JPH07301665A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH07301665A
JPH07301665A JP7005452A JP545295A JPH07301665A JP H07301665 A JPH07301665 A JP H07301665A JP 7005452 A JP7005452 A JP 7005452A JP 545295 A JP545295 A JP 545295A JP H07301665 A JPH07301665 A JP H07301665A
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semiconductor device
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真志 堀口
Ryoichi Hori
陵一 堀
Kiyoo Ito
清男 伊藤
Yoshinobu Nakagome
儀延 中込
Masakazu Aoki
正和 青木
Hitoshi Tanaka
田中  均
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Abstract

PURPOSE:To make it possible to independently set voltage at the normal action time and at the voltage aging time by connecting the output terminals of MOS transistors commonly to a nodal point between a voltage generating circuit for generating voltage small in external supply voltage dependency and a voltage generating circuit for generating voltage large in external supply voltage dependency. CONSTITUTION:A voltage converting circuit for converting external supply voltage Vcc into output voltage VL is constituted of an amplifier formed of a differential amplifier 60 and an MOS transistor 62, and an amplifier formed of a differential amplifier 61 and an MOS transistor 63. In the case of the input voltage V1 of the differential amplifier 60 being higher than the output voltage VL the transistor 62 becomes conductive, and in the reverse case, the transistor 62 becomes non-conductive. The transistor 63 is the same, and in the case of the output voltage VL being lower than at least one of V1 and V2, at least one of the transistors 62, 63 becomes conductive. A current therefore flows from a power supply Vcc, and the potential of the output voltage VL, rises. Since this potential rise is stabilized in the state of VL being equal to the higher potential of V1 and V2, voltage can be set independently.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に係り、特に
半導体装置の少なくとも一部の回路で使用する内部電源
電圧を発生する電圧変換回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a voltage conversion circuit for generating an internal power supply voltage used in at least a part of a circuit of the semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体素子の微細化に伴う耐圧の
低下が問題になってきた。この問題は電源電圧を下げれ
ば解決できるが、これは外部インタフェースの関係で必
ずしも好ましくない。そこで、外部から印加する電源電
圧は従来のまま(たとえばTTLコンパチブルの場合は
5V)としておき、それよりも低い電圧(たとえば3
V)の内部電源を半導体装置内で作るという方法が提案
されている。外部電源から内部電源を発生するための電
圧変換回路については、たとえば特願昭57−2200
83において論じられている。図15(a)に、上記特
許出願において提案されている回路を示す。この回路
は、外部電源Vccから内部電源VLを発生する回路であ
り、Rは抵抗素子、BL0,BL1は上記特許出願におい
て「基本回路」と呼ばれている回路である。「基本回
路」はAC間の電圧が所定の電圧(以下オン電圧とい
う)以下のときはBC間が非導通、所定の電圧以上のと
きはBC間が導通するような回路である。図15(b)
は、上記特許出願に記載されている「基本回路」の実現
例である。
2. Description of the Related Art In recent years, a decrease in breakdown voltage due to miniaturization of semiconductor elements has become a problem. This problem can be solved by lowering the power supply voltage, but this is not always preferable due to the external interface. Therefore, the power supply voltage applied from the outside is kept as it is (for example, 5 V in the case of TTL compatible) and a voltage lower than that (for example, 3 V).
A method has been proposed in which the internal power supply V) is made in the semiconductor device. A voltage conversion circuit for generating an internal power source from an external power source is disclosed in, for example, Japanese Patent Application No. 57-2200.
83. FIG. 15 (a) shows a circuit proposed in the above patent application. This circuit is a circuit that generates an internal power supply V L from an external power supply V cc , R is a resistance element, and BL 0 and BL 1 are circuits called “basic circuits” in the above patent application. The “basic circuit” is a circuit in which the BCs are non-conductive when the voltage between the ACs is equal to or lower than a predetermined voltage (hereinafter referred to as ON voltage), and the BCs are conductive when the voltage is equal to or higher than the predetermined voltage. Figure 15 (b)
Is an implementation example of the "basic circuit" described in the above patent application.

【0003】この回路の特性を図15(c)に示す。外
部電源電圧VccがVP0(VP0は基本回路BL0のオン電
圧)以下のときは、BL0,BL1ともに非導通状態であ
るので出力電圧VLはVccに等しい。VccがVP0を越え
るとBL0が導通状態になるので、VLは抵抗素子RとB
0のオン抵抗R0との比で定まる。したがってVLのV
cc依存性(傾きm)は図に示すように1より小さくな
る。さらにVccが上昇してVcc−VLがVP1(VP1は基
本回路BL1のオン電圧)を越えると、BL1が導通状態
になり、抵抗RにBL1のオン抵抗R1が並列に接続され
る。したがって、VLのVcc依存性(傾きm′)はmよ
りも大きくなる。
The characteristic of this circuit is shown in FIG. When the external power supply voltage V cc is equal to or lower than V P0 (V P0 is the ON voltage of the basic circuit BL 0 ), both BL 0 and BL 1 are in the non-conducting state, so the output voltage V L is equal to V cc . When V cc exceeds V P0 , BL 0 becomes conductive, so that V L becomes the resistance elements R and B.
It is determined by the ratio of L 0 to the on-resistance R 0 . Therefore, V of V L
The cc dependency (slope m) is smaller than 1 as shown in the figure. When V cc further rises and V cc -V L exceeds V P1 (V P1 is the ON voltage of the basic circuit BL 1 ), BL 1 becomes conductive, and the resistor R has an ON resistance R 1 of BL 1. Connected in parallel. Therefore, the dependence of V L on V cc (slope m ′) becomes larger than m.

【0004】すなわち、VLのVcc依存性として、点P
およびP′において折れ曲った特性が得られる。点P,
P′におけるVccの値は、 V0=VP0 …(1) V0′=VP0+VP1/(1−m) …(2) である。また、傾きm,m′は、 m=R0/(R+R0) …(3) m′=R0/{RR1/(R+R1)+R0} …(4) である。
That is, the point P is the dependency of V L on V cc.
Bending properties are obtained at and P '. Point P,
The value of V cc in P ′ is V 0 = V P0 (1) V 0 ′ = V P0 + V P1 / (1-m) (2) Further, the inclinations m and m ′ are m = R 0 / (R + R 0 ) ... (3) m ′ = R 0 / {RR 1 / (R + R 1 ) + R 0 } (4)

