JPH0912615A - Actinic-radiation-curing composition and cured product thereof - Google Patents

Actinic-radiation-curing composition and cured product thereof

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JPH0912615A
JPH0912615A JP18508795A JP18508795A JPH0912615A JP H0912615 A JPH0912615 A JP H0912615A JP 18508795 A JP18508795 A JP 18508795A JP 18508795 A JP18508795 A JP 18508795A JP H0912615 A JPH0912615 A JP H0912615A
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JP
Japan
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group
formula
parts
meth
atom
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Application number
JP18508795A
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Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Abe
哲也 安倍
Ritsuko Yoshioka
律子 吉岡
Minoru Yokoshima
実 横島
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To obtain an actinic-radiation-curing composition desirable for stereolithography by mixing an ethylenically unsaturated compound with a cationically polymerizable substance and a sulfonium salt of a specified structure. CONSTITUTION: An ethylenically unsaturated compound (A) is mixed with a cationically polymerizable substance (B) and a photopolymerization initiator comprising a sulfonium salt (C) of formula I [wherein R1 to R5 are each H, OH, a 1-15C aliphatic group, a halogen, group of formula II or the like; (n) is 1-4; Z is a group of the formula: MQp or MQp-1 (OH) (wherein M is P, B, As or the like; Q is a halogen; and (p) is 4-6); and X is a group of formula II (wherein R<6> to R15 are each H, a halogen, an alkoxyl, phenyl or the like)] to obtain an actinic-radiation-curing composition. This initiator is applicable to both cationic polymerization and radical polymerization and is suited as an optical shaping composition. The component A is, for example, a hydroxylalkyl (meth)acrylate, and the component B is, for example, an epoxy resin or styrene. The component C is obtained by condensing a thioxanthone compound with a diphenyl sulfoxide compound.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、エチレン性不飽和基含
有化合物(A)とカチオン重合性物質(B)と特定の構
造を有するスルホニウム塩からなる光重合開始剤(C)
を含有してなるエネルギー線の照射により重合が可能な
エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物に関する。更
にくわしくは、エネルギー線硬化型の光学的造形用樹脂
組成物に適するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化
物に関する。
The present invention relates to a photopolymerization initiator (C) comprising an ethylenically unsaturated group-containing compound (A), a cationically polymerizable substance (B) and a sulfonium salt having a specific structure.
And an energy ray-curable composition capable of being polymerized by irradiation with an energy ray, and a cured product thereof. More specifically, it relates to an energy ray-curable composition suitable for an energy ray-curable resin composition for optical modeling and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、鋳型製作時に必要とされる製品
形状に対応する模型、あるいは切削加工の倣い制御用又
は形彫放電加工電極用の模型の製作は、手加工により、
あるいはNCフライス盤等を用いたNC切削加工により
行われていた。しかしながら、手加工による場合は、多
くの手間と熟練とを要するという問題があり、NC切削
加工による場合は、刃物刃先形状変更のための交換や摩
耗等を考慮した、複雑な工作プログラムを作る必要があ
ると共に、加工面に生じた段を除くために、更に仕上げ
加工を必要とする場合があるという問題がある。最近、
これらの問題点を解消し、鋳型製作用、倣い加工用、形
彫放電加工用の複雑な模型や種々の定形物を光学的造形
法により創成手法に関する技術開発が行なわれてきてい
る。この光学的造形用樹脂としては、エネルギー線によ
る感度が優れていること、エネルギー線による硬化の解
像度が良いこと、低粘度であること、硬化時の体積収縮
率が小さいこと、硬化物の機械強度が優れていること、
自己接着性が良いこと、酸素雰囲気下での硬化特性が良
いことなど、種々の特性が要求されており、例えば、特
開平2−80423号公報には、エネルギー線硬化性、
カチオン重合性有機物質、エネルギー線感受性カチオン
重合開始剤、エネルギー線硬化性ラジカル重合性有機物
質及びエネルギー線感受性ラジカル重合開始剤からなる
光学造形用樹脂組成物が提案されている。
2. Description of the Related Art Generally, a model corresponding to a product shape required at the time of mold making, or a model for cutting control of a cutting process or a model for a die-sinking electric discharge machining electrode is manufactured by hand machining.
Alternatively, it has been performed by NC cutting using an NC milling machine or the like. However, there is a problem that a lot of labor and skill are required in the case of manual machining, and in the case of NC cutting, it is necessary to create a complicated machining program in consideration of exchange and wear for changing the shape of the cutting edge of the blade. In addition, there is a problem that further finishing processing may be required in order to remove the step formed on the processed surface. Recently,
In order to solve these problems, technical development has been carried out on a method for creating a complicated model for mold making, copying, and die-sinking electric discharge machining and various fixed objects by an optical molding method. This optical modeling resin has excellent sensitivity to energy rays, good resolution of curing by energy rays, low viscosity, low volume shrinkage rate during curing, and mechanical strength of the cured product. Is excellent,
Various characteristics such as good self-adhesiveness and good curing characteristics in an oxygen atmosphere are required. For example, JP-A No. 2-80423 discloses an energy ray curability,
An optical modeling resin composition comprising a cationically polymerizable organic substance, an energy ray-sensitive cationic polymerization initiator, an energy ray-curable radical-polymerizable organic substance, and an energy ray-sensitive radical polymerization initiator has been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来、上記の特開平2
−80423号公報のよう様にカチオン重合性有機物質
とラジカル重合性有機物質を併用する場合、カチオン重
合開始剤とラジカル重合開始剤を併用する事が一般に行
なわれている事であるが、2種類の重合開始剤の選択の
問題や組成物の価格が高くなる等が問題となっている。
Conventionally, the above-mentioned Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 2 has been proposed.
When a cation-polymerizable organic substance and a radical-polymerizable organic substance are used in combination as in JP-A-80423, it is generally practiced to use a cation polymerization initiator and a radical polymerization initiator in combination. However, there are problems such as the problem of selection of the polymerization initiator and the increase in the price of the composition.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、チオキサントン系化
合物に特定のスルホニウム塩基を導入してなる光重合開
始剤を用いることにより、カチオン重合開始剤とラジカ
ル重合開始剤を併用することがなくてもエネルギー線
(例えば、紫外線等)を照射することにより硬化性の良
好なエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物を提供す
ることに成功した。すなわち、本発明は、エチレン性不
飽和基含有化合物(A)とカチオン重合性物質(B)と
式(1)
Means for Solving the Problems As a result of intensive research to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that by using a photopolymerization initiator prepared by introducing a specific sulfonium base into a thioxanthone compound, Succeeded in providing an energy ray-curable composition having good curability and its cured product by irradiating with energy rays (for example, ultraviolet rays) without using a polymerization initiator and a radical polymerization initiator together. did. That is, the present invention relates to an ethylenically unsaturated group-containing compound (A), a cationically polymerizable substance (B) and the formula (1)

