JPH07331173A - Coating composition for formation of optical material and optical material - Google Patents

Coating composition for formation of optical material and optical material

Info

Publication number
JPH07331173A
JPH07331173A JP7032497A JP3249795A JPH07331173A JP H07331173 A JPH07331173 A JP H07331173A JP 7032497 A JP7032497 A JP 7032497A JP 3249795 A JP3249795 A JP 3249795A JP H07331173 A JPH07331173 A JP H07331173A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical material
coating
group
forming
coating liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7032497A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuka Yamaho
有香 山舗
Masaharu Taniguchi
雅治 谷口
Masaya Asano
昌也 浅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP7032497A priority Critical patent/JPH07331173A/en
Publication of JPH07331173A publication Critical patent/JPH07331173A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain a coating compsn. capable of forming a coating film excellent in high-temp. and high-moisture resistance, toughness, coatability, evenness, uniformity of refractive index by blending a siloxane polymer with a specific metal alkoxide and/or a metal chelate compd. derived from the metal alkoxide. CONSTITUTION:A silioxane polymer obtd. by hydrolysis and RxSi(OR')4-x(wherein R and R' are each H, alkyl, aryl, alkenyl, or a substd. deriv. thereof; and x is an integer of 0 to 3) is blended with a metal alkoxide of the formula: MOOR'')m (wherein M is titanium, zirconium, or aluminum; R'' is H, alkyl, aryl, alkenyl, or a substd. deriv. thereof; and m is the valence of the metal atom M) and/or a metal chelate compd. derived from the metal alkoxide. The mixing proportion is such that 100 pts.wt. siloxane polymer is blended with 0.1-20 pts.wt. metal alkoxide and/or metal chelate compd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アルコキシシランを加
水分解および縮合させることによって得られるシロキサ
ンポリマーと金属アルコキシドおよび/または該金属ア
ルコキシドから誘導される金属キレート化合物とを含有
する光学材料形成用塗液組成物に関するものであり、さ
らに詳しくは、高温高湿耐性、強靭性、塗布性、平坦性
に優れた被膜を得ることができる光学材料形成用塗液組
成物に関するものである。特に、光通信や光を利用する
システムに用いられる光導波路や光フィルター等の光学
材料を形成するための塗液組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating material for forming an optical material containing a siloxane polymer obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane, a metal alkoxide and / or a metal chelate compound derived from the metal alkoxide. The present invention relates to a liquid composition, and more specifically, to a coating liquid composition for forming an optical material capable of obtaining a coating film excellent in high temperature and high humidity resistance, toughness, coatability, and flatness. In particular, the present invention relates to a coating composition for forming an optical material such as an optical waveguide or an optical filter used in a system utilizing optical communication or light.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の電気通信システムの伝送高速化の
手段として光通信システムが注目されてきており、その
部品材料として光に対応したものが要求されてきた。光
学部品材料としては、透明性、耐熱性、密着性、耐溶剤
性、耐薬品性、そして高温高湿耐性、屈折率均一性等の
幅広い特性が要求される。
2. Description of the Related Art An optical communication system has been attracting attention as a means for increasing the transmission speed of a conventional telecommunication system, and a material compatible with light has been required as a component material thereof. A wide range of properties such as transparency, heat resistance, adhesion, solvent resistance, chemical resistance, high temperature and high humidity resistance, and uniform refractive index are required for optical component materials.

【0003】このような光学材料を形成せしめる熱硬化
性塗液組成物として、特に耐熱性の見地から特開平4−
157402号公報に示されるごとく、シロキサンポリ
マーの提案が行われている。
From the viewpoint of heat resistance, a thermosetting coating liquid composition for forming such an optical material is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-
As shown in Japanese Patent No. 157402, a siloxane polymer has been proposed.

【0004】アルコキシシランを加水分解および縮合さ
せることによって得られるシロキサンポリマーを含有し
た塗液組成物としては、特開昭63−241076号、
特開平3−126612号、特開平3−188179号
公報などに示されるごとく広く知られている。しかし、
得られる被膜には高温高湿耐性がない、つまり、高温高
湿の環境下に長期間保管すると、被膜にピンホール状の
欠陥やマイクロクラックが発生したり、被膜が基板から
の剥離するといった問題点を有していた。
A coating liquid composition containing a siloxane polymer obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane is disclosed in JP-A-63-241076,
It is widely known as disclosed in JP-A-3-126612 and JP-A-3-188179. But,
The obtained coating does not have resistance to high temperature and high humidity, that is, when it is stored in a high temperature and high humidity environment for a long period of time, pinhole-like defects and microcracks occur in the coating, and the coating peels from the substrate. Had a point.

【0005】また、アルコキシシランと他の金属アルコ
キシドまたはそのキレート化合物を原料として、加水分
解および縮合させることによって得られるポリマーを含
有した塗液組成物も、特開平3−20377号、特開平
3−279210号公報などに示されるごとく知られて
いるが、アルコキシシランと他の金属アルコキシドの反
応性が非常に異なるために製造が困難であったり、濾過
性が悪いという問題点を有していた。
A coating liquid composition containing a polymer obtained by subjecting an alkoxysilane and another metal alkoxide or its chelate compound as a raw material to hydrolysis and condensation is also disclosed in JP-A-3-20377 and JP-A-3-20377. It is known as disclosed in Japanese Patent Publication No. 279210, etc., but it has problems that production is difficult and filterability is poor because the reactivity of alkoxysilane and other metal alkoxide is very different.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高温
高湿耐性、さらには強靭性、塗布性、平坦性、屈折率均
一性に優れた被膜を得ることができ、かつ、製造方法が
簡便な光学材料形成用塗液組成物を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to obtain a coating film having excellent resistance to high temperature and high humidity, excellent toughness, coating property, flatness, and uniform refractive index, and to provide a manufacturing method. It is to provide a simple coating composition for forming an optical material.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
次の(A)成分と(B)成分とを含有することを特徴と
する光学材料形成用塗液組成物により達成される。 (A) 下記一般式(1) RX Si(OR´)4-X (1) (ただし、R、R´は同一もしくは異なっていても良
く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、またはそれらの置換体を表わす。また、Xは0〜
3の整数である。)で表わされるアルコキシシランを加
水分解および縮合させることによって得られるシロキサ
ンポリマー。 (B) 下記一般式(2) M(OR'')m (2) (ただし、Mはチタン、ジルコニウム、またはアルミニ
ウムの金属原子である。R''は同一もしくは異なってい
ても良く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、およびそれらの置換体を表わす。また、m
は金属原子Mの原子価を意味する。)で表わされる金属
アルコキシドおよび/または該金属アルコキシドから誘
導される金属キレート化合物。
The object of the present invention is as follows.
This is achieved by a coating liquid composition for forming an optical material, which contains the following component (A) and component (B). (A) The following general formula (1) R X Si (OR ') 4-X (1) (wherein R and R'may be the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, Or a substituent thereof, and X is 0 to
It is an integer of 3. ) A siloxane polymer obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane represented by (B) The following general formula (2) M (OR ″) m (2) (where M is a metal atom of titanium, zirconium, or aluminum. R ″ may be the same or different and each is hydrogen. , An alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and a substitution product thereof.
Means the valence of the metal atom M. And a metal chelate compound derived from the metal alkoxide.

【0008】本発明者らは、光学材料として、可視光〜
近赤外領域での透明性が優れていることから、アルコキ
シシランを加水分解および縮合させることによって得ら
れるシロキサンポリマーからなる塗液組成物に着目し
た。しかしながら、前述の通り、従来のシロキサンポリ
マーからなる塗液組成物を塗布、製膜することにより得
られる光学材料は高温高湿耐性が悪かった。そこで、こ
の不良の原因について本発明者らが検討を行なったとこ
ろ、光学材料の硬化度が低いことが主原因であることが
わかった。そこで、本発明者らは鋭意研究を重ねた結
果、アルコキシシランを加水分解および縮合させること
によって得られるシロキサンポリマーに、金属アルコキ
シドあるいは該金属アルコキシドから誘導される金属キ
レート化合物を添加することにより、300℃以下の硬
化温度でも十分に硬化しうる光学材料を見出だした。
The inventors of the present invention have used visible light as an optical material.
Since the transparency in the near-infrared region is excellent, attention was paid to a coating liquid composition composed of a siloxane polymer obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane. However, as described above, an optical material obtained by applying a coating composition containing a conventional siloxane polymer and forming a film has poor resistance to high temperature and high humidity. Then, the inventors of the present invention examined the cause of this defect and found that the main cause was the low degree of curing of the optical material. Then, as a result of intensive studies by the present inventors, by adding a metal alkoxide or a metal chelate compound derived from the metal alkoxide to a siloxane polymer obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane, We have found an optical material that can be sufficiently cured even at a curing temperature of ℃ or less.

【0009】一方、アルコキシシランと他の金属アルコ
キシドを原料として用いた類似組成物として、アルコキ
シシランと他の金属アルコキシドを原料として、共加水
分解し、さらに縮合させることによって得られるポリマ
ーを含有した組成物が知られている。しかし、この組成
物においては、アルコキシシランと他の金属アルコキシ
ドの加水分解反応性が非常に異なるために、これらを共
加水分解することは非常に困難で、ゲル化、沈殿生成な
どの製造上の問題や、濾過性不良といった問題のほか、
塗液が得られたとしても、保存安定性が悪かったり、強
靭性の不足、塗布性不良、平坦性不良、そして得られる
被膜の屈折率均一性の不足など多くの問題がある。これ
に対して、本発明の方法によれば、加水分解反応性が低
いアルコキシシランのみを先に加水分解および縮合さ
せ、その後、他の金属アルコキシドあるいは該金属アル
コキシドから誘導される金属キレート化合物を添加する
ので、これらの問題なく、容易に製造することができ
る。
On the other hand, as a similar composition using an alkoxysilane and another metal alkoxide as a raw material, a composition containing a polymer obtained by cohydrolyzing and further condensing an alkoxysilane and another metal alkoxide as a raw material. Things are known. However, in this composition, it is very difficult to co-hydrolyze the alkoxysilane and other metal alkoxides because they have very different hydrolysis reactivity, and it is difficult to co-hydrolyze them. In addition to problems such as poor filterability,
Even if a coating solution is obtained, there are many problems such as poor storage stability, lack of toughness, poor coatability, poor flatness, and lack of uniformity in refractive index of the obtained coating film. On the other hand, according to the method of the present invention, only an alkoxysilane having low hydrolysis reactivity is first hydrolyzed and condensed, and then another metal alkoxide or a metal chelate compound derived from the metal alkoxide is added. Therefore, it can be easily manufactured without these problems.

