JPH07234737A - Sync formation circuit - Google Patents

Sync formation circuit

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JPH07234737A
JPH07234737A JP24640294A JP24640294A JPH07234737A JP H07234737 A JPH07234737 A JP H07234737A JP 24640294 A JP24640294 A JP 24640294A JP 24640294 A JP24640294 A JP 24640294A JP H07234737 A JPH07234737 A JP H07234737A
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transistor
circuit
coupled
current
electrode
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JP24640294A
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Inventor
Neil C Bird
クリストファー バード ニール
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Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Electronics NV
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/26Current mirrors
    • G05F3/262Current mirrors using field-effect transistors only

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  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Automation & Control Theory (AREA)
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  • Control Of Electrical Variables (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a sink forming circuit which can form a sink for multiple carriers even in the case where a restriction is given when CMOS technology is used. CONSTITUTION: The first electrodes of first and second transistors Q1 and Q2 having the same polarity are connected to either first or second feed line 1 or 2. The second electrode of the first transistor Q1 is connected to the other feed line 2 through a reference current source 3 supplying reference current Ir . The second electrode of the second transistor is connected to the other feed line 2 through a load RL. The multiple carriers are made to flow in a direction detached from the other feed line 2 during an operation. Negative feedback is formed by using an amplifier means 4 and the voltage of a positive input part and that of a negative input part in the amplifier means are made equal. Current I0 in a relation which is previously decided for reference current Ir is supplied to a load.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多数電荷キャリアに対
するシンク、すなわち多数電荷キャリアが電子の場合電
流源、多数電荷キャリアが正孔である場合電流シンクを
構成する回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit for forming a sink for majority charge carriers, that is, a current source when the majority charge carriers are electrons, and a current sink when the majority charge carriers are holes.

【0002】[0002]

【従来技術の説明】集積回路技術分野では、一定の(す
なわち高出力インピーダンスの)電流源及び電流シンク
が重要な回路素子である。一般に、電流シンクは単一の
nチャネルエンハンスメントモードMOSトランジスタ
又はカスコードのnチャネルMOSトランジスタのよう
なn型装置を用いることにより比較的容易に実現でき、
電流源は同様にpチャネルエンハンスメントモードMO
Sトランジスタのようなp型装置を用いることにより実
現しうる。しかし、nチャネルとpチャネルとの双方の
エンハンスメントモードMOSトランジスタを設けるの
が技術的に困難な幾つかの形態の集積回路があり、従っ
て、nチャネル装置のみが得られる場合に、電流源を形
成するのを困難にし、又、pチャネル装置のみが得られ
る場合に電流シンクを形成するのを困難にする。この場
合は例えば、非晶質又は多結晶半導体材料をガラス又は
プラスチックのような絶縁基板上に堆積することにより
形成した回路の場合である。その理由は、現在製造しう
るpチャネルエンハンスメントモード薄膜トランジスタ
(TFT)は、極めて悪い電荷移動度特性に加えて許容
できない程度に高いしきい値電圧を有している為であ
る。同様に、バーチカルパワー装置を制御回路又は論理
回路と一緒に集積化したスマートパワー集積回路又はパ
ワー集積回路の技術分野においては、制御回路又は論理
回路をパワー半導体装置と同じ基板又は半導体内に集積
化する必要があるという制約が、複雑な処理技術に頼る
ことなく、使用可能なp型装置、例えばバーチカルパワ
ー装置がnpnバイポーラトランジスタ又はnチャネル
MOSFETであるpチャネルエンハンスメントモート
MOSトランジスタを形成するのを、或いは使用可能手
n型装置、例えばパワー装置がpnpバイポーラトラン
ジスタ又はpチャネルバーチカルパワーMOSFETで
あるnチャネルエンハンスメントモードMOSトランジ
スタを形成するのを極めて困難にするおそれがある。
2. Description of the Prior Art In the integrated circuit art, constant (ie, high output impedance) current sources and current sinks are important circuit elements. In general, current sinks are relatively easy to implement by using an n-type device such as a single n-channel enhancement mode MOS transistor or a cascode n-channel MOS transistor,
The current source is also a p-channel enhancement mode MO.
It can be realized by using a p-type device such as an S transistor. However, there are some forms of integrated circuits in which it is technically difficult to provide both n-channel and p-channel enhancement mode MOS transistors, thus forming a current source when only n-channel devices are available. And also difficult to form a current sink if only p-channel devices are available. This is the case, for example, of circuits formed by depositing an amorphous or polycrystalline semiconductor material on an insulating substrate such as glass or plastic. The reason is that currently manufactured p-channel enhancement mode thin film transistors (TFTs) have unacceptably high threshold voltages in addition to extremely poor charge mobility characteristics. Similarly, in the technical field of smart power integrated circuits or power integrated circuits in which a vertical power device is integrated with a control circuit or a logic circuit, the control circuit or the logic circuit is integrated on the same substrate or semiconductor as the power semiconductor device. The requirement that the required p-type device, such as a vertical power device, form an npn bipolar transistor or a p-channel enhancement mote MOS transistor that is an n-channel MOSFET, without resorting to complex processing techniques, Alternatively, it may make it very difficult for a usable n-type device, for example a power device, to form an n-channel enhancement mode MOS transistor which is a pnp bipolar transistor or a p-channel vertical power MOSFET.

