JPH08274048A - Manufacture of chip member - Google Patents

Manufacture of chip member

Info

Publication number
JPH08274048A
JPH08274048A JP7497695A JP7497695A JPH08274048A JP H08274048 A JPH08274048 A JP H08274048A JP 7497695 A JP7497695 A JP 7497695A JP 7497695 A JP7497695 A JP 7497695A JP H08274048 A JPH08274048 A JP H08274048A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
irradiation
ultraviolet
tape
amount
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7497695A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Yamanaka
英雄 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP7497695A priority Critical patent/JPH08274048A/en
Publication of JPH08274048A publication Critical patent/JPH08274048A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dicing (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a method of manufacturing chip members, which prevents clogging on a dicing blade and can reduce dicing dusts. CONSTITUTION: Chip members are manufactured by a method, wherein a plurality of elements 2 are formed on the surface of a prescribed substrate 1 and after an ultraviolet curing tape 10 is stuck to the rear of this substrate 1, the substrate 1 is subjected to full-cut dicing along scribing lines 3 between the elements 2, and the chip members are obtained by the method, wherein before the full-cut dicing is performed, a prescribed amount of ultraviolet rays are applied to at least parts 10a, which correspond to the positions of the scribing lines 3, of the tape 10 to cure the tape 10.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複数の素子が形成され
た所定の基板に紫外線照射硬化型テープを貼り付けた
後、フルカットダイシングを行うチップ部材の製造方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a chip member in which an ultraviolet irradiation curing type tape is attached to a predetermined substrate on which a plurality of elements are formed and then full cut dicing is performed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、シリコンウェーハやホウケイ酸ガ
ラス、石英ガラス等の基板に複数の素子を形成した後、
ダイシングブレードを用いて各素子の間のスクライブラ
インからフルカットダイシングするチップ部材の製造方
法においては、素子形成後の基板に紫外線照射硬化型テ
ープを貼り付け、ホルダーリングで押さえた後に、ダイ
シングブレードによってスクライブラインの位置を紫外
線照射硬化型テープの3分の1程度まで切り込むように
してフルカットを行っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, after forming a plurality of elements on a substrate such as a silicon wafer, borosilicate glass, or quartz glass,
In the manufacturing method of the chip member to perform full-cut dicing from the scribe line between each element using a dicing blade, the substrate after element formation is pasted with an ultraviolet irradiation curable tape, and after being held by a holder ring, by a dicing blade. Full cutting is performed by cutting the position of the scribe line to about one-third of the ultraviolet irradiation curing type tape.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、紫外線照射
硬化型テープを貼り付ける基板の裏面は平坦性が高く、
しかもダイシングの際の切削抵抗に勝る接着力を得るた
め、比較的柔らかい紫外線照射硬化型接着剤を介して基
板にテープを貼り付ける必要がある。このため、ダイシ
ングブレードで基板をフルカットする際の紫外線照射硬
化型テープへの切り込みで、柔らかい紫外線照射硬化型
接着剤がダイシングブレードのダイヤ砥粒表面に付着し
て目つぶれを起こし、基板の欠けによるチッピング発生
やダイシングブレードの寿命低下を招くことになる。
However, the back surface of the substrate to which the ultraviolet radiation curable tape is attached has high flatness,
Moreover, in order to obtain an adhesive force that exceeds the cutting resistance during dicing, it is necessary to attach the tape to the substrate via a relatively soft UV irradiation curable adhesive. Therefore, when the substrate is fully cut with the dicing blade, the UV-irradiation-curable tape is cut by a soft UV-irradiation-curable adhesive and adheres to the diamond abrasive grain surface of the dicing blade to cause crushing, resulting in chipping of the substrate. This causes chipping and shortens the life of the dicing blade.

【0004】また、柔らかい紫外線照射硬化型接着剤の
付着したテープ切削屑やチッピングがチップ部材の表面
や側面に粘着して、後の工程でのごみ不良を起こす原因
となっている。また、光学的な特性を必要とするCCD
エリア/リニアセンサー等のシリコン基板を用いた受光
素子においても、フルカットダイシングの際、柔らかい
紫外線照射硬化型接着剤の付着したテープ切削屑やシリ
コン基板からのチッピングが受光面や受光面上に設けら
れたレンズ(例えば、オンチップマイクロレンズ)の凹
部に引っ掛かると強い入射光の際の傷欠陥不良を起こす
原因となる。
Further, tape cutting chips or chippings to which a soft ultraviolet ray irradiation-curable adhesive adheres adheres to the surface and the side surface of the chip member, causing a dust defect in a later process. In addition, a CCD that requires optical characteristics
Even in the light receiving element using a silicon substrate such as an area / linear sensor, at the time of full-cut dicing, tape cutting chips with soft UV irradiation curing adhesive and chipping from the silicon substrate are provided on the light receiving surface and the light receiving surface. If it is caught in the concave portion of the formed lens (for example, on-chip microlens), it may cause a defect defect in strong incident light.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するために成されたチップ部材の製造方法であ
る。すなわち、本発明は、所定の基板に複数の素子を形
成し、この基板に紫外線照射硬化型テープを貼り付けた
後、各素子の間のスクライブラインに沿って基板をフル
カットダイシングするチップ部材の製造方法であり、フ
ルカットダイシングを行う前に、紫外線照射硬化型テー
プの少なくともスクライブラインの位置と対応する部分
に所定量の紫外線を照射して硬化させるものである。
The present invention is a method of manufacturing a chip member, which has been made to solve such problems. That is, the present invention provides a chip member in which a plurality of elements are formed on a predetermined substrate, an ultraviolet irradiation curing type tape is attached to the substrate, and then the substrate is subjected to full-cut dicing along scribe lines between the elements. This is a manufacturing method, and before performing full-cut dicing, at least a portion corresponding to the position of the scribe line of the ultraviolet irradiation curable tape is irradiated with a predetermined amount of ultraviolet light to be cured.