【0010】従って、高温高湿耐性に優れた被膜を得る
ことができ、かつ製造方法が簡便な光学材料形成用塗液
組成物が得られることを見出だし、本発明に到達したも
のである。
Therefore, the inventors have found that a coating film having excellent resistance to high temperature and high humidity can be obtained, and that a coating liquid composition for forming an optical material having a simple manufacturing method can be obtained, and thus the present invention has been achieved.

【0011】以下、本発明の構成を順に説明する。The structure of the present invention will be described below in order.

【0012】成分(A):アルコキシシランを加水分解
および縮合させることによって得られるシロキサンポリ
マー
Component (A): a siloxane polymer obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane.

【0013】本発明に使用されるシロキサンポリマー
は、アルコキシシランに水を反応させて加水分解し、さ
らに加熱または常温での放置により部分的に脱水縮合さ
せることにより高分子量化させたものである。
The siloxane polymer used in the present invention is made to have a high molecular weight by causing the alkoxysilane to react with water to hydrolyze, and further to partially dehydrate and condense by heating or standing at room temperature.

【0014】本発明に使用されるアルコキシシランは下
記一般式(1)で表わされるものである。 RX Si(OR´)4-X (1) (ただし、R、R´は同一もしくは異なっていても良
く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、およびそれらの置換体を表わす。また、Xは0〜
3の整数である。)
The alkoxysilane used in the present invention is represented by the following general formula (1). R X Si (OR ') 4-X (1) (wherein R and R'may be the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and a substitution product thereof. , X is 0
It is an integer of 3. )

【0015】Rは、例えば、水素;メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基などのアルキル
基;フェニル基などのアリール基;ビニル基などのアル
ケニル基;β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エ
チル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシド
キシプロピル基、γ−クロロプロピル基、γ−メルカプ
トプロピル基、γ−アミノプロピル基、N−フェニル−
γ−アミノプロピル基、、N−β(アミノエチル)γ−
アミノプロピル基、トリフロオロメチル基、3、3、3
−トリフルオロプロピル基などの置換アルキル基などが
挙げられる。これらの中から、1種、あるいは2種以上
を組み合わせて用いることができる。この選択により、
得られる被膜の特性を調製することが可能である。特
に、被膜の強靭性向上の点から、Rとしてアルコキシ基
を除く、反応性基を有するものであるのが望ましい。例
えば、ビニル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−
グリシドキシプロピル基である。これらを用いることに
より、得られる被膜は、シロキサン骨格のみでなく、こ
れら反応基による架橋形成による骨格形成が成され、膜
の強靭性が向上するのである。
R is, for example, hydrogen; an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an i-propyl group; an aryl group such as a phenyl group; an alkenyl group such as a vinyl group; β- (3,4 -Epoxycyclohexyl) ethyl group, γ-methacryloxypropyl group, γ-glycidoxypropyl group, γ-chloropropyl group, γ-mercaptopropyl group, γ-aminopropyl group, N-phenyl-
γ-aminopropyl group, N-β (aminoethyl) γ-
Aminopropyl group, trifluoromethyl group, 3, 3, 3
-Substituted alkyl groups such as trifluoropropyl group and the like can be mentioned. Of these, one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination. With this choice,
It is possible to adjust the properties of the resulting coating. In particular, from the viewpoint of improving the toughness of the coating, it is desirable that R has a reactive group except an alkoxy group. For example, vinyl group, γ-methacryloxypropyl group, γ-
It is a glycidoxypropyl group. By using these, not only the siloxane skeleton but also the skeleton formed by cross-linking by these reactive groups is formed in the obtained coating film, and the toughness of the film is improved.

【0016】R´は、例えば、水素;メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、t−ブチル基などのアルキル基;フ
ェニル基などのアリール基;アセチル基、β−メトキシ
エトキシ基などの置換アルキル基などが挙げられる。
R'is, for example, hydrogen; methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group,
Examples thereof include alkyl groups such as sec-butyl group and t-butyl group; aryl groups such as phenyl group; substituted alkyl groups such as acetyl group and β-methoxyethoxy group.

【0017】これらのアルコキシシランの具体例として
は、テトラヒドロキシシラン、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェ
ニルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシ
シラン、トリフルオロメチルトリエトキシシランを挙げ
ることができ、これらのアルコキシシランは単独、また
は2種以上を混合して用いることができる。
Specific examples of these alkoxysilanes include tetrahydroxysilane, tetramethoxysilane,
Tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxy Silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, trifluoromethyltrimethoxysilane, trifluoromethyltriethoxysilane can be mentioned. Alkoxysilane may be used alone, or two or more.

【0018】これらのアルコキシシランの加水分解およ
び縮合反応は無溶媒でも良いが、通常は有機溶媒中で行
なわれる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノー
ルなどのアルコール類;エチレングリコール、プロピレ
ングリコールなどのグリコール類;エチレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル
エーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、
ジエチルエーテルなどのエーテル類;メチルイソブチル
ケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;
エチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、3−
メチル−3−メトキシブチルアセテートなどのアセテー
ト類;トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン
などの芳香族あるいは脂肪族炭化水素のほか、N−メチ
ル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルス
ルホキシドを挙げることができる。
The hydrolysis and condensation reactions of these alkoxysilanes may be carried out in the absence of solvent, but they are usually carried out in an organic solvent. For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol and 3-methyl-3-methoxybutanol; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether,
Ethers such as diethyl ether; ketones such as methyl isobutyl ketone and diisobutyl ketone; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide;
Ethyl acetate, ethyl cellosolve acetate, 3-
Acetates such as methyl-3-methoxybutylacetate; aromatic or aliphatic hydrocarbons such as toluene, xylene, hexane, and cyclohexane, as well as N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, and dimethyl sulfoxide. .

【0019】本発明においては、溶媒は除去されること
なく、最終的に得られる塗液の溶剤を兼用することがで
きる。従って、得られる塗液の塗布性向上の点からは、
沸点100〜300℃の液体を用いることが好ましい。
In the present invention, the solvent of the coating liquid finally obtained can be used also without removing the solvent. Therefore, from the viewpoint of improving the coating property of the obtained coating liquid,
It is preferable to use a liquid having a boiling point of 100 to 300 ° C.

【0020】溶媒の量は任意に選択可能であるが、アル
コキシシラン1重量部に対して、0.1〜10.0重量
部の範囲で用いるのが好ましい。
Although the amount of the solvent can be arbitrarily selected, it is preferably used in the range of 0.1 to 10.0 parts by weight with respect to 1 part by weight of the alkoxysilane.

【0021】加水分解および部分縮合反応をさせるため
に用いる水はイオン交換水が好ましく、その量はアルコ
キシシラン1モルに対して、1〜4倍モルの範囲で用い
るのが好ましい。
The water used for the hydrolysis and partial condensation reaction is preferably ion-exchanged water, and the amount thereof is preferably in the range of 1 to 4 times mol relative to 1 mol of alkoxysilane.

【0022】また、加水分解および縮合反応をさせるた
めに必要に応じて、触媒を用いることができる。用いる
触媒としては、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、
リン酸、硼酸、p−トルエンスルホン酸、イオン交換樹
脂などの酸触媒、トリエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなどの塩基触媒が挙げられる
が、得られる被膜の強靭性向上の点からは酸触媒が好ま
しい。
Further, a catalyst can be used if necessary for carrying out the hydrolysis and condensation reactions. The catalyst used is hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid,
Acid catalysts such as phosphoric acid, boric acid, p-toluenesulfonic acid, ion exchange resins, triethylamine, diethylamine,
Examples thereof include basic catalysts such as triethanolamine, diethanolamine, sodium hydroxide and potassium hydroxide, and acid catalysts are preferable from the viewpoint of improving the toughness of the resulting coating.

【0023】触媒の量は、アルコキシシラン1重量部に
対して、0.001〜0.1重量部の範囲で用いるのが
好ましい。0.1重量部を越えると、塗液の保存安定
性、および平坦性が損なわれる。また、0.001重量
部より少ない場合では、低重合度ポリマーしか得られず
塗布性が損なわれる。
The amount of the catalyst is preferably 0.001 to 0.1 part by weight based on 1 part by weight of alkoxysilane. If it exceeds 0.1 part by weight, the storage stability and flatness of the coating solution are impaired. On the other hand, when the amount is less than 0.001 part by weight, only a polymer having a low degree of polymerization is obtained and the coating property is impaired.

【0024】加水分解および部分縮合の反応温度は凝固
点から沸点の範囲で通常選択されるが、沸点以上の温度
で、副生する低沸点アルコールおよび水を留去させなが
ら、反応を進行させることが塗布性および保存安定性の
点から好ましい。
The reaction temperature for hydrolysis and partial condensation is usually selected in the range from the freezing point to the boiling point, but the reaction can be carried out at a temperature above the boiling point while distilling off the low boiling point alcohol and water by-produced. It is preferable in terms of coating properties and storage stability.

【0025】成分(B)の金属アルコキシド、あるいは
該金属アルコキシドから誘導される金属キレート化合物
は、保護膜の硬化温度を下げる目的で成分(A)に添加
されるものであり、本発明の特徴ある成分である。
The metal alkoxide of component (B) or the metal chelate compound derived from the metal alkoxide is added to component (A) for the purpose of lowering the curing temperature of the protective film, which is a feature of the present invention. It is an ingredient.

【0026】本発明において用いられる金属アルコキシ
ドは、下記一般式(2)で表わされる。 M(OR'')m (2) (Mはチタン、ジルコニウム、またはアルミニウムの金
属原子である。R''は同一もしくは異なっていても良
く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、およびそれらの置換体を表わす。また、mは金属
原子Mの原子価を意味する。)
The metal alkoxide used in the present invention is represented by the following general formula (2). M (OR ″) m (2) (M is a metal atom of titanium, zirconium, or aluminum. R ″ may be the same or different and each is hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and Represents a substitution product thereof, and m means the valence of the metal atom M.)