【0003】例えば、論理ゲート又はシフトレジスタに
用いる為に、電流源又は負荷トランジスタを必要とする
現在のnチャネルTFTデジタル回路は一般に図1に示
す形態の回路を用いている。図1から明らかなように、
上記の回路はnチャネルTFT N1を有し、そのドレ
イン電極が第1電圧供給ライン1に結合され、そのゲー
ト電極がゲート電圧供給ラインGに結合され、そのソー
ス電極が、電流を供給すべき装置RLを介して第2電圧
供給ライン2に結合されている。図1に示す装置RLは
電流を供給すべき回路の適切ないかなる構成素子とする
こともできる。例えば装置RLを図示のように他のnチ
ャネルエンハンスメントモードTFTとすることがで
き、その主電流通路、すなわちそのソース電極とドレイ
ン電極との間の通路はTFT N1のソース電極と直列
に結合され、この他のnチャネルエンハンスメントモー
ドTFTの制御電極は入力電圧の入力端子Iに結合さ
れ、2つのTFTが、反転電圧を出力端子Oに生ぜしめ
るインバータ回路を構成している。
Current n-channel TFT digital circuits, which require current sources or load transistors, for example for use in logic gates or shift registers, generally employ a circuit of the form shown in FIG. As is clear from FIG.
The above circuit has an n-channel TFT N1, whose drain electrode is coupled to the first voltage supply line 1, its gate electrode is coupled to the gate voltage supply line G, and whose source electrode is to supply current. It is coupled to the second voltage supply line 2 via RL. The device RL shown in FIG. 1 can be any suitable component of the circuit to be supplied with current. For example, the device RL can be another n-channel enhancement mode TFT as shown, whose main current path, ie the path between its source and drain electrodes, is coupled in series with the source electrode of the TFT N1, The control electrode of the other n-channel enhancement mode TFT is coupled to the input terminal I for the input voltage, and the two TFTs form an inverter circuit for generating an inverted voltage at the output terminal O.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成は定電流源を必要とする場合に適していない。その理
由は、TFT N1のゲート電圧が当然にゲート電圧供
給ラインGに供給される定電位に保持されている為、T
FT N1のソース電極と装置RLとの間の接続点にあ
る出力端子Oにおける出力電圧V0 のいかなる変化もT
FT N1のゲート−ソース電圧を変えてしまう為であ
る。TFT N1の相互コンダクタンスをgm とし、装
置RLを流れる電流をi0 とすると、出力インピーダン
スは
However, such a configuration is not suitable when a constant current source is required. The reason is that the gate voltage of the TFT N1 is naturally held at the constant potential supplied to the gate voltage supply line G,
Any change in the output voltage V 0 at the output terminal O at the connection between the source electrode of the FT N1 and the device RL is T
This is because the gate-source voltage of FT N1 is changed. If the transconductance of the TFT N1 is g m and the current flowing through the device RL is i 0 , the output impedance is

【数1】 によって与えられ、代表的に105 〜106 オームのオ
ーダとなりうる。更に、出力インピーダンスRout は出
力電圧V0 (すなわちTFT N1のソース電圧)に依
存する。その理由は、相互コンダクタンスがドレイン電
流の関数である為である。更に、出力電圧V0 に対する
出力電流i0 の依存性は、正確な電流源を提供するのに
この回路を用いることができないということを意味す
る。更に、このような構成の回路の利得は
[Equation 1] And can typically be on the order of 10 5 to 10 6 ohms. Furthermore, the output impedance R out depends on the output voltage V 0 (ie the source voltage of the TFT N1). The reason is that transconductance is a function of drain current. Moreover, the dependence of the output current i 0 on the output voltage V 0 means that this circuit cannot be used to provide a precise current source. Furthermore, the gain of the circuit having such a configuration is

【数2】 によって与えられる。ここに、W及びLは導通チャネル
の幅及び長さをそれぞれ示し、従って利得が高い場合、
TFT N1を極めて小さくするか或いはTFTRLを
極めて大きくする必要があり、これによりキャパシタン
ス問題を生ぜしめるおそれがあり、又、回路が占める面
積が大きくなること勿論である。
[Equation 2] Given by. Where W and L respectively indicate the width and length of the conducting channel, and thus for high gains,
Needless to say, it is necessary to make the TFT N1 extremely small or the TFT RL extremely large, which may cause a capacitance problem, and the area occupied by the circuit becomes large.

【0005】本発明の目的は、相補技術、例えばCMO
S技術を用いる際に制約がある状況の下で構成しうる、
多数電荷キャリアに対するシンクを得る回路を提供する
ことにある。
It is an object of the present invention to use complementary techniques such as CMO.
Can be configured under limited circumstances when using S technology,
It is to provide a circuit for obtaining a sink for majority charge carriers.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段並びに作用】本発明の第1
の見地では、多数電荷キャリヤ用のシンクを形成する回
路であって、第1及び第2の給電ラインと、各々が制御
電極並びに第1及び第2の主電極を有する同一極性の第
1及び第2のトランジスタと、主及び負の入力部並びに
出力部を有する増幅手段とを具え、前記第2トランジス
タが第1トランジスタの対応する寸法に対して予め定め
た比の寸法を有し、第1及び第2のトランジスタの第1
主電極を前記第1及び第2の給電ラインの一方の給電ラ
インに結合し、第1トランジスタの主電極をこの第1ト
ランジスタを経て基準電流を供給する基準電流源を介し
て他方の給電ラインに結合し、並びに第2トランジスタ
の第2主電極を負荷を介して前記他方の給電ラインに結
合されるように配置し、回路の動作中多数キャリヤを第
1及び第2のトランジスタを経て前記他方の給電ライン
から離れる方向に流し、前記増幅手段の負の入力部を第
1トランジスタの第2の主電極に結合し、正の入力部を
第2トランジスタの第2の主電極に結合し、並びに出力
部を第1及び第2のトランジスタの制御電極に結合して
増幅手段の正の入力部の電圧及び負の入力部の電圧を等
しくする負帰還を形成し、第2トランジスタがこの第2
トランジスタの第2主電極と前記他方の給電ラインとの
間に結合した負荷に前記基準電流に対して予め定めた比
の電流を供給するように構成したシンク形成回路を提供
する。
Means and Actions for Solving the Problems First of the Invention
In terms of, a circuit forming a sink for majority charge carriers, the first and second feed lines and first and second of the same polarity each having a control electrode and a first and a second main electrode. Two transistors and an amplifying means having a main and a negative input and an output, the second transistor having a dimension of a predetermined ratio with respect to the corresponding dimension of the first transistor, First of the second transistor
The main electrode is coupled to one of the first and second power supply lines, and the main electrode of the first transistor is connected to the other power supply line via a reference current source that supplies a reference current through the first transistor. And a second main electrode of the second transistor is arranged to be coupled to the other feed line via a load, and during operation of the circuit the majority carrier is passed through the first and second transistors to the other Flowing away from the feed line, the negative input of the amplifying means is coupled to the second main electrode of the first transistor, the positive input is coupled to the second main electrode of the second transistor, and the output Section is coupled to the control electrodes of the first and second transistors to form a negative feedback equalizing the voltage at the positive input and the voltage at the negative input of the amplification means, the second transistor being the second transistor.
A sink forming circuit configured to supply a load coupled between a second main electrode of a transistor and the other power supply line with a current having a predetermined ratio with respect to the reference current.

