JPH0825636A - Manufacture of recording head - Google Patents

Manufacture of recording head

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JPH0825636A
JPH0825636A JP16206394A JP16206394A JPH0825636A JP H0825636 A JPH0825636 A JP H0825636A JP 16206394 A JP16206394 A JP 16206394A JP 16206394 A JP16206394 A JP 16206394A JP H0825636 A JPH0825636 A JP H0825636A
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resist
recording head
manufacturing
piezoelectric substrate
conductive film
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Yasunari Kanda
泰成 神田
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Seikosha KK
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/10Finger type piezoelectric elements

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form securely electrodes and electrical wirings from the electrodes in a shear mode type recording head. CONSTITUTION:Resists 22 are formed on a piezoelectric base plates 2, and a plurality of ink passages 23 are formed, and conductive films 24 are formed on the surfaces of the piezoelectric base plates 21 and resists 22, and the resists 22 are exposed by scratching the conductive films 24, and the conductive films on the surfaces of the resists 22 are removed by the lift-up of the resists 22 to form patterns on the conductive films 24 and form electrodes 25.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、剪断モード型のインク
ジェットプリンタの記録ヘッドの製造方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a recording head of a shear mode type ink jet printer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、例えば特開昭63−2470
51号公報に開示されているように、PZT等の圧電材
料からなる隔壁によって隔てられた複数のインク流路
と、各インク流路に対応して設けられたインク吐出口
と、上記隔壁に形成された電極とを有し、上記電極に所
望の駆動電圧を印加することにより上記隔壁を変形させ
て上記インク吐出口よりインクを吐出させる剪断モード
型の記録ヘッドがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-2470.
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 51-51, a plurality of ink channels separated by partition walls made of a piezoelectric material such as PZT, ink ejection openings provided corresponding to the respective ink channels, and the partition walls are formed. A recording head of a shear mode in which the partition walls are deformed by applying a desired driving voltage to the electrodes to eject ink from the ink ejection ports.

【0003】このような記録ヘッドにおける流路基板の
構成は、図6に示したように、インク流路61と同じ幅
の浅い溝62の底面にボンディングパッド63を形成す
るものであった。
As shown in FIG. 6, the flow path substrate in such a recording head has a bonding pad 63 formed on the bottom surface of a shallow groove 62 having the same width as the ink flow path 61.

【0004】近年はプリンタの高速化・高品質化の要求
が強く、このためにインク吐出口を多数化および高密度
化するに伴って、上記電極からの電気的配線と駆動回路
との配線接続が困難になっていた。すなわち、インク吐
出口の高密度化によりボンディングパッド63の幅が狭
くなるにしたがってボンディングが困難になり、ボンデ
ィングピッチAが狭くなるにしたがって、ボンディング
の際にボンディングパッド63からはみ出したバンプ
が、隣接するボンディングパッドに対するバンプと接触
してショートすることがあった。
In recent years, there is a strong demand for higher speed and higher quality of printers. For this reason, as the number of ink ejection ports increases and the density increases, the electric wiring from the electrodes and the wiring connection with the driving circuit are connected. Was getting difficult. That is, as the width of the bonding pad 63 becomes narrower due to the high density of the ink ejection ports, the bonding becomes difficult, and as the bonding pitch A becomes narrower, the bumps protruding from the bonding pad 63 at the time of bonding are adjacent to each other. Occasionally, the bumps on the bonding pads came into contact with each other to cause a short circuit.

【0005】このような問題を解決するために、フォト
リソグラフィーにより電極およびボンディングパッドを
形成する方法があった。これにより、図7に示したよう
に、ボンディングパッド71と基板72の表面との段差
をなくすことができ、ボンディングパッド71の幅をイ
ンク流路73の幅より広く形成し、かつ千鳥状に配置し
て配線接続を容易にすることができた。
In order to solve such a problem, there has been a method of forming electrodes and bonding pads by photolithography. As a result, as shown in FIG. 7, the step between the bonding pad 71 and the surface of the substrate 72 can be eliminated, the width of the bonding pad 71 is formed wider than the width of the ink flow path 73, and they are arranged in a staggered pattern. The wiring connection could be facilitated.

