JPH09271979A - 局所真空式レーザ溶接機 - Google Patents
局所真空式レーザ溶接機Info
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- JPH09271979A JPH09271979A JP8112025A JP11202596A JPH09271979A JP H09271979 A JPH09271979 A JP H09271979A JP 8112025 A JP8112025 A JP 8112025A JP 11202596 A JP11202596 A JP 11202596A JP H09271979 A JPH09271979 A JP H09271979A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シールドガスやアシストガスを用いず、しか
も局所真空式電子ビーム溶接の如き高真空度、大きな真
空領域をならない局所真空式レーザ溶接機を提供する。 【解決手段】 レーザ光３が通る中空ノズル本体２の先
端に封止材４を備え、その基端側をシールドガラス１１
で封止し、このシールドガラス１１と中空ノズル本体２
の先端との間に通排気管を連通させた。被溶接物５の溶
接箇所に対して封止材４を当接させた後、排気弁８を開
き排気装置１０により溶接位置周囲を一定の低真空とす
る。そして、低真空環境にてレーザ溶接を行うことによ
り、大気中より一層深溶け込みの高精度溶接を行うこと
ができる。溶接箇所周囲の排気量が少なくしかも例えば
１０-1Torr以下の低真空であるので、ベント（通気）と
排気のサイクルタイムが短時間で済み、酸化や金属プラ
ズマの発生を抑えた良好な深溶け込みを達成することが
できる。
も局所真空式電子ビーム溶接の如き高真空度、大きな真
空領域をならない局所真空式レーザ溶接機を提供する。 【解決手段】 レーザ光３が通る中空ノズル本体２の先
端に封止材４を備え、その基端側をシールドガラス１１
で封止し、このシールドガラス１１と中空ノズル本体２
の先端との間に通排気管を連通させた。被溶接物５の溶
接箇所に対して封止材４を当接させた後、排気弁８を開
き排気装置１０により溶接位置周囲を一定の低真空とす
る。そして、低真空環境にてレーザ溶接を行うことによ
り、大気中より一層深溶け込みの高精度溶接を行うこと
ができる。溶接箇所周囲の排気量が少なくしかも例えば
１０-1Torr以下の低真空であるので、ベント（通気）と
排気のサイクルタイムが短時間で済み、酸化や金属プラ
ズマの発生を抑えた良好な深溶け込みを達成することが
できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、局所真空式レーザ
溶接機に関し、特に、溶接幅が小さく溶接深さが大き
い、いわゆる深溶け込み溶接を必要とする高精度溶接に
用いられる溶接ノズルの改良に関する。
溶接機に関し、特に、溶接幅が小さく溶接深さが大き
い、いわゆる深溶け込み溶接を必要とする高精度溶接に
用いられる溶接ノズルの改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】深溶け込み溶接は、現在、例えば、自動
車本体、自動車部品、電子デバイス部品等を対象として
高精度溶接に用いられ、幅広い分野で必要とされてい
る。
車本体、自動車部品、電子デバイス部品等を対象として
高精度溶接に用いられ、幅広い分野で必要とされてい
る。
【０００３】ここで、深溶け込み溶接の従来例として
は、シールドガスやアシストガスを噴射しつつ行われる
レーザ溶接や真空チャンバを用いた電子ビーム溶接又は
局所真空式電子ビーム溶接などがある。
は、シールドガスやアシストガスを噴射しつつ行われる
レーザ溶接や真空チャンバを用いた電子ビーム溶接又は
局所真空式電子ビーム溶接などがある。
【０００４】このうち、レーザ溶接はレーザ出射光学部
先端にノズルを取り付け、このノズルより熱伝動率の大
きいシールドガスやアシストガスを吹き付けて溶接金属
の酸化を抑え金属プラズマの発生を抑えると共に溶接特
性の向上（溶接深さの増大と溶接幅の減少）を図ってい
る。
先端にノズルを取り付け、このノズルより熱伝動率の大
きいシールドガスやアシストガスを吹き付けて溶接金属
の酸化を抑え金属プラズマの発生を抑えると共に溶接特
性の向上（溶接深さの増大と溶接幅の減少）を図ってい
る。
【０００５】さらに、真空チャンバを利用した電子ビー
ム溶接では、真空チャンバ内に被溶接物を封入して溶接
を行っており、深溶け込み溶接には好適であるが、被溶
接物が大形になるときは特に大きな真空チャンバが必要
となり、設備の高価格化と装置の複雑化を招き、同時に
