JPH08222704A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH08222704A
JPH08222704A JP7327176A JP32717695A JPH08222704A JP H08222704 A JPH08222704 A JP H08222704A JP 7327176 A JP7327176 A JP 7327176A JP 32717695 A JP32717695 A JP 32717695A JP H08222704 A JPH08222704 A JP H08222704A
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semiconductor integrated
integrated circuit
speed operation
capacitance
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晃一 村上
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Abstract

PURPOSE: To realize a semiconductor integrated circuit, which reduces effectively an electromagnetic radiation generated in the circuit, and is resistant also to noise. CONSTITUTION: A semiconductor integrated circuit is provided with an S/P conversion circuit 11, a P/S conversion circuit 13 and a clock (n) frequency dividing circuit 14, which are such a high-speed operating circuit part as a serial signal processing part which requires a high-speed operation, and a digital signal processing circuit 12, which is such a low-speed operating circuit part as a parallel signal processing part which is allowed an operation at a speed slower than that of this serial signal processing part. The capacitance (parasitic capacitance) of a transistor constituting the circuit 12 is increased, whereby a semiconductor integrated circuit is constituted of elements, whose rise and fall times are slow, and inhibits the generation of an electromagnetic radiation from the circuit 12 which is the low-speed operating circuit part.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電磁放射の低減を図
った半導体集積回路に関し、特にトランジスタ素子のオ
ン、オフ動作により発生される電磁放射を低減した半導
体集積回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit for reducing electromagnetic radiation, and more particularly to a semiconductor integrated circuit for reducing electromagnetic radiation generated by turning on / off a transistor element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年における半導体集積回路の動作に伴
い、半導体集積回路の内部のトランジタが高速にオン、
オフ動作された時に、その立ち上がり時や立ち下がり時
に、その高周波成分が電磁放射の発生源となり、この電
磁放射が周囲の回路や機器に電磁障害を与え、これらの
性能の劣化や誤動作をひきおこす原因となっている。
2. Description of the Related Art With the recent operation of semiconductor integrated circuits, transistors inside the semiconductor integrated circuits turn on at high speed.
When it is turned off, its high frequency component becomes a source of electromagnetic radiation when it rises or falls, and this electromagnetic radiation causes electromagnetic interference to surrounding circuits and equipment, and causes deterioration of these performances and malfunctions. Has become.

【0003】例えば図9はシリアルデータ信号を一旦シ
リアル−パラレル変換して信号処理を行う回路の一例で
あり、S/P変換回路11はデータ入力端子INから周
波数fで入力されたシリアルなデータ信号をクロック入
力端子Cから入力されるクロックをn分周するクロック
n分周回路14の出力によりn列にパラレル変換し、f
/nの周波数のn列のデータ1〜nを出力する。デジタ
ル信号処理回路12はn列のデータに対してそれぞれ所
定の処理を実行する。またP/S変換回路13はデジタ
ル信号処理回路12で処理されたn列のデータをシリア
ル変換し、データ出力端子outから周波数fのデータ
として出力する。
For example, FIG. 9 shows an example of a circuit that performs serial-parallel conversion of a serial data signal once and performs signal processing. The S / P conversion circuit 11 is a serial data signal input at a frequency f from a data input terminal IN. Is parallel-converted into n columns by the output of the clock n frequency dividing circuit 14 that divides the clock input from the clock input terminal C by n, and f
The data 1 to n of the n-column having the frequency of / n are output. The digital signal processing circuit 12 executes a predetermined process on each of the n columns of data. Further, the P / S conversion circuit 13 serially converts the data of the n columns processed by the digital signal processing circuit 12, and outputs it as data of the frequency f from the data output terminal out.

【0004】このような回路では、信号処理の高速化を
図るために、各回路を構成する半導体素子、例えばMO
Sトランジスタはゲートが最高動作周波数で駆動される
ように全てのMOSトランジスタが設計されている。こ
のため、各回路のMOSトランジスタの立ち上がり時間
と立ち下がり時間は極めて短いものとなり、この際に前
記した高周波が発生し、これが電磁放射の原因となって
いる。このような電磁放射を低減するために、従来で
は、例えば特開昭64−15820号公報や特開平3−
129416号公報に記載されたものがある。前者のも
のは、回路内部で必要とされるクロック周波数よりも低
い周波数のクロックを回路に入力させるようにし、回路
内部でその周波数を発生させることで、入力部における
周波数クロックによる電磁放射を低減するものである。
また、後者のものは、入力部には正弦波を入力させ、回
路内部でこの正弦波を矩形波に変換することで、入力部
において矩形部が入力されないようにし、入力部におけ
る電磁放射を低減するものである。
In such a circuit, in order to speed up the signal processing, a semiconductor element, such as an MO, which constitutes each circuit, is formed.
In the S transistor, all MOS transistors are designed so that the gate is driven at the maximum operating frequency. Therefore, the rise time and fall time of the MOS transistor of each circuit are extremely short, and at this time, the above-mentioned high frequency is generated, which causes electromagnetic radiation. In order to reduce such electromagnetic radiation, conventionally, for example, JP-A-64-15820 or JP-A-3-
There is one described in Japanese Patent No. 129416. In the former case, a clock having a frequency lower than the clock frequency required in the circuit is input to the circuit, and the frequency is generated in the circuit to reduce electromagnetic radiation due to the frequency clock in the input section. It is a thing.
In the latter, the sine wave is input to the input section, and this sine wave is converted into a rectangular wave inside the circuit to prevent the rectangular section from being input at the input section, reducing electromagnetic radiation at the input section. To do.

