JPH0787035B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH0787035B2
JPH0787035B2 JP63011257A JP1125788A JPH0787035B2 JP H0787035 B2 JPH0787035 B2 JP H0787035B2 JP 63011257 A JP63011257 A JP 63011257A JP 1125788 A JP1125788 A JP 1125788A JP H0787035 B2 JPH0787035 B2 JP H0787035B2
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pair
line pair
potential
sub
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尋史 篠阪
勝己 堂原
康弘 小西
隆宏 小松
宏之 山▲崎▼
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は半導体記憶装置に関し、特にアクセス時間を
大幅に短縮することができ、高速読出動作を実現するこ
とのできる半導体記憶装置の構成に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a structure of a semiconductor memory device capable of significantly shortening access time and realizing a high-speed read operation.

[従来の技術] 近年たとえばダイナミック型MOSRAM(MOSトランジスタ
を用いたランダム・アクセス・メモリ)等の高集積メモ
リ装置においては、その高集積化とともに、アクセス時
間(データ読出に要する時間)を大幅に短縮することに
より、読出動作を高速化することが望まれている。
[Prior Art] In a highly integrated memory device such as a dynamic MOSRAM (random access memory using a MOS transistor) in recent years, the access time (the time required for data reading) is significantly shortened with the high integration. By doing so, it is desired to speed up the read operation.

第4図は従来のダイナミック・ランダム・アクセス・メ
モリ(以下、DRAMと称す)における1対のビット線にお
けるメモリセルおよびセンスアンプ構造の一例を概念的
に簡単化して示す図である。第4図において、ビット線
BL,▲▼は対をなし、折返しビット線対を構成す
る。すなわち、ビット線BL,▲▼上には互いに相補
な信号が現われることになる。ビット線BL,▲▼と
直交する方向に複数のワード線が設けられる。但し、第
4図においては、1本のワード線WLのみが代表的に示さ
れる。ワード線とビット線との交点にはメモリセルが設
けられ、メモリセルは行および列状に配列される。また
図においては、ビット線BLとワード線WLとの交点に設け
られる1個のメモリセル1のみが代表的に示される。メ
モリセル1は1トランジスタ・1キャパシタ型の構成を
有し、情報を記憶するメモリ容量C0と、ワード線WL上に
与えられる信号に応答してオン状態となり、メモリセル
容量C0をビット線BLへ接続するNチャネルMIS(金属−
絶縁膜−半導体)トランジスタQ0とを備える。
FIG. 4 is a diagram conceptually showing an example of a memory cell and sense amplifier structure in a pair of bit lines in a conventional dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM) in a simplified manner. In FIG. 4, bit lines
BL and ▲ ▼ form a pair to form a folded bit line pair. That is, mutually complementary signals appear on the bit line BL, ▲ ▼. A plurality of word lines are provided in the direction orthogonal to the bit lines BL, ▲ ▼. However, in FIG. 4, only one word line WL is representatively shown. Memory cells are provided at the intersections of the word lines and the bit lines, and the memory cells are arranged in rows and columns. Further, in the figure, only one memory cell 1 provided at the intersection of the bit line BL and the word line WL is representatively shown. The memory cell 1 has a one-transistor / one-capacitor type configuration, and is turned on in response to a memory capacity C0 for storing information and a signal provided on the word line WL, and the memory cell capacity C0 is transferred to the bit line BL. N channel MIS (metal-
(Insulating film-semiconductor) transistor Q0.

ビット線対BL,▲▼上の信号電位差を増幅するため
に、フリップフロップ型のセンスアンプ2,3が設けられ
る。センスアンプ2はNチャネルMISトランジスタQ1,Q2
から構成され、低電位側のビット線電位を接地電位に放
電する。MISトランジスタQ1のゲートはビット線BLに接
続され、ドレインはビット線▲▼に接続される。MI
SトランジスタQ2のゲートがビット線▲▼に接続さ
れ、ドレインがビット線BLに接続される。MISトランジ
スタQ1,Q2のソースはノードN1に接続される。ノードN1
にはセンスアンプ活性化信号S0に応答してセンスアンプ
2を活性化するセンスアンプ活性化手段4が接続され
る。センスアンプ活性化手段4はセンスアンプ活性化信
号S0に応答してオン状態となり、ノードN1を接地電位に
接続するnチャネルMISトランジスタQ5から構成され
る。
Flip-flop type sense amplifiers 2 and 3 are provided in order to amplify the signal potential difference on the bit line pair BL and ▲ ▼. The sense amplifier 2 is an N-channel MIS transistor Q1, Q2
And discharges the bit line potential on the low potential side to the ground potential. The MIS transistor Q1 has a gate connected to the bit line BL and a drain connected to the bit line ▲ ▼. MI
The gate of the S transistor Q2 is connected to the bit line ▲ ▼, and the drain is connected to the bit line BL. The sources of the MIS transistors Q1 and Q2 are connected to the node N1. Node N1
A sense amplifier activating means 4 for activating the sense amplifier 2 in response to the sense amplifier activating signal S0 is connected to. The sense amplifier activating means 4 is turned on in response to the sense amplifier activating signal S0 and comprises an n-channel MIS transistor Q5 connecting the node N1 to the ground potential.

センスアンプ3は、pチャネルMISトランジスタQ3,Q4と
から構成され、センスアンプ活性化手段5からの信号に
応答して活性化され、高電位側のビット線電位を電源電
位Vccに充電する。MISトランジスタQ3のゲートはビット
線BLに接続され、MISトランジスタQ4のゲートはビット
線▲▼に接続される。MISトランジスタQ3,Q4の一方
導通端子はビット線▲▼,BLにそれぞれ接続され、
他方導通端子は共通にノードN2に接続される。ノードN2
はセンスアンプ活性化手段5出力が伝達される。センス
アンプ活性化手段5は、センスアンプ活性化信号▲
▼に応答してオン状態となり、ノードN2へ電源電位Vcc
を伝達するpチャネルMISトランジスタQ6から構成され
る。
The sense amplifier 3 is composed of p-channel MIS transistors Q3 and Q4, is activated in response to a signal from the sense amplifier activating means 5, and charges the bit line potential on the high potential side to the power supply potential Vcc. The gate of MIS transistor Q3 is connected to bit line BL, and the gate of MIS transistor Q4 is connected to bit line ▲ ▼. One of the conduction terminals of the MIS transistors Q3 and Q4 is connected to the bit lines ▲ ▼ and BL, respectively.
On the other hand, the conduction terminals are commonly connected to the node N2. Node N2
The output of the sense amplifier activating means 5 is transmitted. The sense amplifier activation means 5 has a sense amplifier activation signal ▲
In response to ▼, it is turned on and the power supply potential Vcc is applied to node N2.
Is formed of a p-channel MIS transistor Q6 for transmitting the signal.

イコライズ信号EQに応答してビット線対BL,▲▼上
の電位をプリチャージしかつイコライズするためにプリ
チャージ/イコライズ手段6が設けられる。イコライズ
/プリチャージ手段6は、イコライズ信号EQに応答して
オン状態となり、ビット線対BL,▲▼を電気的に短
絡するイコライズ用NチャネルMISトランジスタQ7と、
イコライズ信号EQに応答してプリチャージ電位VBLをビ
ット線BL上へ伝達するプリチャージ用NチャネルMISト
ランジスタQ8と、イコライズ信号EQに応答してオン状態
となり、プリチャージ電位VBLをビット線▲▼上へ
伝達するプリチャージ用NチャネルMISトランジスタQ9
とから構成される。通常プリチャージ電位VBLは内部電
圧発生回路により発生され、所定の電位(たとえば電源
電圧Vccの半分、すなわちVcc/2の電位)に設定されてい
る。
Precharge / equalize means 6 is provided for precharging and equalizing the potentials on the bit line pair BL, {circle around (1)} in response to the equalize signal EQ. The equalizing / precharging means 6 is turned on in response to the equalizing signal EQ and electrically shorts the bit line pair BL, ▲ ▼, and an equalizing N-channel MIS transistor Q7.
The precharge N-channel MIS transistor Q8 which transmits the precharge potential V BL onto the bit line BL in response to the equalize signal EQ, and the ON state in response to the equalize signal EQ, and the precharge potential V BL changes to the bit line ▲ ▼ N9 MIS transistor for precharge to be transmitted to the top MIS transistor Q9
Composed of and. Normally, precharge potential V BL is generated by an internal voltage generating circuit and set to a predetermined potential (for example, half of power supply voltage Vcc, that is, Vcc / 2 potential).

