JPH08112762A - Thick film pattern forming method - Google Patents

Thick film pattern forming method

Info

Publication number
JPH08112762A
JPH08112762A JP24901694A JP24901694A JPH08112762A JP H08112762 A JPH08112762 A JP H08112762A JP 24901694 A JP24901694 A JP 24901694A JP 24901694 A JP24901694 A JP 24901694A JP H08112762 A JPH08112762 A JP H08112762A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
pattern forming
pattern
thick film
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24901694A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sakurako Hatori
桜子 羽鳥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP24901694A priority Critical patent/JPH08112762A/en
Publication of JPH08112762A publication Critical patent/JPH08112762A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Printing Methods (AREA)

Abstract

PURPOSE: To form a pattern forming layer of flat film surface in a desired part on a substrate, so that on this pattern forming layer, a good mask layer can be provided, in the case of forming a thick film pattern by a sandblast method. CONSTITUTION: In a thick film pattern forming method forming a pattern forming layer on a substrate, providing on this pattern forming layer a mask layer of desired pattern having sandblast resistance, performing a sandblast process through the mask layer, thereafter removing the mask layer, and forming an aimed thick film pattern, by using a paste of high viscosity in a lower layer part and a paste of low viscosity in an upper layer part, the pattern forming layer is formed by lap screen printing. When printed the lower layer part, an irregularity part is generated in a surface by a thin seam of a screen print, but by laminating the paste of low viscosity from above the irregularity part, it is buried to provide flatness.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル、液晶表示装置、蛍光表示装置、混成集積回路等
の製造工程における厚膜パターン形成方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming a thick film pattern in a manufacturing process of a plasma display panel, a liquid crystal display device, a fluorescent display device, a hybrid integrated circuit and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ガラスやセラミック等の基板上に
セラミック材料で厚膜パターンを形成する方法の一つと
して、サンドブラスト加工による方法が知られている。
すなわち、基板上に形成したパターン形成層の上にレジ
スト層を形成し、露光、現像を行うことで所望パターン
のマスク層を形成し、このマスク層を介してサンドブラ
スト処理を施した後、剥離剤等を用いてマスク層の除去
を行うことにより目的とする厚膜パターンを得るもので
ある。そして、このパターン形成層は、スクリーン印刷
法或いはブレードコート法で形成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as one of methods for forming a thick film pattern on a substrate such as glass or ceramic with a ceramic material, a method by sandblasting is known.
That is, a resist layer is formed on a pattern forming layer formed on a substrate, a mask layer having a desired pattern is formed by performing exposure and development, and a sandblasting treatment is performed through the mask layer, and then a release agent is used. The target thick film pattern is obtained by removing the mask layer using the above method. Then, this pattern forming layer is formed by a screen printing method or a blade coating method.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、パター
ン形成層をスクリーン印刷法で形成する場合、従来は1
種類の粘度のペーストを使用しているため、重ね刷りし
て積層していくとスクリーン版の紗の目により膜厚の差
ができ、上層部ではこの膜厚差が大きくなり表面に段差
が生じて平坦な膜面が得られなかった。このため、サン
ドブラストによりパターンを形成するための耐サンドブ
ラスト性を有するマスク層の形成が良好に行えなかっ
た。一方、パターン形成層をブレードコート法により形
成すると、表面は平坦な膜面が得られるため、良好なマ
スク層を設けることはできるが、基板全面にしか塗布す
ることができず、スクリーン印刷のように一部分のみに
形成することができないため、余分なところにもパター
ン形成層を形成してしまい、ムダが多く作業性が悪いと
いった問題点がある。
However, when the pattern forming layer is formed by the screen printing method, the conventional method is 1
Since pastes with different viscosities are used, when the layers are overprinted and laminated, a difference in the film thickness can occur due to the gauze of the screen plate. No flat film surface was obtained. Therefore, the mask layer having sandblast resistance for forming a pattern by sandblast cannot be formed well. On the other hand, when the pattern forming layer is formed by the blade coating method, a flat film surface is obtained, so that a good mask layer can be provided, but it can be applied only to the entire surface of the substrate, and thus it is possible to apply it like screen printing. In addition, since it cannot be formed in only a part, a pattern forming layer is formed in an extra place, resulting in a lot of waste and poor workability.

