JPH0889747A - Clean room system - Google Patents
Clean room systemInfo
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- JPH0889747A JPH0889747A JP6254846A JP25484694A JPH0889747A JP H0889747 A JPH0889747 A JP H0889747A JP 6254846 A JP6254846 A JP 6254846A JP 25484694 A JP25484694 A JP 25484694A JP H0889747 A JPH0889747 A JP H0889747A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルームの空気
中に含まれるガス状不純物を除去するように構成したク
リーンルームシステムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a clean room system configured to remove gaseous impurities contained in the air of a clean room.
【０００２】[0002]
【従来の技術】クリーンルームとは、空気中における浮
遊粒状物質が規定されたレベルに管理され、必要に応じ
て温度、湿度、圧力などの環境条件も管理された空間で
ある。かかるクリーンルームは、例えば、ＵＬＳＩ等の
精密電子部品を製造する工場、精密な部品の組立室、Ｉ
Ｃ回路の作成室、アイソトープ実験室、手術室などにお
いて広く利用されている。2. Description of the Related Art A clean room is a space in which suspended particulate matter in the air is controlled to a prescribed level, and environmental conditions such as temperature, humidity and pressure are controlled as necessary. Such a clean room is, for example, a factory that manufactures precision electronic components such as ULSI, an assembly room for precision components, I
It is widely used in the C circuit production room, isotope laboratory, operating room, etc.
【０００３】ここで、従来のクリーンルームは、粒子状
不純物のみを清浄化の対象としている。即ち、従来のク
リーンルームにおいては、ＵＬＰＡフィルタやＨＥＰＡ
フィルタなどの高性能フィルタを用いてクリーンルーム
に導入される外気や還気を濾過し、粒子状不純物を除去
することによりクリーンルーム内の粒子濃度を低下さ
せ、雰囲気の清浄化を図っている。Here, in the conventional clean room, only particulate impurities are to be cleaned. That is, in the conventional clean room, ULPA filters and HEPA are used.
A high-performance filter such as a filter is used to filter the outside air and return air introduced into the clean room to remove particulate impurities, thereby reducing the particle concentration in the clean room and purifying the atmosphere.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】近年、クリーンルーム
内の雰囲気について、粒子状の不純物を除去することに
加え、更にＳＯ2ガス、ＨＦガス、ＮＨ3ガスなどといっ
たガス状の不純物も除去することが要求されるようにな
ってきた。ところが、従来のクリーンルームはそのよう
なガス状の不純物を除去する機能は備えていないため、
クリーンルーム内の雰囲気中のガス状不純物の濃度を抑
制することができなかった。このようなクリーンルーム
内のガス状不純物の濃度を増加させる原因には、外気中
に含まれるガス状不純物以外にも、例えば、クリーンル
ームの内装材から発生する有機系ガス、電子部品などの
製造用に供される薬液蒸気や特殊ガス等がある。これら
から発生するガス状不純物も、何らかの手段によって除
去することによってクリーンルーム内の雰囲気を清浄に
保つ必要がある。In recent years, in addition to removing particulate impurities in the atmosphere in a clean room, it is also possible to remove gaseous impurities such as SO 2 gas, HF gas, and NH 3 gas. It has come to be requested. However, since the conventional clean room does not have the function of removing such gaseous impurities,
It was not possible to suppress the concentration of gaseous impurities in the atmosphere in the clean room. The cause of increasing the concentration of the gaseous impurities in such a clean room is, in addition to the gaseous impurities contained in the outside air, for example, an organic gas generated from the interior material of the clean room, for the production of electronic parts, etc. There are chemical vapors and special gases that are provided. Gaseous impurities generated from these must be removed by some means to keep the atmosphere in the clean room clean.
【０００５】本発明の目的は、粒子状不純物に加えてガ
ス状不純物をも除去できるクリーンルームを提供するこ
とにある。An object of the present invention is to provide a clean room capable of removing not only particulate impurities but also gaseous impurities.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、外気を
高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入すると
共に、該クリーンルーム内を経た還気を再び高性能フィ
ルタを介してクリーンルーム内に導入するように構成し
たものにおいて、外気及び／または還気中に含まれるガ
ス状不純物を除去するためのガス状不純物除去手段を設
けたことを特徴とするクリーンルームシステムが提供さ
れる。According to the present invention, the outside air is introduced into the clean room through the high performance filter, and the return air passing through the clean room is again introduced into the clean room through the high performance filter. In such a configuration, a clean room system is provided, which is provided with a gaseous impurity removing means for removing gaseous impurities contained in the outside air and / or the return air.
