JPH0917349A - Color picture tube and its manufacture - Google Patents

Color picture tube and its manufacture

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JPH0917349A
JPH0917349A JP16243895A JP16243895A JPH0917349A JP H0917349 A JPH0917349 A JP H0917349A JP 16243895 A JP16243895 A JP 16243895A JP 16243895 A JP16243895 A JP 16243895A JP H0917349 A JPH0917349 A JP H0917349A
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JP
Japan
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electron
reflection film
film
electron reflection
mask
Prior art date
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Pending
Application number
JP16243895A
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Japanese (ja)
Inventor
Sachiko Muramatsu
祥子 村松
Yasuhisa Otake
康久 大竹
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0917349A publication Critical patent/JPH0917349A/en
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Abstract

PURPOSE: To form an electron reflecting film having strong bond strength on an electron gun side surface of a shadow mask without increasing the process number. CONSTITUTION: An electron reflecting film 24 is formed on an electron gun side surface of a shadow mask 20 using a cold-rolled steel plate as a base material, and a surface except this electron reflecting film forming part is covered with an oxide film. The electron reflecting film is composed of a tungsten oxide particle and a primary aluminium phosphate as a binding agent, and is formed by being baked in a heating process at oxide film forming time after an electron reflecting film forming liquid is applied to the shadow mask before the oxide film is formed. According to such a manufacturing method, bond strength can be improved without increasing a heating process.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、カラー受像管および
その製造方法に係り、特にシャドウマスクの熱膨張を抑
制する電子反射膜が形成されたカラー受像管およびその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color picture tube and a manufacturing method thereof, and more particularly to a color picture tube having an electron reflection film for suppressing thermal expansion of a shadow mask and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にカラー受像管は、図7に示すよう
に、パネル1およびファンネル2からなる外囲器を有
し、そのパネル1の曲面からなる有効部内面に、青、
緑、赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍光体スクリー
ン3が設けられ、この蛍光体スクリーン3に対向かつ所
定間隔(q値)離れて、その内側にシャドウマスク4が
配置されている。一方、ファンネル2のネック5内に3
電子ビーム6B ,6G ,6Rを放出する電子銃7が配設
されている。そして、この電子銃7から放出される3電
子ビーム6B ,6G ,6R をファンネル2の外側に装着
された偏向装置8の発生する磁界により偏向し、シャド
ウマスク4を介して蛍光体スクリーン3を水平、垂直走
査することにより、カラー画像を表示する構造に形成さ
れている。
2. Description of the Related Art Generally, a color picture tube has an envelope composed of a panel 1 and a funnel 2, as shown in FIG.
A phosphor screen 3 composed of a three-color phosphor layer that emits green and red is provided, and a shadow mask 4 is arranged inside the phosphor screen 3 at a predetermined distance (q value) away from the phosphor screen 3. On the other hand, 3 in the neck 5 of the funnel 2
An electron gun 7 that emits electron beams 6B, 6G, and 6R is arranged. Then, the three electron beams 6B, 6G, 6R emitted from the electron gun 7 are deflected by the magnetic field generated by the deflecting device 8 mounted outside the funnel 2, and the phosphor screen 3 is horizontally moved through the shadow mask 4. By vertical scanning, a structure for displaying a color image is formed.

【0003】上記シャドウマスク4は、電子銃7から放
出される3電子ビーム6B ,6G ,6R を選別して所定
の3色蛍光体層に正しくランディングさせるためのもの
であり、図8に示すように、蛍光体スクリーン側を凸曲
面とする主面部10に多数の開孔が所定の配列で形成さ
れたマスク本体11と、このマスク本体11の周辺部に
取付けられたマスクフレーム12とからなる。そのマス
ク本体11の開孔には、円形状のものと矩形状のものと
があり、開孔が円形状のシャドウマスク4は、主とし
て、文字や図形などを表示するディスプレイ用カラー受
像管に用いられ、開孔が矩形状のシャドウマスク4は、
一般家庭で用いられる民生用カラー受像管に用いられて
いる。
The shadow mask 4 is for selecting the three electron beams 6B, 6G, 6R emitted from the electron gun 7 and correctly landing them on a predetermined three-color phosphor layer, as shown in FIG. In addition, the main body 10 having a convex curved surface on the phosphor screen side is provided with a mask main body 11 having a large number of openings formed in a predetermined array, and a mask frame 12 attached to the peripheral portion of the mask main body 11. The mask body 11 has a circular opening and a rectangular opening, and the shadow mask 4 having a circular opening is mainly used for a color picture tube for a display for displaying characters and figures. The shadow mask 4 having a rectangular opening is
It is used in consumer color picture tubes used in general households.

【0004】ところで、上記カラー受像管において、マ
スク本体11の開孔を通って蛍光体スクリーンに達する
電子ビームは、電子銃から放出される全電子ビームの1
5〜20%程度であり、他の電子ビームは、そのほとん
どがシャドウマスク4に衝突して、マスク本体11を8
0℃程度まで加熱する。この場合、従来のシャドウマス
ク4では、一般にマスク本体11が、熱膨張係数12×
10-6/℃(10〜20℃)、板厚0.1〜0.3mm程
度の冷間圧延鋼板で形成されているため、上記加熱によ
りマスク本体11が熱膨張し、蛍光体スクリーン方向に
膨出するいわゆるドーミングをおこす。その結果、蛍光
体スクリーンとシャドウマスク4との間隔が所定のq値
からずれ、3電子ビームがそれぞれ所定の蛍光体層に正
しくランディングしなくなり、色純度の劣化が生ずる。
In the color picture tube, the electron beam that reaches the phosphor screen through the opening of the mask body 11 is one of all electron beams emitted from the electron gun.
It is about 5 to 20%, and most of the other electron beams collide with the shadow mask 4 and cause the mask body 11 to move to 8%.
Heat to about 0 ° C. In this case, in the conventional shadow mask 4, the mask body 11 generally has a thermal expansion coefficient of 12 ×
Since it is formed of a cold-rolled steel plate having a thickness of 10 −6 / ° C. (10 to 20 ° C.) and a thickness of 0.1 to 0.3 mm, the mask body 11 is thermally expanded by the above heating, and the mask main body 11 is expanded in the phosphor screen direction. Causes so-called doming, which bulges. As a result, the distance between the phosphor screen and the shadow mask 4 deviates from the predetermined q value, and the three electron beams do not land correctly on the predetermined phosphor layers, resulting in deterioration of color purity.