【0006】また、基板が透光性を有する場合において
は、フルカットダイシングを行う前に、基板の紫外線照
射硬化型テープを貼り付けた反対側からスクライブライ
ンを介して紫外線照射硬化型テープに所定量の紫外線を
照射して硬化させたり、基板が透光性を有するものでな
い場合であってもフルカットダイシングを行う前に、所
定のマスクを介して紫外線照射硬化型テープのスクライ
ブラインの位置と対応する部分に所定量の紫外線を照射
して硬化させるチップ部材の製造方法でもある。
When the substrate has a light-transmitting property, before the full-cut dicing, the UV-irradiation-curable tape is placed on the opposite side of the substrate on which the UV-irradiation-curable tape is attached via a scribe line. Before the full-cut dicing is performed even if the substrate is not translucent by irradiating a fixed amount of ultraviolet rays to cure, and the position of the scribe line of the ultraviolet irradiation-curing tape through a predetermined mask. It is also a method of manufacturing a chip member in which a corresponding portion is irradiated with a predetermined amount of ultraviolet rays and cured.

【0007】[0007]

【作用】本発明では、複数の素子を形成した後の基板に
紫外線照射硬化型テープを貼り付け、フルカットダイシ
ングを行う前に、紫外線照射硬化型テープの少なくとも
スクライブラインの位置と対応する部分に所定量の紫外
線を照射して硬化させているため、フルカットダイシン
グの際にダイシングブレードがスクライブラインの位置
と対応する紫外線照射硬化型テープの紫外線照射量に応
じて硬化した部分を切り込む状態となる。
In the present invention, the ultraviolet irradiation curable tape is attached to the substrate after forming a plurality of elements, and before performing full-cut dicing, at least a portion of the ultraviolet irradiation curable tape corresponding to the position of the scribe line. Since it is cured by irradiating a predetermined amount of ultraviolet light, the dicing blade is in the state of cutting the cured portion according to the ultraviolet irradiation amount of the ultraviolet irradiation curable tape corresponding to the position of the scribe line during full cut dicing .

【0008】また、基板が透光性を有する場合には、基
板の紫外線照射硬化型テープを貼り付けた反対側すなわ
ち素子が形成されている側から紫外線を照射すること
で、素子を遮光膜、スクライブラインをスリットとして
所定量の紫外線が基板を透過し、紫外線照射硬化型テー
プのスクライブラインの位置と対応する部分を紫外線照
射量に応じて硬化できる状態となる。また、基板が透光
性を有していない場合であっても、所定のマスクを介し
て所定量の紫外線を紫外線照射硬化型テープのスクライ
ブラインの位置と対応する部分に照射することで、ダイ
シングブレードによる紫外線照射硬化型テープの切り込
み部分を紫外線照射量に応じて硬化させることができる
ようになる。
When the substrate has a light-transmitting property, the element is shielded by irradiating it with ultraviolet rays from the opposite side of the substrate on which the ultraviolet ray curing type tape is attached, that is, the side on which the element is formed. A predetermined amount of ultraviolet rays are transmitted through the substrate by using the scribe line as a slit, and a portion corresponding to the position of the scribe line of the ultraviolet irradiation curing type tape can be cured according to the ultraviolet irradiation amount. Even when the substrate does not have a light-transmitting property, the dicing is performed by irradiating a portion corresponding to the position of the scribe line of the ultraviolet irradiation curing type tape with a predetermined amount of ultraviolet rays through a predetermined mask. It becomes possible to cure the cut portion of the ultraviolet irradiation curable tape by the blade according to the amount of ultraviolet irradiation.

【0009】[0009]

【実施例】以下に、本発明のチップ部材の製造方法にお
ける実施例を図に基づいて説明する。図1は本発明のチ
ップ部材の製造方法における第1実施例を(a)〜
(d)の順に説明する模式断面図である。なお、第1実
施例では、主として石英ガラスから成る透光性を有する
基板1を用いる場合を例として説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the method for manufacturing a chip member of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a first embodiment (a) of the method for manufacturing a chip member of the present invention.
It is a schematic cross section explaining it in order of (d). In addition, in the first embodiment, a case where a light-transmissive substrate 1 mainly made of quartz glass is used will be described as an example.

【0010】先ず、図1(a)に示すように、石英ガラ
スから成る基板1の表面に例えばTFT等の複数の素子
2を形成した後、この基板1の裏面に紫外線照射硬化型
テープ10を貼り付けホルダーリング11によって固定
する処理を行う。この基板1としては、例えば厚さ0.
8mm、8インチ径の石英ガラスウェーハを用いる。ま
た、基板1に貼り付ける紫外線照射硬化型テープ10と
しては、厚さ90μm(例えば、アクリル系粘着剤層1
0μm+ポリオレフィン系基材80μm)程度のものを
使用する。なお、複数の素子2の間には、後の工程でダ
イシングを行う際に用いるスクライブライン3が設けら
れているものとする。
First, as shown in FIG. 1 (a), a plurality of elements 2 such as TFTs are formed on the surface of a substrate 1 made of quartz glass, and then an ultraviolet irradiation curing tape 10 is formed on the back surface of the substrate 1. A process of fixing with the attachment holder ring 11 is performed. The substrate 1 has, for example, a thickness of 0.
A quartz glass wafer with a diameter of 8 mm and a diameter of 8 inches is used. Further, the ultraviolet irradiation curing type tape 10 to be attached to the substrate 1 has a thickness of 90 μm (for example, the acrylic pressure-sensitive adhesive layer 1
0 μm + polyolefin base material of about 80 μm) is used. A scribe line 3 used when dicing is performed in a later step is provided between the plurality of elements 2.

