axis AX0 of the illumination optical system.

【0044】詳述すると、図示しない光源から出力され
た光線i00は、x軸(X1軸)に対して方位角θ1=45
゜の偏波面の直線偏光のレーザー光線である。このよう
な特定の偏光光の取り出しには、例えばポラライザ26
を利用すればよい。光線i00は、光軸AX0に沿って進
行し、ハーフミラー28によって反射され、光軸AXに
沿ってノマルスキープリズム30の方向に反射される。
反射された光線は、ノマルスキープリズム30と対物レ
ンズ32の作用によって、(X2,Y2)座標面である物
体面S上で2δシャーした照明光EO,OEとなる。
More specifically, the light ray i00 output from a light source (not shown) has an azimuth angle θ1 = 45 with respect to the x axis (X1 axis).
It is a linearly polarized laser beam with a polarization plane of °. For extracting such specific polarized light, for example, the polarizer 26
You can use. The light ray i00 travels along the optical axis AX0, is reflected by the half mirror 28, and is reflected in the direction of the Nomarski prism 30 along the optical axis AX.
The reflected light rays become illumination light EO, OE which is 2δ sheared on the object plane S which is the (X2, Y2) coordinate plane by the action of the Nomarski prism 30 and the objective lens 32.

【0045】物体面S上には検査対象であるレチクル
(図示せず)が配置されており、これによって反射され
た照明光は、対物レンズ32,ノマルスキープリズム3
0の作用により再び1つの光線に合成される。なお、物
体が位相差の無い完全な鏡面である場合に、物体とノマ
ルスキープリズム30との間で照明光EO,OE間に与
えられる位相差が2πの整数倍となるように、ノマルス
キープリズム30の位置が光軸AXを横切る方向に調整
される。
A reticle (not shown) to be inspected is arranged on the object surface S, and the illumination light reflected by this is the objective lens 32 and the Nomarski prism 3.
By the action of 0, they are combined into one ray again. When the object is a perfect mirror surface with no phase difference, the phase difference given between the illumination light EO and OE between the object and the Nomarski prism 30 is an integral multiple of 2π so that the Nomarski prism 30 has a phase difference. The position is adjusted across the optical axis AX.

【0046】ノマルスキープリズム30によって再び1
つになった光線は、ハーフミラー28,18に順に入射
する。そして、それらを透過した光線は、1/4波長板
18を通過し、偏光ビームスプリッタ20に至る。ま
た、ハーフミラー16によって反射された光線は、偏光
ビームスプリッタ22に入射する。以後の作用は、上述
した第1の形態と同様であり、図2の光学系によって
も、物体を反射した照明光EO,OEの干渉(振幅)成
分と強度成分がそれぞれ取り出される。
1 again by the Nomarski prism 30
The combined light rays sequentially enter the half mirrors 28 and 18. Then, the light rays that have passed through them pass through the quarter-wave plate 18 and reach the polarization beam splitter 20. The light beam reflected by the half mirror 16 enters the polarization beam splitter 22. The subsequent operation is the same as that of the first embodiment described above, and the interference (amplitude) component and the intensity component of the illumination light EO, OE reflected by the object are respectively extracted by the optical system of FIG.

【0047】[0047]

【実施例1】次に、図3を参照しながら本発明の実施例
について説明する。基本的な構成は、前記図1と同様で
ある。図3において、レーザー光源50から射出された
光線は、紙面に45゜の方位の偏波面の直線偏光であ
る。この光線は、ビームエキスパンダー52によって平
行光となり、反射ミラー53で反射されてXY走査部5
4に入射する。光線は、XY走査部54で空間的に走査
偏向される。走査後の光線は、第1リレーレンズ56,
第2リレーレンズ58を経て、コンデンサーレンズ12
の瞳位置近傍に位置するノマルスキープリズム10に入
射する。ノマルスキープリズム10を通過すると、互い
の偏光方向が直交する二つの直線偏光であって、僅かな
相対角度をなす光線に分離され、コンデンサレンズ12
に入射する。コンデンサレンズ12によって屈折された
各光線は、回路パターン62が描画された2値レチクル
60上でビームスポットを形成する。
[Embodiment 1] Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The basic structure is the same as that shown in FIG. In FIG. 3, the light beam emitted from the laser light source 50 is a linearly polarized light having a plane of polarization of 45 ° on the paper surface. This light beam is converted into parallel light by the beam expander 52, is reflected by the reflection mirror 53, and is reflected by the XY scanning unit 5.
4 is incident. The light beam is spatially scanned and deflected by the XY scanning unit 54. The light beam after scanning is the first relay lens 56,
After passing through the second relay lens 58, the condenser lens 12
It is incident on the Nomarski prism 10 located near the pupil position of. After passing through the Nomarski prism 10, it is separated into two linearly polarized lights whose polarization directions are orthogonal to each other and which have a slight relative angle, and the condenser lens 12
Incident on. Each light beam refracted by the condenser lens 12 forms a beam spot on the binary reticle 60 on which the circuit pattern 62 is drawn.