【0005】[0005]

【化3】 Embedded image

【0006】{式中、Xは式(2)で示される基In the formula, X is a group represented by the formula (2)

【0007】[0007]

【化4】 Embedded image

【0008】(式中R6 〜R15は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C20
構造中に、水酸基、エーテル基、エステル基、(メタ)
アクリロイル基、エポキシ基、あるいはアリル基を有し
ても良い脂肪族基、フェニル基、フェノキシ基、チオフ
ェノキシ基、のいずれから選択された基である。) R1 〜R5 は、それぞれ水素原子、水酸基、C1 〜C15
の脂肪族基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、
フェニル基、及び式(2)で示される基から選択された
基であり、nは1〜4、Zは式(3)または式(4)
(In the formula, R 6 to R 15 are each a hydrogen atom,
In the structure of halogen atom, nitro group, alkoxy group, C 1 to C 20 , hydroxyl group, ether group, ester group, (meth)
It is a group selected from any of an acryloyl group, an epoxy group, or an aliphatic group which may have an allyl group, a phenyl group, a phenoxy group, and a thiophenoxy group. R 1 to R 5 each represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, C 1 to C 15
Aliphatic groups, halogen atoms, nitro groups, alkoxy groups,
A group selected from a phenyl group and a group represented by the formula (2), n is 1 to 4, and Z is the formula (3) or the formula (4).

【0009】MQP (3) MQP-1 (OH) (4)MQ P (3) MQ P-1 (OH) (4)

【0010】(式中、Mはリン原子、ホウ素原子、ヒ素
原子またはアンチモン原子であり、Qはハロゲン原子で
あり、Pは4〜6の整数である。)で示される。}で示
されるスルホニウム塩からなる光重合開始剤(C)を含
有することを特徴とするエネルギー線硬化性組成物及び
その硬化物に関する。
(In the formula, M is a phosphorus atom, a boron atom, an arsenic atom or an antimony atom, Q is a halogen atom, and P is an integer of 4 to 6). } The photocurable initiator (C) which consists of the sulfonium salt shown by these is contained, The energy ray curable composition characterized by the above-mentioned, and its hardened | cured material.

【0011】本発明で用いるエチレン性不飽和基含有化
合物(A)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、(2−ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート類;エチレングリコール、メトキシテトラエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコールなどのグリコールのモノまたはジ(メタ)
アクリレート類;N,N−ジメチル(メタ)アクリルア
ミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミドなどの
(メタ)アクリルアミド類;N,N−ジメチルアミノエ
チル(メタ)アクリレートなどのアミノアルキル(メ
タ)アクリレート類;ヘキサンジオール、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリ
トール、トリペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキ
シエチルイソシアヌレートなどの多価アルコールまた
は、これ等のエチレンオキサイドあるいはプロピレンオ
キサイドの付加物の多価(メタ)アクリレート類;フェ
ノキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メ
タ)アクリレートおよび、これ等のフェノール類のエチ
レンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加物な
どの(メタ)アクリレート類;グリセリンジグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テル、トリグリシジルイソシアヌレートなどのグリシジ
ルエーテルの(メタ)アクリレート類;およびメラミン
(メタ)アクリレート等の反応性単量体、
Examples of the ethylenically unsaturated group-containing compound (A) used in the present invention include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and (2-hydroxybutyl (meth) acrylate; Mono or di (meth) glycols such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol
Acrylates; (meth) acrylamides such as N, N-dimethyl (meth) acrylamide and N-methylol (meth) acrylamide; aminoalkyl (meth) acrylates such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; hexane Polyhydric alcohols such as diols, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol and tris-hydroxyethyl isocyanurate, or polyhydric (meth) acrylates of adducts of ethylene oxide or propylene oxide thereof; Phenoxy (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, and (meth) acrylates such as ethylene oxide or propylene oxide adducts of these phenols S; glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, (meth) acrylates of glycidyl ethers such as triglycidyl isocyanurate; and melamine (meth) reactive monomers such as acrylates,