さらに、各ビット線BL,▲▼にはコラムデコーダ
(図示せず)からのビット線対選択信号(コラムデコー
ド信号)Yに応答してオン状態となり、ビット線BL,▲
▼をデータ入出力バスI/O,▲▼へ接続するた
めのNチャネルMISトランジスタQ10,Q11がそれぞれ設け
られる。データ入出力バス対I/O,▲▼は通常、ク
ロック信号CLKに応答してオン状態となるNチャネルMIS
トランジスタQ22,Q23により所定電位V′BLにプリチャ
ージされる。データ入出力バス対I/O,▲▼は入出
力バッファを介してデータのやりとりを行なう。
Further, each bit line BL, ▲ ▼ is turned on in response to a bit line pair selection signal (column decode signal) Y from a column decoder (not shown), and the bit line BL, ▲
N channel MIS transistors Q10 and Q11 are provided for connecting ▼ to the data input / output bus I / O and ▲ ▼, respectively. Data input / output bus pair I / O, ▲ ▼ are normally N-channel MIS that are turned on in response to the clock signal CLK.
The transistors Q22, Q23 are precharged to a predetermined potential V 'BL. The data input / output bus pair I / O, ▲ ▼ exchanges data via the input / output buffer.

第5図は第4図に示される半導体記憶装置の動作を示す
信号波形図であり、第4図に示される信号と同一の符号
はそれぞれの信号の波形を示している。以下、第4図お
よび第5図を参照して従来の半導体記憶装置の動作につ
いて説明する。
FIG. 5 is a signal waveform diagram showing the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 4, and the same symbols as the signals shown in FIG. 4 show the waveforms of the respective signals. The operation of the conventional semiconductor memory device will be described below with reference to FIGS. 4 and 5.

時刻T1においてイコライズ信号EQがハイレベルからロー
レベルに低下すると、MISトランジスタQ7,Q8,Q9がとも
にオフ状態となり、ビット線BL,▲▼のプリチャー
ジおよびイコライズ動作が終了し、ビット線BL,▲
▼はフローティング状態となる。
At time T1, when the equalizing signal EQ falls from high level to low level, the MIS transistors Q7, Q8, Q9 are turned off, the precharge and equalizing operations of the bit line BL, ▲ ▼ are completed, and the bit line BL, ▲
▼ is in a floating state.

時刻T2において、外部アドレスに応答して、1本のワー
ド線WLが選択されると、選択されたワード線WLの電位が
上昇し始める。これに応答して、選択されたワード線WL
に接続されるメモリセル1のトランジスタQ0がオン状態
となり、メモリセル1の有する情報に応じて信号電位変
化かビット線BL,▲▼上に生じる。ここで第5図に
おいては、メモリセル1が情報“1"を記憶している場合
のビット線上の信号電位変化が実線で示され、メモリセ
ル1が情報“0"を有する場合のビット線上の信号電位変
化が破線で示されている。
At time T2, when one word line WL is selected in response to the external address, the potential of the selected word line WL starts to rise. In response, the selected word line WL
The transistor Q0 of the memory cell 1 connected to is turned on, and a signal potential change occurs on the bit line BL, {circle around (▼)} according to the information of the memory cell 1. Here, in FIG. 5, the signal potential change on the bit line when the memory cell 1 stores the information “1” is shown by a solid line, and on the bit line when the memory cell 1 has the information “0”. The change in signal potential is indicated by the broken line.

ビット線対BL,▲▼上の読出信号電位が確定する
と、時刻T3においてセンスアンプ活性化信号S0,▲
▼がそれぞれ上昇、下降し始める。これにより、MISト
ランジスタQ5,Q6がオン状態となり、ノードN1は接地電
位、ノードN2は電源電位Vccにそれぞれ充放電される。
この結果、フリップフロップ型センスアンプ2,3が共に
活性化されてビット線BL,▲▼のうち高電位側のビ
ット線BLの電位はセンスアンプ3を介して電源電位Vcc
にまで充電され、一方低電位側のビット線▲▼はセ
ンスアンプ2を介して接地電位にまで放電される。すな
わちセンスアンプ2,3が活性化されることによりビット
線対BL,▲▼上に生じていた微小な信号電位差が増
幅されたことになる。
When the read signal potential on the bit line pair BL, ▲ ▼ is fixed, at time T3, the sense amplifier activation signal S0, ▲
▼ starts to rise and fall respectively. As a result, the MIS transistors Q5 and Q6 are turned on, the node N1 is charged and discharged to the ground potential, and the node N2 is charged and discharged to the power supply potential Vcc.
As a result, the flip-flop type sense amplifiers 2 and 3 are both activated and the potential of the bit line BL on the higher potential side of the bit lines BL and ▲ ▼ is supplied to the power source potential Vcc via the sense amplifier 3.
, While the bit line (1) on the low potential side is discharged to the ground potential via the sense amplifier 2. That is, the sense amplifiers 2 and 3 are activated, so that the minute signal potential difference generated on the bit line pair BL, (3) is amplified.

センスアンプの増幅動作の後、時刻T4において、コラム
デコーダからのビット線対選択信号(コラムデコード信
号)Yがハイレベルとなると、MISトランジスタQ10,Q11
がオン状態となり、ビット線BL,▲▼上の電位がデ
ータ入出力バスI/O,▲▼上にそれぞれ伝達され
る。このデータ入出力バスI/O,▲▼上に伝達され
た電位は、その後図示しないプリアンプ等の増幅手段に
より増幅された後データ出力バッファ、外部出力端子
(図示せず)を介して外部に伝達される。
After the amplifying operation of the sense amplifier, at time T4, when the bit line pair selection signal (column decode signal) Y from the column decoder becomes high level, the MIS transistors Q10, Q11
Is turned on, and the potential on the bit line BL, ▲ ▼ is transmitted to the data input / output bus I / O, ▲ ▼, respectively. The potential transmitted on this data input / output bus I / O, ▲ ▼ is then amplified by amplification means such as a preamplifier (not shown) and then transmitted to the outside through a data output buffer and an external output terminal (not shown). To be done.

データの外部端子への伝達が終了すると、時刻T5におい
てワード線WLの電位がハイレベルからローレベルに低下
し、ビット線対選択信号Yのレベルもハイレベルからロ
ーレベルに低下する。これによりデータ入出力バス対I/
O,▲▼上の電位はプリチャージ電位に戻る。
When the transmission of the data to the external terminal is completed, the potential of the word line WL drops from the high level to the low level at time T5, and the level of the bit line pair selection signal Y also drops from the high level to the low level. This allows data I / O bus pair I /
The potential above O, ▲ ▼ returns to the precharge potential.

次に時刻T6において、センスアンプ活性化信号S0,▲
▼がハイレベルからローレベル、ローレベルからハイ
レベルへとそれぞれ移行し、センスアンプ2,3が共に不
活性状態とされる。このときまたイコライズ信号EQがハ
イレベルとなり、プリチャージ/イコライズ手段6が活
性され、ビット線BL,▲▼上の電位が所定の電位VBL
にプリチャージされ、かつ各ビット線対BL,▲▼電
位がイコライズされる。
Next, at time T6, the sense amplifier activation signal S0, ▲
▼ changes from high level to low level and from low level to high level, respectively, and the sense amplifiers 2 and 3 are both inactivated. At this time, the equalize signal EQ becomes high level again, the precharge / equalize means 6 is activated, and the potential on the bit lines BL, ▲ ▼ is set to the predetermined potential V BL.
Is precharged, and each bit line pair BL, ▲ ▼ potential is equalized.