【0048】2値レチクル60上には、ノマルスキープ
リズム10の作用により、わずかに位置のずれた2つの
スポットが近接して形成される。これらのスポットは、
XY走査部54の作用によってパターン62上を2次元
走査する。
On the binary reticle 60, two spots, which are slightly displaced from each other, are formed close to each other by the action of the Nomarski prism 10. These spots
The pattern 62 is two-dimensionally scanned by the action of the XY scanning unit 54.

【0049】2値レチクル60を透過した光線は、対物
レンズ14に入射して屈折され、対物レンズ14の瞳位
置近傍に位置するノマルスキープリズム16を通過して
ハーフミラー18に入射する。全振幅の一部分はハーフ
ミラー18を透過し、1/4波長板20を通過して偏光
ビームスプリッタ22に達する。偏光ビームスプリッタ
22を透過した光線i1は、x軸に対して45゜の方位
の直線偏光となる。偏光ビームスプリッタ22で反射さ
れた光線i2は、x軸に対して135゜の方位の直線偏
光となる。
The light beam that has passed through the binary reticle 60 enters the objective lens 14 and is refracted, passes through the Nomarski prism 16 located in the vicinity of the pupil position of the objective lens 14, and enters the half mirror 18. A part of the total amplitude passes through the half mirror 18, passes through the quarter wavelength plate 20, and reaches the polarization beam splitter 22. The light ray i1 transmitted through the polarization beam splitter 22 becomes linearly polarized light having an azimuth of 45 ° with respect to the x-axis. The light ray i2 reflected by the polarization beam splitter 22 becomes linearly polarized light having an azimuth of 135 ° with respect to the x-axis.

【0050】光線i1は、レンズ64によって屈折し、
CCDなどで構成された光電変換素子66によって光電
変換されて映像信号が出力される。光線i2は、レンズ
68によって屈折し、光電変換素子70によって光電変
換されて映像信号が出力される。これらの映像信号は、
差動増幅器72に入力され、差動増幅器72から振幅差
動信号が出力される。この差動出力によって、振幅微分
像が得られる。
The ray i1 is refracted by the lens 64,
A video signal is output after being photoelectrically converted by a photoelectric conversion element 66 composed of a CCD or the like. The light ray i2 is refracted by the lens 68 and photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 70 to output a video signal. These video signals are
It is input to the differential amplifier 72, and an amplitude differential signal is output from the differential amplifier 72. An amplitude differential image is obtained by this differential output.

【0051】一方、ハーフミラー18で反射された光線
は、偏光ビームスプリッタ24に達する。偏光ビームス
プリッタ24を透過した光線i11は、x軸に対して0゜
の方位の直線偏光となる。偏光ビームスプリッタ24で
反射された光線は、光線i22は、x軸に対して90゜の
方位の直線偏光となる。
On the other hand, the light beam reflected by the half mirror 18 reaches the polarization beam splitter 24. The light ray i11 transmitted through the polarization beam splitter 24 becomes a linearly polarized light having an azimuth of 0 ° with respect to the x axis. The light ray i22 reflected by the polarization beam splitter 24 becomes a linearly polarized light having an azimuth of 90 ° with respect to the x-axis.