【0006】このフォトリソグラフィーによる電極およ
びボンディングパッドの製造工程は、まず基板にインク
流路を切削により形成し、つぎに、基板上面に真空蒸着
法等により導電膜を形成し、この導電膜をレジストで被
覆し、このレジストを電極およびボンディングパッドを
形成する部分だけ残して除去する。つぎに、上記導電膜
をエッチングしてパターニングしてからレジストを除去
することにより、電極およびボンディングパッドが完成
する。
In the process of manufacturing electrodes and bonding pads by this photolithography, first, ink flow paths are formed in a substrate by cutting, then a conductive film is formed on the upper surface of the substrate by a vacuum deposition method or the like, and this conductive film is used as a resist. And the resist is removed leaving only the portions where the electrodes and bonding pads are to be formed. Next, the conductive film is etched and patterned, and then the resist is removed to complete the electrodes and the bonding pads.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記フォトリ
ソグラフィーによる方法では、インク流路となる微細な
溝を形成した凹凸のある基板にレジストを被覆するの
で、図8(a)に示したように、基板81の表面にレジ
スト82を均一に塗布することが困難であった。例え
ば、図8(b)に示したように、インク流路83の側面
にレジスト82の膜厚が極端に薄い部分ができたり、図
8(c)に示したように、インク流路83に気泡が入り
込んで、レジスト82を熱処理する際にその気泡が破裂
し、インク流路83の側面が露出したりする。このた
め、レジストを希望する形状にパターニングすることが
困難であった。レジストによって電極およびボンディン
グパッドを形成する部分が被覆されていないと、エッチ
ングの際に導電膜が除去されて、電極およびボンディン
グパッドが形成されない。
However, in the above photolithographic method, the resist is coated on the uneven substrate on which the fine grooves to be the ink flow passages are formed. Therefore, as shown in FIG. It was difficult to uniformly apply the resist 82 to the surface of the substrate 81. For example, as shown in FIG. 8B, an extremely thin portion of the resist 82 is formed on the side surface of the ink flow path 83, or as shown in FIG. The bubbles enter and burst when the resist 82 is heat-treated, and the side surfaces of the ink flow path 83 are exposed. Therefore, it is difficult to pattern the resist into a desired shape. If the portions where the electrodes and the bonding pads are formed are not covered with the resist, the conductive film is removed during etching, and the electrodes and the bonding pads are not formed.

【0008】本発明は、剪断モード型記録ヘッドにおけ
る電極および電極からの電気的配線を容易かつ確実に形
成可能な記録ヘッドの製造方法を提供することを目的と
している。
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a recording head in which the electrodes in a shear mode type recording head and electrical wiring from the electrodes can be easily and surely formed.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、圧電材料から
なる隔壁によって隔てられた複数のインク流路と、各イ
ンク流路に対応して設けられたインク吐出口と、上記隔
壁に形成された電極とを有し、上記電極に所望の駆動電
圧を印加することにより上記隔壁を変形させて上記イン
ク吐出口よりインクを吐出させる記録ヘッドの製造方法
において、圧電材料からなる圧電基板上にレジストパタ
ーンを形成する第1の工程と、上記圧電基板上にインク
流路となる複数条の溝を、各溝間にレジストを残して形
成する第2の工程と、上記溝の壁面および上記レジスト
表面に導電膜を形成する第3の工程と、少なくとも上記
レジストの一部を露出させる第4の工程と、上記レジス
トを除去し、上記溝間の圧力隔壁を変形させるための電
極およびこの電極からの電気的配線を形成する第5の工
程とを設けることにより、上記課題を解決するものであ
る。
According to the present invention, a plurality of ink flow paths separated by partition walls made of a piezoelectric material, ink ejection ports provided corresponding to the respective ink flow paths, and the partition walls are formed. In the method of manufacturing a recording head in which the partition wall is deformed by applying a desired driving voltage to the electrode to eject ink from the ink ejection port, a resist is formed on a piezoelectric substrate made of a piezoelectric material. A first step of forming a pattern, a second step of forming a plurality of grooves serving as ink flow paths on the piezoelectric substrate while leaving a resist between the grooves, a wall surface of the groove and the resist surface. A third step of forming a conductive film on the substrate, a fourth step of exposing at least a part of the resist, an electrode for removing the resist and deforming the pressure partition between the grooves, and this electrode By providing a fifth step of forming an electrical wiring al, it is to solve the above problems.