【0007】本発明による回路を用いれば、負帰還によ
り出力電流が基準電流に対して予じめ定めた比で関係を
有し、すなわちこの回路は電流ミラーのように作用し、
さらに出力インピダンスは増幅手段の利得によって決定
されるファクタだけ増大する(上述した既知の回路に比
べて)。従って、この回路により極めて高い出力インピ
ダンスの一定の出力電流が得られる。また、本発明によ
り、多段電荷キャリヤ用のシンクを相補MOS又はバイ
ポーラ技術を用いることなく形成することができる。例
えば、本発明により、nチャネルエンハンスメントMO
Sトランジスタだけしか用いられない場においても電流
源を形成することができる。第1及び第2のトランジス
タは、バイポーラトランジスタやエンハンスメント型M
OSトランジスタのように第1の主電極と第2の主電極
との間に適切な電圧が印加され制御電極に適当な電圧が
印加されない限り導通しないノーマリオフ型の装置とす
る。
With the circuit according to the invention, the output current has a predetermined ratio to the reference current due to the negative feedback, ie the circuit acts like a current mirror,
Moreover, the output impedance is increased by a factor determined by the gain of the amplification means (compared to the known circuit described above). Therefore, this circuit provides a constant output current with a very high output impedance. Also, the present invention allows the formation of sinks for multi-stage charge carriers without the use of complementary MOS or bipolar technology. For example, according to the present invention, an n-channel enhancement MO
The current source can be formed even when only the S transistor is used. The first and second transistors are bipolar transistors or enhancement type M
A normally-off type device such as an OS transistor which does not conduct unless an appropriate voltage is applied between the first main electrode and the second main electrode and an appropriate voltage is applied to the control electrode.

【0008】好適実施例において、第1及び第2のトラ
ンジスタをnチャネルエンハンスメントMOSトランジ
スタとし、第1のnチャネルMOSトランジスタのソー
ス電極を増幅手段の負の入力部に結合し、第2のnチャ
ネルMOSトランジスタのソース電極を増幅手段の正の
入力部に結合する。この場合、本発明により、nチャネ
ルエンハンスメント型MOSトランジスタだけを用いて
電流源を形成することができる。勿論、所望の場合に
は、nチャネルエンハンスメント型MOSトランジスタ
の代わりにバイポーラのn形装置すなわちnpnバイポ
ーラトランジスタを用いることもできる。
In the preferred embodiment, the first and second transistors are n-channel enhancement MOS transistors and the source electrode of the first n-channel MOS transistor is coupled to the negative input of the amplifying means to provide a second n-channel The source electrode of the MOS transistor is coupled to the positive input of the amplification means. In this case, according to the present invention, the current source can be formed using only the n-channel enhancement type MOS transistor. Of course, if desired, a bipolar n-type device or npn bipolar transistor can be used in place of the n-channel enhancement type MOS transistor.

【0009】ここで、“n形”又は“n形装置”とは、
装置の導通期間中多数電荷キャリヤが電子であるnpn
バイポーラトランジスタ又はnチャネルMOSトランジ
スタのような装置を意味し、“P形”又は“P形装置”
は装置の導通期間中多数電荷キャリヤがホールであるp
npバイポーラトランジスタやPチャネルMOSトラン
ジスタを意味する。
Here, "n type" or "n type device" means
Npn where majority charge carriers are electrons during conduction of the device
A device such as a bipolar transistor or an n-channel MOS transistor, "P-type" or "P-type device"
Is p where the majority charge carriers are holes during device conduction.
It means an np bipolar transistor or a P-channel MOS transistor.

【0010】第1及び第2のトランジスタは互いに同様
のものとすることができるが、好ましくは第1及び第2
のトランジスタを互いに整合させて出力電流を基準電流
に等しくする。ここで、“整合させる”とは、第1及び
第2のトランジスタを同一のプロセスで製造して同一の
寸法を有すること、従ってできるだけ同一の動作特性を
有し所定の電圧の場合同一の電流を流すことを意味す
る。一方、“同様な”とは、図第1及び第2のトランジ
スタが同一のプロセスで製造されて互いに等しくはない
予じめ定めた比の寸法を有し、第1のトランジスタによ
って流れる電流と第2のトランジスタによって流れる電
流が予じめ定めた比にあることを意味する。MOS又は
TFTトランジスタの場合、重要な寸法はチャネル長L
及びチャネル幅Wである。
The first and second transistors can be similar to each other, but preferably the first and second transistors.
Transistors are matched to each other so that the output current is equal to the reference current. Here, "matching" means that the first and second transistors are manufactured in the same process and have the same size, and thus have the same operation characteristics as much as possible and the same current at a predetermined voltage. Means to flush. On the other hand, “similar” means that the first and second transistors are manufactured in the same process and have predetermined ratio dimensions that are not equal to each other, and 2 means that the current carried by the transistor is in a predetermined ratio. For MOS or TFT transistors, the important dimension is the channel length L
And the channel width W.