【0005】本回路の利点は、Vcc依存性が小さい第1
の電圧と、上記第1の電圧よりVcc依存性が大きい第2
の電圧とを発生することができることにある。その結
果、以下に説明するように、内部電源VLで動作する回
路(以下、内部回路と略す)の電圧エージングが可能と
なる。電圧エージングとは、半導体装置の出荷前に、電
源端子に通常動作時よりも高い電圧を印加して不良とな
ったものを除去することであり、出荷後の初期不良低減
に有効な手法である。内部回路の電圧エージングを可能
にするためには、通常動作時の外部電源電圧VccがV0
とV0′の間にあり、エージング時のVccがV0′より高
くなるように、V0,V0′を設計しておけばよい。こう
すれば、通常動作時にはVLのVcc依存性mが小さいの
で、Vccが変動しても内部回路の動作は安定になる。ま
た、エージング時にはVLのVcc依存性m′が大きいの
で、通常動作時よりも十分高いVLが内部回路に印加さ
れ、内部回路の電圧エージングが行われる。この時、V
CCで動作する回路にも通常動作時より十分高い電圧が印
加されるので、これらの回路の電圧エージングも同時に
行われている。尚、電圧エージングに関しては他に特開
昭62−232155号公報に記載された発明がある。
The advantage of this circuit is that the first Vcc dependence is small.
Of the second voltage and the second voltage having a higher V cc dependency than the first voltage.
It is possible to generate the voltage of and. As a result, as described below, it becomes possible to perform voltage aging of a circuit (hereinafter, abbreviated as an internal circuit) that operates with the internal power supply V L. Voltage aging is a method of applying a voltage higher than that during normal operation to a power supply terminal before a semiconductor device is shipped to remove defective products, which is an effective method for reducing initial defects after shipping. . In order to enable the voltage aging of the internal circuit, the external power supply voltage V cc during normal operation is V 0.
And 'located between, V cc during aging V 0' V 0 to be higher than, it is sufficient to design a V 0, V 0 '. In this case, since the V m dependency of V L on V cc is small during normal operation, the operation of the internal circuit is stable even if V cc fluctuates. Further, since V cc dependence m 'is large V L at the time of aging, sufficiently high V L than in normal operation is applied to the internal circuit, the voltage aging of the internal circuit is performed. At this time, V
Since a voltage sufficiently higher than that during normal operation is applied to the circuits operating in CC , voltage aging of these circuits is also performed at the same time. Incidentally, regarding voltage aging, there is another invention described in Japanese Patent Laid-Open No. 232155/1987.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の問題点
は、前述したVcc依存性が小さい第1の電圧と、上記第
1の電圧よりVcc依続性が大きい第2の電圧とを独立に
設計できないことにある。すなわち、上記第2の電圧
は、上記第1の電圧を発生する回路の特性に左右され
る。その結果、内部電源の通常動作時の電圧と電圧エー
ジング時の電圧とを独立に設定できない。たとえば図1
5(a)の回路ではVcc依存性が小さい第1の電圧はB
0によって定まり、上記第1の電圧よりVcc依存性が
大きい第2の電圧はBL0およびBL1によって定まる。
そのため、上記第1の電圧を変えるためにBL0を変更
すると上記第2の電圧も同時に変わってしまう。上記第
2の電圧のVccに対する特性を決めるパラメータm′,
0′は式(1)〜(4)より、 m′=(R+R1)/(R1/m+R) …(5) V0′=V0+VP1/(1−m) …(6) である。これらの式から明らかなように、上記第2の電
圧のVccに対する特性を決めるパラメータm′,V0
が、上記第1の電圧のVccに対する特性を決めるパラメ
ータであるm,V0に依存する。したがって、上記第1
の電圧の設定値を変更するためにBL0の設定変更を行
うと、BL1も設定し直さなければならない。本発明の
目的は、上記第1の電圧と、上記第2の電圧とを独立に
設定できる電圧変換回路を有する半導体装置を提供する
ことにある。
The problem of the above-mentioned prior art is that the above-mentioned first voltage having a small V cc dependency and the second voltage having a larger V cc dependency than the first voltage. There is something that cannot be designed independently. That is, the second voltage depends on the characteristics of the circuit that generates the first voltage. As a result, the voltage during normal operation of the internal power supply and the voltage during voltage aging cannot be set independently. Figure 1
In the circuit of FIG. 5 (a), the first voltage having a small V cc dependency is B
The second voltage, which is determined by L 0 and whose V cc dependency is larger than the first voltage, is determined by BL 0 and BL 1 .
Therefore, if BL 0 is changed to change the first voltage, the second voltage also changes at the same time. Parameter m ', which determines the characteristic of the second voltage with respect to Vcc ,
From the formulas (1) to (4), V 0 ′ is m ′ = (R + R 1 ) / (R 1 / m + R) (5) V 0 ′ = V 0 + V P1 / (1-m) (6) Is. As is clear from these equations, the parameters m ′ and V 0 ′ that determine the characteristic of the second voltage with respect to V cc .
Depends on m and V 0 , which are parameters that determine the characteristics of the first voltage with respect to V cc . Therefore, the first
If the setting of BL 0 is changed to change the setting value of the voltage of, BL 1 must be set again. An object of the present invention is to provide a semiconductor device having a voltage conversion circuit capable of independently setting the first voltage and the second voltage.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、電圧変換回路は外部電源電圧が第1の
所定の電圧よりも高いとき外部電源電圧依存性が小さい
第1の電圧を発生する第1の電圧発生回路と、上記第1
の電圧よりも外部電源電圧依存性の大きい第2の電圧を
発生する第2の電圧発生回路と、節点と上記外部電源電
圧との間にそのソース・ドレイン経路が設けられた第2
及び第3のMOSトランジスタと、その出力が第2のM
OSトランジスタのゲートに接続された第1の差動増幅
器と、その出力が第3のMOSトランジスタのゲートに
接続された第2の差動増幅器とを有し、上記第1の差動
増幅器の反転入力には上記第1の電圧が入力され、上記
第2の差動増幅器の反転入力には上記第2の電圧が入力
され、上記第1及び第2の差動増幅器の非反転入力は上
記節点と接続されている。
In order to achieve the above object, according to the present invention, the voltage conversion circuit has a first voltage whose external power supply voltage dependence is small when the external power supply voltage is higher than a first predetermined voltage. A first voltage generating circuit for generating
A second voltage generating circuit for generating a second voltage having a greater dependence on the external power supply voltage than the voltage of the second power supply, and a second source / drain path provided between the node and the external power supply voltage.
And a third MOS transistor and its output is the second M
The first differential amplifier connected to the gate of the OS transistor and the second differential amplifier whose output is connected to the gate of the third MOS transistor, and the inversion of the first differential amplifier. The first voltage is input to the input, the second voltage is input to the inverting input of the second differential amplifier, and the non-inverting inputs of the first and second differential amplifiers are the nodes. Connected with.

【0008】[0008]

【作用】上記電圧変換回路は、上記第1の電圧発生回路
の出力トランジスタである第2のMOSトランジスタと
上記第2の電圧発生回路の出力トランジスタである第3
のMOSトランジスタとの出力端子が共通接続されてい
るので、上記第1の及び第2の電圧発生回路の各々の出
力に応答して自動的にその出力が切り替わる。
In the voltage conversion circuit, the second MOS transistor which is the output transistor of the first voltage generation circuit and the third MOS transistor which is the output transistor of the second voltage generation circuit are included.
Since the output terminal of the MOS transistor is connected in common, the output is automatically switched in response to the output of each of the first and second voltage generating circuits.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面により説明す
る。以下の説明では、外部電源電圧Vccは正である場合
について説明するが、Vccが負である場合でもトランジ
スタの極性等を逆にすることによって本発明を適用する
ことができる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description, the case where the external power supply voltage V cc is positive will be described. However, even when V cc is negative, the present invention can be applied by reversing the polarity of the transistor and the like.

【0010】図1(a)に、本発明の第1の実施例であ
る電圧変換回路の構成図を示す。図中、1および2は電
圧発生回路、3は選択回路である。この回路は、2個の
電圧発生回路1および2の出力V1およびV2の一方を選
択回路3で選択して出力電圧VLとする。2個の電圧発
生回路の出力のうち、V1は外部電源電圧Vccに対する
依存性が小さい、すなわちVccに対して安定化されてい
る。それに対してV2はVccに対する依存性が比較的大
きい。また選択回路3は、半導体装置が通常動作状態に
あるかテスト状態にあるかを示す信号TEによって制御
される。通常動作状態にあるときはV1が、テスト状態
にあるときはV2が選択されてVLとなる。
FIG. 1A shows a configuration diagram of a voltage conversion circuit according to a first embodiment of the present invention. In the figure, 1 and 2 are voltage generation circuits, and 3 is a selection circuit. In this circuit, one of the outputs V 1 and V 2 of the two voltage generation circuits 1 and 2 is selected by the selection circuit 3 to be the output voltage V L. Of the outputs of the two voltage generating circuits, V 1 has little dependence on the external power supply voltage V cc , that is, is stabilized with respect to V cc . On the other hand, V 2 has a relatively large dependence on V cc . The selection circuit 3 is controlled by a signal TE indicating whether the semiconductor device is in a normal operation state or a test state. In the normal operation state, V 1 is selected, and in the test state, V 2 is selected and becomes V L.

【0011】この回路の特徴は、内部回路の動作の内部
電源電圧依存性をテストすることができること、および
内部回路の電圧エージングを行うことができることであ
る。図1(b)にこの回路の各部の電圧のVcc依存性の
一例を示す。これは、通常動作時の外部電源電圧Vcc
5±0.5V(図中にaで示す)、内部電源電圧VL=3
V、エージング時の外部電源電圧VCC=8V(図中にb
で示す)、内部電源電圧VL=4.8Vの場合の例であ
る。V1はVcc依存性が小さく、実質的にほとんど一定
(ここでは3V、ただしVcc<3VのときはV1
cc)である。一方、V2はVccに従って単調に上昇す
る(ここではV2=0.6Vcc)。通常動作時はVL=V1
であるから、内部回路には安定化された内部電源電圧
(=3V)が印加され、内部回路の動作が安定になる。
また、テスト状態のときは、VL=V2であるから、Vcc
を変えることにより内部回路に印加される内部電源電圧
を変えることができる。従来の電圧変換回路では、常に
安定化された電圧が内部回路に印加されるため、内部回
路の動作の電源電圧依存性をテストすることが困難であ
ったが、本回路によればそれが可能になる。しかも、通
常動作時の内部電源電圧は安定化されているので、内部
電源電圧の変動にするマージンをもった設計が可能であ
る。また、本回路によって内部回路の電圧エージングを
行うには、テスト状態でVccをエージング電圧(ここで
は8V)にすればよい。テスト状態であるから、VL
2(=4.8V)となって通常動作時よりも高い内部電
源電圧が内部回路に印加される。
A feature of this circuit is that the dependency of the operation of the internal circuit on the internal power supply voltage can be tested and the voltage aging of the internal circuit can be performed. FIG. 1B shows an example of the V cc dependency of the voltage of each part of this circuit. This is the external power supply voltage Vcc = during normal operation.
5 ± 0.5 V (indicated by a in the figure), internal power supply voltage V L = 3
V, external power supply voltage during aging V CC = 8V (b in the figure
), And the internal power supply voltage V L = 4.8V. V 1 has a small dependency on V cc and is substantially constant (here, 3 V, but when V cc <3 V, V 1 =
Vcc ). On the other hand, V 2 monotonically increases in accordance with V cc (here, V 2 = 0.6V cc ). V L = V 1 during normal operation
Therefore, the stabilized internal power supply voltage (= 3V) is applied to the internal circuit, and the operation of the internal circuit becomes stable.
Further, since V L = V 2 in the test state, V cc
The internal power supply voltage applied to the internal circuit can be changed by changing In the conventional voltage conversion circuit, it is difficult to test the power supply voltage dependence of the operation of the internal circuit because the stabilized voltage is always applied to the internal circuit. become. In addition, since the internal power supply voltage during normal operation is stabilized, it is possible to design with a margin for fluctuations in the internal power supply voltage. Further, in order to perform the voltage aging of the internal circuit by this circuit, V cc may be set to the aging voltage (here, 8 V) in the test state. Since it is a test state, V L =
The voltage becomes V 2 (= 4.8V), and the internal power supply voltage higher than that in the normal operation is applied to the internal circuit.

【0012】以上の説明から明らかなように、通常動作
用電圧発生回路1は通常動作状態での特性だけを、テス
ト用電圧発生回路2はテスト状態での特性だけをそれぞ
れ満足すれば良い。すなわち、1と2とは独立に設計で
きる。
As is clear from the above description, the normal operation voltage generation circuit 1 only needs to satisfy the characteristics in the normal operation state, and the test voltage generation circuit 2 only needs to satisfy the characteristics in the test state. That is, 1 and 2 can be designed independently.

