JPH09222500A - Electron beam irradiation device - Google Patents

Electron beam irradiation device

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JPH09222500A
JPH09222500A JP5369096A JP5369096A JPH09222500A JP H09222500 A JPH09222500 A JP H09222500A JP 5369096 A JP5369096 A JP 5369096A JP 5369096 A JP5369096 A JP 5369096A JP H09222500 A JPH09222500 A JP H09222500A
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JP
Japan
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electron beam
ozone
irradiation
nitrogen
nitrogen oxide
Prior art date
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Application number
JP5369096A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinobu Kinoshita
忍 木下
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Iwasaki Denki KK
Original Assignee
Iwasaki Denki KK
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To attain running cost reduction and life extension of device by providing a processing means for decomposing ozone generated during irradiation of electron beam in an atmosphere containing oxygen. SOLUTION: When electron beam is irradiated to an irradiation space 22 in an irradiation chamber, ozone and nitrogen oxide are produced. If moisture exists in the space, the nitrogen oxide is solved in water to be nitric acid. The gas in that state is sucked into an exhaust port 41 and introduced in a device 42 absorbing and processing nitrogen oxide and nitric acid. In the absorbing device 42, water as absorbing liquid 45 is filled to absorb nitrogen oxide and nitric acid. As ozone is simultaneously produced in the case of electron beam irradiation and nitrogen monoxide is oxidized to be nitrogen dioxide, and so the nitrogen oxide in the exhaust gas is absorbed in the absorption liquid 45. The exhaust gas after passing the absorption device 42 is introduced in an ozone decomposition device 43 and ozone is decomposed. It is exhausted through a fan 44 or a pump for exhausting.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子線の照射によ
り照射室内に発生するオゾンの分解処理装置を備えた電
子線照射装置に関し、特にオゾン分解処理装置の寿命特
性の改善に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam irradiation apparatus equipped with an apparatus for decomposing ozone generated in an irradiation chamber by irradiation with an electron beam, and more particularly to improving the life characteristics of the ozone decomposition apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】比較的加速電圧が低い電子線照射による
応用例として、高分子のラジカル反応を利用したものが
多く、例えば重合反応により樹脂を硬化させたり、架橋
反応により架橋させたりするものがある。このラジカル
反応において、照射雰囲気中に酸素が存在する場合、酸
素が活性化されて高分子中のラジカルとこの酸素が結合
し、高分子中のラジカル反応が阻害されるという問題が
ある。そこで、照射雰囲気中に不活性ガス、例えば価格
の安い高純度の窒素ガスを供給して、酸素濃度を低減さ
せることが行われている。そして、排気ガス中にオゾン
が生成することがないので、その分解処理を考慮する必
要はなかった。
2. Description of the Related Art As an application example of electron beam irradiation having a relatively low accelerating voltage, there are many applications utilizing a radical reaction of a polymer, for example, a method of curing a resin by a polymerization reaction or crosslinking by a crosslinking reaction. is there. In this radical reaction, when oxygen is present in the irradiation atmosphere, there is a problem in that oxygen is activated and the radicals in the polymer are bound to the oxygen, thereby inhibiting the radical reaction in the polymer. Therefore, an oxygen concentration is reduced by supplying an inert gas, for example, a high-purity nitrogen gas at a low price, to the irradiation atmosphere. Since ozone is not generated in the exhaust gas, it is not necessary to consider the decomposition process.