【0012】エポキシ樹脂(例えば、フェノールノボラ
ック樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリ
ブタジエン変性エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、臭
素化フェノールノボラックエポキシ樹脂、臭素化ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、アミノ基含有エポキシ樹脂
等)と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メ
タ)アクリレート、上記エポキシ(メタ)アクリレート
に多塩基性無水物(例えば、無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸等)を反応させたカルボン酸変性
エポキシ(メタ)アクリレート、ポリオール成分(例え
ば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、1,6
−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジ
オール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、1,4−ジメチロールベンゼン、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール等)と酸成分(例え
ば、マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の
2塩基酸あるいは、2塩基酸無水物等)の反応物である
ポリエステルポリオールの(メタ)アクリル酸エステル
あるいは、ポリオール(例えば、エチレングリコール、
ネルペンチルグリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリ
オール等)と有機ポリイソシアネート(例えば、トリレ
ンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)ア
クリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレー
ト等)の反応物であるウレタン(メタ)アクリレート等
の反応性オリゴマー等を挙げることができる。本発明で
用いるカチオン重合性物質(B)としては、例えば、エ
ポキシ樹脂、スチレン、ビニルエーテル等のカチオン重
合性ビニル化合物、更にはスピロオルソエステル、ビシ
クロオルソエステル、スピロオルソカーボナートのよう
な環状エーテル類が挙げられる。エポキシ樹脂として
は、従来、公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ
樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、更にはエポキシド単量体
類、エピサルファイド単量体類が挙げられる。ここで、
芳香族エポキシ樹脂として例示すれば、少なくとも1個
の芳香族核を有する多価フェノールまたはそのアルキレ
ンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテルであっ
て、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、ビス
フェノールS等のビスフェノール化合物またはビスフェ
ノール化合物のアルキレンオキサイド(例えば、エチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサ
イド等)付加体とエピクロロヒドリンとの反応によって
製造されるグリシジルエーテル類、ノボラック型エポキ
シ樹脂類(例えば、フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化
フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂等)、トリスフ
ェノールメタントリグリシジルエーテル等が挙げられ
る。また、脂環式エポキシ樹脂として、具体的な例とし
ては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4
−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−
(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−
ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)
エーテル、EHPE−3150(ダイセル化学工業株式
会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点71℃)等が挙げ
られる。
Epoxy resin (for example, phenol novolac resin, cresol novolac epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, polybutadiene modified epoxy resin, alicyclic epoxy resin, brominated phenol) Novolak epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, amino group-containing epoxy resin, etc.) and epoxy (meth) acrylate which is a reaction product of (meth) acrylic acid, and a polybasic anhydride (for example, an epoxy (meth) acrylate) (for example, , Maleic anhydride, succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, etc.) reacted carboxylic acid-modified epoxy (meth) acrylate, polyol component (eg ethylene glycol Lumpur, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, 1,6
-Hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolbenzene, trimethylolpropane, pentaerythritol, etc.) and acid components (eg, maleic acid, succinic acid, adipine) Acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid and other dibasic acids or dibasic acid anhydrides) (meth) acrylic acid ester of polyester polyol or polyol (eg ethylene glycol) ,
Nerpentyl glycol, polytetramethylene glycol, polyester polyol, polycaprolactone polyol, etc.) and organic polyisocyanate (eg, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, etc.) and hydroxyl group-containing (meth) acrylate (eg, 2-hydroxyethyl). Examples thereof include reactive oligomers such as urethane (meth) acrylate, which is a reaction product of (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, and the like. Examples of the cationically polymerizable substance (B) used in the present invention include cationically polymerizable vinyl compounds such as epoxy resin, styrene and vinyl ether, and further cyclic ethers such as spiro orthoester, bicyclo orthoester and spiro orthocarbonate. Is mentioned. Examples of the epoxy resin include conventionally known aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, epoxide monomers, and episulfide monomers. here,
An example of the aromatic epoxy resin is a polyglycidyl ether of a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof, and is, for example, a bisphenol compound such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S or bisphenol. Glycidyl ethers produced by reacting an alkylene oxide (for example, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) adduct of a compound with epichlorohydrin, novolac type epoxy resins (for example, phenol novolac type epoxy resin, Cresol / novolak type epoxy resin, brominated phenol / novolak type epoxy resin, etc.), trisphenol methane triglycidyl ether and the like. Further, specific examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4
-Epoxycyclohexanecarboxylate, bis-
(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-
Spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-
Dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl)
Ether, EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy resin, softening point 71 ° C.) and the like can be mentioned.

【0013】更に脂肪族エポキシ樹脂の例としては、脂
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付加する
ことにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリ
シジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単量体類
の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
またはこれらにアルキレンオキサイドを付加することに
より得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジル
エーテル等か挙げられる。
Further, examples of the aliphatic epoxy resin include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and representative examples thereof include diglycidyl ethers of 1,4-butanediol, 6-Hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, ethylene glycol, propylene glycol, aliphatic polyvalents such as glycerin Examples include polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides (ethylene oxide, propylene oxide) to alcohol. It is. Further, examples of the epoxide monomers include monoglycidyl ether of aliphatic higher alcohol, phenol, cresol, butylphenol, and monoglycidyl ether of polyether alcohol obtained by adding alkylene oxide to these.

【0014】カチオン重合体ビニル化合物としては、例
えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テト
ラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−
ブタンジオールジビニルエーテル、
As the cationic polymer vinyl compound, for example, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-
Butanediol divinyl ether,

【0015】[0015]

【化5】 Embedded image

【0016】及びAnd

【0017】[0017]

【化6】 [Chemical 6]

【0018】等が挙げられる。また、これらカチオン重
合性有機材料は単独でも2種以上の混合物でもかまわな
い。
And the like. These cationically polymerizable organic materials may be used alone or as a mixture of two or more.

【0019】本発明で用いる一般式(1)で表されるス
ルホニウム塩としては、例えば一般式(5)で表される
チオキサントン系化合物
The sulfonium salt represented by the general formula (1) used in the present invention is, for example, a thioxanthone compound represented by the general formula (5).

