JPH08293213A - Conductive paste for metal plating substrate - Google Patents

Conductive paste for metal plating substrate

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JPH08293213A
JPH08293213A JP11924495A JP11924495A JPH08293213A JP H08293213 A JPH08293213 A JP H08293213A JP 11924495 A JP11924495 A JP 11924495A JP 11924495 A JP11924495 A JP 11924495A JP H08293213 A JPH08293213 A JP H08293213A
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弘 田近
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和浩 篠原
Takao Aoki
孝男 青木
Koji Kondo
孝司 近藤
Takaaki Funabiki
崇章 舩曳
Toshiharu Fukui
俊晴 福井
Hiroshi Hatase
博 畑瀬
Koji Tanabe
功二 田邉
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Abstract

PURPOSE: To provide circuit material which has a low cost and is solderable in a flexible printcircuit. CONSTITUTION: Conductive paste for metal plating substrate is used when metal plating is conducted so as to form a circuit after the conductive paste is printed on insulating base material. Main components are composed of conductive powder A whose main component is silver powder in which primary particles of particle diameter of 0.1 to 5μm are three dimensionally coupled to form secondary particles of higher-order structure of 1 to 20μm in a shape, a binding agent B whose glass transition point temperature is -50 to 20 deg.C and whose reduction viscosity is 0.3dl/g or more, a curing agent C which can react with the binding agent B, and solvent D. Where, A/(B+C) is 60/40 to 95/5 (weight ratio), B/C is 50/50 to 99/1 (weight ratio), and breaking ductility is 20% or more after curing.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は導電性ペーストに関する
ものであり、さらに詳しくは導電性ペーストをフィルム
または基板上に印刷、硬化して回路を形成し、この上に
金属めっきを施して回路を作成するために使用する金属
めっき下地用導電性ペーストに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste, more specifically, a conductive paste is printed and cured on a film or a substrate to form a circuit, and a metal plating is applied on the circuit to form a circuit. The present invention relates to a conductive paste for metal plating base used for producing.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、フレキシブルプリント回路には銅
張りポリイミドフィルム(FCL)をエッチングして回
路を形成したFPCが使用されている。このFPCは半
田付可能であり、さらに高度の耐屈曲性、信頼性、耐熱
性をあわせもつ優れた材料であるが、基材であるポリイ
ミドフィルムが高価である上、エッチング工程を含む多
くの加工工程が必要であるため非常に高価であり、FP
Cに替わる安価な回路材料の開発が要望されている。一
方、PETフィルムに導電性ペーストを印刷したメンブ
レン回路は低コストで軽量であり、キーボードやスイッ
チなどに広く使用されている。しかしながら、通常、導
電性ペーストに銀またはカーボンペーストを使用してお
り半田付けができず、部品の実装が困難である。また、
回路抵抗も銅箔に比較してかなり高いためインピーダン
ス特性に劣り、用途が大幅に限定される欠点がある。
2. Description of the Related Art At present, an FPC having a circuit formed by etching a copper-clad polyimide film (FCL) is used for a flexible printed circuit. This FPC is an excellent material that can be soldered and has a high degree of bending resistance, reliability, and heat resistance, but the polyimide film that is the base material is expensive, and many processes including etching processes are required. It is very expensive because it requires a process.
There is a demand for the development of inexpensive circuit materials that replace C. On the other hand, a membrane circuit in which a conductive paste is printed on a PET film is low in cost and lightweight, and is widely used for keyboards, switches and the like. However, since silver or carbon paste is usually used as the conductive paste, soldering cannot be performed and it is difficult to mount components. Also,
Since the circuit resistance is also much higher than that of copper foil, the impedance characteristics are inferior, and the application is greatly limited.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記の問題点を解決す
るために、絶縁基材に導電性ペーストを印刷、硬化した
上に金属めっきをすることにより、安価でFPC並みの
性能を有する回路材料を作成するアディティブ法が検討
されている。たとえば、かかる技術としては特開平6−
120643号公報、特開昭60−136394号公
報、特開昭64−51691号公報などが知られている
が、これらに記載の導電性ペーストはいずれも市販のメ
ンブレン用導電性ペーストをそのまま使用するなど充分
検討されておらず、満足なものはない。すなわち、上記
の導電性ペーストは絶縁基材に印刷、硬化した状態での
基材に対する密着性は充分なものであるが、この上に金
属めっきをすると基材に対する良好な接着力が得られ
ず、さらには耐湿性、耐熱性などの耐久性にも劣るため
ほとんど実用化されていない。また、特開昭61−22
4491号公報、特開昭57−15487号公報では紫
外線または電子線硬化型の導電性ペーストを用いたアデ
ィティブ法を検討しているが、これらのものは導電性ペ
ーストの硬化時に高温の熱処理を必要としないため、紙
フェノール基板などの基板の変形は防げるものの、金属
めっき後の接着力が劣り実用化されていない。特に、ポ
リイミドフィルム、PETフィルムなどのフレキシブル
な基材に対しては著しく接着力が劣り使用できない。ま
た、これらのものは耐熱性、耐湿性も劣るためほとんど
実用化されていない。また、公知の導電性ペーストとし
ては特開昭59−206459号公報がある。このもの
は、通常のフレーク状または球状の銀粉とポリブタジエ
ン系バインダーを使用したメンブレン回路用の銀ペース
トであるが、通常の使用(金属めっきをしない用途)に
おいては比較的良好な特性が得られるものの、この上に
金属めっきを施すと良好な接着強度が得られない。特開
平1−159906号公報ではフレーク状(りん片状)
銀粉と共重合ポリエステル樹脂をバインダーに使用した
銀ペーストが知られているが、この場合も通常の使用に
おいては優れた密着性、屈曲性、導電性を有するが、金
属めっきの下地に使用すると良好な接着強度が得られな
い。すなわち、この銀ペーストは銀粉にフレークを用い
ており、さらにはこの銀ペーストの硬化物の後述する破
断伸度は5%程度と低いため、良好な金属めっき後の接
着力が得られないのである。
In order to solve the above-mentioned problems, an insulating base material is printed with an electrically conductive paste, cured, and then plated with a metal to provide an inexpensive circuit material having performance equivalent to that of an FPC. The additive method of creating is being considered. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-
No. 1,206,43, JP-A-60-136394, JP-A-64-51691 and the like are known, and as the conductive pastes described therein, commercially available conductive pastes for membranes are used as they are. It hasn't been examined enough, and there is nothing satisfactory. That is, the above-mentioned conductive paste has sufficient adhesiveness to the base material in a state where it is printed and cured on the insulating base material, but if metal plating is applied on this, good adhesiveness to the base material cannot be obtained. Moreover, it is not practically used because it is inferior in durability such as humidity resistance and heat resistance. In addition, JP-A-61-22
Japanese Patent No. 4491 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-15487 discuss an additive method using an ultraviolet or electron beam curable conductive paste, but these require high temperature heat treatment when the conductive paste is cured. Therefore, the deformation of the substrate such as a paper phenol substrate can be prevented, but the adhesive strength after metal plating is poor and it has not been put to practical use. In particular, it cannot be used for a flexible substrate such as a polyimide film or a PET film due to its remarkably poor adhesion. In addition, since these materials are inferior in heat resistance and humidity resistance, they have hardly been put into practical use. Further, as a known conductive paste, there is JP-A-59-206459. This is a silver paste for membrane circuits that uses ordinary flake-shaped or spherical silver powder and a polybutadiene-based binder, but relatively good properties are obtained in normal use (applications without metal plating). However, if metal plating is applied on this, good adhesive strength cannot be obtained. In JP-A-1-159906, flakes (flakes)
A silver paste using silver powder and a copolyester resin as a binder is known, and in this case as well, it has excellent adhesion, flexibility, and conductivity in normal use, but it is good when used as a base for metal plating. Can not obtain good adhesive strength. That is, this silver paste uses flakes as silver powder, and further, the fracture elongation described later of the cured product of this silver paste is as low as about 5%, so good adhesive strength after metal plating cannot be obtained. ..