【0010】なお、上記第1の工程は上記圧電基板上の
上記圧力隔壁が形成される部分と、上記電気的配線が形
成される部分以外の部分とにレジストパターンを形成す
るもので、上記第2の工程は上記圧電基板を切削して上
記溝を形成するものであること、または、上記第1の工
程は上記圧電基板上の上記電気的配線が形成される部分
以外の部分にレジストパターンを形成するもので、上記
第2の工程は上記第1の工程において形成されたレジス
トと上記圧電基板とを切削して上記溝を形成するもので
あることが好ましい。
In the first step, a resist pattern is formed on a portion of the piezoelectric substrate where the pressure barrier is formed and a portion other than a portion where the electrical wiring is formed. The second step is to cut the piezoelectric substrate to form the groove, or the first step is to form a resist pattern on a portion other than a portion on the piezoelectric substrate where the electrical wiring is formed. Preferably, the groove is formed by cutting the resist formed in the first step and the piezoelectric substrate in the second step.

【0011】また、上記第4の工程は上記レジストの表
面に形成された上記導電膜に研磨またはブラシスクラブ
等で傷を付けることによって上記レジストの一部を露出
させるものであることが好ましい。
In the fourth step, it is preferable that a part of the resist is exposed by polishing or scratching the conductive film formed on the surface of the resist with a brush scrub or the like.

【0012】また、上記第5の工程は上記レジストを除
去する際にレジスト表面に形成された導電膜を除去する
工程と、上記圧電基板上に形成された導電膜をブラシス
クラブ等によって整形する工程とからなるものであるこ
とが好ましい。
The fifth step is a step of removing the conductive film formed on the resist surface when removing the resist, and a step of shaping the conductive film formed on the piezoelectric substrate by brush scrubbing or the like. It is preferable that

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】本例における記録ヘッドは剪断モード型イ
ンクジェットヘッドとする。この剪断モード型インクジ
ェットヘッドは、図1に示したように、複数のインク流
路(図示せず。)とこの各インク流路に対応したボンデ
ィングパッド11とを設けた流路基板12と、各ボンデ
ィングパッド11に駆動電圧を印加する駆動回路13を
搭載した駆動回路基板14と、上記各インク流路にイン
クを供給するためのインク供給パイプ15を有するヘッ
ドカバー基板16と、上記各インク流路に対応したノズ
ル17を設けたノズル板18とを組み合わせて構成され
る。
The recording head in this example is a shear mode type ink jet head. As shown in FIG. 1, the shear mode type inkjet head includes a flow path substrate 12 provided with a plurality of ink flow paths (not shown) and bonding pads 11 corresponding to the respective ink flow paths, and a flow path substrate 12. A drive circuit board 14 having a drive circuit 13 for applying a drive voltage to the bonding pad 11, a head cover board 16 having an ink supply pipe 15 for supplying ink to the ink flow paths, and an ink flow path for the ink flow paths. It is configured by combining with a nozzle plate 18 provided with a corresponding nozzle 17.

【0015】駆動回路基板14、ヘッドカバー基板1
6、ノズル板18の製造工程は従来と同様なので、本例
ではその説明を省略し、流路基板12の製造工程につい
てのみ説明する。
Drive circuit board 14 and head cover board 1
6. Since the manufacturing process of the nozzle plate 18 is the same as the conventional process, the description thereof will be omitted in this example, and only the manufacturing process of the flow path substrate 12 will be described.

【0016】図2に流路基板のインク流路の製造工程を
示し、図3に流路基板のボンディングパッドの製造工程
を示す。
FIG. 2 shows the manufacturing process of the ink flow path of the flow path substrate, and FIG. 3 shows the manufacturing process of the bonding pad of the flow path substrate.

【0017】まず、PZT等の圧電材料からなる圧電基
板上にレジストパターンを形成する。このレジストパタ
ーンは、図2(a)に示したように、圧電基板21の表
面のインク流路を形成する部分以外にレジスト22を形
成すると同時に、図3(a)に示したように、圧電基板
21の表面のボンディングパッドを形成する部分以外に
レジスト22を形成する。
First, a resist pattern is formed on a piezoelectric substrate made of a piezoelectric material such as PZT. As shown in FIG. 2A, this resist pattern forms the resist 22 on the surface of the piezoelectric substrate 21 other than the portion where the ink flow path is formed, and at the same time, as shown in FIG. A resist 22 is formed on a portion of the surface of the substrate 21 other than the portion where the bonding pad is formed.