【0003】近年、装置のランニングコストを低減する
ために、酸素を含んだ雰囲気中で電子線照射しても反応
が進むカチオン重合タイプの樹脂の研究がされている。
又、ラミネーションや殺菌・滅菌処理の場合は、酸素を
含んだ雰囲気中の照射では何ら問題とならないためこの
雰囲気中の処理が行なえるが、反面オゾンが発生するこ
とから低純度でコストが安い窒素ガスを供給したり、こ
の雰囲気中で照射して発生するオゾンを分解処理して排
気するようにしている。
In recent years, in order to reduce the running cost of the apparatus, studies have been conducted on a cationic polymerization type resin in which the reaction proceeds even when electron beam irradiation is performed in an atmosphere containing oxygen.
In addition, in the case of lamination and sterilization / sterilization, irradiation in an atmosphere containing oxygen does not cause any problems, so treatment in this atmosphere can be performed, but on the other hand, ozone is generated, so nitrogen is low in purity and low in cost. Gas is supplied or ozone generated by irradiation in this atmosphere is decomposed and exhausted.

【0004】酸素を含んだ雰囲気中における電子線照射
により生じる反応につては、特開平7ー20295号公
報に詳細に記載されているが、オゾン及び窒素酸化物が
生成することが知られている。又、一般にオゾン処理に
ついては活性炭や金属系の触媒が利用されている。そし
て、従来装置では排気ガスはオゾンと窒素酸化物及び大
気中の水分を含んだ状態でオゾン分解処理装置に導入さ
れている。
The reaction caused by electron beam irradiation in an atmosphere containing oxygen is described in detail in JP-A-7-20295, but it is known that ozone and nitrogen oxides are generated. . In addition, activated carbon or a metal catalyst is generally used for ozone treatment. Then, in the conventional device, the exhaust gas is introduced into the ozone decomposition treatment device in a state of containing ozone, nitrogen oxides and moisture in the atmosphere.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記オ
ゾン処理に用いる活性炭は分解処理能力の寿命が短く、
しかも固体である活性炭が粉化して粉塵を生じるという
問題がある。又、金属系の触媒を利用すれば寿命は半永
久であるが、触媒表面に他の物質等が被着してしまうと
その分解能力が消失してしまう。そして、電子線を照射
した場合オゾンと同時に窒素酸化物が生成され、かつ窒
素酸化物は水分があると、水に溶解して硝酸となる。こ
の硝酸は反応性が高く、金属系の触媒と反応して触媒の
表面は硝化物に変化してしまう。その結果としてオゾン
の分解処理能力は低下してしまうという問題がある。更
に、オゾンや窒素酸化物はオキシダントの中に含まれて
おり、大気汚染を引き起こす汚染物質の一つであるた
め、それらの物質は分解処理して排気することが望まし
い。
However, the activated carbon used for the ozone treatment has a short decomposition treatment capacity,
Moreover, there is a problem that the activated carbon that is solid is pulverized to generate dust. Further, if a metal-based catalyst is used, the life is semi-permanent, but if other substances adhere to the surface of the catalyst, its decomposition ability will be lost. Then, when the electron beam is irradiated, nitrogen oxides are produced at the same time as ozone, and the nitrogen oxides dissolve in water to form nitric acid if there is water. This nitric acid has high reactivity, and reacts with a metal-based catalyst to change the surface of the catalyst to nitrification. As a result, there is a problem that the decomposition processing capability of ozone decreases. Furthermore, since ozone and nitrogen oxides are contained in the oxidant and are one of pollutants that cause air pollution, it is desirable to decompose and exhaust those substances.

