JPH09180496A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH09180496A
JPH09180496A JP34226795A JP34226795A JPH09180496A JP H09180496 A JPH09180496 A JP H09180496A JP 34226795 A JP34226795 A JP 34226795A JP 34226795 A JP34226795 A JP 34226795A JP H09180496 A JPH09180496 A JP H09180496A
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JP
Japan
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data
parity
bit
cell block
stored
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Withdrawn
Application number
JP34226795A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Higashiya
政昭 東谷
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductor memory device in which the storage capacity of parity is reduced by half and in which redundancy is made efficient by a method wherein, when two bits are stored as one unit, the parity of one bit is stored with reference to four bits. SOLUTION: Every cell in cell blocks 1a to 1d stores one-bit data, the blocks 1a to 1d and the blocks 1c and 1d are used respectively as one segment, data which are constituted of two bits are stored in storage regions 10a, 10b in a buffer memory as data of a total of four bits. A parity generation circuit 11 generates parity by an EOR of every bit of four-bit data stored in the memory 10, and the parity is written into a selected cell in a parity cell block 6. Then, the parity stored here is read out to a data correction circuit 12 via a column decoder 5, and three-bit data other than a bit corresponding to a defective cell block in the four-bit data stored in the memory 10 and the EOR of a total of four bits of the parity to be read out from the block 6 are taken so as to be written into a bit corresponding to the defective cell block of the memory 10.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特にフラッシュメモリ型半導体記憶装置もしくは
読出専用型半導体記憶装置(ROM)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a flash memory type semiconductor memory device or a read only type semiconductor memory device (ROM).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、フローティングゲート型不揮発性
半導体記憶装置の大容量化への要求が高まっている。特
にフラッシュメモリは、従来のEPROMの大容量を損
なうことなく、電気的に消去を行うことが可能であり、
磁気ディスク置き換え用等に大容量メモリへの要求が高
い。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for large capacity floating gate nonvolatile semiconductor memory devices. In particular, the flash memory can be electrically erased without impairing the large capacity of the conventional EPROM,
There is a strong demand for large-capacity memory for replacing magnetic disks.

【0003】フラッシュメモリは、EPROMと同様、
フローティングゲートへのホットエレクトロン注入でデ
ータを書き込み、フローティングゲートから蓄積電荷を
トンネル電流を用いて引き抜くことでデータを消去す
る。なお消去動作においては、まず全メモリセルのフロ
ーティングゲートへホットエレクトロンを注入してデー
タ「1」を書き込んだ後、全セルからデータを消去す
る。
Flash memory, like EPROM,
Data is erased by writing data by hot-electron injection into the floating gate and drawing out accumulated charges from the floating gate using a tunnel current. In the erase operation, first, hot electrons are injected into the floating gates of all memory cells to write data "1", and then data is erased from all cells.

【0004】ノア型のフラッシュメモリセルは、データ
「0」、「1」をエンハンスメントMOSトランジスタ
の2つの閾値HVth、LVthに対応させて記憶する。コ
ントロールゲートとチャネルの間に配置されたフローテ
ィングゲートに負電荷を蓄積した状態が「1」、負電荷
を蓄積していない状態が「0」である。2つの閾値HV
thとLVthは、たとえば7V程度と3V程度である。
The NOR type flash memory cell stores data "0" and "1" in correspondence with two thresholds HVth and LVth of the enhancement MOS transistor. The state where negative charges are accumulated in the floating gate arranged between the control gate and the channel is “1”, and the state where negative charges are not accumulated is “0”. Two thresholds HV
th and LVth are, for example, about 7V and 3V.

【0005】ソースに0V、ドレインに1V、コントロ
ールゲートに5Vを印加したとき、MOSトランジスタ
が高閾値HVthの状態であれば導通せず、低閾値VLth
の状態であれば導通する。このように、高閾値HVthと
低閾値VLthの間の電圧をコントロールゲートに印加す
ることによりMOSトランジスタに記憶されているデー
タを読み出すことができる。なお選択されていないセル
においては、ドレインはフローティング、コントロール
ゲートは0Vとされる。
When 0 V is applied to the source, 1 V is applied to the drain, and 5 V is applied to the control gate, if the MOS transistor is in the high threshold HVth state, it does not conduct, and the low threshold VLth.
If it is in the state of, it conducts. In this way, by applying a voltage between the high threshold value HVth and the low threshold value VLth to the control gate, the data stored in the MOS transistor can be read. In the cells not selected, the drain is floating and the control gate is 0V.

【0006】データ「1」の書き込みの時には選択され
たドレインに6V、コントロールゲートに12Vを印加
する。電子がホット状態となってチャネル上の酸化膜を
突き抜けてフローティングゲートに注入され、データ
「1」が書き込まれる。
When writing data "1", 6V is applied to the selected drain and 12V is applied to the control gate. Electrons are in a hot state, penetrate through the oxide film on the channel, and are injected into the floating gate, and data "1" is written.

【0007】消去の時には、全セルにデータ「1」を書
き込んだ後、全セルのコントロールゲートに0V、ソー
スに12Vを与え、ドレインをフローティングにする。
コントロールゲートに蓄積されている電子はトンネル現
象により酸化膜を通り抜けソースに引き出される。
At the time of erasing, after writing data "1" to all cells, 0V is applied to the control gates of all cells, 12V is applied to the sources, and the drains are made floating.
The electrons accumulated in the control gate pass through the oxide film by the tunnel phenomenon and are extracted to the source.

