JPH09259782A - Shadow mask holding structure - Google Patents

Shadow mask holding structure

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JPH09259782A
JPH09259782A JP6131496A JP6131496A JPH09259782A JP H09259782 A JPH09259782 A JP H09259782A JP 6131496 A JP6131496 A JP 6131496A JP 6131496 A JP6131496 A JP 6131496A JP H09259782 A JPH09259782 A JP H09259782A
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JP
Japan
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shadow mask
holding structure
long
electron beam
mask holding
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Application number
JP6131496A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Kawasaki
浩 川▲崎▼
Yuichi Kijima
勇一 木島
Hideo Tanabe
英夫 田辺
Takao Nakamura
考雄 中村
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lightweight shadow mask holding structure which can uniformly impress desired tensile force on the whole surface of a slot type shadow mask. SOLUTION: A shadow mask holding structure holds a shadow mask at a prescribed position by respectively stretching the long sides of a quadrangular shadow mask. In this case, it is composed of a quadrangular frame member 12b having the short sides and the long sides, a long side stretching member to respectively stretch the long sides of the shadow mask and a connecting member 12c to connect the long sides of the quadrangular frame member 12b to each other.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シャドウマスク保
持構体に関し、特に、シャドウマスク型カラー陰極線管
の蛍光面に対向して配置され、電子ビームの到達位置を
決定するシャドウマスクおよびこのシャドウマスクを保
持するマスクフレームからなるシャドウマスク保持構体
に適用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shadow mask holding structure, and more particularly, to a shadow mask which is arranged so as to face a fluorescent surface of a shadow mask type color cathode ray tube and which determines an arrival position of an electron beam. The present invention relates to a technique effectively applied to a shadow mask holding structure including a holding mask frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在もっとも広く普及しているカラー陰
極線管は、いわゆる、シャドウマスク型カラー陰極線管
であり、電子銃から発射された3本の電子ビームをパネ
ル部分の内面に塗布された赤(R),緑(G),青
(B)の3色の蛍光体のそれぞれに分担して射突するよ
うにしていた。
2. Description of the Related Art The most widely used color cathode ray tube at present is a so-called shadow mask type color cathode ray tube, in which three electron beams emitted from an electron gun are applied to the inner surface of the panel (red). R, green (G), and blue (B) phosphors are allotted and collided with each other.

【0003】このときの各電子ビームの進路を選択制御
するのがシャドウマスクであり、一般的に丸穴、長方形
の穴、あるいは、すだれ状の電子ビーム通過孔を有して
いる。
At this time, a shadow mask selectively controls the path of each electron beam, and generally has a round hole, a rectangular hole, or a blind-shaped electron beam passage hole.

【0004】また、シャドウマスクを通過した各電子ビ
ームが射突することになる陰極線管のパネル面の内面に
は、電子ビーム通過孔の形状に対応した形状の蛍光体が
形成されている。
Further, a phosphor having a shape corresponding to the shape of the electron beam passage hole is formed on the inner surface of the panel surface of the cathode ray tube where each electron beam having passed through the shadow mask is projected.

【0005】シャドウマスクに設けた電子ビーム通過孔
の形状により、丸穴を持つものをドット型シャドウマス
ク、長方形の穴を持つものをスロット型シャドウマス
ク、すだれ状の電子ビーム通過孔を持つものをグリル型
シャドウマスクと呼ぶことにする。
Depending on the shape of the electron beam passage hole provided in the shadow mask, one having a round hole may be a dot type shadow mask, one having a rectangular hole may be a slot type shadow mask, and one having a blind electron beam passage hole. I will call it a grill type shadow mask.

【0006】一般的には、ドット型およびスロット型の
シャドウマスクは、球面状に形成され、一方、グリル型
シャドウマスクはシャドウマスクをシリンダー状に保持
するために、シャドウマスクの上下に張力をかける必要
があったので、円筒面状に形成されている。
Generally, the dot type and slot type shadow masks are formed in a spherical shape, while the grill type shadow mask applies tension to the upper and lower sides of the shadow mask in order to hold the shadow mask in a cylindrical shape. Since it was necessary, it was formed into a cylindrical surface.

【0007】ただし、スロット型シャドウマスクはグリ
ル型シャドウマスクの並列するグリルの所々にグリルを
繋ぐためのブリッジがある構造と考えることができる。
However, the slot-type shadow mask can be considered to have a structure in which bridges for connecting the grills are provided in places where the grills of the grill-type shadow mask are arranged in parallel.

【0008】一方、陰極線管に対する要求として、高精
細表示の要求が強くなっており、特に近年においては、
パーソナルコンピュータ(パソコン)のOS(オペレー
ティングシステム)にGUI(Graphical U
ser Interface)を用いた操作環境が採用
されるなど、ますます、高精細表示に対する要望が増し
ている。
On the other hand, as a demand for a cathode ray tube, a demand for high-definition display is increasing, and particularly in recent years,
A GUI (Graphical U) is added to the OS (operating system) of a personal computer (personal computer).
The demand for high-definition display is increasing more and more due to the adoption of an operating environment using the ser interface.