【0006】本発明は前記に鑑みてなされたものであ
り、電子線を酸素を含んだ雰囲気中で照射する際に発生
するオゾンを分解するオゾン分解処理装置を具備するこ
とにより、装置のランニングコストの低減、装置の長寿
命化が可能で、環境汚染等の恐れがない電子線照射装置
を提供することを目的とする。又、オゾンを精度よく分
解処理すると共に窒素酸化物や硝酸等の処理も行ない、
大気汚染が生じない電子線照射装置を提供することを目
的とする。
[0006] The present invention has been made in view of the above, and by providing an ozone decomposing apparatus for decomposing ozone generated when an electron beam is irradiated in an atmosphere containing oxygen, the running cost of the apparatus is reduced. It is an object of the present invention to provide an electron beam irradiating device which is capable of reducing the number of times, prolonging the life of the device, and having no fear of environmental pollution. In addition, it decomposes ozone with high precision and also treats nitrogen oxides and nitric acid.
An object is to provide an electron beam irradiation device that does not cause air pollution.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物に
電子線を照射し、前記雰囲気中の水分量を低減させるた
めの乾燥装置を通したガスを照射室に供給してなり、か
つ照射室内で生成した排気ガス中のオゾンを分解処理す
る装置を具備してなる。又、前記雰囲気中の水分量を5
g/m3 以下とし、前記オゾン分解処理装置は金属系の
触媒で構成される。更に、酸素と窒素を含んだ雰囲気中
で被照射物に電子線を照射し、照射室内で生成した排気
ガス中の窒素酸化物あるいは硝酸を除去する装置と、そ
の後段にオゾン分解処理装置を具備してなる。
In order to achieve the above object, the present invention irradiates an object to be irradiated with an electron beam in an atmosphere containing oxygen and nitrogen, and performs drying for reducing the amount of water in the atmosphere. The gas passing through the apparatus is supplied to the irradiation chamber, and a device for decomposing ozone in the exhaust gas generated in the irradiation chamber is provided. Also, the amount of water in the atmosphere should be 5
g / m 3 or less, and the ozone decomposition treatment apparatus is composed of a metal catalyst. Further, the irradiation target is irradiated with an electron beam in an atmosphere containing oxygen and nitrogen to remove nitrogen oxides or nitric acid in the exhaust gas generated in the irradiation chamber, and an ozone decomposition treatment device is provided in the subsequent stage. I will do it.

【0008】[0008]

【作用】前記構成により、電子線を酸素を含んだ雰囲気
中で照射する際、及びその後の排気において水分が少な
い状態に維持できるので、窒素酸化物が硝酸に変化する
ことがなく、排気ガス中のオゾンを分解処理する触媒の
表面を侵すことことがないので、触媒のオゾン分解能力
を永く維持することができる。又、オゾン分解用触媒の
表面と反応する硝酸が分解触媒に導入される前に吸収処
理されてしまうので、排気ガスのオゾンを分解処理する
触媒の表面を侵すことことがないので、触媒のオゾン分
解能力を永く維持することができる。更に、オキシダン
トの一物質である窒素酸化物は処理された状態で排気さ
れる。
With the above structure, when the electron beam is irradiated in the atmosphere containing oxygen and the exhaust gas thereafter can maintain a low water content, the nitrogen oxides do not change to nitric acid, and the exhaust gas Since it does not attack the surface of the catalyst that decomposes ozone, the ozone decomposing ability of the catalyst can be maintained for a long time. Further, since nitric acid that reacts with the surface of the ozone decomposing catalyst is absorbed before being introduced into the decomposing catalyst, it does not attack the surface of the catalyst decomposing the exhaust gas ozone. Decomposition ability can be maintained for a long time. Further, nitrogen oxide, which is one substance of the oxidant, is exhausted in a treated state.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照して説明する。図1は本発明の一実施例である電子線
照射装置の概略構成図である。本実施例の電子線照射装
置は化学重合や殺菌・滅菌処理に利用されるものであ
り、電子線発生部10と、照射室20と、照射窓部30
とを備えるものである。電子線発生部10は、電子線を
発生するターミナル12とターミナル12で発生した電
子線を真空空間(加速空間)で加速する加速管14とを
有するものである。また、電子線発生部10の内部は、
電子が気体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐ
こととフィラメント12aの酸化を防ぐため、図示しな
いポンプ等により1.3×10-4〜1.3×10-5Paの
真空に保たれている。ターミナル12は、熱電子を放出
する線状のフィラメント12aと、フィラメント12a
を支持するガン構造体12bと、フィラメント12aで
発生した熱電子をコントロールするグリッド12cとを
有する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an electron beam irradiation apparatus which is an embodiment of the present invention. The electron beam irradiation apparatus of this embodiment is used for chemical polymerization, sterilization / sterilization treatment, and the electron beam generation unit 10, irradiation chamber 20, and irradiation window unit 30.
Is provided. The electron beam generator 10 includes a terminal 12 that generates an electron beam and an accelerating tube 14 that accelerates the electron beam generated at the terminal 12 in a vacuum space (acceleration space). Further, the inside of the electron beam generator 10 is
In order to prevent electrons from colliding with gas molecules to lose energy and to prevent oxidation of the filament 12a, a vacuum of 1.3 × 10 −4 to 1.3 × 10 −5 Pa is maintained by a pump or the like not shown. ing. The terminal 12 has a linear filament 12a that emits thermoelectrons and a filament 12a.
A gun structure 12b for supporting the above, and a grid 12c for controlling thermoelectrons generated in the filament 12a.