【0013】なお、本実施例では2個の電圧発生回路の
出力を選択して内部電源電圧としているが、3個以上の
電圧発生回路の出力を選択するようにしてもよい。これ
はたとえば、複数の条件で内部回路のテストをする場合
に有効である。
In this embodiment, the outputs of the two voltage generating circuits are selected as the internal power supply voltage, but the outputs of three or more voltage generating circuits may be selected. This is effective, for example, when testing the internal circuit under a plurality of conditions.

【0014】図2(a)に本発明の第2の実施例である
電圧変換回路の構成図を示す。図1の実施例との相違点
は選択回路3が比較回路4の出力で制御されていること
である。比較回路4は、通常動作時用電圧発生回路の出
力V1とエージング用電圧発生回路の出力V2とを比較し
て、高い方の電圧が選択されるように選択回路3を制御
する。
FIG. 2A is a block diagram of the voltage conversion circuit according to the second embodiment of the present invention. The difference from the embodiment of FIG. 1 is that the selection circuit 3 is controlled by the output of the comparison circuit 4. The comparison circuit 4 compares the output V 1 of the normal operation voltage generation circuit with the output V 2 of the aging voltage generation circuit and controls the selection circuit 3 so that the higher voltage is selected.

【0015】この回路の特徴は、図1のTEのような制
御信号を加えることなく、内部回路の電圧エージングが
可能な特性を持つ内部電源が得られることである。図2
(b)にこの回路の各部の電圧のVcc依存性の一例を示
す。これは、通常動作時の外部電源電圧Vcc=5±0.
5V、エージング時のVcc=8V、通常動作時の内部電
源電圧VL=3V、エージング時のVL=4Vの場合の例
である。V1は図1の場合と同様に安定化された電圧で
ある。一方、V2はVccに従って単調に上昇する(ここ
ではV2=Vcc/2)。したがって、Vcc<6Vのとき
はV1>V2であり、Vcc>6VのときはV1<V2であ
る。VLはV1とV2との高い方に等しいから、Vcc<6
VのときはVL=3V,Vcc>6VのときはVL=Vcc
2となる。すなわち、Vccが通常動作電圧とエージング
電圧の間のある電圧(ここでは6V)において、折れ曲
がった特性が得られる。Vccが通常動作電圧範囲内(こ
こでは5±0.5V、図中にaで示す)にあるときは、
Lは安定化されている(ここでは3V)ので、内部回
路の動作が安定になる。また、Vccがエージング電圧
(ここでは8V、図中にbで示す)にあるときは、VL
は通常動作時よりも高くなる(ここでは4V)ので、内
部回路には通常動作時よりも高い電圧が印加され、内部
回路の電圧エージングが行われる。
A characteristic of this circuit is that an internal power supply having a characteristic capable of aging the voltage of the internal circuit can be obtained without adding a control signal such as TE in FIG. Figure 2
An example of the V cc dependency of the voltage of each part of this circuit is shown in (b). This is the external power supply voltage Vcc = 5 ± 0 during normal operation.
In this example, 5 V, V cc = 8 V during aging, internal power supply voltage V L = 3 V during normal operation, and V L = 4 V during aging. V 1 is a stabilized voltage as in the case of FIG. On the other hand, V 2 monotonically increases according to V cc (here, V 2 = V cc / 2). Thus, <when the 6V V 1> V cc is V 2, when the V cc> 6V is V 1 <V 2. Since V L is equal to the higher of V 1 and V 2 , V cc <6
When V is V L = 3V, when V cc > 6V, V L = V cc /
It becomes 2. That is, when Vcc is a voltage between the normal operating voltage and the aging voltage (6V in this case), a bent characteristic is obtained. When V cc is within the normal operating voltage range (here 5 ± 0.5 V, indicated by a in the figure),
Since VL is stabilized (here, 3V), the operation of the internal circuit becomes stable. When V cc is at the aging voltage (here, 8 V, indicated by b in the figure), V L
Is higher than that during normal operation (4V in this case), so a voltage higher than that during normal operation is applied to the internal circuit, and voltage aging of the internal circuit is performed.

【0016】以上の説明から明らかなように、通常動作
用電圧発生回路1はVccが通常動作電圧範囲内にあると
きの特性だけを、エージング用電圧発生回路2はVcc
エージング電圧にあるときの特性だけをそれぞれ満足す
れば良い。すなわち、1と2とは独立に設計できる。前
記の皆来技術において問題であった、通常動作時の特性
がエージング時の特性に影響するということがない。そ
のため、従来技術に比べて回路設計が容易である。
As is clear from the above description, the normal operation voltage generation circuit 1 has only the characteristics when V cc is within the normal operation voltage range, and the aging voltage generation circuit 2 has V cc at the aging voltage. It suffices to satisfy only the characteristics of time. That is, 1 and 2 can be designed independently. The characteristic during normal operation, which has been a problem in the above-mentioned conventional techniques, does not affect the characteristic during aging. Therefore, the circuit design is easier than in the prior art.

【0017】図3(a)に本発明の第3の実施例である
電圧変換回路の構成図を示す。図2の回路との相違点
は、出力端子が複数個(VLA,VLB,VLC)あることで
ある。また、エージング用電圧発生回路、選択回路、お
よび比較回路もそれぞれ複数個設けられている。エージ
ング用電圧発生回路2A,2B,2Cは、それぞれエー
ジング用電圧V2A,V2B,V2Cを発生する。選択回路3
A,3B,3Cは、通常動作用電圧V1とエージング用
電圧V2A,V2B,V2Cとから、それぞれVLA,VL B,V
LCを発生する。このとき、比較回路4A,4B,4Cに
よって、それぞれ通常動作用電圧とエージング用電圧と
が比較され、高い方の電圧が選択されてVLA,VLB,V
LCとなることは、図2の場合と同じである。
FIG. 3A is a block diagram of the voltage conversion circuit according to the third embodiment of the present invention. The difference from the circuit of FIG. 2 is that there are a plurality of output terminals (V LA , V LB , V LC ). Further, a plurality of aging voltage generation circuits, selection circuits, and comparison circuits are also provided. The aging voltage generation circuits 2A, 2B and 2C generate aging voltages V 2A , V 2B and V 2C , respectively. Selection circuit 3
A, 3B, and 3C are V LA , V L B , and V LA from the normal operation voltage V 1 and the aging voltages V 2A , V 2B , and V 2C , respectively.
Generate LC . At this time, the comparison circuits 4A, 4B, and 4C compare the normal operation voltage and the aging voltage, respectively, and select the higher voltage to obtain V LA , V LB , and V LA .
The LC is the same as in the case of FIG.

【0018】この回路の特徴は、回路によって異なった
条件で電圧エージングを行うことができることである。
出力電圧のVcc依存性の一例を図3(b)に示す。Vcc
が通常動作電圧範囲内(図中にaで示す)にあるとき
は、V1の方がV2A,V2B,V2Cよりも高いので、
LA,VLB,VLCはいずれもV1に等しい。また、Vcc
がエージング電圧(図中にもbで示す)にあるときは、
2A,V2B,V2Cの方がV1よりも高いので、VLA,V
LB,VLCはそれぞれV2A,V2B,V2Cに等しい。すなわ
ち、通常動作時にはVLA,VLB,VLCは同じ電圧に安定
化されているが、エージンク時にはそれぞれ異なった電
圧になる。したがって、VLA,VLB,VLCが印加されて
いる内部回路は、それぞれ異なった条件によるエージン
グが行われる。
The characteristic of this circuit is that voltage aging can be performed under different conditions depending on the circuit.
An example of the V cc dependency of the output voltage is shown in FIG. V cc
Is within the normal operating voltage range (indicated by a in the figure), V 1 is higher than V 2A , V 2B and V 2C .
V LA , V LB , and V LC are all equal to V 1 . Also, V cc
Is at the aging voltage (indicated by b in the figure),
Since V 2A , V 2B and V 2C are higher than V 1 , V LA and V 2
LB and VLC are equal to V 2A , V 2B and V 2C , respectively. That is, V LA , V LB , and V LC are stabilized at the same voltage during normal operation, but have different voltages during aging. Therefore, the internal circuits to which V LA , V LB , and V LC are applied are aged under different conditions.

【0019】このように、回路ごとに異なった条件でエ
ージングを行うことのできる回路を作れることが、本発
明のもう一つの特徴である。前述の従来技術で同じこと
をしようとすると、たとえば図15(a)の回路を複数
個作らなければならない。しかし、それら複数個の回路
の間に素子のばらつきがあると、通常動作時の電圧値や
そのVcc依存性を備えることが難しい。それに対して図
3(a)の回路ならば、通常動作時には一つの安定化電
圧V1をもとに複数個の内部電源が作られるので、それ
らの電圧値を揃えることは容易である。
As described above, it is another feature of the present invention that a circuit capable of performing aging under different conditions for each circuit can be manufactured. In order to do the same with the above-mentioned conventional technique, for example, a plurality of circuits shown in FIG. However, if there are variations in elements among the plurality of circuits, it is difficult to provide the voltage value during normal operation and its V cc dependency. On the other hand, in the circuit of FIG. 3A, a plurality of internal power supplies are generated based on one stabilizing voltage V 1 during normal operation, so that it is easy to make their voltage values uniform.

【0020】次に、図1〜図3中の電圧変換回路を構成
する個々の回路について詳細に説明する。
Next, the individual circuits constituting the voltage conversion circuit shown in FIGS. 1 to 3 will be described in detail.