【0011】次に、図1(b)に示すように、基板1の
素子2が形成されている側から所定量の紫外線を照射す
る。紫外線は基板1に形成された素子2を遮光膜とし、
スクライブライン3をスリットとして透光性を有する基
板1を透過し、紫外線照射硬化型テープ10のスクライ
ブライン3の位置と対応する部分10aに当たる状態と
なる。また、紫外線は基板1の外側領域となる紫外線照
射硬化型テープ10の部分10bにも当たる状態とな
る。これによって、紫外線の当たる部分10a、10b
の紫外線照射硬化型テープ10は紫外線照射量に応じて
硬化する。つまり、紫外線照射硬化型テープ10の少な
くともスクライブライン3の位置と対応する部分10a
が紫外線照射量に応じて硬化することになる。
Next, as shown in FIG. 1B, a predetermined amount of ultraviolet rays is irradiated from the side of the substrate 1 on which the element 2 is formed. The ultraviolet ray uses the element 2 formed on the substrate 1 as a light shielding film,
The scribe line 3 is used as a slit to pass through the light-transmissive substrate 1 and hit the portion 10a corresponding to the position of the scribe line 3 of the ultraviolet irradiation curing tape 10. Further, the ultraviolet rays are also in a state of hitting the portion 10b of the ultraviolet radiation curable tape 10 which is the outer region of the substrate 1. As a result, the portions 10a, 10b exposed to ultraviolet rays
The ultraviolet irradiation-curable tape 10 is cured according to the amount of ultraviolet irradiation. That is, at least the portion 10a of the ultraviolet radiation curable tape 10 corresponding to the position of the scribe line 3
Will cure depending on the amount of UV irradiation.

【0012】なお、素子2の部分が完全な遮光膜となら
ない場合もあるが、照射する紫外線の量を調整すること
により、素子2の部分を紫外線が透過して紫外線照射硬
化型テープ10に当たっても基板1と紫外線照射硬化型
テープ10との適当な接着力を保持できることになる。
例えば、スクライブライン3を介して紫外線照射硬化型
テープ10に照射される紫外線の量を基準とし、この量
が紫外線照射硬化型テープ10を所定の硬度とし、しか
も基板1との所定の接着力を維持できるような量にして
おく。
In some cases, the portion of the element 2 does not form a perfect light-shielding film, but by adjusting the amount of ultraviolet rays to be radiated, even if the ultraviolet ray penetrates the portion of the element 2 and hits the ultraviolet irradiation curing type tape 10. It is possible to maintain an appropriate adhesive force between the substrate 1 and the ultraviolet irradiation curing type tape 10.
For example, the amount of ultraviolet rays applied to the ultraviolet irradiation-curable tape 10 through the scribe line 3 is used as a reference, and this amount makes the ultraviolet irradiation-curable tape 10 have a predetermined hardness and a predetermined adhesive force with the substrate 1. Keep the amount that can be maintained.

【0013】素子2を透過する紫外線は必ずスクライブ
ライン3を介して照射される紫外線よりも少ないものと
なることから、このような紫外線の照射量にしておくこ
とで素子2の部分での基板1との接着力を十分確保でき
るものとなる。このような照射量にしておくことで、後
の工程で基板1をフルカットダイシングしても切断によ
り形成されたチップ部材が紫外線照射硬化型テープ10
から剥がれ落ちてしまういわゆるチップ飛びを起こさな
いことになる。
Since the amount of ultraviolet light that passes through the element 2 is always smaller than the amount of ultraviolet light that is emitted through the scribe line 3, the substrate 1 in the element 2 portion is set by setting such an amount of ultraviolet light irradiation. Adhesive strength with can be sufficiently secured. By setting such an irradiation amount, even if the substrate 1 is subjected to full-cut dicing in a later step, the chip member formed by cutting is subjected to the ultraviolet irradiation curable tape 10.
It does not cause so-called chip fly that peels off from the chip.

【0014】また、スクライブライン3を介して紫外線
照射硬化型テープ10に照射する紫外線の量として、照
射後の紫外線照射硬化型テープ10によって基板1を所
定の接着力で保持できる量に調整することで、後のダイ
シング処理の際にダイシング部分と隣接する紫外線照射
硬化型テープ10の界面における剥がれが発生せず、こ
こから切削水がしみ込んで基板1との接着力を低下させ
ることを防止できるようになる。
Further, the amount of ultraviolet rays applied to the ultraviolet ray irradiation-curable tape 10 through the scribe line 3 should be adjusted to an amount capable of holding the substrate 1 with a predetermined adhesive force by the ultraviolet ray irradiation-curable tape 10 after the irradiation. Thus, during the subsequent dicing process, peeling does not occur at the interface between the UV irradiation curable tape 10 and the adjacent dicing portion, and it is possible to prevent cutting water from penetrating there from and reducing the adhesive force with the substrate 1. become.