【0027】Mはチタン、ジルコニウム、またはアルミ
ニウムの金属原子である。ボロン、マグネシウムなど
は、反応性がシリコンアルコキシドと同等程度であるた
めに低温硬化に効果がなかったり、あるいは、反応性が
極端に高すぎて実用的でない。チタン、ジルコニウム、
アルミニウムのアルコキシド化合物を用いた場合のみ、
本発明の特徴である被膜の硬化温度を下げる効果が見ら
れ、高温高湿耐性に優れた被膜を得ることができ、光学
材料として適したものであることを掴んだ。さらには、
チタン、ジルコニウム、アルミニウムのうち、ジルコニ
ウムを用いた場合は、被膜の強靭性の向上にも非常に有
効であることから、特にジルコニウムアルコキシド、あ
るいはジルコニウムアルコキシドのキレート化合物を用
いるのが好ましい。また、チタンを用いた場合は、被膜
の屈折率の調製に非常に有効であることから、光学材料
の屈折率を調整することが必要な場合には、チタンアル
コキシド、あるいはチタンアルコキシドのキレート化合
物を用いることが好ましい。R''は、例えば、水素;メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基などの
アルキル基;フェニル基などのアリール基;アセチル
基、β−メトキシエトキシ基などの置換アルキル基など
が挙げられる。
M is a metal atom of titanium, zirconium, or aluminum. Boron, magnesium, etc. are not practical for low-temperature curing because they have a reactivity similar to that of silicon alkoxide, or are extremely high in reactivity and are not practical. Titanium, zirconium,
Only when using an aluminum alkoxide compound,
The effect of lowering the curing temperature of the coating, which is a feature of the present invention, was observed, and a coating excellent in high-temperature and high-humidity resistance could be obtained, and it was found to be suitable as an optical material. Moreover,
Of the titanium, zirconium, and aluminum, when zirconium is used, it is very effective to improve the toughness of the coating film, so that it is particularly preferable to use zirconium alkoxide or a chelate compound of zirconium alkoxide. Further, when titanium is used, it is very effective in adjusting the refractive index of the coating film. Therefore, when it is necessary to adjust the refractive index of the optical material, titanium alkoxide or a chelate compound of titanium alkoxide is used. It is preferable to use. R ″ is, for example, hydrogen; methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group,
Examples thereof include alkyl groups such as n-butyl group, sec-butyl group and t-butyl group; aryl groups such as phenyl group; substituted alkyl groups such as acetyl group and β-methoxyethoxy group.

【0028】具体例としては、テトライソプロポキシチ
タン、テトラノルマルブトキシチタン、テトライソプロ
ポキシジルコニウム、テトラノルマルブトキシジルコニ
ウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリノルマル
ブトキシアルミニウムなどが挙げられる。
Specific examples thereof include tetraisopropoxytitanium, tetranormalbutoxytitanium, tetraisopropoxyzirconium, tetranormalbutoxyzirconium, triisopropoxyaluminum, and trinormalbutoxyaluminum.

【0029】また、本発明において用いられる金属キレ
ート化合物は上記一般式(2)で表わされる金属アルコ
キシドから誘導される金属キレート化合物である。
The metal chelate compound used in the present invention is a metal chelate compound derived from the metal alkoxide represented by the general formula (2).

【0030】また、金属キレート化合物は、金属アルコ
キシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得
られ、下記一般式(3)に示されるようなものが好まし
い。
Further, the metal chelate compound is easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent, and a compound represented by the following general formula (3) is preferable.

【化1】 (ただし、Mはチタン、ジルコニウム、またはアルミニ
ウムの金属原子である。R''は同一もしくは異なってい
ても良く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、およびそれらの置換体、R1 は同一もしく
は異なっていても良く、それぞれ水素、アルキル基、ア
リール基、アルケニル基、アルコキシ基およびそれらの
置換体を表わす。また、mは金属原子Mの原子価、nは
0〜mの数を意味する。)
[Chemical 1] (However, M is a metal atom of titanium, zirconium, or aluminum. R ″ may be the same or different, and each of hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and their substitution products, and R 1 is They may be the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkoxy group or a substitution product thereof, m is the valence of the metal atom M, and n is a number from 0 to m. Yes.)

【0031】キレート化剤の例としては、アセチルアセ
トン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどの
β−ジケトン;アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチ
ルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができ
る。
Examples of the chelating agent include β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone and dibenzoylmethane; β-keto acid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate.

【0032】金属アルコキシドは種々の化学理論量のキ
レート化剤と反応して相当する金属キレート化合物とな
るため、用いるキレート化剤の量は金属アルコキシド1
モルに対して、0.1〜10モルの範囲で、成分(A)
の反応性に応じて決めることが好ましい。すなわち、成
分(A)の反応性が低い場合には、金属アルコキシドあ
るいは低配位の金属キレート化合物を用いることができ
るが、成分(A)の反応性が高い場合には、より加水分
解安定性が高い高配位の金属キレート化合物を用いるの
が好ましい。
Since the metal alkoxide reacts with various stoichiometric amounts of chelating agents to form the corresponding metal chelate compounds, the amount of chelating agent used is 1
Ingredient (A) in the range of 0.1 to 10 moles relative to moles.
It is preferable to determine according to the reactivity of. That is, when the reactivity of the component (A) is low, a metal alkoxide or a low-coordination metal chelate compound can be used, but when the reactivity of the component (A) is high, the hydrolysis stability is higher. It is preferable to use a metal compound having a high coordination and a high coordination.

【0033】反応溶媒は生成するアルコールと共沸する
ものを用い、脱水処理を施したものを用いるのが好まし
い。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノールなど
のアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリ
コールなどのグリコール類;エチレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類;メチルイソブチルケト
ン、ジイソブチルケトンなどのケトン類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;エチ
ルアセテート、エチルセロソルブアセテート、3−メチ
ル−3−メトキシブチルアセテートなどのアセテート
類;トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンな
どの芳香族あるいは脂肪族炭化水素のほか、N−メチル
−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスル
ホキシドなどを挙げることができる。溶媒の量は任意に
選択可能であるが、金属アルコキシド1重量に対して、
1〜50.0重量の範囲で用いるのが好ましい。
It is preferable to use a reaction solvent which is azeotropic with the produced alcohol and which has been dehydrated. For example, methanol, ethanol, propanol,
Alcohols such as butanol and 3-methyl-3-methoxybutanol; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether and diethyl ether; methyl isobutyl ketone , Ketones such as diisobutyl ketone; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; acetates such as ethyl acetate, ethyl cellosolve acetate and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate; aromatics such as toluene, xylene, hexane and cyclohexane Alternatively, in addition to aliphatic hydrocarbons, N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, dimethyl sulfoxide, etc. may be mentioned. Door can be. The amount of the solvent can be arbitrarily selected, but with respect to 1 weight of the metal alkoxide,
It is preferably used in the range of 1 to 50.0 weight.

【0034】また、反応温度は凝固点から沸点の範囲で
通常選択される。
The reaction temperature is usually selected from the freezing point to the boiling point.

【0035】なお、反応雰囲気は窒素雰囲気下で行なう
のが好ましい。
The reaction atmosphere is preferably a nitrogen atmosphere.

【0036】本発明の光学材料形成用塗液組成物におい
ては、成分(A)のシロキサンポリマーと成分(B)の
金属アルコキシド、または該金属アルコキシドから誘導
される金属キレート化合物とを各々、通常、有機溶媒、
好ましくは沸点100℃以上の有機溶剤を溶剤として用
いた溶液状態で用いる。溶剤は、成分(A)ではシロキ
サンポリマーを合成した際の反応溶媒、成分(B)では
金属キレート化合物を合成した際の反応溶媒をそれぞ
れ、そのまま溶剤として用いることもできる。また、必
要に応じて、反応後、塗布性向上などのために溶剤置換
を行なうこと、濃度調製のために溶剤の添加、除去を行
なうことも可能である。この時の溶剤としては、シロキ
サンポリマーや金属キレート化合物の合成に用いること
ができる溶媒として前述した溶剤を単独、あるいは2種
以上を混合して用いることができる。
In the coating composition for forming an optical material of the present invention, the siloxane polymer of the component (A) and the metal alkoxide of the component (B), or the metal chelate compound derived from the metal alkoxide, are each usually Organic solvent,
Preferably, an organic solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher is used as a solvent in a solution state. As the solvent, the reaction solvent used when synthesizing the siloxane polymer in the component (A) and the reaction solvent used when synthesizing the metal chelate compound in the component (B) can be used as they are. Further, if necessary, after the reaction, it is possible to carry out solvent substitution for the purpose of improving the coating property, and to add or remove the solvent for adjusting the concentration. As the solvent at this time, the above-mentioned solvents that can be used for the synthesis of the siloxane polymer or the metal chelate compound can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0037】本発明の光学材料形成用塗液組成物は、こ
れらの成分(A)のシロキサンポリマーの溶液と成分
(B)の金属アルコキシド、あるいは金属キレート化合
物との溶液を均一に混合することにより得られる。
The coating liquid composition for forming an optical material of the present invention is prepared by uniformly mixing the solution of the siloxane polymer of the component (A) and the solution of the metal alkoxide or the metal chelate compound of the component (B). can get.

【0038】混合の割合としては、シロキサンポリマー
100重量部に対し、金属アルコキシド、または金属キ
レート化合物0.1〜20重量部が好ましく、より好ま
しくは、0.5〜5重量部である。
The mixing ratio is preferably 0.1 to 20 parts by weight, and more preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the siloxane polymer.

【0039】混合方法としては、常温での混合した後、
1時間〜1日間程度の放置、あるいは、沸点以下での加
熱を数時間行なうのが好ましい。
As a mixing method, after mixing at room temperature,
It is preferable to leave it for about 1 hour to 1 day or to carry out heating at a temperature below the boiling point for several hours.

【0040】さらに、本発明の光学材料形成用塗液組成
物には、必要に応じて、膜硬化剤、粘度調整剤、界面活
性剤、安定化剤、着色剤、ガラス質形成剤などを添加す
ることができる。
Further, a film curing agent, a viscosity modifier, a surfactant, a stabilizer, a coloring agent, a vitreous forming agent and the like are added to the coating liquid composition for forming an optical material of the present invention, if necessary. can do.