【0008】なお、メモリセルアレイにおいては、同一
の行(ロー)に配置されたセルのコントロールゲートは
同一のワード線に接続され、同一の列(コラム)に配置
されたドレインは同一のビット線に接続される。
In the memory cell array, the control gates of cells arranged in the same row (row) are connected to the same word line, and the drains arranged in the same column (column) are connected to the same bit line. Connected.

【0009】このようなフラッシュメモリにおいて、2
つのワード線が短絡してしまうことがある。このとき消
去を行うと、所定の閾値以外の閾値を持つセルが生じて
しまう。すなわち、データ「0」のセルに「1」を書き
込むためにワード線に12Vを印加しても、短絡してい
る他のワード線には0Vが印加されている。そのため、
ワード線の電圧が十分高くならず、ワード線短絡のメモ
リセルは書込不十分になる。
In such a flash memory, 2
One word line may short. If erasing is performed at this time, cells having a threshold value other than the predetermined threshold value may occur. That is, even if 12V is applied to the word line to write "1" in the cell of data "0", 0V is applied to the other short-circuited word lines. for that reason,
The voltage of the word line is not sufficiently high, and the memory cell short-circuited with the word line is insufficiently written.

【0010】次に全セルのデータを消去するため、全ワ
ード線(コントロールゲート)に0V、全ソースに12
Vが印加される。書込不十分なメモリセルにおいてはフ
ローティングゲートから過度に電子が引き抜かれ、正に
帯電してしまう。これをオーバイレース(過消去)と呼
ぶ。
Next, in order to erase the data of all cells, 0V is applied to all word lines (control gates) and 12 is applied to all sources.
V is applied. In a memory cell in which writing is insufficient, electrons are excessively extracted from the floating gate and become positively charged. This is called over-race (over-erasure).

【0011】オーバイレースされたセルに次にデータ
「1」を書き込もうとしても、初期状態が0でなく正電
位になっており、かつワード線に十分電圧を印加できな
いため書込不十分となる。このようにワード線短絡を生
じている場合、そのワード線に接続された全メモリセル
は書込不能となってしまう。
When data "1" is to be written into the over-race-laced cell next time, the initial state is not 0 but a positive potential, and sufficient voltage cannot be applied to the word line, resulting in insufficient writing. . When the word line is short-circuited in this way, all the memory cells connected to the word line cannot be written.

【0012】あるメモリセルがオーバイレースを起こす
と、そのトランジスタの閾値が負になる。オーバイレー
スを起こしたメモリセルのトランジスタは、ワード線が
選択されず0Vの時も導通状態になり、ビット線に電流
が流れてしまう。読み出すべきセルの閾値に拘らずビッ
ト線に電流が流れてしまうため、オーバイレースを起こ
したセルと同じカラムの他のセルも読み出し不能となっ
てしまう。
When a memory cell undergoes over-race, the threshold value of its transistor becomes negative. The transistor of the memory cell that has caused the over-race is in a conductive state even when the word line is not selected and is 0 V, and a current flows through the bit line. Since a current flows through the bit line regardless of the threshold value of the cell to be read, other cells in the same column as the cell in which the over-birace has occurred cannot be read.

【0013】ワード線が短絡すると、そのワード線に接
続されているセルがすべてオーバイレースを起こす。さ
らに、上述のようにオーバイレースを起こしたセルと同
一のビット線に接続されているセルはすべて読み出しが
できなくなる。すなわち、ワード線が短絡すると、その
セルブロックのすべてのセルが読み出し不可能になる。
When a word line is short-circuited, all the cells connected to that word line undergo overbirace. Further, as described above, all the cells connected to the same bit line as the cell in which the over-birace has occurred cannot be read. That is, when the word line is short-circuited, all cells in the cell block cannot be read.

【0014】このため、フラッシュメモリの冗長方法と
して、セルブロックを単位に冗長することが考えられて
いる。メモリ全体を複数のセルブロックに分割し、セル
ブロックに不良が存在するときは、冗長用のセルブロッ
クを使用する。8ビット構成のメモリにおいてパリティ
冗長を行う場合には、8個のセルブロックに対して1個
の冗長用セルブロックを準備する。従って、8Mバイト
のフラッシュメモリの場合には1Mバイト分の冗長用セ
ルブロックが必要になる。
Therefore, as a redundancy method of the flash memory, it is considered to make the cell block redundant. The entire memory is divided into a plurality of cell blocks, and when a cell block has a defect, a redundant cell block is used. When performing parity redundancy in an 8-bit memory, one redundancy cell block is prepared for eight cell blocks. Therefore, in the case of an 8-Mbyte flash memory, 1-Mbyte redundant cell blocks are required.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、パリテ
ィ冗長を行うと、読出書込の単位となるビット数に対応
して1ビット分の冗長メモリが必要になる。1単位とな
るビット数が少なくなると、冗長効率が低下する。
As described above, when the parity redundancy is performed, a redundant memory for 1 bit is required corresponding to the number of bits which is a unit of reading and writing. If the number of bits per unit decreases, the redundancy efficiency decreases.