【0005】以上電磁放射(EMI)について述べたが
逆の電磁感受性(EMS)・イミュニティについてもト
ランジスタが高速にオン、オフ動作する半導体集積回路
は弱い。すなわち高速にオン、オフ動作するということ
はMOSトランジスタはわずかなノイズでも反応し、誤
動作を引きおこしやすいということである。例えば図5
は、シリアルデータ信号を一旦シリアル−パラレル変換
して信号処理を行う回路の一例であり、S/P変換回路
11はデータ入力端子INから周波数fで入力されたシ
リアルなデータ信号を、クロック入力端子Cから入力さ
れるクロックをn分周するクロックn分周回路14の出
力によりn列にパラレル変換し、f/nの周波数のn列
のデータ1〜nを出力する。デジタル信号処理回路12
はn列のデータに対してそれぞれ所定の処理を実行す
る。また、P/S変換回路13はデジタル信号処理回路
12で処理されたn列のデータをシリアル変換し、デー
タ出力端子OUTから再び周波数fのデータとして出力
する。さらにP/S変換回路13は出力制御信号入力端
子Sがあり、制御信号を受けると、出力端子OUTから
のデータを出力しなくなる。
Although the electromagnetic radiation (EMI) has been described above, a semiconductor integrated circuit in which a transistor is turned on and off at a high speed is weak with respect to the opposite electromagnetic susceptibility (EMS) and immunity. That is, turning on and off at high speed means that the MOS transistor reacts even with a small amount of noise and easily causes a malfunction. For example, in FIG.
Is an example of a circuit that performs serial-parallel conversion of a serial data signal and performs signal processing. The S / P conversion circuit 11 converts a serial data signal input from the data input terminal IN at a frequency f into a clock input terminal. The clock input from C is divided into n by the output of the clock n frequency dividing circuit 14 that divides the clock by n, and the n columns of data 1 to n having the frequency of f / n are output. Digital signal processing circuit 12
Performs a predetermined process on each of the n columns of data. Further, the P / S conversion circuit 13 serial-converts the data of the n columns processed by the digital signal processing circuit 12, and outputs it again as the data of the frequency f from the data output terminal OUT. Further, the P / S conversion circuit 13 has an output control signal input terminal S, and when receiving the control signal, it stops outputting data from the output terminal OUT.

【0006】このような回路では、信号処理の高速化を
図るために、各回路を構成する半導体素子、例えばMO
Sトランジスタはゲートが最高動作周波数で駆動される
ように全てのMOSトランジスタが設計されている。こ
のため各回路のMOSトランジスタの立ち上がり時間と
立ち下がり時間は極めて短いものとなり、素子の遮断周
波数が高く、ノイズに反応しやすくなる。特に制御入力
端子Sのように外部端子となっている所はノイズをうけ
やすく誤動作の原因となる。
In such a circuit, in order to speed up signal processing, a semiconductor element, such as an MO, which constitutes each circuit, is formed.
In the S transistor, all MOS transistors are designed so that the gate is driven at the maximum operating frequency. Therefore, the rise time and fall time of the MOS transistor of each circuit are extremely short, the cutoff frequency of the element is high, and it becomes easy to react to noise. In particular, a place that is an external terminal such as the control input terminal S is easily affected by noise and causes a malfunction.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た公報に記載されている技術は、電磁放射の顕著な入力
部における電磁放射を防止することは可能であるが、回
路内部の素子における動作は依然として高速な動作が行
なわれているため、回路内部から発生する電磁放射を低
減することは困難である。また、これらの公報では、集
積回路に周波数変換回路や波形整形回路が必要とされる
ため、集積回路の回路構成が大きくなり、小型でかつ高
密度な半導体集積回路を実現する上では好ましくない。
第2の問題点は、外部からのノイズに弱く誤動作しやす
いということである。この理由は、トランジスタの遮断
周波数が高いため周波数の高いノイズにも反応するため
である。
However, although the technique described in the above-mentioned publication can prevent the electromagnetic radiation at the input portion where the electromagnetic radiation is remarkable, the operation of the elements inside the circuit still remains. Since high-speed operation is performed, it is difficult to reduce electromagnetic radiation generated inside the circuit. Further, in these publications, since a frequency conversion circuit and a waveform shaping circuit are required for the integrated circuit, the circuit configuration of the integrated circuit becomes large, which is not preferable for realizing a compact and high-density semiconductor integrated circuit.
The second problem is that it is vulnerable to external noise and easily malfunctions. The reason for this is that the cutoff frequency of the transistor is high, so that it also reacts to high frequency noise.

【0008】本発明の目的は、回路部における電磁放射
を有効に低減することを可能にしかつノイズに強い半導
体集積回路を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of effectively reducing electromagnetic radiation in the circuit section and resistant to noise.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、高速動作が必要とされる高速動作回路部と、これよ
りも遅い速度での動作が許される低速動作回路部とを備
える構成において、低速動作回路部を立ち上がり時間及
び立ち下がり時間の遅い素子で構成したことを特徴とす
る。
A semiconductor integrated circuit according to the present invention has a structure including a high-speed operation circuit section that requires high-speed operation and a low-speed operation circuit section that is allowed to operate at a slower speed. The low-speed operation circuit unit is composed of elements having a slow rise time and a slow fall time.

【0010】例えば、低速動作回路部を構成する素子
を、高速動作回路部のMOSトランジスタよりもチャネ
ル長の長いMOSトランジスタで構成する。又、低速動
作回路部を構成する素子に供給するバイアス電圧を高速
動作回路部の素子に供給するバイアス電圧よりも低電圧
とする。又、低速動作回路部を構成する素子を、高速動
作回路部のMOSトランジスタの出力部のキャパシタン
ス(寄生容量)を大きくしたMOSトランジスタで構成
する。
For example, the element forming the low speed operation circuit section is composed of a MOS transistor having a channel length longer than that of the MOS transistor of the high speed operation circuit section. Further, the bias voltage supplied to the elements forming the low speed operation circuit section is set to be lower than the bias voltage supplied to the elements forming the high speed operation circuit section. Further, the element forming the low-speed operation circuit section is formed of a MOS transistor in which the capacitance (parasitic capacitance) of the output section of the MOS transistor in the high-speed operation circuit section is increased.