【0011】前記増幅手段が、前記正の入力部及び負の
入力部に結合した入力トランジスタ回路を有する反転回
路と、この反転回路の動作中に照明される光感知素子を
有する負荷装置とを有することができる。
The amplifying means comprises an inverting circuit having an input transistor circuit coupled to the positive input and the negative input, and a load device having a photo-sensing element illuminated during operation of the inverting circuit. be able to.

【0012】例えば、増幅手段が第3,第4及び第5ト
ランジスタを有し、核トランジスタが第1及び第2の主
電極と制御電極とを具え、第3トランジスタの制御電極
を前記正の入力部に結合し、第4トランジスタの制御電
極を前記負の入力部に結合し、第5トランジスタの制御
電極をバイアス電圧源に結合し、第3及び第5トランジ
スタを前記第1の給電ラインと第2の給電ラインとの間
に直列に接続し、第5トランジスタを第4トランジスタ
及び前記光感知素子に直列に結合し、光感知素子を増幅
手段の出力部に結合することもできる。このように構成
することにより、相補型トランジスタを用いることなく
高出力インピダンスの増幅手段を構成することができ
る。
For example, the amplifying means comprises third, fourth and fifth transistors, the nuclear transistor comprises first and second main electrodes and a control electrode, the control electrode of the third transistor being the positive input. The control electrode of the fourth transistor is coupled to the negative input, the control electrode of the fifth transistor is coupled to the bias voltage source, and the third and fifth transistors are coupled to the first feed line and the first feed line. It is also possible to connect the fifth transistor in series with the second power supply line, to couple the fifth transistor in series to the fourth transistor and the photo-sensing element, and to couple the photo-sensing element to the output of the amplification means. With this configuration, it is possible to configure a high output impedance amplifying means without using a complementary transistor.

【0013】一例として、光感知ダイオードは、第4ト
ランジスタの第1の主電極と第1の給電ラインとの間に
結合した光感知性非線形抵抗装置で構成することができ
る。この回路において、光感知素子への光照射によって
生じたフォト電流を光感知ダイオード両端間の反転バイ
アス電圧に依存しないようにすることができ、この結果
増幅手段は極めて高い出力インピダンスを有することに
なる。増幅手段の利得は出力インピダンスにより決定さ
れ、30程度とすることができる。
As an example, the photo-sensing diode may consist of a photo-sensing non-linear resistance device coupled between the first main electrode of the fourth transistor and the first feed line. In this circuit, the photocurrent produced by illuminating the light-sensing element can be made independent of the inverting bias voltage across the light-sensing diode, which results in the amplifying means having a very high output impedance. . The gain of the amplification means is determined by the output impedance and can be about 30.

【0014】第2実施例において、光感知素子が、前記
第4トランジスタに直列に結合した別のトランジスタの
第2の主電極と制御電極との間に結合した少なくとも1
個の光感知装置を有し、光が入射したとき、前記別のト
ランジスタの第2の主電極と制御電極との間に電圧が生
ずるように構成することができる。この実施例では、別
のトランジスタのゲート−ソース間電圧は出力電圧の関
数ではないので、より高い利得を与えれば増幅手段は一
層増大した出力インピダンスをとることになる。この回
路の動作中、光感知素子への光照射により、光感知素子
両端間に微小電圧、すなわちフォト電流に等しい順方向
電流を与えるのに必要な順方向バイアスに等しい電圧が
生ずる。
In a second embodiment, a photo-sensing element is coupled to at least one of the second main electrode and the control electrode of another transistor in series with the fourth transistor.
It can be configured to have a plurality of light sensing devices so that when light is incident, a voltage is generated between the second main electrode and the control electrode of the another transistor. In this embodiment, the gate-source voltage of the other transistor is not a function of the output voltage, so a higher gain would result in the amplifying means taking on a more increased output impedance. During operation of this circuit, illumination of the light sensitive element produces a voltage across the light sensitive element, which is equal to the forward bias required to provide a forward current equal to the photocurrent.

【0015】第2の実施例において、一般的に光感知ダ
イオードの特性に応じて、光感知素子を光感知素子列で
構成し、光感知素子が照明されたとき別のトランジスタ
をターンオンさせるのに十分な電圧を与えることができ
る。この第2実施例において、第4トランジスタ、光感
知素子及び別のトランジスタによって形成されるインバ
ータ回路を流れる電流、すなわち負荷容量を充電する電
流は、このインバータ回路の出力電圧が増大する場合に
光感知素子を流れる電流によって決定されない。従っ
て、第2実施例において、別のトランジスタのチャネル
長対チャネル幅の比W/Lを増大させることにより又は
別のトランジスタすなわち負荷トランジスタの制御電極
と第1の主電極との間に結合した光感知素子列に光感知
素子を加えることにより、一層大きな容量性負荷を同一
の所定の速度で駆動することができる。一方、必ずしも
光感知ダイオードの大きさすなわち表面積を増大させる
必要はない。この理由は、光感知ダイオードは出力電流
を発生しないからである。
In the second embodiment, the photo-sensing element is formed of a series of photo-sensing elements, which generally turns on another transistor when the photo-sensing element is illuminated, depending on the characteristics of the photo-sensing diode. Sufficient voltage can be applied. In this second embodiment, the current flowing through the inverter circuit formed by the fourth transistor, the photo-sensing element and another transistor, ie the current charging the load capacitance, is photo-sensing when the output voltage of this inverter circuit increases. It is not determined by the current flowing through the device. Therefore, in the second embodiment, the light coupled by increasing the channel length to channel width ratio W / L of another transistor or between the control electrode and the first main electrode of another transistor or load transistor. Larger capacitive loads can be driven at the same predetermined speed by adding photosensitive elements to the array of sensing elements. On the other hand, it is not necessary to increase the size or surface area of the light-sensing diode. The reason for this is that the photosensitive diode does not produce an output current.