【0009】しかしながら、陰極線管の動作中は、シャ
ドウマスクに電子ビームが衝突するために温度が上が
り、その温度上昇に伴い、シャドウマスクが熱膨張し、
電子ビーム通過孔が変位してしまうので、蛍光面上での
電子ビームのランディング位置がずれ、高精細表示を妨
げるということが知られている。
However, during the operation of the cathode ray tube, the temperature of the shadow mask rises due to the collision of the electron beam with the shadow mask, and the shadow mask thermally expands as the temperature rises.
It is known that since the electron beam passage hole is displaced, the landing position of the electron beam on the phosphor screen is displaced, which hinders high-definition display.

【0010】熱膨張を低減させる手段の1つとして、ド
ット型シャドウマスクとスロット型シャドウマスクの陰
極線管では、シャドウマスクを鉄・ニッケル合金等の熱
膨張係数の小さい金属で構成するという方法が考えられ
ている。
As one of means for reducing the thermal expansion, in the cathode ray tube of the dot type shadow mask and the slot type shadow mask, a method of forming the shadow mask by a metal having a small thermal expansion coefficient such as iron-nickel alloy is considered. Has been.

【0011】また、グリル型シャドウマスクの陰極線管
では、シャドウマスクをマスクフレームに張力をかけて
保持させることによって、熱膨張による影響を低減して
いた。
Further, in the cathode ray tube of the grill type shadow mask, the influence of thermal expansion is reduced by holding the shadow mask by applying tension to the mask frame.

【0012】図4は特公昭55−139743号公報に
記載されている従来のシャドウマスク保持構体の斜視図
であり、このシャドウマスク保持構体は、特に、アパー
チャグリルと呼ばれている。
FIG. 4 is a perspective view of a conventional shadow mask holding structure disclosed in Japanese Patent Publication No. 55-139743, and this shadow mask holding structure is particularly called an aperture grill.

【0013】図4に示すシャドウマスク保持構体は、一
対の長辺架張部材10a,10bと、この長辺架張部材
10a,10bを対向して保持する一対の短辺支持アー
ム部材10c,10dとから構成されたマスクフレーム
10に、シャドウマスク11を張架して形成される。
The shadow mask holding structure shown in FIG. 4 includes a pair of long-side stretch members 10a and 10b and a pair of short-side support arm members 10c and 10d that hold the long-side stretch members 10a and 10b in opposition to each other. The shadow mask 11 is stretched over the mask frame 10 composed of.

【0014】このとき、シャドウマスク11は板厚0.
02〜0.3mmの低炭素鋼鈑にフォトリソグラフィ技
術によって、多数の所定形状の縦方向スリットを所定の
間隔で配列して形成していた。
At this time, the shadow mask 11 has a plate thickness of 0.
A large number of vertical slits having a predetermined shape were formed on a low carbon steel plate having a diameter of 02 to 0.3 mm by photolithography at predetermined intervals.

【0015】このようにして形成したシャドウマスク1
1は、スリット方向(縦方向)に所定の張力を印加する
ために、横方向の対向する2辺をマスクフレーム10の
長辺架張部材10a,10bにそれぞれ固着させること
によって、所定の張力を印加していた。
The shadow mask 1 thus formed
In order to apply a predetermined tension in the slit direction (longitudinal direction), the reference numeral 1 fixes the predetermined tension by fixing two laterally opposite sides to the long-side stretch members 10a and 10b of the mask frame 10, respectively. Was being applied.

【0016】しかしながら、陰極線管動作時には、前述
するように電子ビームがシャドウマスク11に衝突する
際に発生する熱によって、シャドウマスク11が熱膨張
するが、このときでもシャドウマスク11には所定の値
以上の張力が印加されていなければならない。
However, during the operation of the cathode ray tube, the shadow mask 11 thermally expands due to the heat generated when the electron beam collides with the shadow mask 11 as described above. Even at this time, the shadow mask 11 still has a predetermined value. The above tension must be applied.

【0017】このため、シャドウマスク11をマスクフ
レーム10に固着し取り付ける際には、たとえば、図4
に示す長辺架張部材10a,10bが互いに近づくよう
にように加圧しながらシャドウマスク11を長辺架張部
材10a,10bにシーム溶接し、前述する加圧を解除
することにより、マスクフレーム10の復元力でシャド
ウマスク11に所定値以上の張力が加わるようにしてい
た。
Therefore, when the shadow mask 11 is fixed and attached to the mask frame 10, for example, as shown in FIG.
The shadow mask 11 is seam-welded to the long-side stretch members 10a and 10b while applying pressure so that the long-side stretch members 10a and 10b shown in FIG. The restoring force of 1 is applied to the shadow mask 11 with a tension of a predetermined value or more.

【0018】前述する方法では、必ずしも高精細度化を
達成できるわけではなく、たとえば、ドット型シャドウ
マスクおよびスロット型シャドウマスクの場合、画面の
精細度を向上させるためにはシャドウマスクの孔径を小
さくすると共に、各孔間のピッチを狭く(小さく)する
必要がある。
The above-described method cannot necessarily achieve high definition. For example, in the case of a dot type shadow mask and a slot type shadow mask, the hole diameter of the shadow mask is made small in order to improve the definition of the screen. In addition, it is necessary to narrow (decrease) the pitch between the holes.