【0021】まず、通常動作用電圧発生回路1について
述べる。通常動作用電圧発生回路1としては、周知の安
定化電圧発生回路、たとえばツエナーダイオードのブレ
ークダウン電圧やバイポーラトランジスタのベース・エ
ミッタ間電圧を基準電圧とする回路を用いることができ
る。回路の一例を図4(a)に示す。図中、10はNP
Nトランジスタ、11はツエナーダイオード、12およ
び13は抵抗である。出力V1とノード14との間の電
圧およびノード14と接地との間の電圧は、それぞれ1
1のブレークダウン電圧V2、10のベース・エミッタ
間電圧Vbeで、いずれも電源電圧Vccによらずほぼ一定
である。したがって、この回路の出力電圧は、V1=V2
+Vbeで一定である。また、図4(b)に示すようなバ
ンドギャップリファレンスを用いれば、Vccの変化に対
してだけでなく、温度変化に対しても安定な電圧を得る
ことができる。その他、たとえば特開昭62−1237
97号公報において提案されている回路を用いてもよ
い。
First, the normal operation voltage generating circuit 1 will be described. As the normal operation voltage generation circuit 1, a well-known stabilized voltage generation circuit, for example, a circuit using a breakdown voltage of a Zener diode or a base-emitter voltage of a bipolar transistor as a reference voltage can be used. An example of the circuit is shown in FIG. In the figure, 10 is NP
N transistors, 11 are Zener diodes, and 12 and 13 are resistors. The voltage between the output V 1 and node 14 and the voltage between node 14 and ground are each 1
The breakdown voltage V 2 is 1 , the base-emitter voltage V be is 10, and both are substantially constant regardless of the power supply voltage V cc . Therefore, the output voltage of this circuit is V 1 = V 2
It is constant at + V be . Moreover, if a bandgap reference as shown in FIG. 4B is used, a stable voltage can be obtained not only with a change in V cc but also with a change in temperature. In addition, for example, JP-A-62-1237
The circuit proposed in Japanese Patent Publication No. 97 may be used.

【0022】次に、電圧発生回路2について述べる。電
圧発生回路2の出力V2は、半導体装置のテスト時、も
しくはエージング時に用いられるものであるから、その
特性はテスト条件、あるいはエージング条件によって定
められるべきものである。たとえば図2の実施例に用い
られるエージング用電圧発生回路2は、電源電圧Vcc
1/2の電圧を発生する回路である。これはたとえば図
5(a)のような回路で実現できる。図中、30および
32はnチャネルMOSトランジスタ、31および33
はpチャネルMOSトランジスタ、34および35は抵
抗である。MOSトランジスタのオン抵抗はR34,R35
(R34,R35はそれぞれ34,35の抵抗値)よりも十
分小さく、R34=R35であるとすると、ノード36の電
圧は電源電圧Vccの1/2,Vcc/2になる。したがっ
て、ノード37,38の電圧は、それぞれVcc/2+V
tn,Vcc/2−|Vtp|(Vtn,Vtpはそれぞれnチャ
ネルMOSトランジスタ、pチャネルMOSトランジス
タのしきい値電圧)となり、出力電圧はV2=Vcc/2
となる。なお、R34とR35の比を変えることにより、V
ccの定数倍の電圧(たとえば図1のテスト用電圧発生回
路のように0.6Vcc)を発生することも可能である。
Next, the voltage generating circuit 2 will be described. Output V 2 of the voltage generating circuit 2, when testing the semiconductor device, or from those used during aging, its characteristics should be determined by the test conditions or aging conditions. For example, the aging voltage generating circuit 2 used in the embodiment of FIG. 2 is a circuit for generating a voltage which is half the power supply voltage Vcc . This can be realized by a circuit as shown in FIG. In the figure, 30 and 32 are n-channel MOS transistors, and 31 and 33.
Is a p-channel MOS transistor, and 34 and 35 are resistors. The on resistance of the MOS transistor is R 34 , R 35
(R 34 and R 35 are resistance values of 34 and 35 respectively), and assuming that R 34 = R 35 , the voltage of the node 36 becomes 1/2 of the power supply voltage V cc and V cc / 2. . Therefore, the voltages at the nodes 37 and 38 are Vcc / 2 + V, respectively.
tn, V cc / 2- | V tp | (V tn, V tp is an n-channel MOS transistors, respectively, the threshold voltages of the p-channel MOS transistor), and the output voltage is V 2 = V cc / 2
Becomes By changing the ratio of R 34 and R 35 , V
It is also possible to generate a voltage that is a constant multiple of cc (eg, 0.6 V cc as in the test voltage generating circuit of FIG. 1).

【0023】この回路の特徴は、消費電流はR34,R35
によって定まり、電流駆動能力は出力段のMOSトラン
ジスタ32,33によって定まることである。したがっ
て、R34,R35を十分大きく、32,33のチャネル幅
を十分大きくしておけば、消費電流が小さく、電流駆動
能力の大きい回路を作ることができる。なお、電流駆動
能力が小さくてもよい場合(たとえば、後述のように選
択回路3および比較回路4として図8の回路を用いる場
合)は、図5(b)または(c)の回路でもよい。図5
(b)の回路は単にVccを抵抗R34,R35によって分割
したものである。
The characteristic of this circuit is that the current consumption is R 34 , R 35.
The current drive capability is determined by the MOS transistors 32 and 33 in the output stage. Therefore, if R 34 and R 35 are made sufficiently large and the channel widths of 32 and 33 are made sufficiently large, it is possible to make a circuit with a small current consumption and a large current drive capability. When the current driving capability may be small (for example, when the circuit of FIG. 8 is used as the selection circuit 3 and the comparison circuit 4 as described later), the circuit of FIG. 5B or 5C may be used. Figure 5
The circuit of (b) is simply Vcc divided by resistors R 34 and R 35 .

【0024】図5(c)に電圧発生回路2の他の実現方
法を示す。この回路は、外部電源電圧Vccの定数倍にオ
フセット電圧がかかった電圧(ここではV2=3Vcc
4−1.5(V))を発生する回路である。図中、40〜
42はダイオードであり、3個直列に接続することによ
り、ノード43の電圧が電源電圧Vccよりも約2V低い
電圧になるようにしている。抵抗比をR34:R35=1:
3とすれば、V2=3/4(Vcc−2)=3Vcc/4−
1.5(V)なる出力電圧を得ることができる。
FIG. 5C shows another method of realizing the voltage generating circuit 2. This circuit has a voltage (V 2 = 3V cc / V 2 here) that is offset by a constant multiple of the external power supply voltage V cc.
4-1.5 (V)). 40 in the figure
Reference numeral 42 denotes a diode, and by connecting three diodes in series, the voltage of the node 43 is set to a voltage lower than the power supply voltage Vcc by about 2V. The resistance ratio is R34 : R35 = 1:
If 3, V 2 = 3/4 (V cc -2) = 3V cc / 4-
An output voltage of 1.5 (V) can be obtained.

【0025】次に、図2および図3の実施例に用いられ
る選択回路3と比較回路4の実現方法について説明す
る。選択回路3と比較回路4の一実現方法を図6に示
す。図中、50および51は差動増幅器、52および5
3はNANDゲート、54および55はインバータ、5
6および57はpチャネルMOSトランジスタ、58お
よび59はnチャネルMOSトランジスタである。この
回路は、入力V1とV2とのうち電圧の高い方を、MOS
トランジスタ56,58もしくは57,59を通して出
力VLに接続する回路である。V1がV2よりも高いとき
は、差動増幅器50,51の出力がそれぞれ高電位、低
電位となり、NANDゲート52,53の出力がそれぞ
れ低電位,高電位となるので、pチャネルMOSトラン
ジスタ56が導通、57が非導通になる。また、インバ
ータ54,55の出力がそれぞれ高電位、低電位となる
ので、nチャネルMOSトランジスタ58が導通、59
が非導通になる。したがって、MOSトランジスタ56
と58を通して、入力V1と出力VLとが接続される。逆
に、V2がV1よりも高いときは、電位の高低が上とは逆
になり、MOSトランジスタ57と59を通して、入力
2と出力VLとが接続される。
Next, a method of implementing the selection circuit 3 and the comparison circuit 4 used in the embodiments of FIGS. 2 and 3 will be described. A method of realizing the selection circuit 3 and the comparison circuit 4 is shown in FIG. In the figure, 50 and 51 are differential amplifiers, 52 and 5
3 is a NAND gate, 54 and 55 are inverters, 5
6 and 57 are p-channel MOS transistors, and 58 and 59 are n-channel MOS transistors. In this circuit, the higher voltage of the inputs V 1 and V 2
It is a circuit connected to the output V L through the transistors 56, 58 or 57, 59. When V 1 is higher than V 2 , the outputs of the differential amplifiers 50 and 51 are high potential and low potential, respectively, and the outputs of the NAND gates 52 and 53 are low potential and high potential, respectively, so that the p-channel MOS transistor 56 is conductive and 57 is non-conductive. Further, since the outputs of the inverters 54 and 55 have high potential and low potential, respectively, the n-channel MOS transistor 58 becomes conductive and 59.
Becomes non-conductive. Therefore, the MOS transistor 56
The input V 1 and the output V L are connected through 58 and 58. On the contrary, when V 2 is higher than V 1 , the level of the potential is opposite to the above, and the input V 2 and the output V L are connected through the MOS transistors 57 and 59.

【0026】本回路の特徴は、V1>V2のときは入力V
1がそのまま出力VLとなることである。したがって、M
OSトランジスタ56,58のオン抵抗が十分に小さく
なるように設計すれば、出力VLの電圧安定度として
は、通常動作用電圧発生回路1の出力V1の電圧安定度
と同じ値が得られる。
The characteristic of this circuit is that when V 1 > V 2 , the input V
That is, 1 becomes the output V L as it is. Therefore, M
If the ON resistances of the OS transistors 56 and 58 are designed to be sufficiently small, the voltage stability of the output V L can be the same as the voltage stability of the output V 1 of the normal operation voltage generation circuit 1. .