【0052】光線i11は、レンズ74によって屈折し、
光電変換素子76によって光電変換されて映像信号が出
力される。光線i22は、レンズ78によって屈折し、光
電変換素子80によって光電変換されて映像信号が出力
される。これらの映像信号は、差動増幅器82に入力さ
れ、差動増幅器82から強度差動信号が出力される。こ
の差動出力によって、強度微分像が得られる。
The ray i11 is refracted by the lens 74,
The video signal is output after being photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 76. The light ray i22 is refracted by the lens 78 and photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 80 to output a video signal. These video signals are input to the differential amplifier 82, and an intensity differential signal is output from the differential amplifier 82. An intensity differential image is obtained by this differential output.

【0053】なお、上述した各光学素子の光軸AXを中
心としたx軸に対する方位角は、y軸方向を正とする
と、1/4波長板20の光学軸は0゜,ノマルスキープ
リズム10,16の楔の向きは0゜,偏光ビームスプリ
ッタ22のアナライザ角(θ2)は+45゜,偏光ビー
ムスプリッタ24のアナライザ角(θ4)は0゜となっ
ている。なお、これらは、前記図1と同じである。
The azimuth angle of each of the above optical elements with respect to the x axis about the optical axis AX is positive in the y axis direction, the optical axis of the quarter wavelength plate 20 is 0 °, the Nomarski prism 10, The direction of the wedge of 16 is 0 °, the analyzer angle (θ2) of the polarization beam splitter 22 is + 45 °, and the analyzer angle (θ4) of the polarization beam splitter 24 is 0 °. Note that these are the same as those in FIG.

【0054】また、上述したように、2値レチクル60
上における2つのビーム間に位相差を生じるような回路
パターンなどが全くない場合,例えば平行平板のような
ときに、2つのノマルスキープリズム10,16の間で
二つの光線に与えられる位相差の初期値が2πの整数倍
になるように、光軸AXを横切る方向にノマルスキープ
リズム10をアクチュエータ84によって位置調整す
る。アクチュエータ84は、コンピュータ86によって
制御されている。
Further, as described above, the binary reticle 60
When there is no circuit pattern that causes a phase difference between the two beams above, for example, in the case of a parallel plate, the initial phase difference given to the two rays between the two Nomarski prisms 10 and 16 The position of the Nomarski prism 10 is adjusted by the actuator 84 in the direction crossing the optical axis AX so that the value becomes an integral multiple of 2π. The actuator 84 is controlled by the computer 86.

【0055】上述した差動増幅器72,82の出力は、
減算器88に供給され、この減算器88で前記(6)式
に基づいて誤差信号Srが演算される。演算結果は、プ
ラス側とマイナス側の2つのスライスレベルを有する2
値化回路であるウインドウコンパレータ回路を有する信
号処理回路90に入力される。信号処理回路90では、
誤差信号の2値化信号が求められるとともに、2値化信
号の値や差動信号の値などが同期装置92に出力され
る。
The outputs of the differential amplifiers 72 and 82 described above are
The error signal Sr is supplied to the subtractor 88, and the error signal Sr is calculated by the subtractor 88 based on the equation (6). The calculation result has 2 slice levels on the plus side and the minus side.
It is input to the signal processing circuit 90 having a window comparator circuit which is a binarization circuit. In the signal processing circuit 90,
The binarized signal of the error signal is obtained, and the value of the binarized signal and the value of the differential signal are output to the synchronizer 92.

【0056】なお、信号処理回路90のウインドウコン
パレータ回路のプラス側とマイナス側の2つのスライス
レベルは、光学的なノイズ,電気的なノイズによって疑
似欠陥を生じないようなレベルに設定される。また、そ
れらスライスレベルは、インターフェイス94,コンピ
ュータ86を介して外部より設定可能となっている。
The two slice levels on the plus side and the minus side of the window comparator circuit of the signal processing circuit 90 are set to a level at which a pseudo defect does not occur due to optical noise or electrical noise. The slice levels can be set externally via the interface 94 and the computer 86.