【０００７】このクリーンルームシステムは、更に次の
特徴を備えることができる。 ・ガス状不純物除去手段をクリーンルームの天井に配置
したこと。 ・ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純物除去手段を
クリーンルームの天井において一部に配置したこと。 ・クリーンルームの天井に配置された複数のファンフィ
ルタユニットの全部または一部にガス状不純物除去手段
を内蔵させたこと。 ・ファンフィルタユニットの送風能力を調節自在に構成
したこと。 ・ファンフィルタユニットの送風能力をインバータ制御
により調節自在に構成したこと。 ・ガス状不純物除去手段をクリーンルームの床に配置し
たこと。 ・ゾーニングを可能にすべく、ガス状不純物除去手段を
クリーンルームの床において一部に配置したこと。 ・クリーンルームの床に配置されたファンユニットにガ
ス状不純物除去手段を内蔵させたこと。 ・ファンユニットの送風能力を調節自在に構成したこ
と。 ・ファンユニットの送風能力をインバータ制御により調
節自在に構成したこと。 ・ガス状不純物除去手段を外気の取り入れ部に配置した
こと。 ・ガス状不純物除去手段が乾式及び／または湿式のもの
であること。 ・乾式のガス状不純物除去手段はケミカルフィルタであ
ること。 ・湿式のガス状不純物除去手段はガス状不純物を気液接
触により吸収して除去するものであること。The clean room system can further have the following features.・ The means for removing gaseous impurities was placed on the ceiling of the clean room. -To enable zoning, a means for removing gaseous impurities must be installed in a part of the ceiling of the clean room. -The gaseous impurity removing means is built in all or part of the plurality of fan filter units arranged on the ceiling of the clean room. -The fan filter unit is configured so that the ventilation capacity can be adjusted. -The fan filter unit's ventilation capacity can be adjusted by inverter control. -The means for removing gaseous impurities must be placed on the floor of the clean room. -To enable zoning, a means for removing gaseous impurities has been placed partly on the floor of the clean room. -The fan unit placed on the floor of the clean room was equipped with a means for removing gaseous impurities. -The fan unit's blowing capacity is adjustable. -The fan unit's blowing capacity can be adjusted by inverter control. -The means for removing gaseous impurities must be placed in the intake area for outside air. -The means for removing gaseous impurities are dry and / or wet. -A dry type gaseous impurity removing means should be a chemical filter. -The wet type gaseous impurities removing means should absorb and remove the gaseous impurities by gas-liquid contact.
【０００８】[0008]
【作用】クリーンルーム内に導入された外気や還気中に
含まれている粒子状不純物に加え、外気中のガス状不純
物や、クリーンルームの内装材から発生した有機系ガ
ス、電子部品などの製造用に供された薬液蒸気や特殊ガ
ス等の、クリーンルーム内において発生したガス状不純
物をも除去することにより、近年の要求に対応したより
清浄な雰囲気を作り出すことが可能となる。従って、本
発明によれば、ＵＬＳＩ等の精密電子部品、精密部品、
ＩＣ回路などの製造や、その他、アイソトープ実験室、
手術室などに好適なクリーンルームを提供できるように
なる。[Function] In addition to particulate impurities contained in the outside air and return air introduced into the clean room, for the production of gaseous impurities in the outside air, organic gas generated from interior materials of the clean room, electronic parts, etc. By removing the gaseous impurities generated in the clean room, such as the chemical vapor and the special gas used in the above, it is possible to create a cleaner atmosphere that meets the recent demands. Therefore, according to the present invention, precision electronic components such as ULSI, precision components,
Manufacturing of IC circuits and others, isotope laboratory,
A clean room suitable for an operating room can be provided.