【0041】次に、本発明の光学材料塗液組成物から光
学材料を用いた光学部材を製造する方法について説明す
る。
Next, a method for producing an optical member using an optical material from the optical material coating composition of the present invention will be described.

【0042】本発明の光学材料形成用塗液組成物をスピ
ン塗布、ディッピング塗布、スプレー塗布、スクリーン
塗布、スクリーン印刷、オフセット印刷などの公知の方
法によって、形成されるべき基板、例えばガラス板上に
塗布し、乾燥する。乾燥は、50〜150℃の範囲で3
0秒〜30分間行ない、乾燥後の膜厚は、1〜20μm
とするのが好ましい。
The coating composition for forming an optical material of the present invention is formed on a substrate to be formed, for example, a glass plate, by a known method such as spin coating, dipping coating, spray coating, screen coating, screen printing and offset printing. Apply and dry. Dry in the range of 50-150 ℃
The film thickness after drying is 0 to 30 minutes, and is 1 to 20 μm.
Is preferred.

【0043】乾燥後、必要であれば、PLAなどの露光
機を用い、50〜2000mJ/cm(365nm)
を全面露光する。
After drying, if necessary, using an exposure device such as PLA, 50 to 2000 mJ / cm 2 (365 nm)
Exposing the entire surface.

【0044】該塗液組成物が光によって酸または塩基を
発生する化合物を含有している時等、所望のマスクを介
して露光することによって、パターン形成を行うことも
できる。パターン形成を行う場合は、露光後、加熱(ポ
ストエクスポージャーベーク)を行なうことが好まし
い。ポストエクスポージャーベークを行なうことによっ
て、露光によって発生した酸または塩基性化合物の作用
により露光部の高分子量化が未露光部より進行し、未露
光部との現像液溶解度差が広がり、解像コントラストが
向上するという効果が得られる。ポストエクスポージャ
ベークは50〜150℃の範囲で、30秒〜30分間行
なうのが好ましい。
Pattern formation can also be carried out by exposing through a desired mask when the coating liquid composition contains a compound capable of generating an acid or a base by light. When forming a pattern, it is preferable to perform heating (post-exposure bake) after exposure. By performing the post-exposure bake, the high molecular weight of the exposed area progresses from the unexposed area due to the action of the acid or basic compound generated by the exposure, the difference in solubility of the developer with the unexposed area widens, and the resolution contrast increases. The effect of improvement is obtained. Post-exposure bake is preferably performed in the range of 50 to 150 ° C. for 30 seconds to 30 minutes.

【0045】次に、現像を行なう。現像液としては、有
機溶剤、アルカリ性水溶液などを用いることができる。
具体的には、イソプロパノール、プロピレングリコール
モノメチルエーテルなどの有機溶剤;テトラメチルアン
モニウムハイドロオキサイド水溶液、炭酸ナトリウム水
溶液などのアルカリ性水溶液が挙げられる。現像方法
は、これらの現像液に10秒〜10分間浸漬することが
好ましい。
Next, development is performed. As the developing solution, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like can be used.
Specific examples thereof include organic solvents such as isopropanol and propylene glycol monomethyl ether; alkaline aqueous solutions such as tetramethylammonium hydroxide aqueous solution and sodium carbonate aqueous solution. As for the developing method, it is preferable to immerse in these developing solutions for 10 seconds to 10 minutes.

【0046】現像後、水あるいは一般有機溶剤でリンス
し、乾燥し、必要であれば、パターン化された膜をさら
に全面露光することができる。
After the development, the film can be rinsed with water or a general organic solvent and dried, and if necessary, the patterned film can be further exposed to the whole surface.

【0047】その後、膜を加熱硬化する。加熱硬化は、
200〜500℃の範囲で10分〜3時間行なうのが好
ましい。
After that, the film is cured by heating. Heat curing
It is preferably carried out in the range of 200 to 500 ° C. for 10 minutes to 3 hours.

【0048】乾燥後あるいは加熱硬化後、所望のマスク
を介して、適当な波長を有する光源を用いて露光するこ
とも可能である。この工程によって、露光部と未露光部
の間に屈折率差が生じ、例えば光導波路のコア部材とク
ラッド部材に使い分けることも可能である。
After drying or heat curing, it is also possible to expose with a light source having an appropriate wavelength through a desired mask. By this step, a difference in refractive index is generated between the exposed portion and the unexposed portion, and it is possible to properly use the core member and the clad member of the optical waveguide, for example.

【0049】加熱硬化後の膜厚は、適用される光学部材
の種類や構造にもよるが、1〜20μmが適当であり、
さらには2〜10μmが好ましい。この膜厚は、塗布方
法によって調節することが可能である。
The film thickness after heat curing is appropriately 1 to 20 μm, though it depends on the type and structure of the applied optical member.
Furthermore, 2-10 micrometers is preferable. This film thickness can be adjusted by the coating method.

【0050】さらに得られた膜を平坦化、高密着化など
の目的で、CMP(ケミカルメカニカルポリッシング)
処理すること、プラズマ処理することなども可能であ
る。
Further, CMP (Chemical Mechanical Polishing) is carried out for the purpose of flattening the film thus obtained and enhancing the adhesion thereof.
Treatment, plasma treatment, etc. are also possible.

【0051】以上のようにして、光学部材が形成され
る。
The optical member is formed as described above.

【0052】本発明において光学材料とは光学部材に用
いられるものであり、光学部材とは、光による信号伝達
システムに用いられるあらゆる部材をいう。例えば、光
導波路は、屈折率の高いコア部が屈折率の低いクラッド
部に覆われ、光信号はコア部を全反射しながら伝搬する
ものであり、本発明の光学材料をこのコア部材およびク
ラッド部材として用いることができる。また、光フィル
ターは、通信光以外の波長の光を遮断するために光ファ
イバーの間に挟んで用いられるものであり、本発明の光
学材料をこの光フィルターの基板として用いることがで
きる。
In the present invention, the optical material is used for an optical member, and the optical member means any member used for an optical signal transmission system. For example, in an optical waveguide, a core part having a high refractive index is covered with a clad part having a low refractive index, and an optical signal propagates while being totally reflected in the core part. It can be used as a member. The optical filter is used by being sandwiched between optical fibers in order to block light having a wavelength other than communication light, and the optical material of the present invention can be used as a substrate of this optical filter.

【0053】本発明の光学材料形成用塗液組成物から得
られる被膜は、光学材料のほか、カラーフィルタ保護
膜、半導体素子の保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜、導波
路形成用材料、位相シフタ用材料、さらには、各種電子
部品の保護膜として用いることができる。
The coating film obtained from the coating composition for forming an optical material of the present invention includes, in addition to optical materials, a color filter protective film, a semiconductor element protective film, an interlayer insulating film, a planarizing film, a waveguide forming material, It can be used as a material for phase shifters and as a protective film for various electronic components.

【0054】[0054]

【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples.

【0055】実施例1 成分(A) メチルトリメトキシシラン10モル、フェニルトリメト
キシシラン10モルのアルコキシシランを3−メチル−
3−メトキシブタノール4kgに溶解し、これに、リン
酸水溶液(水60モル、リン酸0.17モル)を攪拌し
ながら加えた。得られた溶液を100℃のオイルバスで
加熱し、低沸点物を留出させながら、2時間反応させ
た。その後、さらに130℃のオイルバスで加熱し、低
沸点物を留出させながら、2時間反応させた。得られた
溶液を3−メチル−3−メトキシブタノールを用いて、
濃度30%に調製した。(以下、濃度は固形分濃度を示
す) 成分(B) テトラブトキシジルコニウム1モルを3−メチル−3−
メトキシブタノール1500gに溶解し、これにアセト
酢酸エチル5モルを攪拌しながら加えた。得られた溶液
を室温で1時間を撹拌しながら、反応させた。(濃度:
4.7%) 次に、成分(A)650gと、成分(B)50gを混合
して、室温にて2時間撹拌し、均一な溶液とし、さらに
3−メチル−3−メトキシブタノールを用いて、固形分
濃度を25%に調製して、光学材料形成用塗液を得た。
Example 1 Component (A) 10 mol of methyltrimethoxysilane and 10 mol of phenyltrimethoxysilane were used as 3-methyl-alkoxysilane.
It was dissolved in 4 kg of 3-methoxybutanol, and an aqueous phosphoric acid solution (60 mol of water, 0.17 mol of phosphoric acid) was added thereto while stirring. The obtained solution was heated in an oil bath at 100 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling low-boiling substances. Then, the mixture was further heated in an oil bath at 130 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling out low-boiling substances. The resulting solution was treated with 3-methyl-3-methoxybutanol,
The concentration was adjusted to 30%. (Hereinafter, the concentration indicates the solid content concentration) Component (B) 1 mol of tetrabutoxyzirconium is added to 3-methyl-3-
It was dissolved in 1500 g of methoxybutanol, and 5 mol of ethyl acetoacetate was added thereto with stirring. The resulting solution was reacted at room temperature for 1 hour with stirring. (concentration:
4.7%) Next, 650 g of the component (A) and 50 g of the component (B) were mixed and stirred at room temperature for 2 hours to obtain a uniform solution, and further 3-methyl-3-methoxybutanol was used. The solid content concentration was adjusted to 25% to obtain a coating liquid for forming an optical material.

【0056】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
No problems such as gelation, precipitation, and poor filterability were found in the obtained coating liquid.

【0057】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating solution was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0058】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0059】また、強靭性は鉛筆硬度試験で5Hという
結果であった。
The toughness was 5H in the pencil hardness test.

【0060】実施例2 成分(A) メチルトリメトキシシラン7モル、ジメチルジメトキシ
シラン3モル、フェニルトリメトキシシラン2モルのア
ルコキシシランをプロピレングリコールモノメチルエー
テル1.5kgに溶解し、これに、酢酸水溶液(水33
モル、酢酸0.1モル)を攪拌しながら加えた。得られ
た溶液を100℃のオイルバスで加熱し、低沸点物を留
出させながら、2時間反応させた。その後、さらに13
0℃のオイルバスで加熱し、低沸点物を留出させなが
ら、2時間反応させた。得られた溶液を3−メチル−3
−メトキシブチルアセテートを用いて、濃度30%に調
製した。
Example 2 Component (A) Methyltrimethoxysilane (7 mol), dimethyldimethoxysilane (3 mol) and phenyltrimethoxysilane (2 mol) of alkoxysilane were dissolved in propylene glycol monomethyl ether (1.5 kg). Water 33
Mol, acetic acid 0.1 mol) was added with stirring. The obtained solution was heated in an oil bath at 100 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling low-boiling substances. Then 13 more
The mixture was heated in an oil bath at 0 ° C., and the reaction was carried out for 2 hours while distilling out low-boiling substances. The resulting solution is 3-methyl-3
-Methoxybutyl acetate was used to adjust the concentration to 30%.