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等はこのような
問題を解決するために、鋭意検討した結果、形状が粒子
径が0.1〜5μmの1次粒子が3次元状につながって
1〜20μmの高次構造の2次粒子を形成した銀粉を主
体とする導電粉とガラス転移点温度が−50〜20℃、
還元粘度が0.3dl/g以上の結合剤を使用し、か
つ、硬化後の破断伸度が20%以上であることを特徴と
する導電性ペーストは絶縁基材とりわけPETに代表さ
れる有機フィルムに対するめっき後の接着性を著しく向
上でき、さらには耐熱性、耐湿性が優れることを見出
し、本発明に到達した。即ち、本発明は絶縁基材上に導
電性ペーストを印刷した後、金属めっきをして回路を形
成する場合に使用する金属めっき下地用導電性ペースト
において、形状が粒子径が0.1〜5μmの1次粒子が
3次元状につながって1〜20μmの高次構造の2次粒
子を形成した銀粉を主体とする導電粉(A)、ガラス転
移点温度が−50〜20℃、還元粘度が0.3dl/g
以上の結合剤(B)、これと反応し得る硬化剤(C)お
よび溶剤(D)を主成分とし、(A)/((B)+
(C))が60/40〜95/5(重量比)かつ(B)
/(C)が50/50〜99/1(重量比)であり、か
つ硬化後の破断伸度が20%以上であることを特徴とす
る金属めっき下地用導電性ペーストである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made extensive studies in order to solve such a problem. As a result, primary particles having a particle diameter of 0.1 to 5 μm are connected in a three-dimensional shape. A conductive powder mainly composed of silver powder having a secondary particle having a higher-order structure of 1 to 20 μm and a glass transition temperature of −50 to 20 ° C.,
A conductive paste characterized by using a binder having a reduced viscosity of 0.3 dl / g or more and having a breaking elongation after curing of 20% or more is an insulating substrate, particularly an organic film represented by PET. The inventors of the present invention have found that the adhesiveness after plating can be remarkably improved, and further, the heat resistance and the moisture resistance are excellent, and have reached the present invention. That is, the present invention is a conductive paste for a metal plating base used for forming a circuit by metal plating after printing a conductive paste on an insulating base material, and having a particle size of 0.1 to 5 μm. Of the conductive powder (A) mainly composed of silver powder in which the primary particles of (1) are three-dimensionally connected to form secondary particles having a higher-order structure of 1 to 20 μm, the glass transition temperature is −50 to 20 ° C., and the reduced viscosity is 0.3 dl / g
The above-mentioned binder (B), a curing agent (C) capable of reacting with the binder (C) and a solvent (D) as the main components, and (A) / ((B) +
(C)) is 60/40 to 95/5 (weight ratio) and (B)
/ (C) is 50/50 to 99/1 (weight ratio), and the breaking elongation after curing is 20% or more.