【0016】本発明には回路は例えばスイッチド電流回
路のように定電流が必要ないかなる状況にも用いること
ができ、特に例えばスマートパワー装置やインテリジェ
ントパワー装置或いは行及び列に配置された記憶素子の
2次元アレイを行導体及び列導体により個別にアクセス
する際の記憶素子のアクセスを制御する制御回路のよう
な薄膜装置のように相補的トランジスタを用いることが
困難な場合に用いることができる。
The circuit according to the invention can be used in any situation where a constant current is required, for example a switched current circuit, in particular a smart power device or an intelligent power device or storage elements arranged in rows and columns. Can be used when it is difficult to use complementary transistors such as a thin film device such as a control circuit for controlling access of storage elements when individually accessing a two-dimensional array by row conductors and column conductors.

【0017】本発明は、少なくとも1個の光感知素子
と、請求項1から7までのいずれか1項に記載のシンク
形成回路と、第1及び第2の主電極並びに絶縁ゲート電
極を有し、第1の給電ラインと第2の給電ラインとの間
で第1のトランジスタに直列に接続されて基準電流源を
形成する別のトランジスタと、前記第1の給電ラインと
第2の給電ラインとの間で第2のトランジスタに直列に
結合され、回路の負荷に対して第2のトランジスタと前
記別のトランジスタとの間の接続部に生ずる出力を与え
る付加的なトランジスタと、スイッチング手段とを具
え、前記スイッチング手段が、前記光感知素子を給電ラ
インと前記別のトランジスタの制御電極との間に結合し
て前記別のトランジスタが前記光感知素子が照明されな
い場合に光感知素子によって生じた第1信号を表わす第
1の電流を発生すると共に、前記光感知素子を給電ライ
ンと前記付加的なトランジスタの制御電極との間に結合
して前記付加的な前記光感知素子が照明された場合にこ
の光感知素子により生ずる第2の信号を表わす第2の電
流を発生し、前記出力部に生ずべき第1の信号と第2の
信号との間の差を表わす第3の電流を発生するように構
成したイメージセンサを提供する。
The present invention comprises at least one photo-sensing element, a sink forming circuit according to any one of claims 1 to 7, first and second main electrodes and an insulated gate electrode. A second transistor connected in series with the first transistor between the first power supply line and the second power supply line to form a reference current source, and the first power supply line and the second power supply line. An additional transistor coupled in series to the second transistor between the two to provide an output to the connection between the second transistor and said another transistor to the load of the circuit, and switching means. The switching means couples the light-sensing element between a power supply line and a control electrode of the another transistor to cause the another transistor to act as a light-sensing element when the light-sensing element is not illuminated. And generating a first current representative of the first signal generated by said photosensing element and coupling said photosensing element between the feed line and the control electrode of said additional transistor. A third current which, when illuminated, produces a second current which is representative of the second signal produced by the light sensitive element and which is representative of the difference between the first and second signals which should occur at the output. There is provided an image sensor configured to generate a current.

【0018】本発明による回路はバルク半導体技術を用
いて製造することができるが、本発明は、光感知素子が
例えばp−i−nダイオード、ショットキーダイオード
又は金属−絶縁体−金属(M−I−M)装置のような少
なくとも1個の薄膜ダイオードを有し、1個のトランジ
スタ又は各トランジスタがnチャネルの薄膜トランジス
タで構成される薄膜技術に用いることができる。
Although the circuit according to the invention can be manufactured using bulk semiconductor technology, the invention provides that the light-sensitive element is for example a pin diode, a Schottky diode or a metal-insulator-metal (M- I-M) devices, which have at least one thin film diode and can be used in thin film technology where one transistor or each transistor is composed of n-channel thin film transistors.

【0019】勿論、通常の電流ミラー回路の精度を改善
するに試みとしてダイオード接続した第1のトランジス
タと第2のトランジスタとが結合された制御ゲートを有
し、第1トランジスタを流れる電流を第2トランジスタ
により増幅手段を介してダイオードのフィードバック経
路に反射させて入力インピダンスを減少させ出力インピ
ダンスを増大させることが知られている。周知のよう
に、ダイオード接続とは、MOSトランジスタの場合ゲ
ートとドレインとを結合すること、バイポーラトランジ
スタの場合コレクタとベースとを結合することを意味す
る。このような回路において、例えば米国特許第464
2551号明細書又は欧州特許出願公開第523266
号明細書に示されているように、増幅手段の正の入力部
と出力部との間の経路にダイオード結合が挿入され増幅
手段の負の入力部が第2トランジスタのドレイン又はコ
レクタに接続されている。一方、この回路ではシンクを
形成できず又は多数キャリヤを供給することができず、
すなわちnチャネルの場合電流源を形成することができ
ない。従って、この回路では、一導電型トランジスタし
か利用できず高利得インバータを形成することができな
い。この理由は、この状況ではアクティブ負荷が必要で
あり、米国特許第4642551号明細書又は欧州特許
出願公開第523266号明細書に記載された回路の出
力部に結合されたアクティブ負荷は必ずソース(エミッ
ター)フロワー形態を有することにより所望の高利得を
達成することができないためである。
Of course, in an attempt to improve the accuracy of a conventional current mirror circuit, a diode connected first transistor and a second transistor have a control gate coupled to each other, and a current flowing through the first transistor is converted into a second current. It is known to cause the transistor to reflect through the amplifying means to the diode feedback path to reduce the input impedance and increase the output impedance. As is well known, the diode connection means to couple a gate and a drain in the case of a MOS transistor, and to couple a collector and a base in the case of a bipolar transistor. In such a circuit, for example, US Pat.
2551 specification or European Patent Application Publication No. 523266.
As shown in the specification, a diode coupling is inserted in the path between the positive input and the output of the amplifying means, and the negative input of the amplifying means is connected to the drain or collector of the second transistor. ing. On the other hand, this circuit cannot form a sink or supply a majority carrier,
That is, a current source cannot be formed in the case of n channels. Therefore, in this circuit, only one conductivity type transistor can be used and a high gain inverter cannot be formed. The reason for this is that an active load is required in this situation, and the active load coupled to the output of the circuit described in U.S. Pat. No. 4,642,551 or EP 523266 is always the source (emitter). This is because it is not possible to achieve a desired high gain by having a floor configuration.