【0057】同期装置92では、検査実行中のXY走査
部54と、X−Yステージ59の同期制御が行なわれ
る。X−Y走査部54は、アクチュエータ96を介して
駆動される。X−Yステージ59は、アクチュエータ9
8を介して駆動される。コンピュータ86では、2値レ
チクル60内における欠陥の位置と、欠陥位置における
誤差信号Sr又は振幅差動出力Saの信号量を示すマップ
が生成され、これが表示部100に表示される。
In the synchronizer 92, synchronization control of the XY scanning section 54 and the XY stage 59 during inspection is performed. The XY scanning unit 54 is driven via the actuator 96. The XY stage 59 includes the actuator 9
8 is driven. The computer 86 generates a map showing the position of the defect in the binary reticle 60 and the signal amount of the error signal Sr or the amplitude differential output Sa at the defect position, and this map is displayed on the display unit 100.

【0058】なお、上述したように、ノマルスキープリ
ズム10は、コンピュータ86によるアクチュエータ8
4の制御によって微調整可能となっており、これによ
り、検査開始前のセットアップが自動で可能である。こ
のセットアップ時には、例えば無欠陥で回路パターンの
無いレチクルが用いられる。また、インターフェイス9
4は、外部のオペレータがコンピュータ86に対して検
査感度,検査領域,装置の初期設定の実行,検査の実行
などを入力するためにも使用される。
As described above, the Nomarski prism 10 includes the actuator 8 operated by the computer 86.
It is possible to make fine adjustments by the control of No. 4, which allows automatic setup before the start of inspection. At the time of this setup, for example, a reticle that is defect-free and has no circuit pattern is used. Also, interface 9
The external operator 4 is also used by the external operator to input the inspection sensitivity, the inspection area, the initial setting of the apparatus, the execution of the inspection, etc. to the computer 86.

【0059】以上のように、本実施例によれば、クロム
遮光膜による回路パターンのコンベンショナルなレチク
ルや、光透過性の薄膜による位相シフタのみで回路パタ
ーンが描画されたハーフトーンレチクルのいずれに対し
ても対応が可能であり、位相シフタ部分の位相シフト量
の異常や光透過性の位相物体の異物の付着の有無を、同
時に検査することが可能である。
As described above, according to the present embodiment, the conventional reticle for the circuit pattern made of the chrome light-shielding film and the halftone reticle for which the circuit pattern is drawn only by the phase shifter made of the light transmissive thin film are used. However, it is possible to simultaneously inspect whether or not the phase shift amount of the phase shifter portion is abnormal and whether or not a foreign object is attached to the optically transparent phase object.

【0060】[0060]

【実施例2】次に、図4を参照しながら実施例2につい
て説明する。この実施例2は、前記実施例1を落射照明
法によって構成した例であり、前記第2の基本的形態に
対応する。同図において、レーザー光源50から射出さ
れた光線は、ビームエキスパンダー52によって平行光
となり、更にXY走査部54で空間的に走査偏向され
る。走査後の光線は、第1リレーレンズ56,第2リレ
ーレンズ58を経て瞳投影レンズ102に入射する。瞳
投影レンズ102によって屈折された光線は、ハーフミ
ラー28によって光軸AXに沿った方向に反射され、ノ
マルスキープリズム30に入射する。ノマルスキープリ
ズム30を通過すると、互いの偏光方向が直交する二つ
の直線偏光であって、僅かな相対角度をなす光線に分離
され、対物レンズ32に入射する。対物レンズ32によ
って屈折された各光線は、2値レチクル60上でビーム
スポットを形成する。
Second Embodiment Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. The second embodiment is an example in which the first embodiment is configured by the epi-illumination method, and corresponds to the second basic form. In the figure, the light beam emitted from the laser light source 50 becomes parallel light by the beam expander 52, and is further spatially scanned and deflected by the XY scanning unit 54. The light beam after scanning enters the pupil projection lens 102 through the first relay lens 56 and the second relay lens 58. The light beam refracted by the pupil projection lens 102 is reflected by the half mirror 28 in the direction along the optical axis AX, and enters the Nomarski prism 30. After passing through the Nomarski prism 30, the two linearly polarized lights whose polarization directions are orthogonal to each other are separated into light beams having a slight relative angle, and are incident on the objective lens 32. Each light beam refracted by the objective lens 32 forms a beam spot on the binary reticle 60.