【0005】このマスク本体11の熱膨張による電子ビ
ームのランディングずれは、人間工学的見地からパネル
の有効部を平坦化して外光の反射を少なくしかつ画像の
歪を少なくしたFS(Flat Squre)管の場合、特に大き
くなる。すなわち、FS管は、パネルの有効部の平坦化
に対応して、マスク本体の主面部も平坦化され、通常の
カラー受像管のシャドウマスクにくらべて、マスク本体
の曲率半径が大きい。そのため、仮に通常のカラー受像
管のマスク本体と同程度に熱膨張したとしても、結果的
に蛍光体層に対する電子ビームのランディングずれが大
きくなり、色純度の劣化が顕著となる。
The landing shift of the electron beam due to the thermal expansion of the mask body 11 is an FS (Flat Squre) in which the effective portion of the panel is flattened from the ergonomic point of view to reduce the reflection of external light and the distortion of the image. In the case of pipes, it becomes particularly large. That is, in the FS tube, the main surface portion of the mask main body is also flattened corresponding to the flattening of the effective portion of the panel, and the curvature radius of the mask main body is larger than that of the shadow mask of a normal color picture tube. Therefore, even if the thermal expansion of the mask body of an ordinary color picture tube is performed to the same extent, the landing deviation of the electron beam with respect to the phosphor layer becomes large and the deterioration of the color purity becomes remarkable.

【0006】上記マスク本体の熱膨張による色純度の劣
化を防止する手段として、特公昭42−25446号公
報などには、熱膨張係数が冷間圧延鋼板の約1/10で
ある鉄−ニッケル合金からなるアンバーなどの低熱膨張
材を用いてマスク本体を形成することが示されている。
このように低熱膨張材でマスク本体を形成すると、ドー
ミングを小さくして、蛍光体層に対する電子ビームのラ
ンディングずれを小さくし、色純度の劣化を軽減するこ
とができる。しかしアンバーなどの低熱膨張材は、価格
が高く、またアニール後の降伏点強度が高いため、マス
ク本体が所定形状に成形されにくく、成形歩留が低くな
る。そのため、マスク本体が冷間圧延鋼板からなるカラ
ー受像管にくらべて、価格が高くなる。
As a means for preventing the deterioration of the color purity due to the thermal expansion of the mask body, Japanese Patent Publication No. 42-25446 discloses an iron-nickel alloy having a thermal expansion coefficient of about 1/10 that of a cold-rolled steel sheet. It is shown that the mask body is formed by using a low thermal expansion material such as amber.
When the mask body is formed of the low thermal expansion material as described above, the doming can be reduced, the landing shift of the electron beam with respect to the phosphor layer can be reduced, and the deterioration of the color purity can be reduced. However, a low thermal expansion material such as amber is expensive and has a high yield point strength after annealing, so that the mask body is difficult to be molded into a predetermined shape, and the molding yield is low. Therefore, the price is higher than that of a color picture tube whose mask body is made of a cold rolled steel plate.

【0007】またマスク本体の熱膨張による色純度の劣
化を防止する他の手段として、マスク本体に被膜を形成
し、この被膜の作用によりドーミングを抑制して、色純
度の劣化を軽減する下記(イ)乃至(ニ)に示す方法が
ある。
As another means for preventing the deterioration of the color purity due to the thermal expansion of the mask body, a film is formed on the mask body, and the effect of this film suppresses the doming to reduce the deterioration of the color purity as follows ( There are methods shown in (a) to (d).

【0008】(イ) 特開昭60−54139号公報な
どに示されている方法で、マスク本体の表面に鉛ホウ酸
塩の結晶化ガラスを塗布し、その被膜を高温度の熱処理
により溶融結合して、ドーミング抑制作用をもたせる方
法がある。しかしこのような方法は、被膜中に有害な鉛
を含むため、作業環境や公害の面から取扱いに注意が必
要であり、好ましいものではない。
(B) Lead borate crystallized glass is coated on the surface of the mask body by the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 60-54139, and the coating is melt-bonded by heat treatment at high temperature. Then, there is a method of providing a doming suppression effect. However, such a method is not preferable because it contains harmful lead in the coating film and thus requires careful handling from the viewpoint of working environment and pollution.

【0009】(ロ) 特公昭60−14459号公報に
示されている方法で、マスク本体の電子銃側の面に、原
子番号が70を越える重金属物質の粒子を含む液、たと
えば酸化ビスマス粒子を含む水溶性懸濁液をスプレー法
により塗布して、電子反射膜を形成する方法がある。し
かしこの方法は、電子ビームを反射してマスク本体の加
熱を防止する作用が十分でなく、マスク本体が加熱され
るために生ずるドーミングを抑制する作用が十分でな
く、色純度の劣化防止に対して所望の効果が得られな
い。
(B) According to the method disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 60-14459, a liquid containing particles of a heavy metal substance having an atomic number exceeding 70, for example, bismuth oxide particles, is formed on the surface of the mask body on the electron gun side. There is a method of forming an electron reflection film by applying a water-soluble suspension containing it by a spray method. However, this method is not sufficient in preventing the heating of the mask body by reflecting the electron beam, and is not sufficient in suppressing the doming caused by heating of the mask body. The desired effect cannot be obtained.

【0010】(ハ) 特開平4−48530号公報に示
されている方法で、マスク本体の電子銃側の面に、酸化
ビスマス粒子、タングステン粒子および部分黒鉛化炭素
粒子を混ぜた水ガラス溶液をスプレー法により塗布し
て、電子ビームの反射のほか、熱伝導や熱輻射を高め、
それにより、マスク本体のドーミングを抑制する方法で
ある。この方法によれば、色純度の劣化を比較的良好に
防止することができる。しかしこの方法は、塗布液中の
材料粒子を平均粒径が約2μm になるまで、ボールミル
などにより粉砕しなければならず、その均一粉砕がむつ
かしく、シャープな粒度分布が得られない。そのため、
上記液を塗布すると、マスク本体の開孔形状の変化や孔
づまりが発生しやすい。これを防ぐためには、被膜の厚
さを3μm程度に制御することが必要であるが、粒度分
布がシャープでなく、かつ比重の異なる粒子を均一に混
ぜ合わせた状態でスプレーすることが困難なため、均一
な被膜が得にくい。
(C) According to the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-48530, a water glass solution in which bismuth oxide particles, tungsten particles and partially graphitized carbon particles are mixed is applied to the surface of the mask body on the electron gun side. By applying by spraying method, in addition to reflection of electron beam, enhance heat conduction and heat radiation,
This is a method of suppressing the doming of the mask body. According to this method, deterioration of color purity can be prevented relatively well. However, in this method, the material particles in the coating solution must be pulverized by a ball mill or the like until the average particle diameter becomes about 2 μm, and the uniform pulverization is difficult and a sharp particle size distribution cannot be obtained. for that reason,
When the above liquid is applied, changes in the shape of the openings in the mask body and clogging of the openings are likely to occur. In order to prevent this, it is necessary to control the thickness of the coating to about 3 μm, but it is difficult to spray in a state where the particle size distribution is not sharp and particles with different specific gravities are uniformly mixed. , It is difficult to obtain a uniform film.