【0005】本発明に使用する導電粉(A)は図1に示
したような形状が粒子径が0.1〜5μm、好ましくは
0.2〜1μmの1次粒子が3次元状につながって1〜
20μm、好ましくは2〜10μmの高次構造の2次粒
子を形成した銀粉を主体とする導電粉を主体とするもの
である。この銀粉の形状は特開平1−159906号公
報などに記載された電解銀などに見られる公知の樹枝状
(デンドライト状)の形状とは全く異なるものである。
この銀粉の好ましい比表面積は1.0〜2.5m2
g、さらに好ましくは1.3〜2.2m2 /gである。
驚くべきことに、この形状の銀粉を使用することによ
り、絶縁基材とくにPETに代表されるフレキシブルな
有機フィルムに対する優れた金属めっき後の接着性が得
られる。公知のフレーク状銀粉では良好な比抵抗は得ら
れるが、金属めっき後の接着強度が低く実用的でなく、
球状銀粉では比抵抗が著しく高くなり使用できない。ま
た、前述した公知の樹枝状(デンドライト状)銀粉はペ
ースト粘度が高くなり好ましくなく、金属めっき後の接
着強度も不良である。本発明に使用する導電粉(A)と
しては、特性を低下しない範囲で公知のフレーク状銀
粉、球状銀粉、樹枝状銀粉、グラファイト粉、カーボン
粉、ニッケル粉、銅粉、アルミ粉、インジウム粉などを
併用しても良いが、図1に示したような形状が粒子径が
0.1〜5μmの1次粒子が3次元状につながって1〜
20μmの高次構造の2次粒子を形成した銀粉を少なく
とも全導電粉量の50%以上、好ましくは70%以上使
用することが必要である。
The conductive powder (A) used in the present invention has a shape as shown in FIG. 1 in which primary particles having a particle size of 0.1 to 5 μm, preferably 0.2 to 1 μm are connected in a three-dimensional manner. 1 to
The conductive powder is mainly composed of silver powder in which secondary particles having a higher order structure of 20 μm, preferably 2 to 10 μm are formed. The shape of this silver powder is completely different from the known dendritic (dendritic) shape found in electrolytic silver and the like described in JP-A-1-159906.
The preferred specific surface area of this silver powder is 1.0 to 2.5 m 2 /
g, and more preferably 1.3 to 2.2 m 2 / g.
Surprisingly, the use of this form of silver powder provides excellent post-metal-plating adhesion to insulating substrates, especially flexible organic films typified by PET. Good specific resistance can be obtained with known flake silver powder, but the adhesive strength after metal plating is low and not practical,
Spherical silver powder cannot be used because of its extremely high specific resistance. Further, the above-mentioned known dendritic silver powder is not preferable because the paste viscosity becomes high, and the adhesive strength after metal plating is also poor. As the conductive powder (A) used in the present invention, known flaky silver powder, spherical silver powder, dendritic silver powder, graphite powder, carbon powder, nickel powder, copper powder, aluminum powder, indium powder, etc. 1 may be used in combination, but the shape as shown in FIG. 1 is obtained by connecting primary particles having a particle diameter of 0.1 to 5 μm in a three-dimensional shape.
It is necessary to use at least 50% or more, preferably 70% or more of the total amount of the conductive powder, of the silver powder on which secondary particles having a high-order structure of 20 μm are formed.

【0006】本発明に使用する導電粉(A)の配合量
は、(A)/((B)+(C))(重量比)が60/4
0〜95/5であり、好ましくは70/30〜85/1
5である。(A)が(A)/((B)+(C))におい
て60/40未満では良好な導電性が得られず、95/
5を越えると有機フィルムに対する金属めっき後の接着
性が低下する。
The blending amount of the conductive powder (A) used in the present invention is (A) / ((B) + (C)) (weight ratio) is 60/4.
0 to 95/5, preferably 70/30 to 85/1
It is 5. When (A) is less than 60/40 in (A) / ((B) + (C)), good conductivity cannot be obtained, and 95 /
When it exceeds 5, the adhesiveness to the organic film after metal plating is deteriorated.

【0007】本発明に使用する結合剤(B)はその種類
に制限はないが、後述するように、銀ペースト硬化後に
20%以上の破断伸度が得られることが必要である。ま
た、結合剤(B)の種類としては、PETフィルムなど
の有機フィルムを基材として使用する場合においては、
基材に対する金属めっき後の接着性及び耐屈曲性からポ
リウレタン樹脂および/または共重合ポリエステル樹脂
が最も好ましい。
The type of the binder (B) used in the present invention is not limited, but as described later, it is necessary that a breaking elongation of 20% or more can be obtained after the silver paste is cured. Further, as the kind of the binder (B), when an organic film such as a PET film is used as a base material,
Polyurethane resin and / or copolyester resin are most preferred from the viewpoint of adhesion and flex resistance after metal plating on a substrate.

【0008】本発明に使用する結合剤(B)と硬化剤
(C)との配合比は、(B)/(C)(重量比)が50
/50〜99/1、好ましくは70/30〜85/15
である。(B)/(C)が上記の範囲を外れると耐屈曲
性および金属めっき後の接着性が不良となる。
The compounding ratio of the binder (B) and the curing agent (C) used in the present invention is such that (B) / (C) (weight ratio) is 50.
/ 50 to 99/1, preferably 70/30 to 85/15
Is. If (B) / (C) is out of the above range, the bending resistance and the adhesiveness after metal plating become poor.

【0009】本発明の導電性ペーストは硬化後の破断伸
度が20%以上、好ましくは80%以上である必要があ
る。破断伸度が20%未満では良好な金属めっき後の接
着性が得られない。
The conductive paste of the present invention must have a breaking elongation after curing of 20% or more, preferably 80% or more. If the breaking elongation is less than 20%, good adhesiveness after metal plating cannot be obtained.

【0010】本発明の結合剤(B)はガラス転移点温度
が−50〜20℃、好ましくは−35〜0℃、さらに好
ましくは−35〜−15℃であり、還元粘度0.3dl
/g以上、好ましくは0.5〜1.5dl/gであるこ
とが必要である。ガラス転移点温度が−50℃未満では
良好な金属めっき後の接着性が得られず、また耐湿性な
どの環境特性が悪化する。20℃を越えると硬化後の良
好な破断強度および破断伸度が得られず、このため金属
めっき後の良好な接着性が得られない。還元粘度が0.
3dl/g未満では、硬化後の良好な破断伸度が得られ
ず、このため良好な金属めっき後の接着性が得られな
い。また、ペースト粘度が低下し、好ましくない。
The binder (B) of the present invention has a glass transition temperature of −50 to 20 ° C., preferably −35 to 0 ° C., more preferably −35 to −15 ° C., and a reduced viscosity of 0.3 dl.
/ G or more, preferably 0.5 to 1.5 dl / g. If the glass transition temperature is less than -50 ° C, good adhesion after metal plating cannot be obtained, and environmental characteristics such as moisture resistance deteriorate. If it exceeds 20 ° C, good breaking strength and breaking elongation after curing cannot be obtained, and therefore good adhesiveness after metal plating cannot be obtained. The reduced viscosity is 0.
If it is less than 3 dl / g, good elongation at break cannot be obtained after curing, and thus good adhesion after metal plating cannot be obtained. In addition, the paste viscosity decreases, which is not preferable.