【0061】次に、成分(A)500gと、実施例1の
成分(B)100gを混合して、室温にて2時間撹拌
し、均一な溶液とし、さらに3−メチル−3−メトキシ
ブタノールアセテートを用いて、固形分濃度を25%に
調製して、光学材料形成用塗液を得た。
Next, 500 g of the component (A) and 100 g of the component (B) of Example 1 were mixed and stirred at room temperature for 2 hours to give a uniform solution, and further 3-methyl-3-methoxybutanol acetate. Was used to adjust the solid content concentration to 25% to obtain a coating liquid for forming an optical material.

【0062】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The obtained coating liquid did not show any problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0063】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0064】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0065】また、強靭性は鉛筆硬度試験で4Hという
結果であった。
The toughness was 4H in the pencil hardness test.

【0066】実施例3 成分(A) メチルトリメトキシシラン1モル、フェニルトリメトキ
シシラン1モル、γ−メタクリロキシプロピルトリエト
キシシラン2モルのアルコキシシランをプロピレングリ
コールモノメチルエーテル1kgに溶解し、これに、リ
ン酸水溶液(水20モル、リン酸0.03モル)を攪拌
しながら加えた。得られた溶液を100℃のオイルバス
で加熱し、低沸点物を留出させながら、2時間反応させ
た。その後、さらに130℃のオイルバスで加熱し、低
沸点物を留出させながら、2時間反応させた。得られた
溶液をプロピレングリコールモノメチルエーテルを用い
て、濃度30%に調製した。
Example 3 Component (A) 1 mol of methyltrimethoxysilane, 1 mol of phenyltrimethoxysilane, and 2 mol of γ-methacryloxypropyltriethoxysilane of alkoxysilane were dissolved in 1 kg of propylene glycol monomethyl ether. An aqueous phosphoric acid solution (20 mol of water, 0.03 mol of phosphoric acid) was added with stirring. The obtained solution was heated in an oil bath at 100 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling low-boiling substances. Then, the mixture was further heated in an oil bath at 130 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling out low-boiling substances. The obtained solution was adjusted to a concentration of 30% using propylene glycol monomethyl ether.

【0067】次に、成分(A)500gと、実施例1の
成分(B)5gを混合して、室温にて2時間撹拌し、均
一な溶液とし、さらに3−メチル−3−メトキシブタノ
ールを用いて、固形分濃度を25%に調製して、光学材
料形成用塗液を得た。
Next, 500 g of the component (A) and 5 g of the component (B) of Example 1 were mixed and stirred at room temperature for 2 hours to give a uniform solution, and further 3-methyl-3-methoxybutanol was added. Then, the solid content concentration was adjusted to 25% to obtain a coating liquid for forming an optical material.

【0068】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
No problems such as gelation, precipitation, and poor filterability were found in the obtained coating liquid.

【0069】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0070】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0071】また、強靭性は鉛筆硬度試験で5Hという
結果であった。
The toughness was 5H in the pencil hardness test.

【0072】実施例4 成分(A) メチルトリメトキシシラン1モル、フェニルトリメトキ
シシラン1モル、ビニルトリエトキシシラン1モルのア
ルコキシシランを3−メチル−3−メトキシブタノール
1000gに溶解し、これに、リン酸水溶液(水9モ
ル、リン酸0.06モル)を攪拌しながら加えた。得ら
れた溶液を100℃のオイルバスで加熱し、低沸点物を
留出させながら、2時間反応させた。その後、さらに1
30℃のオイルバスで加熱し、低沸点物を留出させなが
ら、2時間反応させた。得られた溶液を3−メチル−3
−メトキシブチルアセテートを用いて、濃度30%に調
製した。 次に、成分(A)300gと、実施例1の成
分(B)100gを混合して、室温にて2時間撹拌し、
均一な溶液とし、さらに3−メチル−3−メトキシブタ
ノールを用いて、固形分濃度を25%に調製して、光学
材料形成用塗液を得た。
Example 4 Component (A) 1 mol of methyltrimethoxysilane, 1 mol of phenyltrimethoxysilane, and 1 mol of vinyltriethoxysilane were dissolved in 1000 g of 3-methyl-3-methoxybutanol. An aqueous phosphoric acid solution (9 mol of water, 0.06 mol of phosphoric acid) was added with stirring. The obtained solution was heated in an oil bath at 100 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling low-boiling substances. Then one more
The mixture was heated in an oil bath at 30 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling out low boiling substances. The resulting solution is 3-methyl-3
-Methoxybutyl acetate was used to adjust the concentration to 30%. Next, 300 g of the component (A) and 100 g of the component (B) of Example 1 were mixed and stirred at room temperature for 2 hours,
A uniform solution was prepared, and further 3-methyl-3-methoxybutanol was used to adjust the solid content concentration to 25% to obtain a coating liquid for forming an optical material.

【0073】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The obtained coating liquid did not show any problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0074】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0075】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0076】また、強靭性は鉛筆硬度試験で5Hという
結果であった。
The toughness was 5H in the pencil hardness test.

【0077】実施例5 実施例1において、成分(B)として、テトラノルマル
ブチルジルコニウムの3−メチル−3−メトキシブタノ
ール溶液(濃度:4.7%)を用いて、光学材料形成用
塗液を得た。
Example 5 In Example 1, a coating solution for forming an optical material was prepared by using a solution of tetra-normal-butylzirconium in 3-methyl-3-methoxybutanol (concentration: 4.7%) as the component (B). Obtained.

【0078】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
No problems such as gelation, precipitation, and poor filterability were found in the obtained coating liquid.

【0079】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The coating solution thus obtained was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0080】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0081】また、強靭性は鉛筆硬度試験で5Hという
結果であった。
The toughness was 5H in the pencil hardness test.

【0082】実施例6 実施例2において、成分(B)として、テトラノルマル
ブチルジルコニウムの3−メチル−3−メトキシブタノ
ール溶液(濃度:4.7%)を用いて、光学材料形成用
塗液を得た。
Example 6 In Example 2, a coating solution for forming an optical material was prepared by using a solution of tetra-normal-butylzirconium in 3-methyl-3-methoxybutanol (concentration: 4.7%) as the component (B). Obtained.

【0083】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The obtained coating liquid did not show any problems such as gelation, precipitate formation, and poor filterability.

【0084】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0085】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0086】また、強靭性は鉛筆硬度試験で4Hという
結果であった。
The toughness was 4H in the pencil hardness test.

【0087】実施例7 実施例3において、成分(B)として、テトラノルマル
ブチルジルコニウムの3−メチル−3−メトキシブタノ
ール溶液(濃度:4.7%)を用いて、光学材料形成用
塗液を得た。
Example 7 In Example 3, a coating solution for forming an optical material was prepared by using a solution of tetra-normal-butylzirconium in 3-methyl-3-methoxybutanol (concentration: 4.7%) as the component (B). Obtained.

【0088】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The resulting coating liquid did not show any problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0089】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0090】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0091】また、強靭性は鉛筆硬度試験で5Hという
結果であった。
The toughness was 5H in the pencil hardness test.

【0092】実施例8 実施例4において、成分(B)として、テトラノルマル
ブチルジルコニウムの3−メチル−3−メトキシブタノ
ール溶液(濃度:4.7%)を用いて、光学材料形成用
塗液を得た。
Example 8 In Example 4, a coating solution for forming an optical material was prepared by using a solution of tetra-normal-butylzirconium in 3-methyl-3-methoxybutanol (concentration: 4.7%) as the component (B). Obtained.

【0093】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
No problems such as gelation, precipitate formation, and poor filterability were found in the obtained coating liquid.

【0094】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0095】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0096】また、強靭性は鉛筆硬度試験で5Hという
結果であった。
The toughness was 5H in the pencil hardness test.

【0097】実施例9 実施例1において、成分(B)として、次のものを用い
て、光学材料形成用塗液を得た。
Example 9 A coating liquid for forming an optical material was obtained by using the following components as the component (B) in Example 1.

【0098】成分(B) テトライソプロポキシチタン1モルを3−メチル−3−
メトキシブタノール1500gに溶解し、これにアセチ
ルアセトン5モルを攪拌しながら加えた。得られた溶液
を室温で1時間を撹拌しながら、反応させた。(濃度:
3.5%) 得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾過性不良とい
った問題は全く見られなかった。
Component (B) 1 mol of tetraisopropoxy titanium is added to 3-methyl-3-
It was dissolved in 1500 g of methoxybutanol, and 5 mol of acetylacetone was added thereto with stirring. The resulting solution was reacted at room temperature for 1 hour with stirring. (concentration:
3.5%) The obtained coating liquid did not have any problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0099】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0100】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0101】また、強靭性は鉛筆硬度試験で2Hという
結果であった。
The toughness was 2H in the pencil hardness test.

【0102】実施例10 実施例2において、成分(B)として、実施例9の成分
(B)を用いて、光学材料形成用塗液を得た。
Example 10 A coating liquid for forming an optical material was obtained by using the component (B) of Example 9 as the component (B) in Example 2.

【0103】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The coating liquid thus obtained had no problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0104】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0105】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0106】また、強靭性は鉛筆硬度試験でHという結
果であった。
The toughness was H in the pencil hardness test.

【0107】実施例11 実施例3において、成分(B)として、実施例9の成分
(B)を用いて、光学材料形成用塗液を得た。
Example 11 A coating liquid for forming an optical material was obtained by using the component (B) of Example 9 as the component (B) in Example 3.

【0108】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The coating liquid thus obtained had no problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0109】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating solution was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0110】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0111】また、強靭性は鉛筆硬度試験で2Hという
結果であった。
The toughness was 2H in the pencil hardness test.

【0112】実施例12 実施例4において、成分(B)として、実施例9の成分
(B)を用いて、光学材料形成用塗液を得た。
Example 12 Using the component (B) of Example 9 as the component (B) in Example 4, a coating liquid for forming an optical material was obtained.