上述の動作がデータ読出時における動作の概略である。
一方データ書込動作においては、信号波形のタイミング
は第5図に示されるものと同様であり、データの流れが
読出時と逆方向になり、データ入力バッファ→データ入
出力バス対→選択されたメモリセルとなる。すなわち、
データ書込バッファ(図示せず)により外部から与えら
れる書込データが相補の形(たとえばDIN,▲▼)
でデータ入出力バスI/O,▲▼上に伝達される。時
刻T1からT3までの動作シーケンスを経た後に、時刻T4に
おいてビット線選択信号Yがローレベルからハイレベル
になると、MISトランジスタQ10,Q11がオン状態となり、
データ入出力バス対I/O,▲▼上の信号電位が選択
されたメモリセルへ伝達されることになり、これにより
書込が行なわれたことになる。このとき、センスアンプ
2,3も時刻T3において活性化されておりワード線WLのハ
イレベルへの移行により、ビット線BL,▲▼上の信
号電位を増幅しているが、外部からのデータ入力バッフ
ァにより、データ入出力バスI/O,▲▼上に書込デ
ータが伝達されているため、たとえセンスアンプ2,3に
より増幅された信号レベルと書込データの信号電位レベ
ルが逆であっても、書込データに応じて信号電位がビッ
ト線BL,▲▼上に現われることになり、これにより
書込データの選択メモリセルへの書込がオン状態のMIS
トランジスタQ0を介して行なわれることになる。
The above operation is an outline of the operation at the time of reading data.
On the other hand, in the data write operation, the timing of the signal waveform is the same as that shown in FIG. 5, the data flow is in the opposite direction to that in the read, and the data input buffer → data input / output bus pair → selected. It becomes a memory cell. That is,
Write data externally supplied by a data write buffer (not shown) has a complementary form (for example, D IN , ▲ ▼)
Is transmitted on the data input / output bus I / O, ▲ ▼. When the bit line selection signal Y changes from low level to high level at time T4 after the operation sequence from time T1 to T3, the MIS transistors Q10 and Q11 are turned on,
The signal potential on the data input / output bus pair I / O, ▲ ▼ is transmitted to the selected memory cell, which means that writing is performed. At this time, the sense amplifier
2 and 3 are also activated at time T3, and the signal potential on the bit line BL, ▲ ▼ is amplified by the transition of the word line WL to the high level. Since the write data is transmitted on the output bus I / O, ▲ ▼, even if the signal level amplified by the sense amplifiers 2 and 3 and the signal potential level of the write data are opposite, Signal potential appears on the bit line BL, ▲ ▼ in response to this, and this causes the write data to be written to the selected memory cell in the ON state of the MIS.
This will be done through transistor Q0.

[発明が解決しようとする課題] 上述のように、従来の半導体記憶装置の構成において
は、データの読出と書込とが同一のデータ入出力バス対
I/O,▲▼を介して行なわれているので、データ読
出の際にも、ビット線対BL,▲▼とデータ入出力バ
ス対I/O,▲▼がMISトランジスタQ10,Q11を介して
接続される。高速読出のためには、このビット線対とデ
ータ入出力バス対との接続をできるだけ早く行なうこと
が好ましい。しかしながら、たとえばワード線WLの立上
がり時間T2からセンスアンプ2,3が活性化されるセンス
開始時間T3の間にこのビット線対とデータ入出力バス対
との接続を行なった場合、データ入出力バスの有する負
荷容量がビット線に加わるので、ビット線上の読出信号
レベルが低下し、センスアンプが確実なセンス動作を行
なうことができなくなり、場合によっては誤動作が生じ
るおそれがある。したがって、ビット線対とデータ入出
力バス対との接続は、センスアンプ2,3が活性化され、
ビット線対BL,▲▼上の信号電位が確定した後に行
なう必要があり、データ読出時における選択ビット線対
とデータ入出力バス対との接続を時刻T3以前に行なうこ
とができない。このため、読出動作の高速化を図る上で
限界があり、アクセス時間をより短縮することが困難で
あるという問題があった。すなわちデータ読出と書込と
を同一のデータ入出力バス対を用いて行なう構成の場合
には、データ読出時のアクセス時間の短縮が困難である
という問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, in the configuration of the conventional semiconductor memory device, the data input / output bus pair in which data reading and data writing are the same.
Since it is done via I / O, ▲ ▼, the bit line pair BL, ▲ ▼ and the data input / output bus pair I / O, ▲ ▼ also pass through the MIS transistors Q10, Q11 when reading data. Connected. For high-speed reading, it is preferable to connect the bit line pair and the data input / output bus pair as soon as possible. However, if the bit line pair and the data input / output bus pair are connected between the rise time T2 of the word line WL and the sense start time T3 when the sense amplifiers 2 and 3 are activated, the data input / output bus Since the load capacitance included in the bit line is added to the bit line, the read signal level on the bit line is lowered, and the sense amplifier cannot perform a reliable sensing operation, which may cause malfunction. Therefore, for the connection between the bit line pair and the data input / output bus pair, the sense amplifiers 2 and 3 are activated,
This must be done after the signal potential on the bit line pair BL, ▲ ▼ has been determined, and the connection between the selected bit line pair and the data input / output bus pair during data reading cannot be done before time T3. Therefore, there is a limit in increasing the speed of the read operation, and it is difficult to further shorten the access time. That is, in the case of a configuration in which the same data input / output bus pair is used for data reading and writing, there is a problem that it is difficult to shorten the access time during data reading.

それゆえ、この発明の目的は上述のような従来の半導体
記憶装置の有する問題を除去し、アクセス時間を大幅に
短縮することができ、高速読出を達成することのできる
半導体記憶装置を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to eliminate the problems of the conventional semiconductor memory device as described above, to significantly shorten the access time, and to provide a semiconductor memory device capable of achieving high-speed reading. Is.

[課題を解決するための手段] この発明に係る半導体記憶装置は、読出専用のデータ線
対と書込専用のデータ線対とを別々に設け、読出専用デ
ータ線対を、各々が、所定数のビット線対に共通に設け
られる複数の副データ線対と、複数の副データ線対に共
通に設けられる1対の主データ線対とから構成し、各ビ
ット線対と副データ線対との間に、副データ線対を出力
ノードとし、ビット線対電位をその入力信号とする読出
用増幅器を設けたものである。この読出用増幅器はコラ
ムデータ出力により活性化される。差動増幅型増幅器
は、各ビット線対に対して配置される駆動回路手段と、
各副読出データ線対に対応して配置されて対応の副読出
データ線対に電流を供給する好ましくはカレントミラー
型回路で構成される電流負荷回路手段とを備える。駆動
回路手段は、各ビット線対上のビット線の電位に応じて
そのコンダクタンスが変化する1対の可変コンダクタン
ス素子と、これら1対の可変コンダクタンス素子それぞ
れと直列に接続され、導通時1対の可変コンダクタンス
素子と自身を介して第1の電位と対応の副読出データ線
対との間に電流経路を形成する1対の活性化素子を備え
る。
[Means for Solving the Problem] In the semiconductor memory device according to the present invention, a read-only data line pair and a write-only data line pair are separately provided, and each read-only data line pair has a predetermined number. Each of the bit line pairs and a plurality of sub data line pairs and a pair of main data line pairs commonly provided to the plurality of sub data line pairs. A read amplifier using the sub-data line pair as an output node and the bit line pair potential as its input signal is provided between the two. This read amplifier is activated by the column data output. The differential amplification type amplifier includes drive circuit means arranged for each bit line pair,
And a current load circuit means which is arranged corresponding to each sub-read data line pair and supplies a current to the corresponding sub-read data line pair, preferably a current mirror circuit. The drive circuit means is connected in series with each of the pair of variable conductance elements whose conductance changes according to the potential of the bit line on each bit line pair, and is connected in series with each of the pair of variable conductance elements. A variable conductance element and a pair of activation elements forming a current path between the first potential and the corresponding sub-read data line pair via the variable conductance element.

[作用] 読出用増幅器は、選択ビット線上の微小信号電位差をビ
ット線電位に悪影響を及ぼすことなく高速で増幅し、出
力ノード(副データ線対)を介して主データ線対に伝達
する。したがって、センスアンプ活性化前に、主データ
線上に選択メモリセルの情報を確実に読出すことがで
き、データ読出時におけるアクセス時間の大幅な短縮が
可能となる。また、副読出データ線対にそれぞれ好まし
くはカレントミラー回路で構成される電流供給手段を設
けることにより、この電流供給手段の負荷を軽減するこ
とができ、高速で副読出データ線対のデータを増幅する
ことができる。
[Operation] The read amplifier amplifies a minute signal potential difference on the selected bit line at high speed without adversely affecting the bit line potential, and transmits it to the main data line pair via the output node (sub data line pair). Therefore, the information of the selected memory cell can be surely read onto the main data line before the sense amplifier is activated, and the access time at the time of data reading can be significantly shortened. Further, by providing each sub-read data line pair with a current supply means, which is preferably formed of a current mirror circuit, the load of the current supply means can be reduced and the data of the sub-read data line pair can be amplified at high speed. can do.

[発明の実施例] 以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。以下の説明において、第4図に示される従来の半
導体記憶装置と同一または相当部分には同一の参照番号
が付されている。
[Embodiment of the Invention] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description, the same or corresponding parts as those of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 4 are designated by the same reference numerals.