【0010】また、図2に示すように、電子発生部10
にはフィラメント12aを加熱して熱電子を発生させる
ための加熱用電源16aと、フィラメント12aとグリ
ッド12cとの間に電圧を印加する制御用直流電源16
bと、グリッド12cと照射窓部30に設けられた窓箔
32との間に電圧を印加する加速用直流電源16cとが
設けられている。照射室20は、被処理物に電子線を照
射する照射空間22を含むものである。本実施例の場合
は、照射室20の内部は酸素を含んだ雰囲気としてい
る。また、被処理物24は照射室20内をコンベア等の
搬送手段(図示せず)により、図1において左側から右
側に移動する。なお、電子線発生部10及び照射室20
の周囲は電子線照射時に二次的に発生するX線が外部へ
漏出しないように、鉛遮蔽が施されている。
Further, as shown in FIG.
A heating power supply 16a for heating the filament 12a to generate thermoelectrons, and a control DC power supply 16 for applying a voltage between the filament 12a and the grid 12c.
b, and a DC power supply 16c for acceleration that applies a voltage between the grid 12c and the window foil 32 provided on the irradiation window section 30. The irradiation chamber 20 includes an irradiation space 22 for irradiating an object with an electron beam. In the case of this embodiment, the interior of the irradiation chamber 20 is set to an atmosphere containing oxygen. Further, the object to be processed 24 is moved in the irradiation chamber 20 from the left side to the right side in FIG. 1 by a conveyor (not shown) such as a conveyor. The electron beam generator 10 and the irradiation chamber 20
The periphery of is covered with lead so that X-rays that are secondarily generated during electron beam irradiation do not leak to the outside.

【0011】照射窓部30は、金属箔からなる窓箔32
と、窓箔32を冷却すると共に窓箔32を支持する窓枠
構造体34とを有するものである。窓箔32は電子線発
生部10内の真空雰囲気と照射室20内の酸素を含んだ
雰囲気とを仕切るものであり、また窓箔32を介して照
射室20内に電子線を取り出すものである。窓箔32に
使用される金属として厚さ約10μm程度のチタンTi
がある。通常は、窓箔32として、機械的な取扱いやす
さから厚さ約13μmのTi箔が最もよく使用されてい
る。
The irradiation window portion 30 has a window foil 32 made of metal foil.
And a window frame structure 34 that supports the window foil 32 while cooling the window foil 32. The window foil 32 separates the vacuum atmosphere in the electron beam generator 10 from the oxygen-containing atmosphere in the irradiation chamber 20, and takes out the electron beam into the irradiation chamber 20 through the window foil 32. . Titanium Ti having a thickness of about 10 μm as a metal used for the window foil 32
There is. Usually, as the window foil 32, a Ti foil having a thickness of about 13 μm is most often used because it is mechanically easy to handle.