【0018】つぎに、図2(b)に示したように、レジ
スト22間にインク流路23をダイシングソー等を用い
て切削により形成する。
Next, as shown in FIG. 2B, an ink flow path 23 is formed between the resists 22 by cutting with a dicing saw or the like.

【0019】つぎに、図2(c)および図3(b)に示
したように、Al,Ni,Cr等の金属材料を用いて真
空蒸着法等により導電膜24を形成する。この場合、イ
ンク流路23の両側面にも導電膜を形成するので、斜め
方向からの蒸着を1回行ない、つぎに、1回目と反対側
の斜め方向からの蒸着を行なう。
Next, as shown in FIGS. 2 (c) and 3 (b), a conductive film 24 is formed by a vacuum deposition method using a metal material such as Al, Ni and Cr. In this case, since conductive films are also formed on both side surfaces of the ink flow path 23, vapor deposition is performed once from an oblique direction, and then vapor deposition is performed from an oblique direction opposite to the first time.

【0020】つぎに、図2(d)および図3(c)に示
したように、研磨またはブラシスクラブ等により、導電
膜24に傷を付けたり、レジスト22を圧電基板21か
ら剥離させてレジスト22を露出させる。この傷入れ
は、後工程においてレジスト22を完全に除去するため
のもので、上記斜め方向からの蒸着ではレジストが完全
に覆われてしまい、その状態では剥離液でレジストを溶
すことができないからである。
Next, as shown in FIGS. 2 (d) and 3 (c), the conductive film 24 is scratched or the resist 22 is peeled off from the piezoelectric substrate 21 by polishing or brush scrubbing. 22 is exposed. This damage is to completely remove the resist 22 in a later step, and the vapor deposition from the oblique direction completely covers the resist, and in that state, the resist cannot be dissolved by the stripping solution. Is.

【0021】つぎに、図2(e)および図3(d)に示
したように、レジスト22を除去する。このとき、レジ
スト22の表面に形成された導電膜24も一緒に除去さ
れて、導電膜24が電極および電気的配線としてパター
ニングされる。
Next, as shown in FIGS. 2 (e) and 3 (d), the resist 22 is removed. At this time, the conductive film 24 formed on the surface of the resist 22 is also removed, and the conductive film 24 is patterned as an electrode and an electrical wiring.

【0022】しかし、パターンのエッジにバリが残るこ
とがあるので、つぎに、圧電基板21の表面をブラシス
クラブ洗浄する。この結果、バリが取り除かれ、図2
(f)に示したインク流路23間の圧力隔壁を変形させ
るための電極25〜25、および図3(e)に示したボ
ンディングパッド26が完成する。
However, since burrs may remain on the edges of the pattern, the surface of the piezoelectric substrate 21 is cleaned by brush scrubbing. As a result, the burrs are removed, and FIG.
The electrodes 25 to 25 for deforming the pressure partition wall between the ink flow paths 23 shown in (f) and the bonding pad 26 shown in FIG. 3E are completed.

【0023】以上のようにして、流路基板が完成する。The flow path substrate is completed as described above.

【0024】つぎに、流路基板12の製造工程の他の実
施例を説明する。
Next, another embodiment of the manufacturing process of the flow path substrate 12 will be described.

【0025】図4に流路基板のインク流路の製造工程を
示し、図5に流路基板のボンディングパッドの製造工程
を示す。
FIG. 4 shows the manufacturing process of the ink flow path of the flow path substrate, and FIG. 5 shows the manufacturing process of the bonding pad of the flow path substrate.

【0026】まず、PZT等の圧電材料からなる圧電基
板上にレジストパターンを形成する。このレジストパタ
ーンは、図4(a)および図5(a)に示したように、
圧電基板31の表面のボンディングパッドを形成する部
分以外にレジスト32を形成する。上記実施例と違って
インク流路を形成する部分もレジストで被覆してしまう
のである。
First, a resist pattern is formed on a piezoelectric substrate made of a piezoelectric material such as PZT. This resist pattern is, as shown in FIGS. 4 (a) and 5 (a),
A resist 32 is formed on a portion of the surface of the piezoelectric substrate 31 other than the portion where the bonding pad is formed. Unlike the above embodiment, the portion forming the ink flow path is also covered with the resist.