第1図はこの発明の一実施例である半導体記憶装置の主
要部の構成を概略的に示す図である。第1図を参照して
ビット線対BL,▲▼には、従来と同様にフリップフ
ロップ型センスアンプ2,3、プリチャージ/イコライズ
回路手段6、1トランジスタ・1キャパシタ型のメモリ
セル1が接続される。また、ビット線対BL,▲▼に
は、コラムデコーダ(図示せず)からのビット線対選択
信号(コラムデコード信号)Yに応答してオン状態とな
るMISトランジスタQ10,Q11が設けられている。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, bit line pair BL, ▲ ▼ is connected to flip-flop type sense amplifiers 2 and 3, precharge / equalize circuit means 1 and one transistor / one capacitor type memory cell 1 as in the conventional case. To be done. The bit line pair BL, ▲ ▼ is provided with MIS transistors Q10, Q11 which are turned on in response to a bit line pair selection signal (column decode signal) Y from a column decoder (not shown). .

また、従来と同様にセンスアンプ2を活性化するための
信号を発生するセンスアンプ活性化用トランジスタQ5、
センスアンプ3を活性化するための信号を発生するセン
スアンプ活性化トランジスタQ6がそれぞれ設けられてい
る。第1図をさらに参照すると、半導体記憶装置のアク
セス時間を短縮化するために、書込データのみを伝送す
るデータ線対と読出データのみを伝達するためのデータ
線対とが別々に設けられる構成となっている。すなわ
ち、データの書込は、データ書込回路から書込専用デー
タ線対IL,▲▼、MISトランジスタQ12,Q13を介して
行なわれ、一方データ読出は読出データ専用副データ線
対OLs,▲▼および読出データ専用主データ線対OL
m,▲▼を介して行なわれる構成となっている。
Further, as in the conventional case, a sense amplifier activating transistor Q5 for generating a signal for activating the sense amplifier 2,
A sense amplifier activating transistor Q6 for generating a signal for activating the sense amplifier 3 is provided. Referring further to FIG. 1, in order to shorten the access time of the semiconductor memory device, a data line pair for transmitting only write data and a data line pair for transmitting only read data are separately provided. Has become. That is, data writing is performed from the data writing circuit through the write-only data line pair IL, ▲ ▼ and MIS transistors Q12 and Q13, while data reading is performed at the read data-only sub data line pair OLs, ▲ ▼. And read data only main data line pair OL
It is configured through m, ▲ ▼.

書込専用データ線対IL,▲▼は、書込指示信号Wに
応答してオン状態となるMISトランジスタQ12,Q13を介し
て選択ビット線対と接続される構成となっている。すな
わち、コラムデコーダ出力Yに応答してオン状態となる
Q10,Q11と書込専用データ線対IL,▲▼との間に、書
込動作時においてのみオン状態となるトランジスタQ12,
Q13がそれぞれ設けられている。
The write-only data line pair IL, ▲ ▼ is connected to the selected bit line pair via the MIS transistors Q12 and Q13 which are turned on in response to the write instruction signal W. That is, it is turned on in response to the column decoder output Y.
Between Q10 and Q11 and the write-only data line pair IL, ▲ ▼, the transistor Q12, which is turned on only during the write operation,
Q13 is provided for each.

データ読出経路としては、ビット線対BL,▲▼上の
信号電位を検知増幅するためにカレントミラー型増幅器
が設けられる。この増幅器はトランジスタQ14〜QQ19か
ら構成され、ビット線対BL,▲▼はその入力ゲート
に接続され、出力ノードが読出専用副データ線対OLs,▲
▼を構成している。
As a data read path, a current mirror type amplifier is provided for detecting and amplifying the signal potential on the bit line pair BL, ▲ ▼. This amplifier is composed of transistors Q14 to QQ19, the bit line pair BL, ▲ ▼ is connected to its input gate, and the output node is a read-only sub data line pair OLs, ▲.
▼ is configured.

より特定的にいえば、カレントミラー型増幅器は、たと
えば電源電位Vccがそを一方導通端子が接続され、その
他方導通端子が副データ線OLsに接続されるPチャネルM
ISトランジスタQ14と、その一方導通端子がたとえば電
源電位Vccに接続され、その他方導通端子がそのゲート
およびトランジスタQ14のゲートに接続されかつ副デー
タ線▲▼に接続されるPチャネルMISトランジス
タQ15と、その一方導通端子が副データ線▲▼に
接続され,そのゲートがビット線BLに接続されるNチャ
ネルMISトランジスタQ16と、その一方導通端子が副デー
タ線OLsに接続され、そのゲートがビット線▲▼に
接続されるNチャネルMISトランジスタQ17と、コラムデ
コーダ(図示せず)からのビット線対選択信号Yに応答
してオン状態となり、トランジスタQ16,Q17の他方導通
端子をともにノードN3を介して接地電位に接続し、この
増幅器を活性化するためのNチャネルMISトランジスタQ
18,Q19とから構成される。
More specifically, the current mirror type amplifier has, for example, a P-channel M whose power supply potential Vcc is connected to one conduction terminal and the other conduction terminal to the sub data line OLs.
An IS transistor Q14, a P-channel MIS transistor Q15 having one conduction terminal connected to the power supply potential Vcc, the other conduction terminal connected to its gate and to the gate of the transistor Q14, and to the sub data line ▲ ▼, An N-channel MIS transistor Q16 having its one conduction terminal connected to the sub data line ▲ ▼ and its gate connected to the bit line BL, and one conduction terminal connected to the sub data line OLs, having its gate connected to the bit line ▲. The N-channel MIS transistor Q17 connected to ▼ and the ON state in response to the bit line pair selection signal Y from the column decoder (not shown) are turned on, and the other conduction terminals of the transistors Q16 and Q17 are both connected via the node N3. N channel MIS transistor Q for connecting to ground potential and activating this amplifier
It consists of 18, Q19.

トランジスタQ16,Q17のゲートの入力インピーダンスは
極めて大きいため、ビット線対BL,▲▼上の信号電
位差に悪影響を何ら及ぼすことなく活性化時には、該ビ
ット線対上の信号電位差を高速で増幅して出力ノード、
すなわち副データ線対OLs,▲▼上に伝達する。こ
こでカレントミラー型回路を用いているのは、低電力損
失性およびその高速動作性ならびにビット線と副データ
線との電気的分離性による。
Since the input impedance of the gates of the transistors Q16, Q17 is extremely large, the signal potential difference on the bit line pair BL, ▲ ▼ is amplified at high speed when activated without any adverse effect on the signal potential difference on the bit line pair BL, ▲ ▼. Output node,
That is, it is transmitted to the sub data line pair OLs, ▲ ▼. The reason why the current mirror type circuit is used here is due to low power loss, high speed operation thereof, and electric isolation between the bit line and the sub data line.

また、第1図からみられるように、副データ線対OLs,▲
▼には、所定数のビット線対7が接続され、1つ
のブロック8を構成している。メモリセルアレイ構成に
おいて、このブロック8が複数個設けられ、各ブロック
8からの出力は共通の読出専用主データOLm,▲▼
に伝達される構成となっている。この構成とすることに
より、出力ノードを構成する副データ線対OLs,▲
▼の負荷容量を小さくすることができ、増幅動作の確実
性および高速性を確保することができる。
Moreover, as seen from FIG. 1, the sub data line pair OLs, ▲
A predetermined number of bit line pairs 7 are connected to ▼ to form one block 8. In the memory cell array structure, a plurality of blocks 8 are provided, and the output from each block 8 is common read-only main data OLm, ▲ ▼.
It is configured to be transmitted to. With this configuration, the sub data line pairs OLs, ▲
The load capacity of ▼ can be reduced, and the reliability and high speed of the amplification operation can be secured.

第2図はこの発明の一実施例である半導体記憶装置の動
作を示す信号波形図であり、第1図に示される符号と同
一の符号は対応する部分の信号電位変化を示している。
以下、第1図および第2図を参照してこの発明の一実施
例である半導体記憶装置の動作について説明する。
FIG. 2 is a signal waveform diagram showing the operation of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention, and the same reference numerals as those shown in FIG. 1 show the signal potential changes in the corresponding portions.
The operation of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.