【0113】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The obtained coating liquid did not show any problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0114】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0115】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0116】また、強靭性は鉛筆硬度試験で2Hという
結果であった。
The toughness was 2H in the pencil hardness test.

【0117】実施例13 実施例1において、成分(B)として、次のものを用い
て、光学材料形成用塗液を得た。
Example 13 A coating liquid for forming an optical material was obtained by using the following components as the component (B) in Example 1.

【0118】成分(B) トリスイソプロポキシアルミニウム1モルをトルエン1
000gに溶解し、これにアセト酢酸エチル4モルを攪
拌しながら加えた。得られた溶液を室温で1時間を撹拌
しながら、反応させた。(濃度:3.0%) 得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾過性不良とい
った問題は全く見られなかった。
Component (B) 1 mol of trisisopropoxyaluminum and 1 part of toluene
It was dissolved in 000 g and 4 mol of ethyl acetoacetate was added thereto with stirring. The resulting solution was reacted at room temperature for 1 hour with stirring. (Concentration: 3.0%) In the obtained coating liquid, there were no problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0119】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0120】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0121】また、強靭性は鉛筆硬度試験で3Hという
結果であった。
The toughness was 3H in the pencil hardness test.

【0122】実施例14 実施例2において、成分(B)として、実施例13の成
分(B)を用いて、光学材料形成用塗液を得た。
Example 14 In Example 2, the component (B) of Example 13 was used as the component (B) to obtain a coating liquid for forming an optical material.

【0123】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
No problems such as gelation, precipitation, and poor filterability were found in the obtained coating liquid.

【0124】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating liquid was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0125】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0126】また、強靭性は鉛筆硬度試験で2Hという
結果であった。
The toughness was 2H in the pencil hardness test.

【0127】実施例15 実施例3において、成分(B)として、実施例13の成
分(B)を用いて、光学材料形成用塗液を得た。
Example 15 Using the component (B) of Example 13 as the component (B) in Example 3, a coating liquid for forming an optical material was obtained.

【0128】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The obtained coating liquid did not show any problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0129】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating solution was applied onto a glass plate with a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0130】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after being left in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0131】また、強靭性は鉛筆硬度試験で3Hという
結果であった。
The toughness was 3H in the pencil hardness test.

【0132】実施例16 実施例4において、成分(B)として、実施例13の成
分(B)を用いて、光学材料形成用塗液を得た。
Example 16 A coating liquid for forming an optical material was obtained by using the component (B) of Example 13 as the component (B) in Example 4.

【0133】得られた塗液には、ゲル化、沈殿生成、濾
過性不良といった問題は全く見られなかった。
The obtained coating liquid did not show any problems such as gelation, precipitation, and poor filterability.

【0134】得られた塗液をガラス板上にスピンコータ
ーを用いて塗布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2
μmで欠陥の有無を調べ、次に、この被膜を120℃、
100%RHの高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化
の有無を調べた。
The obtained coating solution was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 2
The presence or absence of defects is checked by μm, and then this coating is applied at 120 ° C.
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere of 100% RH and examined for deterioration.

【0135】その結果、高温高湿雰囲気放置前後とも
に、ピンホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離など
の問題は発生しなかった。
As a result, problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling did not occur before and after standing in a high temperature and high humidity atmosphere.

【0136】また、強靭性は鉛筆硬度試験で3Hという
結果であった。
The toughness was 3H in the pencil hardness test.

【0137】比較例1 実施例1で用いた成分(A)のみからなる塗液をガラス
板上にスピンコーターを用いて塗布し、280℃で1時
間キュアし、膜厚2μmで欠陥の有無を調べ、次に、こ
の被膜を120℃、100%RHの高温高湿雰囲気下に
1日間放置し、劣化の有無を調べた。
Comparative Example 1 A coating solution containing only the component (A) used in Example 1 was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to check for defects with a film thickness of 2 μm. Then, this coating was left to stand in a high temperature and high humidity atmosphere of 120 ° C. and 100% RH for 1 day, and examined for deterioration.

【0138】その結果、高温高湿雰囲気放置前は、ピン
ホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題は
発生しなかったものの、高温高湿雰囲気放置後、ピンホ
ール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題が発
生した。
As a result, although no problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling occurred before leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, pinhole-like defects and microcracks, after leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, Problems such as peeling occurred.

【0139】また、強靭性は鉛筆硬度試験でHという結
果であった。
Further, the toughness was H in the pencil hardness test.

【0140】比較例2 実施例2で用いた成分(A)のみからなる塗液をガラス
板上にスピンコーターを用いて塗布し、280℃で1時
間キュアし、膜厚2μmで欠陥の有無を調べ、次に、こ
の被膜を120℃、100%RHの高温高湿雰囲気下に
1日間放置し、劣化の有無を調べた。
Comparative Example 2 A coating solution containing only the component (A) used in Example 2 was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to determine whether there was a defect at a film thickness of 2 μm. Then, this coating was left to stand in a high temperature and high humidity atmosphere of 120 ° C. and 100% RH for 1 day, and examined for deterioration.

【0141】その結果、高温高湿雰囲気放置前は、ピン
ホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題は
発生しなかったものの、高温高湿雰囲気放置後、ピンホ
ール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題が発
生した。
As a result, although no problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling occurred before leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, pinhole-like defects and microcracks, after leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, Problems such as peeling occurred.

【0142】また、強靭性は鉛筆硬度試験でBという結
果であった。
The toughness was B in the pencil hardness test.

【0143】比較例3 実施例3で用いた成分(A)のみからなる塗液をガラス
板上にスピンコーターを用いて塗布し、280℃で1時
間キュアし、膜厚2μmで欠陥の有無を調べ、次に、こ
の被膜を120℃、100%RHの高温高湿雰囲気下に
1日間放置し、劣化の有無を調べた。
Comparative Example 3 A glass plate was coated with a coating solution containing only the component (A) used in Example 3 using a spin coater and cured at 280 ° C. for 1 hour to determine whether there was a defect at a film thickness of 2 μm. Then, this coating was left to stand in a high temperature and high humidity atmosphere of 120 ° C. and 100% RH for 1 day, and examined for deterioration.

【0144】その結果、高温高湿雰囲気放置前は、ピン
ホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題は
発生しなかったものの、高温高湿雰囲気放置後、ピンホ
ール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題が発
生した。
As a result, although no problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling occurred before leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, pinhole-like defects and microcracks, after leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, Problems such as peeling occurred.

【0145】また、強靭性は鉛筆硬度試験で2Hという
結果であった。
The toughness was 2H in the pencil hardness test.

【0146】比較例4 実施例4で用いた成分(A)のみからなる塗液をガラス
板上にスピンコーターを用いて塗布し、280℃で1時
間キュアし、膜厚2μmで欠陥の有無を調べ、次に、こ
の被膜を120℃、100%RHの高温高湿雰囲気下に
1日間放置し、劣化の有無を調べた。
Comparative Example 4 A glass plate was coated with a coating solution containing only the component (A) used in Example 4 using a spin coater, and the coating was cured at 280 ° C. for 1 hour. Then, this coating was left to stand in a high temperature and high humidity atmosphere of 120 ° C. and 100% RH for 1 day, and examined for deterioration.

【0147】その結果、高温高湿雰囲気放置前は、ピン
ホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題は
発生しなかったものの、高温高湿雰囲気放置後、ピンホ
ール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題が発
生した。
As a result, although no problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling occurred before leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, pinhole-like defects and microcracks, after leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, Problems such as peeling occurred.

【0148】また、強靭性は鉛筆硬度試験で2Hという
結果であった。
The toughness was 2H in the pencil hardness test.

【0149】比較例5 メチルトリメトキシシラン10モル、フェニルトリメト
キシシラン10モルのアルコキシシランとテトラブトキ
シジルコニウム0.1モルを3−メチル−3−メトキシ
ブタノール4kgに溶解し、これに、リン酸水溶液(水
60モル、リン酸0.17モル)を攪拌しながら加え
た。得られた溶液を100℃のオイルバスで加熱し、低
沸点物を留出させながら、2時間反応させた。その後、
さらに130℃のオイルバスで加熱し、低沸点物を留出
させながら、2時間反応させた。得られた溶液を3−メ
チル−3−メトキシブタノールを用いて、濃度25%に
調製し、光学材料形成用塗液を得た。
Comparative Example 5 10 mol of methyltrimethoxysilane, 10 mol of phenyltrimethoxysilane and 0.1 mol of tetrabutoxyzirconium were dissolved in 4 kg of 3-methyl-3-methoxybutanol, and an aqueous phosphoric acid solution was added thereto. (60 mol of water, 0.17 mol of phosphoric acid) was added with stirring. The obtained solution was heated in an oil bath at 100 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling low-boiling substances. afterwards,
Further, the mixture was heated in an oil bath at 130 ° C., and a reaction was carried out for 2 hours while distilling out low-boiling substances. The obtained solution was adjusted to have a concentration of 25% using 3-methyl-3-methoxybutanol to obtain a coating liquid for forming an optical material.

【0150】しかし、得られた塗液は、0.5μmフィ
ルターで濾過することができず、ガラス板上に塗布する
ことができなかった。
However, the obtained coating liquid could not be filtered with a 0.5 μm filter, and could not be applied onto a glass plate.

【0151】比較例6 実施例1において、成分(B)として、次のものを用い
て、光学材料形成用塗液を得た。
Comparative Example 6 A coating liquid for forming an optical material was obtained by using the following components as the component (B) in Example 1.

【0152】成分(B) トリイソプロポキシボロン1モルを3−メチル−3−メ
トキシブタノール1500gに溶解し、これにアセチル
アセトン4モルを攪拌しながら加えた。得られた溶液を
室温で1時間を撹拌しながら、反応させた。(濃度:
1.7%) 得られた塗液をガラス板上にスピンコーターを用いて塗
布し、280℃で1時間キュアし、膜厚2μmで欠陥の
有無を調べ、次に、この被膜を120℃、100%RH
の高温高湿雰囲気下に1日間放置し、劣化の有無を調べ
た。
Component (B) 1 mol of triisopropoxyborone was dissolved in 1500 g of 3-methyl-3-methoxybutanol, and 4 mol of acetylacetone was added thereto with stirring. The resulting solution was reacted at room temperature for 1 hour with stirring. (concentration:
1.7%) The obtained coating liquid was applied onto a glass plate using a spin coater, cured at 280 ° C. for 1 hour, and checked for defects at a film thickness of 2 μm. 100% RH
It was left for 1 day in a high temperature and high humidity atmosphere and examined for deterioration.