【0012】加熱用電源16aによりフィラメント12
aに電流を通じて加熱するとフィラメント12aは熱電
子を放出し、この熱電子はフィラメント12aとグリッ
ド12cとの間に印加された制御用直流電源16bの制
御電圧により四方八方に引き寄せられる。このうち、グ
リッド12cを通過したものだけが電子線として有効に
取り出される。そして、このグリッド12cから取り出
された電子線は、グリッド12cと窓箔32との間に印
加された加速用直流電源16cの加速電圧により加速管
14内の加速空間で加速された後、窓箔32を突き抜
け、照射窓部30の下方の照射室20内を搬送される被
処理物に照射される。なお、通常は加熱用電源16aと
加速用直流電源16cとを所定の値に設定し、制御用直
流電源16bを可変にすることにより、ビーム電流の調
整を行なっている。
The filament 12 is heated by the heating power source 16a.
When a current is applied to a to heat it, the filament 12a emits thermoelectrons, and the thermoelectrons are attracted in all directions by the control voltage of the control DC power supply 16b applied between the filament 12a and the grid 12c. Of these, only those that have passed through the grid 12c are effectively extracted as electron beams. The electron beam extracted from the grid 12c is accelerated in the acceleration space in the accelerating tube 14 by the acceleration voltage of the acceleration DC power supply 16c applied between the grid 12c and the window foil 32, and then the window foil. The object to be processed, which passes through 32 and is conveyed in the irradiation chamber 20 below the irradiation window 30, is irradiated. The beam current is usually adjusted by setting the heating power supply 16a and the acceleration DC power supply 16c to predetermined values and making the control DC power supply 16b variable.

【0013】図3は本発明に係わる電子線照射装置の一
構成例であり、上記電子線照射装置として岩崎電気株式
会社製CB250/15/180Lを使用し、照射室内に
供給する酸素を含んだ雰囲気を乾燥するための装置とし
て、圧縮空気除湿器1を使用する。この除湿器の能力は
大気圧露点が−2℃〜−15℃のもので、乾燥空気の供
給はコンプレッサー4からの空気を5μmのフィルター
3を通し、供給圧力を調節するレギレーター2の後に圧
縮空気除湿器1に通して除湿した状態で行なう。この場
合の供給流量は100l/min.である。
FIG. 3 shows an example of the configuration of the electron beam irradiation apparatus according to the present invention. As the electron beam irradiation apparatus, CB250 / 15 / 180L manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd. is used and contains oxygen to be supplied into the irradiation chamber. The compressed air dehumidifier 1 is used as a device for drying the atmosphere. The dehumidifier has an atmospheric pressure dew point of −2 ° C. to −15 ° C. The dry air is supplied from the compressor 4 through the filter 3 of 5 μm, and the compressed air is supplied after the regulator 2 for adjusting the supply pressure. The dehumidification is performed by passing through the dehumidifier 1. The supply flow rate in this case is 100 l / min. It is.

【0014】次に、実験例について説明する。供給ガス
を乾燥装置としての除湿器1の通過の有無により、オゾ
ン分解触媒の出入口における窒素酸化物の濃度の割合を
確認することとした。オゾン分解触媒はマンガン系のハ
ニカム式のものを使用し、窒素酸化物の濃度は北川式検
知管により測定を行なった。この場合の照射室の温度は
25℃で湿度は68%RHである。この窒素酸化物の濃
度の測定結果を表1に示す。
Next, an experimental example will be described. It was decided to confirm the ratio of the concentration of nitrogen oxides at the inlet and outlet of the ozone decomposition catalyst by checking whether or not the supply gas passed through the dehumidifier 1 as a drying device. The ozone decomposition catalyst used was a manganese-type honeycomb type, and the concentration of nitrogen oxides was measured with a Kitagawa type detector tube. In this case, the temperature of the irradiation chamber is 25 ° C. and the humidity is 68% RH. The measurement results of the concentration of this nitrogen oxide are shown in Table 1.