【０００９】ガス状不純物除去手段には、乾式のものと
湿式のものが用いられる。乾式のガス状不純物除去手段
は、外気や還気中に含まれているガス状不純物をフィル
タ表面において薬剤と化学反応させることにより、ガス
状不純物成分をフィルタ表面に吸着させるものである。
このような乾式のガス状不純物除去手段は、通常、ケミ
カルフィルタと呼ばれるものであり、例えば、ＳＯ2ガ
ス、ＨＦガス、ＮＨ3ガスを吸着させるケミカルフィル
タなどにおいては次のような化学反応を生じることによ
ってそれらのガス状不純物を除去するようにしている。As the means for removing gaseous impurities, a dry type and a wet type are used. The dry-type gaseous impurity removing means chemically adsorbs gaseous impurities contained in outside air or return air with a chemical on the filter surface to adsorb the gaseous impurity components on the filter surface.
Such a dry type gaseous impurity removing means is usually called a chemical filter. For example, in a chemical filter for adsorbing SO 2 gas, HF gas, NH 3 gas, the following chemical reaction occurs. By doing so, those gaseous impurities are removed.
【００１０】３ＳＯ2＋２ＫＭnＯ4＋４ＫＯＨ → ３
Ｋ2ＳＯ4＋２ＭnＯ2＋２Ｈ2Ｏ3SO 2 + 2KMnO 4 + 4KOH → 3
K 2 SO 4 + 2MnO 2 + 2H 2 O
【００１１】 ２ＨＦ＋Ｃa（ＯＨ）2 → ＣaＦ2＋２Ｈ2Ｏ2HF + Ca (OH) 2 → CaF 2 + 2H 2 O
【００１２】３ＮＨ3＋Ｈ3ＰＯ4 → （ＮＨ4）3ＰＯ4 3NH 3 + H 3 PO 4 → (NH 4 ) 3 PO 4
【００１３】一方、湿式のガス状不純物除去手段は、ガ
ス状不純物を気液接触により吸収して除去するものであ
る。例えば、ＨＦガスは水やＮaＯＨ水溶液を用いて吸
収することにより除去することができる。また、ＮＨ3
ガスは水、Ｈ2ＳＯ4やＨＣl水溶液などによって吸収
し、除去することができる。On the other hand, the wet type gaseous impurity removing means removes gaseous impurities by absorbing them by gas-liquid contact. For example, HF gas can be removed by absorption with water or an aqueous solution of NaOH. Also, NH 3
The gas can be absorbed and removed by water, H 2 SO 4 or HCl aqueous solution.
【００１４】[0014]
【実施例】先ず、図１をもとにしてクリーンルームシス
テムの概要を説明する。外気取入経路１から、外調機２
を介して系内に供給された外気は、クリーンルーム３の
上方に設けられたサプライプレナムチャンバ４に一旦供
給され、その後、クリーンルーム３の天井に配置されて
いる複数のファンフィルタユニット５を介してクリーン
ルーム３内に導入される。クリーンルーム３の床には複
数のファンユニット６が配置され、クリーンルーム３内
を経た還気はそれらファンユニット６を介してクリーン
ルーム３の下方に設けられたレタンプレナムチャンバ７
に一旦供給され、その後、レタン経路８を介して循環
し、再びサプライプレナムチャンバ４に供給され、ファ
ンフィルタユニット５を介してクリーンルーム３内に導
入される。また、クリーンルーム３内を経た還気の一部
は排気経路９を経て外部に排気される。First, the outline of a clean room system will be described with reference to FIG. From the outside air intake route 1 to the outside air conditioner 2
The outside air supplied into the system via the clean room 3 is once supplied to a supply plenum chamber 4 provided above the clean room 3, and then through a plurality of fan filter units 5 arranged on the ceiling of the clean room 3 to the clean room. Introduced in 3. A plurality of fan units 6 are arranged on the floor of the clean room 3, and the return air that has passed through the clean room 3 passes through the fan units 6 and has a retinal plenum chamber 7 provided below the clean room 3.
Is supplied to the clean room 3 through the fan filter unit 5 and then circulated through the retin passage 8 and then supplied again to the supply plenum chamber 4. In addition, a part of the return air that has passed through the clean room 3 is exhausted to the outside through the exhaust path 9.