【0011】(ニ) 特開昭62−11024号公報に
示されている方法で、マスク本体の表面に非晶質の金属
酸化物などをバインダーとして原子番号の小さい金属を
含む導電性の被膜を形成して、熱輻射の向上とともに、
帯電による電子ビームの軌道変化を防止し、それにより
色純度の劣化を防止する方法がある。
(D) According to the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 62-11024, a conductive coating film containing a metal having a small atomic number is formed on the surface of the mask main body using an amorphous metal oxide or the like as a binder. Formed, with the improvement of heat radiation,
There is a method of preventing the change of the orbit of the electron beam due to charging, thereby preventing the deterioration of the color purity.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、シャド
ウマスクの熱膨張によるカラー受像管の色純度の劣化を
防止する手段として、従来よりマスク本体の表面に電子
反射、熱伝導、熱輻射などを高める被膜を形成する方法
が知られている。しかしこのような方法は、被膜を形成
しない場合にくらべて、マスク本体に被膜を形成するた
めの液を塗布して所定の被膜を形成する工程、およびそ
の被膜を焼成する高温度の熱処理工程が必要であり、設
備的、経済的負担が大きい。
As described above, as a means for preventing the deterioration of the color purity of the color picture tube due to the thermal expansion of the shadow mask, electron reflection, heat conduction, heat radiation, etc. on the surface of the mask body have hitherto been performed. Methods are known for forming coatings that enhance the conductivity. However, in such a method, as compared with the case where a coating is not formed, the step of applying a liquid for forming a coating to the mask body to form a predetermined coating, and the high temperature heat treatment step of firing the coating are performed. It is necessary and has a large facility and financial burden.

【0013】特にマスク本体の電子銃側の面に被膜を形
成する場合は、電子銃から放出された電子ビームの衝撃
によりガス放出の可能性が大きく、その放出ガスにより
電子銃のカソードが被毒し、電子放出特性が劣化してカ
ラー受像管の寿命を短くし、また耐電圧特性が劣化す
る。その放出ガス量を少なくするためには、被膜の焼成
を高温度でおこなえばよいが、所定形状に成形されたマ
スク本体は、650℃以上の高温度で熱処理すると、変
形するため、高温度熱処理が不可能であり、被膜から十
分にガスを放出させることができない。
In particular, when a film is formed on the surface of the mask body on the side of the electron gun, there is a high possibility that gas will be released by the impact of the electron beam emitted from the electron gun, and the emitted gas will poison the cathode of the electron gun. However, the electron emission characteristics are deteriorated, the life of the color picture tube is shortened, and the withstand voltage characteristics are deteriorated. In order to reduce the amount of the released gas, the film may be fired at a high temperature, but the mask body formed into a predetermined shape is deformed when heat-treated at a high temperature of 650 ° C. or higher. Is not possible, and the gas cannot be sufficiently released from the coating.

【0014】この発明は、上記問題点に鑑みてなされた
ものであり、工程数の増加させることなくマスク本体の
電子銃側の面にカソードの電子放出特性を劣化させない
電子反射膜を形成し、この電子反射膜により電子ビーム
の衝突によるマスク本体の熱膨張を緩和して、色純度の
劣化をおこさないカラー受像管およびその製造方法を得
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an electron reflection film that does not deteriorate the electron emission characteristics of the cathode is formed on the electron gun side surface of the mask body without increasing the number of steps. It is an object of the present invention to provide a color picture tube and a method for manufacturing the same that alleviate thermal expansion of the mask main body due to the collision of electron beams by this electron reflection film and do not cause deterioration of color purity.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】冷間圧延鋼板を基材とす
るシャドウマスクの電子銃側の面に電子反射膜が形成さ
れこの電子反射膜形成部以外の面が酸化膜で覆われてな
るカラー受像管において、電子反射膜形成部に酸化膜を
形成することなく直接電子反射膜を形成した。
An electron reflection film is formed on a surface of a shadow mask having a cold-rolled steel sheet as a base material on the electron gun side, and a surface other than the electron reflection film formation portion is covered with an oxide film. In the color picture tube, the electron reflection film was directly formed without forming the oxide film on the electron reflection film formation portion.

【0016】また、その電子反射膜を、第1リン酸アル
ミニウムにより金属酸化物粒子が結着された被膜とし
た。
Further, the electron reflection film is a film in which metal oxide particles are bound by the primary aluminum phosphate.

【0017】また、冷間圧延鋼板を基材とし所定形状に
成形されたシャドウマスクの電子銃側の面に電子反射膜
が形成されこの電子反射膜形成部以外の面が酸化膜で覆
われてなるカラー受像管の製造方法において、所定形状
に成形したのち洗浄した酸化膜形成前のシャドウマスク
に電子反射膜形成液を塗布して電子反射膜形成被膜を形
成した。
Further, an electron reflection film is formed on the surface of the shadow mask formed from a cold-rolled steel sheet as a base material in a predetermined shape on the electron gun side, and the surface other than the electron reflection film forming portion is covered with an oxide film. In the method for producing a color picture tube, the electron reflection film forming liquid is applied to the shadow mask, which has been molded into a predetermined shape and washed before the formation of the oxide film, to form the electron reflection film forming film.

【0018】また、その電子反射膜形成液を塗布して形
成した電子反射膜形成用被膜を酸化膜形成時に焼成して
電子反射膜とした。
Further, the electron reflection film forming coating formed by applying the electron reflection film forming liquid is baked at the time of forming the oxide film to form an electron reflection film.