【0020】[0020]

【化7】 Embedded image

【0021】(式中、R1 〜R5 は、それぞれ水素原
子、水酸基、C1 〜C15の脂肪族基、ハロゲン原子、ニ
トロ基、アルコキシ基、エステル基、フェニル基から選
択された基である。)と置換または非置換ジフェニルス
ルホキシド化合物を公知のスルホニウム塩の生成反応を
利用する方法(以下1)法という)、2)相当する置換
及び非置換のスルホニウム塩をあらかじめ合成し、その
後、置換基を変換、導入する方法(以下2)法という)
のいずれかにより合成することができる。先ず1)法を
具体的に説明すると式(5)で表されるチオキサントン
系化合物(具体例としては、2,4−ジエチルチオキサ
ントン、2,4−ジプロピルチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサン
トン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プ
ロポキシチオキサントン、2−ヒドロキシ−3,4−ジ
メチルチオキサントン、1−メトキシチオキサントン、
2−メトキシチオキサントン、3−メトキシチオキサン
トン、4−メトキシチオキサントン、1−メチル−4−
ヒドロキシチオキサントン、1−メチル−4−クロロチ
オキサントン、1,2−ジメチル−4−クロロチオキサ
ントン、1,3−ジメチル−4−クロロチオキサント
ン、2,3,4−トリメチルチオキサントン、3−ニト
ロチオキサントン、3−エトキシチオキサントン、1,
3,4−トリメチル−2−オキシカルボニルメチルチオ
キサントン、2−オキシカルボニルメチル−4−メチル
チオキサントン、2−フェニルチオキサントン、1−カ
ルボニルオキシメチルチオキサントン、1−カルボニル
オキシエチル−3−ニトロチオキサントン、1−カルボ
ニルオキシエチル−3−エトキシチオキサントン等を挙
げることができる。)と置換または非置換ジフェニルス
ルホキシド化合物(例えば、ジフェニルスルホキシド、
4,4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、2,
2′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、3,3′−
ジフルオロジフェニルスルホキシド、4,2′−ジフル
オロジフェニルスルホキシド、4,4′−ジブロムジフ
ェニルスルホキシド、4,4′−ジクロロジフェニルス
ルホシキド、2,2′,4,4−テトラクロロジフェニ
ルスルホキシド、4,4′−ジメチルジフェニルスルホ
キシド、4,4′−ジエチルジフェニルスルホキシド、
4,4′−ジメトキシジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジエチルジフェニルスルホキシド、4−メチルチ
オジフェニルスルホキシド、4−フェニルチオジフェニ
ルスルホキシド等)の公知の方法、例えば脱水剤(例え
ば、五酸リン、濃硫酸、無水酢酸等)中で、常温〜10
0℃で縮合反応を行ない、次いで、これらの反応液を式
(3)又は(4)(例えば、NaSbF6 、NaP
6 、NaAsF6 、NaBF4 、NaSbF6 OH、
KSbF6 、KPF6 、KAsF6 、KSbF5 OH
等)の水溶液に滴下し、スルホニウム塩を得ることがで
きる。
(Wherein R 1 to R 5 are groups selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a C 1 to C 15 aliphatic group, a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, an ester group and a phenyl group, respectively. A) and a substituted or unsubstituted diphenyl sulfoxide compound using a known reaction for forming a sulfonium salt (hereinafter referred to as method 1)), 2) preliminarily synthesizing a corresponding substituted or unsubstituted sulfonium salt, and then substituting Method for converting and introducing groups (hereinafter referred to as method 2)
Can be synthesized. First, the method 1) will be described in detail. A thioxanthone compound represented by the formula (5) (specific examples include 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dipropylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 4-isopropyl). Thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-hydroxy-3,4-dimethylthioxanthone, 1-methoxythioxanthone,
2-methoxythioxanthone, 3-methoxythioxanthone, 4-methoxythioxanthone, 1-methyl-4-
Hydroxythioxanthone, 1-methyl-4-chlorothioxanthone, 1,2-dimethyl-4-chlorothioxanthone, 1,3-dimethyl-4-chlorothioxanthone, 2,3,4-trimethylthioxanthone, 3-nitrothioxanthone, 3- Ethoxythioxanthone, 1,
3,4-trimethyl-2-oxycarbonylmethylthioxanthone, 2-oxycarbonylmethyl-4-methylthioxanthone, 2-phenylthioxanthone, 1-carbonyloxymethylthioxanthone, 1-carbonyloxyethyl-3-nitrothioxanthone, 1-carbonyl Oxyethyl-3-ethoxythioxanthone and the like can be mentioned. ) And a substituted or unsubstituted diphenylsulfoxide compound (eg, diphenylsulfoxide,
4,4'-difluorodiphenyl sulfoxide, 2,
2'-difluorodiphenylsulfoxide, 3,3'-
Difluorodiphenyl sulfoxide, 4,2'-difluorodiphenyl sulfoxide, 4,4'-dibromodiphenyl sulfoxide, 4,4'-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2,2 ', 4,4-tetrachlorodiphenyl sulfoxide, 4, 4'-dimethyldiphenyl sulfoxide, 4,4'-diethyldiphenyl sulfoxide,
4,4'-dimethoxydiphenylsulfoxide, 4,
4'-diethyldiphenylsulfoxide, 4-methylthiodiphenylsulfoxide, 4-phenylthiodiphenylsulfoxide, etc.) in a known method, for example, in a dehydrating agent (for example, phosphorus pentoxide, concentrated sulfuric acid, acetic anhydride, etc.) at room temperature to 10
The condensation reaction is carried out at 0 ° C., and then these reaction solutions are treated by the formula (3) or (4) (for example, NaSbF 6 , NaP).
F 6 , NaAsF 6 , NaBF 4 , NaSbF 6 OH,
KSbF 6 , KPF 6 , KAsF 6 , KSbF 5 OH
Etc.) to obtain an sulfonium salt.