【0020】[0020]

【実施例】図面はスケール通りに図示されておらず、全
図面を通して同一の構成要素には同一符号を付して説明
する。図2、図3又は図4を参照するに、多数キャリア
用のシンクを形成する回路10,10a,10bを示
す。図示の実施例の各々において、電流源を構成する回
路は第1及び第2の給電ライン並びに同一極性の第1及
び第2のトランジスタQ1及びQ2を具える。各トラン
ジスタは制御電極g1及びg2と、第1及び第2の主電
極d1及びs1並びにd2及びs2とを有し、第2のト
ランジスタQ2は第1のトランジスタQ1の対応する寸
法に対して予め定めた比の寸法を有する。第1及び第2
のトランジスタQ1及びQ2の第1電極d1及びd2は
第1及び第2の給電ライン1及び2の一方の給電ライン
1に結合し、第1トランジスタQ1の第2の電極s1は
第1のトランジスタQ1を介して基準電流Ir を供給す
る基準電流源3を経て他方の給電ライン2に結合する。
第2のトランジスタの第2の電極s2は負荷RLを介し
て第2の給電ライン2に結合して回路の動作中多数キャ
リアを第1及び第2のトランジスタQ1及びQ2を介し
て第2の給電ラインから離れる方向に流す。増幅手段4
は正及び負の入力部4a及び4b並びに出力部4cを有
し、負の入力部4bを第1のトランジスタQ1の第2の
主電極s1に結合し、正の入力部4aを第2のトランジ
スタQ2の第2の主電極s2に結合し、出力部4cは第
1及び第2のトランジスタQ1及びQ2の制御電極g1
及びg2に結合して負帰還を形成する。これにより、回
路の動作中増幅手段4の正及び負の入力部4a及び4b
の電圧を等しくし第2のトランジスタQ2から第2のト
ランジスタの第2の主電極s2と第2の給電ライン2と
の間に結合した負荷RLに基準電流Ir に対して予め定
めた比例関係にある電流Io を供給する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT The drawings are not drawn to scale, and the same components will be denoted by the same reference symbols throughout the drawings. With reference to FIG. 2, FIG. 3 or FIG. 4, circuits 10, 10a, 10b forming a sink for a majority carrier are shown. In each of the illustrated embodiments, the circuit forming the current source comprises first and second feed lines and first and second transistors Q1 and Q2 of the same polarity. Each transistor has control electrodes g1 and g2 and first and second main electrodes d1 and s1 and d2 and s2, the second transistor Q2 being predetermined relative to the corresponding dimensions of the first transistor Q1. Has a ratio dimension. First and second
The first electrodes d1 and d2 of the transistors Q1 and Q2 of the first transistor Q1 are coupled to one of the first and second power supply lines 1 and 2, and the second electrode s1 of the first transistor Q1 is connected to the first transistor Q1. Via the reference current source 3 which supplies the reference current I r via the.
The second electrode s2 of the second transistor is coupled to the second feed line 2 via the load RL to supply majority carriers to the second feed via the first and second transistors Q1 and Q2 during circuit operation. Run away from the line. Amplifying means 4
Has positive and negative inputs 4a and 4b and an output 4c, the negative input 4b being coupled to the second main electrode s1 of the first transistor Q1 and the positive input 4a being the second transistor The output part 4c is coupled to the second main electrode s2 of Q2, and the output part 4c is a control electrode g1 of the first and second transistors Q1 and Q2.
And g2 to form a negative feedback. This allows the positive and negative inputs 4a and 4b of the amplifying means 4 during circuit operation.
Are equalized, and the load RL coupled between the second main electrode s2 of the second transistor Q2 and the second feed line 2 has a predetermined proportional relationship with respect to the reference current I r . Supply a current I o at

【0021】これらの回路10,10a及び10bにお
いて、負帰還により出力電流Io は基準電流Ir に対し
て予め定めた比に設定される。この結果、これらの回路
は電流ミラー回路のように作動すると共に、出力インピ
ダンスは増幅手段4によって定められるファクタだけ増
大する。従って、相補的MOSやバイポーラ技術を用い
ることなく多数キャリア用のシンクを形成することがで
きる。この結果、例えば、電流源はnチャネルエンファ
ンスメントMOSトランジスタが必要な部分だけに形成
することができる。第1及び第2のトランジスタはノー
マリオフ型のデバイス、すなわちバイポーラトランジス
タ又は制御電極及び第1及び第2の主電極に適切な電圧
が印加されるまで導通しないエンハンスメント型MOS
トランジスタとする。
In these circuits 10, 10a and 10b, the output current I o is set to a predetermined ratio with respect to the reference current I r by negative feedback. As a result, these circuits behave like current mirror circuits and the output impedance is increased by a factor defined by the amplifying means 4. Therefore, a sink for majority carriers can be formed without using complementary MOS or bipolar technology. As a result, for example, the current source can be formed only in the portion where the n-channel enhancement MOS transistor is required. The first and second transistors are normally-off type devices, i.e. bipolar transistors or enhancement type MOSs that do not conduct until a suitable voltage is applied to the control electrode and the first and second main electrodes.
Use as a transistor.

【0022】図2を参照するに、この実施例では第1及
び第2のトランジスタはチャネル領域がアモルファスシ
リコン又は多結晶シリコンのような適当な半導体材料で
構成され例えばコープレナTFT、インバーテッドTF
T又はインバーテッドスタッガードTFTのような適切
な型式のnチャネル薄膜トランジスタ(TFT)で構成
する。これらTFTの構造は当業者にとって周知の事項
であるから、詳細な説明は省略する。
Referring to FIG. 2, in this embodiment, the first and second transistors have channel regions composed of a suitable semiconductor material such as amorphous silicon or polycrystalline silicon, eg, coplanar TFT, inverted TF.
It consists of a suitable type of n-channel thin film transistor (TFT) such as a T or inverted staggered TFT. Since the structure of these TFTs is well known to those skilled in the art, detailed description will be omitted.