【0019】[0019]

【作用】上記のように、シャドウマスクの電子反射膜形
成部に酸化膜を形成することなく直接電子反射膜を形成
すると、たとえば第1リン酸アルミニウムを結着剤とす
る電子反射膜形成液を用いて電子反射膜を形成する場
合、電子反射膜形成液のpHは、リン酸イオンにより1
〜3となるため、そのリン酸イオンが冷間圧延鋼板から
なる基材表面の鉄と反応して化合物を形成し、付着力の
高い電子反射膜を形成することができる。
As described above, when the electron reflection film is directly formed on the electron reflection film formation portion of the shadow mask without forming an oxide film, for example, an electron reflection film forming liquid containing primary aluminum phosphate as a binder is used. When forming an electron-reflecting film using the above, the pH of the electron-reflecting film forming liquid is 1
Therefore, the phosphate ion reacts with iron on the surface of the base material made of the cold-rolled steel sheet to form a compound, and an electron-reflecting film having high adhesiveness can be formed.

【0020】また、所定形状に成形したのち洗浄した酸
化膜形成前のシャドウマスクに電子反射膜形成液を塗布
して電子反射膜形成被膜を形成すると、電子反射膜形成
液の塗りむらをなくし、均一な電子反射膜を形成するこ
とができる。
Further, when the electron reflection film forming liquid is applied to the shadow mask before forming the oxide film, which has been molded into a predetermined shape and washed, to form an electron reflection film forming film, uneven coating of the electron reflection film forming liquid is eliminated, A uniform electron reflection film can be formed.

【0021】さらに、その電子反射膜形成被膜を酸化膜
形成時に焼成して電子反射膜とすると、格別の焼成炉を
設けて焼成する必要がなく、電子反射膜形成に必要な高
温度で酸化膜と同時に電子反射膜を形成することができ
る。また高温度の熱処理により、基材や電子反射膜形成
被膜などから十分に吸蔵ガスを放出させて、エミッショ
ン特性や耐電圧特性を劣化しないカラー受像管とするこ
とかできる。
Further, if the electron reflection film forming film is baked at the time of forming the oxide film to form the electron reflection film, it is not necessary to provide a special baking furnace for baking, and the oxide film is formed at the high temperature necessary for forming the electron reflection film. At the same time, the electron reflection film can be formed. Further, it is possible to obtain a color picture tube which does not deteriorate the emission characteristics and the withstand voltage characteristics by sufficiently releasing the occluded gas from the base material, the electron reflection film forming coating, etc. by the high temperature heat treatment.

【0022】[0022]

【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described based on embodiments with reference to the drawings.

【0023】図2にその一実施例であるカラー受像管を
示す。このカラー受像管は、パネル1およびファンネル
2からなる外囲器を有し、その曲面からなるパネル1の
有効部内面に、青、緑、赤に発光する3色蛍光体層から
なる蛍光体スクリーン3が設けられ、この蛍光体スクリ
ーン3に対向かつ所定間隔(q値)離れて、その内側に
下記シャドウマスク20が配置されている。一方、ファ
ンネル2のネック5内に3電子ビーム6B ,6G ,6R
を放出する電子銃7が配設されている。そして、この電
子銃7から放出される3電子ビーム6B ,6G ,6R を
ファンネル3の外側に装着された偏向装置8の発生する
磁界により偏向し、シャドウマスク20を介して蛍光体
スクリーン3を水平、垂直走査することにより、カラー
画像を表示する構造に形成されている。
FIG. 2 shows a color picture tube which is one of the embodiments. This color picture tube has an envelope composed of a panel 1 and a funnel 2, and a phosphor screen composed of a three-color phosphor layer that emits blue, green, and red on the inner surface of the effective portion of the panel 1 having a curved surface. 3 is provided, and a shadow mask 20 described below is arranged inside the phosphor screen 3 at a predetermined distance (q value) away from the phosphor screen 3. On the other hand, 3 electron beams 6B, 6G, 6R are placed in the neck 5 of the funnel 2.
Is provided. Then, the three electron beams 6B, 6G, 6R emitted from the electron gun 7 are deflected by the magnetic field generated by the deflecting device 8 mounted outside the funnel 3, and the phosphor screen 3 is leveled through the shadow mask 20. By vertical scanning, a structure for displaying a color image is formed.

【0024】上記シャドウマスク20は、図1に示すよ
うに、蛍光体スクリーン側を凸曲面とする主面部21に
多数の開孔が所定の配列で形成された板厚0.1〜0.
3mm程度の冷間圧延鋼板からなるマスク本体22と、こ
のマスク本体22の周辺部に取付けられたマスク本体2
2よりも板厚の厚い冷間圧延鋼板からなるマスクフレー
ム23とからなる。特にこの例のシャドウマスク20に
おいては、そのマスク本体22の電子銃側の面に電子反
射膜24が形成され、この電子反射膜形成部分以外の面
が鉄の酸化膜(図示せず)で覆われたものとなってい
る。その電子反射膜24は、三酸化タングステンを主成
分とする粒径1μm 以下の球状の酸化タングステン粒子
とこの酸化タングステン粒子を結着する第1リン酸アル
ミニウムからなり、膜厚2〜15μm に形成されてい
る。
As shown in FIG. 1, the shadow mask 20 has a plate thickness of 0.1 to 0.0.1 in which a large number of openings are formed in a predetermined array in a main surface portion 21 having a convex curved surface on the phosphor screen side.
A mask body 22 made of a cold rolled steel plate of about 3 mm, and a mask body 2 attached to the peripheral portion of the mask body 22.
2 and a mask frame 23 made of a cold-rolled steel plate having a thickness larger than 2. Particularly, in the shadow mask 20 of this example, an electron reflection film 24 is formed on the surface of the mask body 22 on the electron gun side, and the surface other than the electron reflection film formation portion is covered with an iron oxide film (not shown). It has been broken. The electron reflection film 24 is composed of spherical tungsten oxide particles containing tungsten trioxide as a main component and having a particle size of 1 μm or less and primary aluminum phosphate binding the tungsten oxide particles, and is formed to have a film thickness of 2 to 15 μm. ing.