【0011】[0011]

【作用】一般にMOSトランジスタやバイポーラトラン
ジスタ等の素子では、素子からの電磁放射量は信号の立
上がり時間や立ち下がり時間に逆比例し、速ければ速い
ほど増加する。従って、周波数の高い回路部は立ち上が
り時間や立ち下がり時間の速いゲートで実現しなければ
ならないが、周波数が低い回路部は、そのトランジスタ
のチャネル長を長くし、或いはバイアス電圧を低くした
り、出力のキャパシタンス(寄生容量)を大きくしたり
することで立ち上がり時間や立ち下がり時間が遅くされ
た素子で構成することで、少なくともこの回路部におけ
る電磁放射が低減される。さらに素子の遮断周波数が低
いためノイズに反応しずらく誤動作しないイミュニティ
的にも強い半導体集積回路となる。
In general, in an element such as a MOS transistor or a bipolar transistor, the amount of electromagnetic radiation from the element is inversely proportional to the rise time and fall time of the signal, and the faster it is, the more it increases. Therefore, a circuit part with a high frequency must be realized by a gate with a fast rise time or a fall time, but a circuit part with a low frequency must increase the channel length of the transistor, lower the bias voltage, or reduce the output voltage. By increasing the capacitance (parasitic capacitance) of the element and forming it by an element whose rise time and fall time are delayed, at least electromagnetic radiation in this circuit portion is reduced. Furthermore, since the cut-off frequency of the element is low, the semiconductor integrated circuit has a strong immunity and does not malfunction due to difficulty in reacting to noise.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0013】まず、本発明の第1実施例は前記した従来
例と同様、データ信号を一旦シリアル−パラレル変換し
て信号処理を行う回路に適用される。即ち、図9に示す
ように、S/P変換回路11はデータ信号入力端子IN
から周波数fで入力されたシリアルなデータ信号をn列
にパラレル変換し、f/nの周波数のn列のデータ1〜
nを出力する。また、クロックn分周回路14はクロッ
ク入力端子Cから入力されたクロック信号をn分周し、
前記S/P変換回路11に入力し、前記したパラレル変
換を可能とする。デジタル信号処理回路12はn列のデ
ータに対してそれぞれ所定の処理を実行する。また、P
/S変換回路13はデジタル信号処理回路12で処理さ
れたn列のデータをシリアル変換し、再び周波数fのデ
ータとしてデータ出力端子OUTから出力する。
First, the first embodiment of the present invention is applied to a circuit for performing signal processing by once serial-parallel converting a data signal, as in the conventional example described above. That is, as shown in FIG. 9, the S / P conversion circuit 11 has a data signal input terminal IN.
From the serial data signal input at the frequency f to n columns, and the data of n columns of the frequency f / n
Output n. The clock n frequency dividing circuit 14 frequency-divides the clock signal input from the clock input terminal C by n,
It is input to the S / P conversion circuit 11 to enable the parallel conversion described above. The digital signal processing circuit 12 executes a predetermined process on each of the n columns of data. Also, P
The / S conversion circuit 13 serially converts the data of the n columns processed by the digital signal processing circuit 12, and outputs the data of the frequency f again from the data output terminal OUT.

【0014】図1は上述した図9の回路を半導体基板1
00上に集積回路として構成した際のブロック構成図で
ある。S/P変換回路11、P/S変換回路13、クロ
ックn分周回路(1/n)14を構成する短チャネル素
子領域101の素子は、周波数fに対応して、短い立ち
上がり時間と立ち下がり時間で高速動作が可能とされる
ように、チャネル長の短いMOSトランジスタで構成さ
れる。これに対し、デジタル信号処理回路13を構成す
る長チャネル素子領域102の素子は、周波数f/nの
比較的に低速で動作が行なわれるため、立ち上がり時間
と立ち下がり時間が長くなるチャネル長の長いMOSト
ランジスタで構成される。また、各回路にバイアスを供
給するためのバイアス回路15が設けられている。
FIG. 1 is a circuit diagram of the circuit of FIG.
FIG. 10 is a block diagram of a configuration when it is configured as an integrated circuit on 00. The elements of the short channel element region 101 that form the S / P conversion circuit 11, the P / S conversion circuit 13, and the clock n frequency dividing circuit (1 / n) 14 have a short rise time and a short fall time corresponding to the frequency f. It is composed of a MOS transistor having a short channel length so that a high speed operation can be performed in time. On the other hand, since the elements in the long channel element region 102 forming the digital signal processing circuit 13 operate at a relatively low frequency of the frequency f / n, the rise time and fall time are long and the channel length is long. It is composed of MOS transistors. Further, a bias circuit 15 for supplying a bias to each circuit is provided.

【0015】従って、この集積回路を駆動した時には、
S/P変換回路11、P/S変換回路13、クロックn
分周回路14においては、周波数fの信号やクロックが
入力された時には、これらを構成するMOSトランジス
タのチャネル長が短いため、図2(a)のように、立ち
上がり時間と立ち下がり時間は1nS程度の速い状態で
の動作が行われる。一方、デジタル信号処理回路12で
は、そのMOSトランジスタのチャネル長が長いため、
例えば同じ周波数fの信号が入力された場合には、図2
(b)のように、立ち上がり時間と立ち下がり時間は3
nS程度の遅い状態での動作が行われる。この場合、デ
ジタル信号処理回路12では、周波数がf/nでの動作
となるために、立ち上がり時間と立ち下がり時間が遅く
なった場合でもその動作に悪影響を受けることはない。
Therefore, when this integrated circuit is driven,
S / P conversion circuit 11, P / S conversion circuit 13, clock n
In the frequency divider circuit 14, when a signal or clock of frequency f is input, the channel lengths of the MOS transistors forming them are short, so that the rise time and fall time are about 1 nS as shown in FIG. The operation is performed at a high speed. On the other hand, in the digital signal processing circuit 12, since the channel length of the MOS transistor is long,
For example, when signals of the same frequency f are input,
As in (b), the rise time and fall time are 3
The operation is performed in a slow state of about nS. In this case, since the digital signal processing circuit 12 operates at the frequency f / n, the operation is not adversely affected even when the rise time and the fall time are delayed.