【0015】次に、図1(c)に示すように、基板1に
形成された複数の素子2の間のスクライブライン3をダ
イシングブレード4によってフルカットダイシングする
処理を行う。この際ダイシングブレード4は、スクライ
ブライン3の位置と対応する紫外線照射硬化型テープ1
0の厚さの3分の1程度(25〜30μm程度)まで切
り込む状態となる。
Next, as shown in FIG. 1C, a scribe line 3 between a plurality of elements 2 formed on the substrate 1 is subjected to full-cut dicing with a dicing blade 4. At this time, the dicing blade 4 moves the ultraviolet irradiation curable tape 1 corresponding to the position of the scribe line 3.
It is in a state of cutting to about one-third of the thickness of 0 (about 25 to 30 μm).

【0016】ところが、この紫外線照射硬化型テープ1
0のスクライブライン3の位置と対応する部分10aは
図1(b)に示す処理で紫外線の照射量に応じて硬化し
ているため、ダイシングブレード4はこの硬化した部分
を切り込むことになる。このため、ダイシングブレード
4のダイヤ砥粒表面には柔らかい紫外線照射硬化型接着
剤が付着することはなく、またテープ切削屑にも柔らか
い紫外線照射硬化型接着剤が付着しない状態となる。さ
らに、基板1のチッピングにも柔らかい紫外線照射硬化
型接着剤が付着しなことになり、これらが切断後のチッ
プ部材20(図1(d)参照)の表面や側面に付着する
ことなく切削水によって容易に洗い流されるようにな
る。
However, this ultraviolet radiation curable tape 1
Since the portion 10a corresponding to the position of the scribe line 3 of 0 is hardened according to the irradiation amount of the ultraviolet rays in the process shown in FIG. 1B, the dicing blade 4 cuts this hardened portion. Therefore, the soft UV irradiation curable adhesive does not adhere to the diamond abrasive grain surface of the dicing blade 4, and the soft UV irradiation curable adhesive does not adhere to the tape cutting waste. Further, the soft UV irradiation curable adhesive does not adhere to the chipping of the substrate 1 either, and these do not adhere to the surface or the side surface of the chip member 20 (see FIG. 1 (d)) after cutting and the cutting water. To be easily washed away.

【0017】次いで、図1(d)に示すように、基板1
に貼り付けた紫外線照射硬化型テープ10の全面に紫外
線を照射し完全に硬化させる処理を行う。これによっ
て、基板1と紫外線照射硬化型テープ10との接着力が
十分に低下し、個々の素子2毎に分割されたチップ部材
20を紫外線照射硬化型テープ10から容易に剥がすこ
とができる状態となる。このような製造方法によって、
テープ切削屑やチッピングがその表面や側面に付着して
いない良好なチップ部材20を製造できることになる。
Next, as shown in FIG. 1D, the substrate 1
A process of irradiating the entire surface of the ultraviolet radiation curable tape 10 attached to the substrate with ultraviolet rays to completely cure it is performed. As a result, the adhesive force between the substrate 1 and the ultraviolet irradiation curable tape 10 is sufficiently reduced, and the chip member 20 divided for each element 2 can be easily peeled from the ultraviolet irradiation curable tape 10. Become. By such a manufacturing method,
It is possible to manufacture a good chip member 20 in which tape cutting dust and chipping are not attached to the surface and side surfaces.

【0018】次に、本発明の第2実施例におけるチップ
部材の製造方法を説明する。図2は第2実施例における
チップ部材の製造方法を(a)〜(d)の順に説明する
模式断面図である。第2実施例では、主としてシリコン
等から成る透光性を有しない基板1を用いる場合を例と
して説明する。
Next, a method of manufacturing the chip member in the second embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining the method of manufacturing the chip member in the second embodiment in the order of (a) to (d). In the second embodiment, the case of using the substrate 1 which is mainly made of silicon or the like and has no translucency will be described as an example.

【0019】先ず、図2(a)に示すように、シリコン
等から成る基板1の表面にCCDエリアセンサーやCC
Dリニアセンサー等の所定の素子2を複数形成した後、
この基板1の裏面に紫外線照射硬化型テープ10を貼り
付けホルダーリング11によって固定する処理を行う。
この基板1に貼り付ける紫外線照射硬化型テープ10と
しては、厚さ90μm(例えば、アクリル系粘着剤層1
0μm+ポリオレフィン系基材80μm)程度のものを
使用する。
First, as shown in FIG. 2A, a CCD area sensor or CC is formed on the surface of a substrate 1 made of silicon or the like.
After forming a plurality of predetermined elements 2 such as D linear sensor,
An ultraviolet irradiation curing type tape 10 is attached to the back surface of the substrate 1 and fixed by a holder ring 11.
The ultraviolet radiation curable tape 10 attached to the substrate 1 has a thickness of 90 μm (for example, the acrylic pressure-sensitive adhesive layer 1).
0 μm + polyolefin base material of about 80 μm) is used.

【0020】次いで、図2(b)に示すように、基板1
の各素子2の間に設けられたスクライブライン3に対応
してスリット5aが設けられたマスク5を紫外線照射硬
化型テープ10側に配置し、このマスク5を介して紫外
線を紫外線照射硬化型テープ10に照射する。
Next, as shown in FIG. 2B, the substrate 1
A mask 5 having slits 5a corresponding to the scribe lines 3 provided between the respective elements 2 is arranged on the side of the ultraviolet irradiation curing type tape 10 and ultraviolet rays are cured by irradiation with ultraviolet rays through the mask 5. Irradiate 10.