【0022】2)法を具体的に説明すると、1)法で合
成したスルホニウム塩、例えば式(6)
The method 2) will be described in detail. A sulfonium salt synthesized by the method 1), for example, the formula (6)

【0023】[0023]

【化8】 Embedded image

【0024】(但し、式中、R1-5 は、式(5)中の
1-5 と同一で、Aはハロゲン原子、Zは前記式
(3)または式(4)で示される。)で示される化合物
等の公知の方法、例えば、塩基性化合物(例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等)の存
在下、大過剰のモノ又ポリアルコール類(例えば、メタ
ノール、エタノール、カルビトール、エチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタン
ジオール、グリシドール、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、アリルアルコール等)を室温〜150℃
で、必要に応じて、ジメチルスルホキシド等の有機溶剤
の存在下反応させることにより、前記ハライド化合物の
ハライド部が例えば、
[0024] (wherein, R 1-R 5 is the same as R 1-R 5 in formula (5), A is represented by a halogen atom, Z is the formula (3) or (4) In the presence of a basic compound (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, etc.), a large excess of mono- or polyalcohols (eg, methanol, Ethanol, carbitol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol,
Glycerin, trimethylolpropane, 1,4-butanediol, glycidol, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, allyl alcohol, etc.) at room temperature to 150 ° C.
Then, if necessary, by reacting in the presence of an organic solvent such as dimethyl sulfoxide, the halide portion of the halide compound, for example,

【0025】[0025]

【化9】 Embedded image

【0026】[0026]

【化10】 Embedded image

【0027】[0027]

【化11】 Embedded image

【0028】[0028]

【化12】 Embedded image

【0029】等の置換基に変換されたスルホニウム塩を
得ることができる。一般式(1)で示される化合物の代
表例としては次表1、表2の化合物を挙げることができ
るが、これらに限定されるものではない。
Thus, a sulfonium salt converted to the above substituents can be obtained. As typical examples of the compound represented by the general formula (1), the compounds shown in Tables 1 and 2 below can be mentioned, but the compounds are not limited to these.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】[0031]

【表2】 本発明の硬化性組成物の各成分の使用割合は、エチレン
性不飽和基含有化合物(A)は、5〜80重量%が好ま
しく、特に好ましくは、10〜60重量%であり、カチ
オン重合性物質(B)は、5〜95重量%が好ましく、
特に好ましくは、40〜90重量%であり、光重合開始
剤(C)は、0.1〜10重量%が好ましく、特に好ま
しくは、1〜5重量%である。
[Table 2] The proportion of each component of the curable composition of the present invention used in the ethylenically unsaturated group-containing compound (A) is preferably 5 to 80% by weight, particularly preferably 10 to 60% by weight, and the cationic polymerizable The substance (B) is preferably 5 to 95% by weight,
It is particularly preferably 40 to 90% by weight, the photopolymerization initiator (C) is preferably 0.1 to 10% by weight, and particularly preferably 1 to 5% by weight.

【0032】本発明の硬化性組成物は、混合、溶解ある
いは混練等の方法により調製することができる。
The curable composition of the present invention can be prepared by a method such as mixing, dissolving or kneading.

【0033】本発明のエネルギー線硬化性組成物は、本
発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、熱感受性
カチオン及び/又はラジカル重合開始剤;顔料、染料等
の着色剤;消泡剤、レベリング剤、増粘剤、難燃剤、酸
化防止剤、光安定剤等の各種樹脂添加剤;シリカ、ガラ
ス粉、セラミック粉、金属粉等の充填剤;改質用樹脂な
どを適量配合して使用することができる。本発明組成物
を硬化する際に使用する活性エネルギー線としては、紫
外線、電子線、X線、放射線、あるいは高周波等を用い
ることができる。これらのうちでも、1800〜500
0Åの波長を有する紫外線が経済的に好ましく、その光
源としては、紫外線レーザー、水銀ランプ、キセノンラ
ンプ、ナトリウムランプ、アルカリ金属ランプ等が使用
できる。等に好ましい光源としては、レーザー光源であ
り、エネルギーレベルを高めて造形時間を知縮し、良好
な集光性を利用して、造形精度を向上させることが可能
である。
The energy ray-curable composition of the present invention contains a heat-sensitive cation and / or radical polymerization initiator, a coloring agent such as a pigment or a dye, a defoaming agent, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. , Various leveling agents, thickeners, flame retardants, antioxidants, light stabilizers, and other resin additives; silica, glass powder, ceramic powder, metal powder, and other fillers; Can be used. As the active energy ray used for curing the composition of the present invention, ultraviolet rays, electron beams, X-rays, radiation, high frequency, and the like can be used. Among these, 1800-500
Ultraviolet rays having a wavelength of 0Å are economically preferable, and as a light source thereof, an ultraviolet laser, a mercury lamp, a xenon lamp, a sodium lamp, an alkali metal lamp or the like can be used. A preferable light source is a laser light source, and it is possible to improve the modeling accuracy by increasing the energy level to know the modeling time and utilizing good light-collecting property.

【0034】本発明組成物は、活性エネルギー線による
カチオン重合反応及びラジカル重合反応により硬化が進
むため、使用するエチレン性不飽和基含有化合物(A)
及びカチオン重合性物質(B)の種類によっては、活性
エネルギー線照射時、該樹脂組成物を、例えば30〜1
00℃程度に加熱することにより、架橋硬化反応を効果
的に促進することもできるし、更に、エネルギー線照射
して、得られた造形物を例えば40〜100℃の温度に
加熱処理又は水銀ランプなどで、UV照射処理をするこ
とで、より機械強度の優れた造形物を得ることができ
る。
Since the composition of the present invention is cured by a cationic polymerization reaction and a radical polymerization reaction by an active energy ray, the ethylenically unsaturated group-containing compound (A) to be used is used.
Depending on the kind of the cationically polymerizable substance (B), the resin composition is treated with, for example, 30 to 1 at the time of irradiation with active energy rays.
By heating to about 00 ° C., the cross-linking curing reaction can be effectively promoted, and further, the obtained shaped product is subjected to heat treatment at a temperature of 40 to 100 ° C. or a mercury lamp. By performing the UV irradiation treatment with, for example, a molded article having more excellent mechanical strength can be obtained.