【0016】これにより、この集積回路では、回路の大
部分を占めるデジタル信号処理回路12をチャネル長の
長いMOSトランジスタで構成することで、その動作に
影響を受けることなく、MOSトランジスタにおける立
ち上がり時間と立ち下がり時間を遅いものにすることが
できる。そして、前記したように、MOSトランジスタ
の動作に伴う電磁放射の量は、立ち上がり時間と立ち下
がり時間の速度に反比例するため、このデジタル信号処
理回路12において発生される電磁放射を低減すること
が可能となる。この例では、立ち上がり時間と立ち下が
り時間が1nSから3nSに遅くされているため、その
分電磁放射量が低減される。
Thus, in this integrated circuit, the digital signal processing circuit 12, which occupies most of the circuit, is composed of MOS transistors having a long channel length, so that the rising time and the rising time of the MOS transistors are not affected by the operation. The fall time can be delayed. Then, as described above, the amount of electromagnetic radiation accompanying the operation of the MOS transistor is inversely proportional to the speeds of the rising time and the falling time, so that the electromagnetic radiation generated in the digital signal processing circuit 12 can be reduced. Becomes In this example, the rise time and the fall time are delayed from 1 nS to 3 nS, so that the amount of electromagnetic radiation is reduced accordingly.

【0017】したがって、他のS/P変換回路11、P
/S変換回路13、クロックn分周回路14において
は、従来と同様な電磁放射が発生されるとしても、これ
らの回路が集積回路に占める割合は小さいため、集積回
路全体としての電磁放射を格段に低減することが可能と
なる。
Therefore, the other S / P conversion circuits 11, P
In the / S conversion circuit 13 and the clock n frequency dividing circuit 14, even if electromagnetic radiation similar to the conventional one is generated, since these circuits occupy a small proportion in the integrated circuit, the electromagnetic radiation of the integrated circuit as a whole is significantly reduced. Can be reduced to.

【0018】次に、本発明の第2実施例について説明す
る。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.

【0019】図3は本発明の第2実施例を示しており、
図9の回路に本発明を適用した場合の前記第1実施例の
図1に相当するブロック構成図である。ここでは、S/
P変換回路11、デジタル信号処理回路12、P/S変
換回路13、クロックn分周回路(1/n)14は、そ
れぞれ同じ構成の素子、例えば、チャネル長の等しいM
OSトランジスタで構成されているが、高電圧バイアス
回路15Aと低電圧バイアス回路15Bが設けられてお
り、S/P変換回路11、P/S変換回路13、クロッ
クn分周回路14は、周波数fに対応して、短い立ち上
がり時間と立ち下がり時間で高速動作が可能とされるよ
うに、高電圧バイアス回路15AによりMOSトランジ
スタのゲート及びドレインの各バイアスとして高電圧を
印加する。これに対し、デジタル信号処理回路12は、
周波数f/nの比較的に低速で動作が行なわれるため、
立ち上がり時間と立ち下がり時間が長くなるように、低
電圧バイアス回路15BによりMOSトランジスタのゲ
ート及びドレインの各バイアスとして低電圧を印加す
る。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a block configuration diagram corresponding to FIG. 1 of the first embodiment when the present invention is applied to the circuit of FIG. 9. Here, S /
The P conversion circuit 11, the digital signal processing circuit 12, the P / S conversion circuit 13, and the clock n frequency dividing circuit (1 / n) 14 are elements having the same configuration, for example, M having the same channel length.
Although it is composed of an OS transistor, a high voltage bias circuit 15A and a low voltage bias circuit 15B are provided, and the S / P conversion circuit 11, the P / S conversion circuit 13, and the clock n frequency dividing circuit 14 have a frequency f. Corresponding to, the high voltage bias circuit 15A applies a high voltage as each bias of the gate and drain of the MOS transistor so that the high speed operation can be performed with the short rise time and the fall time. On the other hand, the digital signal processing circuit 12
Since the operation is performed at a relatively low frequency f / n,
A low voltage is applied by the low voltage bias circuit 15B as each bias of the gate and the drain of the MOS transistor so that the rising time and the falling time become long.

【0020】従って、この集積回路を駆動した時には、
S/P変換回路11、P/S変換回路13、クロックn
分周回路14においては、周波数fの信号やクロックが
入力された時には、これらを構成するMOSトランジス
タには高電圧のバイアスが供給されているため、図2
(a)のように、立ち上がり時間と立ち下がり時間は1
nS程度の速い状態での動作が行われる。一方、デジタ
ル信号処理回路12では、そのMOSトランジスタには
低電圧のバイアスが供給されているため、例えば同じ周
波数fの信号が入力された場合には、図2(b)のよう
に、立ち上がり時間と立ち下がり時間は3nS程度の遅
い状態での動作が行われる。
Therefore, when this integrated circuit is driven,
S / P conversion circuit 11, P / S conversion circuit 13, clock n
In the frequency dividing circuit 14, when a signal or clock of the frequency f is input, a high-voltage bias is supplied to the MOS transistors forming them, so that FIG.
As in (a), the rise time and fall time are 1
The operation is performed in a fast state of about nS. On the other hand, in the digital signal processing circuit 12, since a low voltage bias is supplied to the MOS transistor, for example, when a signal of the same frequency f is input, as shown in FIG. Then, the operation is performed in a state in which the fall time is about 3 nS.