【0019】しかしながら、板厚が厚いシャドウマスク
に径の小さい孔を開けることは非常に困難であるため、
板厚を薄くすることが考えられるが、この方式のシャド
ウマスクは、自身の剛性によって形状を球面状に保つ必
要があり、所定値以上に薄くすることは剛性上不可能で
あり、自ずと、高精細化には限度があった。
However, since it is very difficult to form a hole having a small diameter in a shadow mask having a large plate thickness,
Although it is conceivable to reduce the plate thickness, this type of shadow mask needs to keep its shape spherical due to its own rigidity, and it is impossible to make it thinner than a predetermined value because of its rigidity, and it is naturally high. There was a limit to the definition.

【0020】一方、グリル型シャドウマスクの陰極線管
では、表示域の全面にわたりすだれ状のシャドウマスク
を設ける必要があり、板厚を所定値以上薄いものとして
しまうと、シャドウマスクおよび陰極線管そのものの製
作時にすだれ状のグリル同士が絡み合い、グリルが変形
してしまうという問題があるので、所定値以上に薄くす
ることは困難であった。
On the other hand, in the cathode ray tube of the grill type shadow mask, it is necessary to provide a comb-shaped shadow mask over the entire display area. If the plate thickness is made thinner than a predetermined value, the shadow mask and the cathode ray tube itself are manufactured. Since there is a problem that the interdigital grilles are sometimes entangled with each other and the grill is deformed, it is difficult to reduce the thickness to a predetermined value or more.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、前記従来
技術を検討した結果、以下の問題点を見いだした。
SUMMARY OF THE INVENTION As a result of studying the above prior art, the present inventor has found the following problems.

【0022】従来のシャドウマスクを用いた陰極線管の
精細度を高くするためには、シャドウマスクの板厚を薄
くすることが必要であり、このための技術として、スロ
ット型シャドウマスクを球面状に保持するのではなく、
グリル型シャドウマスクのように、シャドウマスクの一
対の辺に張力を印加し、スロット型シャドウマスクを円
筒形に保つという方法が考えられる。
In order to increase the definition of a cathode ray tube using a conventional shadow mask, it is necessary to reduce the thickness of the shadow mask. As a technique for this, a slot type shadow mask is made spherical. Instead of holding
A method of applying tension to a pair of sides of the shadow mask like a grill shadow mask to keep the slot shadow mask cylindrical can be considered.

【0023】図6は従来のマスクフレームにスロット型
シャドウマスクを架張する手順を説明するための図であ
り、従来のマスクフレームでは短辺部材10c,10d
と長辺架張部材10a,10bとが溶接によりベッセル
点で固着されていた。
FIG. 6 is a view for explaining a procedure for stretching a slot type shadow mask on a conventional mask frame. In the conventional mask frame, short side members 10c and 10d are used.
And the long-side stretch members 10a and 10b were fixed by welding at the vessel point.

【0024】このため、図6(b)に示すように長辺架
張部材10a,10bの固定点15の近傍を加圧し、長
辺架張部材10a,10bを圧縮した場合、図6(c)
に示すように、長辺架張部材10a,10bの中央部分
がもっとも大きく縮み、両端部分の変位量は少ないとい
う現象が見られる。
Therefore, as shown in FIG. 6B, when the long side stretch members 10a and 10b are compressed near the fixing points 15 and the long side stretch members 10a and 10b are compressed, as shown in FIG. )
As shown in FIG. 5, the central portion of the long-side stretch members 10a and 10b contracts the most, and the amount of displacement at both ends is small.

【0025】この状態でスロット型シャドウマスクを溶
接し、加圧を解除するとマスクフレームは加圧時とほぼ
同じ形状、すなわち、シャドウマスクが歪んだままの形
で保持されてしまうという問題があった。
If the slot type shadow mask is welded in this state and the pressure is released, there is a problem that the mask frame is held in almost the same shape as when the pressure is applied, that is, the shadow mask is held in a distorted shape. .

【0026】したがって、図6(b)に示す加圧点に加
え、長辺架張部材10a,10bの両端部分をも同時に
加圧することにより、長辺架張部材10a,10bの形
状を保ったままでシャドウマスクを溶接するという方法
を試みたが、長辺架張部材10a,10bの両端部分は
固定点15を支持点とするいわゆる片持ち梁構造となっ
ているので、十分な張力を得ることができず、シャドウ
マスクが容易に振動してしまうという問題があった。
Therefore, in addition to the pressurizing points shown in FIG. 6B, both ends of the long-side stretch members 10a and 10b are simultaneously pressed to maintain the shape of the long-side stretch members 10a and 10b. The method of welding the shadow mask was tried up to, but since both ends of the long-side stretch members 10a, 10b have a so-called cantilever structure with the fixed points 15 as supporting points, sufficient tension can be obtained. However, there is a problem that the shadow mask easily vibrates.