【0004】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであり、サンドブラスト法で厚膜パターンを形成
するに際し、基板上の所望の場所に平坦な膜面のパター
ン形成層を形成してその上に良好なマスク層を設けるこ
とのできる厚膜パターン形成方法を提供することを目的
とする。
The present invention has been made in view of the above problems. When forming a thick film pattern by a sandblast method, a pattern forming layer having a flat film surface is formed at a desired position on a substrate. An object of the present invention is to provide a thick film pattern forming method capable of providing a good mask layer thereon.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の厚膜パターン形成方法は、基板上にパター
ン形成層を形成し、その上に耐サンドブラスト性を有す
る所望パターンのマスク層を設け、該マスク層を介して
サンドブラスト処理を行った後、マスク層を除去して目
的とする厚膜パターンを形成する厚膜パターン形成方法
において、下層部に高粘度のペーストを上層部に低粘度
のペーストを使用してスクリーン印刷の重ね刷りにより
前記パターン形成層を形成することを特徴としている。
In order to achieve the above object, a method of forming a thick film pattern according to the present invention comprises forming a pattern forming layer on a substrate, and forming a mask layer of a desired pattern having sandblast resistance on the pattern forming layer. In the thick film pattern forming method of forming a desired thick film pattern by removing the mask layer after performing sandblasting through the mask layer, a high-viscosity paste is applied to the lower layer as a low-viscosity paste. It is characterized in that the pattern forming layer is formed by screen printing overprinting using a paste having a viscosity.

【0006】上記の高粘度のペーストとしては8万〜1
5万cps.のものを、低粘度のペーストとしては2万
〜4万cps.のものを用いるのが好ましい。なお、こ
こで言う粘度は、リヨン(株)製の「VT−04型」に
て2号ローターを使用して測定を行ったものである。
As the above high-viscosity paste, 80,000-1
50,000 cps. As a low-viscosity paste, 20,000 to 40,000 cps. It is preferred to use In addition, the viscosity here is measured using a No. 2 rotor with "VT-04 type" manufactured by Lyon Co., Ltd.

【0007】[0007]

【作用】上述の構成からなる厚膜パターン形成方法で
は、高粘度のペーストを用いてパターン形成層の下層部
をスクリーン印刷した時にスクリーン版の紗の目により
表面に凹凸部が生じるが、その上からスクリーン印刷に
より低粘度のペーストを積層することにより、下層部表
面の凹凸部に低粘度ペーストが埋まり、平坦なパターン
形成層の膜を形成できる。
In the thick film pattern forming method having the above-mentioned structure, when the lower layer portion of the pattern forming layer is screen-printed using a high-viscosity paste, unevenness occurs on the surface due to the mesh of the screen plate. By laminating a low-viscosity paste by screen printing, the low-viscosity paste is embedded in the irregularities on the surface of the lower layer, and a flat pattern forming layer film can be formed.

【0008】[0008]

【実施例】【Example】

(実施例)まず、ガラス製の基板の上に10万cps.
のガラスペーストを用いてスクリーン印刷により5〜8
層積層した。続いて、4万cps.のガラスペーストを
用いてスクリーン印刷により1〜2層積層することで、
スクリーン版の紗の目による段差の見られない150μ
m厚の平坦な膜面のパターン形成層を形成した。
(Example) First, 100,000 cps.
5-8 by screen printing using the glass paste of
The layers were laminated. Subsequently, 40,000 cps. By laminating 1-2 layers by screen printing using the glass paste of
150μ with no visible steps due to the gauze on the screen
A pattern forming layer having a flat film surface having a thickness of m was formed.

【0009】次に、サンドブラスト用のマスク層を形成
するために、パターン形成層の上にドライフィルム或い
は液状レジストでレジスト層を形成する。本実施例では
ドライフィルムを使用し、パターン形成層の上にラミネ
ートしてから照射量70mJ/cm2 で露光し、Na2
CO3 1wt%水溶液で現像することで、耐サンドブラ
スト性を有する所望パターンのマスク層を得ることがで
きた。
Next, in order to form a mask layer for sandblasting, a resist layer is formed on the pattern forming layer with a dry film or a liquid resist. In this embodiment, a dry film is used, laminated on the pattern forming layer, and then exposed to a dose of 70 mJ / cm 2 for irradiation with Na 2
By developing with a 1 wt% CO 3 aqueous solution, a mask layer having a desired pattern having sandblast resistance could be obtained.

【0010】次いで、研磨材としてアルミナ#1000
を用い、噴射圧力3kgf/cm2でサンドブラスト処
理を行った後、レジスト層をNaOH3%水溶液を用い
て剥離することで所望の厚膜パターンを得ることができ
た。
Next, alumina # 1000 is used as an abrasive.
After performing sand blasting treatment with a spraying pressure of 3 kgf / cm 2 , the resist layer was peeled off using a 3% aqueous solution of NaOH, whereby a desired thick film pattern could be obtained.