【0025】なお、このシャドウマスク20は、図1に
示したように、パネル1に設けられた複数個のスタッド
ピン25と、マスクフレーム23に取付けられて上記ス
タッドピン25に係止する複数個の弾性支持体26とに
より、パネル1の内側に支持されている。
As shown in FIG. 1, the shadow mask 20 includes a plurality of stud pins 25 provided on the panel 1 and a plurality of stud pins 25 attached to the mask frame 23 and engaged with the stud pins 25. It is supported inside the panel 1 by the elastic support member 26 of FIG.

【0026】このようなカラー受像管の製造は、図3に
示すように、まず後述する方法により製作されたマスク
本体にマスクフレームを溶接してシャドウマスクを組立
て、このシャドウマスクのマスクフレームに、パネルの
有効部内面との間隔が所定の間隔となるように弾性支持
体を溶接し、その弾性支持体をパネルに設けられたスタ
ッドピンに着脱可能に係止して、パネル・マスク組合体
を組立てる。つぎにこのパネル・マスク組合体につい
て、そのパネルの有効部の内面に、写真印刷法によりシ
ャドウマスクを露光用マスクとして蛍光体スクリーンを
形成する。一方、ファンネルの内面に黒鉛を主成分とす
る導電塗料を塗布して、内面導電膜を形成する。つぎに
上記蛍光体スクリーンが形成されかつシャドウマスクの
装着されたパネルと上記内面導電膜の形成されたファン
ネルを組合わせて加熱炉に入れ、フリットガラスにより
それらを一体に接合(封着)する。ついでその一体に接
合されたパネルおよびファンネルからなる外囲器のネッ
ク内に電子銃を封止する。そしてこの電子銃の封止され
た外囲器を排気する。その後、外囲器内真空度を高める
ために、外囲器内に配置されたゲッターを加熱して飛散
させ、さらに電子銃のカソードからの電子放出を安定化
させるエージング、耐電圧を高めるための耐電圧処理な
どを施したのち、特性検査をおこなうことにより製造さ
れる。
To manufacture such a color picture tube, as shown in FIG. 3, first, a mask frame is welded to a mask body manufactured by a method described later to assemble a shadow mask, and the mask frame of this shadow mask is The elastic support is welded so that the distance from the inner surface of the effective part of the panel is a predetermined distance, and the elastic support is detachably locked to the stud pin provided on the panel to form the panel / mask combination. Assemble. Next, with respect to this panel / mask combination, a phosphor screen is formed on the inner surface of the effective portion of the panel by a photo printing method using a shadow mask as an exposure mask. On the other hand, a conductive paint containing graphite as a main component is applied to the inner surface of the funnel to form an inner conductive film. Next, the panel on which the phosphor screen is formed and the shadow mask is mounted and the funnel on which the inner conductive film is formed are combined and placed in a heating furnace, and they are integrally bonded (sealed) by frit glass. The electron gun is then sealed within the neck of the envelope which consists of the panel and funnel joined together. Then, the sealed envelope of the electron gun is exhausted. After that, in order to increase the degree of vacuum inside the envelope, the getter placed inside the envelope is heated and scattered, and further aging is performed to stabilize the electron emission from the cathode of the electron gun, and to increase the withstand voltage. It is manufactured by performing characteristic inspection after applying withstand voltage treatment.

【0027】上記マスク本体の製作は、図4に示すよう
に、まずフォトエッチング法により冷間圧延鋼板に多数
の円形状または矩形状の開孔を所定の配列で形成して平
板状のフラットマスクを形成する。つぎにこのフラット
マスクをアニールし、このアニールされたフラットマス
クをプレス加工により所定形状に成形する。つぎにその
成形マスクを洗浄して、成形時に付着したプレス油など
の表面の汚れを除去する。
As shown in FIG. 4, the mask main body is manufactured by first forming a large number of circular or rectangular openings in a cold-rolled steel sheet in a predetermined arrangement by a photoetching method, and then forming a flat flat mask. To form. Next, this flat mask is annealed, and the annealed flat mask is pressed into a predetermined shape. Next, the molding mask is washed to remove surface stains such as press oil attached during molding.

【0028】その後、上記洗浄したマスク本体の電子銃
側となる面に、下記電子反射膜形成液を、エアスプレー
あるいはエアレススプレー法により塗布して電子反射膜
形成用被膜を形成する。上記電子反射膜形成液は、第1
リン酸アルミニウム(AlO3 ・3P2 5 ・6H
2 O)を結着剤として、少なくとも三酸化タングステン
(WO3 )を主成分とする粒径1μm 以下の球状の酸化
タングステン微粒子を15〜50重量%含む液からな
る。つぎに上記電子反射膜形成被膜の形成されたマスク
本体を黒化炉に入れて、550〜650℃で処理し、上
記電子反射膜形成被膜形成部分以外の面に鉄の酸化膜を
形成すると同時に、電子反射膜形成被膜を焼成して、膜
厚2〜15μm の電子反射膜を形成してマスク本体を得
る。このマスク本体は、その後、表面状態の検査がおこ
なわれる。
Then, the electron reflection film forming liquid described below is applied to the surface of the cleaned mask body on the electron gun side by an air spray or airless spray method to form an electron reflection film forming film. The electron reflection film forming liquid is
Aluminum phosphate (AlO 3 · 3P 2 O 5 · 6H
2 O) as a binder, and a liquid containing at least 15 to 50% by weight of spherical tungsten oxide fine particles containing tungsten trioxide (WO 3 ) as a main component and having a particle size of 1 μm or less. Next, the mask main body on which the electron reflection film-forming coating is formed is placed in a blackening furnace and treated at 550 to 650 ° C. to simultaneously form an iron oxide film on the surface other than the electron reflection film-forming coating formation portion. Then, the electron-reflecting film forming coating is fired to form an electron-reflecting film having a thickness of 2 to 15 μm to obtain a mask body. The mask body is then inspected for surface condition.

【0029】このマスク本体の製造方法が従来の製造方
法と異なる点は、 (イ) マスク成形後、酸化膜形成前に電子反射膜形成
液を塗布して電子反射膜形成被膜を形成すること (ロ) 酸化膜形成と同時に電子反射膜を形成すること (ハ) 特定組成の電子反射膜形成液を用いること にある。
The manufacturing method of the mask main body is different from the conventional manufacturing method. (A) After forming the mask, applying an electron reflection film forming liquid to form an electron reflection film forming film before forming an oxide film. (B) Forming an electron-reflecting film at the same time as forming the oxide film (c) Using an electron-reflecting film forming liquid having a specific composition.