【0027】また、他の方法として、図5に示すよう
に、長辺架張部材10a,10bの両端を短辺部材10
c,10dである支持アームに固定するという矩形フレ
ームを用いて、電子銃からの電子ビームの水平走査方向
に対して直交する方向にシャドウマスクを架張する方法
が考えられるが、この場合、両サイドの張力は向上する
が、中央部での張力が減少してしまうという問題があっ
た。
As another method, as shown in FIG. 5, both ends of the long-side stretch members 10a and 10b are connected to the short-side member 10.
It is conceivable to use a rectangular frame that is fixed to a supporting arm that is a c or 10d to stretch the shadow mask in a direction orthogonal to the horizontal scanning direction of the electron beam from the electron gun. Although the tension on the side is improved, there is a problem that the tension at the center is reduced.

【0028】本発明の目的は、スロット型シャドウマス
ク全面に所望の張力を均一に印加することが可能であ
り、かつ軽量なシャドウマスク保持構体を提供すること
である。
It is an object of the present invention to provide a lightweight shadow mask holding structure capable of uniformly applying a desired tension to the entire surface of a slot type shadow mask.

【0029】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0031】(1)四辺形のシャドウマスクの長辺をそ
れぞれ架張して当該シャドウマスクを所定の位置に保持
するシャドウマスク保持構体であって、短辺と長辺とを
有する四辺形の枠部材と、前記シャドウマスクの長辺を
それぞれ架張する長辺架張部材と、前記長辺架張部材と
前記四辺形の枠部材の長辺とを接続する接続部材とから
構成される。
(1) A shadow mask holding structure for extending the long sides of a quadrilateral shadow mask to hold the shadow mask in a predetermined position, the frame being a quadrilateral frame having short sides and long sides. A member, a long side stretching member that stretches the long side of the shadow mask, and a connecting member that connects the long side stretching member and the long side of the quadrilateral frame member.

【0032】(2)前記接続部材は、前記四辺形の枠部
材の長辺の各々に少なくとも3つ備えられている。
(2) At least three connecting members are provided on each of the long sides of the quadrilateral frame member.

【0033】前述した(1)および(2)の手段によれ
ば、たとえば、シャドウマスクにスロット型シャドウマ
スクを用い、このシャドウマスクを薄型化することによ
り、シャドウマスクを架張保持するための張力を小さく
でき、シャドウマスク保持構体の剛性を小さくできるの
で、シャドウマスク保持構体の厚さを薄くでき、軽量化
ができる。。
According to the above-mentioned means (1) and (2), for example, a slot type shadow mask is used as the shadow mask, and the shadow mask is thinned to provide tension for holding the shadow mask in tension. Since the shadow mask holding structure can be made smaller and the rigidity of the shadow mask holding structure can be made smaller, the thickness of the shadow mask holding structure can be made thinner and the weight can be reduced. .

【0034】このとき、このシャドウマスクにはブリッ
ジがあるので、近接するグリルが絡み合うことはない。
At this time, since the shadow mask has a bridge, adjacent grills are not entangled with each other.

【0035】さらには、シャドウマスクを架張する長辺
架張部材と四辺形の枠部材の長辺とを接続する接続部材
が3個所以上の多点で接続しているので、シャドウマス
クに偏りのない張力を印加できる。
Furthermore, since the connecting member connecting the long side stretch member for stretching the shadow mask and the long side of the quadrilateral frame member is connected at three or more points, the shadow mask is biased. Can be applied without tension.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下、本発明について、発明の実
施の形態(実施例)とともに図面を参照して詳細に説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings together with embodiments (examples) of the invention.

【0037】なお、発明の実施の形態を説明するための
全図において、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。
In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, those having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0038】図1は本発明のシャドウマスク保持構体の
概略構成を示す図であり、12aは長辺架張部材、12
bは四辺形の枠部材、12cは接続部材、13はスロッ
ト型シャドウマスク、14は固定用ボルト、20は電子
通過孔(スロット)、21はグリル部、22はブリッジ
部、X,Y,ZはそれぞれX軸,Y軸,Z軸を示す。
FIG. 1 is a view showing a schematic structure of a shadow mask holding structure of the present invention, in which 12a is a long side stretch member and 12 is a long side stretch member.
b is a quadrilateral frame member, 12c is a connecting member, 13 is a slot type shadow mask, 14 is a fixing bolt, 20 is an electron passage hole (slot), 21 is a grill part, 22 is a bridge part, and X, Y, Z Indicates the X axis, Y axis, and Z axis, respectively.

【0039】また、図7は図1に示す本発明のシャドウ
マスク保持構体の概略構成を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a schematic structure of the shadow mask holding structure of the present invention shown in FIG.

【0040】また、図1において、図1(a)はシャド
ウマスク保持構体の正面図、図1(b)はシャドウマス
ク保持構体をY軸方向から見た場合の側面図、図1
(c)はシャドウマスク保持構体をX軸方向から見た場
合の側面図、図1(d)はマスクフレームの組立図を示
す。
Further, in FIG. 1, FIG. 1A is a front view of the shadow mask holding structure, and FIG. 1B is a side view of the shadow mask holding structure seen from the Y-axis direction.
1C is a side view when the shadow mask holding structure is viewed from the X-axis direction, and FIG. 1D is an assembly view of the mask frame.