【００１５】以上のように構成されたクリーンルームシ
ステムにおいて、外気や還気中に含まれるガス状不純物
を除去するためのガス状不純物除去手段が設けられる。
図２に示すように、ファンフィルタユニット５の内部に
ファン１０と高性能フィルタ（ＵＬＰＡフィルタ）１１
が設けられており、本実施例のものにおいては、更にフ
ァンフィルタユニット５の内部に、ガス状不純物除去手
段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵している。通
常、ケミカルフィルタ１２の寿命は、高性能フィルタ１
１の寿命に比べて短い。従って、交換作業がし易いよう
にケミカルフィルタ１２はファン１０の上方（ファンフ
ィルタユニット５の空気吸い込み側）に設置するのがよ
い。このように、ファンフィルタユニット５にガス状不
純物除去手段としてのケミカルフィルタ１２を内蔵させ
ることによって、クリーンルーム３内に導入される空気
中に含まれている粒子状の不純物とガス状の不純物を同
時に除去することが可能となる。In the clean room system configured as described above, the gaseous impurity removing means for removing the gaseous impurities contained in the outside air or the return air is provided.
As shown in FIG. 2, a fan 10 and a high-performance filter (ULPA filter) 11 are provided inside the fan filter unit 5.
In the present embodiment, the fan filter unit 5 further contains a chemical filter 12 as a gaseous impurity removing means. Normally, the life of the chemical filter 12 is
Shorter than 1 life. Therefore, the chemical filter 12 is preferably installed above the fan 10 (on the air intake side of the fan filter unit 5) to facilitate the replacement work. As described above, by incorporating the chemical filter 12 as the gaseous impurity removing means in the fan filter unit 5, the particulate impurities and the gaseous impurities contained in the air introduced into the clean room 3 are simultaneously removed. Can be removed.
【００１６】一方、クリーンルーム３内においてガス状
不純物が発生するような場合には、クリーンルーム３の
床に配置したファンユニット６にガス状不純物除去手段
を内蔵させるのがよい。このように構成することによっ
て、クリーンルーム３内において発生したガス状不純物
をファンユニット６において除去できるようになり、レ
タン経路８を介して循環させた還気をクリーンルーム３
内へ導入させる際にガス状不純物が混入することを防止
できる。On the other hand, when gaseous impurities are generated in the clean room 3, it is preferable that the fan unit 6 arranged on the floor of the clean room 3 has a gaseous impurity removing means built therein. With this configuration, the gaseous impurities generated in the clean room 3 can be removed in the fan unit 6, and the return air circulated through the retin passage 8 can be removed.
It is possible to prevent gaseous impurities from being mixed in when introduced into the inside.
【００１７】図３、図４にガス状不純物除去手段として
のケミカルフィルタ１５を内蔵させたファンユニット６
を示す。図３に示すファンユニット６は、ファン１６の
上方近傍にケミカルフィルタ１５を配置した実施例であ
り、図４に示すファンユニット６は、クリーンルーム３
内からの還気を取り入れるためのホッパー１７にケミカ
ルフィルタ１５を配置した実施例である。何れの実施例
においても、クリーンルーム３内において発生したガス
状不純物をファンユニット６によって十分に吸引できる
ように、ホッパー１７の開口面積はできるだけ広くする
ことが望ましい。なお、クリーンルーム３の床にケミカ
ルフィルタ１５などのガス状不純物除去手段を配置する
と、通常は、それらガス状不純物除去手段が空気抵抗と
なることによってクリーンルーム３内の空気の流れが阻
害され、風量不足や気流の偏りといった問題を生じる。
しかし、図示のように、ファンユニット６にガス状不純
物除去手段を内蔵させてファン１６でクリーンルーム３
内の空気を強制排気するように構成すれば、以上のよう
な気流の偏りといった問題を解決することが可能であ
る。3 and 4, a fan unit 6 incorporating a chemical filter 15 as a means for removing gaseous impurities.
Indicates. The fan unit 6 shown in FIG. 3 is an embodiment in which the chemical filter 15 is arranged near the upper part of the fan 16, and the fan unit 6 shown in FIG.
This is an embodiment in which a chemical filter 15 is arranged in a hopper 17 for taking in return air from the inside. In any of the embodiments, it is desirable that the opening area of the hopper 17 be as large as possible so that the gaseous impurities generated in the clean room 3 can be sufficiently sucked by the fan unit 6. In addition, when the gaseous impurities removing means such as the chemical filter 15 is arranged on the floor of the clean room 3, the gaseous impurities removing means usually have an air resistance, which obstructs the air flow in the clean room 3 and causes a shortage of air flow. It causes problems such as unevenness of air flow.