大容量の真空排気とベントを繰り返すことによりサイク
ルタイムの長時間化と装置のメンテナンスの一層の複雑
化を招いている。
ム溶接では、真空チャンバ内に被溶接物を封入して溶接
を行っており、深溶け込み溶接には好適であるが、被溶
接物が大形になるときは特に大きな真空チャンバが必要
となり、設備の高価格化と装置の複雑化を招き、同時に
大容量の真空排気とベントを繰り返すことによりサイク
ルタイムの長時間化と装置のメンテナンスの一層の複雑
化を招いている。
【０００６】なお、レーザ溶接においても、気密チャン
バ内を低真空雰囲気に保持し、そのチャンバ内において
レーザ溶接を行う技術が知られている（特開昭６２−１
６８６９３号）。
バ内を低真空雰囲気に保持し、そのチャンバ内において
レーザ溶接を行う技術が知られている（特開昭６２−１
６８６９３号）。
【０００７】さらに、真空チャンバを用いることなく電
子ビーム出射端から被溶接物までの間のみを高真空とし
た局所真空式電子ビーム溶接も提案されている。
子ビーム出射端から被溶接物までの間のみを高真空とし
た局所真空式電子ビーム溶接も提案されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
シールドガスやアシストガスを用いたレーザ溶接にあっ
ては、Ｈｅ，Ａｒ，Ｎ2 等のガスが高価であり、またガ
スの吹き付け角度や吹き付け狙い位置あるいはガス圧な
どによってガスによる溶接効果が変り、制御しにくいと
いう問題を有する。
シールドガスやアシストガスを用いたレーザ溶接にあっ
ては、Ｈｅ，Ａｒ，Ｎ2 等のガスが高価であり、またガ
スの吹き付け角度や吹き付け狙い位置あるいはガス圧な
どによってガスによる溶接効果が変り、制御しにくいと
いう問題を有する。
【０００９】また、真空チャンバを用いた電子ビーム溶
接による問題を除いた局所真空式電子ビーム溶接にあっ
ては、真空チャンバ方式と異なり溶接部分のみ真空とす
るために真空部分がかなり小さくなるのであるが、電子
ビーム溶接の性質上電子銃から被溶接物までは必ず真空
にすることを要し、さらには電子ビームを被溶接物に高
速で衝突させるために真空度を高くしなければならず、
この点なお真空領域の大きさと高真空度とからサイクル
タイムの短時間化や装置の大型複雑化とそのメンテナン
スとに課題を残している。また電子ビームの場合は磁場
に影響されるという問題もある。
接による問題を除いた局所真空式電子ビーム溶接にあっ
ては、真空チャンバ方式と異なり溶接部分のみ真空とす
るために真空部分がかなり小さくなるのであるが、電子
ビーム溶接の性質上電子銃から被溶接物までは必ず真空
にすることを要し、さらには電子ビームを被溶接物に高
速で衝突させるために真空度を高くしなければならず、
この点なお真空領域の大きさと高真空度とからサイクル
タイムの短時間化や装置の大型複雑化とそのメンテナン
スとに課題を残している。また電子ビームの場合は磁場
に影響されるという問題もある。
【００１０】本発明は、上述の問題に鑑み、不活性ガス
を用いないレーザ溶接であって、不活性ガスによる酸化
防止や金属プラズマの発生軽減という効果をもたらすと
共に、電子ビーム溶接のように高真空とせずかつ真空領
域の大きさの減少を図った局所真空式レーザ溶接機の提
供を目的とする。
を用いないレーザ溶接であって、不活性ガスによる酸化
防止や金属プラズマの発生軽減という効果をもたらすと
共に、電子ビーム溶接のように高真空とせずかつ真空領
域の大きさの減少を図った局所真空式レーザ溶接機の提
供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上述の目的達成のため本
発明は、次の発明特定事項を有する。
発明は、次の発明特定事項を有する。
【００１２】（１）中空ノズルの先端の被溶接物対向面
に封止材を備えると共に前記中空ノズルの先端より基端
側にてこの中空ノズルを塞ぐようにシールドガラスを気
密封止し、前記中空ノズルの先端とシールドガラスの封
止部分との間の前記中空ノズルの先端とシールドガラス
の封止部分との間の前記中空ノズルに通排気弁及び排気
装置を備えた通気管を連通させたことを特徴とする。
に封止材を備えると共に前記中空ノズルの先端より基端
側にてこの中空ノズルを塞ぐようにシールドガラスを気
密封止し、前記中空ノズルの先端とシールドガラスの封
止部分との間の前記中空ノズルの先端とシールドガラス
の封止部分との間の前記中空ノズルに通排気弁及び排気
装置を備えた通気管を連通させたことを特徴とする。
【００１３】（２）上記（１）において、前記通排気弁
及び排気装置を備えた通排気管を通気系と排気系とに別
々に形成したことを特徴とする。