【0027】選択回路3と比較回路4の他の実現方法を
図7に示す。図中、60および61は差動増幅器、62
および63はpチャネルMOSトランジスタ、64は電
流源である。本回路は、60および62から成る電圧増
幅器と61および63から成る電圧増幅器とによって構
成されており、両増幅器の出力段のトランジスタ62,
63が並列に接続されている。電流源64は出力段にバ
イアス電流を与えるためのものである。V1>VLのとき
は、差動増幅器60の出力が低電位となるので、pチャ
ネルMOSトランジスタ62が導通状態になるが、V1
<VLのときは、差動増幅器60の出力が高電位となる
ので、62は非導通である。同時に、MOSトランジス
タ63は、V2>VLのときは導通、V2<VLのときは非
導通である。したがって、出力電圧VLがV1もしくはV
2の少なくとも一方よりも低いときは、MOSトランジ
スタ62,63の少なくとも一方が導通状態にあるの
で、電源VccからVLへ電流が流れ、VLの電位が上昇す
る。この電位上昇は、VLがV1とV2の高い方の電位に
等しくなってMOSトランジスタ62、63が両方とも
非導通状態になるまで続く。結局、VLはV1とV2の高
い方の電位に等しい状態で安定する。
Another method of realizing the selection circuit 3 and the comparison circuit 4 is shown in FIG. In the figure, 60 and 61 are differential amplifiers, and 62.
And 63 are p-channel MOS transistors, and 64 is a current source. This circuit comprises a voltage amplifier composed of 60 and 62 and a voltage amplifier composed of 61 and 63.
63 are connected in parallel. The current source 64 is for giving a bias current to the output stage. When V 1 > V L , the output of the differential amplifier 60 is at a low potential, so that the p-channel MOS transistor 62 becomes conductive, but V 1
When <V L , the output of the differential amplifier 60 is at a high potential, and therefore 62 is non-conductive. At the same time, the MOS transistor 63 is conductive when V 2 > VL and non-conductive when V 2 < VL . Therefore, the output voltage V L is V 1 or V
When it is lower than at least one of the two , at least one of the MOS transistors 62 and 63 is in a conductive state, so that a current flows from the power supply Vcc to VL and the potential of VL rises. This potential increase continues until V L becomes equal to the higher potential of V 1 and V 2 and both MOS transistors 62, 63 are rendered non-conductive. Eventually, V L stabilizes at a state equal to the higher potential of V 1 and V 2 .

【0028】本回路の特徴は、回路自体に増幅機能があ
ることである。そのため、図2および図3の電圧発生回
路1,2,2A,2B,2Cの電流駆動能力が小さくて
も、出力VLの電流駆動能力は大きくできる。したがっ
て、たとえば電圧発生回路2としては、図5(a)の回
路でなく、単純な図5(b)または(c)の回路を用い
ることができる。
The characteristic of this circuit is that the circuit itself has an amplifying function. Therefore, even if the current driving capability of the voltage generating circuits 1, 2, 2A, 2B, 2C of FIGS. 2 and 3 is small, the current driving capability of the output V L can be increased. Therefore, for example, as the voltage generating circuit 2, a simple circuit shown in FIG. 5B or 5C can be used instead of the circuit shown in FIG.

【0029】以上の例では、出力電圧VLは入力電圧V1
もしくはV2に等しい電圧であったが、VLをV1もしく
はV2の定数倍の電圧にすることもできる。図8にこれ
を実現する一方法を示す。図7の回路との相違点は、差
動増幅器60,61の入力として、VL自体でなく、VL
を抵抗65,66で分割した電圧R65L/(R65+R
66)が入っていることである(R65,R66はそれぞれ6
5,66の抵抗値)。そのため、R65L/(R65+R
66)がV1とV2との高い方の電圧に等しくなる。すなわ
ち、出力電圧VLは、V1とV2との高い方の電圧の(R
65+R66)/R66倍になる。
In the above example, the output voltage V L is the input voltage V 1
Alternatively, the voltage is equal to V 2 , but V L may be a constant multiple of V 1 or V 2 . FIG. 8 shows one method of realizing this. The difference from the circuit of FIG. 7 is that the input of the differential amplifiers 60 and 61 is not V L itself, but V L.
Voltage divided by resistors 65 and 66 R 65 VL / (R 65 + R
66 ) is included (R 65 and R 66 are each 6
5, 66 resistance value). Therefore, R 65 VL / (R 65 + R
66 ) becomes equal to the higher voltage of V 1 and V 2 . That is, the output voltage V L is (R 1) of the higher voltage of V 1 and V 2.
65 + R 66 ) / R 66 times.

【0030】この回路の利点は、抵抗R65,R66の比を
変えることによって、入力電圧の任意倍の電圧が得られ
ることである。これは特に、安定化電圧V1として特定
の電圧しか得られない場合に有効である。たとえば電圧
発生回路1として前述のバンドギャップリファレンスを
用いた場合、その出力電圧はV1=1.26Vである。こ
れからたとえば出力電圧VL=3Vを得るためには、R
65:R66=1.74:1.26とすればよい。
The advantage of this circuit is that by changing the ratio of the resistors R 65 and R 66 , a voltage that is an arbitrary multiple of the input voltage can be obtained. This is particularly effective when only a specific voltage can be obtained as the stabilizing voltage V 1 . For example, when the aforementioned bandgap reference is used as the voltage generating circuit 1, the output voltage is V 1 = 1.26V. To obtain the output voltage V L = 3V from this, for example, R
65 : R 66 = 1.74: 1.26.

【0031】なお、図6〜図8の回路に用いる差動増幅
器は、たとえば図9の回路で実現できる。図中、70が
差動増幅器本体であり、pチャネルMOSトランジスタ
71,72、nチャネルMOSトランジスタ73,7
4,75から成る。入力Vin1の電圧がVin2の電圧より
も高いときは、出力Voutが高電位となり、Vin2の電圧
がVin1の電圧よりも高いときは、Voutは低電位とな
る。
The differential amplifier used in the circuits of FIGS. 6 to 8 can be realized by the circuit of FIG. 9, for example. In the figure, reference numeral 70 denotes a main body of a differential amplifier, which includes p-channel MOS transistors 71 and 72 and n-channel MOS transistors 73 and 7.
It consists of 4,75. When the voltage of the input V in1 is higher than the voltage of V in2, the output V out becomes high potential, when the voltage of V in2 is higher than the voltage of V in1 is V out becomes low potential.

【0032】80は、MOSトランジスタ75を電流源
として動作させるための回路である。81は高抵抗とし
て働くpチャネルMOSトランジスタであり、nチャネ
ルMOSトランジスタ82に流れる電流を定める。75
と82とは、カレントミラー回路を形成しているので、
75には82に流れる電流の定数倍(75と82とのコ
ンダクタンスの比)の電流が流れる。なお、図6〜図8
のように、差動増幅器を複数個用する場合、回路80は
1個だけ設けておき、複数の差動増幅器の75のゲート
を共通に接続することにより、占有面積を節約すること
ができる。
Reference numeral 80 is a circuit for operating the MOS transistor 75 as a current source. Reference numeral 81 is a p-channel MOS transistor that acts as a high resistance and determines the current flowing through the n-channel MOS transistor 82. 75
Since and 82 form a current mirror circuit,
A current that is a constant multiple of the current that flows through 82 (the ratio of the conductance between 75 and 82) flows through 75. 6 to 8
As described above, when a plurality of differential amplifiers are used, only one circuit 80 is provided and the gates of 75 of the plurality of differential amplifiers are commonly connected to save the occupied area.

【0033】次に本発明をDRAM(ダイナミックラン
ダムアクセスメモリ)に適用した例について説明する。
図10は本発明を適用したDRAMの構成図、図11は
その動作波形である。図中、100が本発明による電圧
変換回路、200はメモリアレー、201はワードドラ
イバ、202はワード線昇圧回路、203はデータ線プ
リチャージ回路、204はセンスアンプ、205はセン
スアンプ駆動信号発生回路、206はデータ線選択回
路、207はロウデコーダ、208はロウアドレスバッ
ファ、209はカラムデコーダ、210はカラムアドレ
スバッファ、211はメインアンプ、212はDoutバッ
ファ、213は書込み回路、214Dinバッファ、21
5はタイミング発生回路である。このメモリでは、集積
度に大きく影響するメモリアレー200は、微細MOS
トランジスタを使用しており、外部電源Vcc(たとえば
5V)よりも低い内部電源VL(たとえば3.3V)で動
作する。一方、集積度にあまり影響しない回路207〜
215は、外部電源Vccで直接動作する。メモリアレー
をVLで動作させるため、ワード線昇圧回路202、デ
ータ線プリチャージ回路203、センスアンプ駆動信号
発生回路205、データ線選択回路206には、電圧変
換回路100からそれぞれ内部電源Vx,Vp,Vd,Vy
が供給される。
Next, an example in which the present invention is applied to a DRAM (dynamic random access memory) will be described.
FIG. 10 is a block diagram of a DRAM to which the present invention is applied, and FIG. 11 is its operation waveform. In the figure, 100 is a voltage conversion circuit according to the present invention, 200 is a memory array, 201 is a word driver, 202 is a word line booster circuit, 203 is a data line precharge circuit, 204 is a sense amplifier, and 205 is a sense amplifier drive signal generation circuit. , 206 is a data line selection circuit, 207 is a row decoder, 208 is a row address buffer, 209 is a column decoder, 210 is a column address buffer, 211 is a main amplifier, 212 is a Dout buffer, 213 is a write circuit, 214 Din buffer, 21
Reference numeral 5 is a timing generation circuit. In this memory, the memory array 200, which greatly affects the degree of integration, is a fine MOS.
It uses a transistor and operates with an internal power supply V L (eg 3.3 V) lower than the external power supply V cc (eg 5 V). On the other hand, the circuits 207-
215 operates directly with the external power supply Vcc . In order to operate the memory array at V L , the word line booster circuit 202, the data line precharge circuit 203, the sense amplifier drive signal generation circuit 205, and the data line selection circuit 206 are connected to the internal power supply V x , from the voltage conversion circuit 100. V p , V d , V y
Is supplied.