However, as shown in the drawing, the fan unit 6 has a built-in gaseous impurity removing means, and the fan 16 is used to clean the clean room 3.
If the internal air is forcibly exhausted, it is possible to solve the above-mentioned problem such as the uneven air flow.
【００１８】また、外調機２にガス状不純物除去手段を
内蔵させることもできる。このように外気取入経路１に
おいてもガス状不純物を除去する構成とすることによっ
て、クリーンルーム３内の高清浄化を更に向上させるこ
とが可能となる。なお、外調機２に内蔵させるガス状不
純物除去手段はケミカルフィルタのごとき乾式のもの、
あるいは、ガス状不純物を気液接触により吸収して除去
する湿式のガス状不純物除去手段の何れを用いても良
い。Further, it is possible to incorporate a gaseous impurity removing means in the external conditioner 2. As described above, by adopting the configuration in which the gaseous impurities are removed also in the outside air intake path 1, it is possible to further improve the high cleanliness in the clean room 3. In addition, the means for removing gaseous impurities contained in the external conditioner 2 is a dry type such as a chemical filter,
Alternatively, any of wet type gaseous impurity removing means for absorbing and removing gaseous impurities by gas-liquid contact may be used.
【００１９】次に、図５に示すクリーンルームシステム
は、間仕切り２０、２１によって三つに分割されたクリ
ーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃを備えた実施例であ
る。外調機２を介してレタンプレナムチャンバ７に外気
が供給され、該外気はレタン経路８に設けられたドライ
コイル１９を介してサプライプレナムチャンバ４に一旦
供給された後、ファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５
ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ内にそ
れぞれ導入される。クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３
ｃ内を経た還気はレタンプレナムチャンバ７に一旦供給
された後、レタン経路８を介して循環し、再びサプライ
プレナムチャンバ４、ファンフィルタユニット５ａ、５
ｂ、５ｃを介してクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃ
内にそれぞれ導入される。また、循環空気の一部は、排
気装置２３等によりクリーンルームシステムの系外に排
出される。Next, the clean room system shown in FIG. 5 is an embodiment provided with clean room regions 3a, 3b, 3c divided into three by partitions 20, 21. The outside air is supplied to the retinal plenum chamber 7 via the external conditioner 2, the outside air is once supplied to the supply plenum chamber 4 via the dry coil 19 provided in the retinal path 8, and then the fan filter units 5a, 5b 5,
It is introduced into the clean room regions 3a, 3b, 3c via c respectively. Clean room areas 3a, 3b, 3
The return air that has passed through the inside of c is once supplied to the retin plenum chamber 7, and then circulates via the retin passage 8, and again the supply plenum chamber 4, the fan filter units 5a, 5
Clean room areas 3a, 3b, 3c via b, 5c
Will be introduced in each. Further, a part of the circulating air is discharged to the outside of the clean room system by the exhaust device 23 or the like.
【００２０】この実施例のクリーンルームシステムにあ
っては、クリーンルーム領域３ｃでは例えば精密電子部
品などの製造が行われるので、クリーンルーム領域３ｃ
に導入される空気についてはガス状不純物の除去が必要
である。また、クリーンルーム領域３ｂでは室内で使用
された薬液が蒸気となってガス状不純物が発生するた
め、クリーンルーム領域３ｂを経た還気についてはガス
状不純物の除去が必要である。一方、クリーンルーム領
域３ａに導入される空気及びクリーンルーム領域３ｃを
経た還気についてはガス状不純物の除去は特に必要では
ない。In the clean room system of this embodiment, since, for example, precision electronic parts are manufactured in the clean room area 3c, the clean room area 3c is used.
It is necessary to remove gaseous impurities from the air introduced into the. Further, in the clean room region 3b, the chemical liquid used in the room becomes vapor and gaseous impurities are generated, so that it is necessary to remove the gaseous impurities in the return air that has passed through the clean room region 3b. On the other hand, it is not particularly necessary to remove gaseous impurities in the air introduced into the clean room region 3a and the return air that has passed through the clean room region 3c.