【0015】[0015]

【表1】 [Table 1]

【0016】又、前記実験例におけるオゾン分解は、分
解触媒が最新のものであったので、オゾンの入口濃度は
50ppmが出口濃度で0.1ppm以下であった。更
に、除湿器の有無により、ライフテストを500時間実
施した後に、それぞれのオゾン分解能力を測定したとこ
ろ、除湿器なしの場合は、オゾンの入口濃度は50pp
mが出口で3ppmとなった。一方、除湿器ありでは初
期特性を維持し、出口濃度で0.1ppm以下であっ
た。
In the ozone decomposition in the above experimental example, since the decomposition catalyst was the latest, the concentration of ozone at the inlet was 50 ppm and the concentration of the outlet was less than 0.1 ppm. Furthermore, after performing a life test for 500 hours with or without a dehumidifier, the ozone decomposing ability of each was measured. When the dehumidifier was not used, the ozone inlet concentration was 50 pp.
m was 3 ppm at the exit. On the other hand, with the dehumidifier, the initial characteristics were maintained and the outlet concentration was 0.1 ppm or less.

【0017】前記実験例の除湿器は大気露点温度が低
く、飽和水分量もほとんど除去されている状態である
が、実際には水分量が低いものがよいが、結露を起こさ
ないことが最低条件であり、通常の照射雰囲気から考え
て0℃以下の飽和水分量で十分である。0℃の水分量は
5g/m3 である。
The dehumidifier of the above experimental example is in a state where the atmospheric dew point temperature is low and the saturated moisture content is almost removed. In practice, the moisture content is preferably low, but the minimum condition is that no dew condensation occurs. Therefore, a saturated moisture content of 0 ° C. or less is sufficient considering the normal irradiation atmosphere. The water content at 0 ° C. is 5 g / m 3 .

【0018】なお、電子線照射装置の構成材料は金属で
構成されている部分、例えば電子線照射窓のクランプ材
等があり、触媒と同様に硝酸と反応し、またオゾンの酸
化力から腐食が促進されることがある。そこで、本発明
を実施することにより、この現象も妨止することができ
る。
The constituent material of the electron beam irradiation device is a part made of metal, such as a clamp material for the electron beam irradiation window, which reacts with nitric acid like a catalyst and is corroded by the oxidizing power of ozone. May be promoted. Therefore, by implementing the present invention, this phenomenon can also be prevented.

【0019】図4は本発明に係わる電子線照射装置の他
の構成例であり、電子線照射装置として岩崎電気株式会
社製のCB250/15/180Lを使用する。電子線を
照射室の照射空間22に照射するとオゾンと窒素酸化物
が生成する。空間内に水分が存在する場合、窒素酸化物
は水に溶けて硝酸になる。そのようなガスの状態で排気
口41に吸引され、窒素酸化物及び硝酸を吸収処理する
装置42に導入される。吸収装置42には吸収液45と
して例えば水が満たされていて、窒素酸化物と硝酸とを
吸収する。窒素酸化物のうち一酸化窒素は水には非常に
わずかしか溶けないが二酸化窒素は良く溶ける。
FIG. 4 shows another configuration example of the electron beam irradiation apparatus according to the present invention, which uses CB250 / 15 / 180L manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd. as the electron beam irradiation apparatus. When the irradiation space 22 of the irradiation chamber is irradiated with an electron beam, ozone and nitrogen oxides are generated. If water is present in the space, nitrogen oxides dissolve in water to nitric acid. In such a gas state, the gas is sucked into the exhaust port 41 and introduced into the device 42 for absorbing nitrogen oxide and nitric acid. The absorbing device 42 is filled with, for example, water as the absorbing liquid 45 and absorbs nitrogen oxide and nitric acid. Of the nitrogen oxides, nitric oxide is very slightly soluble in water, but nitrogen dioxide is well soluble.