【0034】電圧変換回路100のうち、VLを発生す
る回路101の構成は図2(a)と同じである。すなわ
ち、通常動作用電圧発生回路1とエージング用電圧発生
回路2との高い方の電圧が選択回路3で選択されて、V
Lとなる。負荷駆動能力を大きくするために、バッファ
5〜8が設けられている。バッファ5,7,8は、それ
ぞれVLに等しい電圧Vx,Vd,Vyを発生する回路であ
る。バッファ6は、VLの1/2の電圧Vpを発生する回
路である。バッファ5,7,8としては、たとえば特願
昭62−294115で提案されている回路が使用でき
る。また、バッファ6はたとえば図12(a)の回路で
実現できる。この回路は、図5(a)の回路と同様、電
源電圧(ここではVL)の1/2の電圧を発生する回路
である。ただし、出力段のMOSトランジスタ32だけ
は、VLではなくVccに接続されている。この理由は、
出力段は負荷を直接駆動しなければならないため、電流
駆動能力の大きいVccの方が望ましいからであるが、も
ちろんVLにしても差し支えない。
Of the voltage conversion circuit 100, the circuit 101 for generating V L has the same configuration as that shown in FIG. That is, the higher voltage of the normal operation voltage generation circuit 1 and the aging voltage generation circuit 2 is selected by the selection circuit 3, and V
It becomes L. Buffers 5 to 8 are provided to increase the load driving capability. The buffers 5, 7, and 8 are circuits that generate voltages V x , V d , and V y, which are equal to V L , respectively. The buffer 6 is a circuit that generates a voltage V p that is ½ of V L. As the buffers 5, 7, and 8, for example, the circuit proposed in Japanese Patent Application No. 62-294115 can be used. Further, the buffer 6 can be realized by, for example, the circuit of FIG. This circuit, like the circuit of FIG. 5A, is a circuit that generates a voltage that is half the power supply voltage (here, V L ). However, only the MOS transistor 32 in the output stage is connected to V cc instead of V L. The reason for this is
Since the output stage has to drive the load directly, it is preferable to use V cc , which has a large current driving capability, but of course V L can be used.

【0035】メモリアレー200内には、MOSトラン
ジスタ220とキャパシタ221とから成るいわゆる1
トランジスタ・1キャパシタ形ダイナミックメモリセル
MCijが、ワード線Wiとデータ線Djの交点に配置され
ている。図にはワード線は2本(Wi,Wi+1)、データ
線は1対(Dj, ̄Dj)しか示していないが、実際には
縦横に多数配置されている。なお、キャパシタ221の
一端222(プレート)は直流電源に接続する。その電
圧値は任意であるが、キャパシタ221の耐圧の点でV
p(=VL/2)に接続することが望ましい。
In the memory array 200, there is a so-called 1 circuit composed of a MOS transistor 220 and a capacitor 221.
A transistor / one-capacitor type dynamic memory cell MC ij is arranged at the intersection of the word line W i and the data line D j . Although only two word lines (W i , W i + 1 ) and one pair of data lines (D j , −D j ) are shown in the figure, a large number are arranged vertically and horizontally. Note that one end 222 (plate) of the capacitor 221 is connected to a DC power source. Although its voltage value is arbitrary, it is V in terms of the withstand voltage of the capacitor 221.
It is desirable to connect to p (= V L / 2).

【0036】ワードドライバ201は、ロウデコーダ2
07の出力を受けて、MOSトランジスタ223を通し
て、選択されたワード線にワード線駆動信号φxを供給
する回路である。φxはワード線昇圧回路202で作ら
れる。この回路はφxを電源電圧以上に昇圧する回路で
ある。ただし、この回路の電源は外部電源Vccでなく、
電圧変換回路で作られた内部電源Vxである。したがっ
てφxはVccでなくVxを基準として昇圧される。すなわ
ち、図11に示すように、φxの電圧はVxの(1+α)
倍(0<α<1)になる。
The word driver 201 is a row decoder 2
This circuit receives the output of 07 and supplies the word line drive signal φ x to the selected word line through the MOS transistor 223. φ x is generated by the word line boosting circuit 202. This circuit is a circuit for boosting φ x above the power supply voltage. However, the power supply of this circuit is not the external power supply Vcc ,
It is the internal power supply V x made by the voltage conversion circuit. Therefore, φ x is boosted with reference to V x , not V cc . That is, as shown in FIG. 11, the voltage of φ x is (1 + α) of V x.
Double (0 <α <1).

【0037】ワード線昇圧回路202の一実現方法を図
13に示す。これは、入力信号φinが高電位になってか
ら所定の時間後に信号φxを発生する回路である。この
回路の主要部は、インバータ250〜253,260〜
263、昇圧用キャパシタ270,プリチャージ回路2
80から成る。インバータ列250〜252および26
0〜262は所定の遅延時間を得るための回路である。
なお、これらのインバータは、電源としてVccを用いて
いるが、Vxでも差し支えない。φinが高電位になって
から所定の時間後に252および262の出力がそれぞ
れ高電位から低電位に変化する。したがって、253の
出力が立ち上がる。このインバータ253の電源Vx
あるので、ノード271の電圧は0VからVxに変化す
る。キャパシタ270の一端271の電位が上昇するこ
とにより、キャパシタの他端272の電位が容量結合に
よって上昇する。ノード272の電圧は、あらかじめプ
リチャージ回路280(プリチャージ信号φpはメモリ
が待機状態のとき高電位になっている)によってVx
tn(VtnはnチャネルMOSトランジスタのしきい値
電圧)に設定されているので、容量結合によって Vx−Vtn+Cbx/(Cb+Cp) …(7) まで上昇する。ここでCb,Cpは、それぞれキャパシタ
270の容量、ノード272の寄生容量である。インバ
ータ263(pチャネルMOSトランジスタ264とn
チャネルMOSトランジスタ265,266から成る)
はこの電圧を電源として動作するので、出力φxの電位
も上記の電圧まで上昇する。なお、インバータ263の
MOSトランジスタ265は、266に過大電圧がかか
らないようにするためのものである。265のゲートV
cc(Vxでもよい)に接続されているので、266のド
レイン電圧はVcc−Vtnを超えることはない。回路29
0はφxの電位が上昇しすぎないようにするためのもの
である。ダイオード接続のnチャネルMOSトランジス
タ291と292とが直列に接続されているので、φx
の電位はVcc+2Vtnを超えることはない。なお、この
MOSトランジスタ292のソースはVxに接続しても
よい。回路300は、φxが昇圧されている期間が長い
場合、リーク電流等によってその電位が低下しないよう
にするための回路である。φ1はメモリが活性状態にな
っている間高電位になる信号であり、φ2は定期的に高
電位になる信号である。φ2が高電位になったとき、キ
ャパシタ304による容量結合によってノード305の
電位がVx以上に昇圧され、φxの電位低下が補われる。
A method of realizing the word line boosting circuit 202 is shown in FIG. This is a circuit that generates a signal φ x after a predetermined time has passed since the input signal φ in became high potential. The main part of this circuit is inverters 250-253, 260-
263, boosting capacitor 270, precharge circuit 2
Composed of 80. Inverter rows 250-252 and 26
Reference numerals 0 to 262 are circuits for obtaining a predetermined delay time.
Incidentally, these inverters are used the V cc as the power source, no problem even V x. The outputs of 252 and 262 change from the high potential to the low potential after a predetermined time has passed since φ in became the high potential. Therefore, the output of 253 rises. Since it is the power supply V x of this inverter 253, the voltage of the node 271 changes from 0 V to V x . As the potential at one end 271 of the capacitor 270 rises, the potential at the other end 272 of the capacitor rises due to capacitive coupling. The voltage of the node 272 is V x − in advance by the precharge circuit 280 (the precharge signal φ p has a high potential when the memory is in the standby state).
Since it is set to V tn (V tn is the threshold voltage of the n-channel MOS transistor), it is raised to V x −V tn + C b V x / (C b + C p ) ... (7) by capacitive coupling. Here, C b and C p are the capacitance of the capacitor 270 and the parasitic capacitance of the node 272, respectively. Inverter 263 (p-channel MOS transistor 264 and n
Channel MOS transistors 265 and 266)
Operates with this voltage as a power supply, the potential of the output φ x also rises to the above voltage. The MOS transistor 265 of the inverter 263 is provided to prevent an excessive voltage from being applied to 266. 265 gate V
Since it is connected to cc (which may be V x ), the drain voltage of 266 never exceeds V cc -V tn . Circuit 29
0 is for preventing the electric potential of φ x from rising too much. Since the diode-connected n-channel MOS transistors 291 and 292 are connected in series, φ x
Does not exceed V cc + 2V tn . The source of this MOS transistor 292 may be connected to V x . The circuit 300 is a circuit for preventing the potential thereof from lowering due to leakage current or the like when the period in which φ x is boosted is long. φ 1 is a signal which becomes high potential while the memory is in an active state, and φ 2 is a signal which periodically becomes high potential. When φ 2 becomes a high potential, the potential of the node 305 is boosted to V x or higher due to the capacitive coupling by the capacitor 304, and the potential drop of φ x is compensated.