【0021】図3はマスクの説明する概略平面図であ
る。図3(a)に示すマスク5はガラスマスクの例であ
り、透光性を有するガラス板51にクロム等の金属から
成る遮光膜52を形成したものから構成されている。遮
光膜52は図2(b)に示す素子2の位置と対応し、遮
光膜52の間のスリット5aはスクライブライン3の位
置と対応している。このためスリット5aの幅dはスク
ライブライン3の幅に合わせて例えば0.1〜0.2m
m程度にしておく。
FIG. 3 is a schematic plan view for explaining the mask. The mask 5 shown in FIG. 3A is an example of a glass mask, and is composed of a light-transmitting glass plate 51 on which a light-shielding film 52 made of a metal such as chromium is formed. The light shielding film 52 corresponds to the position of the element 2 shown in FIG. 2B, and the slit 5 a between the light shielding films 52 corresponds to the position of the scribe line 3. Therefore, the width d of the slit 5a is, for example, 0.1 to 0.2 m according to the width of the scribe line 3.
Keep about m.

【0022】また、図3(b)に示すマスク5はメタル
マスクの例であり、例えば0.2mm厚のステンレス板
をエッチング処理することで遮光膜52とスリット5a
とを構成している。この遮光膜52が図2(b)に示す
素子2の位置と対応し、スリット5aがスクライブライ
ン3の位置と対応している。なお、メタルマスクの場合
には各遮光膜52の間隔を保つための支持部53が必要
となる。
The mask 5 shown in FIG. 3 (b) is an example of a metal mask. For example, a light-shielding film 52 and slits 5a are formed by etching a stainless steel plate having a thickness of 0.2 mm.
And make up. The light shielding film 52 corresponds to the position of the element 2 shown in FIG. 2B, and the slit 5 a corresponds to the position of the scribe line 3. In the case of a metal mask, the support portion 53 for keeping the distance between the light shielding films 52 is required.

【0023】このようなマスク5と基板1とを位置合わ
せする場合には、基板1のオリエンテーションフラット
(図示せず)を利用することで正確に合わせることがで
きるようになる。そして、図2(b)に示すように、マ
スク5を介して紫外線照射硬化型テープ10に紫外線を
照射することで、スリット5aからスクライブライン3
の位置に対応する紫外線照射硬化型テープ10の位置1
0aに紫外線が照射されここが硬化する状態となる。
When the mask 5 and the substrate 1 are aligned with each other, the orientation flat (not shown) of the substrate 1 can be used for accurate alignment. Then, as shown in FIG. 2B, by irradiating the ultraviolet ray irradiation-curable tape 10 with ultraviolet rays through the mask 5, the scribe line 3 is provided from the slit 5 a.
Position 1 of the UV irradiation curable tape 10 corresponding to the position
0a is irradiated with ultraviolet rays, and the area is cured.

【0024】つまり、シリコン等から成る基板1の場合
には透光性を有していないため、基板1を介してスクラ
イブライン3の位置に対応する紫外線照射硬化型テープ
10に紫外線を照射することができないため、このよう
なマスク5を介して紫外線照射硬化型テープ10に直接
紫外線を照射するようにする。
That is, since the substrate 1 made of silicon or the like does not have a light-transmitting property, it is necessary to irradiate the ultraviolet ray irradiation-curable tape 10 corresponding to the position of the scribe line 3 with ultraviolet rays through the substrate 1. Therefore, the ultraviolet irradiation curing type tape 10 is directly irradiated with ultraviolet rays through such a mask 5.

【0025】また、このマスク5を介して紫外線照射硬
化型テープ10に照射する紫外線の量として、第1実施
例と同様に、照射後の紫外線照射硬化型テープ10によ
って基板1を所定の接着力で保持できる量に調整するこ
とで、後のダイシング処理の際にダイシング部分と隣接
する紫外線照射硬化型テープ10の剥がれが発生せず、
ここから切削水がしみ込んで基板1との接着力が低下す
ることを防止できるようになる。
Further, as the amount of ultraviolet rays applied to the ultraviolet irradiation curing type tape 10 through the mask 5, the substrate 1 is adhered to a predetermined adhesive force by the ultraviolet irradiation curing type tape 10 after irradiation, as in the first embodiment. By adjusting to an amount that can be held by, peeling of the ultraviolet irradiation-curable tape 10 adjacent to the dicing portion does not occur during the subsequent dicing process,
It becomes possible to prevent the cutting water from soaking in from here to reduce the adhesive force with the substrate 1.

【0026】次いで、図2(c)に示すように、基板1
に形成された複数の素子2の間のスクライブライン3を
ダイシングブレード4によってフルカットダイシングす
る処理を行う。フルカットダイシングを行う場合のダイ
シングブレード4は、スクライブライン3の位置と対応
する紫外線照射硬化型テープ10の厚さの3分の1程度
(25〜30μm程度)まで切り込む状態となる。
Next, as shown in FIG. 2C, the substrate 1
A process of performing full-cut dicing on the scribe line 3 formed between the plurality of elements 2 formed by the dicing blade 4 is performed. When performing the full-cut dicing, the dicing blade 4 is in a state of being cut to about one third (about 25 to 30 μm) of the thickness of the ultraviolet irradiation curing type tape 10 corresponding to the position of the scribe line 3.