【0011】本発明の結合剤(B)としてポリウレタン
樹脂を使用する場合は公知の方法により、分子量500
以上のポリオールと必要に応じて分子量500未満の鎖
延長剤をイソシアネート化合物と反応させて合成したも
のを使用することができる。ポリウレタン樹脂に使用す
る分子量500以上のポリオールとしてはポリエーテル
ポリオール、(メタ)アクリルポリオール、ポリエステ
ルポリオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジ
エンポリオールなどがあるが、金属めっき後の接着性、
耐久性よりポリエステルポリオールが好ましい。ポリエ
ステルポリオールのうち、脂肪族ポリエステルポリオー
ルをポリエステルポリオールの50重量%以上使用する
ことが金属めっき後の接着力の点で特に好ましい。鎖延
長剤として使用する分子量500未満のポリオールとし
てはネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオー
ル、エチレングリコール、HPN(ネオペンチルグリコ
ールのヒドロキシピバリン酸エステル)、トリメチロー
ルプロパン、グリセリンなどの公知のポリオールが挙げ
られる。さらにジメチロールプロピオン酸のようなカル
ボキシル基含有ポリオールなども鎖延長剤として使用で
きる。ポリウレタン樹脂に使用するジイソシアネート化
合物は、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジ
フェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメ
タンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネートなどが挙げられる。
When a polyurethane resin is used as the binder (B) of the present invention, a molecular weight of 500 is obtained by a known method.
What was synthesize | combined by making the above-mentioned polyol and the chain extender of molecular weight less than 500 react with an isocyanate compound as needed can be used. Polyether polyols, (meth) acrylic polyols, polyester polyols, polycarbonate diols, polybutadiene polyols and the like are used as the polyol having a molecular weight of 500 or more for the polyurethane resin.
Polyester polyols are preferred for durability. Among the polyester polyols, it is particularly preferable to use the aliphatic polyester polyol in an amount of 50% by weight or more of the polyester polyol from the viewpoint of adhesive strength after metal plating. Known polyols such as neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, HPN (hydroxypivalic acid ester of neopentyl glycol), trimethylolpropane, and glycerin are used as the chain extender having a molecular weight of less than 500. Can be mentioned. Further, a carboxyl group-containing polyol such as dimethylolpropionic acid can be used as a chain extender. The diisocyanate compound used for the polyurethane resin is tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate,
Examples thereof include hydrogenated xylylene diisocyanate and isophorone diisocyanate.

【0012】結合剤(B)としてポリウレタン樹脂を使
用する場合は分子量500以上のポリエステルジオール
100重量部と分子量500未満の鎖延長剤0〜40重
量部に有機ジイソシアネート化合物を反応させて得られ
るウレタン基濃度500〜4000当量/106 gのポ
リウレタン樹脂が金属めっき後の接着力および耐久性の
点でより好ましい。
When a polyurethane resin is used as the binder (B), a urethane group obtained by reacting 100 parts by weight of a polyester diol having a molecular weight of 500 or more with 0 to 40 parts by weight of a chain extender having a molecular weight of less than 500 with an organic diisocyanate compound. A polyurethane resin having a concentration of 500 to 4000 equivalents / 10 6 g is more preferable in terms of adhesive strength and durability after metal plating.

【0013】本発明の結合剤(B)として共重合ポリエ
ステル樹脂を使用する場合は公知の方法により減圧下で
重縮合して得られたものを使用することができる。共重
合ポリエステルは飽和ポリエステルが好ましい。また、
ポリエステル樹脂を重合後、180〜230℃でε−カ
プロラクトンなどの環状エステルを後付加(開環付加)
してブロック化したり、無水トリメリット酸、無水フタ
ル酸などの酸無水物を後付加して酸価を付与してもよ
い。ポリエステルに共重合するジカルボン酸は、テレフ
タル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、2,6−ナフ
タレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジ
カルボン酸、アゼライン酸などの脂肪族ジカルボン酸、
SLB−12、ULB−20、SL−20、SB−2
0、ST−2、PML−6CM、IPU−22(いずれ
も岡村製油(株)製)などの炭素数12〜28の2塩基
酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、3
−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、2−メチルヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、ジカルボキシ水素添加ビスフェノ
ールA、ジカルボキシ水素添加ビスフェノールS、ダイ
マー酸、水素添加ダイマー酸、水素添加ナフタレンジカ
ルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸などの脂環族
ジカルボン酸が挙げられる。また、発明の内容を損なわ
ない範囲で、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸
などの多価のカルボン酸、フマール酸などの不飽和ジカ
ルボン酸、さらに、5−スルホイソフタル酸ナトリウム
塩などのスルホン酸金属塩基含有ジカルボン酸を併用し
てもよい。本発明の結合剤(B)として使用されるポリ
エステルに用いられるアルキレングリコールは、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサ
ンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、
2−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジエ
チル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−エ
チル−1,3−プロパンジオール、1,9−ノナンジオ
ール、1,10−デカンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノー
ル、1,2−シクロヘキサンジメタノール、ダイマージ
オールなどが挙げられる。また、発明の内容を損なわな
い範囲でトリメチロールエタン、トリメチロールプロパ
ン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリグリセリ
ンなどの多価ポリオールを併用してもよい。このうち、
耐湿性の面より、酸成分は芳香族ジカルボン酸、脂環族
ジカルボン酸、炭素数10以上の脂肪族ジカルボン酸、
炭素数12〜28の2塩基酸、水素添加ダイマー酸の組
み合わせが好ましく、グリコール成分はネオペンチルグ
リコール、炭素数5〜10の長鎖脂肪族ジオール、ダイ
マージオールが好ましい。
When the copolymerized polyester resin is used as the binder (B) of the present invention, the one obtained by polycondensation under reduced pressure by a known method can be used. The copolyester is preferably saturated polyester. Also,
After polymerization of polyester resin, cyclic ester such as ε-caprolactone is post-added (ring-opening addition) at 180 to 230 ° C.
It may be blocked to give an acid value by post-adding an acid anhydride such as trimellitic anhydride or phthalic anhydride. Dicarboxylic acids copolymerized with polyester include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, azelaic acid. Aliphatic dicarboxylic acids, such as
SLB-12, ULB-20, SL-20, SB-2
0, ST-2, PML-6CM, IPU-22 (all manufactured by Okamura Oil Co., Ltd.), etc., a dibasic acid having 12 to 28 carbon atoms, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid. 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, 3
-Methylhexahydrophthalic anhydride, 2-methylhexahydrophthalic anhydride, dicarboxyhydrogenated bisphenol A, dicarboxyhydrogenated bisphenol S, dimer acid, hydrogenated dimer acid, hydrogenated naphthalene dicarboxylic acid, tricyclodecane dicarboxylic acid And alicyclic dicarboxylic acids such as In addition, polyvalent carboxylic acids such as trimellitic anhydride and pyromellitic anhydride, unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, and sulfonic acids such as 5-sulfoisophthalic acid sodium salt, etc., within a range not impairing the content of the invention. You may use together the metal-base containing dicarboxylic acid. The alkylene glycol used in the polyester used as the binder (B) of the present invention is ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol. , 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol,
2-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,9-nonanediol, 1,10- Examples include decanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, and dimer diol. Further, polyhydric polyols such as trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, and polyglycerin may be used in combination as long as the content of the invention is not impaired. this house,
From the viewpoint of moisture resistance, the acid component is an aromatic dicarboxylic acid, an alicyclic dicarboxylic acid, an aliphatic dicarboxylic acid having 10 or more carbon atoms,
A combination of a dibasic acid having 12 to 28 carbon atoms and a hydrogenated dimer acid is preferable, and the glycol component is preferably neopentyl glycol, a long chain aliphatic diol having 5 to 10 carbon atoms, or a dimer diol.