【0027】つぎに、図4(b)に示したように、圧電
基板31をレジスト32とともにダイシングソー等を用
いて切削し、インク流路33を形成する。
Next, as shown in FIG. 4B, the piezoelectric substrate 31 is cut together with the resist 32 using a dicing saw or the like to form the ink flow path 33.

【0028】つぎに、図4(c)および図5(b)に示
したように、先の実施例と同様にして、Al,Ni,C
r等の金属材料を用いて真空蒸着により導電膜34を形
成する。
Next, as shown in FIGS. 4 (c) and 5 (b), Al, Ni, C are formed in the same manner as in the previous embodiment.
The conductive film 34 is formed by vacuum deposition using a metal material such as r.

【0029】つぎに、図4(d)および図5(c)に示
したように、研磨またはブラシスクラブ等により、導電
膜34に傷を付けたり、レジスト32を圧電基板31か
ら剥離させてレジスト32を露出させる。
Next, as shown in FIGS. 4 (d) and 5 (c), the conductive film 34 is scratched or the resist 32 is peeled off from the piezoelectric substrate 31 by polishing or brush scrubbing. Expose 32.

【0030】つぎに、図4(e)および図5(d)に示
したように、レジスト32を除去する。これにより、導
電膜34が電極および電気的配線としてパターニングさ
れるが、パターンのエッジにバリが残ることがあるの
で、つぎに、圧電基板31の表面をブラシスクラブ洗浄
してバリを取り除くことにより、図4(f)および図5
(e)に示したように、インク流路33間の圧力隔壁を
変形させるための電極35〜35、ボンディングパッド
36が完成する。
Next, as shown in FIGS. 4 (e) and 5 (d), the resist 32 is removed. As a result, the conductive film 34 is patterned as electrodes and electrical wiring, but burrs may remain on the edges of the pattern. Therefore, the surface of the piezoelectric substrate 31 is brush-scrub cleaned to remove the burrs. 4 (f) and 5
As shown in (e), the electrodes 35 to 35 for deforming the pressure partition wall between the ink flow paths 33 and the bonding pad 36 are completed.

【0031】以上のようにして、流路基板が完成する。The flow path substrate is completed as described above.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明によれば、電極およびボンディン
グパッドとなる導電膜の形成前に基板表面に形成したレ
ジストのリフトオフによりレジスト表面の導電膜を除去
することによって導電膜をパターニングするので、従来
のように電極がエッチングされてしまうことがなくな
り、電極およびボンディングパッドを確実に形成するこ
とができる。
According to the present invention, the conductive film is patterned by removing the conductive film on the resist surface by lift-off of the resist formed on the surface of the substrate before forming the conductive film to be electrodes and bonding pads. As described above, the electrodes are not etched and the electrodes and the bonding pads can be reliably formed.

【0033】特に、レジストを除去する前に導電膜の一
部に傷を付けてレジストを露出させる工程を設けること
により、レジストを確実に除去することができるので、
導電膜のパターニングをより確実に行なうことができ
る。
In particular, by providing the step of exposing the resist by scratching a part of the conductive film before removing the resist, the resist can be surely removed.
The conductive film can be patterned more reliably.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による記録ヘッドの一例を示した斜視図FIG. 1 is a perspective view showing an example of a recording head according to the present invention.

【図2】本発明の一実施例を示した工程図FIG. 2 is a process chart showing an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例を示した工程図FIG. 3 is a process chart showing an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例を示した工程図FIG. 4 is a process chart showing an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例を示した工程図FIG. 5 is a process chart showing an embodiment of the present invention.

【図6】従来の記録ヘッドの要部の構成例を示した斜視
FIG. 6 is a perspective view showing a configuration example of a main part of a conventional recording head.

【図7】本発明方法により製造した記録ヘッドの要部の
構成例を示した斜視図
FIG. 7 is a perspective view showing a configuration example of a main part of a recording head manufactured by the method of the present invention.