【0016】本発明の目的は、セルブロックを単位とし
て効率的に冗長を行うことができる半導体記憶装置を提
供することである。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of efficiently performing redundancy in cell block units.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、各々nビット(nは自然数)のデータを記憶する複
数の記憶領域を含むセグメントをm個(mは2以上の整
数)有し、外部から入力される記憶領域選択信号により
各セグメント内の1つの記憶領域が特定される記憶手段
と、前記記憶手段のm個のセグメントの各々に対応して
nビット、合計n×mビットの記憶領域を有するバッフ
ァメモリであって、各セグメント内の記憶領域と該バッ
ファメモリ内の対応する記憶領域との間でデータ転送可
能な前記バッファメモリと、前記記憶手段のm個のセグ
メントの各々から1つずつ選ばれたm個の記憶領域に記
憶される合計n×mビットのデータに対して1つのパリ
ティを記憶する記憶領域を、前記記憶手段のセグメント
の各記憶領域に対応して有するパリティ記憶手段と、前
記記憶手段のm個のセグメントの各々から1つずつ選ば
れたm個の記憶領域から読み出されたn×mビットのデ
ータと前記パリティ記憶手段に記憶されているパリティ
とに基づいてデータの訂正を行うデータ訂正手段とを有
する半導体記憶装置が提供される。
According to one aspect of the present invention, there are m segments (m is an integer of 2 or more) each including a plurality of storage areas for storing n-bit (n is a natural number) data. , A storage means in which one storage area in each segment is specified by a storage area selection signal input from the outside, and n bits corresponding to each of the m segments of the storage means, a total of n × m bits A buffer memory having a storage area, the buffer memory capable of transferring data between the storage area in each segment and the corresponding storage area in the buffer memory, and from each of the m segments of the storage means. A storage area for storing one parity for a total of n × m bits of data stored in m storage areas selected one by one corresponds to each storage area of the segment of the storage means. Stored in the parity storage means and n × m-bit data read from m storage areas selected one from each of the m segments of the storage means. There is provided a semiconductor memory device having a data correction unit that corrects data based on parity.

【0018】1つのセグメントのある記憶領域からデー
タを読み出す時に、読み出すべきセグメントのみならず
m個のセグメントの対応する記憶領域から、バッファメ
モリにデータを転送する。バッファメモリに転送された
データとパリティ記憶手段に記憶されているパリティに
基づいてデータを訂正する。訂正後のデータのうち、読
み出すべきセグメントのデータ部分のみを取り出す。
When reading data from a storage area having one segment, the data is transferred to the buffer memory not only from the segment to be read but also from the corresponding storage area of m segments. The data is corrected based on the data transferred to the buffer memory and the parity stored in the parity storage means. Of the corrected data, only the data portion of the segment to be read is taken out.

【0019】本発明の他の観点によると、さらに、セグ
メント選択信号が入力され、前記バッファメモリのn×
mビットの記憶領域のうち前記セグメント選択信号によ
って特定されるセグメントに対応したnビットの記憶領
域と外部とのデータ転送を行う入出力制御手段を有する
半導体記憶装置が提供される。
According to another aspect of the present invention, a segment selection signal is further input, and n × of the buffer memory.
There is provided a semiconductor memory device having an n-bit memory area corresponding to a segment specified by the segment selection signal in the m-bit memory area and an input / output control means for performing data transfer with the outside.

【0020】入出力制御手段は、バッファメモリに記憶
されているデータのうち読み出すべきセグメントに対応
するデータのみを外部に転送する。本発明の他の観点に
よると、前記記憶手段が、各々1ビットのデータを記憶
する複数個のセルを有するn×m個のセルブロックを含
み、各セルブロックが前記バッファメモリの1つのビッ
トに対応し、各セルブロックの1つのセルが前記記憶領
域選択信号によって特定される半導体記憶装置が提供さ
れる。
The input / output control means transfers only the data corresponding to the segment to be read out of the data stored in the buffer memory to the outside. According to another aspect of the present invention, the storage means includes n × m cell blocks each having a plurality of cells each storing 1-bit data, and each cell block corresponds to one bit of the buffer memory. Correspondingly, there is provided a semiconductor memory device in which one cell of each cell block is specified by the memory area selection signal.

【0021】n個のセルブロックが1つのセグメントを
構成する。各セルブロックに記憶されている1ビットの
データのうち、記憶領域選択信号によって特定されるセ
ルのデータが、バッファメモリの対応するビットに転送
される。
The n cell blocks form one segment. Of the 1-bit data stored in each cell block, the data of the cell specified by the storage area selection signal is transferred to the corresponding bit of the buffer memory.

【0022】本発明の他の観点によると、前記データ訂
正手段が、前記n×m個のセルブロック内に不良のセル
ブロックがある場合には、当該不良のセルブロックを記
憶する不良セルブロック記憶手段を含む半導体記憶装置
が提供される。
According to another aspect of the present invention, when the data correction means has a defective cell block in the n × m cell blocks, a defective cell block storage for storing the defective cell block. A semiconductor memory device including the means is provided.

【0023】本発明の他の観点によると、前記データ訂
正手段が、前記バッファメモリに記憶されているn×m
ビットのデータのうち、前記不良セルブロック記憶手段
に記憶されている不良セルブロックに対応するビットを
除いた(n×m−1)ビットのデータと前記パリティ記
憶手段に記憶されているパリティとに基づいて不良セル
ブロックのデータを再生する半導体記憶装置が提供され
る。
According to another aspect of the present invention, the data correction means stores n × m data stored in the buffer memory.
Of the bit data, the (n × m−1) bit data excluding the bit corresponding to the defective cell block stored in the defective cell block storage means and the parity stored in the parity storage means Provided is a semiconductor memory device that reproduces data in a defective cell block based on the data.