【0021】これにより、この第2実施例でも、回路の
大部分を占めるデジタル信号処理回路12においては、
その動作に影響を受けることなく、MOSトランジスタ
における立ち上がり時間と立ち下がり時間を遅いものに
することができる。従って、回路の大部分を占めるデジ
タル信号処理回路12において発生される電磁放射を低
減することが可能となる。したがって、他のS/P変換
回路11、P/S変換回路13、クロックn分周回路1
4においては、従来と同様な電磁放射が発生されるとし
ても、これらの回路が集積回路に占める割合は小さいた
め、集積回路全体としての電磁放射を格段に低減するこ
とが可能となる。
As a result, also in the second embodiment, in the digital signal processing circuit 12 which occupies most of the circuit,
The rise time and fall time of the MOS transistor can be delayed without being affected by the operation. Therefore, it is possible to reduce the electromagnetic radiation generated in the digital signal processing circuit 12, which occupies most of the circuit. Therefore, the other S / P conversion circuit 11, P / S conversion circuit 13, clock n frequency dividing circuit 1
In No. 4, even if electromagnetic radiation similar to the conventional one is generated, since the ratio of these circuits to the integrated circuit is small, the electromagnetic radiation of the integrated circuit as a whole can be significantly reduced.

【0022】ここで、前記第1及び第2実施例では、本
発明をシリアル−パラレル変換方式のデジタル信号処理
を行う集積回路に適用した例を示しているが、動作速度
の速い回路と動作速度の遅い回路とが混在する集積回路
であれば、前記各実施例と同様に本発明を適用すること
ができる。
Here, in the first and second embodiments, an example in which the present invention is applied to an integrated circuit for performing digital signal processing of serial-parallel conversion system is shown. However, a circuit having a high operation speed and an operation speed are shown. The present invention can be applied in the same manner as in the above-mentioned respective embodiments as long as it is an integrated circuit in which slow circuits are mixed.

【0023】また、前記各実施例は動作を行う素子とし
てMOSトランジスタを用いているが、特に、バイアス
を相違させて回路に供給する第2実施例の構成は、バイ
ポーラトランジスタを素子とする回路にも同様に適用す
ることができる。
In each of the above embodiments, a MOS transistor is used as an element for performing the operation. In particular, the structure of the second embodiment in which biases are supplied to the circuit is different from the circuit using a bipolar transistor as an element. Can be similarly applied.

【0024】次に、本発明の第3実施例について説明す
る。
Next, a third embodiment of the present invention will be described.

【0025】図4は本発明の第3実施例を示しており、
図9の回路に本発明を適用した場合の前記第1実施例の
図1に相当するブロック構成図である。
FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a block configuration diagram corresponding to FIG. 1 of the first embodiment when the present invention is applied to the circuit of FIG. 9.

【0026】前記S/P変換回路11、P/S変換回路
13、クロックn分周回路(1/n)14を構成する、
キャパシタンス(寄生容量)の小さい領域101´の素
子は、周波数fに対応して、短い立ち上がり時間と立ち
下がり時間で高速動作が可能とされるように、出力キャ
パシタンス(寄生容量)の少ない遮断周波数の高いMO
Sトランジスタで構成される。これに対し、デジタル信
号処理回路12を構成するキャパシタンス(寄生容量)
の大きい領域102´の素子は、周波数f/nの比較的
に低速で動作が行なわれるため、立ち上がり時間と立ち
下がり時間が長くなる出力キャパシタンス(寄生容量)
の多い遮断周波数の低いMOSトランジスタで構成され
る。また、各回路にバイアスを供給するためのバイアス
回路15が設けられる。
The S / P conversion circuit 11, the P / S conversion circuit 13, and the clock n frequency dividing circuit (1 / n) 14 are formed.
The element in the region 101 'having a small capacitance (parasitic capacitance) has a cutoff frequency with a small output capacitance (parasitic capacitance) so that high speed operation can be performed with a short rise time and a fall time corresponding to the frequency f. High MO
It is composed of S transistors. On the other hand, the capacitance (parasitic capacitance) that constitutes the digital signal processing circuit 12
Since the element in the region 102 'having a large frequency is operated at a relatively low frequency f / n, the output capacitance (parasitic capacitance) in which the rise time and the fall time are long
The MOS transistor has a high cutoff frequency and a low cutoff frequency. Further, a bias circuit 15 for supplying a bias to each circuit is provided.

【0027】従って、この集積回路を駆動した時には、
S/P変換回路11、P/S変換回路13、クロックn
分周回路14においては、周波数fの信号やクロックが
入力された時には、これらを構成するMOSトランジス
タの出力のキャパシタンス(寄生容量)は少ないため、
図5(a)のように、立ち上がり時間と立ち下がり時間
は1nS程度の速い状態での動作が行われる。一方、デ
ジタル信号処理回路12では、そのMOSトランジスタ
の出力のキャパシタンス(寄生容量)が多いため、例え
ば同じ周波数fの信号が入力された場合には、図5
(b)のように、立ち上がり時間と立ち下がり時間は5
nS程度の遅い状態での動作が行われる。この場合、デ
ジタル信号処理回路12では、周波数がf/nでの動作
となるために、立ち上がり時間と立ち下がり時間が遅く
なった場合でもその動作に悪影響を受けることはない。
Therefore, when this integrated circuit is driven,
S / P conversion circuit 11, P / S conversion circuit 13, clock n
In the frequency divider circuit 14, when a signal or clock of the frequency f is input, the capacitance (parasitic capacitance) of the output of the MOS transistors forming them is small.
As shown in FIG. 5A, the operation is performed in a state where the rise time and the fall time are about 1 nS, which is fast. On the other hand, in the digital signal processing circuit 12, since the output capacitance (parasitic capacitance) of the MOS transistor is large, for example, when a signal of the same frequency f is input, FIG.
As in (b), the rise time and fall time are 5
The operation is performed in a slow state of about nS. In this case, since the digital signal processing circuit 12 operates at the frequency f / n, the operation is not adversely affected even when the rise time and the fall time are delayed.