【0011】(比較例)ガラス製の基板上に8万cp
s.のガラスペーストを用いてスクリーン印刷により6
〜8層積層してパターン形成層を形成した。この従来方
法だとスクリーン版の紗の目による段差が、大きいとこ
ろでは20μm近くできてしまうためにレジスト膜とペ
ーストとの密着状態が悪く、パターン形成層上に良好な
レジスト膜が形成できず、所望とするマスク層の形成が
できなかった。
Comparative Example 80,000 cp on a glass substrate
s. 6 by screen printing using the glass paste of
-8 layers were laminated to form a pattern forming layer. With this conventional method, the step due to the gauze of the screen plate is close to 20 μm in a large area, so that the adhesion state between the resist film and the paste is poor, and a good resist film cannot be formed on the pattern forming layer. The desired mask layer could not be formed.

【0012】[0012]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の厚膜パタ
ーン形成方法によれば、サンドブラスト法で厚膜パター
ンを形成するに際し、下層部に高粘度のペーストを上層
部に低粘度のペーストを使用してスクリーン印刷の重ね
刷りでパターン形成層を形成するようにしたので、下層
部を印刷した時に生じる表面の凹凸が上層部の低粘度ペ
ーストにより埋まることにより平坦なパターン形成層が
得られ、したがってその上に良好なマスク層を形成する
ことができる。
As described above, according to the thick film pattern forming method of the present invention, when the thick film pattern is formed by the sandblast method, the high viscosity paste is used as the lower layer and the low viscosity paste is used as the upper layer. Since it was used to form the pattern forming layer by screen printing overprinting, a flat pattern forming layer can be obtained by filling the unevenness of the surface generated when printing the lower layer portion with the low viscosity paste of the upper layer portion, Therefore, a good mask layer can be formed thereon.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にパターン形成層を形成し、その
上に耐サンドブラスト性を有する所望パターンのマスク
層を設け、該マスク層を介してサンドブラスト処理を行
った後、マスク層を除去して目的とする厚膜パターンを
形成する厚膜パターン形成方法において、下層部に高粘
度のペーストを上層部に低粘度のペーストを使用してス
クリーン印刷の重ね刷りにより前記パターン形成層を形
成することを特徴とする厚膜パターン形成方法。
1. A pattern forming layer is formed on a substrate, a mask layer having a desired pattern having sandblast resistance is provided on the pattern forming layer, sandblasting is performed through the mask layer, and then the mask layer is removed. In the thick film pattern forming method for forming a desired thick film pattern, forming the pattern forming layer by overprinting of screen printing using a high viscosity paste in the lower layer part and a low viscosity paste in the upper layer part. A featured method for forming a thick film pattern.
JP24901694A 1994-10-14 1994-10-14 Thick film pattern forming method Pending JPH08112762A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24901694A JPH08112762A (en) 1994-10-14 1994-10-14 Thick film pattern forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24901694A JPH08112762A (en) 1994-10-14 1994-10-14 Thick film pattern forming method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08112762A true JPH08112762A (en) 1996-05-07

Family

ID=17186758

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24901694A Pending JPH08112762A (en) 1994-10-14 1994-10-14 Thick film pattern forming method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08112762A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008235641A (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ceramic multilayer board manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008235641A (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ceramic multilayer board manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2000048218A1 (en) Plasma display panel, method and device for production therefor
JP2001138482A (en) Method and apparatus for transferring three- dimensional structure
JPH05205640A (en) Method for forming envelope support
JPH08112762A (en) Thick film pattern forming method
JPH08112763A (en) Thick film pattern forming method
JPH1040808A (en) Thick-film pattern forming method
JP3229722B2 (en) Method for forming barrier of plasma display panel
JP2001287473A (en) Letterpress for forming thick film pattern, method for forming thick film pattern using it and manufacturing method of letterpress for forming thick film pattern
JP3279754B2 (en) Method for forming barrier of plasma display panel
JPH0929639A (en) Method for forming thick film pattern
JPH0745191A (en) Barrier forming method of plasma display panel
JPH08222135A (en) Manufacture of plasma display panel
JPH1092775A (en) Thick film pattern forming method
JP3963537B2 (en) Method for forming barrier of plasma display panel
JP3033356B2 (en) Anode substrate manufacturing method
JP2006053573A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
JP2008262877A (en) Manufacturing method of back plate for plasma display panel
JP2001246716A (en) Apparatus for manufacturing laminate
JP3636845B2 (en) Method for forming fine barrier ribs
KR20010004314A (en) Method for forming barrier rib and fluorescent layer of plasma display panel
JPH11306967A (en) Barrier forming method for plasma display panel
JPH04282531A (en) Manufacture of gas discharge type display panel
KR20000055634A (en) Fabricating Method of Barrier Rib for Plasma Display Panel
JPH10118563A (en) Formation of thick film pattern
JPH0136996B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040427