【0024】本発明の他の観点によると、さらに、前記
バッファメモリに記憶されたn×mビットのデータに基
づいてパリティを発生し、発生したパリティを前記パリ
ティ記憶手段に書き込むパリティ発生手段を有する半導
体記憶装置が提供される。
According to another aspect of the present invention, there is further provided parity generating means for generating a parity based on the n × m bit data stored in the buffer memory and writing the generated parity in the parity storage means. A semiconductor memory device is provided.

【0025】書き込むべきデータを一時バッファメモリ
に蓄積し、バッファメモリに蓄積されたデータを基にパ
リティを発生する。複数のセグメントのデータを同時に
バッファメモリに記憶できるため、複数のセグメントの
データに対して1つのパリティを発生することができ
る。
The data to be written is temporarily stored in the buffer memory, and the parity is generated based on the data stored in the buffer memory. Since the data of a plurality of segments can be stored in the buffer memory at the same time, one parity can be generated for the data of a plurality of segments.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】2ビット単位でデータを記憶する
半導体記憶装置を例に、本発明の実施例を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described by taking a semiconductor memory device that stores data in 2-bit units as an example.

【0027】図1は、本発明の実施例による半導体記憶
装置のブロック図を示す。格子状に配置された複数のセ
ルを含むセルブロック1a〜1dが、それぞれ行選択制
御を行うワード制御回路2a〜2d、及び列選択制御を
行うビット制御回路3a〜3dを備えている。セルブロ
ック1a〜1dの各セルは1ビットのデータを記憶す
る。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. Cell blocks 1a to 1d each including a plurality of cells arranged in a grid are provided with word control circuits 2a to 2d for performing row selection control and bit control circuits 3a to 3d for performing column selection control. Each cell of the cell blocks 1a to 1d stores 1-bit data.

【0028】セルブロック1aと1bで1つのセグメン
トを構成し、セルブロック1cと1dで他の1つのセグ
メントを構成する。各セグメントは、2ビット構成のデ
ータを記憶する。
The cell blocks 1a and 1b form one segment, and the cell blocks 1c and 1d form another segment. Each segment stores 2-bit data.

【0029】図2に各セルブロックの構成をより詳細に
示す。セルブロック1は、不揮発性メモリセルのマトリ
クスであり、フローティングゲート型の多数のメモリセ
ルCijを含む。
FIG. 2 shows the structure of each cell block in more detail. The cell block 1 is a matrix of non-volatile memory cells and includes a large number of floating gate type memory cells Cij.

【0030】メモリセルC11を例に取って説明すると、
フローティングゲートFGを備えたMOSトランジスタ
のソースSがソースラインに接続され、ドレインDがビ
ットラインBL1に接続されている。また、フローティ
ングゲートFG上に形成されたコントロールゲートCG
が、ワードラインWL1に接続されている。
The memory cell C11 will be described as an example.
The source S of the MOS transistor having the floating gate FG is connected to the source line, and the drain D is connected to the bit line BL1. In addition, the control gate CG formed on the floating gate FG
Are connected to the word line WL1.

【0031】ビットラインBL1とワードラインWL1
に印加する電圧を制御することにより、このメモリセル
C11に情報を書き込んだり読み出したりすることができ
る。行方向に配列されたメモリセルは、共通のワードラ
インWLに接続され、列方法に配列されたメモリセルの
ドレインDは、共通のビットラインBLに接続される。
各ワードラインWLは、ワード制御回路2によって制御
され、各ビットラインBLは、ビット制御回路3によっ
て制御される。
Bit line BL1 and word line WL1
Information can be written in or read from this memory cell C11 by controlling the voltage applied to the memory cell C11. The memory cells arranged in the row direction are connected to a common word line WL, and the drains D of the memory cells arranged in a column manner are connected to a common bit line BL.
Each word line WL is controlled by the word control circuit 2, and each bit line BL is controlled by the bit control circuit 3.

【0032】図3は、図2に示すようなメモリマトリク
スの平面構成を概略的に示す平面図である。図中横方向
に連続したソース領域(ソースライン)21が配置さ
れ、隣接するソース領域21の間に複数個の不揮発性メ
モリセルが接続されている。ドレイン領域24は、上下
のソースラインとの間に形成される2つの不揮発性メモ
リセルに共通に用いられる。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a plane structure of the memory matrix as shown in FIG. A source region (source line) 21 continuous in the horizontal direction in the drawing is arranged, and a plurality of nonvolatile memory cells are connected between adjacent source regions 21. The drain region 24 is commonly used by two nonvolatile memory cells formed between the upper and lower source lines.

【0033】ソースライン21とドレイン領域24の間
に形成されるチャネル領域上にフローティングゲート電
極23が電気的にフローティングされた状態で配置さ
れ、その上にコントロール電極(ワード線)22が図中
横方向に延在して配置されている。ビット線(図示せ
ず)は図中縦方向に配置され、ビットコンタクト孔25
を介してドレイン領域24に接続される。
A floating gate electrode 23 is arranged in an electrically floating state on a channel region formed between the source line 21 and the drain region 24, and a control electrode (word line) 22 is arranged on the floating gate electrode 23 in the figure. It is arranged so as to extend in the direction. Bit lines (not shown) are arranged in the vertical direction in the drawing, and bit contact holes 25
Is connected to the drain region 24 via.