【0153】その結果、高温高湿雰囲気放置前は、ピン
ホール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題は
発生しなかったものの、高温高湿雰囲気放置後、ピンホ
ール状の欠陥やマイクロクラック、剥離などの問題が発
生した。
As a result, although no problems such as pinhole-like defects, microcracks, and peeling occurred before leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, pinhole-like defects and microcracks, after leaving in a high-temperature and high-humidity atmosphere, Problems such as peeling occurred.

【0154】実施例17 次の塗布液を用いて、光導波路を作製した。Example 17 An optical waveguide was prepared using the following coating solution.

【0155】A液:バッファ層、クラッド層形成用塗布
液 実施例1に示した塗布液を固形分濃度30%に調製した
ものを用いた。
Solution A: Coating solution for forming buffer layer and clad layer The coating solution shown in Example 1 was prepared to have a solid content concentration of 30%.

【0156】B液:コア層形成用塗布液 実施例9に示した塗布液を固形分濃度30%に調製した
ものを用いた。
Solution B: Core Layer-Forming Coating Solution The coating solution shown in Example 9 was prepared to a solid concentration of 30%.

【0157】ガラス板上にスピンコーターを用いてA液
を塗布し、250℃で1時間キュアして膜厚10μmの
バッファ層を形成した。さらに、B液をバッファ層上に
スピンコーターを用いて塗布し、250℃で1時間キュ
アして膜厚5μmのコア層を形成した。次に、このコア
層上にフォトレジストパターンを所望の形状に公知の方
法で形成し、このパターンをマスクとして、コア層をR
IE(リアクティブイオンエッチング)によりエッチン
グした。マスクを除去した後に、再びA液をスピンコー
ターを用いて塗布し、250℃で1時間キュアして膜厚
10μmのクラッド層を形成し、埋め込み型光導波路を
形成した。
Solution A was applied onto a glass plate using a spin coater and cured at 250 ° C. for 1 hour to form a buffer layer having a thickness of 10 μm. Further, the solution B was applied onto the buffer layer using a spin coater and cured at 250 ° C. for 1 hour to form a core layer having a thickness of 5 μm. Next, a photoresist pattern is formed in a desired shape on the core layer by a known method, and the core layer is subjected to R
It was etched by IE (reactive ion etching). After removing the mask, the solution A was applied again using a spin coater and cured at 250 ° C. for 1 hour to form a clad layer having a film thickness of 10 μm, thereby forming an embedded optical waveguide.

【0158】この得られた光導波路にはクラックなどの
欠陥は見られず、1.55μm波長光の伝搬損失を測定
したところ、〜10dB/mと良好な低損失性を示し
た。また、400℃の加熱による耐熱性試験や、50
℃、85%RHの高湿度下に1000時間放置するとい
う耐湿性試験によっても、その特性は変化しなかった。
No defects such as cracks were found in the obtained optical waveguide, and the propagation loss of light having a wavelength of 1.55 μm was measured to show a good low loss property of -10 dB / m. In addition, heat resistance test by heating at 400 ℃, 50
The characteristics did not change even by the humidity resistance test of leaving it under high humidity of 85 ° C. and 85% RH for 1000 hours.

【0159】比較例7 次の塗布液を用いて、実施例17と同様に光導波路を作
製した。
Comparative Example 7 An optical waveguide was prepared in the same manner as in Example 17, using the following coating liquid.

【0160】A液:バッファ層、クラッド層形成用塗布
液 比較例1に示した塗布液を固形分濃度30%に調製した
ものを用いた。
Liquid A: Coating liquid for forming buffer layer and clad layer The coating liquid shown in Comparative Example 1 prepared to have a solid content concentration of 30% was used.

【0161】B液:コア層形成用塗布液 比較例2に示した塗布液を固形分濃度30%に調製した
ものを用いた。
Solution B: Core Layer-Forming Coating Solution The coating solution shown in Comparative Example 2 was prepared to have a solid content concentration of 30%.

【0162】この得られた光導波路にはクラックなどの
欠陥は見られず、1.55μm波長光の伝搬損失を測定
したところ、〜10dB/mと良好な低損失性を示し
た。しかしながら、400℃の加熱による耐熱性試験で
は特性変化はみられなかったものの、50℃、85%R
Hの高湿度下に1000時間放置するという耐湿性試験
によって、1.55μm波長光の伝搬損失は〜200d
B/mと大きく低下した。
No defects such as cracks were found in the obtained optical waveguide, and when the propagation loss of light having a wavelength of 1.55 μm was measured, a good low loss property of -10 dB / m was exhibited. However, in the heat resistance test by heating at 400 ° C, no change in properties was observed, but at 50 ° C, 85% R
According to the humidity resistance test of leaving it under high humidity of H for 1000 hours, the propagation loss of 1.55 μm wavelength light is ~ 200 d.
B / m greatly decreased.

【0163】実施例18 実施例2に示した塗布液を固形分濃度30%に調製した
ものを、シリコンウェハ(仮基板)上にスピンコーター
を用いて塗布し、300℃で1時間キュアして膜厚10
μmの基板層を形成した。この基板層上にTiO2 とS
iO2 の多層膜を積層した。この後、仮基板から剥離
し、所定の大きさに切断し光フィルターを得た。
Example 18 The coating solution prepared in Example 2 having a solid content concentration of 30% was applied onto a silicon wafer (temporary substrate) by using a spin coater and cured at 300 ° C. for 1 hour. Film thickness 10
A μm substrate layer was formed. TiO 2 and S on this substrate layer
multi-layer film of iO 2 was laminated. Then, it was peeled from the temporary substrate and cut into a predetermined size to obtain an optical filter.

【0164】得られた光フィルターは光通信用に用いら
れる1.3μmおよび1.55μmの波長光に対して9
9%以上の透過率を示し、光フィルターとしての特性を
満足するものであった。
The obtained optical filter has a wavelength of 9 μm for 1.3 μm and 1.55 μm wavelength light used for optical communication.
It showed a transmittance of 9% or more and satisfied the characteristics as an optical filter.

【0165】[0165]

【発明の効果】本発明の光学材料形成用塗液組成物は、
高温高湿耐性、強靭性、塗布性、平坦性、屈折率均一性
に優れた被膜を得ることができ、かつ、製造方法が簡便
である。
The coating composition for forming an optical material of the present invention comprises:
A coating film excellent in high temperature and high humidity resistance, toughness, coatability, flatness, and uniform refractive index can be obtained, and the manufacturing method is simple.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02B 6/12 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location G02B 6/12

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】次の(A)成分と(B)成分とを含有する
ことを特徴とする光学材料形成用塗液組成物。 (A) 下記一般式(1) RX Si(OR´)4-X (1) (ただし、R、R´は同一もしくは異なっていても良
く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、またはそれらの置換体を表わす。また、Xは0〜
3の整数である。)で表わされるアルコキシシランを加
水分解および縮合させることによって得られるシロキサ
ンポリマー。 (B) 下記一般式(2) M(OR'')m (2) (ただし、Mはチタン、ジルコニウム、またはアルミニ
ウムの金属原子である。R''は同一もしくは異なってい
ても良く、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、およびそれらの置換体を表わす。また、m
は金属原子Mの原子価を意味する。)で表わされる金属
アルコキシドおよび/または該金属アルコキシドから誘
導される金属キレート化合物。
1. A coating liquid composition for forming an optical material, which comprises the following components (A) and (B). (A) The following general formula (1) R X Si (OR ') 4-X (1) (wherein R and R'may be the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, Or a substituent thereof, and X is 0 to
It is an integer of 3. ) A siloxane polymer obtained by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane represented by (B) The following general formula (2) M (OR ″) m (2) (where M is a metal atom of titanium, zirconium, or aluminum. R ″ may be the same or different and each is hydrogen. , An alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and a substitution product thereof.
Means the valence of the metal atom M. And a metal chelate compound derived from the metal alkoxide.
【請求項2】該金属アルコキシドがジルコニウムアルコ
キシドであることを特徴とする請求項1記載の光学材料
形成用塗液組成物。
2. The coating liquid composition for forming an optical material according to claim 1, wherein the metal alkoxide is zirconium alkoxide.
【請求項3】該アルコキシシランがアルコキシ基を除く
反応性基を有するものであることを特徴とする請求項1
記載の光学材料形成用塗液組成物。
3. The alkoxysilane has a reactive group excluding an alkoxy group.
The coating liquid composition for forming an optical material as described above.
【請求項4】該反応性基がビニル基、γ−メタクリロキ
シプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基の中から選
ばれる1種以上であることを特徴とする請求項3記載の
光学材料形成用塗液組成物。
4. The optical material formation according to claim 3, wherein the reactive group is at least one selected from a vinyl group, a γ-methacryloxypropyl group and a γ-glycidoxypropyl group. Coating composition for use.
【請求項5】アルコキシシランを加水分解および縮合さ
せる際に、溶剤の一部または全部として、沸点100〜
300℃の液体を用いることを特徴とする請求項1記載
の光学材料形成用塗液組成物。
5. When the alkoxysilane is hydrolyzed and condensed, a part or all of the solvent has a boiling point of 100 to 100.
The coating liquid composition for forming an optical material according to claim 1, wherein a liquid at 300 ° C. is used.
【請求項6】アルコキシシランを加水分解および縮合さ
せる際に、副生するアルコールおよび水を留出させなが
ら、反応を進行させることを特徴とする請求項1記載の
光学材料形成用塗液組成物。
6. The coating composition for forming an optical material according to claim 1, wherein the reaction is allowed to proceed while distilling alcohol and water which are by-products when the alkoxysilane is hydrolyzed and condensed. .
【請求項7】アルコキシシランを加水分解および縮合さ
せる際に、酸触媒を用いることを特徴とする請求項1記
載の光学材料形成用塗液組成物。
7. The coating composition for forming an optical material according to claim 1, wherein an acid catalyst is used when the alkoxysilane is hydrolyzed and condensed.
【請求項8】請求項1〜7のいずれかに記載の光学材料
形成用塗液組成物を硬化してなることを特徴とする光学
材料。
8. An optical material obtained by curing the coating liquid composition for forming an optical material according to any one of claims 1 to 7.
JP7032497A 1995-02-21 1995-02-21 Coating composition for formation of optical material and optical material Pending JPH07331173A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7032497A JPH07331173A (en) 1995-02-21 1995-02-21 Coating composition for formation of optical material and optical material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7032497A JPH07331173A (en) 1995-02-21 1995-02-21 Coating composition for formation of optical material and optical material