及び排気装置を備えた通排気管を通気系と排気系とに別
々に形成したことを特徴とする。
【００１４】本発明によれば、被溶接物の溶接部分のみ
を覆うように真空領域を形成することができると共にレ
ーザ光による溶接のため高真空にする必要はなく、例え
ば約１０-1Torr以下での低真空でも大気中での溶接に比
べて溶接深さが２．３〜３．６倍に改善されることを鑑
みると低真空にて足り、しかも酸化を抑え金属プラズマ
の発生を抑えることができる。またエネルギー源がレー
ザであるため光ファイバで自由な位置にエネルギーを伝
達できるとともに、磁場に影響されない溶接が可能とな
る。さらに、大きな真空チャンバを必要としないため、
真空排気およびベントによるサイクルタイムの悪化も無
く、装置の小形化、簡略化ができる。
を覆うように真空領域を形成することができると共にレ
ーザ光による溶接のため高真空にする必要はなく、例え
ば約１０-1Torr以下での低真空でも大気中での溶接に比
べて溶接深さが２．３〜３．６倍に改善されることを鑑
みると低真空にて足り、しかも酸化を抑え金属プラズマ
の発生を抑えることができる。またエネルギー源がレー
ザであるため光ファイバで自由な位置にエネルギーを伝
達できるとともに、磁場に影響されない溶接が可能とな
る。さらに、大きな真空チャンバを必要としないため、
真空排気およびベントによるサイクルタイムの悪化も無
く、装置の小形化、簡略化ができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】ここで図１、図２を参照して本発
明の実施例を説明する。図１は局所真空式レーザ溶接機
のレーザ出射端部の構造を示している。図において１は
レーザの出射光学部であり、この出射光学部１の先端に
はレーザ光の軌道３に合せた円錐形状の中空ノズル本体
２が取り付けられている。
明の実施例を説明する。図１は局所真空式レーザ溶接機
のレーザ出射端部の構造を示している。図において１は
レーザの出射光学部であり、この出射光学部１の先端に
はレーザ光の軌道３に合せた円錐形状の中空ノズル本体
２が取り付けられている。
【００１６】この中空ノズル本体２の被溶接物５に対向
する先端面には、Ｏリングなどの封止材４が気密に取り
付けられている。さらに、この中空ノズル本体２の先端
に対して基端側（図では作図上出射光学部１に近い基端
側）にはシールドガラス１１が中空ノズル本体を２を気
密に塞ぐように取り付けられている。
する先端面には、Ｏリングなどの封止材４が気密に取り
付けられている。さらに、この中空ノズル本体２の先端
に対して基端側（図では作図上出射光学部１に近い基端
側）にはシールドガラス１１が中空ノズル本体を２を気
密に塞ぐように取り付けられている。
【００１７】したがって、中空ノズル本体２を被溶接物
５に当接させた状態では、封止材４とシールドガラス１
１とにより挟まれる中空ノズル本体２内部が周囲の環境
から隔離された状態となっている。
５に当接させた状態では、封止材４とシールドガラス１
１とにより挟まれる中空ノズル本体２内部が周囲の環境
から隔離された状態となっている。
【００１８】中空ノズル本体２の封止材４が取り付けら
れた先端とシールドガラス１１の封止部分との間には、
通排気管が連通されている。すなわち、この間に排気孔
６と通気孔７とが形成され、排気孔６には排気弁（電磁
弁）８及び排気ポンプやコンバムなどの排気装置１０を
備えた排気管が連通されるとともに、通気孔７には通気
弁（電磁弁）９を備えた通気管が連通されている。
れた先端とシールドガラス１１の封止部分との間には、
通排気管が連通されている。すなわち、この間に排気孔
６と通気孔７とが形成され、排気孔６には排気弁（電磁
弁）８及び排気ポンプやコンバムなどの排気装置１０を
備えた排気管が連通されるとともに、通気孔７には通気
弁（電磁弁）９を備えた通気管が連通されている。
【００１９】かかる構造にあって被溶接物５の溶接位置
に中空ノズル本体２の先端でのレーザ光の焦点合せをす
る。そして、この溶接位置での被溶接物５の溶接箇所に
対して封止材４を当接させた後、排気弁８を開き排気装
置１０により溶接位置周囲を一定の低真空とする。
に中空ノズル本体２の先端でのレーザ光の焦点合せをす
る。そして、この溶接位置での被溶接物５の溶接箇所に
対して封止材４を当接させた後、排気弁８を開き排気装
置１０により溶接位置周囲を一定の低真空とする。
【００２０】この溶接箇所周囲の真空程度が例えば１０
-1Torr以下の低真空となった状態で、出射光学部１より
レーザ光を出射し、溶接箇所の溶接を実施する。溶接後
は通気弁９を開き溶接箇所周囲に大気を導入する。
-1Torr以下の低真空となった状態で、出射光学部１より