【0034】図3の構成によれば、ワード線が横方向に
配置され、ビット線が縦方向に配置されたメモリセルが
構成される。なお、ソースラインはワード線と平行に配
置されている。
According to the structure of FIG. 3, a memory cell is formed in which word lines are arranged in the horizontal direction and bit lines are arranged in the vertical direction. The source line is arranged in parallel with the word line.

【0035】図1に戻って説明を続ける。ローデコーダ
4が各セルブロック1のワード制御回路2に接続されて
いる。ローデコーダ4は、端子17からローアドレス信
号を受信し、ローアドレス信号をデコードする。デコー
ドした結果をワード制御回路2に送出し、各セルブロッ
ク1の1つのワード線を選択する。
Returning to FIG. 1, the description will be continued. The row decoder 4 is connected to the word control circuit 2 of each cell block 1. The row decoder 4 receives the row address signal from the terminal 17 and decodes the row address signal. The decoded result is sent to the word control circuit 2 and one word line of each cell block 1 is selected.

【0036】カラムデコーダ5がビット制御回路3に接
続されている。カラムデコーダ5は、端子18からカラ
ムアドレス信号を受信し、カラムアドレス信号をデコー
ドする。デコードした結果をビット制御回路3に送出
し、各セルブロック1の1つのビット線を選択する。
The column decoder 5 is connected to the bit control circuit 3. The column decoder 5 receives the column address signal from the terminal 18 and decodes the column address signal. The decoded result is sent to the bit control circuit 3, and one bit line of each cell block 1 is selected.

【0037】バッファメモリ10が、センスアンプ9及
びカラムデコーダ5を介して各セルブロックのビット制
御回路3に接続されている。バッファメモリ10は、セ
ルブロック1a及び1bに対応する2ビットの記憶領域
10aとセルブロック1c及び1dに対応する2ビット
の記憶領域10bを含んで構成され、合計4ビットのデ
ータを記憶する。すなわち、各セグメントに対応して1
単位分のビット数の記憶領域を有している。
The buffer memory 10 is connected to the bit control circuit 3 of each cell block via the sense amplifier 9 and the column decoder 5. The buffer memory 10 includes a 2-bit storage area 10a corresponding to the cell blocks 1a and 1b and a 2-bit storage area 10b corresponding to the cell blocks 1c and 1d, and stores a total of 4-bit data. That is, 1 for each segment
It has a storage area for the number of bits for a unit.

【0038】データ読み出し時には、ローアドレス及び
カラムアドレス信号により選択されたセルに記憶されて
いるデータが、カラムデコーダ5、センスアンプ9を介
してバッファメモリ10に転送される。データ書き込み
時には、バッファメモリ10に記憶されているデータ
が、センスアンプ9及びカラムデコーダ5を介して選択
されたセルに書き込まれる。
At the time of data reading, the data stored in the cell selected by the row address and column address signals is transferred to the buffer memory 10 via the column decoder 5 and the sense amplifier 9. At the time of data writing, the data stored in the buffer memory 10 is written to the selected cell via the sense amplifier 9 and the column decoder 5.

【0039】アウトバッファ(入出力制御手段)14
が、バッファメモリ10と入出力端子16a、16bと
を接続する。アウトバッファ14は、端子19から入力
されるセグメント選択信号により、バッファメモリ10
の記憶領域10a及び10bのいずれか一方を選択し、
選択された記憶領域と出力端子16a、16bとの間で
データ転送を行わせる。
Out buffer (input / output control means) 14
Connects the buffer memory 10 to the input / output terminals 16a and 16b. The out buffer 14 receives the segment selection signal input from the terminal 19 and receives the buffer memory 10
Select one of the storage areas 10a and 10b of
Data transfer is performed between the selected storage area and the output terminals 16a and 16b.

【0040】アドレス分配回路15が端子17、18及
び19に接続されている。アドレス分配回路15は、端
子20から入力されるアドレス信号に基づいてローアド
レス信号、カラムアドレス信号及びセグメント選択信号
を生成する。
The address distribution circuit 15 is connected to the terminals 17, 18 and 19. The address distribution circuit 15 generates a row address signal, a column address signal, and a segment selection signal based on the address signal input from the terminal 20.

【0041】セルブロック1と同等の構成を有するパリ
ティセルブロック6が設けられている。パリティセルブ
ロック6のワード制御回路7がローデコーダ4に接続さ
れてローデコーダ4の制御を受け、ビット制御回路8が
カラムデコーダ5に接続されてカラムデコーダ5の制御
を受ける。
A parity cell block 6 having the same structure as the cell block 1 is provided. The word control circuit 7 of the parity cell block 6 is connected to the row decoder 4 and controlled by the row decoder 4, and the bit control circuit 8 is connected to the column decoder 5 and controlled by the column decoder 5.

【0042】パリティ発生回路11がバッファメモリ1
0に接続されている。パリティ発生回路11は、バッフ
ァメモリ10に記憶されている4ビットのデータの各ビ
ットのEORをとってパリティを発生し、パリティセル
ブロック6の選択されているセルにパリティを書き込
む。
The parity generation circuit 11 is the buffer memory 1
Connected to 0. The parity generation circuit 11 takes the EOR of each bit of the 4-bit data stored in the buffer memory 10 to generate parity, and writes the parity in the selected cell of the parity cell block 6.