【0020】電子線照射の場合、オゾンが同時に生成さ
れているため一酸化窒素は酸化されて二酸化窒素になる
ので、排気ガス中の窒素酸化物は吸収液45に吸収され
る。この吸収効率をあげるために、排気ガスは例えばガ
ラスフィルターで微細な気泡として吸収液45に接触さ
せていることと接触時間を長く取るために縦長の容器に
している。また容器の材質として、排気ガスが酸化力の
強いものであるため、ガラスや塩化ビニルなどが選定さ
れる。排気ガスは吸収装置42の後に、オゾン分解装置
43に導入されオゾンの分解が行われる。そして、排気
用のファン44またはポンプを通り排気される。
In the case of electron beam irradiation, since ozone is generated at the same time, nitric oxide is oxidized into nitrogen dioxide, so that the nitrogen oxide in the exhaust gas is absorbed by the absorbing liquid 45. In order to improve the absorption efficiency, the exhaust gas is made into a vertically long container in order to make the contact with the absorbing liquid 45 as fine bubbles with a glass filter and to keep the contact time long. As the material of the container, glass or vinyl chloride is selected because the exhaust gas has a strong oxidizing power. The exhaust gas is introduced into the ozone decomposing device 43 after the absorbing device 42, and the ozone is decomposed. Then, the gas is exhausted through the exhaust fan 44 or the pump.

【0021】そして、吸収装置42の有無による窒素酸
化物の濃度変化とオゾン分解装置43の寿命等の確認を
行った。この場合の排気流量は100l/min.であ
る。その窒素酸化物の濃度の測定結果は表2のとおりで
ある。 (以下、余白)
Then, changes in the concentration of nitrogen oxides depending on the presence or absence of the absorber 42 and the life of the ozone decomposer 43 were confirmed. The exhaust flow rate in this case is 100 l / min. It is. Table 2 shows the measurement results of the nitrogen oxide concentration. (Hereinafter, margin)

【0022】[0022]

【表2】 [Table 2]

【0023】又、前記実験例におけるオゾンの分解は、
分解触媒が初期であったことから、入口でのオゾン濃度
は50ppmが出口濃度で0.1ppm以下であった。
更に、吸収装置の有無によるライフテストを500時間
実施した後に、それぞれのオゾン分解能力を測定したと
ころ、吸収装置なしの場合、オゾンは入口濃度が50p
pmが出口で3ppmとなった。一方、吸収装置ありで
は初期特性を維持し、出口濃度で0.1ppm以下であ
った。なお、ライフテスト中吸収液45のPHが低下
(酸性)して、酸濃度が高くなるので定期的に交換する
ことが望まれる。今回の場合250時間で1回、吸収液
を交換した。
Further, the decomposition of ozone in the above experimental example is
Since the decomposition catalyst was in the initial stage, the ozone concentration at the inlet was 50 ppm and the concentration at the outlet was 0.1 ppm or less.
Furthermore, after carrying out a life test for 500 hours with and without an absorber, the ozone decomposing ability of each was measured.
pm was 3 ppm at the exit. On the other hand, with the absorber, the initial characteristics were maintained and the outlet concentration was 0.1 ppm or less. It should be noted that during the life test, the PH of the absorbing liquid 45 is lowered (acidic) and the acid concentration is increased, so that it is desirable to replace it periodically. In this case, the absorbing solution was changed once in 250 hours.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係わる電子線照射装置は、水分量の低い乾燥空気を照
射室に供給し、その状態でオゾンを分解する触媒を通す
ことによって、オゾン分解触媒の処理能力の低下を招く
ことがなく、環境汚染の恐れがなく、装置の長寿命化及
びトータルコストの低減ができる等の利点がある。
As is clear from the above description, the electron beam irradiation apparatus according to the present invention supplies dry air having a low water content to the irradiation chamber, and in that state, passes the catalyst for decomposing ozone, There are advantages that the processing capacity of the ozone decomposition catalyst is not deteriorated, there is no fear of environmental pollution, the life of the device is extended, and the total cost is reduced.