【0030】すなわち、従来のマスク本体の製造方法
は、図5に示すように、フォトエッチング法により平板
状のフラットマスクを形成したのち、順次、アニール処
理→プレス成形→洗浄→黒化処理→検査したのち、電子
反射膜形成液塗布→焼成→検査して、マスク本体を製作
しているが、この例のマスク本体は、上記のように酸化
膜形成前に電子反射膜形成液を塗布して電子反射膜形成
被膜を形成し、酸化膜形成と同時に焼成して電子反射膜
としている。
That is, in the conventional method for manufacturing a mask body, as shown in FIG. 5, a flat plate-shaped flat mask is formed by a photo-etching method, and then annealing treatment → press molding → cleaning → blackening treatment → inspection are sequentially performed. After that, the electron reflection film forming liquid application → baking → inspection is performed to manufacture the mask main body, but the mask main body of this example is formed by applying the electron reflection film forming liquid before forming the oxide film as described above. An electron-reflecting film-forming film is formed and baked at the same time when the oxide film is formed to form an electron-reflecting film.

【0031】上記のように電子反射膜を形成すると、つ
ぎの効果が得られる。 (イ) 高温度の焼成が可能となり、電子反射膜の付着
力を高めることができる。すなわち、第1リン酸アルミ
ニウムを結着剤とする電子反射膜に十分な付着力や耐水
性を与えるためには、520℃以上の熱処理が必要であ
るが、一般にカラー受像管の製造工程における最高熱処
理温度は、ガラスからなるパネルの変形防止上、ガラス
の転位点以下の約460℃が限界であり、520℃以上
の温度に加熱することができない。しかし酸化膜形成時
に処理すると、550〜650℃で処理することがで
き、その高温度の熱処理により電子反射膜の付着力を高
めることができる。 (ロ) 酸化膜形成時の高温度熱処理により、冷間圧延
鋼板および電子反射膜形成被膜を構成する材料の結晶水
や吸蔵ガスを十分に放出させることができる。その結
果、カラー受像管に組込み、動作時に電子ビームが衝突
してもガス放出が少なく、電子銃を構成するカソードの
劣化を軽減でき、長寿命かつ耐電圧特性の良好なカラー
受像管が得られる。 (ハ) 酸化膜の形成と同時に電子反射膜形成被膜を焼
成するため、マスク本体の製造工程を短縮でき、かつ格
別の焼成炉を設置することなく電子反射膜を形成するこ
とができる。 (ニ) 第1リン酸アルミニウムを結着剤として、粒径
1μm 以下の球状の酸化タングステン微粒子を15〜5
0重量%含む特定組成の電子反射膜形成用液を酸化膜形
成前に塗布して、直接電子反射膜を形成するため、付着
力の強い膜剥がれの生じない電子反射膜とすることがで
きる。
By forming the electron reflection film as described above, the following effects can be obtained. (B) It becomes possible to perform baking at a high temperature, and the adhesion of the electron reflection film can be increased. That is, heat treatment at 520 ° C. or higher is necessary in order to give sufficient adhesion and water resistance to the electron reflection film using the primary aluminum phosphate as a binder, but it is generally the highest in the manufacturing process of color picture tubes. The heat treatment temperature has a limit of about 460 ° C., which is lower than the glass transition point, in order to prevent deformation of the glass panel, and cannot be heated to a temperature of 520 ° C. or higher. However, when the oxide film is processed, it can be processed at 550 to 650 ° C., and the high-temperature heat treatment can enhance the adhesion of the electron reflection film. (B) By the high temperature heat treatment at the time of forming the oxide film, it is possible to sufficiently release the water of crystallization and the occluded gas of the material forming the cold-rolled steel sheet and the electron reflective film forming coating. As a result, the color cathode ray tube is incorporated into the color cathode ray tube, the gas emission is small even if the electron beam collides during operation, the deterioration of the cathode constituting the electron gun can be reduced, and the color cathode ray tube having a long life and good withstand voltage characteristics can be obtained. . (C) Since the electron reflection film forming film is baked at the same time when the oxide film is formed, the manufacturing process of the mask body can be shortened and the electron reflection film can be formed without installing a special baking furnace. (D) 15 to 5 spherical tungsten oxide fine particles having a particle size of 1 μm or less using the first aluminum phosphate as a binder.
Since the electron-reflecting film forming liquid containing 0% by weight of a specific composition is applied before the oxide film is formed to directly form the electron-reflecting film, the electron-reflecting film having strong adhesive force and free from film peeling can be obtained.

【0032】すなわち、一般に強固な無機質の連続膜
は、剥がれやすいが、上記特定組成の電子反射膜形成成
膜液を用いて電子反射膜を形成すると、僅かな量で緻密
構造の膜を形成することができ、かつ個々の粒子が網目
構造のようにつながった膜とすることができる。しかも
第1リン酸アルミニウムを結着剤とする電子反射膜形成
用液を用いて電子反射膜を形成すると、電子反射膜形成
液のpHは、リン酸イオンにより1〜3となるため、冷
間圧延鋼板からなる基材表面の鉄と反応して化合物を形
成する。その結果、基材に強固に付着した膜剥がれの生
じない膜とすることができる。
That is, a strong inorganic continuous film is generally easily peeled off, but when an electron reflection film is formed using the electron reflection film forming film forming liquid having the above-mentioned specific composition, a film having a dense structure is formed in a small amount. It can be a film in which individual particles are connected like a network structure. Moreover, when the electron reflecting film is formed using the liquid for forming an electron reflecting film using the first aluminum phosphate as a binder, the pH of the electron reflecting film forming liquid becomes 1 to 3 due to the phosphate ion, so that the cold A compound is formed by reacting with iron on the surface of a base material made of a rolled steel plate. As a result, it is possible to obtain a film that is firmly attached to the base material and does not peel off.

【0033】なお、電子反射膜形成液中の酸化タングス
テン微粒子の含有量を15〜50%としたが、これは、
15%よりも少なくなると、均一に分散しにくくなるば
かりでなく、マスク本体の熱膨張による蛍光体スクリー
ン上における電子ビームのランディングずれ、すなわ
ち、ピュリテイ・ドリフト抑制効果が減少する。また5
0%よりも多くなると、膜の付着力が不十分となり、粒
子の脱落による不良が生しやすくなるためである。
The content of the tungsten oxide fine particles in the electron reflection film forming liquid is set to 15 to 50%.
If it is less than 15%, not only is it difficult to uniformly disperse, but also the landing shift of the electron beam on the phosphor screen due to the thermal expansion of the mask body, that is, the effect of suppressing the purity drift is reduced. Also 5
This is because if the content is more than 0%, the adhesive force of the film becomes insufficient, and defects due to the particles falling off tend to occur.