【0041】図1において、長辺架張部材12aはL断
面を有するステンレス鋼であり、曲率半径は800mm
である。
In FIG. 1, the long-side stretch member 12a is made of stainless steel having an L cross section and has a radius of curvature of 800 mm.
It is.

【0042】四辺形の枠部材12bは8mm角のステン
レス鋼でできており、本実施の形態のシャドウマスク保
持構体では、ベッセル点および四辺形の枠部材12bの
両端部分の合計4個所で長辺架張部材12aを接続する
ためのネジ穴が設けられている。
The quadrilateral frame member 12b is made of 8 mm square stainless steel, and in the shadow mask holding structure of the present embodiment, there are four long sides in total at the Bessel point and both ends of the quadrilateral frame member 12b. A screw hole is provided for connecting the stretch member 12a.

【0043】接続部材12cは長辺架張部材12aと四
辺形の枠部材12bとを接続するための部材であり、両
端に固定用ボルト14が形成されている。
The connecting member 12c is a member for connecting the long-side stretch member 12a and the quadrilateral frame member 12b, and the fixing bolts 14 are formed at both ends.

【0044】シャドウマスク13は周知のスロット型シ
ャドウマスクであり、0.025mmの厚さの軟鋼から
製作されていると共に、マスク有効部の大きさは280
mm×380mmである。また、マスク有効部はブリッ
ジ部22を持つスロット20である。
The shadow mask 13 is a well-known slot type shadow mask, which is made of mild steel with a thickness of 0.025 mm and the effective mask size is 280.
mm × 380 mm. The mask effective portion is the slot 20 having the bridge portion 22.

【0045】スロット20は、グリル部21とブリッジ
部22とを枠とし、電子を蛍光面6の各蛍光体へ導くた
めの孔である。
The slot 20 is a hole for guiding electrons to each phosphor of the phosphor screen 6 with the grill part 21 and the bridge part 22 as a frame.

【0046】グリル部21は、図中のY軸方向すなわち
電子銃から照射される電子ビームの水平走査方向に直線
的に延在し、それらがX軸方向すなわち電子銃から照射
される電子ビームの水平走査方向と垂直となる方向に等
間隔で並設されている。
The grill portion 21 extends linearly in the Y-axis direction in the figure, that is, in the horizontal scanning direction of the electron beam emitted from the electron gun, and they extend in the X-axis direction, that is, in the electron beam emitted from the electron gun. They are arranged at equal intervals in a direction perpendicular to the horizontal scanning direction.

【0047】ブリッジ部22は、図中のY軸方向に等間
隔に並設されていると共に、X軸方向に隣接するブリッ
ジ部22とは交互に配置されている。
The bridge portions 22 are arranged in parallel in the Y-axis direction in the figure at equal intervals, and are alternately arranged with the bridge portions 22 adjacent in the X-axis direction.

【0048】また、スロット20の横ピッチ、すなわ
ち、電子銃からの電子ビームの水平走査方向と平行とな
る方向のピッチは0.25mm、縦ピッチすなわち電子
銃からの電子ビームの水平走査方向と垂直となる方向の
ピッチは1.0mmである。
The horizontal pitch of the slots 20, that is, the pitch parallel to the horizontal scanning direction of the electron beam from the electron gun is 0.25 mm, and the vertical pitch is vertical to the horizontal scanning direction of the electron beam from the electron gun. The pitch in the direction of is 1.0 mm.

【0049】なお、ブリッジ部22の幅は0.050m
mである。
The width of the bridge portion 22 is 0.050 m.
m.

【0050】また、中央部の円内に示す4角形のマス
は、スロット型シャドウマスク13の一部を拡大したも
のである。
The square mass shown in the center circle is an enlargement of part of the slot shadow mask 13.

【0051】図2は本発明の実施の形態のマスクフレー
ムにスロット型シャドウマスクを架張する際の手順を説
明するための図であり、特に、図2(a)は加圧点を説
明するための図、図2(b)はシャドウマスクを架張後
のシャドウマスク保持構体を説明するための図、図2
(c)はY軸方向からシャドウマスク保持構体を見た場
合の図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a procedure for stretching the slot type shadow mask on the mask frame according to the embodiment of the present invention, and in particular, FIG. 2 (a) illustrates a pressurizing point. 2B is a view for explaining the shadow mask holding structure after the shadow mask is stretched, FIG.
(C) is a view of the shadow mask holding structure seen from the Y-axis direction.

【0052】図3は本実施の形態のシャドウマスク保持
構体を用いたカラー陰極線管の概略構成を示す断面図で
あり、1はネック部、2はファンネル、3はパネル、4
は陰極線管(バルブ、管体)、5はフェースプレート
部、6は蛍光面、7はシャドウマスク保持構体、8は電
子銃、9は電子ビームの軌跡、12はマスクフレーム、
13はシャドウマスクを示す。
FIG. 3 is a sectional view showing a schematic structure of a color cathode ray tube using the shadow mask holding structure of the present embodiment, where 1 is a neck portion, 2 is a funnel, 3 is a panel, and 4 is a panel.
Is a cathode ray tube (bulb or tube), 5 is a face plate portion, 6 is a fluorescent screen, 7 is a shadow mask holding structure, 8 is an electron gun, 9 is an electron beam trajectory, 12 is a mask frame,
Reference numeral 13 indicates a shadow mask.