【0014】本発明の結合剤(B)は上記のポリウレタ
ン樹脂、共重合ポリエステル樹脂などに発明の内容を損
なわない範囲でエポキシ樹脂またはフェノール樹脂など
を配合してもよい。これらの樹脂を適量配合することに
より、金属めっき後の接着力が増大する。本発明に使用
する結合剤(B)に反応し得る硬化剤(C)は種類は限
定しないが、接着性、耐屈曲性、硬化性などからイソシ
アネート化合物が特に好ましい。さらに、これらのイソ
シアネート化合物はブロック化して使用することが貯蔵
安定性から好ましい。イソシアネート化合物以外の硬化
剤としては、メチル化メラミン、ブチル化メラミン、ベ
ンゾグアナミン、尿素樹脂などのアミノ樹脂、酸無水
物、イミダゾール類、エポキシ樹脂、フェノール樹脂な
どの公知の化合物が挙げられる。
As the binder (B) of the present invention, an epoxy resin or a phenol resin may be blended with the above-mentioned polyurethane resin, copolyester resin or the like within a range not impairing the content of the invention. By mixing these resins in appropriate amounts, the adhesive force after metal plating is increased. The type of the curing agent (C) that can react with the binder (B) used in the present invention is not limited, but an isocyanate compound is particularly preferable in terms of adhesiveness, flex resistance, curability and the like. Further, it is preferable to use these isocyanate compounds in a blocked state in terms of storage stability. Examples of the curing agent other than the isocyanate compound include known compounds such as amino resins such as methylated melamine, butylated melamine, benzoguanamine and urea resins, acid anhydrides, imidazoles, epoxy resins and phenol resins.

【0015】イソシアネート化合物としては、芳香族、
脂肪族のジイソシアネート、3価以上のポリイソシアネ
ートがあり、低分子化合物、高分子化合物のいずれでも
よい。例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネ
ート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネートあるいはこれらのイソシアネート化合
物の3量体、及びこれらのイソシアネート化合物の過剰
量と、例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリメチロールプロパン、グリセリン、ソルビトー
ル、エチレンジアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン等の低分子活性水
素化合物または各種ポリエステルポリオール類、ポリエ
ーテルポリオール類、ポリアミド類の高分子活性水素化
合物などと反応させて得られる末端イソシアネート基含
有化合物が挙げられる。
As the isocyanate compound, aromatic compounds,
There are aliphatic diisocyanates and polyisocyanates having 3 or more valences, and either low molecular weight compounds or high molecular weight compounds may be used. For example, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate or trimer of these isocyanate compounds, and excess of these isocyanate compounds. Amount and, for example, ethylene glycol, propylene glycol, trimethylolpropane, glycerin, sorbitol, ethylenediamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine low molecular weight active hydrogen compounds or various polyester polyols, polyether polyols, polyamides of Obtained by reacting with a polymer active hydrogen compound Terminal isocyanate group-containing compounds to be.

【0016】ブロックイソシアネート化剤としては、例
えばフェノール、チオフェノール、メチルチオフェノー
ル、エチルチオフェノール、クレゾール、キシレノー
ル、レゾルシノール、ニトロフェノール、クロロフェノ
ールなどのフェノール類、アセトキシム、メチルエチル
ケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシ
ム類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ールなどのアルコール類、エチレンクロルヒドリン、
1,3−ジクロロ−2−プロパノールなどのハロゲン置
換アルコール類、t−ブタノール、t−ペンタノールな
どの第三級アルコール類、ε−カプロラクタム、δ−バ
レロラクタム、γ−ブチロラクタム、β−プロピロラク
タムなどのラクタム類が挙げられ、その他にも芳香族ア
ミン類、イミド類、アセチルアセトン、アセト酢酸エス
テル、マロン酸エチルエステルなどの活性メチレン化合
物、メルカプタン類、イミン類、イミダゾール類、尿素
類、ジアリール化合物類、重亜硫酸ソーダ等も挙げられ
る。このうち、硬化性よりオキシム類、イミダゾール
類、アミン類がとくに好ましい。
Examples of the blocked isocyanate agent include phenols such as phenol, thiophenol, methylthiophenol, ethylthiophenol, cresol, xylenol, resorcinol, nitrophenol, and chlorophenol, oximes such as acetoxime, methylethylketoxime, and cyclohexanone oxime. , Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene chlorohydrin,
Halogen-substituted alcohols such as 1,3-dichloro-2-propanol, tertiary alcohols such as t-butanol and t-pentanol, ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam, β-propyrolactam. Other examples include lactams such as aromatic amines, imides, acetylacetone, acetoacetic acid esters, active methylene compounds such as malonic acid ethyl ester, mercaptans, imines, imidazoles, ureas, diaryl compounds. , Sodium bisulfite, etc. are also included. Of these, oximes, imidazoles, and amines are particularly preferable because of their curability.