【0035】本発明のエネルギー線硬化性組成物は、光
学的造形用組成物に適しており、設計の途中で外観デザ
インを審査するためのモデル、部品相互の組み合せの不
都合をチェックするためのモデル、鋳型を製作するため
の木型、金型を製作するための倣い加工用モデルなど、
幅広い用途に利用することができる。具体的な適用分野
としては、自動車、電子・電気部品、家具、建築構造
物、玩具、容器類、鋳物、人形等各種曲面体のモデルや
加工用が挙げられる。
The energy ray-curable composition of the present invention is suitable as a composition for optical modeling, and is a model for examining the appearance design in the middle of the design and a model for checking the inconvenience of the combination of parts. , Wooden molds for making molds, copying models for making molds, etc.
Can be used for a wide range of applications. Specific application fields include models and processing of various curved bodies such as automobiles, electronic / electrical parts, furniture, building structures, toys, containers, castings and dolls.

【0036】本発明組成物は、光学的造形用途以外に
も、例えば、印刷インキ、塗料、レジスト、液レジ、接
着剤、レンズ類、注型物等に好適に用いられる。
The composition of the present invention is preferably used for printing inks, paints, resists, liquid registrations, adhesives, lenses, castings, etc., as well as optical molding applications.

【0037】[0037]

【実施例】以下、本発明の実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例中の部は、重量部である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. Parts in Examples are parts by weight.

【0038】(式(1)で表されるスルホニウム塩の合
成例) 合成例1.2,4−ジエチルチオキサントン38.4
部、4,4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド2
3.8部、無水酢酸100部及びメタンスルホン酸39
8部を仕込み、25℃で攪拌しながら約8時間反応を行
ない、次いで、この反応混合物をNaSbF6 の水溶液
619.9部(水582.8部にNaSbF6 37.1
部を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した黄色
の固体をろ過、水及びエチレンエーテルで洗浄した。黄
色の固体が93.0部得られた。生成物の融点は81.
1〜87.9℃で元素分析値は次のとおりであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 48.10 48.02 水素 3.25 3.20 イオウ 8.89 8.84 アンチモン 16.71 16.78 フッ素 20.99 20.95 この製造方法に基づいて,構造式
(Synthesis Example of Sulfonium Salt Represented by Formula (1)) Synthesis Example 1.2,4-Diethylthioxanthone 38.4
Part, 4,4'-difluorodiphenyl sulfoxide 2
3.8 parts, acetic anhydride 100 parts and methanesulfonic acid 39
8 parts were charged and the reaction was carried out at 25 ° C. with stirring for about 8 hours. Then, the reaction mixture was added to an aqueous solution of NaSbF 6 at 619.9 parts (water 582.8 parts to NaSbF 6 37.1).
Part that is melted. ) Was gradually added dropwise, and the precipitated yellow solid was filtered and washed with water and ethylene ether. 93.0 parts of a yellow solid was obtained. The melting point of the product is 81.
The elemental analysis values at 1 to 87.9 ° C. were as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 48.10 48.02 Hydrogen 3.25 3.20 Sulfur 8.89 8.84 Antimony 16.71 16.78 Fluorine 20.99 20.95 This production Based on the method, structural formula

【0039】[0039]

【化13】 Embedded image

【0040】のスルホニウム塩を得た。Thus, a sulfonium salt was obtained.

【0041】合成例2.1−クロロ−4−プロポキシチ
オキサントン6.1部、4,4′−ジメチルジフェニル
スルホキシド46.1部、無水酢酸200部、及びメタ
ンスルホン酸796部を仕込み、25℃で約8時間反応
させ、次いで反応混合物をNaSbF6 の水溶液86
2.8部(水810.6部にNaSbF6 を51.7部
を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した黄色の
固体をろ過し、水及びエチルエーテルで洗浄した。黄色
の固体が135.6部得られた。生成物の融点は、10
5.2〜111.0℃で元素分析値は、次のとおりであ
った。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 47.84 47.80 水素 3.52 3.48 イオウ 8.57 8.51 アンチモン 16.20 16.15 フッ素 15.15 15.12 塩素 4.72 4.70 この製造方法に基づいて、構造式
Synthesis Example 2 6.1 parts of 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 46.1 parts of 4,4'-dimethyldiphenyl sulfoxide, 200 parts of acetic anhydride, and 796 parts of methanesulfonic acid were charged, and at 25 ° C. After reacting for about 8 hours, the reaction mixture is then mixed with an aqueous solution of NaSbF 6 86
2.8 parts (51.7 parts of NaSbF 6 dissolved in 810.6 parts of water) was added dropwise little by little, and the precipitated yellow solid was filtered and washed with water and ethyl ether. 135.6 parts of a yellow solid was obtained. The melting point of the product is 10
The elemental analysis values at 5.2 to 111.0 ° C. were as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 47.84 47.80 Hydrogen 3.52 3.48 Sulfur 8.57 8.51 Antimony 16.20 16.15 Fluorine 15.15 15.12 Chlorine 4 .72 4.70 Based on this manufacturing method,

【0042】[0042]