【0038】データ線プリチャージ回路203は、メモ
リセル読み出しに先立って各データ線を所定の電圧(こ
こでは内部電源電圧Vp)に設定するための回路であ
る。プリチャージ信号φpを印加することによって、M
OSトランジスタ224〜226が導通状態になり、デ
ータ線Dj, ̄Djの電圧はVpに等しくなる。なおこの
とき、後述のセンスアンプ駆動信号SAN,SAPも同
時にMOSトランジスタ233〜235によってVp
設定される。
The data line precharge circuit 203 is a circuit for setting each data line to a predetermined voltage (here, the internal power supply voltage V p ) before reading the memory cell. By applying the precharge signal φ p , M
OS transistor 224-226 is conductive, the voltage of the data line D j, ¯D j is equal to V p. At this time, sense amplifier drive signals SAN and SAP, which will be described later, are simultaneously set to V p by the MOS transistors 233 to 235.

【0039】ワード線にφxが印加されると、各メモリ
セルから各データ線に信号電荷が読出され、データ線の
電位が変化する。図11の動作波形は、メモリセルのキ
ャパシタにあらかじめ高電位(≒Vd)が蓄積されてい
た場合の例であり、データ線Djの電位がわずかに上昇
し、 ̄Djとの間に電位差を生じている。センスアンプ
203は、この微小信号を増幅するための回路であり、
nチャネルMOSトランジスタ227,228から成る
フリップフロップと、pチャネルMOSトランジスタ2
29,230から成るフリップフロップによって構成さ
れている。センスアンプはφsaを高電位、 ̄φsaを低電
位としてMOSトランジスタ231,232を導通状態
にすることによって、活性化される。SANは231を
通して接地され、SAPは232を通して内部電源Vd
に接続される。これによって、データ線Dj, ̄Dj間の
微小な電位差が増幅され、一方(図11の場合はDj
はVdに、他方(図11の場合は ̄Dj)は0Vになる。
When φ x is applied to the word line, signal charges are read from each memory cell to each data line, and the potential of the data line changes. Operation waveforms of FIG. 11 is an example in which the capacitor in advance the high potential of the memory cell (≒ V d) is accumulated, the potential of the data line D j is increased slightly, between D j There is a potential difference. The sense amplifier 203 is a circuit for amplifying this minute signal,
A flip-flop composed of n-channel MOS transistors 227 and 228, and a p-channel MOS transistor 2
It is composed of a flip-flop composed of 29, 230. The sense amplifier is activated by setting φ sa to a high potential and −φ sa to a low potential to make the MOS transistors 231 and 232 conductive. The SAN is grounded through 231 and the SAP is grounded through 232 by the internal power supply V d.
Connected to. Thereby, the data line D j, the small potential difference between D j is amplified, whereas (D j in the case of FIG. 11)
Becomes V d , and the other (−D j in the case of FIG. 11) becomes 0 V.

【0040】データ線選択回路206は、カラムデコー
ダ209の出力を受けて、選択されたデータ線対をMO
Sトランジスタ236,237を通して入出力線I/
O, ̄I/Oに接続する回路である。読出しの場合は、
センスアンプにラッチされているデータが、入出力線、
メインアンプ211,Doutバッファ212を介して、デ
ータ出力端子Doutに出力される。書込みの場合は、デー
タ入力端子Dinから入力されたデータが、Dinバッファ2
14、書込み回路213を介して入出力線I/O, ̄I
/Oに設定され、さらにMOSトランジスタ236,2
37、データ線Dj, ̄Djを通してメモリセルに書込ま
れる。ここで238は、MOSトランジスタ236,2
37のゲートに印加される信号Yj′の電圧をVyに制限
するための回路であり、たとえば図12(b)に示すよ
うに、インバータを2段(240,241)接続して2
段目の電流をVyとした回路で実現できる。すなわち、
カラムデコーダの出力Yjの電圧振幅はVccであるが、
j′の電圧振幅はVyになるようにする。この理由は次
のとおりである。書込み回路213はVccで動作するた
め、書込みのときの入出力線の振幅はVccである。した
がって、Yj′の電圧を制限しておかなければ、メモリ
アレーに電圧Vcc−Vtn(VtnはMOSトランジスタ2
36,237のしきい値電圧)がかかってしまう。な
お、書込み回路213をVLで動作させれば、Yj′の電
圧はVccでよい。この場合は回路238は不要になる。
The data line selection circuit 206 receives the output of the column decoder 209 and outputs the selected data line pair to MO.
I / O line I / through S transistors 236 and 237
This is a circuit that connects to O and I / O. When reading,
The data latched in the sense amplifier is the input / output line,
The data is output to the data output terminal Dout via the main amplifier 211 and the Dout buffer 212. When writing, the data input from the data input terminal Din is the Din buffer 2
14, input / output lines I / O and  ̄I via the write circuit 213
/ O, and further MOS transistors 236, 2
37, the data line D j, is written into the memory cell through ¯D j. Here, 238 is the MOS transistors 236, 2
This is a circuit for limiting the voltage of the signal Y j ′ applied to the gate of 37 to V y . For example, as shown in FIG.
It can be realized by a circuit in which the current of the stage is V y . That is,
The voltage amplitude of the output Y j of the column decoder is V cc ,
The voltage amplitude of Y j 'is V y . The reason for this is as follows. Since the writing circuit 213 operates at V cc , the amplitude of the input / output line at the time of writing is V cc . Therefore, unless the voltage of Y j 'is limited, the voltage V cc -V tn (V tn is the MOS transistor 2) is applied to the memory array.
36,237 threshold voltage). If the write circuit 213 is operated at V L , the voltage of Y j ′ may be V cc . In this case, the circuit 238 is unnecessary.

【0041】ロウアドレスバッファ208、カラムアド
レスバッファ210は、外部から入力されたアドレス信
号Anを受けて、それぞれロウアドレス信号arn,カラ
ムアドレス信号acnを発生する回路である。これらのア
ドレス信号は、それぞれロウデコーダ207、カラムデ
コーダ209によってワード線、データ線の選択に用い
られる。タイミング発生回路215は、外部から入力さ
れた制御信号(ロウアドレスストローブ信号RAS,カ
ラムアドレスストローブ信号CAS,および書込みエネ
ーブル信号WE)から、メモリの動作に必要な内部タイ
ミング信号を発生する回路である。前述のように、これ
らの回路は外部電源Vccで直接動作する。この理由は、
これらの回路はさほど集積度に影響しないため、あえて
微細MOSトランジスタを用いる必要がないこと、およ
び外部信号を受けるインタフェースの都合上であるが、
もちろんVLで動作するようにしてもよい。
The row address buffer 208 and the column address buffer 210 are circuits which receive an address signal A n input from the outside and generate a row address signal a rn and a column address signal a cn , respectively. These address signals are used by the row decoder 207 and the column decoder 209 to select word lines and data lines, respectively. The timing generation circuit 215 is a circuit that generates internal timing signals necessary for the operation of the memory from control signals (row address strobe signal RAS, column address strobe signal CAS, and write enable signal WE) input from the outside. As mentioned above, these circuits operate directly on the external power supply Vcc . The reason for this is
Since these circuits do not affect the integration degree so much, it is not necessary to use fine MOS transistors, and it is convenient for the interface for receiving external signals.
Of course, you may make it operate | move by VL .

【0042】図14(a),(b)に各部の電圧のVcc
依存性を示す。これは、通常動作時の外部電源電圧Vcc
=5±0.5V,エージング時のVcc=8V,通常動作
時の内部の電源電圧VL=3.3V、エージング時のVL
=4Vの場合の例である。Vccが通常動作電圧とエージ
ング電圧の間のある電圧(ここでは6.6V)におい
て、折れ曲がった特性が得られることは、図2の場合と
同じである。Vx,Va,VyはVLに等しいから、通常動
作時は3.3V、エージング時は4Vである。VpはVL
/2に等しいから、通常動作時は1.65V、エージン
グ時は2Vである。ワード線駆動信号φxの電圧は、前
述のように、(1+α)Vxに等しい。図にはα=0.6
の場合の例を示してある。この場合、通常動作時は5.
3V、エージング時は6.4Vである。
[0042] FIG. 14 (a), V cc of each part of the voltage to (b)
Show dependencies. This is an external power supply voltage V cc of normal operation
= 5 ± 0.5V, Vcc during aging = 8V, internal power supply voltage VL during normal operation = 3.3V, VL during aging
This is an example in the case of = 4V. It is the same as in the case of FIG. 2 that the bent characteristic is obtained at a voltage (here, 6.6 V) where V cc is between the normal operating voltage and the aging voltage. Since V x , V a , and V y are equal to V L, they are 3.3 V during normal operation and 4 V during aging. V p is V L
Since it is equal to / 2, it is 1.65V during normal operation and 2V during aging. The voltage of the word line drive signal φ x is equal to (1 + α) V x , as described above. In the figure α = 0.6
An example in the case of is shown. In this case, 5.
3V, 6.4V during aging.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
外部電源電圧依存性の小さい第1の電圧と、上記第1の
電圧より外部電源電圧依存性の大きい第2の電圧とを独
立に設計できる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to independently design the first voltage having a small dependency on the external power supply voltage and the second voltage having a greater dependency on the external power supply voltage than the first voltage.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の電圧変換回路の構成図とその
特性を示すグラフ。
FIG. 1 is a configuration diagram of a voltage conversion circuit according to an embodiment of the present invention and a graph showing its characteristics.