【0017】これらの架橋剤には、その種類に応じて選
択された公知の触媒あるいは促進剤を併用することもで
きる。
The cross-linking agent may be used in combination with a known catalyst or accelerator selected according to its type.

【0018】本発明に使用される溶剤(D)はその種類
に制限はなく、エステル系、ケトン系、エーテルエステ
ル系、塩素系、アルコール系、エーテル系、炭化水素系
などが挙げられる。このうち、スクリーン印刷する場合
はエチルカルビトールアセテート、ブチルセロソルブア
セテート、イソホロン、シクロヘキサノンなどの高沸点
溶剤が好ましい。
The type of the solvent (D) used in the present invention is not limited, and examples thereof include ester type, ketone type, ether ester type, chlorine type, alcohol type, ether type and hydrocarbon type. Among them, in the case of screen printing, high boiling point solvents such as ethyl carbitol acetate, butyl cellosolve acetate, isophorone and cyclohexanone are preferable.

【0019】[0019]

【実施例】本発明を以下の実施例を用いて説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。実施例中、
単に部とあるものは重量部を示す。また、各測定項目は
以下の方法に従った。
The present invention will be described with reference to the following examples.
The present invention is not limited to these. In the examples
Some parts are simply parts by weight. Moreover, each measurement item followed the following method.

【0020】1.粘度 25±1℃で、E型回転粘度計で3°コーン、5rpm
で測定した。
1. Viscosity 25 ± 1 ℃, E-type rotary viscometer 3 ° cone, 5rpm
It was measured at.

【0021】2.揺変度 25±1℃で、E型回転粘度計で3°コーン、2.5r
pm/10rpmで測定した。揺変度は次式で算出し
た。 揺変度=粘度(2.5rpm)/粘度(10rpm)
2. Tilt degree 25 ± 1 ℃, E-type rotational viscometer 3 ° cone, 2.5r
It was measured at pm / 10 rpm. The fluctuation degree was calculated by the following formula. Thickness = Viscosity (2.5 rpm) / Viscosity (10 rpm)

【0022】3.還元粘度(ηsp/c) サンプル樹脂をフェノール/テトラクロロエタン(60
/40重量比)混合溶媒に0.400g/100mlの
濃度で溶解し、オストワルト粘度計を用いて、30℃で
測定した。
3. Reduced viscosity (ηsp / c) Sample resin is phenol / tetrachloroethane (60
(/ 40 weight ratio) It was dissolved in a mixed solvent at a concentration of 0.400 g / 100 ml and measured at 30 ° C. using an Ostwald viscometer.

【0023】4.分子量 GPCによりポリスチレン換算の数平均分子量を測定し
た。
4. Molecular weight The polystyrene-equivalent number average molecular weight was measured by GPC.

【0024】5.ガラス転移点温度(Tg) 示差走査熱量計(DSC)を用いて、20℃/分の昇温
速度で測定した。サンプルは試料5mgをアルミニウム
押え蓋型容器に入れ、クリンプした。
5. Glass transition temperature (Tg) The temperature was measured with a differential scanning calorimeter (DSC) at a temperature rising rate of 20 ° C / min. As a sample, 5 mg of the sample was placed in an aluminum pressing lid type container and crimped.

【0025】6.酸価 試料0.2gを精秤し20mlのクロロホルムに溶解し
た。次いで、0.01Nの水酸化カリウム(エタノール
溶液)で滴定して求めた。指示薬には、フェノールフタ
レイン溶液を用いた。
6. Acid value A sample of 0.2 g was precisely weighed and dissolved in 20 ml of chloroform. Then, it was determined by titration with 0.01 N potassium hydroxide (ethanol solution). A phenolphthalein solution was used as the indicator.

【0026】7.比抵抗 150℃で30分間加熱硬化した導電性ペーストの比抵
抗を4深針抵抗測定器を用いて測定した。
7. Specific resistance The specific resistance of the conductive paste heat-cured at 150 ° C. for 30 minutes was measured using a 4-deep needle resistance measuring instrument.

【0027】8.金属めっき後の接着力 75μmのアニール処理済PETフィルムに導電性ペー
ストを用いて1mm幅のラインをスクリーン印刷し、1
50℃で30分間加熱硬化した。次いで、5%NaOH
で洗浄し、50ボーメ度の硫酸で表面活性を行った後、
硫酸銅系めっき浴(硫酸銅200g/l、硫酸50g/
l、塩素イオン50mg/l、光沢剤からなる)を用い
て3A/dm2 で銅の厚みが30〜35μmになるよう
に銅めっきを行ったものをテストピースとした。テスト
ピース裏面に両面テープで補強板をはり、引張り試験機
で50mm/minで90°はくり試験を行った。
8. Adhesive strength after metal plating A line of 1 mm width is screen-printed on a 75 μm-annealed PET film using an electrically conductive paste.
It was heat-cured at 50 ° C. for 30 minutes. Then 5% NaOH
After surface washing with 50 Baume degree sulfuric acid,
Copper sulfate plating bath (copper sulfate 200 g / l, sulfuric acid 50 g /
1, a chloride ion of 50 mg / l, consisting of a brightening agent) was used to perform a copper plating at 3 A / dm 2 so that the copper thickness was 30 to 35 μm. A reinforcing plate was attached to the back surface of the test piece with a double-sided tape, and a 90 ° peeling test was performed with a tensile tester at 50 mm / min.

【0028】9.破断伸度 導電性ペーストをテフロンシートにアプリケーターで塗
布し、150℃/30分間加熱硬化した後、塗膜をはく
りし、これを引張り試験機で50mm/minで引張
り、破断伸度を測定した。尚、サンプル幅1cm、サン
プル長5cm、膜厚30〜40μmで測定した。
9. Breaking Elongation The conductive paste was applied to a Teflon sheet with an applicator, heated and cured at 150 ° C./30 minutes, the coating film was peeled off, and this was pulled at 50 mm / min with a tensile tester to measure the breaking extension. . The sample width was 1 cm, the sample length was 5 cm, and the film thickness was 30 to 40 μm.