【図8】従来例を説明するための説明図FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 圧電基板 22 レジスト 23 インク流路 24 導電膜 25 電極 26 ボンディングパッド 21 piezoelectric substrate 22 resist 23 ink flow path 24 conductive film 25 electrode 26 bonding pad

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】圧電材料からなる隔壁によって隔てられた
複数のインク流路と、各インク流路に対応して設けられ
たインク吐出口と、上記隔壁に形成された電極とを有
し、上記電極に所望の駆動電圧を印加することにより上
記隔壁を変形させて上記インク吐出口よりインクを吐出
させる記録ヘッドの製造方法において、 圧電材料からなる圧電基板上にレジストパターンを形成
する第1の工程と、 上記圧電基板上にインク流路となる複数条の溝を、各溝
間にレジストを残して形成する第2の工程と、 上記溝の壁面および上記レジスト表面に導電膜を形成す
る第3の工程と、 少なくとも上記レジストの一部を露出させる第4の工程
と、 上記レジストを除去し、上記溝間の圧力隔壁を変形させ
るための電極およびこの電極からの電気的配線を形成す
る第5の工程と、 を有することを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
1. A plurality of ink flow paths separated by partition walls made of a piezoelectric material, ink discharge ports provided corresponding to each ink flow path, and electrodes formed on the partition walls. In a method of manufacturing a recording head in which a partition wall is deformed by applying a desired driving voltage to an electrode to eject ink from the ink ejection port, a first step of forming a resist pattern on a piezoelectric substrate made of a piezoelectric material A second step of forming a plurality of grooves on the piezoelectric substrate to serve as ink flow paths, leaving a resist between the grooves; and a third step of forming a conductive film on the wall surface of the groove and the resist surface. And a fourth step of exposing at least a part of the resist, and removing the resist to form an electrode for deforming the pressure partition wall between the grooves and an electrical wiring from the electrode. The fifth method of manufacturing a recording head of the process, characterized by having that.
【請求項2】 請求項1に記載の記録ヘッドの製造方法
において、上記第1の工程は、上記圧電基板上の上記圧
力隔壁が形成される部分と、上記電気的配線が形成され
る部分以外の部分とにレジストパターンを形成するもの
で、上記第2の工程は、上記圧電基板を切削して上記溝
を形成するものであることを特徴とする記録ヘッドの製
造方法。
2. The method of manufacturing a recording head according to claim 1, wherein the first step is other than a portion on the piezoelectric substrate where the pressure partition wall is formed and a portion where the electrical wiring is formed. And a resist pattern is formed on the above-mentioned portion, and the second step is to cut the piezoelectric substrate to form the groove.
【請求項3】 請求項1に記載の記録ヘッドの製造方法
において、上記第1の工程は、上記圧電基板上の上記電
気的配線が形成される部分以外の部分にレジストパター
ンを形成するもので、上記第2の工程は、上記第1の工
程において形成されたレジストと上記圧電基板とを切削
して上記溝を形成するものであることを特徴とする記録
ヘッドの製造方法。
3. The method of manufacturing a recording head according to claim 1, wherein the first step is to form a resist pattern on a portion of the piezoelectric substrate other than a portion where the electrical wiring is formed. The method of manufacturing a recording head, wherein the second step is to cut the resist formed in the first step and the piezoelectric substrate to form the groove.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の記録ヘ
ッドの製造方法において、上記第4の工程は、上記レジ
ストの表面に形成された上記導電膜に研磨またはブラシ
スクラブ等で傷を付けることによって上記レジストの一
部を露出させるものであることを特徴とする記録ヘッド
の製造方法。
4. The method of manufacturing a recording head according to claim 1, wherein in the fourth step, the conductive film formed on the surface of the resist is scratched by polishing or brush scrubbing. A method of manufacturing a recording head, wherein a part of the resist is exposed by applying the resist.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の記録ヘ
ッドの製造方法において、上記第5の工程は、上記レジ
ストを除去する際にレジスト表面に形成された導電膜を
除去する工程と、上記圧電基板上に形成された導電膜を
ブラシスクラブ等によって整形する工程とからなること
を特徴とする記録ヘッドの製造方法。
5. The method of manufacturing a recording head according to claim 1, wherein the fifth step is a step of removing a conductive film formed on a resist surface when removing the resist. And a step of shaping the conductive film formed on the piezoelectric substrate by brush scrubbing or the like.
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