【0027】この際、スクライブライン3の位置と対応
する紫外線照射硬化型テープ10の部分は図2(b)に
示す処理で紫外線量に応じて硬化しているため、第1実
施例と同様にダイシングブレード4はこの硬化した部分
を切り込むことになる。このため、ダイシングブレード
4のダイヤ砥粒表面には柔らかい紫外線照射硬化型接着
剤が付着することはなく、またテープ切削屑にも柔らか
い紫外線照射硬化型接着剤が付着しない状態となる。さ
らに、基板1のチッピングにも柔らかい紫外線照射硬化
型接着剤が付着しなことになり、これらが切断後のチッ
プ部材20(図2(d)参照)の表面や側面に付着する
ことなく切削水によって容易に洗い流されるようにな
る。
At this time, since the portion of the ultraviolet irradiation curing type tape 10 corresponding to the position of the scribe line 3 is cured according to the amount of ultraviolet rays in the process shown in FIG. 2B, it is the same as in the first embodiment. The dicing blade 4 cuts this hardened part. Therefore, the soft UV irradiation curable adhesive does not adhere to the diamond abrasive grain surface of the dicing blade 4, and the soft UV irradiation curable adhesive does not adhere to the tape cutting waste. Furthermore, the soft UV irradiation curable adhesive does not adhere to the chipping of the substrate 1, and the cutting water does not adhere to the surface or the side surface of the chip member 20 (see FIG. 2D) after cutting. To be easily washed away.

【0028】次いで、図2(d)に示すように、基板1
に貼り付けた紫外線照射硬化型テープ10の全面に紫外
線を照射し完全に硬化させる処理を行う。これによっ
て、基板1と紫外線照射硬化型テープ10との接着力が
十分に低下し、個々の素子2毎に分割されたチップ部材
20を紫外線照射硬化型テープ10から容易に剥がすこ
とができる状態となる。このような製造方法によって、
テープ切削屑やチッピングがその表面や側面に付着して
いない良好なチップ部材20を製造できることになる。
Next, as shown in FIG. 2D, the substrate 1
A process of irradiating the entire surface of the ultraviolet radiation curable tape 10 attached to the substrate with ultraviolet rays to completely cure it is performed. As a result, the adhesive force between the substrate 1 and the ultraviolet irradiation curable tape 10 is sufficiently reduced, and the chip member 20 divided for each element 2 can be easily peeled from the ultraviolet irradiation curable tape 10. Become. By such a manufacturing method,
It is possible to manufacture a good chip member 20 in which tape cutting dust and chipping are not attached to the surface and side surfaces.

【0029】第1実施例および第2実施例においては、
紫外線照射硬化型テープ10のスクライブライン3の位
置と対応する位置10aに所定量の紫外線を照射して硬
化させる例を説明したが、本発明では紫外線照射硬化型
テープ10の紫外線の照射量に対する硬化度合いおよび
接着力変化を利用して、フルカットダイシングを行う前
に紫外線照射硬化型テープ10の全面に所定量の紫外線
を照射するようにしてもよい。
In the first and second embodiments,
An example of irradiating and curing a predetermined amount of ultraviolet rays at the position 10a corresponding to the position of the scribe line 3 of the ultraviolet irradiation-curable tape 10 has been described, but in the present invention, the ultraviolet irradiation-curable tape 10 is cured with respect to the irradiation amount of ultraviolet rays. The degree and the adhesive strength change may be used to irradiate the entire surface of the ultraviolet irradiation curable tape 10 with a predetermined amount of ultraviolet rays before performing the full-cut dicing.

【0030】すなわち、紫外線照射硬化型テープ10の
全面に紫外線を照射しても、ダイシングブレード4の目
つぶれを起こさない程度の硬さと基板1を保持する所定
の接着力との両方を得ることができる量の紫外線を照射
することで、紫外線照射硬化型テープ10の全面に紫外
線を照射するようにしても同様な効果を得ることが可能
となる。また、紫外線の照射量を調整するには、紫外線
光源自体の光量を調整したり、紫外線の照射時間を調整
したり、フィルタの挿入によって紫外線の照射量を調整
すればよい。
That is, even if the entire surface of the ultraviolet ray irradiation-curable tape 10 is irradiated with ultraviolet rays, it is possible to obtain both a hardness that does not cause the dicing blade 4 to be crushed and a predetermined adhesive force for holding the substrate 1. By irradiating as much ultraviolet light as possible, the same effect can be obtained even if the entire surface of the ultraviolet irradiation curable tape 10 is irradiated with ultraviolet light. Further, in order to adjust the irradiation amount of ultraviolet rays, the light amount of the ultraviolet light source itself may be adjusted, the irradiation time of ultraviolet rays may be adjusted, or the irradiation amount of ultraviolet rays may be adjusted by inserting a filter.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のチップ部
材の製造方法によれば次のような効果がある。すなわ
ち、本発明ではフクカットダイシングを行う前に、基板
に貼り付けた紫外線照射硬化型テープの少なくともスク
ライブラインの位置と対応する部分に所定量の紫外線を
照射して硬化させているため、フルカットダイシングの
際にダイシングブレードに柔らかい紫外線照射硬化型接
着剤が付着することが無くなり、目つぶれの発生を抑制
できるようになる。これによって、ダイシングブレード
の寿命を長くすることが可能となる。
As described above, the method of manufacturing the chip member of the present invention has the following effects. That is, in the present invention, before performing the fuku cut dicing, a predetermined amount of ultraviolet rays is irradiated to cure at least a portion corresponding to the position of the scribe line of the ultraviolet irradiation curable tape attached to the substrate, so that a full cut is performed. It is possible to prevent the soft UV irradiation curable adhesive from adhering to the dicing blade during dicing, and to suppress the occurrence of blinding. This makes it possible to extend the life of the dicing blade.