【0061】2値レチクル60上には、ノマルスキープ
リズム30の作用により、わずかに位置のずれた2つの
スポットが近接して形成される。これらのスポットは、
XY走査部54の作用によってパターン62上を2次元
走査する。
On the binary reticle 60, two spots, which are slightly displaced from each other, are formed close to each other by the action of the Nomarski prism 30. These spots
The pattern 62 is two-dimensionally scanned by the action of the XY scanning unit 54.

【0062】2値レチクル60によって反射された光線
は、対物レンズ32に入射して屈折され、対物レンズ3
2の瞳位置近傍に位置するノマルスキープリズム30を
再度通過してハーフミラー28に入射する。全振幅の一
部分はハーフミラー28を透過してハーフミラー18に
入射する。そして、ハーフミラー18を透過した光線
は、1/4波長板20を通過して偏光ビームスプリッタ
22に達する。一方、ハーフミラー18で反射された光
線は、偏光ビームスプリッタ24に達する。以後の作用
は、上述した実施例1と同様であり、差動増幅器72,
82において、振幅微分像及び強度微分像がそれぞれ得
られる。そして、それらを利用して同様に誤差信号が生
成され、2値レチクル60の検査が行われる。
The light beam reflected by the binary reticle 60 enters the objective lens 32 and is refracted, and the objective lens 3
It passes through the Nomarski prism 30 located near the pupil position of No. 2 again and enters the half mirror 28. A part of the total amplitude passes through the half mirror 28 and enters the half mirror 18. Then, the light beam transmitted through the half mirror 18 passes through the quarter wavelength plate 20 and reaches the polarization beam splitter 22. On the other hand, the light beam reflected by the half mirror 18 reaches the polarization beam splitter 24. The operation thereafter is similar to that of the above-described first embodiment, and the differential amplifier 72,
At 82, an amplitude differential image and an intensity differential image are obtained respectively. Then, using them, an error signal is similarly generated, and the binary reticle 60 is inspected.

【0063】[0063]

【実施例3】次に、図5を参照しながら実施例3につい
て説明する。この実施例3は、前記実施例2とほぼ同様
であるが、本実施例ではXY走査部54の位置が異なっ
ている。すなわち、2値レチクル60からの反射光が、
もう一度XY走査部54を通過する配置となっており、
いわゆるコンフォーカル顕微鏡の光学構成となってい
る。
Third Embodiment Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. The third embodiment is almost the same as the second embodiment, but the position of the XY scanning unit 54 is different in the present embodiment. That is, the reflected light from the binary reticle 60 is
It is arranged to pass the XY scanning unit 54 again,
It has a so-called confocal microscope optical configuration.

【0064】このため、光電変換素子66,70,7
6,80に入射する光束は、2値レチクル60上におけ
るレーザビームの2次元走査にかかわらず常に静止す
る。従って、レンズ64,68,74,78によって光
を集光するとともに、集光点(2値レチクルと共役な
点)にピンホール110,112,114,116を設
けてフレアなどの不必要な光を減少させている。
Therefore, the photoelectric conversion elements 66, 70, 7
The light fluxes incident on 6, 80 always stand still regardless of the two-dimensional scanning of the laser beam on the binary reticle 60. Therefore, the light is condensed by the lenses 64, 68, 74, and 78, and pinholes 110, 112, 114, 116 are provided at the condensing points (points conjugate with the binary reticle) to eliminate unnecessary light such as flare. Is decreasing.

【0065】[0065]

【他の実施例】この発明には数多くの実施の形態があ
り、以上の開示に基づいて多様に改変することが可能で
ある。例えば、次のようなものも含まれる。 (1)前記実施例では、シャーした2つのビームの位相
差の調整手段を、光軸を横切る方向にノマルスキープリ
ズムを出し入れする機構で構成したが、周知のように、
1/4波長板と回転可能なポラライザによっても同様の
作用を得ることができる。他に、例えば液晶などの屈折
率を可変な素子を用いて位相差調整を行うようにしても
よい。2つのビームのシャー量も可変としてよい。
Other Embodiments The present invention has many embodiments and can be variously modified based on the above disclosure. For example, the following is also included. (1) In the above-described embodiment, the means for adjusting the phase difference between the two sheared beams is constituted by a mechanism for moving the Nomarski prism in and out in the direction crossing the optical axis.
The same effect can be obtained by a quarter wavelength plate and a rotatable polarizer. Alternatively, the phase difference may be adjusted using an element such as a liquid crystal having a variable refractive index. The shear amounts of the two beams may be variable.