【化14】 Embedded image

【0043】のスルホニウム塩を得た。 合成例3.2−イソプロピルチオキサントン50.8
部、ジフェニルスルホキシド40.4部、無水酢酸20
0部及びメタンスルホン酸796部を仕込み、25℃で
約8時間反応させ、次いで反応混合物をNaPF6 の水
溶液560部(水526.4部にNaPF6 33.6部
を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した黄色の
固体をろ過、水及びエチルエーテルで洗浄した。黄色の
固体が105.1部得られた。生成物の融点は、79.
1〜85.7℃で元素分析値は、次のとおりであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 57.49 57.53 水素 3.99 3.96 イオウ 10.95 10.97 リン 5.28 5.30 フッ素 19.52 19.50 この製造方法に基づいて、構造式
A sulfonium salt of was obtained. Synthesis Example 3.2 2-Isopropylthioxanthone 50.8
Parts, diphenyl sulfoxide 40.4 parts, acetic anhydride 20
0 parts and 796 parts of methanesulfonic acid were charged and reacted at 25 ° C. for about 8 hours, and then the reaction mixture was added to 560 parts of an aqueous solution of NaPF 6 (33.6 parts of NaPF 6 dissolved in 526.4 parts of water). It was added dropwise little by little, and the precipitated yellow solid was filtered and washed with water and ethyl ether. 105.1 parts of a yellow solid was obtained. The melting point of the product is 79.
The elemental analysis values at 1 to 85.7 ° C. were as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 57.49 57.53 Hydrogen 3.99 3.96 Sulfur 10.95 10.97 Phosphorus 5.28 5.30 Fluorine 19.52 19.50 This production Structural formula based on the method

【0044】[0044]

【化15】 Embedded image

【0045】のスルホニウム塩を得た。A sulfonium salt of was obtained.

【0046】合成例4.合成例1で得た化合物40部、
水酸化ナトリウム4.0部、エチレングリコール200
部を仕込み、室温で24時間反応し、その後、水中に注
ぎ込み析出した黄色の固体をろ過し、乾燥し常温で固体
の生成物を得た。生成物の構造式は下記のものであり、
元素分析の結果は計算値にほぼ一致した。
Synthesis Example 4 40 parts of the compound obtained in Synthesis Example 1,
Sodium hydroxide 4.0 parts, ethylene glycol 200
A portion was charged and reacted at room temperature for 24 hours, then poured into water and the precipitated yellow solid was filtered and dried to obtain a solid product at room temperature. The structural formula of the product is:
The results of elemental analysis agreed with the calculated values.

【0047】[0047]

【化16】 Embedded image

【0048】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 48.31 48.26 水素 4.10 4.05 イオウ 8.07 8.05 アンチモン 15.30 15.29 フッ素 14.33 14.31 実施例1.エチレン性不飽和基含有化合物(A)として
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート15部、カ
チオン重合性物質(B)として3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−3,4−エポキシシキロヘキサンカル
ボキシレート55部、ビスフェノールAジビニルエーテ
ル30部及び光重合開始剤(C)として合成例1で得た
スルホニウム塩3部を充分に溶解混合して、エネルギー
線硬化性組成物を得た。組成物を入れる容器をのせた三
次元NC(数値制御)テーブル、ヘリウム・カドミウム
レーザー(波長325nm)と、光学系及びパーソナル
コンピューターをメーンとする制御部より構成されてい
る光造形実験システムを用いて、この組成物から底面の
直径12mm、高さ15mm、厚さ0.5mmの円錐を
造形した。この造形物は歪みがなく、極めて造形精度が
高く、かつ機械強度が優れたものであった。
Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 48.31 48.26 Hydrogen 4.10 4.05 Sulfur 8.07 8.05 Antimony 15.30 15.29 Fluorine 14.33 14. 31 Example 1. 15 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as an ethylenically unsaturated group-containing compound (A), 55 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate as a cationically polymerizable substance (B), bisphenol A An energy ray-curable composition was obtained by sufficiently dissolving and mixing 30 parts of divinyl ether and 3 parts of the sulfonium salt obtained in Synthesis Example 1 as the photopolymerization initiator (C). Using a stereolithography experiment system consisting of a three-dimensional NC (numerical control) table on which a container for containing the composition is placed, a helium-cadmium laser (wavelength 325 nm), and a control unit having an optical system and a personal computer as a main. A cone having a bottom diameter of 12 mm, a height of 15 mm and a thickness of 0.5 mm was formed from this composition. This molded article had no distortion, extremely high modeling accuracy, and excellent mechanical strength.

【0049】実施例2.(A)成分として、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート20部、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート10部、(B)成分とし
て、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート45部、トリ
エチレングリコールジビニルエーテル25部及び光重合
開始剤(C)として、合成例2で得たスルホニウム塩3
部を溶解混合してエネルギー線硬化性組成物を得た。実
施例1に示したレーザー光造形実験システムを用いて、
つりがね状の造形物を作成したところ、この造形物は歪
みがなく、極めて造形精度が高く、かつ機械強度の優れ
たものであった。
Embodiment 2 FIG. As the component (A), 20 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 10 parts of trimethylolpropane triacrylate, and as the component (B), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-
45 parts of epoxycyclohexanecarboxylate, 25 parts of triethylene glycol divinyl ether, and sulfonium salt 3 obtained in Synthesis Example 2 as the photopolymerization initiator (C).
The parts were dissolved and mixed to obtain an energy ray-curable composition. Using the laser stereolithography experimental system shown in Example 1,
When a hanging-shaped shaped article was created, the shaped article had no distortion, had extremely high shaping accuracy, and had excellent mechanical strength.