【0028】これにより、この集積回路では、回路の大
部分を占めるデジタル信号処理回路12を出力のキャパ
シタンス(寄生容量)の多いMOSトランジスタで構成
することで、その動作に影響を受けることなく、MOS
トランジスタにおける立ち上がり時間と立ち下がり時間
を遅いものにすることができる。
Thus, in this integrated circuit, the digital signal processing circuit 12, which occupies most of the circuit, is composed of MOS transistors having a large output capacitance (parasitic capacitance), so that the operation is not affected by the operation.
The rise time and fall time in the transistor can be slow.

【0029】そして、前記したように、MOSトランジ
スタの動作に伴う電磁放射の量は、立ち上がり時間と立
ち下がり時間の速度に反比例するため、このデジタル信
号処理回路12において発生される電磁放射を低減する
ことが可能となる。この例では、立ち上がり時間と立ち
下がり時間が1nSから5nSに遅くされているため、
下記計算により電磁放射量が低減されていることがわか
る。
As described above, the amount of electromagnetic radiation accompanying the operation of the MOS transistor is inversely proportional to the speed of the rise time and the fall time, so the electromagnetic radiation generated in the digital signal processing circuit 12 is reduced. It becomes possible. In this example, the rise time and fall time are delayed from 1 nS to 5 nS,
The following calculation shows that the amount of electromagnetic radiation is reduced.

【0030】台形波の式は下記の数式1で表される。The trapezoidal wave equation is expressed by the following equation 1.

【0031】[0031]

【数1】 ここに、I:ピーク対ピークの波高値 d:デューティ
サイクル tr:立ち上がり時間、立ち下がり時間
T:周期 n:高次波の次数で表われる。
[Equation 1] Where I: peak-to-peak crest value d: duty cycle tr: rise time, fall time
T: Period n: Represented by the order of higher order wave.

【0032】図5(a)はd:0.5(50%) tr
=1nS f=10MHz T=100nSとする。
FIG. 5A shows d: 0.5 (50%) tr.
= 1nS f = 10MHz T = 100nS.

【0033】この11倍波は、下記の数式2で表わされ
る。
This eleventh harmonic is expressed by the following mathematical formula 2.

【0034】[0034]

【数2】 図5(b)はd:0.5(50%) tr=5nS f
=10MHz T=100nS この11倍波は、下記
の数式3で表される。
[Equation 2] FIG. 5B shows d: 0.5 (50%) tr = 5 nS f.
= 10 MHz T = 100 nS The 11th harmonic is expressed by the following mathematical formula 3.

【0035】[0035]

【数3】 数式3は数式2に対して58%(4.7dB)放射が小
さくなったことを示している。
(Equation 3) Equation 3 shows that 58% (4.7 dB) radiation is reduced relative to Equation 2.

【0036】又、図5(a)、図5(b)の台形波の包
絡線のグラフを図6に示す。この図からも特に高い周波
数の高次波になればなるほど立ち上がり立ち下がり時間
の遅いほうが電磁放射量がより少なくなっていくことが
わかる。
FIG. 6 shows a graph of the trapezoidal wave envelope curve of FIGS. 5 (a) and 5 (b). From this figure, it can be seen that the higher the higher-order wave with a particularly high frequency, the smaller the amount of electromagnetic radiation with a slower rise and fall time.

【0037】したがって、他のS/P変換回路11、P
/S変換回路13、クロック分周回路14においては、
従来と同様な電磁放射が発生されるとしても、これらの
回路が集積回路に占める割合は小さいため、集積回路の
全体としての電磁放射を格段に低減することが可能とな
る。
Therefore, the other S / P conversion circuits 11, P
In the / S conversion circuit 13 and the clock frequency dividing circuit 14,
Even if electromagnetic radiation similar to the conventional one is generated, since the ratio of these circuits to the integrated circuit is small, the electromagnetic radiation of the integrated circuit as a whole can be significantly reduced.

【0038】図7は、本発明の第4実施例を示すブロッ
ク図である。図7では、P/S変換回路13の出力を出
力制御信号入力端子Sからの信号により出力を止めたり
出したりする。出力制御信号入力端子Sを形成するトラ
ンジスタは遮断周波数の低い、キャパシタンス(寄生容
量)の大きい素子を使うことによりノイズに反応しにく
くなる。これは、ノイズによる誤動作が少なくなったと
いうことで、イミュニティが良くなったことを意味す
る。
FIG. 7 is a block diagram showing a fourth embodiment of the present invention. In FIG. 7, the output of the P / S conversion circuit 13 is stopped or output according to a signal from the output control signal input terminal S. The transistor forming the output control signal input terminal S is less likely to react to noise by using an element having a low cutoff frequency and a large capacitance (parasitic capacitance). This means that immunity is improved because malfunctions due to noise are reduced.

【0039】図8は、本発明による高周波用素子と低周
波用素子の混在する半導体におけるロケーションの例で
ある。高周波信号用素子は高周波信号入出力端子(ピ
ン)からできるだけ近い位置に配置することにより高周
波信号が作る電流ループをできるだけ小さくする。これ
により電磁放射の一番大きな問題となる高周波信号から
の放射を低減することができる。尚、図8において、6
01は入出力ピン、602はワイヤーを示す。
FIG. 8 shows an example of locations in a semiconductor in which a high frequency element and a low frequency element according to the present invention coexist. The high frequency signal element is arranged as close as possible to the high frequency signal input / output terminal (pin) to minimize the current loop created by the high frequency signal. This makes it possible to reduce the radiation from the high frequency signal, which is the biggest problem of electromagnetic radiation. In FIG. 8, 6
01 is an input / output pin, and 602 is a wire.