【００２１】そこで、この実施例のクリーンルームシス
テムにあっては、クリーンルーム領域３ｃの天井に配置
されているファンフィルタユニット５ｃのみにケミカル
フィルタ１２を装着し、クリーンルーム領域３ｂの床に
はケミカルフィルタ１５を内蔵するファンユニット６ｂ
を配置している。また、外調機２には乾式もしくは湿式
のガス状不純物除去手段２２を内蔵させている。Therefore, in the clean room system of this embodiment, the chemical filter 12 is mounted only on the fan filter unit 5c arranged on the ceiling of the clean room area 3c, and the chemical filter 15 is installed on the floor of the clean room area 3b. Built-in fan unit 6b
Has been arranged. Further, the external air conditioner 2 has a dry or wet gaseous impurity removing means 22 incorporated therein.
【００２２】従って、この実施例のクリーンルームシス
テムによれば、間仕切り２０、２１によって分割された
クリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃには、天井に配置
されたファンフィルタユニット５ａ、５ｂ、５ｃを介し
て粒子状不純物の除去が行われた無塵の空気がそれぞれ
導入される。そして特に、クリーンルーム領域３ｃには
ファンフィルタユニット５ｃに設けられたケミカルフィ
ルタ１２によってガス状不純物をも除去された、精密電
子部品などの製造に好適な清浄な空気が導入される。ま
た、クリーンルーム領域３ｂで発生したガス状不純物
は、ファンユニット６ｂに内蔵したケミカルフィルタ１
５によって除去され、こうして、レタンプレナムチャン
バ７に供給される還気にはガス状不純物は混入しない。Therefore, according to the clean room system of this embodiment, in the clean room areas 3a, 3b and 3c divided by the partitions 20 and 21, particles are provided via the fan filter units 5a, 5b and 5c arranged on the ceiling. Dust-free air from which particulate impurities have been removed is introduced. And, in particular, clean air suitable for the production of precision electronic parts and the like, in which gaseous impurities are also removed by the chemical filter 12 provided in the fan filter unit 5c, is introduced into the clean room region 3c. In addition, the gaseous impurities generated in the clean room region 3b are the chemical filters 1 built in the fan unit 6b.
5, so that the return air supplied to the retinal plenum chamber 7 is free of gaseous impurities.
【００２３】かくして、この実施例のクリーンルームシ
ステムによれば、導入空気や還気についてガス状不純物
の除去が必要なクリーンルーム領域３ｃ、３ｂにおいて
は、ファンフィルタユニット５ｃやファンユニット６ｂ
にガス状不純物除去手段を設け、ガス状不純物の除去が
必要でないクリーンルーム領域３ａにおいてはガス状不
純物除去手段を設ける必要がない。従って、各ゾーン毎
に最適なガス状不純物の除去が行えるようになり、必要
以上の設備投資を抑えることが可能となる。更にまた、
外調機２にも乾式または湿式のガス状不純物除去手段を
内蔵させることによって、外気由来のガス状不純物も除
去できる。Thus, according to the clean room system of this embodiment, the fan filter unit 5c and the fan unit 6b are provided in the clean room regions 3c and 3b where it is necessary to remove the gaseous impurities in the introduced air and the return air.
It is not necessary to provide the gaseous impurity removing means in the clean room region 3a where the gaseous impurity removing means is not required to be provided. Therefore, it becomes possible to optimally remove the gaseous impurities in each zone, and it becomes possible to suppress unnecessary equipment investment. Furthermore,
Gaseous impurities derived from the outside air can also be removed by incorporating a dry or wet type gaseous impurity removing means in the external conditioner 2.