【0034】また、電子反射膜の膜厚を2〜15μm と
したが、これは、2μm よりも薄くなると、ピュリテイ
・ドリフト抑制効果が減少し、15μm よりも厚くなる
と、マスク本体の開孔の孔づまりや酸化タングステン粒
子の脱落による不良が生じやすくなるためである。
Although the thickness of the electron reflection film is set to 2 to 15 μm, if the thickness is less than 2 μm, the effect of suppressing the purity drift is reduced, and if the thickness is more than 15 μm, the hole of the opening of the mask body is reduced. This is because defects such as jams and the dropping of the tungsten oxide particles are likely to occur.

【0035】なお、酸化タングステン粒子を用いて電子
反射膜を形成すると、その高い熱放射率および電子反射
能力により、ピュリテイ・ドリフト抑制効果を向上させ
ることができる。すなわち、完全黒体の熱輻射率を1と
すると、従来電子反射膜の主成分として知られている酸
化ビスマスの熱輻射率は0.80〜0.85、タングス
テンは0.95〜0.98、三酸化タングステンは0.
92〜0.95であり、三酸化タングステンを主成分と
する酸化タングステン粒子を用いることにより、タング
ステン粒子からなる膜と同等であり、四三酸化鉄や酸化
ビスマスから膜よりも熱輻射率の高い電子反射膜を形成
することができる。
When the electron reflection film is formed by using the tungsten oxide particles, the high thermal emissivity and the electron reflection ability can improve the effect of suppressing the purity drift. That is, when the thermal emissivity of a perfect black body is 1, the thermal emissivity of bismuth oxide, which is conventionally known as the main component of an electron reflection film, is 0.80 to 0.85, and that of tungsten is 0.95 to 0.98. , Tungsten trioxide is 0.
92 to 0.95, which is equivalent to a film made of tungsten particles by using tungsten oxide particles containing tungsten trioxide as a main component, and has a higher thermal emissivity than a film made of triiron tetraoxide or bismuth oxide. An electron reflection film can be formed.

【0036】実際に25インチカラー受像管に上記方法
により製造されたシャドウマスクを組込んで特性を評価
したところ、つぎの結果が得られた。
The following results were obtained when the characteristics were evaluated by actually incorporating the shadow mask manufactured by the above method into a 25-inch color picture tube.

【0037】マスク本体の電子銃側となる一方の面に酸
化タングステン微粒子30%含む電子反射膜形成液を塗
布し、酸化膜形成時に同時に焼成して電子反射膜とした
マスク本体をカラー受像管に組込み、陽極電圧26 k
V、カソード電流1330μmAで、図6に示すよう
に、蛍光体スクリーン3の中心から水平方向(X軸方
向)に160mm離れた位置に幅88mmの帯状の白色パタ
ーン28を描き、スイッチ・オン後、シャドウマスクの
熱膨張により時間とともに変化する蛍光体スクリーン3
上での電子ビームの移動量を白色パターン28の中心2
7(X軸上の点)において測定した。その結果、表1に
示すように、電子反射膜を形成しないマスク本体を組込
んだカラー受像管での電子ビームの移動量を100%と
した場合、この例のマスク本体を組込んだカラー受像管
では、68%と、上記電子反射膜を形成しないマスク本
体を組込んだカラー受像管に対して、ピュリティ・ドリ
フトを32%改善することができた。
An electron reflection film forming liquid containing 30% of tungsten oxide fine particles was applied to one surface of the mask body on the side of the electron gun, and the mask body was changed to an electron reflection film by baking at the same time when the oxide film was formed into a color picture tube. Built-in, anode voltage 26 k
As shown in FIG. 6, with a V and a cathode current of 1330 μmA, a strip-shaped white pattern 28 having a width of 88 mm was drawn at a position 160 mm away from the center of the phosphor screen 3 in the horizontal direction (X-axis direction), and after switching on, Phosphor screen 3 that changes with time due to thermal expansion of the shadow mask
The amount of movement of the electron beam above the center 2 of the white pattern 28
7 (point on the X-axis). As a result, as shown in Table 1, when the movement amount of the electron beam in the color picture tube in which the mask body without the electron reflection film is incorporated is 100%, the color image in which the mask body of this example is incorporated is received. In the case of the tube, the purity drift was 68%, and the purity drift could be improved by 32% with respect to the color picture tube incorporating the mask main body in which the electron reflection film was not formed.

【表1】 また上記カラー受像管を長時間動作させたときの電子放
出特性の劣化を測定(寿命試験)した結果、表2に示す
ように、電子反射膜を形成しないマスク本体を組込んだ
カラー受像管の3000時間後の電子放出量を100%
とした場合、この例のマスク本体を組込んだカラー受像
管では、97%とほぼ同等の特性が得られた。しかも管
内ガスによる蛍光体スクリーンのイオン焼けも認められ
なかった。
[Table 1] Further, as a result of measuring the deterioration of the electron emission characteristics when the color picture tube is operated for a long time (life test), as shown in Table 2, a color picture tube in which a mask main body without an electron reflection film is incorporated is shown. 100% electron emission after 3000 hours
In such a case, the color picture tube incorporating the mask main body of this example provided characteristics substantially equal to 97%. Moreover, ion burning of the phosphor screen due to the gas in the tube was not recognized.