【0023】第1及び第2のトランジスタのドレイン電
極d1及びd2を第1の給電ライン1に結合し、ゲート
電極g1及びg2は共に増幅手段4の出力部4cに結合
する。第1のTFTQ1のソース電極s1は適切な基準
電流源3を介して第2の給電ライン2に結合する。この
基準電流源は適切ないかなる電流源で構成することがで
きる。従って、例えばこの基準電源は通常の個別の定電
流源(例えば、外部の精密な抵抗体)を用いて既知の方
法で構成でき、或いは回路10がより大きな回路の一部
を構成する場合この回路の別の回路部分として形成する
ことができる。ある用途において、2個又はそれ以上の
回路10を同一のより大きな回路中に配置し、2個の回
路10の一方の回路に対する基準電流を他方の回路10
の出力電流により形成することができる。第2のトラン
ジスタQ2のソース電極s2は負荷インピダンスRLを
介して第2の給電ラインに結合する。この負荷は定電流
o が望まれるいかなる素子又は回路とすることもでき
る。
Drain charge of the first and second transistors
The poles d1 and d2 are coupled to the first feed line 1 and the gate
The electrodes g1 and g2 are both coupled to the output section 4c of the amplification means 4.
To do. The source electrode s1 of the first TFT Q1 is an appropriate reference
It is coupled to the second feed line 2 via a current source 3. this
The reference current source can consist of any suitable current source.
Wear. Therefore, for example, this reference power source is a normal individual constant voltage
Known using source (eg, external precision resistor)
Method, or circuit 10 is part of a larger circuit
To form as another circuit part of this circuit
be able to. In some applications, two or more
Place the circuit 10 in the same larger circuit and
The reference current for one circuit of path 10 is applied to the other circuit 10
Can be formed by the output current of Second tran
The source electrode s2 of the transistor Q2 is the load impedance RL.
Via the second power feed line. This load is a constant current
I oCan be any device or circuit desired
It

【0024】第1のトランジスタQ1のソース電極s1
は増幅手段4の負の入力部4bに結合し、第2のトラン
ジスタQ2のソース電極も増幅手段4の正の入力部4a
に結合する。増幅手段の出力部は第1及び第2のトラン
ジスタQ1及びQ2のゲート電極g1及びg2にそれぞ
れ結合する。
Source electrode s1 of the first transistor Q1
Is coupled to the negative input 4b of the amplifying means 4, and the source electrode of the second transistor Q2 is also the positive input 4a of the amplifying means 4.
Bind to. The output of the amplification means is coupled to the gate electrodes g1 and g2 of the first and second transistors Q1 and Q2, respectively.

【0025】増幅手段4は十分な利得を有する適切な型
式のものとし、その例については図3及び図4を参照し
て説明する。
The amplifying means 4 is of a suitable type with sufficient gain, an example of which will be described with reference to FIGS.

【0026】第1及び第2のトランジスタQ1及びQ2
は本回路の基準装置及び出力装置をそれぞれ構成し、本
例ではこれらトランジスタを互いに同一のチャネル長及
びチャネル幅を有するように、従って図2の回路におい
て同一の電流を流すように整合させる。
First and second transistors Q1 and Q2
Respectively constitute the reference device and the output device of the circuit, which in this example are matched such that they have the same channel length and channel width and thus the same current in the circuit of FIG.

【0027】図2の回路の動作中、基準電流源3は、ゲ
ート電圧Vg 及びソース電圧Vsrを有する基準トランジ
スタQ1を経て基準電流Ir を流すように作用する。増
幅手段4によって形成される負帰還により、増幅手段4
の正及び負の入力部4a及び4bの電圧は互いに等しく
され、第1及び第2のトランジスタは同一の動作条件と
なり、従ってこれらトランジスタのソース電圧Vsr及び
soは互いに等しくなる。従ってIr に等しい電流Io
が第2のトランジスタすなわち出力トランジスタQ2を
経て負荷RLに流れる。出力電圧の変化すなわち出力ト
ランジスタQ2のソース電圧の変化は増幅手段4の作用
により基準トランジスタ即ち第1のトランジスタのソー
ス電圧Vsrに生ずるので、基準トランジスタQ1及び出
力トランジスタQ2は同一の動作条件を有することにな
る。従って、出力電流Io は基準電流Ir と常時同一に
なり、この回路は電流ミラー回路として作用する。
During operation of the circuit of FIG. 2, the reference current source 3 acts to pass the reference current I r through the reference transistor Q1 having the gate voltage V g and the source voltage V sr . Due to the negative feedback formed by the amplification means 4, the amplification means 4
The voltage of the positive and negative input portions 4a and 4b are equal to each other, first and second transistor becomes the same operating conditions, thus the source voltage V sr and V so these transistors are equal to each other. Therefore a current I o equal to I r
Flows to the load RL through the second transistor, that is, the output transistor Q2. Since the change of the output voltage, that is, the change of the source voltage of the output transistor Q2 occurs in the source voltage V sr of the reference transistor, that is, the first transistor by the action of the amplifying means 4, the reference transistor Q1 and the output transistor Q2 have the same operating condition. It will be. Therefore, the output current I o is always the same as the reference current I r, and this circuit acts as a current mirror circuit.

【0028】さらに、この回路10の出力インピダンス
は増幅手段の利得に等しいファクタだけ増大する。この
出力インピダンスは微小信号分析により計算することが
できる。従って、第1及び第2のトランジスタのゲート
電圧は次式で与えられる。
Furthermore, the output impedance of this circuit 10 increases by a factor equal to the gain of the amplification means. This output impedance can be calculated by small signal analysis. Therefore, the gate voltages of the first and second transistors are given by the following equation.