【0029】合成例.1(ポリウレタン樹脂I) 四つ口フラスコに脂肪族系ポリエステルジオールOD−
X−688(大日本インキ工業(株))100部、鎖延
長剤としてのネオペンチルグリコール6部、1,6−ヘ
キサンジオール2部、エチルカルビトールアセテート1
57部、ブチルセロソルブアセテート52部を仕込み、
窒素気流化で60℃に加熱し、さらにジフェニルメタン
ジイソシアネートを31部仕込み、ゆるやかに80℃ま
で加熱し、残イソシアネートが検出されなくなるまで5
時間反応した。得られたポリウレタン樹脂は還元粘度
1.10dl/g、数平均分子量38000、Tg=−
32℃であった。
Synthesis example. 1 (Polyurethane resin I) Aliphatic polyester diol OD-in a four-necked flask
X-688 (Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 100 parts, neopentyl glycol as a chain extender 6 parts, 1,6-hexanediol 2 parts, ethyl carbitol acetate 1
57 parts, butyl cellosolve acetate 52 parts,
Heat to 60 ° C with nitrogen gas flow, add 31 parts of diphenylmethane diisocyanate, and slowly heat to 80 ° C until no residual isocyanate is detected.
Reacted for hours. The obtained polyurethane resin had a reduced viscosity of 1.10 dl / g, a number average molecular weight of 38,000, and Tg =-.
It was 32 ° C.

【0030】合成例.2(ポリウレタン樹脂II) 四つ口フラスコに脂肪族系ポリエステルジオールOD−
X−688(大日本インキ工業(株))70部、芳香族
系ポリエステルジオールバイロン220(東洋紡績
(株))30部、延長剤としてのネオペンチルグリコー
ル6部、1,6−ヘキサンジオール2部、エチルカルビ
トールアセテート157部、ブチルセロソルブアセテー
ト52部を仕込み、窒素気流化で60℃に加熱し、さら
にジフェニルメタンジイソシアネートを31部仕込み、
ゆるやかに80℃まで加熱し、残イソシアネートが検出
されなくなるまで5時間反応した。得られたポリウレタ
ン樹脂は還元粘度1.25dl/g、数平均分子量42
000、Tg=−15℃であった。
Synthesis example. 2 (Polyurethane resin II) Aliphatic polyester diol OD-in a four-necked flask
X-688 (Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 70 parts, aromatic polyester diol Byron 220 (Toyobo Co., Ltd.) 30 parts, neopentyl glycol 6 parts as an extender, 1,6-hexanediol 2 parts , 157 parts of ethyl carbitol acetate and 52 parts of butyl cellosolve acetate were charged, heated to 60 ° C. under a nitrogen stream, and further charged with 31 parts of diphenylmethane diisocyanate,
The mixture was gently heated to 80 ° C. and reacted for 5 hours until no residual isocyanate was detected. The obtained polyurethane resin has a reduced viscosity of 1.25 dl / g and a number average molecular weight of 42.
000 and Tg = -15 ° C.

【0031】合成例.3(ポリエステル樹脂I) グビリュー精留塔を具備した四つ口フラスコにジメチル
テレフタル酸49部、ジメチルイソフタル酸107部、
ネオペンチルグリコール33部、1,5−ペンタンジオ
ール186部、テトラブチルチタネート0.068部を
仕込み、180℃、3時間エステル交換を行った。次い
で、セバシン酸40部を仕込み、さらにエステル化反応
を行った。次に、1mmHg以下まで徐々に減圧し、2
40℃、1時間重合した。得られた共重合ポリエステル
の組成は、テレフタル酸/イソフタル酸/セバシン酸/
/ネオペンチルグリコール/1,5−ペンタンジオール
=25/55/20//15/85(モル比)で還元粘
度0.55dl/g、数平均分子量16000、酸価
1.1mgKOH/g、Tg=−14℃であった。
Synthesis example. 3 (polyester resin I) 49 parts of dimethyl terephthalic acid and 107 parts of dimethyl isophthalic acid were placed in a four-necked flask equipped with a Gubilieu rectification column.
33 parts of neopentyl glycol, 186 parts of 1,5-pentanediol and 0.068 part of tetrabutyl titanate were charged, and transesterification was performed at 180 ° C. for 3 hours. Then, 40 parts of sebacic acid was charged and further esterification reaction was carried out. Next, gradually reduce the pressure to 1 mmHg or less, and
Polymerization was carried out at 40 ° C. for 1 hour. The composition of the obtained copolyester is terephthalic acid / isophthalic acid / sebacic acid /
/ Neopentyl glycol / 1,5-pentanediol = 25/55/20 // 15/85 (molar ratio), reduced viscosity 0.55 dl / g, number average molecular weight 16000, acid value 1.1 mgKOH / g, Tg = It was -14 ° C.

【0032】合成例.4(ポリエステル樹脂II) グビリュー精留塔を具備した四つ口フラスコにジメチル
テレフタル酸101部、ジメチルイソフタル酸35部、
エチレングリコール93部、ネオペンチルグリコール7
3部、テトラブチルチタネート0.068部を仕込み、
180℃、3時間エステル交換を行った。次いで、セバ
シン酸61部を仕込み、さらにエステル化反応を行っ
た。次に、1mmHg以下まで徐々に減圧し、240
℃、1時間重合した。得られた共重合ポリエステルの組
成は、テレフタル酸/イソフタル酸/セバシン酸//エ
チレングリコール/ネオペンチルグリコール=52/1
8/30//55/45(モル比)で還元粘度0.64
dl/g、数平均分子量22000、酸価1.5mgK
OH/g、Tg=7℃であった。
Synthesis example. 4 (Polyester Resin II) 101 parts of dimethyl terephthalic acid, 35 parts of dimethyl isophthalic acid were placed in a four-necked flask equipped with a Gubilieu rectification column.
93 parts ethylene glycol, neopentyl glycol 7
Charge 3 parts, tetrabutyl titanate 0.068 parts,
Transesterification was performed at 180 ° C. for 3 hours. Next, 61 parts of sebacic acid was charged and further esterification reaction was carried out. Next, gradually reduce the pressure to 1 mmHg or less, and
Polymerization was carried out at ℃ for 1 hour. The composition of the obtained copolyester is terephthalic acid / isophthalic acid / sebacic acid // ethylene glycol / neopentyl glycol = 52/1.
Reduced viscosity of 0.64 at 8/30 // 55/45 (molar ratio)
dl / g, number average molecular weight 22,000, acid value 1.5 mgK
OH / g, Tg = 7 ° C.