レーザ光を出射し、溶接箇所の溶接を実施する。溶接後
は通気弁９を開き溶接箇所周囲に大気を導入する。
【００２１】こうして、低真空環境にてレーザ溶接を行
うことにより、大気中より一層深溶け込みの高精度溶接
を行うことができる。この場合、溶接箇所周囲の排気量
が少なくしかも例えば１０-1Torr以下の低真空であるの
で、ベント（通気）と排気のサイクルタイムが短時間で
済み、酸化や金属プラズマの発生を抑えた良好な深溶け
込みを達成することができる。
うことにより、大気中より一層深溶け込みの高精度溶接
を行うことができる。この場合、溶接箇所周囲の排気量
が少なくしかも例えば１０-1Torr以下の低真空であるの
で、ベント（通気）と排気のサイクルタイムが短時間で
済み、酸化や金属プラズマの発生を抑えた良好な深溶け
込みを達成することができる。
【００２２】図２は、本発明の実施の形態の全体構成を
示しており、図１の主要部分が納まる局所真空式レーザ
溶接ノズル２０を先端に有する出射光学部１には、光フ
ァイバ２１を介してレーザ溶接機本体２２が接続され
る。この場合、光ファイバ２１はフレキシブルであるた
め、ロボット２３のハンド部（図示省略）に出射光学部
１と局所真空式レーザ溶接ノズル２０とを取り付けて自
由に位置決めすることができる。
示しており、図１の主要部分が納まる局所真空式レーザ
溶接ノズル２０を先端に有する出射光学部１には、光フ
ァイバ２１を介してレーザ溶接機本体２２が接続され
る。この場合、光ファイバ２１はフレキシブルであるた
め、ロボット２３のハンド部（図示省略）に出射光学部
１と局所真空式レーザ溶接ノズル２０とを取り付けて自
由に位置決めすることができる。
【００２３】他方、被溶接物５はライン２４上を移動す
るパレット２５上に截置される。この結果、ライン２４
上を流れるパレット２５上の被溶接物５が溶接位置に至
ると、その位置にてハンド部が近づき局所真空式レーザ
溶接ノズル２０が溶接箇所に当接し、排気、溶接、通気
を短時間にて行い、溶接を完了する。
るパレット２５上に截置される。この結果、ライン２４
上を流れるパレット２５上の被溶接物５が溶接位置に至
ると、その位置にてハンド部が近づき局所真空式レーザ
溶接ノズル２０が溶接箇所に当接し、排気、溶接、通気
を短時間にて行い、溶接を完了する。
【００２４】かくして決められた溶接位置にて又は溶接
箇所のセンシングによるフレキシブルな位置にて、短時
間に高精度な溶接を行うことができる。
箇所のセンシングによるフレキシブルな位置にて、短時
間に高精度な溶接を行うことができる。
【００２５】上述したように、特開昭６２−１６８６９
３号公報には、気密チャンバ内を低真空雰囲気に保持し
てレーザ溶接を行う技術が記載されているが、上記実施
例の装置においては、チャンバを設けることなく、ノズ
ル先端に局所真空領域を瞬時に形成してレーザ溶接を行
うものであり、チャンバを利用した上記公報記載の技術
に比べて、真空排気、ベント時間が格段に短く、しかも
チャンバのように固定した容器内で溶接を行うのではな
く、溶接ノズルとして、例えばロボットのハンド先端に
取り付けて（図２参照）自由な取り回しで溶接を行うこ
とができる。
３号公報には、気密チャンバ内を低真空雰囲気に保持し
てレーザ溶接を行う技術が記載されているが、上記実施
例の装置においては、チャンバを設けることなく、ノズ
ル先端に局所真空領域を瞬時に形成してレーザ溶接を行
うものであり、チャンバを利用した上記公報記載の技術
に比べて、真空排気、ベント時間が格段に短く、しかも
チャンバのように固定した容器内で溶接を行うのではな
く、溶接ノズルとして、例えばロボットのハンド先端に
取り付けて（図２参照）自由な取り回しで溶接を行うこ
とができる。
【００２６】図１の説明では通気系と排気系とをそれぞ
れ別々に形成されているのであるが、通気、排気管を単
一とし途中から分岐させて通気弁、排気弁を別々に備え
るようにしてもよい。
れ別々に形成されているのであるが、通気、排気管を単
一とし途中から分岐させて通気弁、排気弁を別々に備え
るようにしてもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、従
来のような高価なシールドガス等を用いることもなく、
真空を保つため、酸化や金属プラズマの発生を軽減でき
て従来のレーザ溶接より深溶け込みが得られると共に、
局所真空式電子ビーム溶接のごとき排気量や真空度を減
ずることができ、このため小形かつ簡易なノズルで済み
サイクルタイムの低減、メンテナンスの軽減、磁場の影
響がない、という効果が得られる。また本発明の構成は
従来の溶接ノズルに簡単な構成を取り付けることで得る