【0066】(2)前記実施例では、CCDなどの2次
元撮像素子を用いたが、撮像手段であれば、どのような
ものを用いてもよい。また、偏光ビームスプリッタ出力
を光学的に観察するようにしてもよい。その他、必要に
応じてリレー光学系やミラーを用いてよい。
(2) Although a two-dimensional image pickup device such as a CCD is used in the above embodiment, any image pickup means may be used. Further, the output of the polarization beam splitter may be optically observed. In addition, a relay optical system or a mirror may be used if necessary.

【0067】(3)前記実施例は、本発明を主としてレ
チクルの欠陥検査に適用したものであるが、物体の表面
検査装置全般に本発明は適用可能である。例えば、物体
の段差測定,磁気ヘッド,ウエハなどの欠陥検査,物体
の表面形状を加味した位置測定などにも有効である。
(3) In the above-described embodiment, the present invention is mainly applied to the defect inspection of the reticle, but the present invention can be applied to all surface inspection devices for objects. For example, it is also effective for measuring the step of an object, inspecting a defect of a magnetic head, a wafer, etc., and measuring the position in consideration of the surface shape of the object.

【0068】[0068]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レチクル内の位相シフタパターンにおける位相シフト量
の欠陥や光透過性の位相物体の異物の検査を、いずれも
短時間で同時に行うことができ、更には、シフタなしレ
チクルに対しては異物検査装置として使用することもで
きるという効果がある。
As described above, according to the present invention,
Both defects of the phase shift amount in the phase shifter pattern in the reticle and foreign matter of the light-transmissive phase object can be simultaneously inspected in a short time. It has the effect that it can also be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の実施例の第1の基本的な構成を示す
図である。
FIG. 1 is a diagram showing a first basic configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の実施例の第2の基本的な構成を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing a second basic configuration of the embodiment of the present invention.

【図3】この発明の実施例1の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a first embodiment of the present invention.

【図4】この発明の実施例2の構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a second embodiment of the present invention.

【図5】この発明の実施例3の構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,16…ノマルスキープリズム 14,32…対物レンズ 18,28…ハーフミラー 20…1/4波長板 22,24…偏光ビームスプリッタ(アナライザ) 50…レーザ光源 52…ビームエキスパンダ 54…X−Y走査部 56,58…リレーレンズ 59…X−Yステージ 60…2値レチクル 62…パターン 64,68,74,78…レンズ 66,70,76,80…光電変換素子 72,82…差動増幅器 84,96,98…アクチュエータ 86…コンピュータ 88…減算器 90…信号処理回路 92…同期装置 94…インターフェース 100…表示部 102…瞳投影レンズ 110,112,114,116…ピンホール 10, 16 ... Nomarski prism 14, 32 ... Objective lens 18, 28 ... Half mirror 20 ... Quarter wave plate 22, 24 ... Polarization beam splitter (analyzer) 50 ... Laser light source 52 ... Beam expander 54 ... XY scanning 56, 58 ... Relay lens 59 ... XY stage 60 ... Binary reticle 62 ... Pattern 64, 68, 74, 78 ... Lens 66, 70, 76, 80 ... Photoelectric conversion element 72, 82 ... Differential amplifier 84, 96, 98 ... Actuator 86 ... Computer 88 ... Subtractor 90 ... Signal processing circuit 92 ... Synchronization device 94 ... Interface 100 ... Display unit 102 ... Pupil projection lens 110, 112, 114, 116 ... Pinhole