【0043】データ修正回路12が、カラムデコーダ5
及びバッファメモリ10に接続されている。データ修正
回路12には、不良セルブロック記憶回路13が接続さ
れている。不良セルブロック記憶回路13には、セルブ
ロック1a〜1dのいずれかに不良がある場合に、予め
不良のセルブロックが記憶されている。
The data correction circuit 12 includes the column decoder 5
And the buffer memory 10. A defective cell block storage circuit 13 is connected to the data correction circuit 12. The defective cell block storage circuit 13 stores a defective cell block in advance when any of the cell blocks 1a to 1d is defective.

【0044】パリティセルブロック6の選択されたセル
に記憶されているパリティがカラムデコーダ5を介して
データ修正回路12に読み出される。データ修正回路1
2は、バッファメモリ10に記憶されている4ビットデ
ータのうち不良セルブロックに対応するビット以外の3
ビットのデータと、パリティセルブロック6から読み出
したパリティの合計4ビットのEORをとる。その結果
を、バッファメモリ10の不良セルブロックに対応する
ビットに書き込む。
The parity stored in the selected cell of the parity cell block 6 is read out to the data correction circuit 12 via the column decoder 5. Data correction circuit 1
2 is 3 other than the bits corresponding to the defective cell block in the 4-bit data stored in the buffer memory 10.
EOR of a total of 4 bits of the bit data and the parity read from the parity cell block 6 is taken. The result is written in the bit corresponding to the defective cell block of the buffer memory 10.

【0045】次に、図1に示す半導体記憶装置の書き込
み動作を説明する。セルブロック1a、1bを選択する
アドレス信号を端子20に与え、書き込むべきデータを
端子16a、16bに与える。アドレス分配回路15
が、セルブロック1a、1bを選択するセグメント選択
信号を端子19に送出し、端子17、18にそれぞれロ
ーアドレス信号及びカラムアドレス信号を送出する。ア
ウトバッファ14が、端子16a、16bに与えられて
いるデータをバッファメモリ10の記憶領域10aに書
き込む。
Next, the write operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be described. An address signal for selecting the cell blocks 1a and 1b is applied to the terminal 20 and data to be written is applied to the terminals 16a and 16b. Address distribution circuit 15
Sends a segment selection signal for selecting the cell blocks 1a and 1b to a terminal 19, and sends a row address signal and a column address signal to the terminals 17 and 18, respectively. The out buffer 14 writes the data given to the terminals 16a and 16b into the storage area 10a of the buffer memory 10.

【0046】次に、セグメント選択信号のみがセルブロ
ック1c、1dを選択するように変化し、ローアドレス
信号とカラムアドレス信号が変化しないようなアドレス
信号を端子20に与え、書き込むべきデータを端子16
a、16bに与える。アドレス分配回路15が、セルブ
ロック1c、1dを選択するセグメント選択信号を端子
19に送出し、端子17、18にそれぞれローアドレス
信号及びカラムアドレス信号を送出する。アウトバッフ
ァ14が、端子16a、16bに与えられているデータ
をバッファメモリ10の記憶領域10bに書き込む。
Next, only the segment selection signal changes so as to select the cell blocks 1c and 1d, an address signal that does not change the row address signal and the column address signal is applied to the terminal 20, and the data to be written is supplied to the terminal 16.
a, 16b. The address distribution circuit 15 sends a segment selection signal for selecting the cell blocks 1c and 1d to a terminal 19, and a row address signal and a column address signal to the terminals 17 and 18, respectively. The out buffer 14 writes the data provided to the terminals 16a and 16b into the storage area 10b of the buffer memory 10.

【0047】パリティ発生回路11が、バッファメモリ
10に記憶されている4ビットのデータのパリティを発
生する。バッファメモリ10に記憶されている4ビット
のデータを、セルブロック1a〜1dの選択されている
セルに書き込むと同時に、パリティ発生回路11が発生
したパリティを、パリティセルブロック6の選択されて
いるセルに書き込む。なお、不良セルブロックへのデー
タ書き込み処理は、行っても行わなくてもよい。
The parity generation circuit 11 generates the parity of the 4-bit data stored in the buffer memory 10. The 4-bit data stored in the buffer memory 10 is written to the selected cells of the cell blocks 1a to 1d, and at the same time, the parity generated by the parity generation circuit 11 is set to the selected cells of the parity cell block 6. Write in. The data writing process to the defective cell block may or may not be performed.

【0048】次に、図1に示す半導体記憶装置の読み出
し動作を、セルブロック1a、1bからなるセグメント
に記憶されている2ビットのデータを読み出す場合を例
にとって説明する。
Next, the read operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be described by taking as an example the case of reading 2-bit data stored in the segment composed of the cell blocks 1a and 1b.

【0049】読み出すべきアドレスのアドレス信号を端
子20に与える。アドレス信号分配回路15が、セルブ
ロック1a、1bを選択するセグメント選択信号を端子
19に送出し、読み出すべきアドレスに対応するローア
ドレス信号及びカラムアドレス信号をそれぞれ端子1
7、18に送出する。
An address signal of an address to be read is given to the terminal 20. The address signal distribution circuit 15 sends a segment selection signal for selecting the cell blocks 1a and 1b to the terminal 19, and outputs a row address signal and a column address signal corresponding to the address to be read, respectively to the terminal 1.
Send to 7 and 18.