【0032】また、テープ切削屑や基板のチッピングに
柔らかい紫外線照射硬化型接着剤が付着することがなく
なり、チップ部材の表面や側面へのごみ付着が低減し、
製品歩留りおよび品質の向上を図ることが可能となる。
Further, the soft ultraviolet irradiation curable adhesive does not adhere to the tape cutting chips and the chipping of the substrate, and the adhesion of dust to the surface and the side surface of the chip member is reduced,
It is possible to improve product yield and quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例を(a)〜(d)の順に説
明する模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating a first embodiment of the present invention in the order of (a) to (d).

【図2】本発明の第2実施例を(a)〜(d)の順に説
明する模式断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating a second embodiment of the present invention in the order of (a) to (d).

【図3】マスクの例を説明する概略平面図で、(a)は
ガラスマスク、(b)はメタルマスクの例である。
FIG. 3 is a schematic plan view illustrating an example of a mask, (a) is a glass mask, and (b) is an example of a metal mask.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 素子 3 スクライブライン 4 ダイシングブレード 5 マスク 10 紫外線照射硬化型テープ 11 ホルダーリング 20 チップ部材 1 Substrate 2 Element 3 Scribe Line 4 Dicing Blade 5 Mask 10 UV Irradiation Curing Tape 11 Holder Ring 20 Chip Member

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の基板に複数の素子を形成し、該基
板に紫外線照射硬化型テープを貼り付けた後、各素子の
間のスクライブラインに沿って該基板をフルカットダイ
シングするチップ部材の製造方法であって、 前記フルカットダイシングを行う前に、前記紫外線照射
硬化型テープの少なくとも前記スクライブラインの位置
と対応する部分に所定量の紫外線を照射して硬化させる
ことを特徴とするチップ部材の製造方法。
1. A chip member in which a plurality of elements are formed on a predetermined substrate, an ultraviolet irradiation curable tape is attached to the substrate, and then the substrate is subjected to full-cut dicing along scribe lines between the elements. A manufacturing method, wherein before performing the full-cut dicing, at least a portion corresponding to the position of the scribe line of the ultraviolet irradiation curable tape is irradiated with a predetermined amount of ultraviolet rays to be cured, which is a chip member. Manufacturing method.
【請求項2】 前記基板が透光性を有する場合におい
て、 前記フルカットダイシングを行う前に、前記基板の前記
紫外線照射硬化型テープを貼り付けた反対側から前記ス
クライブラインを介して該紫外線照射硬化型テープに所
定量の紫外線を照射して硬化させることを特徴とする請
求項1記載のチップ部材の製造方法。
2. When the substrate has a light-transmitting property, before performing the full-cut dicing, the ultraviolet irradiation is performed from the opposite side of the substrate to which the ultraviolet irradiation-curable tape is attached via the scribe line. The method for manufacturing a chip member according to claim 1, wherein the curable tape is irradiated with a predetermined amount of ultraviolet rays to be cured.
【請求項3】 前記フルカットダイシングを行う前に、
所定のマスクを介して前記紫外線照射硬化型テープの前
記スクライブラインの位置と対応する部分に所定量の紫
外線を照射して硬化させることを特徴とする請求項1記
載のチップ部材の製造方法。
3. Before performing the full-cut dicing,
2. The method of manufacturing a chip member according to claim 1, wherein a portion of the ultraviolet irradiation-curable tape corresponding to the position of the scribe line is irradiated with a predetermined amount of ultraviolet light through a predetermined mask to be cured.
【請求項4】 前記紫外線の照射量は、照射後の前記紫
外線照射硬化型テープによって前記基板を所定の接着力
で保持できる量であることを特徴とする請求項1記載の
チップ部材の製造方法。
4. The method for manufacturing a chip member according to claim 1, wherein the irradiation amount of the ultraviolet rays is an amount capable of holding the substrate with a predetermined adhesive force by the ultraviolet irradiation curable tape after irradiation. .
【請求項5】 前記紫外線の照射量は、照射後の前記紫
外線照射硬化型テープによって前記基板を所定の接着力
で保持できる量であることを特徴とする請求項2記載の
チップ部材の製造方法。
5. The method for manufacturing a chip member according to claim 2, wherein the irradiation amount of the ultraviolet rays is an amount capable of holding the substrate with a predetermined adhesive force by the ultraviolet irradiation curable tape after irradiation. .
【請求項6】 前記紫外線の照射量は、照射後の前記紫
外線照射硬化型テープによって前記基板を所定の接着力
で保持できる量であることを特徴とする請求項3記載の
チップ部材の製造方法。
6. The method for manufacturing a chip member according to claim 3, wherein the irradiation amount of the ultraviolet rays is an amount capable of holding the substrate with a predetermined adhesive force by the ultraviolet irradiation curable tape after irradiation. .
JP7497695A 1995-03-31 1995-03-31 Manufacture of chip member Pending JPH08274048A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7497695A JPH08274048A (en) 1995-03-31 1995-03-31 Manufacture of chip member

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7497695A JPH08274048A (en) 1995-03-31 1995-03-31 Manufacture of chip member

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08274048A true JPH08274048A (en) 1996-10-18

Family

ID=13562838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7497695A Pending JPH08274048A (en) 1995-03-31 1995-03-31 Manufacture of chip member