【0033】実施例.1 形状が図1に示した粒子径が0.1〜5μmの1次粒子
が3次元状につながって1〜20μmの高次構造の2次
粒子を形成した形状で、比表面積が1.62m2 /gの
銀粉A−1、77.0部、ポリウレタン樹脂Iワニス
(固形分40%)43.3部、ブロックイソシアネート
化合物C−1溶液(ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソシアヌレートアダクトのブタノオキシムブロック
体、固形分80%)7.1部、分散剤0.2固形部を配
合し、充分プレミックスした後、チルド3本ロール混練
り機で、3回通して分散した。得られた銀ペーストは粘
度34.1(pa・s)、揺変度1.47、比抵抗9.
5×10-5Ω・cm、破断伸度180%であり、銅めっ
き後の接着力は1.2kg/cmで良好であった。ま
た、銅めっきを施した後に60℃、95%RHで100
0時間環境試験をした後の接着力保持率は95%で非常
に良好な耐湿性を有した。結果を配合とともに表−1に
示す。
Example. 1 The shape shown in FIG. 1 is a shape in which primary particles having a particle diameter of 0.1 to 5 μm are three-dimensionally connected to form secondary particles having a higher-order structure of 1 to 20 μm, and a specific surface area is 1.62 m. 2 / g of silver powder A-1, 77.0 parts, polyurethane resin I varnish (solid content 40%) 43.3 parts, blocked isocyanate compound C-1 solution (hexamethylene diisocyanate,
7.1 parts of butanooxime block of isocyanurate adduct, solid content of 80%) and 0.2 solid parts of dispersant were mixed and thoroughly premixed, and then passed through a chilled three-roll kneader 3 times. Dispersed. The obtained silver paste had a viscosity of 34.1 (pa · s), a thixotropy of 1.47 and a specific resistance of 9.
It was 5 × 10 −5 Ω · cm, the elongation at break was 180%, and the adhesive strength after copper plating was 1.2 kg / cm, which was good. In addition, after applying copper plating, 100 at 60 ° C and 95% RH
The adhesive strength retention rate after the 0-hour environmental test was 95%, which was a very good humidity resistance. The results are shown in Table 1 together with the composition.

【0034】実施例 2〜7 実施例.1と同様に実施例2〜7の銀ペーストを表−1
の配合に従って作成し、評価した。結果を表−1に示
す。
Examples 2 to 7 Examples. The silver pastes of Examples 2 to 7 are prepared in the same manner as in Table 1.
Was prepared and evaluated according to the formulation. The results are shown in Table 1.

【0035】比較例 1〜8 実施例.1と同様に比較例1〜8の銀ペーストを表−2
の配合に従って作成し、評価した。結果を表−2に示
す。
Comparative Examples 1-8 Examples. The silver pastes of Comparative Examples 1 to 8 are prepared in the same manner as in Table 1.
Was prepared and evaluated according to the formulation. Table 2 shows the results.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】[0038]

【表3】 [Table 3]

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明の導電性ペーストを使用すること
により、各種絶縁基材とくにPETに代表される有機フ
ィルムに対する金属めっき後の接着性を大幅に向上で
き、安価で半田付け可能な回路材料を作成することが可
能となる。
EFFECTS OF THE INVENTION By using the conductive paste of the present invention, the adhesiveness after metal plating to various insulating substrates, especially organic films typified by PET, can be significantly improved, and the circuit material can be soldered at low cost. Can be created.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明において使用する高次構造の2次粒子を
形成した銀粉を電子顕微鏡写真によって拡大したもので
ある。
FIG. 1 is a magnified image of an electron micrograph of silver powder having secondary particles of higher order structure used in the present invention.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/24 7511−4E H05K 3/24 A (72)発明者 青木 孝男 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 近藤 孝司 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 舩曳 崇章 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 福井 俊晴 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 畑瀬 博 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 田邉 功二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location H05K 3/24 7511-4E H05K 3/24 A (72) Inventor Takao Aoki 2-1-1 Katata, Otsu City, Shiga Prefecture No. 1 Toyobo Co., Ltd. Research Institute (72) Inventor Koji Kondo 2-1-1 Katata, Otsu City, Shiga Prefecture Toyobo Co., Ltd. Research Institute (72) Inventor Takaaki Funabiki Osaka Prefecture Kadoma City 1006 Kadoma Address Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Toshiharu Fukui 1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Hiroshi Hatase, 1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Koji Tanabe 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基材上に導電性ペーストを印刷した
後、金属めっきをして回路を形成する場合に使用する金
属めっき下地用導電性ペーストにおいて、形状が粒子径
が0.1〜5μmの1次粒子が3次元状につながって1
〜20μmの高次構造の2次粒子を形成した銀粉を主体
とする導電粉(A)、ガラス転移点温度が−50〜20
℃、還元粘度が0.3dl/g以上の結合剤(B)、こ
れと反応し得る硬化剤(C)および溶剤(D)を主成分
とし、(A)/((B)+(C))が60/40〜95
/5(重量比)かつ(B)/(C)が50/50〜99
/1(重量比)であり、かつ硬化後の破断伸度が20%
以上であることを特徴とする金属めっき下地用導電性ペ
ースト。
1. A conductive paste for a metal plating base, which is used when a circuit is formed by printing a conductive paste on an insulating substrate and then plating the metal with a particle size of 0.1 to 5 μm. Primary particles are connected in a three-dimensional manner 1
Conductive powder (A) mainly composed of silver powder having secondary particles of higher order structure of ˜20 μm, glass transition temperature of −50 to 20
(A) / ((B) + (C) containing as a main component a binder (B) having a reduced viscosity of 0.3 dl / g or more, a curing agent (C) and a solvent (D) capable of reacting with this, ) Is 60/40 to 95
/ 5 (weight ratio) and (B) / (C) is 50/50 to 99
/ 1 (weight ratio), and the breaking elongation after curing is 20%
The above is a conductive paste for a metal plating base, which is characterized by the above.
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