【００２４】次に、図６に間仕切りが無いクリーンルー
ムシステムの実施例を示す。この実施例のクリーンルー
ムシステムはクリーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃの間
に間仕切りが設けられていないこと以外は、先に図５で
説明したクリーンルームシステムとほぼ同様の構成を備
えており、図６において図５と同様の構成要素について
は同じ符号を付し、説明は省略する。しかして、この実
施例のクリーンルームシステムにおいても、クリーンル
ーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにはファンフィルタユニット
５ａ、５ｂ、５ｃを介して粒子状不純物の除去が行われ
た無塵の空気がそれぞれ導入される。そして、クリーン
ルーム領域３ｃにはファンフィルタユニット５ｃのケミ
カルフィルタ１２によってガス状不純物をも除去された
清浄な空気が導入され、クリーンルーム領域３ｂで発生
したガス状不純物はファンユニット６ｂのケミカルフィ
ルタ１５によって除去されることとなる。但し、この実
施例のように間仕切りを省略した場合は、クリーンルー
ムの天井や床の一部分のみにケミカルフィルタなどのガ
ス状不純物除去手段が設置されることによって、各クリ
ーンルーム領域３ａ、３ｂ、３ｃにおける空気流速が不
均一となり、室内気流の偏りが発生しやすくなるといっ
た問題を生じる。そこで、この実施例のように間仕切り
を省略した場合は、ケミカルフィルタ１２を設けたファ
ンフィルタユニット５ｃやケミカルフィル１５を内蔵さ
せたファンユニット６ｂの送風能力を調節自在に構成
し、それらファンフィルタユニット５ｃやファンユニッ
ト６ｂの送風量を適宜調整することにより、室内気流の
偏りをなくして気流形状の乱れや循環空気量のばらつ
き、部分的な流量不足などを解消するように制御するこ
とが望ましい。具体的には、ファンフィルタユニット５
に内蔵されたファン１０やファンユニット６に内蔵され
たファン１６の回転稼働量をインバータ２３、２４など
を用いて制御するのがよい。Next, FIG. 6 shows an embodiment of a clean room system without partitions. The clean room system of this embodiment has substantially the same configuration as the clean room system described above with reference to FIG. 5, except that no partition is provided between the clean room areas 3a, 3b, and 3c. Constituent elements similar to those of 5 are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. Even in the clean room system of this embodiment, dust-free air from which particulate impurities have been removed is introduced into the clean room areas 3a, 3b, 3c through the fan filter units 5a, 5b, 5c. . Then, clean air in which the gaseous impurities are also removed by the chemical filter 12 of the fan filter unit 5c is introduced into the clean room region 3c, and the gaseous impurities generated in the clean room region 3b are removed by the chemical filter 15 of the fan unit 6b. Will be done. However, when the partition is omitted as in this embodiment, air in each clean room area 3a, 3b, 3c is installed by installing a gaseous impurity removing means such as a chemical filter only on a part of the ceiling or floor of the clean room. There is a problem that the flow velocity becomes non-uniform and the air flow in the room tends to be biased. Therefore, when the partition is omitted as in this embodiment, the fan filter unit 5c provided with the chemical filter 12 and the fan unit 6b having the chemical fill 15 built therein are configured to be adjustable in air blowing capacity. It is desirable to control the air flow amount of the fan unit 6b and the fan unit 5b appropriately so as to eliminate the unevenness of the indoor air flow so as to eliminate the disturbance of the air flow shape, the variation of the circulating air amount, and the partial shortage of the flow rate. Specifically, the fan filter unit 5
It is preferable to control the rotational operation amount of the fan 10 built in the fan or the fan 16 built in the fan unit 6 by using the inverters 23 and 24.
【００２５】[0025]
【発明の効果】本発明によればクリーンルームにおいて
粒子状不純物に加えてガス状不純物をも除去できるよう
になる。また、いわゆるゾーニングを行ってガス状不純
物を除去することにより、目的に応じた最適な清浄化を
行うことができ、過剰な設備を必要とせず、合理的かつ
経済的である。According to the present invention, it becomes possible to remove not only particulate impurities but also gaseous impurities in a clean room. Further, by performing so-called zoning to remove the gaseous impurities, it is possible to perform optimum cleaning according to the purpose, which does not require excessive equipment and is rational and economical.
【図１】クリーンルームシステムの概要を示す図面FIG. 1 is a drawing showing an outline of a clean room system.
【図２】ケミカルフィルタを内蔵するファンフィルタユ
ニットの説明図FIG. 2 is an explanatory view of a fan filter unit having a built-in chemical filter.
【図３】ファンの上方近傍にケミカルフィルタを配置し
たファンユニットの説明図FIG. 3 is an explanatory view of a fan unit in which a chemical filter is arranged near the upper part of the fan.
【図４】ホッパーにケミカルフィルタを配置したファン
ユニットの説明図FIG. 4 is an explanatory diagram of a fan unit in which a chemical filter is arranged in a hopper.
【図５】間仕切りによって分割されたクリーンルーム領
域を備えたクリーンルームシステムの実施例を示す図面FIG. 5 is a view showing an embodiment of a clean room system including a clean room area divided by partitions.
【図６】間仕切りが無いクリーンルームシステムの実施
例を示す図面FIG. 6 is a drawing showing an embodiment of a clean room system without partitions.