【0040】以上、第3及び第4実施例でも本発明をシ
リアル−パラレル変換方式のデジタル信号処理を行う集
積回路に適用した例を示しているが、動作速度の速い回
路とが混在される集積回路であれば、第3及び第4実施
例と同様に本発明を適用することが可能である。
As described above, the third and fourth embodiments also show an example in which the present invention is applied to an integrated circuit for performing digital signal processing of the serial-parallel conversion system. However, an integrated circuit in which circuits with high operating speed are mixed is shown. As long as it is a circuit, the present invention can be applied similarly to the third and fourth embodiments.

【0041】また第3及び第4実施例は動作を行う素子
としてMOSトランジスタを用いた例を示しているが、
バイポーラトランジスタ等その他の集積回路にも適用す
ることができる。
Further, the third and fourth embodiments show an example in which a MOS transistor is used as an element for performing the operation,
It can also be applied to other integrated circuits such as bipolar transistors.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、高速動作
が必要とされる高速動作回路部と、これよりも遅い速度
での動作が許される低速動作回路部とを備える構成にお
いて、低速動作回路部を立ち上がり時間及び立ち下がり
時間の遅い素子で構成することにより、高速動作が必要
とされる回路部は立ち上がり時間や立ち下がり時間の速
いゲートで実現しなければならない一方で、低速動作回
路部は立ち上がり時間や立ち下がり時間が遅くされた素
子で構成することで、少なくともこの回路部における電
磁放射が低減される。
As described above, according to the present invention, a low speed operation is provided in a structure including a high speed operation circuit section that requires high speed operation and a low speed operation circuit section that is allowed to operate at a slower speed. By configuring the circuit section with elements with slow rise and fall times, the circuit section that requires high-speed operation must be realized with a gate with fast rise and fall times, while the low-speed operation circuit section Is composed of an element whose rise time and fall time are delayed, so that electromagnetic radiation is reduced at least in this circuit section.

【0043】例えば低速動作回路部を構成する素子を、
高速動作回路部のMOSトランジスタよりもチャネル長
の長いMOSトランジスタで構成することで、低速動作
回路部のMOSトランジスタの立ち上がり時間と立ち下
がり時間を遅くし、低速動作回路部からの電磁放射を抑
制することができる。
For example, an element forming a low speed operation circuit is
By using a MOS transistor having a channel length longer than that of the MOS transistor of the high-speed operation circuit unit, the rise time and the fall time of the MOS transistor of the low-speed operation circuit unit are delayed to suppress electromagnetic radiation from the low-speed operation circuit unit. be able to.

【0044】また、低速動作回路部を構成する素子に供
給するバイアス電圧を、高速動作回路部を構成する素子
に供給するバイアス電圧よりも低電圧とすることで、低
速動作回路部のトランジスタの立ち上がり時間と立ち下
がり時間を遅くし、低速動作回路部からの電磁放射を抑
制することができる。
Further, the bias voltage supplied to the elements forming the low-speed operation circuit section is set to be lower than the bias voltage supplied to the elements forming the high-speed operation circuit section, so that the transistor in the low-speed operation circuit section rises. By delaying the time and the fall time, it is possible to suppress the electromagnetic radiation from the low speed operation circuit unit.

【0045】更に、低速動作回路部を構成する素子を、
高速動作回路部のMOSトランジスタよりもキャパシタ
ンス(寄生容量)の大きいトランジスタで構成すること
で、低速動作回路部のMOSトランジスタの立ち上がり
時間と立ち下がり時間を遅くし、低速動作回路部からの
電磁放射を抑制することができる。
Further, the elements constituting the low speed operation circuit are
By using a transistor having a capacitance (parasitic capacitance) larger than that of the MOS transistor of the high-speed operation circuit section, the rise time and fall time of the MOS transistor of the low-speed operation circuit section are delayed, and electromagnetic radiation from the low-speed operation circuit section is reduced. Can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係る半導体集積回路のブ
ロックレイアウト図である。
FIG. 1 is a block layout diagram of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の各回路部における立ち上がり時間と立ち
下がり時間を示す図であり、(a)は高速動作回路部、
(b)は低速動作回路部における立ち上がり時間と立ち
下がり時間を示す。
FIG. 2 is a diagram showing rise time and fall time in each circuit unit of FIG. 1, in which (a) is a high-speed operation circuit unit,
(B) shows rise time and fall time in the low-speed operation circuit unit.

【図3】本発明の第2実施例に係る半導体集積回路のブ
ロックレイアウト図である。
FIG. 3 is a block layout diagram of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3実施例に係る半導体集積回路のブ
ロックレイアウト図である。
FIG. 4 is a block layout diagram of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図5】図4の各回路部における立ち上がり時間と立ち
下がり時間を示す図であり、(a)は高速動作回路部、
(b)は低速動作回路部における立ち上がり時間と立ち
下がり時間を示す。
5A and 5B are diagrams showing rise time and fall time in each circuit unit of FIG. 4, in which FIG.
(B) shows rise time and fall time in the low-speed operation circuit unit.

【図6】図5(a)及び(b)の台形波のフーリエスペ
クトルの包絡線のグラフを示す図である。
6 is a diagram showing a graph of an envelope curve of a Fourier spectrum of the trapezoidal wave of FIGS. 5 (a) and 5 (b). FIG.

【図7】本発明の第4実施例に係る半導体集積回路のブ
ロックレイアウト図である。
FIG. 7 is a block layout diagram of a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の回路を実現する半導体集積回路の物理
的ロケーションの図である。
FIG. 8 is a diagram of the physical location of a semiconductor integrated circuit implementing the circuit of the present invention.