まず読出動作について説明する。まず、書込指示信号W
はローレベルにあり、書込専用データ線対はビット線対
と切離されている。時刻T1以前においては、イコライズ
信号EQがハイレベルにあるため、MISトランジスタQ7〜Q
9はすべてオン状態にあり、ビット線対BL,▲▼はそ
れぞれ所定のプリチャージ電位VBLにプリチャージされ
ている。また一方において、このとき読出専用主データ
線対OLm,▲▼および読出専用副データ線対OLs,▲
▼もそれぞれたとえば電源電位Vccにプリチャー
ジされている。
First, the read operation will be described. First, the write instruction signal W
Is at a low level, and the write-only data line pair is separated from the bit line pair. Before time T1, the equalizing signal EQ is at the high level, so that the MIS transistors Q7 to Q
All 9 are in the ON state, and the bit line pair BL, ▲ ▼ are precharged to a predetermined precharge potential V BL . On the other hand, at this time, the read-only main data line pair OLm, ▲ ▼ and the read-only sub data line pair OLs, ▲
Each ▼ is also precharged to the power supply potential Vcc, for example.

時刻T1において、イコライズ信号EQがハイレベルからロ
ーレベルに低下すると、イコライズプリチャージ回路部
6のトランジスタQ7〜Q9がすべてオフ状態となり、これ
により各ビット線対BL,▲▼は共にフローティング
状態となる。
At time T1, when the equalize signal EQ is lowered from the high level to the low level, all the transistors Q7 to Q9 of the equalize precharge circuit section 6 are turned off, whereby both bit line pairs BL, ▲ ▼ are brought into a floating state. .

時刻T2において、外部から与えられるアドレス信号に応
答して1本のワード線WLが選択され、ワード線WL電位が
ローレベルからハイレベルに移行すると、メモリセル1
のトランジスタQ0がオン状態となる。今、メモリセル1
が情報“1"を記憶している場合、第2図の実線で示すよ
うに、ビット線BL上に電位がわずかに上昇する。このと
き、外部アドレス信号に応答して、コラムデコーダ(図
示せず)からのビット線対選択信号Yを時刻T1において
ローレベルからハイレベルへ移行させると、トランジス
タQ18,Q19がオン状態となり、トランジスタQ14〜Q19か
らなるカレントミラー型増幅器が活性化される。したが
って、時刻T2においてワード線WL電位がローレベルから
ハイレベルになり、ビット線BL上の信号電位がわずかに
上昇し、一方ビット線▲▼の電位はプリチャージレ
ベルを保持しているので、このカレントミラー型増幅器
が直ちにその電位差を増幅し、副データ線▲▼電
位をプリチャージ電位から接地電位に放電する。この副
データ線対OLs,▲▼上に現われた信号電位は主デ
ータ線対OLm,▲▼上に伝達される。これにより、
センスアンプ2,3を活性化する前にデータを読出すこと
が可能となり、高速アクセスを実現することができる。
このとき、ビット線対BL,▲▼は読出専用副データ
線対OLs,▲▼とトランジスタQ16,Q17の高インピ
ーダンスを介して接続されているため、読出専用副デー
タ線対OLs,▲▼が有する負荷容量およびその信号
電位がビット線対BL,▲▼上の信号電位に何ら悪影
響を及ぼすことはない。また、副データ線対OLs,▲
▼は所定数のビット線対ブロック7に対して共通に設
けられているだけであり、その負荷容量は小さく、ビッ
ト線対BL,▲▼上の信号電位に応じた出力信号を高
速で出力ノードOLs,▲▼に伝達することができ
る。
At time T2, one word line WL is selected in response to an externally applied address signal, and the potential of the word line WL shifts from low level to high level.
The transistor Q0 of is turned on. Memory cell 1
When the information "1" is stored in the bit line, the potential slightly rises on the bit line BL as shown by the solid line in FIG. At this time, when the bit line pair selection signal Y from the column decoder (not shown) is shifted from the low level to the high level at time T1 in response to the external address signal, the transistors Q18 and Q19 are turned on and the transistors Q18 and Q19 are turned on. The current mirror type amplifier consisting of Q14 to Q19 is activated. Therefore, at time T2, the word line WL potential changes from low level to high level, the signal potential on the bit line BL slightly rises, while the potential of the bit line ▲ ▼ holds the precharge level. The current mirror type amplifier immediately amplifies the potential difference and discharges the sub-data line () potential from the precharge potential to the ground potential. The signal potential appearing on the sub data line pair OLs, ▲ ▼ is transmitted to the main data line pair OLm, ▲ ▼. This allows
Data can be read before activating the sense amplifiers 2 and 3, and high-speed access can be realized.
At this time, the bit line pair BL, ▲ ▼ is connected to the read-only sub-data line pair OLs, ▲ ▼ via the high impedance of the transistors Q16, Q17, so that the read-only sub-data line pair OLs, ▲ ▼ has The load capacitance and its signal potential do not adversely affect the signal potential on the bit line pair BL, ▲ ▼. Also, sub data line pair OLs, ▲
▼ is only provided in common for a predetermined number of bit line pair blocks 7, its load capacitance is small, and an output signal corresponding to the signal potential on the bit line pair BL, ▲ ▼ is output at high speed. Can be communicated to OLs, ▲ ▼.

この後、時刻T3においてセンスアンプ活性化信号S0,▲
▼をそれぞれ活性状態へ移行させ、トランジスタQ
5,Q6をオン状態としてセンスアンプ2,3を活性化させ
る。これにより、ビット線対BL,▲▼上の信号電位
差がさらに増幅される。このセンスアンプ2,3による増
幅動作は読出情報をメモリセル1へ再書込するリストア
動作のために行なわれる。
After this, at time T3, the sense amplifier activation signal S0, ▲
▼ to the active state, and the transistor Q
5, Q6 is turned on to activate the sense amplifiers 2, 3. As a result, the signal potential difference on the bit line pair BL, ▲ ▼ is further amplified. The amplification operation by the sense amplifiers 2 and 3 is performed for the restore operation of rewriting the read information in the memory cell 1.

時刻T5において、選択されたワード線WL電位およびコラ
ムデータ出力Yがハイレベルからローレベルへ移行する
と、カレントミラー型増幅器も不活性状態となり、副デ
ータ線対OLs,▲▼および主データ線対OLm,▲
▼は所定のプリチャージ電位に復帰する。
At time T5, when the potential of the selected word line WL and the column data output Y shifts from the high level to the low level, the current mirror type amplifier also becomes inactive, and the sub data line pair OLs, ▲ ▼ and the main data line pair OLm. , ▲
▼ returns to a predetermined precharge potential.

次に時刻T6において、センスアンプ活性化信号S0,▲
▼が不活性状態へ移行し、かつイコライズ信号EQがハ
イレベルへ立上がると、各ビット線対BL,▲▼のプ
リチャージおよびイコライズが行なわれ、1つのメモリ
サイクルが終了する。
Next, at time T6, the sense amplifier activation signal S0, ▲
When ▼ transitions to the inactive state and equalize signal EQ rises to a high level, each bit line pair BL, ▲ ▼ is precharged and equalized, and one memory cycle is completed.

なお、時刻T2においては、コラムデコーダからのビット
線対選択信号Yがハイレベルになると、トランスファゲ
ートトランジスタQ10,Q11も同時にオン状態へと移行す
る。しかしながら、データ読出時においては、書込指示
信号Wはローレベルにあるため、トランジスタQ12,Q13
はオフ状態にあり、書込専用データ線対IL,▲▼が
データ読出動作に影響を及ぼすことはない。
At time T2, when the bit line pair selection signal Y from the column decoder becomes high level, the transfer gate transistors Q10 and Q11 are simultaneously turned on. However, at the time of data reading, the write instruction signal W is at the low level, so that the transistors Q12 and Q13 are
Is in the off state, and the write-only data line pair IL, ▲ ▼ does not affect the data read operation.

なお、上記実施例においては選択されたメモリセル1が
情報“1"を有している場合について説明したが、選択さ
れたメモリセル1が情報“0"を有している場合には、第
2図において破線で示す信号波形図が現われる。
In addition, although the case where the selected memory cell 1 has the information “1” has been described in the above embodiment, when the selected memory cell 1 has the information “0”, A signal waveform diagram shown by a broken line in FIG. 2 appears.

また、上述の実施例においては、データ線対OLs,▲
▼およびOLm,▲▼のプリチャージ電位が電源電
位レベルに設定されているが、主データ線対のプリチャ
ージレベルは電源電位レベルに設定せずに従来と同様に
中間電位、たとえばV′BLに設定しても上記実施例と同
様の効果が得られる。
Further, in the above embodiment, the data line pair OLs, ▲
Although the precharge potentials of ▼ and OLm, ▲ ▼ are set to the power supply potential level, the precharge level of the main data line pair is not set to the power supply potential level but is set to the intermediate potential, for example, V ′ BL , as in the conventional case. Even if it is set, the same effect as that of the above embodiment can be obtained.