【0053】図3において、ネック部1は蛍光面6と対
向する位置に配置され、ファンネル2はネック部1から
パネル3に至る部分であり、図示しない偏向ヨークによ
り、電子銃8から照射される電子ビームを蛍光面6の各
画素に順次照射していくための走査(偏向)を行うため
の空間である。
In FIG. 3, the neck portion 1 is arranged at a position facing the phosphor screen 6, and the funnel 2 is a portion extending from the neck portion 1 to the panel 3 and is irradiated from the electron gun 8 by a deflection yoke (not shown). This is a space for performing scanning (deflection) for sequentially irradiating each pixel of the phosphor screen 6 with the electron beam.

【0054】パネル3は陰極線管4の正面部分であり、
パネル3のフェースプレート部5の内面に蛍光面6が形
成されている。
The panel 3 is a front portion of the cathode ray tube 4,
A phosphor screen 6 is formed on the inner surface of the face plate portion 5 of the panel 3.

【0055】フェースプレート部5は陰極線管4の表示
部分であり、蛍光面6は電子銃から照射される電子ビー
ムによって所定の波長の光を発光する物体が塗布されて
いる面である。
The face plate portion 5 is a display portion of the cathode ray tube 4, and the fluorescent surface 6 is a surface coated with an object that emits light of a predetermined wavelength by the electron beam emitted from the electron gun.

【0056】電子銃8は赤色(R)、緑色(G)、青色
(B)の3本の電子ビームを照射する周知の電子銃であ
り、電子ビームの軌跡9は電子銃8から照射された電子
ビームが図示しない偏向ヨークにより、X軸方向(電子
ビームの水平走査と平行となる方向)へ導かれる時の軌
跡である。
The electron gun 8 is a well-known electron gun that emits three electron beams of red (R), green (G), and blue (B), and the trajectory 9 of the electron beam is emitted from the electron gun 8. It is a locus when the electron beam is guided in the X-axis direction (direction parallel to the horizontal scanning of the electron beam) by a deflection yoke (not shown).

【0057】次に、図1および図7に基づいて、本発明
の実施の形態のシャドウマスク保持構体を説明すると、
図1(b)に示すように、マスクフレーム12の台座と
なる四辺形の枠部材12bの内、X軸と平行すなわち電
子銃からの電子ビームの水平走査方向と平行となる部材
と長辺架張部材12aとは、接続部材12cによって枠
部材12bに固定される。
Next, the shadow mask holding structure according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 7.
As shown in FIG. 1B, of the quadrilateral frame member 12b serving as the pedestal of the mask frame 12, a member parallel to the X axis, that is, a member parallel to the horizontal scanning direction of the electron beam from the electron gun and a long side frame The tension member 12a is fixed to the frame member 12b by a connecting member 12c.

【0058】このときの固定位置は、たとえば、図1に
示すように長辺架張部材12aの両端と四辺形の枠部材
12bのそれぞれ対応する頂点の部分であると共に、ベ
ッセル点に相当する2個所の合計4個所ずつであり、こ
の4個所に設置される接続部材12cでシャドウマスク
13の張力を保持している。
The fixed positions at this time are, for example, as shown in FIG. 1, the apexes corresponding to both ends of the long-side stretch member 12a and the quadrilateral frame member 12b, and 2 corresponding to the Bessel point. There are a total of four points, and the tension of the shadow mask 13 is held by the connecting members 12c installed at these four points.

【0059】そして、図1(d)に示すように、本実施
の形態のマスクフレームは四辺形の枠部材12bの長辺
となる側、および、長辺架張部材12aに設けたネジ穴
部分に接続部材12cの固定用ボルト14を装着し、長
辺架張部材12aと接続部材12cおよび四辺形の枠部
材12bと接続部材12cをそれぞれ固着することによ
り、長辺架張部材12aと四辺形の枠部材12bとを接
続部材12cを介して固定する。
As shown in FIG. 1D, the mask frame according to the present embodiment has a long side of the quadrilateral frame member 12b and a screw hole portion provided in the long side tension member 12a. The fixing bolts 14 of the connecting member 12c are attached to the long side stretching member 12a and the connecting member 12c, and the quadrangular frame member 12b and the connecting member 12c are fixed to the long side stretching member 12a and the quadrilateral, respectively. The frame member 12b is fixed via the connecting member 12c.

【0060】さらに、シャドウマスク13は、四辺形の
枠部材12bの両側に取り付けられた長辺架張部材12
aで張設されて配置されている。
Further, the shadow mask 13 has long-side stretch members 12 attached to both sides of the quadrilateral frame member 12b.
It is stretched and arranged by a.