ことができる。
来のような高価なシールドガス等を用いることもなく、
真空を保つため、酸化や金属プラズマの発生を軽減でき
て従来のレーザ溶接より深溶け込みが得られると共に、
局所真空式電子ビーム溶接のごとき排気量や真空度を減
ずることができ、このため小形かつ簡易なノズルで済み
サイクルタイムの低減、メンテナンスの軽減、磁場の影
響がない、という効果が得られる。また本発明の構成は
従来の溶接ノズルに簡単な構成を取り付けることで得る
ことができる。
【図１】本発明の実施の形態の一例の構成図。
【図２】ライン上での溶接装置全体の簡略図。
１ 出射光学部 ２ ノズル本体 ４ 封止材 ５ 被溶接物 ６ 排気孔 ７ 通気孔 ８ 排気弁 ９ 通気弁 １０ 排気装置 １１ シールドガラス
Claims (2)
- 【請求項１】 中空ノズルの先端の被溶接物対向面に封
止材を供えると共に前記中空ノズルの先端より基端側に
てこの中空ノズルを塞ぐようにシールドガラスを気密封
止し、前記中空ノズルの先端とシールドガラスの封止部
分との間の前記中空ノズルに通排気弁及び排気装置を供
えた通排気管を連通させたことを特徴とする局所真空式
レーザ溶接機。 - 【請求項２】 前記通排気弁及び排気装置を備えた通排
気管を通気系と排気系とに別々に形成した請求項１記載
の局所真空式レーザ溶接機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8112025A JPH09271979A (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 局所真空式レーザ溶接機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8112025A JPH09271979A (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 局所真空式レーザ溶接機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09271979A true JPH09271979A (ja) | 1997-10-21 |
Family
ID=14576122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8112025A Pending JPH09271979A (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 局所真空式レーザ溶接機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09271979A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007253156A (ja) * | 2004-05-26 | 2007-10-04 | Hokkaido Univ | レーザ加工方法および装置 |
| CN103170742A (zh) * | 2011-12-26 | 2013-06-26 | 苏州领创激光科技有限公司 | 超大台面激光平板焊接机 |
| CN106064278A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-11-02 | 长沙理工大学 | 一种基于局部真空气氛的镀锌钢板激光搭接焊接方法 |
| CN106077954A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-11-09 | 长沙理工大学 | 一种非熔透激光焊接方法 |
| CN106112280A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-11-16 | 长沙理工大学 | 一种激光穿孔加工方法 |
| CN106181031A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-12-07 | 长沙理工大学 | 一种铝合金激光焊接方法 |
| DE112013004531B4 (de) * | 2012-09-18 | 2017-10-19 | Mitsubishi Heavy Industries Machine Tool Co., Ltd. | Bewegbare Vakuumschweissvorrichtung |
| KR20190094862A (ko) * | 2018-02-06 | 2019-08-14 | 주식회사 비에스피 | 유기기판 레이저 용접장치 및 이의 용접방법 |