【表2】 [Table 2]

【0038】[0038]

【発明の効果】冷間圧延鋼板を基材とするシャドウマス
クの電子銃側の面に電子反射膜が形成されこの電子反射
膜形成部以外の面が酸化膜で覆われてなるカラー受像管
において、電子反射膜形成部に酸化膜を形成することな
く直接電子反射膜を形成すると、特に第1リン酸アルミ
ニウムを結着剤として電子反射膜形成用液を用いて電子
反射膜を形成する場合、電子反射膜形成用液中のリン酸
が冷間圧延鋼板からなる基材表面の鉄と反応して化合物
を形成し、電子反射膜の付着力が強く膜剥がれが生じな
いカラー受像管とすることができる。
In a color picture tube in which an electron reflection film is formed on the electron gun side surface of a shadow mask having a cold-rolled steel sheet as a base material and the surface other than the electron reflection film formation portion is covered with an oxide film. When the electron reflection film is formed directly on the electron reflection film formation portion without forming an oxide film, particularly when the electron reflection film is formed by using the liquid for forming the electron reflection film with the first aluminum phosphate as a binder, A color picture tube in which phosphoric acid in the electron-reflecting film-forming liquid reacts with iron on the surface of a cold-rolled steel substrate to form a compound, and the electron-reflecting film has strong adhesion and does not peel off. You can

【0039】また、所定形状に成形したのち洗浄した酸
化膜形成前のシャドウマスクに電子反射膜形成液を塗布
して酸化膜形成前に電子反射膜形成被膜を形成すると、
電子反射膜形成液の塗りむらをなくし、均一な電子反射
膜を形成することができる。
If an electron reflection film forming liquid is applied to a shadow mask before forming an oxide film, which has been molded into a predetermined shape and then washed, to form an electron reflection film forming film before forming an oxide film,
It is possible to form a uniform electron reflection film by eliminating uneven coating of the electron reflection film forming liquid.

【0040】さらに、その電子反射膜形成用被膜を酸化
膜形成と同時に焼成して電子反射膜とすると、格別の焼
成工程を要することなく、したがって格別の焼成炉を設
置することなく、電子反射膜形成に必要な高温度で酸化
膜と同時に電子反射膜を形成することができ、その高温
度の焼成により、冷間圧延鋼板および電子反射膜形成被
膜を構成する材料の結晶水や吸蔵ガスを十分に放出させ
ることができ、エミッション特性および耐電圧特性の良
好なカラー受像管とすることができる。
Further, if the coating film for forming the electron reflection film is baked simultaneously with the formation of the oxide film to form the electron reflection film, the electron reflection film does not need a special baking step and therefore, a special baking furnace is not installed. The electron reflection film can be formed at the same time as the oxide film at the high temperature necessary for formation, and the high temperature baking can sufficiently secure the water of crystallization and the occluded gas of the material forming the cold-rolled steel sheet and the electron reflection film forming film. It is possible to obtain a color picture tube having excellent emission characteristics and withstand voltage characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例であるカラー受像管のシャ
ドウマスクの構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a shadow mask of a color picture tube which is an embodiment of the present invention.

【図2】上記カラー受像管の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of the color picture tube.

【図3】上記カラー受像管の製造工程を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process of the color picture tube.

【図4】この発明の一実施例に係るマスク本体の製造工
程を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process of the mask main body according to the embodiment of the present invention.

【図5】この発明の一実施例に係るマスク本体の製造工
程と比較のために示した従来のマスク本体の製造工程図
である。
FIG. 5 is a manufacturing process diagram of a conventional mask main body shown for comparison with a manufacturing process of a mask main body according to an embodiment of the present invention.

【図6】シャドウマスクの熱膨張による蛍光体スクリー
ン上における電子ビームの移動量の測定を説明するため
の図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining measurement of an amount of movement of an electron beam on a phosphor screen due to thermal expansion of a shadow mask.

【図7】従来のカラー受像管の構成を説明するための図
である。
FIG. 7 is a diagram for explaining the configuration of a conventional color picture tube.

【図8】従来のカラー受像管のシャドウマスクの構成を
示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a conventional shadow mask of a color picture tube.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3…蛍光体スクリーン 5…電子銃 6B ,6G ,6R …3電子ビーム 20…シャドウマスク 22…マスク本体 23…マスクフレーム 24…電子反射膜 3 ... Phosphor screen 5 ... Electron gun 6B, 6G, 6R ... 3 Electron beam 20 ... Shadow mask 22 ... Mask body 23 ... Mask frame 24 ... Electron reflection film

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 冷間圧延鋼板を基材とするシャドウマス
クの電子銃側の面に電子反射膜が形成されこの電子反射
膜形成部以外の面が酸化膜で覆われてなるカラー受像管
において、 上記シャドウマスクは上記電子反射膜形成部に酸化膜を
形成することなく直接電子反射膜が形成されていること
を特徴とするカラー受像管。
1. A color picture tube in which an electron reflection film is formed on a surface of a shadow mask having a cold-rolled steel sheet as a base material on the electron gun side, and a surface other than the electron reflection film formation portion is covered with an oxide film. A color picture tube characterized in that the shadow mask has an electron reflection film directly formed on the electron reflection film formation portion without forming an oxide film.
【請求項2】 電子反射膜が第1リン酸アルミニウムに
より金属酸化物粒子が結着された被膜からなることを特
徴とする請求項1記載のカラー受像管。
2. The color picture tube according to claim 1, wherein the electron reflection film is formed of a film in which metal oxide particles are bound by a first aluminum phosphate.
【請求項3】 冷間圧延鋼板を基材とし所定形状に成形
されたシャドウマスクの電子銃側の面に電子反射膜が形
成されこの電子反射膜形成部以外の面が酸化膜で覆われ
てなるカラー受像管の製造方法において、 上記所定形状に成形したのち洗浄した酸化膜形成前のシ
ャドウマスクに電子反射膜形成液を塗布して電子反射膜
形成被膜を形成することを特徴とするカラー受像管の製
造方法。
3. An electron reflection film is formed on a surface of a shadow mask, which is made of a cold-rolled steel sheet as a base material and has a predetermined shape, on an electron gun side, and a surface other than the electron reflection film forming portion is covered with an oxide film. In the method for producing a color picture tube, the color image receiving method is characterized in that an electron reflection film forming liquid is applied to a shadow mask before forming an oxide film, which is molded into the predetermined shape and then washed to form an electron reflection film forming film. Pipe manufacturing method.
【請求項4】 電子反射膜形成液を塗布して形成した電
子反射膜形成被膜を酸化膜形成時に焼成して電子反射膜
とすることを特徴とする請求項3記載のカラー受像管の
製造方法。
4. The method of manufacturing a color picture tube according to claim 3, wherein the electron reflection film forming coating formed by applying the electron reflection film forming liquid is baked to form an electron reflection film when the oxide film is formed. .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6172449B1 (en) 1997-05-23 2001-01-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of manufacturing electronic tube and electronic tube

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