【0024】又、酸素と窒素を含んだ雰囲気中で電子線
照射を行う場合に発生する排気ガス中の窒素酸化物や硝
酸を吸収除去する装置の後段にオゾン分解装置を位置さ
せることにより、オゾン分解触媒の処理能力の低下を招
くことがなく寿命が長くなる。更に、排気ガスのオキシ
ダント濃度は非常に低濃度となり大気汚染防止ができる
等の利点がある。
Further, by arranging the ozone decomposing device after the device for absorbing and removing the nitrogen oxides and nitric acid in the exhaust gas generated when the electron beam irradiation is performed in the atmosphere containing oxygen and nitrogen, the ozone is decomposed. The life of the decomposition catalyst is extended without deteriorating the treatment capacity of the decomposition catalyst. Further, the oxidant concentration of the exhaust gas is extremely low, which is advantageous in that air pollution can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例である電子線照射装置の要部
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of an essential part of an electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】同じく、電子線発生部の概略回路図である。FIG. 2 is likewise a schematic circuit diagram of an electron beam generator.

【図3】本発明の実施例に係わる電子線照射装置の一構
成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of an electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図4】同じく、電子線照射装置の他の構成図である。FIG. 4 is also another configuration diagram of the electron beam irradiation apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 除湿器 41 排気口 2 レギレーター 42 吸収装置 3 フィルター 43 オゾン分
解触媒入り装置 4 コンプレッサー 44 排気ファ
ン 5 オゾン分解触媒入り装置 45 吸収液 6 排気ファン 10 電子線発生部 12 ターミナル 12a フィラメント 12b ガン構造体 12c グリッド 14 加速管 20 照射室 22 照射空間 30 照射窓部 32 窓箔 34 窓枠構造体
1 Dehumidifier 41 Exhaust port 2 Regulator 42 Absorber 3 Filter 43 Ozone decomposing catalyst containing device 4 Compressor 44 Exhaust fan 5 Ozone decomposing catalyst containing device 45 Absorbing liquid 6 Exhaust fan 10 Electron beam generating part 12 Terminal 12a Filament 12b Gun structure 12c Grid 14 Accelerator tube 20 Irradiation chamber 22 Irradiation space 30 Irradiation window 32 Window foil 34 Window frame structure

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物
に電子線を照射する電子線照射装置において、前記雰囲
気中の水分量を低減させるための乾燥装置を通したガス
を照射室に供給してなり、かつ照射室内で生成した排気
ガス中のオゾンを分解処理する装置を具備してなる電子
線照射装置。
1. An electron beam irradiation apparatus for irradiating an irradiation object with an electron beam in an atmosphere containing oxygen and nitrogen, wherein a gas passed through a drying device for reducing the amount of water in the atmosphere is supplied to an irradiation chamber. An electron beam irradiation apparatus provided with a device for decomposing ozone in exhaust gas generated in the irradiation chamber.
【請求項2】 前記雰囲気中の水分量を5g/m3 以下
とし、前記オゾン分解処理装置は金属系の触媒で構成さ
れていることを特徴とする請求項1項記載の電子線照射
装置。
2. The electron beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein the amount of water in the atmosphere is 5 g / m 3 or less, and the ozone decomposition treatment apparatus is composed of a metal catalyst.
【請求項3】 酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物
に電子線を照射する電子線照射装置において、照射室内
で生成した排気ガス中の窒素酸化物あるいは硝酸を除去
する装置と、その後段にオゾン分解処理装置を具備して
なる電子線照射装置。
3. An electron beam irradiation apparatus for irradiating an irradiation object with an electron beam in an atmosphere containing oxygen and nitrogen, and an apparatus for removing nitrogen oxides or nitric acid in exhaust gas generated in an irradiation chamber, and thereafter. An electron beam irradiation device comprising an ozone decomposition treatment device in each stage.
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