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08274048A (en)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002299295A (en) * 2001-03-30 2002-10-11 Disco Abrasive Syst Ltd Machining method for workpiece
US6855623B2 (en) * 1999-02-24 2005-02-15 Micron Technology Inc. Recessed tape and method for forming a BGA assembly
JP2006165359A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc Dicing method of wafer and liquid ejecting head
KR100651562B1 (en) * 2005-06-14 2006-11-29 삼성전기주식회사 Method for manufacturing embedded electronic component circuit board
JP2009054679A (en) * 2007-08-24 2009-03-12 Lintec Corp Sheet for wafer processing
JP2010003734A (en) * 2008-06-18 2010-01-07 Nec Electronics Corp Method of manufacturing semiconductor device
JP2011216671A (en) * 2010-03-31 2011-10-27 Furukawa Electric Co Ltd:The Tape for processing semiconductor wafer, method of manufacturing the same, and method of processing the semiconductor wafer
CN103086318A (en) * 2013-01-11 2013-05-08 烟台睿创微纳技术有限公司 Micro-electromechanical system (MEMS) silicon wafer scribing and cutting and structure releasing method
EP2654076A2 (en) 2012-04-17 2013-10-23 Nitto Denko Corporation Method of dicing a substrate
JP2013258221A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Disco Abrasive Syst Ltd Ultraviolet irradiation method and ultraviolet irradiation device
JP2014044987A (en) * 2012-08-24 2014-03-13 Fujitsu Semiconductor Ltd Dicing method and dicing device
WO2014062582A1 (en) * 2012-10-17 2014-04-24 Applied Materials, Inc. Laser and plasma etch wafer dicing with partial pre-curing of uv release dicing tape for film frame wafer application
JP2016111120A (en) * 2014-12-04 2016-06-20 株式会社ディスコ Ultraviolet irradiation device
JP2016207820A (en) * 2015-04-22 2016-12-08 株式会社ディスコ Processing method of wafer
JP2017112162A (en) * 2015-12-15 2017-06-22 株式会社ディスコ Ultraviolet light irradiation method

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6855623B2 (en) * 1999-02-24 2005-02-15 Micron Technology Inc. Recessed tape and method for forming a BGA assembly
JP2002299295A (en) * 2001-03-30 2002-10-11 Disco Abrasive Syst Ltd Machining method for workpiece
JP2006165359A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc Dicing method of wafer and liquid ejecting head
JP4617150B2 (en) * 2004-12-09 2011-01-19 キヤノン株式会社 Wafer dicing method
KR100651562B1 (en) * 2005-06-14 2006-11-29 삼성전기주식회사 Method for manufacturing embedded electronic component circuit board
JP2009054679A (en) * 2007-08-24 2009-03-12 Lintec Corp Sheet for wafer processing
JP2010003734A (en) * 2008-06-18 2010-01-07 Nec Electronics Corp Method of manufacturing semiconductor device
JP2011216671A (en) * 2010-03-31 2011-10-27 Furukawa Electric Co Ltd:The Tape for processing semiconductor wafer, method of manufacturing the same, and method of processing the semiconductor wafer
EP2654076A2 (en) 2012-04-17 2013-10-23 Nitto Denko Corporation Method of dicing a substrate
JP2013258221A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Disco Abrasive Syst Ltd Ultraviolet irradiation method and ultraviolet irradiation device
JP2014044987A (en) * 2012-08-24 2014-03-13 Fujitsu Semiconductor Ltd Dicing method and dicing device
WO2014062582A1 (en) * 2012-10-17 2014-04-24 Applied Materials, Inc. Laser and plasma etch wafer dicing with partial pre-curing of uv release dicing tape for film frame wafer application
US9252057B2 (en) 2012-10-17 2016-02-02 Applied Materials, Inc. Laser and plasma etch wafer dicing with partial pre-curing of UV release dicing tape for film frame wafer application
CN103086318A (en) * 2013-01-11 2013-05-08 烟台睿创微纳技术有限公司 Micro-electromechanical system (MEMS) silicon wafer scribing and cutting and structure releasing method
JP2016111120A (en) * 2014-12-04 2016-06-20 株式会社ディスコ Ultraviolet irradiation device
JP2016207820A (en) * 2015-04-22 2016-12-08 株式会社ディスコ Processing method of wafer
JP2017112162A (en) * 2015-12-15 2017-06-22 株式会社ディスコ Ultraviolet light irradiation method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH08274048A (en) Manufacture of chip member
JPH0917752A (en) Method and apparatus for cutting of flat object
KR101121495B1 (en) Method and apparatus for dividing plate-like member
JPH08195362A (en) Manufacture of member
KR101317983B1 (en) Method for cutting solid-state image pickup device
JP2012089709A (en) Method for dividing workpiece
JPH11111162A (en) Manufacture of field emission cold cathode
JP2001044144A (en) Semiconductor chip manufacturing process
JP4208856B2 (en) Method for manufacturing liquid discharge head
JP2006332078A (en) Process for manufacturing semiconductor chip
KR100825798B1 (en) Method of dicing
JPH0578629A (en) Radiation-curable tacky tape
JP4565977B2 (en) Film peeling method and film peeling apparatus
JP2016119370A (en) Wafer processing method
JPH04356942A (en) Manufacture of semiconductor integrated circuit device
US7098118B2 (en) Method and apparatus for machining substrate
CN110678965B (en) Method for cutting object to be processed
TWI267913B (en) Wafer dicing method
JP2002043253A (en) Method of dicing for semiconductor element
JPH0685055A (en) Manufacture of semiconductor element
JPH09171977A (en) Substrate dividing method
JP6132502B2 (en) Wafer processing method
JPH0616527B2 (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing
JPH06252262A (en) Ultraviolet ray irradiation equipment
JPH05267452A (en) Manufacture of semiconductor device