【0050】セルブロック1a、1bの選択されたセル
のデータのみならず、セルブロック1c、1dの選択さ
れたセルのデータも、バッファメモリ10に読み出され
る。同時に、パリティセルブロック6の選択されたセル
に記憶されているパリティがデータ修正回路12に読み
出される。
Not only the data of the selected cells of the cell blocks 1a and 1b, but also the data of the selected cells of the cell blocks 1c and 1d are read into the buffer memory 10. At the same time, the parity stored in the selected cell of the parity cell block 6 is read by the data correction circuit 12.

【0051】データ修正回路12が、バッファメモリ1
0に読み出されている4ビットのデータのうち、不良セ
ルブロック記憶回路13に記憶されているセルブロック
に対応するビットを除いた3ビットとパリティセルブロ
ック6から読み出されたパリティを基に、不良セルブロ
ックのデータを再生する。再生したデータをバッファメ
モリ10の該当のビットに書き込む。アウトバッファ1
4が、バッファメモリ10の記憶領域10aに記憶され
ているデータを入出力端子16a、16bに出力する。
The data correction circuit 12 uses the buffer memory 1
Based on the parity read from the parity cell block 6 and 3 bits excluding the bit corresponding to the cell block stored in the defective cell block storage circuit 13 among the 4-bit data read out to 0 , Reproduce the data of the defective cell block. The reproduced data is written in the corresponding bit of the buffer memory 10. Out buffer 1
4 outputs the data stored in the storage area 10a of the buffer memory 10 to the input / output terminals 16a and 16b.

【0052】セルブロック1c、1dからなるセグメン
トのデータを読み出す場合にも、同様に2つのセグメン
トのデータを読み出し、合計4ビット分のデータを基に
不良セルブロックのデータの再生を行う。
Similarly, when reading the data of the segment consisting of the cell blocks 1c and 1d, the data of the two segments are read out and the data of the defective cell block is reproduced based on the data of 4 bits in total.

【0053】上述のように、図1に示す冗長構成では、
2ビットを1単位として記憶する場合に、4ビットに対
して1ビットのパリティを記憶すればよい。従来の2ビ
ットに対して1ビットのパリティを記憶する場合に比べ
て、パリティの記憶容量を半減させることができる。
As described above, in the redundant configuration shown in FIG.
When 2 bits are stored as one unit, 1 bit parity may be stored for 4 bits. The storage capacity of the parity can be halved compared to the conventional case of storing 1-bit parity with respect to 2-bit.

【0054】上記実施例では、メモリ空間を2つのセグ
メントに分割して記憶する場合を説明したが、3つ以上
のセグメントに分割してもよい。例えば2ビットを1単
位として記憶する場合に、16個のセグメントに分割す
ると、32ビットに対して1ビットのパリティを記憶す
ればよい。分割するセグメント数を増加させると、より
効率的な冗長を行うことができる。
In the above embodiment, the case where the memory space is divided into two segments and stored is described, but it may be divided into three or more segments. For example, if 2 bits are stored as one unit and divided into 16 segments, 1-bit parity may be stored for 32 bits. Increasing the number of segments to be divided enables more efficient redundancy.

【0055】また、上記実施例では、2ビットを1単位
として記憶する場合を説明したが、1単位のビット数は
2に限らない。例えば、1ビット、4ビット、8ビッ
ト、16ビット、32ビット等を1単位として記憶して
もよい。
In the above embodiment, the case where two bits are stored as one unit has been described, but the number of bits in one unit is not limited to two. For example, 1 bit, 4 bits, 8 bits, 16 bits, 32 bits or the like may be stored as one unit.

【0056】1単位のビット数をn、セグメントの分割
数をmとしたとき、n×mが32となるnとmの組み合
わせの場合、すなわち(n,m)が、(1,32)、
(2,16)、(4,8)、(8,4)、または(1
6,2)となる場合には、図1のセルブロック1を32
個備え、バッファメモリ10のビット数を32とする。
アウトバッファ14の構成のみを変更することにより、
1単位のビット数nを変化させることができる。
When the number of bits per unit is n and the number of divisions of a segment is m, in the case of a combination of n and m such that n × m is 32, that is, (n, m) is (1,32),
(2,16), (4,8), (8,4), or (1
6 and 2), the cell block 1 of FIG.
The number of bits of the buffer memory 10 is 32.
By changing only the configuration of the out buffer 14,
The number of bits n per unit can be changed.

【0057】上記実施例では、フラッシュメモリを例に
説明したが、一旦書き込むと消去不可能なプログラマブ
ルROM、または紫外光の照射等によって消去可能なE
PROM等に適用することもできる。
Although the flash memory has been described as an example in the above embodiment, a programmable ROM that cannot be erased once written, or an erasable E that can be erased by irradiation with ultraviolet light or the like.
It can also be applied to a PROM or the like.

【0058】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
The present invention has been described above with reference to the embodiments.
The present invention is not limited to these. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
セルブロックを単位として、効率的に冗長を行うことが
できる。
As described above, according to the present invention,
Redundancy can be efficiently performed in units of cell blocks.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例による半導体記憶装置のブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体記憶装置におけるセルブロックの
構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a cell block in the semiconductor memory device of FIG.