【0061】このとき、シャドウマスク13は、たとえ
ば、図2(a)に示すように接続部材12cを取り付け
た部分を四辺形の枠部材12bの内側方向に加圧し、こ
の状態で、シャドウマスク13を長辺架張部材12aに
溶接し、その溶接後において加圧を解除する。
At this time, in the shadow mask 13, for example, as shown in FIG. 2A, the portion where the connecting member 12c is attached is pressed inward of the quadrilateral frame member 12b, and in this state, the shadow mask 13 is pressed. Is welded to the long-side stretch member 12a, and the pressure is released after the welding.

【0062】加圧の解除後は、図2(b)に示すよう
に、点線で示す長辺架張部材12aがもとの位置に戻ろ
うとする力が働くので、この力がシャドウマスク13を
Y軸方向に引く張力として印加される。
After the pressure is released, as shown in FIG. 2 (b), a force acting on the long-side stretch member 12a indicated by the dotted line to return to the original position works, and this force acts on the shadow mask 13. It is applied as a tension pulled in the Y-axis direction.

【0063】このとき、本実施の形態のシャドウマスク
保持構体では、接続部材12cを長辺架張部材12aの
両端、および、ベッセル点の合計4個所に設置している
ので、シャドウマスク13には、均一な張力が印加され
ると共に、十分な張力となる。
At this time, in the shadow mask holding structure of the present embodiment, the connecting members 12c are installed at both ends of the long-side stretch member 12a and at a total of four Bessel points. , Uniform tension is applied and sufficient tension is obtained.

【0064】前述するシャドウマスク保持構体を用いた
陰極線管を示したのが図3であり、図示しない赤色
(R),緑色(G),青色(B)用の各電子銃を一体に
構成した電子銃8から、それぞれの色を発色させるため
の電子ビームを照射する。
FIG. 3 shows a cathode ray tube using the above-described shadow mask holding structure. Red (R), green (G), and blue (B) electron guns (not shown) are integrally formed. The electron gun 8 emits an electron beam for developing each color.

【0065】また、電子銃8に対向して蛍光面6が配置
されており、この蛍光面6はマトリックス状に配置され
た各画素の領域を備えたものとなっている。
Further, a fluorescent screen 6 is arranged so as to face the electron gun 8, and the fluorescent screen 6 is provided with regions of pixels arranged in a matrix.

【0066】前述する電子銃8および蛍光面6はそれぞ
れガラスから構成される外囲器であるネック部1、ファ
ンネル2およびパネル3によって内包され、特に、蛍光
面6はパネル3の内壁面に被着されたものとなってい
る。
The electron gun 8 and the fluorescent screen 6 described above are enclosed by the neck portion 1, the funnel 2 and the panel 3 which are envelopes made of glass, and in particular, the fluorescent screen 6 is covered on the inner wall surface of the panel 3. It has been worn.

【0067】ここで、パネル3は、陰極線管の表示部と
なるものであり、観察者はこのパネル3を通して蛍光面
6の発色を確認できるようになっている。
Here, the panel 3 serves as a display portion of the cathode ray tube, and an observer can confirm the color development of the phosphor screen 6 through the panel 3.

【0068】ネック部1とファンネル2との間には図示
しない偏向ヨークが配置されており、前述するように、
この偏向ヨークによって、電子銃8からの各電子ビーム
を蛍光面6上の各画素に順次照射していくための走査
(偏向)を行うようになっている。
A deflection yoke (not shown) is arranged between the neck portion 1 and the funnel 2, and as described above,
The deflection yoke is configured to perform scanning (deflection) for sequentially irradiating each pixel on the fluorescent screen 6 with each electron beam from the electron gun 8.

【0069】さらには、外囲器内のパネル3側の部分に
は、電子銃8を構成する各電子銃からのそれぞれの走査
された電子ビームの対応する各蛍光体へ導くために、実
施の形態のシャドウマスク保持構体7が前記蛍光面6と
対向して配置されている。
Further, in the portion on the panel 3 side in the envelope, in order to guide each scanned electron beam from each electron gun constituting the electron gun 8 to each corresponding phosphor, The shaped shadow mask holding structure 7 is arranged so as to face the phosphor screen 6.

【0070】このとき、このシャドウマスク保持構体7
は、前述するように、四辺形の枠部材12bが接続部材
12cを介して2個の長辺架張部材12aに互いに離間
する方向の力を作用されているので、シャドウマスク1
3には電子ビームの水平走査方向と直交する方向、すな
わち、紙面に垂直となる方向に均等で十分な張力が印加
されている。
At this time, the shadow mask holding structure 7
As described above, since the quadrilateral frame member 12b is acted on the two long-side stretch members 12a via the connecting member 12c in the direction of separating from each other, the shadow mask 1
A uniform and sufficient tension is applied to 3 in the direction orthogonal to the horizontal scanning direction of the electron beam, that is, in the direction perpendicular to the paper surface.

【0071】したがって、シャドウマスク13の振動を
防止できる。
Therefore, the vibration of the shadow mask 13 can be prevented.