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 照明用の直交する第1及び第2の偏光方
向の光を供給する照明手段;これから得られた直交する
第1及び第2の偏光方向の光の光軸を相対的にシャーし
て観察対象の物体に照射する光分離手段;物体を透過又
は反射した前記第1及び第2の偏光方向の光を合成する
光合成手段;前記第1及び第2の偏光方向の光の位相差
を調整する位相差調整手段;前記光合成手段によって合
成された光から、第1及び第2の偏光方向の光の強度成
分をそれぞれ検出する強度成分検出手段;前記光合成手
段によって合成された光から、第1及び第2の偏光方向
の干渉成分を検出するための干渉成分検出手段;前記強
度成分検出手段及び前記干渉成分検出手段の検出結果か
ら、物体の検査を行う検査手段;を備えたことを特徴と
する物体検査装置。
1. Illumination means for supplying light of orthogonal first and second polarization directions for illumination; relative optical axes of the light of orthogonal first and second polarization directions obtained therefrom. And a light separating means for irradiating the object to be observed; a light combining means for combining the light having the first and second polarization directions transmitted or reflected by the object; the phase difference between the lights having the first and second polarization directions. Phase difference adjusting means for adjusting the intensity component; intensity component detecting means for detecting intensity components of light in the first and second polarization directions from the light combined by the light combining means; Interference component detecting means for detecting interference components in the first and second polarization directions; inspection means for inspecting an object from the detection results of the intensity component detecting means and the interference component detecting means; Characteristic object inspection device.
【請求項2】 前記光分離手段及び光合成主手段の少な
くとも一方が複屈折性プリズムを含むことを特徴とする
請求項1記載の物体検査装置。
2. The object inspection apparatus according to claim 1, wherein at least one of the light separating means and the light combining main means includes a birefringent prism.
【請求項3】 前記位相差調整手段が、光軸を横切る方
向に前記光分離手段又は前記光合成手段の少なくとも一
方を移動させる手段であることを特徴とする請求項1又
は2記載の物体検査装置。
3. The object inspection apparatus according to claim 1, wherein the phase difference adjusting unit is a unit that moves at least one of the light separating unit and the light combining unit in a direction traversing the optical axis. .
【請求項4】 前記位相差調整手段が、回転可能なポラ
ライザ及び1/4波長板を含むことを特徴とする請求項
1又は2記載の物体検査装置。
4. The object inspection apparatus according to claim 1, wherein the phase difference adjusting unit includes a rotatable polarizer and a quarter-wave plate.
【請求項5】 前記位相差調整手段が、電圧によって屈
折率が制御可能な液晶であることを特徴とする請求項1
又は2記載の物体検査装置。
5. The phase difference adjusting means is a liquid crystal whose refractive index is controllable by a voltage.
Or the object inspection device according to 2.
【請求項6】 前記検査手段は、 前記強度成分検出手段又は干渉成分検出手段によって得
られた検出成分を光電変換する撮像手段;これによって
得られた各検出信号から、振幅微分像及び強度微分像を
得る演算手段;これによって得られた振幅微分像及び強
度微分像に基づいて強度を調整した誤差信号を生成する
誤差信号生成手段;を備えたことを特徴とする請求項
1,2,3,4又は5記載の物体検査装置。
6. The inspecting means is an imaging means for photoelectrically converting the detection component obtained by the intensity component detecting means or the interference component detecting means; an amplitude differential image and an intensity differential image from each detection signal obtained by the image sensing means. 5. An error signal generating means for generating an error signal whose intensity is adjusted based on the amplitude differential image and the intensity differential image obtained by the calculation means; 4. The object inspection device according to 4 or 5.
【請求項7】 前記強度成分検出手段又は干渉成分検出
手段の少なくとも一方が偏光ビームスプリッタを含むこ
とを特徴とする請求項1,2,3,4,5又は6記載の
物体検査装置。
7. The object inspection apparatus according to claim 1, wherein at least one of the intensity component detection means and the interference component detection means includes a polarization beam splitter.
【請求項8】 前記照明手段が、レーザ光源と、これか
ら出力されたレーザビームを走査する走査手段を含むこ
とを特徴とする請求項1,2,3,4,5,6又は7記
載の物体検査装置。
8. The object according to claim 1, wherein the illuminating means includes a laser light source and a scanning means for scanning a laser beam output from the laser light source. Inspection device.
【請求項9】 前記走査手段を、物体に対する往路及び
復路の光線が通過する光路中に配置したことを特徴とす
る請求項8記載の物体検査装置。
9. The object inspection apparatus according to claim 8, wherein the scanning means is arranged in an optical path through which light rays of an outward path and a backward path of the object pass.
【請求項10】 前記光分離手段による光軸のシャー量
を可変としたことを特徴とする請求項1,2,3,4,
5,6,7,8又は9記載の物体検査装置。
10. The shear amount of the optical axis by the light separating means is variable.
The object inspection device according to 5, 6, 7, 8 or 9.
JP11832496A 1996-04-16 1996-04-16 Object inspecting instrument Pending JPH09281401A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11832496A JPH09281401A (en) 1996-04-16 1996-04-16 Object inspecting instrument