１ 外気取入経路 ２ 外調機 ３ クリーンルーム ４ サプライプレナムチャンバ ５ ファンフィルタユニット ６ ファンユニット ７ レタンプレナムチャンバ ８ レタン経路 ９ 排気経路 1 Outside air intake route 2 External air conditioner 3 Clean room 4 Supply plenum chamber 5 Fan filter unit 6 Fan unit 7 Retan plenum chamber 8 Retan route 9 Exhaust route
Claims (15)
ルーム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た
還気を再び高性能フィルタを介してクリーンルーム内に
導入するように構成したものにおいて、外気及び／また
は還気中に含まれるガス状不純物を除去するためのガス
状不純物除去手段を設けたことを特徴とするクリーンル
ームシステム。1. A structure in which outside air is introduced into a clean room through a high performance filter, and return air that has passed through the clean room is again introduced into the clean room through a high performance filter. Alternatively, a clean room system is provided with a gaseous impurity removing means for removing gaseous impurities contained in the return air.
の天井に配置したことを特徴とする請求項１に記載のク
リーンルームシステム。2. The clean room system according to claim 1, wherein the means for removing gaseous impurities is arranged on the ceiling of the clean room.
物除去手段をクリーンルームの天井において一部に配置
したことを特徴とする請求項２に記載のクリーンルーム
システム。3. The clean room system according to claim 2, wherein the gaseous impurity removing means is disposed in a part of the ceiling of the clean room to enable zoning.
のファンフィルタユニットの全部または一部にガス状不
純物除去手段を内蔵させたことを特徴とする請求項２ま
たは３に記載のクリーンルームシステム。4. The clean room system according to claim 2 or 3, wherein a gaseous impurity removing means is built in all or part of the plurality of fan filter units arranged on the ceiling of the clean room.
節自在に構成したことを特徴とする請求項４に記載のク
リーンルームシステム。5. The clean room system according to claim 4, wherein the fan filter unit is configured to be adjustable in blowing capacity.
ンバータ制御により調節自在に構成したことを特徴とす
る請求項５に記載のクリーンルームシステム。6. The clean room system according to claim 5, wherein the fan filter unit is configured so that the blowing capacity of the fan filter unit can be adjusted by inverter control.
の床に配置したことを特徴とする請求項１〜６の何れか
に記載のクリーンルームシステム。7. The clean room system according to claim 1, wherein the gaseous impurity removing means is arranged on the floor of the clean room.
物除去手段をクリーンルームの床において一部に配置し
たことを特徴とする請求項７に記載のクリーンルームシ
ステム。8. The clean room system according to claim 7, wherein the gaseous impurity removing means is disposed in a part of the floor of the clean room to enable zoning.
ユニットにガス状不純物除去手段を内蔵させたことを特
徴とする請求項７または８に記載のクリーンルームシス
テム。9. The clean room system according to claim 7, wherein the fan unit arranged on the floor of the clean room has a gaseous impurity removing means incorporated therein.
に構成したことを特徴とする請求項９に記載のクリーン
ルームシステム。10. The clean room system according to claim 9, wherein the fan unit has an adjustable blowing capacity.
タ制御により調節自在に構成したことを特徴とする請求
項１０に記載のクリーンルームシステム。11. The clean room system according to claim 10, wherein the blowing capacity of the fan unit is adjustable by inverter control.
れ部に配置したことを特徴とする請求項１〜１１の何れ
かに記載のクリーンルームシステム。12. The clean room system according to any one of claims 1 to 11, wherein the gaseous impurity removing means is arranged at an intake portion of outside air.
たは湿式のものであることを特徴とする請求項１〜１２
の何れかに記載のクリーンルームシステム。13. The method for removing gaseous impurities is dry and / or wet.
The clean room system according to any one of 1.
ルフィルタであることを特徴とする請求項１３に記載の
クリーンルームシステム。14. The clean room system according to claim 13, wherein the dry type gaseous impurity removing means is a chemical filter.
不純物を気液接触により吸収して除去するものであるこ
とを特徴とする請求項１３に記載のクリーンルームシス
テム。15. The clean room system according to claim 13, wherein the wet type gaseous impurity removing means absorbs and removes the gaseous impurities by gas-liquid contact.
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1994
- 1994-09-21 JP JP25484694A patent/JP3694046B2/en not_active Expired - Lifetime
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