【0050】実施例3.(A)成分として、ビスフェノ
ールAエポキシアクリレート15部、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート25部、(B)成分として、ビス
フェノールAジグリシジルエーテル10部、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート30部及び(C)成分として
合成例1で得たスルホニウム塩2部、合成例3で得たス
ルホニウム塩1部を溶解・混合してエネルギー線硬化性
組成物を得た。実施例1に示したレーザー光造形実験シ
ステムを用いて、この組成物を60℃に加温しながらコ
ップ状造形物を作成したところ、この造形物は歪みがな
く、造形精度の優れたものが得られた。
Embodiment 3 FIG. 15 parts of bisphenol A epoxy acrylate, 25 parts of pentaerythritol triacrylate as component (A), 10 parts of bisphenol A diglycidyl ether as component (B), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate An energy ray-curable composition was obtained by dissolving and mixing 30 parts and 2 parts of the sulfonium salt obtained in Synthesis Example 1 as the component (C) and 1 part of the sulfonium salt obtained in Synthesis Example 3. Using the laser light modeling system shown in Example 1, a cup-shaped molded article was prepared while heating the composition to 60 ° C., and the molded article had no distortion and had excellent modeling accuracy. Was obtained.

【0051】実施例4.(B)成分として、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカボキシレート50部、トリメチロールプロパ
ントリビニルエーテル30部、(A)成分として、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート20部及び
(C)成分として、合成例4で得たスルホニウム塩3部
を溶解・混合してエネルギー線硬化性組成物を得た。実
施例1に示したレーザー光造形実験システムを用いてつ
りがね状の造形物を作成したところ、歪みがなく、機械
的強度、造形精度、表面平滑性の優れたものが得られ
た。各実施例の結果から明らかなように、本発明の組成
物は、ラジカル重合開始剤とカチオン重合開始剤とを併
用しなくても特定のチオキサントン系スルホニウム塩を
用いることによりエチレン性不飽和基含有化合物とカチ
オン重合性物質を同時に光重合することができ硬化性に
優れ、得られた硬化物は、歪みがなく、機械的強度、造
形精度等が優れていることは明らかである。
Embodiment 4 FIG. As component (B), 50 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane caboxylate, 30 parts of trimethylolpropane trivinyl ether, and as component (A), 20 parts of dipentaerythritol hexaacrylate and (C As a component, 3 parts of the sulfonium salt obtained in Synthesis Example 4 was dissolved and mixed to obtain an energy ray-curable composition. When a hanging-shaped shaped object was created using the laser light modeling experiment system shown in Example 1, there was no distortion and excellent mechanical strength, modeling accuracy, and surface smoothness were obtained. As is clear from the results of each example, the composition of the present invention contains an ethylenically unsaturated group by using a specific thioxanthone sulfonium salt without using a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator in combination. It is clear that the compound and the cation-polymerizable substance can be photopolymerized at the same time, and the curability is excellent, and the obtained cured product has no distortion and is excellent in mechanical strength, modeling accuracy, and the like.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明のエネルギー線硬化性組成物は、
エチレン性不飽和基含有化合物及びカチオン重合性物質
からなるものであり、かつラジカル重合開始能力とカチ
オン重合開始能力を合せ持つ特定のスルホニウム塩を重
合開始剤として用いることにより、硬化性に優れ、硬化
物は、歪みがなく、機械的強度、造形精度等が優れた特
に光造形用途に適した硬化物を得ることができる。
The energy ray-curable composition of the present invention comprises:
By using a specific sulfonium salt composed of an ethylenically unsaturated group-containing compound and a cationically polymerizable substance and having both radical polymerization initiation ability and cationic polymerization initiation ability as a polymerization initiator, excellent curability and curing It is possible to obtain a cured product which is free from distortion, is excellent in mechanical strength, modeling accuracy and the like and is particularly suitable for use in stereolithography.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エチレン性不飽和基含有化合物(A)とカ
チオン重合性物質(B)と式(1) 【化1】 (式中、Xは式(2)で示される基 【化2】 {式中R6-15は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、
ニトロ基、アルコキシ基、C1-20の構造中に、水酸
基、エーテル基、エステル基、(メタ)アクリロイル
基、エポキシ基あるいはアリル基を有しても良い脂肪族
基、フェニル基、フェノキシ基、チオフェノキシ基、の
いずれかから選択された基である。) R1-5 は、それぞれ水素原子、水酸基、C1-15の脂
肪族基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、エス
テル基、フェニル基および式(2)で示される基から選
択された基であり、nは1〜4、Zは式(3)または式
(4) MQP (3) MQP-1 (OH) (4) (式中、Mは、リン原子、ホウ素原子、ヒ素原子または
アンチモン原子であり、Qはハロゲン原子であり、Pは
4〜6の整数である。)で示される。}で示されるスル
ホニウム塩からなる光重合開始剤(C)を含有すること
を特徴とするエネルギー線硬化性組成物。
1. An ethylenically unsaturated group-containing compound (A), a cationically polymerizable substance (B) and a compound of formula (1): (In the formula, X is a group represented by the formula (2) {Wherein R 6 -R 15 are a hydrogen atom, a halogen atom,
Aliphatic group, phenyl group and phenoxy group which may have a hydroxyl group, an ether group, an ester group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group or an allyl group in the structure of nitro group, alkoxy group and C 1 -C 20 A thiophenoxy group. ) R 1 to R 5 are each selected from a hydrogen atom, a hydroxyl group, a C 1 -C 15 aliphatic group, a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, an ester group, a phenyl group and a group represented by the formula (2). And n is 1 to 4, Z is the formula (3) or the formula (4) MQ P (3) MQ P-1 (OH) (4) (wherein M is a phosphorus atom, a boron atom, It is an arsenic atom or an antimony atom, Q is a halogen atom, and P is an integer of 4 to 6.). } The energy-ray-curable composition containing the photoinitiator (C) which consists of a sulfonium salt shown by these.
【請求項2】請求項1記載の組成物の硬化物。2. A cured product of the composition according to claim 1.
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