また、上述の構成において、1組の副データ線対OLs,▲
▼に対しビット線対とカレントミラー増幅器の一
部を含むブロック7が複数組並列に接続されているた
め、複数組のNチャネルMISトランジスタQ16,Q17が1組
の副データ線対OLs,▲▼に並列に接続されること
になり、多くのゲート容量が接続されることになり、カ
レントミラー型増幅器の負荷容量が大となる。しかしな
がら、各読出専用副データ線対には所定数のビット線対
ブロック7のみが接続され、各副データ線対にそれぞれ
カレントミラー型増幅器を設ける構成としているため、
1組の読出専用副データ線対の負荷容量を低減すること
ができ、高速動作が実現されている。
Further, in the above configuration, one set of sub data line pairs OLs, ▲
On the other hand, since a plurality of sets of block 7 including a bit line pair and a part of the current mirror amplifier are connected in parallel, a plurality of sets of N channel MIS transistors Q16 and Q17 form one set of sub data line pair OLs, ▲ ▼. Will be connected in parallel, and many gate capacitors will be connected, and the load capacitance of the current mirror type amplifier will become large. However, only a predetermined number of bit line pair blocks 7 are connected to each read-only sub-data line pair, and each sub-data line pair is provided with a current mirror type amplifier.
The load capacity of one set of read-only sub-data line pairs can be reduced, and high-speed operation is realized.

次にデータ書込動作について概略的に示す。このとき、
データ書込回路(明確には図示せず)から外部書込デー
タが相補の形(たとえばDIN,▲▼)で書込専用デ
ータ線対IL,▲▼へ伝達される。この書込動作時に
おいては、書込指示信号Wがハイレベルにあるため、ト
ランジスタQ12,Q13がオン状態となっている。したがっ
て、時刻T4においてコラムデコーダ出力Yにより選択さ
れたビット線対がデータ書込専用データ線対IL,▲
▼と接続されることになり、選択されたメモリセルへの
データの書込が可能となる。ここで第2図の波形図にお
いては、データ書込時においては、コラムデコーダ出力
Yは時刻T4においてハイレベルへ移行するように示され
ている。このような書込時とデータ読出時におけるコラ
ムデコーダ出力Yの活性状態への意向のシフトは、書込
指示信号Wとコラムアドレスストローブ信号▲▼
とに基づいて容易に実現することができる。
Next, the data write operation will be schematically described. At this time,
External write data is transmitted from the data write circuit (not explicitly shown) to the write-only data line pair IL, ▲ ▼ in a complementary form (for example, D IN , ▲ ▼). During this writing operation, the write instruction signal W is at a high level, so that the transistors Q12 and Q13 are in the ON state. Therefore, at time T4, the bit line pair selected by the column decoder output Y is the data write-only data line pair IL, ▲.
By connecting with ▼, it becomes possible to write data to the selected memory cell. Here, in the waveform diagram of FIG. 2, the column decoder output Y is shown to shift to the high level at time T4 during data writing. The intentional shift of the column decoder output Y to the active state at the time of writing and data reading is performed by the write instruction signal W and the column address strobe signal ▲ ▼.
It can be easily realized based on

また、上記実施例においては、データ読出時においてコ
ラムデコーダ出力Yは、イコライズ信号EQのローレベル
への移行と同様にハイレベルへ移行するように説明され
ているが、このコラムデコーダ出力Yのハイレベルへの
移行は、この第2図に示される動作タイミングに限定さ
れず、ワード線WLのハイレベルの移行と同時にコラムデ
コーダ出力をハイレベルへ移行させる構成としてもよ
い。いずれの構成にしても、このカレントミラー型増幅
器の活性タイミングを与えるコラムデコーダ出力Yのハ
イレベルへの移行は、実用に供される半導体記憶装置の
動作特性などを考慮して適当に決められる動作パラメー
タである。
Further, in the above-described embodiment, the column decoder output Y is described to shift to the high level at the same time as the shift of the equalize signal EQ to the low level at the time of data reading. The transition to the level is not limited to the operation timing shown in FIG. 2, and the column decoder output may be transited to the high level at the same time as the transition of the word line WL to the high level. In any configuration, the transition of the column decoder output Y, which gives the activation timing of the current mirror type amplifier, to the high level is an operation which is appropriately determined in consideration of the operating characteristics of the semiconductor memory device for practical use. It is a parameter.

また、第2図に示す動作波形図においては、データ書込
時において、コラムデコーダ出力Yが時刻T4において活
性状態、すなわち第2図の1点鎖線で示すようにハイレ
ベルへ移行しているが、このハイレベルへの移行タイミ
ングは時刻T4に限定されず、時刻T2において行なっても
書込動作を確実に行なうことができる。
Further, in the operation waveform diagram shown in FIG. 2, the column decoder output Y is in the active state at the time T4 at the time of data writing, that is, it shifts to the high level as shown by the alternate long and short dash line in FIG. The timing of transition to the high level is not limited to time T4, and the write operation can be reliably performed even at time T2.

さらに上記実施例においては、カレントミラー型増幅器
をトランジスタQ14,Q15が電源電位Vccに接続され、トラ
ンジスタQ18,Q19が接地電位に接続される構成を示して
いるが、この接続される電源電位および各トランジスタ
の極性は図示の構造に限定されず、適用される半導体記
憶装置の構造に応じて適当に選択されるべきものであ
る。また、上述の構成ではカレトミラー型増幅器はデー
タ書込時にも活性化される。しかし、電力消費の観点か
らカレントミラー型増幅器を読出時にのみ活性化するこ
ともできる。これは、データ読出モード指示時において
は“H"となる書込指示信号Wとコラムデコード信号Yと
のANDをとる構成により容易に実現できる。
Further, in the above-mentioned embodiment, the current mirror type amplifier has a configuration in which the transistors Q14 and Q15 are connected to the power supply potential Vcc and the transistors Q18 and Q19 are connected to the ground potential. The polarity of the transistor is not limited to the illustrated structure, and should be appropriately selected according to the structure of the applied semiconductor memory device. Further, in the above-mentioned configuration, the Kaleto-mirror type amplifier is also activated during data writing. However, from the viewpoint of power consumption, the current mirror type amplifier can be activated only at the time of reading. This can be easily realized by a configuration in which the write instruction signal W which becomes "H" in the data read mode instruction and the column decode signal Y are ANDed.

第3図は第1図に示される構造を備えた半導体記憶装置
の全体概略構成を示す図である。第3図を参照して、こ
の発明による半導体記憶装置は、折返しビット線構造を
有するメモリセルアレイ100と、外部アドレスを受ける
アドレスバッファ101からの内部行アドレス信号をデコ
ードしてメモリセルアレイから1行のメモリセルを選択
する(すなわち1本のワード線を選択する)Xデコーダ
102と、アドレスバッファ101からの内部列アドレス信号
に応答して、1対のビット線を選択するためのビット線
対選択信号Yを出力するYデコーダ(コラムデコーダ)
103と、所定数のビット線対からなるビット線ブロック
ごとに設けられる読出専用副データ線対および各副デー
タ線対に共通に設けられる読出専用副データ線対と、各
ビット線対に設けられるカレントミラー型増幅器とから
なる(カレントミラーアンプ+出力線)ブロック104
と、ブロック104からの読出データをさらに増幅するた
めのプリアンプ105と、プリアンプ105からの読出情報を
外部端子へ出力するための読出バッファ106と、書込デ
ータDINから内部書込データを発生して入力ブロック107
に含まれるデータ入力線対IL,▲▼へ伝達するため
の書込バッファ108とから構成される。書込指示信号W
は端子109を介して所要の各回路部分へ伝達される。こ
の構成は単なる一例であり、他の構成も勿論適用可能で
ある。
FIG. 3 is a diagram showing an overall schematic configuration of a semiconductor memory device having the structure shown in FIG. Referring to FIG. 3, a semiconductor memory device according to the present invention decodes an internal row address signal from a memory cell array 100 having a folded bit line structure and an address buffer 101 receiving an external address, and outputs one row from the memory cell array. X decoder for selecting a memory cell (that is, selecting one word line)
102, and a Y decoder (column decoder) that outputs a bit line pair selection signal Y for selecting a pair of bit lines in response to the internal column address signal from the address buffer 101.
103, a read-only sub-data line pair provided for each bit line block consisting of a predetermined number of bit line pairs, a read-only sub-data line pair commonly provided for each sub-data line pair, and provided for each bit line pair Block 104 consisting of current mirror type amplifier (current mirror amplifier + output line)
A preamplifier 105 for further amplifying the read data from the block 104, a read buffer 106 for outputting the read information from the preamplifier 105 to an external terminal, and an internal write data from the write data D IN. Input block 107
And a write buffer 108 for transmitting to the data input line pair IL, included in. Write instruction signal W
Is transmitted to each required circuit portion via the terminal 109. This configuration is merely an example, and other configurations can of course be applied.