【図9】従来の半導体集積回路の一例を示す回路図であ
る。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 S/P変換回路 12 デジタル信号処理回路 13 P/S変換回路 14 クロックn分周回路 15 バイアス回路 15A 高電圧バイアス回路 15B 低電圧バイアス回路 100 半導体基板 101 短チャネル素子領域 102 長チャネル素子領域 101´ キャパシタンス(寄生容量)の小さい領域 102´ キャパシタンス(寄生容量)の大きい領域 601 入出力ピン 602 ワイヤー 11 S / P conversion circuit 12 Digital signal processing circuit 13 P / S conversion circuit 14 Clock n frequency divider circuit 15 Bias circuit 15A High voltage bias circuit 15B Low voltage bias circuit 100 Semiconductor substrate 101 Short channel element region 102 Long channel element region 101 'A region with a small capacitance (parasitic capacitance) 102' A region with a large capacitance (parasitic capacitance) 601 I / O pin 602 Wire

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04B 15/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H04B 15/00

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高速動作が必要とされる高速動作回路部
と、これよりも遅い速度での動作が許される低速動作回
路部とを備える半導体集積回路において、前記低速動作
回路部を立ち上がり時間及び立ち下がり時間の遅い素子
で構成したことを特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit comprising a high-speed operation circuit section that requires a high-speed operation and a low-speed operation circuit section that is allowed to operate at a speed lower than the high-speed operation circuit section. A semiconductor integrated circuit comprising a device having a slow fall time.
【請求項2】請求項1記載の半導体集積回路において、
低速動作回路部を構成する素子を高速動作回路部を構成
するMOSトランジスタよりもチャネル長の長いMOS
トランジスタで構成してなることを特徴とする半導体集
積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein
A MOS element having a channel length longer than that of the MOS transistor forming the high speed operation circuit
A semiconductor integrated circuit comprising a transistor.
【請求項3】請求項1記載の半導体集積回路において、
低速動作回路部を構成する素子に供給するバイアス電圧
を高速動作回路部を構成する素子に供給するバイアス電
圧よりも低電圧としてなることを特徴とする半導体集積
回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1,
A semiconductor integrated circuit, wherein a bias voltage supplied to an element forming a low speed operation circuit section is lower than a bias voltage supplied to an element forming a high speed operation circuit section.
【請求項4】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、低速動作回路部を構成する素子の出力にキャパシタ
ンス(寄生容量)を持たせることにより、該低速動作回
路部を構成する素子が高速動作回路部を構成する素子よ
りもオンオフ動作が遅く遮断周波数が低い素子からなる
ことを特徴とする半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the element forming the low-speed operation circuit section is provided with a capacitance (parasitic capacitance) so that the element forming the low-speed operation circuit section is made a high-speed operation circuit. A semiconductor integrated circuit comprising an element which has a slower on / off operation and a lower cut-off frequency than the elements constituting the part.
【請求項5】 請求項4記載の半導体集積回路におい
て、更に信号出力を制御する制御入力端子を備え、該制
御入力端子のトランジスタのキャパシタンス(寄生容
量)を、回路部を構成する素子のキャパシタンス(寄生
容量)よりも大きく形成してなることを特徴とする半導
体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, further comprising a control input terminal for controlling a signal output, wherein a capacitance (parasitic capacitance) of a transistor at the control input terminal is a capacitance of an element forming a circuit portion (parasitic capacitance). The semiconductor integrated circuit is characterized in that it is formed larger than the parasitic capacitance.
【請求項6】 請求項4記載の半導体集積回路におい
て、高速動作する素子をウェハーの外側に配置すること
により、高速動作する信号がつくるループを最短にする
ことによって形成してなることを特徴とする半導体集積
回路。
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein the element operating at high speed is arranged outside the wafer to minimize a loop formed by a signal operating at high speed. Integrated semiconductor circuit.
【請求項7】 シリアル信号をパラレル信号に変換した
上で信号処理を行う半導体集積回路において、パラレル
信号を処理する回路部を構成する素子をシリアル信号を
処理する回路部を構成する素子であるMOSトランジス
タよりもチャネル長の長いMOSトランジスタで構成し
てなることを特徴とする半導体集積回路。
7. A semiconductor integrated circuit which converts a serial signal into a parallel signal and then performs signal processing, wherein a MOS element which is an element forming a circuit section for processing a serial signal is an element forming a circuit section for processing a parallel signal. A semiconductor integrated circuit comprising a MOS transistor having a channel length longer than that of a transistor.
【請求項8】 シリアル信号をパラレル信号に変換した
上で信号処理を行う半導体集積回路において、パラレル
信号を処理する回路部を構成する素子に供給するバイア
ス電圧をシリアル信号を処理する回路部を構成する素子
に供給するバイアス電圧よりも低電圧としてなることを
特徴とする半導体集積回路。
8. A semiconductor integrated circuit for converting a serial signal into a parallel signal and performing signal processing, wherein the circuit section for processing a serial signal is a bias voltage supplied to an element forming a circuit section for processing a parallel signal. The semiconductor integrated circuit is characterized in that the voltage is lower than the bias voltage supplied to the element.
【請求項9】 シリアル信号をパラレル信号に変換した
上で信号処理を行う半導体集積回路において、パラレル
信号を処理する回路部を構成する素子の出力のキャパシ
タンス(寄生容量)をシリアル信号を処理する回路部を
構成する素子の出力のキャパシタンス(寄生容量)より
も大きく形成してなることを特徴とする半導体集積回
路。
9. A semiconductor integrated circuit for converting a serial signal into a parallel signal and performing signal processing, wherein the output capacitance (parasitic capacitance) of an element constituting a circuit unit for processing the parallel signal is a circuit for processing the serial signal. A semiconductor integrated circuit, which is formed to have a larger capacitance than the output capacitance (parasitic capacitance) of the elements forming the unit.
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