【図2】本発明の実施例の電圧変換回路の構成図とその
特性を示すグラフ。
FIG. 2 is a configuration diagram of a voltage conversion circuit according to an embodiment of the present invention and a graph showing its characteristics.

【図3】本発明の実施例の電圧変換回路の構成図とその
特性を示すグラフ。
FIG. 3 is a configuration diagram of a voltage conversion circuit according to an embodiment of the present invention and a graph showing its characteristics.

【図4】図1〜図3の電圧変換回路中の要素回路の回路
図。
FIG. 4 is a circuit diagram of an element circuit in the voltage conversion circuit of FIGS.

【図5】図1〜図3の電圧変換回路中の要素回路の回路
図。
FIG. 5 is a circuit diagram of an element circuit in the voltage conversion circuit of FIGS.

【図6】図1〜図3の電圧変換回路中の要素回路の回路
図。
FIG. 6 is a circuit diagram of an element circuit in the voltage conversion circuit of FIGS.

【図7】図1〜図3の電圧変換回路中の要素回路の回路
図。
FIG. 7 is a circuit diagram of an element circuit in the voltage conversion circuit of FIGS.

【図8】図1〜図3の電圧変換回路中の要素回路の回路
図。
FIG. 8 is a circuit diagram of element circuits in the voltage conversion circuit of FIGS.

【図9】図1〜図3の電圧変換回路中の要素回路の回路
図。
FIG. 9 is a circuit diagram of an element circuit in the voltage conversion circuit shown in FIGS.

【図10】本発明を適用したDRAMの構成図。FIG. 10 is a block diagram of a DRAM to which the present invention is applied.

【図11】図10のDRAMの動作波形。11 is an operation waveform of the DRAM of FIG.

【図12】図10のDARMの要素回路の回路図。12 is a circuit diagram of an element circuit of the DARM shown in FIG.

【図13】図10のDARMの要素回路の回路図。13 is a circuit diagram of an element circuit of the DARM shown in FIG.

【図14】図10中の電圧変換回路の特性を示すグラ
フ。
14 is a graph showing the characteristics of the voltage conversion circuit in FIG.

【図15】従来の電圧変換回路の回路図とその特性を示
すグラフ。
FIG. 15 is a circuit diagram of a conventional voltage conversion circuit and a graph showing its characteristics.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,2A,2B,2C…電圧発生回路、3,3A,
3B,3C…選択回路、4,4A,4B,4C…比較回
路、5〜8バッファ。
1, 2, 2A, 2B, 2C ... Voltage generating circuit, 3, 3A,
3B, 3C ... Selection circuit, 4, 4A, 4B, 4C ... Comparison circuit, 5-8 buffers.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/822 (72)発明者 堀 陵一 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地株 式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 伊藤 清男 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地株 式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 中込 儀延 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地株 式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 青木 正和 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地株 式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 田中 均 東京都小平市上水本町1448番地日立超エ ル・エス・アイ・エンジニアリング株式会 社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location H01L 21/822 (72) Inventor Ryoichi Hori 1-280 Higashi-Kengikubo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi Ltd. Central Research Laboratory (72) Inventor Kiyoo Ito 1-280 Higashi Koigokubo, Kokubunji, Tokyo Hitachi Ltd. Central Research Laboratory (72) Inventor Yoshinobu Nakanogo, 1-280 Higashi Koikeku, Kokubunji, Tokyo Hitachi Ltd. (72) Inventor, Masakazu Aoki Masakazu Aoki, 1-280, Higashikoigokubo, Kokubunji, Tokyo, Ltd. Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor, Hitoshi Tanaka, 1448, Kamimizuhonmachi, Kodaira, Tokyo・ I Engineering Co., Ltd.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1のMOSトランジスタと、上記第1の
MOSトランジスタのソース又はドレインに接続された
第1の配線と、上記第1のMOSトランジスタのゲート
に接続された第2の配線と、外部電源電圧が供給され上
記第1の配線に内部電源電圧を供給する電圧変換回路と
を有する半導体装置において、上記電圧変換回路は外部
電源電圧が第1の所定の電圧よりも高いとき外部電源電
圧依存性が小さい第1の電圧を発生する第1の電圧発生
回路と、上記第1の電圧よりも外部電源電圧依存性の大
きい第2の電圧を発生する第2の電圧発生回路と、節点
と上記外部電源電圧との間にそのソース・ドレイン経路
が設けられた第2及び第3のMOSトランジスタと、そ
の出力が第2のMOSトランジスタのゲートに接続され
た第1の差動増幅器と、その出力が第3のMOSトラン
ジスタのゲートに接続された第2の差動増幅器とを有
し、上記第1の差動増幅器の反転入力には上記第1の電
圧が入力され、上記第2の差動増幅器の反転入力には上
記第2の電圧が入力され、上記第1及び第2の差動増幅
器の非反転入力は上記節点と接続されていることを特徴
とする半導体装置。
1. A first MOS transistor, a first wiring connected to a source or a drain of the first MOS transistor, and a second wiring connected to a gate of the first MOS transistor. In a semiconductor device having a voltage conversion circuit which is supplied with an external power supply voltage and supplies the internal power supply voltage to the first wiring, the voltage conversion circuit is configured such that when the external power supply voltage is higher than a first predetermined voltage. A first voltage generating circuit for generating a first voltage having a small dependence, a second voltage generating circuit for generating a second voltage having a larger dependence on the external power supply voltage than the first voltage, and a node Second and third MOS transistors whose source / drain paths are provided between the external power supply voltage and the first differential amplifier whose output is connected to the gate of the second MOS transistor. And a second differential amplifier whose output is connected to the gate of the third MOS transistor, the first voltage being input to the inverting input of the first differential amplifier, The second voltage is input to the inverting input of the second differential amplifier, and the non-inverting inputs of the first and second differential amplifiers are connected to the node.
【請求項2】上記外部電源電圧で動作する回路を更に有
することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a circuit that operates with the external power supply voltage.
【請求項3】上記外部電源電圧が第2の所定の電圧より
も低いときは上記第1の電圧は上記第2の電圧より高
く、上記外部電源電圧が上記第2の所定の電圧よりも高
いときは上記第1の電圧は上記第2の電圧より低いこと
を特徴とする請求項1又は請求項2の何れかに記載の半
導体装置。
3. The first voltage is higher than the second voltage when the external power supply voltage is lower than the second predetermined voltage, and the external power supply voltage is higher than the second predetermined voltage. 3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first voltage is lower than the second voltage.
【請求項4】上記電圧変換回路は上記節点に接続された
電流源を更に有することを特徴とする請求項1乃至請求
項3の何れかに記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the voltage conversion circuit further includes a current source connected to the node.
【請求項5】上記電圧変換回路は上記節点と上記第1の
差動増幅器との間の電圧を分圧する手段を有することを
特徴とする請求項1乃至請求項4の何れかに記載の半導
体装置。
5. The semiconductor according to claim 1, wherein the voltage conversion circuit has means for dividing a voltage between the node and the first differential amplifier. apparatus.
【請求項6】上記電圧変換回路は上記節点と上記第2の
差動増幅器との間の電圧を分圧する手段を有することを
特徴とする請求項1乃至請求項4の何れかに記載の半導
体装置。
6. The semiconductor according to claim 1, wherein the voltage conversion circuit has means for dividing a voltage between the node and the second differential amplifier. apparatus.
【請求項7】上記第1の配線はデータ線を構成し、上記
第2の配線はワード線を構成し、上記第1のMOSトラ
ンジスタはメモリセルを構成することを特徴とする請求
項1乃至請求項6の何れかに記載の半導体装置。
7. The first wiring constitutes a data line, the second wiring constitutes a word line, and the first MOS transistor constitutes a memory cell. The semiconductor device according to claim 6.
【請求項8】上記節点と上記ワード線との間に接続され
たワード線昇圧回路を更に有し、上記ワード線昇圧回路
は上記内部電源電圧を上記上記内部電源電圧より高い所
定の電圧に昇圧することを特徴とする請求項7に記載の
半導体装置。
8. A word line boosting circuit connected between the node and the word line, wherein the word line boosting circuit boosts the internal power supply voltage to a predetermined voltage higher than the internal power supply voltage. The semiconductor device according to claim 7, wherein:
【請求項9】上記節点と上記ワード線昇圧回路との間に
接続されたバッファを更に有することを特徴とする請求
項8に記載の半導体装置。
9. The semiconductor device according to claim 8, further comprising a buffer connected between the node and the word line boosting circuit.
【請求項10】上記節点と上記データ線との間に接続さ
れたセンスアンプを更に有することを特徴とする請求項
7乃至請求項9の何れかに記載の半導体装置。
10. The semiconductor device according to claim 7, further comprising a sense amplifier connected between the node and the data line.
【請求項11】上記節点と上記センスアンプとの間に接
続されたバッファを更に有することを特徴とする請求項
10に記載の半導体装置。
11. The semiconductor device according to claim 10, further comprising a buffer connected between the node and the sense amplifier.
【請求項12】上記節点と上記データ線との間に接続さ
れたプリチャージ回路を更に有することを特徴とする請
求項7乃至請求項11の何れかに記載の半導体装置。
12. The semiconductor device according to claim 7, further comprising a precharge circuit connected between the node and the data line.
【請求項13】上記節点と上記プリチャージ回路との間
に接続されたバッファを更に有することを特徴とする請
求項12に記載の半導体装置。
13. The semiconductor device according to claim 12, further comprising a buffer connected between the node and the precharge circuit.
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