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12766494A Division JPH07331172A (en) 1994-06-09 1994-06-09 Coating composition for formation of color filter-protecting film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07331173A true JPH07331173A (en) 1995-12-19

Family

ID=12360640

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7032497A Pending JPH07331173A (en) 1995-02-21 1995-02-21 Coating composition for formation of optical material and optical material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07331173A (en)

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001010965A1 (en) * 1999-08-05 2001-02-15 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Coating composition
US6632585B1 (en) 1999-11-12 2003-10-14 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Photosensitive composition, and optical waveguide element and process for producing the same
JP2004506797A (en) * 2000-08-21 2004-03-04 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド Organic silicate resin as hard mask for organic polymer insulating film used in microelectronic device manufacturing
WO2005056488A1 (en) * 2003-12-10 2005-06-23 Central Glass Company, Limited Glass substrate having primer layer formed thereon and anti-fogging article
JP2005181638A (en) * 2003-12-18 2005-07-07 Kyocera Corp Method for forming siloxane polymer coating film and optical waveguide
JP2005181871A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Kyocera Corp Optical waveguide substrate
JP2005340802A (en) * 2004-04-28 2005-12-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Method of manufacturing semiconductor device and display device
JP2007016128A (en) * 2005-07-07 2007-01-25 Nagase Chemtex Corp Optical resin
JP2009513788A (en) * 2005-10-28 2009-04-02 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド Silsesquioxane-titania hybrid polymer
JP2009286986A (en) * 2008-06-02 2009-12-10 Dic Corp Method for producing organic solvent-soluble zirconosiloxane
WO2010024336A1 (en) * 2008-09-01 2010-03-04 日産化学工業株式会社 Method for manufacturing optical waveguide
US7901784B2 (en) 2002-06-07 2011-03-08 Sanyo Electric Co., Ltd. Optical waveguide, optical transmitter and receiver module, and laminated structure
JP2011216643A (en) * 2010-03-31 2011-10-27 Sharp Corp Method of manufacturing thin film metal oxide
JP4849799B2 (en) * 2002-06-24 2012-01-11 ダウ・コーニング・コーポレイション Planar optical waveguide assembly and method of manufacturing the same
JP2012510554A (en) * 2008-12-03 2012-05-10 ソレク ヌークリア リサーチ センター UV curable inorganic-organic hybrid resin and preparation method thereof
CN102844708A (en) * 2010-04-14 2012-12-26 东丽株式会社 Negative photosensitive resin composition, and protective film and touch panel member using the same
JP2013049848A (en) * 2011-08-17 2013-03-14 Rohm & Haas Electronic Materials Llc Method for manufacturing light-emitting diode
JP2014517122A (en) * 2011-06-17 2014-07-17 エルジー・ケム・リミテッド High refractive composition
WO2014185435A1 (en) * 2013-05-15 2014-11-20 ラサ工業株式会社 Insulating material composition
JP2014532289A (en) * 2011-07-07 2014-12-04 ブルーワー サイエンス アイ エヌシー. Small molecule derived metal oxide films for lithography applications
KR20170028850A (en) * 2015-09-04 2017-03-14 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 Film-forming coating liquid, manufacturing method of film-forming coating liquid and film-covered base material
JP2017179225A (en) * 2016-03-31 2017-10-05 日揮触媒化成株式会社 Coating liquid for forming coated film and manufacturing method therefor, manufacturing method of substrate with coated film

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001010965A1 (en) * 1999-08-05 2001-02-15 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Coating composition
US6632585B1 (en) 1999-11-12 2003-10-14 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Photosensitive composition, and optical waveguide element and process for producing the same
JP2004506797A (en) * 2000-08-21 2004-03-04 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド Organic silicate resin as hard mask for organic polymer insulating film used in microelectronic device manufacturing
US7901784B2 (en) 2002-06-07 2011-03-08 Sanyo Electric Co., Ltd. Optical waveguide, optical transmitter and receiver module, and laminated structure
JP4849799B2 (en) * 2002-06-24 2012-01-11 ダウ・コーニング・コーポレイション Planar optical waveguide assembly and method of manufacturing the same
US7638199B2 (en) 2003-12-10 2009-12-29 Central Glass Company, Limited Glass substrate having primer layer formed thereon and anti-fogging article
WO2005056488A1 (en) * 2003-12-10 2005-06-23 Central Glass Company, Limited Glass substrate having primer layer formed thereon and anti-fogging article
JP2005194170A (en) * 2003-12-10 2005-07-21 Central Glass Co Ltd Glass substrate with primer layer and anti-fogging article
JP4736393B2 (en) * 2003-12-10 2011-07-27 セントラル硝子株式会社 Glass substrate on which primer layer is formed and antifogging article
KR100766369B1 (en) * 2003-12-10 2007-10-12 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 Glass substrate having primer layer formed thereon and anti-fogging article
JP2005181638A (en) * 2003-12-18 2005-07-07 Kyocera Corp Method for forming siloxane polymer coating film and optical waveguide
JP2005181871A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Kyocera Corp Optical waveguide substrate
JP2005340802A (en) * 2004-04-28 2005-12-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Method of manufacturing semiconductor device and display device
JP2007016128A (en) * 2005-07-07 2007-01-25 Nagase Chemtex Corp Optical resin
JP2009513788A (en) * 2005-10-28 2009-04-02 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド Silsesquioxane-titania hybrid polymer
JP2009286986A (en) * 2008-06-02 2009-12-10 Dic Corp Method for producing organic solvent-soluble zirconosiloxane
WO2010024336A1 (en) * 2008-09-01 2010-03-04 日産化学工業株式会社 Method for manufacturing optical waveguide
JPWO2010024336A1 (en) * 2008-09-01 2012-01-26 日産化学工業株式会社 Manufacturing method of optical waveguide
JP2012510554A (en) * 2008-12-03 2012-05-10 ソレク ヌークリア リサーチ センター UV curable inorganic-organic hybrid resin and preparation method thereof
JP2011216643A (en) * 2010-03-31 2011-10-27 Sharp Corp Method of manufacturing thin film metal oxide
JP5867083B2 (en) * 2010-04-14 2016-02-24 東レ株式会社 Negative photosensitive resin composition and protective film using the same
CN102844708A (en) * 2010-04-14 2012-12-26 东丽株式会社 Negative photosensitive resin composition, and protective film and touch panel member using the same
JP2014517122A (en) * 2011-06-17 2014-07-17 エルジー・ケム・リミテッド High refractive composition
JP2014532289A (en) * 2011-07-07 2014-12-04 ブルーワー サイエンス アイ エヌシー. Small molecule derived metal oxide films for lithography applications
JP2013049848A (en) * 2011-08-17 2013-03-14 Rohm & Haas Electronic Materials Llc Method for manufacturing light-emitting diode
JP6055914B2 (en) * 2013-05-15 2016-12-27 ラサ工業株式会社 Composition for insulating material
WO2014185435A1 (en) * 2013-05-15 2014-11-20 ラサ工業株式会社 Insulating material composition
TWI612101B (en) * 2013-05-15 2018-01-21 Rasa工業股份有限公司 Composition for insulating material
KR20170028850A (en) * 2015-09-04 2017-03-14 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 Film-forming coating liquid, manufacturing method of film-forming coating liquid and film-covered base material
CN106497400A (en) * 2015-09-04 2017-03-15 日挥触媒化成株式会社 Overlay film formation coating fluid, the manufacture method of overlay film formation coating fluid and the base material with overlay film
CN106497400B (en) * 2015-09-04 2020-04-03 日挥触媒化成株式会社 Coating liquid for forming coating film, method for producing coating liquid for forming coating film, and substrate with coating film
TWI697529B (en) * 2015-09-04 2020-07-01 日商日揮觸媒化成股份有限公司 Film-forming coating liquid, manufacturing method of film-forming coating liquid and film-covered base material
JP2017179225A (en) * 2016-03-31 2017-10-05 日揮触媒化成株式会社 Coating liquid for forming coated film and manufacturing method therefor, manufacturing method of substrate with coated film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07331173A (en) Coating composition for formation of optical material and optical material
KR101191098B1 (en) Siloxane resin coating
EP2250213B1 (en) Silsesquioxane resins
JP5458306B2 (en) Silicone coating composition
EP2485091B1 (en) Positive photosensitive resin composition, cured film obtained using same, and optical device
JP5632387B2 (en) Wet-etchable anti-reflection coating
TWI393746B (en) Siloxane resin composition and the method for manufacturing the same
CN101617011A (en) Antireflective coating compositions based on silicon polymer
EP2370537B1 (en) Switchable antireflective coatings
JP5929679B2 (en) Silane composition, cured film thereof, and method for forming negative resist pattern using the same
WO2002088221A1 (en) Materials for optical applications
KR20130113635A (en) Photosensitive resin composition comprising organopolysiloxane
TWI628233B (en) Positive photosensitive resin composition, cured film, and optical device
WO2001051992A1 (en) Method for producing article coated with patterned film and photosensitive composition
US20030195321A1 (en) Metal alkoxide polymers
JPH07331172A (en) Coating composition for formation of color filter-protecting film
JP2004091579A (en) Siloxane polymer, coating solution composition for forming siloxane polymer coating film and optical waveguide using the same
US6319551B1 (en) Methods and compositions for forming silica, germanosilicate and metal silicate films, patterns and multilayers
JPH0450262A (en) Composition for forming protection film
KR101857144B1 (en) Photo-sensitive Composition, Cured Film Prepared Therefrom, and Device Incoporating the Cured Film
JP2005181638A (en) Method for forming siloxane polymer coating film and optical waveguide
WO2015190873A1 (en) Siloxane polymer composition
KR20240065082A (en) Siloxane resin composition for forming a cured film, method for producing a cured film and polysiloxane
JPWO2022131278A5 (en)
KR20180076150A (en) Photo-sensitive Composition, Cured Film Prepared Therefrom, and Electronic Device Incoporating the Cured Film