【図3】図2に示すセルブロックの半導体チップ上の平
面構成を示す概略平面図である。
3 is a schematic plan view showing a planar configuration on a semiconductor chip of the cell block shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セルブロック 2 ワード制御回路 3 ビット制御回路 4 ローデコーダ 5 カラムデコーダ 6 パリティセルブロック 7 ワード制御回路 8 ビット制御回路 9 センスアンプ 10 バッファメモリ 11 パリティ発生回路 12 データ修正回路 13 不良セルブロック記憶回路 14 アウトバッファ 15 アドレス信号分配回路 16a、16b 入出力端子 17、18、19、20 端子 21 ソース領域 22 WL ワードライン 23 フローティングゲート電極 BL ビットライン C メモリセル 1 cell block 2 word control circuit 3 bit control circuit 4 row decoder 5 column decoder 6 parity cell block 7 word control circuit 8 bit control circuit 9 sense amplifier 10 buffer memory 11 parity generation circuit 12 data correction circuit 13 defective cell block storage circuit 14 Out buffer 15 Address signal distribution circuit 16a, 16b Input / output terminal 17, 18, 19, 20 Terminal 21 Source region 22 WL Word line 23 Floating gate electrode BL Bit line C Memory cell

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 各々nビット(nは自然数)のデータを
記憶する複数の記憶領域を含むセグメントをm個(mは
2以上の整数)有し、外部から入力される記憶領域選択
信号により各セグメント内の1つの記憶領域が特定され
る記憶手段と、 前記記憶手段のm個のセグメントの各々に対応してnビ
ット、合計n×mビットの記憶領域を有するバッファメ
モリであって、各セグメント内の記憶領域と該バッファ
メモリ内の対応する記憶領域との間でデータ転送可能な
前記バッファメモリと、 前記記憶手段のm個のセグメントの各々から1つずつ選
ばれたm個の記憶領域に記憶される合計n×mビットの
データに対して1つのパリティを記憶する記憶領域を、
前記記憶手段のセグメントの各記憶領域に対応して有す
るパリティ記憶手段と、 前記記憶手段のm個のセグメントの各々から1つずつ選
ばれたm個の記憶領域から読み出されたn×mビットの
データと前記パリティ記憶手段に記憶されているパリテ
ィとに基づいてデータの訂正を行うデータ訂正手段とを
有する半導体記憶装置。
1. M segments (m is an integer of 2 or more) each including a plurality of storage areas for storing n-bit (n is a natural number) data, each of which is provided by a storage area selection signal input from the outside. Storage means for specifying one storage area in a segment; and a buffer memory having a storage area of n bits corresponding to each of the m segments of the storage means, a total of n × m bits, The buffer memory capable of transferring data between a storage area inside the buffer memory and a corresponding storage area inside the buffer memory, and m storage areas selected one from each of the m segments of the storage means. A storage area for storing one parity for a total of n × m bits of data to be stored,
Parity storage means provided corresponding to each storage area of the segment of the storage means, and n × m bits read from m storage areas selected one from each of the m segments of the storage means And a data correction means for correcting the data based on the parity stored in the parity storage means.
【請求項2】 さらに、セグメント選択信号が入力さ
れ、前記バッファメモリのn×mビットの記憶領域のう
ち前記セグメント選択信号によって特定されるセグメン
トに対応したnビットの記憶領域と外部とのデータ転送
を行う入出力制御手段を有する請求項1に記載の半導体
記憶装置。
2. A segment selection signal is further input, and an n-bit storage area corresponding to a segment specified by the segment selection signal in the n × m-bit storage area of the buffer memory and data transfer to and from the outside. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an input / output control unit for performing the above.
【請求項3】 前記記憶手段が、各々1ビットのデータ
を記憶する複数個のセルを有するn×m個のセルブロッ
クを含み、各セルブロックが前記バッファメモリの1つ
のビットに対応し、各セルブロックの1つのセルが前記
記憶領域選択信号によって特定される請求項1または2
に記載の半導体記憶装置。
3. The storage means includes n × m cell blocks each having a plurality of cells each storing 1-bit data, each cell block corresponding to one bit of the buffer memory, 3. One cell of a cell block is specified by the storage area selection signal.
3. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項4】 前記データ訂正手段が、前記n×m個の
セルブロック内に不良のセルブロックがある場合には、
当該不良のセルブロックを記憶する不良セルブロック記
憶手段を含む請求項3に記載の半導体記憶装置。
4. The data correction means, when there is a defective cell block in the n × m cell blocks,
4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising defective cell block storage means for storing the defective cell block.
【請求項5】 前記データ訂正手段が、前記バッファメ
モリに記憶されているn×mビットのデータのうち、前
記不良セルブロック記憶手段に記憶されている不良セル
ブロックに対応するビットを除いた(n×m−1)ビッ
トのデータと前記パリティ記憶手段に記憶されているパ
リティとに基づいて不良セルブロックのデータを再生す
る請求項4に記載の半導体記憶装置。
5. The data correcting means removes the bit corresponding to the defective cell block stored in the defective cell block storage means from the n × m bit data stored in the buffer memory ( The semiconductor memory device according to claim 4, wherein the data of the defective cell block is reproduced based on the n × m−1) -bit data and the parity stored in the parity storage means.
【請求項6】 さらに、前記バッファメモリに記憶され
たn×mビットのデータに基づいてパリティを発生し、
発生したパリティを前記パリティ記憶手段に書き込むパ
リティ発生手段を有する請求項1〜5のいずれかに記載
の半導体記憶装置。
6. A parity is generated based on n × m bit data stored in the buffer memory,
6. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a parity generation unit that writes the generated parity in the parity storage unit.
JP34226795A 1993-09-20 1995-12-28 Semiconductor memory device Withdrawn JPH09180496A (en)

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