[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、読出専用のデータ線対
と書込専用のデータ線対とを別々に設け、読出専用デー
タ線対を、所定数のビット線対に対応して設けられる読
出専用副データ線対と、各副データ線対に共通に設けら
れる1対の読出専用主データ線対とから構成し、各読出
専用副データ線対が読出用増幅器の出力ノードを構成
し、この読出用増幅器の入力ゲートにビット線対が接続
されるように構成しているので、ワード線の立上がり直
後においても、ビット線対上の微小信号電位差を増幅し
て読出すことが可能となり、データ読出時におけるアク
セス時間を大幅に短縮することができ、高速読出を実現
することが可能となる。
As described above, according to the present invention, a read-only data line pair and a write-only data line pair are separately provided, and the read-only data line pair corresponds to a predetermined number of bit line pairs. Read-only sub-data line pairs and a pair of read-only main data line pairs commonly provided for each sub-data line pair, and each read-only sub-data line pair is an output node of a read amplifier. Since the bit line pair is connected to the input gate of this read amplifier, the minute signal potential difference on the bit line pair can be amplified and read even immediately after the rise of the word line. Therefore, the access time at the time of data reading can be significantly shortened, and high-speed reading can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例である半導体記憶装置にお
ける主要部の構成を概略的に示す図である。第2図はこ
の発明の一実施例である半導体記憶装置の動作を示す信
号波形図である。第3図はこの発明の一実施例である半
導体記憶装置の全体の概略構成を例示する図である。第
4図は従来の半導体記憶装置における1対のビット線お
よびそれに関連する回路部分の構成を概略的に示す図で
ある。第5図は従来の半導体記憶装置における動作を示
す信号波形図である。 図において、1はメモリセル、2,3はフリップフロップ
型センスアンプ、4,5はセンスアンプ活性化信号発生回
路部、6はイコライズ/プリチャージ回路部分、7はビ
ット線対ブロック、8は所定数のビット線対の読出専用
副データ線対およびカレントミラー型増幅器からなるブ
ロック、IL,▲▼は書込専用データ線対、OLs,▲
▼は読出専用副データ線、OLm,▲▼は読出専
用主データ線、BL,▲▼はビット線、Q14,Q15,Q16,Q
17,Q18,Q19はカレントミラー型増幅器を構成するMISト
ランジスタである。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a main part in a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a signal waveform diagram showing an operation of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 is a diagram illustrating the overall schematic configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration of a pair of bit lines and a circuit portion related thereto in a conventional semiconductor memory device. FIG. 5 is a signal waveform diagram showing an operation in the conventional semiconductor memory device. In the figure, 1 is a memory cell, 2 and 3 are flip-flop type sense amplifiers, 4 and 5 are sense amplifier activation signal generating circuit sections, 6 is an equalize / precharge circuit section, 7 is a bit line pair block, and 8 is a predetermined block. Block consisting of several read-only sub-data line pairs of several bit line pairs and current mirror type amplifier, IL, ▲ ▼ are write-only data line pairs, OLs, ▲
▼ is a read-only sub data line, OLm, ▲ ▼ is a read-only main data line, BL, ▲ ▼ is a bit line, Q14, Q15, Q16, Q
Reference numerals 17, Q18 and Q19 are MIS transistors forming a current mirror type amplifier. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小西 康弘 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 小松 隆宏 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 山▲崎▼ 宏之 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 昭63−311690(JP,A) 特開 昭60−74197(JP,A) 特開 昭60−43294(JP,A) 特開 昭57−117178(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasuhiro Konishi 4-1-1 Mizuhara, Itami-shi, Hyogo Prefecture LS Electric Co., Ltd. LSE Research Laboratory (72) Inventor Takahiro Komatsu 4-1-1 Mizuhara, Itami-shi, Hyogo Mitsubishi Electric Co., Ltd. LSI Research Laboratory (72) Inventor Yama-saki Hiroyuki 4-chome, Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture Mitsubishi Electric Co., Ltd. LSI Research Laboratory (56) Reference JP 63 -311690 (JP, A) JP 60-74197 (JP, A) JP 60-43294 (JP, A) JP 57-117178 (JP, A)