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11832496A JPH09281401A (en) 1996-04-16 1996-04-16 Object inspecting instrument

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09281401A true JPH09281401A (en) 1997-10-31

Family

ID=14733861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11832496A Pending JPH09281401A (en) 1996-04-16 1996-04-16 Object inspecting instrument

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09281401A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002287328A (en) * 2001-03-28 2002-10-03 Lasertec Corp Defect inspection apparatus of phase shift mask
JP2002287327A (en) * 2001-03-28 2002-10-03 Lasertec Corp Defect inspection apparatus of phase shift mask
JP2006023307A (en) * 2004-07-08 2006-01-26 Carl Zeiss Sms Gmbh Microscope focusing system, and method especially for inspecting mask for emulating high-aperture focusing system
JP2010145094A (en) * 2008-12-16 2010-07-01 Nikon Corp Evaluation device and evaluation method
JP2010262070A (en) * 2009-04-30 2010-11-18 Olympus Corp Optical microscope

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002287328A (en) * 2001-03-28 2002-10-03 Lasertec Corp Defect inspection apparatus of phase shift mask
JP2002287327A (en) * 2001-03-28 2002-10-03 Lasertec Corp Defect inspection apparatus of phase shift mask
JP4576500B2 (en) * 2001-03-28 2010-11-10 レーザーテック株式会社 Defect inspection system for phase shift mask
JP4654349B2 (en) * 2001-03-28 2011-03-16 レーザーテック株式会社 Defect inspection system for phase shift mask
JP2006023307A (en) * 2004-07-08 2006-01-26 Carl Zeiss Sms Gmbh Microscope focusing system, and method especially for inspecting mask for emulating high-aperture focusing system
JP4690130B2 (en) * 2004-07-08 2011-06-01 カール ツァイス エスエムエス ゲーエムベーハー Method for the emulation of microscope imaging systems and high aperture imaging systems, in particular for mask inspection
JP2010145094A (en) * 2008-12-16 2010-07-01 Nikon Corp Evaluation device and evaluation method
JP2010262070A (en) * 2009-04-30 2010-11-18 Olympus Corp Optical microscope

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5764363A (en) Apparatus for observing a surface using polarized light
JP4312777B2 (en) Confocal self-interference microscope with side lobes removed
JP4760564B2 (en) Pattern shape defect detection method and detection apparatus
US4922308A (en) Method of and apparatus for detecting foreign substance
TWI402498B (en) An image forming method and image forming apparatus
US20050134840A1 (en) Dual stage defect region identification and defect detection method and apparatus
US20060221331A1 (en) High Throughput Inspection System and a Method for Generating Transmitted and/or Reflected Images
KR20010034323A (en) Optical inspection method and apparatus
JP5268061B2 (en) Board inspection equipment
JPH095252A (en) Inspecting equipment of foreign substance on mask
US7002695B2 (en) Dual-spot phase-sensitive detection
US20020171028A1 (en) Focus error correction method and apparatus
JPH09281401A (en) Object inspecting instrument
JPH08327557A (en) Device and method for inspecting defect
JP3282790B2 (en) Defect inspection system for phase shift mask
JP3179697B2 (en) Photomask defect detector
JPH10239589A (en) Interference microscope
JP3217097B2 (en) High resolution microscope
JPH1073542A (en) Detector and detecting method
JPH09280954A (en) Object inspecting instrument
JPH05312510A (en) Position detector
JPH09281402A (en) Object observing device
JPH0961366A (en) Differential interference microscope, and defect inspecting device using the same
JPH09281052A (en) Object inspection apparatus
JPS58204344A (en) Defect inspection device for pattern