【0072】以上説明したように、本実施の形態のシャ
ドウマスク保持構体によれば、シャドウマスク13が溶
接される長辺架張部材12aに、この長辺架張部材12
aの両端と他の任意の点としてベッセル点との合計4個
所に配置した接続部材12cを介して四辺形の枠部材1
2bの長辺を固着することにより、2個の長辺架張部材
12aを互いに離間する方向に力が作用するので、長辺
架張部材12aに溶接したシャドウマスク13には電子
ビームの水平走査方向と直交する方向、すなわち、紙面
に垂直となる方向に均等で十分な張力が印加される。
As described above, according to the shadow mask holding structure of the present embodiment, the long side stretch member 12a to which the shadow mask 13 is welded is attached to the long side stretch member 12a.
The quadrilateral frame member 1 via the connecting members 12c arranged at a total of four positions of both ends of a and Bessel points as other arbitrary points.
By fixing the long side of 2b, a force acts in the direction of separating the two long side stretching members 12a from each other, so that the shadow mask 13 welded to the long side stretching member 12a is horizontally scanned with the electron beam. A uniform and sufficient tension is applied in the direction orthogonal to the direction, that is, in the direction perpendicular to the paper surface.

【0073】したがって、シャドウマスク13の振動を
防止できる。
Therefore, the vibration of the shadow mask 13 can be prevented.

【0074】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本
発明は、前記発明の実施の形態に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能で
あることは勿論である。
As described above, the invention made by the present inventor is:
Although specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the embodiments of the present invention, and it is needless to say that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. .

【0075】[0075]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0076】スロット型シャドウマスク全面に所望の張
力を均一に印加することが可能であると共に、その重量
を軽量にできる。
A desired tension can be uniformly applied to the entire surface of the slot type shadow mask, and the weight can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態のシャドウマスク保持構
体の概略構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a shadow mask holding structure according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態のマスクフレームにスロッ
ト型シャドウマスクを架張する際の手順を説明するため
の図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a procedure when the slot type shadow mask is stretched over the mask frame according to the embodiment of the present invention.

【図3】本実施の形態のシャドウマスク保持構体を用い
たカラー陰極線管の概略構成を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a schematic configuration of a color cathode ray tube using the shadow mask holding structure according to the present embodiment.

【図4】従来のシャドウマスク保持構体の概略構成を示
す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a schematic configuration of a conventional shadow mask holding structure.

【図5】長辺の両端を短辺の支持アームに固定した矩形
フレームのシャドウマスク保持構体の斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view of a rectangular frame shadow mask holding structure in which both ends of long sides are fixed to support arms of short sides.

【図6】従来のマスクフレームにスロット型シャドウマ
スクを架張する手順を説明するための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a procedure for stretching a slot-type shadow mask on a conventional mask frame.

【図7】図1に示す本発明のシャドウマスク保持構体の
概略構成を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a schematic configuration of the shadow mask holding structure of the present invention shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ネック部、2…ファンネル、3…パネル、4…陰極
線管、5…フェースプレート部、6…蛍光面、7…シャ
ドウマスク保持構体、8…電子銃、9…電子ビームの軌
跡、11…シャドウマスク、12…マスクフレーム、1
2a…長辺架張部材、12b…四辺形の枠部材、12c
…接続部材、13…スロット型シャドウマスク、14…
固定用ボルト、20…電子通過孔(スロット)、21…
グリル部、22…ブリッジ部。
1 ... Neck part, 2 ... Funnel, 3 ... Panel, 4 ... Cathode ray tube, 5 ... Face plate part, 6 ... Phosphor screen, 7 ... Shadow mask holding structure, 8 ... Electron gun, 9 ... Electron beam trajectory, 11 ... Shadow mask, 12 ... Mask frame, 1
2a ... Long-side stretch member, 12b ... Quadrilateral frame member, 12c
... Connecting member, 13 ... Slot type shadow mask, 14 ...
Fixing bolt, 20 ... Electron passage hole (slot), 21 ...
Grill part, 22 ... Bridge part.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田辺 英夫 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 中村 考雄 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Hideo Tanabe, 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Electronic device division, Hitachi, Ltd. (72) Inventor, Akio Nakamura 3300, Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi, Ltd. Electronic device Within the business unit

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 四辺形のシャドウマスクの長辺をそれぞ
れ架張して当該シャドウマスクを所定の位置に保持する
シャドウマスク保持構体であって、 短辺と長辺とを有する四辺形の枠部材と、前記シャドウ
マスクの長辺をそれぞれ架張する長辺架張部材と、前記
長辺架張部材と前記四辺形の枠部材の長辺とを接続する
接続部材とから構成されることを特徴とするシャドウマ
スク保持構体。
1. A shadow mask holding structure for extending long sides of a quadrilateral shadow mask to hold the shadow mask in a predetermined position, the quadrilateral frame member having short sides and long sides. And a long-side stretch member that stretches the long sides of the shadow mask, and a connecting member that connects the long-side stretch member and the long sides of the quadrangular frame member. And a shadow mask holding structure.
【請求項2】 前記接続部材は、前記四辺形の枠部材の
長辺の各々に少なくとも3つ備えられていることを特徴
とする請求項1に記載のシャドウマスク保持構体。
2. The shadow mask holding structure according to claim 1, wherein at least three connecting members are provided on each of the long sides of the quadrilateral frame member.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100421908B1 (en) * 2001-08-08 2004-03-12 엘지.필립스디스플레이(주) Method for establishing compression point in mask frame assembly of CRT

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