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】行および列からなるマトリクス状に配置さ
れる複数のメモリセル、 前記複数のメモリセルの前記行に対応して配置され、各
々に前記複数のメモリセルの対応の行のメモリセルが接
続される複数のワード線、 前記複数のメモリセルの前記列の各々に対応して配置さ
れ、各々に前記複数のメモリセルの対応の列に配置され
るメモリセルが接続され、かつ各々が互いに相補な関係
にあるデータを伝達するための複数のビット線対、 前記複数のメモリセルの選択メモリセルへデータを書込
むときに、前記複数のビット線対のうちの前記選択メモ
リセルが接続されたビット線対と電気的に接続され、前
記選択メモリセルへの書込データを伝達するための1対
の書込データ伝達線、 各々が、前記複数のビット線対のうちの所定数のビット
線対に対して設けられる複数の読出データ線対、 各々が各前記ビット線対に対応して設けられ、かつ対応
のビット線対の両ビット線に現われた電位がそれぞれ入
力され、該入力された電位に応じてそのコンダクタンス
が変化する1対の可変コンダクタンス素子と、前記1対
の可変コンダクタンス素子の各々と直列に接続され、ビ
ット線対選択信号に応答して導通する1対の活性化素子
とを含み、前記ビット線対選択信号に応答して前記1対
の可変コンダクタンス素子および前記1対の活性化素子
を介して対応の副読出データ線対と第1の電位との間に
電流経路を形成する複数の駆動回路手段、 前記所定数のビット線対に共通に対応の副読出データ線
対に接続され、該対応の副読出データ線対の両副読出デ
ータ線に電流を供給する複数の電流負荷回路手段、およ
び 前記複数の副読出データ線対に共通に接続され、前記ビ
ット線対選択信号に応答して電流経路を形成する駆動回
路手段により駆動される副読出データ線対の電位を受け
て伝達する、前記書込データ線対とは別に設けられる1
対の主読出データ線対を備える、半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, corresponding to the rows of the plurality of memory cells, each of which has a corresponding row of memory cells. Connected to each of the columns of the plurality of memory cells, each connected to a memory cell arranged in a corresponding column of the plurality of memory cells, and each A plurality of bit line pairs for transmitting mutually complementary data; when writing data to a selected memory cell of the plurality of memory cells, the selected memory cell of the plurality of bit line pairs is connected A pair of write data transmission lines electrically connected to the selected bit line pair for transmitting write data to the selected memory cell, each of which is a predetermined number of the plurality of bit line pairs. Bit line A plurality of read data line pairs provided for the pair, each provided corresponding to each of the bit line pairs, and the potentials appearing on both bit lines of the corresponding bit line pair are respectively inputted and inputted. A pair of variable conductance elements whose conductances change according to potentials, and a pair of activation elements connected in series with each of the pair of variable conductance elements and conducting in response to a bit line pair selection signal. A current path between a corresponding sub-read data line pair and a first potential via the pair of variable conductance elements and the pair of activation elements in response to the bit line pair selection signal. A plurality of drive circuit means to be formed, a plurality of drive circuit means commonly connected to the sub-read data line pair corresponding to the predetermined number of bit line pairs, and supplying a current to both sub-read data lines of the corresponding sub-read data line pair. Negative current Circuit means and a potential of the sub-read data line pair which is commonly connected to the plurality of sub-read data line pairs and is driven by the drive circuit means which forms a current path in response to the bit line pair selection signal. 1 provided separately from the write data line pair for transmitting
A semiconductor memory device comprising a pair of main read data line pairs.
【請求項2】選択メモリセルから読出された電位に基づ
く、前記選択メモリセルに対応するビット線対の両ビッ
ト線に現われた電位は、該ビット線対に前記駆動回路手
段とは別に設けられたセンス手段により差動的に増幅さ
れかつその増幅された電位がラッチされていることを特
徴とする、特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装
置。
2. The potential appearing on both bit lines of the bit line pair corresponding to the selected memory cell based on the potential read from the selected memory cell is provided to the bit line pair separately from the drive circuit means. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the sense means is differentially amplified and the amplified potential is latched.
【請求項3】データ読出時においては、前記駆動回路手
段の前記1対の活性化素子が導通する活性化タイミング
は前記センス手段の活性化タイミングよりも早くされて
いることを特徴とする、特許請求の範囲第2項記載の半
導体記憶装置。
3. When reading data, the activation timing at which the pair of activation elements of the drive circuit means are turned on is set earlier than the activation timing of the sense means. The semiconductor memory device according to claim 2.
【請求項4】前記駆動回路手段に入力される前記ビット
線対選択信号は、前記複数のメモリセルの列を選択する
ための列デコード手段からの列選択信号と読出モード指
示信号とに応じて発生されることを特徴とする、特許請
求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の半導体
記憶装置。
4. The bit line pair selection signal input to the drive circuit means in response to a column selection signal from a column decoding means for selecting a column of the plurality of memory cells and a read mode instruction signal. The semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 3, which is generated.
【請求項5】行および列からなるマトリクス状に配置さ
れる複数のメモリセル、 前記複数のメモリセルの各前記行に対応して配置され、
各々に対応の行のメモリセルが接続される複数のワード
線、 前記複数のメモリセルの各前記列の各々に対応して配置
され、各々に対応した列に配置されるメモリセルが接続
される複数のビット線対が複数のグループに区分された
複数のビット線対グループ、 前記複数のビット線対グループの複数のビット線対から
いずれかのビット線対を選択するためのビット線対選択
手段、 前記複数のメモリセルのうちの選択メモリセルへデータ
を書込むときに、前記複数のビット線対のうちの前記ビ
ット線対選択手段によって選択されたビット線対と電気
的に接続され、該選択されたビット線対に書込データを
伝達するための書込データ伝達線対、 前記複数のビット線対グループの各グループに対応して
該対応のグループのビット線対に共通に配置される複数
の副読出データ線対、および 各前記ビット線対グループに対応して設けられ、選択さ
れるメモリセルから読出データを読出すときに、前記ビ
ット線対選択手段によって選択されたビット線対の両ビ
ット線に現われた電位差を増幅する複数のカレントミラ
ー型増幅回路手段を備え、 各前記カレントミラー型増幅回路手段は、 (a) 対応のビット線対グループに対応する副読出デ
ータ線対に対応して設けられ、該対応の副読出データ線
対の両副読出データ線に流れる電流の電流値を等しくす
るように動作する手段と、 (b) 前記対応のビット線対グループの各前記ビット
線対に対応して設けられ、該対応のビット線対の両ビッ
ト線に現れた電位がそれぞれ入力され、該入力された電
位に応じてそのコンダクタンスが変化する1対の可変コ
ンダクタンス素子と、 (c) データ読出時においては対応の副読出データ線
対と第1の電位との間に前記1対の可変コンダクタンス
素子および自身を介して電流の経路を形成する、前記一
対の可変コンダクタンス素子それぞれと直列に接続され
る1対の活性化素子とを備え、さらに、 前記書込データ伝達線対とは別個に設けられかつ前記複
数の副読出データ線対に共通に接続され、前記選択され
たメモリセルのデータが伝達された副読出データ線対の
データを受けて伝達する主読出データ線対を備える、半
導体記憶装置。
5. A plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, corresponding to each row of the plurality of memory cells,
A plurality of word lines to which the memory cells of the corresponding rows are connected, respectively, memory cells arranged corresponding to each of the columns of the plurality of memory cells, and connected to columns corresponding to the respective memory cells are connected. A plurality of bit line pair groups in which a plurality of bit line pairs are divided into a plurality of groups, and a bit line pair selecting means for selecting any one of the plurality of bit line pairs of the plurality of bit line pair groups When electrically writing data to a selected memory cell of the plurality of memory cells, the bit line pair is electrically connected to the bit line pair selected by the bit line pair selection means, A write data transmission line pair for transmitting write data to a selected bit line pair, corresponding to each group of the plurality of bit line pair groups and commonly arranged to the bit line pair of the corresponding group. A plurality of sub-read data line pairs and a bit line pair selected by the bit line pair selecting means when reading read data from a selected memory cell provided corresponding to each of the bit line pair groups. A plurality of current mirror type amplifier circuit means for amplifying the potential difference appearing on both bit lines, each of the current mirror type amplifier circuit means: (a) a sub-read data line pair corresponding to a corresponding bit line pair group; Means provided so as to correspond to each other to operate so as to equalize the current values of the currents flowing through both sub-read data lines of the corresponding sub-read data line pair; and (b) each bit of the corresponding bit line pair group. A pair of variable resistors provided corresponding to the pair of lines, each of which receives the potential appearing on both bit lines of the corresponding pair of bit lines, and whose conductance changes according to the input potential. (C) a pair of variable conductance elements and a pair of variable conductance elements that form a current path between the corresponding sub-read data line pair and a first potential during data reading. A pair of activation elements connected in series with each of the variable conductance elements, and further provided separately from the write data transmission line pair and commonly connected to the plurality of sub read data line pairs, A semiconductor memory device comprising: a main read data line pair for receiving and transmitting data of a sub read data line pair to which data of the selected memory cell is transmitted.
【請求項6】各前記カレントミラー型増幅回路手段にお
ける前記1対の可変コンダクタンス素子の一方の可変コ
ンダクタンス素子は対応のビット線対の一方のビット線
に接続されるゲート電極を有する電界効果トランジスタ
を含み、前記1対の可変コンダクタンス素子の他方の可
変コンダクタス素子は該対応したビット線対の他方のビ
ット線に接続されるゲート電極を有する電界効果トラン
ジスタを含む、特許請求の範囲第5項記載の半導体記憶
装置。
6. One of the pair of variable conductance elements in each of the current mirror type amplification circuit means is a field effect transistor having a gate electrode connected to one bit line of a corresponding bit line pair. 6. The method according to claim 5, further comprising: a field effect transistor having a gate electrode connected to the other bit line of the corresponding bit line pair, the other variable conductance element of the pair of variable conductance elements. Semiconductor memory device.
【請求項7】選択されたメモリセルから読出された電位
に基づく、該選択メモリセルに対応したビット線対の両
ビット線に現われた電位を、前記カレントミラー型増幅
回路手段とは別の差動増幅手段により増幅しかつ該選択
メモリセルへ再書込することを特徴とする、特許請求の
範囲第5項または第6項のいずれかに記載の半導体記憶
装置。
7. The potential appearing on both bit lines of the bit line pair corresponding to the selected memory cell based on the potential read from the selected memory cell is different from that of the current mirror type amplifier circuit means. 7. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the semiconductor memory device is amplified by a dynamic amplification means and rewritten in the selected memory cell.
【請求項8】データ読出時において、前記カレントミラ
ー型増幅回路手段の活性化タイミングは前記差動増幅手
段の活性化タイミングよりも早くされていることを特徴
とする、特許請求の範囲第7項記載の半導体記憶装置。
8. A data reading method according to claim 7, wherein the activation timing of said current mirror type amplifier circuit means is set earlier than the activation timing of said differential amplifier means. The semiconductor memory device described.
【請求項9】前記カレントミラー型増幅回路手段におけ
る1対の活性化素子は、前記ビット線対選択手段からの
選択信号と読出モード指示信号とに応じて発生された信
号に基づいて活性化される、特許請求の範囲第5項また
は第6項に記載の半導体記憶装置。
9. A pair of activation elements in said current mirror type amplifier circuit means are activated based on a signal generated in response to a selection signal from said bit line pair selection means and a read mode instruction signal. The semiconductor memory device according to claim 5 or claim 6.
【請求項10】前記カレントミラー型増幅回路手段にお
ける1対の可変コンダクタンス素子は、前記ビット線対
選択手段からの選択信号と読出モード指示信号とが論理
処理された信号に基づいて対応の副読出データ線対と第
1の電位との間に電気的に接続されることを特徴とす
る、特許請求の範囲第5項または第6項に記載の半導体
記憶装置。
10. A pair of variable conductance elements in the current mirror type amplifier circuit means are provided with corresponding sub-reads based on a signal obtained by logically processing a selection signal from the bit line pair selection means and a read mode instruction signal. 7. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the semiconductor memory device is electrically connected between the data line pair and the first potential.
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