| GB2499594B (en) * | 2012-02-21 | 2020-05-06 | Aquasium Tech Limited | Laser welding method and apparatus |
| US11351632B2 (en) * | 2018-02-14 | 2022-06-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Particle removal apparatus and laser cutting apparatus including the same |
| EP4052836A1 (en) * | 2021-03-05 | 2022-09-07 | IPTE Factory Automation NV | Method for laser welding and laser welding system |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0768397A (ja) * | 1993-08-31 | 1995-03-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 減圧レーザ加工方法 |
-
1996
- 1996-04-09 JP JP8112025A patent/JPH09271979A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0768397A (ja) * | 1993-08-31 | 1995-03-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 減圧レーザ加工方法 |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007253156A (ja) * | 2004-05-26 | 2007-10-04 | Hokkaido Univ | レーザ加工方法および装置 |
| JP4631044B2 (ja) * | 2004-05-26 | 2011-02-16 | 国立大学法人北海道大学 | レーザ加工方法および装置 |
| CN103170742A (zh) * | 2011-12-26 | 2013-06-26 | 苏州领创激光科技有限公司 | 超大台面激光平板焊接机 |
| GB2499594B (en) * | 2012-02-21 | 2020-05-06 | Aquasium Tech Limited | Laser welding method and apparatus |
| DE112013004531B4 (de) * | 2012-09-18 | 2017-10-19 | Mitsubishi Heavy Industries Machine Tool Co., Ltd. | Bewegbare Vakuumschweissvorrichtung |
| CN106181031A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-12-07 | 长沙理工大学 | 一种铝合金激光焊接方法 |
| CN106112280A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-11-16 | 长沙理工大学 | 一种激光穿孔加工方法 |
| CN106077954A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-11-09 | 长沙理工大学 | 一种非熔透激光焊接方法 |
| CN106064278B (zh) * | 2016-07-11 | 2018-01-19 | 长沙理工大学 | 一种基于局部真空气氛的镀锌钢板激光搭接焊接方法 |
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| KR20190094862A (ko) * | 2018-02-06 | 2019-08-14 | 주식회사 비에스피 | 유기기판 레이저 용접장치 및 이의 용접방법 |
| US11351632B2 (en) * | 2018-02-14 | 2022-06-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Particle removal apparatus and laser cutting apparatus including the same |
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