【0029】[0029]

【数3】 ここで、Ao は増幅手段4の高いオープンループ利得で
あり、Δは微小変化量を表わす。出力インピダンスR
out は以下の式で与えられる。
[Equation 3] Here, A o is a high open loop gain of the amplification means 4, and Δ represents a minute change amount. Output impedance R
out is given by the following formula.

【0030】[0030]

【数4】 出力電流Io は出力トランジスタQ2の相互コンダクタ
ンスgm により決定され、従ってゲート−ソース間電圧
は次式で与えられる。
[Equation 4] The output current I o is determined by the transconductance g m of the output transistor Q2, and therefore the gate-source voltage is given by the following equation.

【0031】[0031]

【数5】 上式から以下の式が得られる。[Equation 5] From the above equation, the following equation is obtained.

【0032】[0032]

【数6】 [Equation 6]

【0033】基準電流Ir は定電流源3により規定さ
れ、従って一定になる。すなわち、基準トランジスタす
なわち第1のトランジスタのゲートソース電圧は変化せ
ず、ΔVg =ΔVsrとなる。これにより、次式が成立す
る。
The reference current I r is defined by the constant current source 3 and is therefore constant. That is, the gate-source voltage of the reference transistor, that is, the first transistor does not change, and ΔV g = ΔV sr . As a result, the following equation is established.

【0034】[0034]

【数7】 [Equation 7]

【0035】電圧Vg は増幅手段4の出力部4cの電圧
であり、出力インピダンスは次式で与えられる。
The voltage V g is the voltage of the output section 4c of the amplifying means 4, and the output impedance is given by the following equation.

【0036】[0036]

【数8】 (6)式は大きな増幅利得に対して次式により表され
る。
[Equation 8] Expression (6) is expressed by the following expression for a large amplification gain.

【0037】[0037]

【数9】 [Equation 9]

【0038】従って、上述したように、本回路10は所
定の入力電流Ir を反射する高出力インピダンスの電流
源として作用する。
Therefore, as described above, the circuit 10 acts as a high output impedance current source that reflects a predetermined input current I r .

【0039】図3及び図4は図2に示す回路10の好適
形態10a及び10bを示す回路図であり、増幅手段
4′及び4″(図3及び図4)において破線の内側に示
す回路)の好適な形態を示す。
FIGS. 3 and 4 are circuit diagrams showing the preferred embodiments 10a and 10b of the circuit 10 shown in FIG. 2, in which the amplifying means 4'and 4 "(FIGS. 3 and 4) are shown inside broken lines). The suitable form of is shown.

【0040】図3及び図4に示す実施例において、増幅
手段4はインバータ回路5を一例として用いるロングテ
ィルド ペェアの形態をなし、このインバータ回路は入
力トランジスタ回路及び負荷装置を含み、負荷はインバ
ータ回路の動作中に受光する光感知素子で構成される。
このインバータ回路は本願人から出願された欧州特許出
願第94201881.3号に開示されている。図3及
び図4に示すように、入力トランジスタ回路は第3、第
4及び第5のトランジスタQ3,Q4及びQ5を有し、
各トランジスタは第1及び第2の主電極と制御電極を有
している。第3のトランジスタの制御電極g3は増幅手
段4の正の入力部4aに結合し、第4のトランジスタの
制御電極g4は増幅手段4の負の入力部4bに結合す
る。第3及び第5のトランジスタQ3及びQ5は第1及
び第2の給電ライン1及び2の間に直列に結合し、第3
のトランジスタは第4のトランジスタ及びフォトダイオ
ードD1に直列に結合する。フォトダイオードD1も増
幅手段4の出力部4cに結合する。図3示す実施例にお
いて、トランジスタQ3〜Q5は全てnチャネルエンハ
ンスメントTFTとする。第3のトランジスタQ3のド
レイン電極d3は第1の給電ライン1に結合し、ソース
電極s3は第4のトランジスタのソース電極s4及び第
5トランジスタのドレイン電極d5に接続する。第5ト
ランジスタのソース電極s5は第2の給電ライン2に結
合し、第4トランジスタQ4のドレイン電極d4はフォ
トダイオードD1のアノードに結合する。フォトダイオ
ードD1のカソードは第1の給電ライン1に結合する。
In the embodiment shown in FIGS. 3 and 4, the amplifying means 4 is in the form of a long-tiled pair using the inverter circuit 5 as an example, the inverter circuit includes an input transistor circuit and a load device, and the load is the inverter circuit. It is composed of a photo-sensing element that receives light during operation.
This inverter circuit is disclosed in European patent application No. 94201881.3 filed by the present applicant. As shown in FIGS. 3 and 4, the input transistor circuit has third, fourth and fifth transistors Q3, Q4 and Q5,
Each transistor has first and second main electrodes and a control electrode. The control electrode g3 of the third transistor is coupled to the positive input 4a of the amplification means 4 and the control electrode g4 of the fourth transistor is coupled to the negative input 4b of the amplification means 4. The third and fifth transistors Q3 and Q5 are coupled in series between the first and second feed lines 1 and 2, and
Transistor is coupled in series with the fourth transistor and the photodiode D1. The photodiode D1 is also coupled to the output 4c of the amplification means 4. In the embodiment shown in FIG. 3, transistors Q3 to Q5 are all n-channel enhancement TFTs. The drain electrode d3 of the third transistor Q3 is coupled to the first power supply line 1, and the source electrode s3 is connected to the source electrode s4 of the fourth transistor and the drain electrode d5 of the fifth transistor. The source electrode s5 of the fifth transistor is coupled to the second power supply line 2, and the drain electrode d4 of the fourth transistor Q4 is coupled to the anode of the photodiode D1. The cathode of the photodiode D1 is coupled to the first power supply line 1.

【0041】第3及び第4トランジスタQ3及びQ4の
制御電極g3及びg4は増幅手段4′の正及び負の入力
部4a及び4bを構成し、フォトダイオードD1のアノ
ードと第4トランジスタQ4のドレイン電極d4との間
の接続部を増幅手段4の出力部4cに結合する。バイア
ス電圧Vb を第5トランジスタの制御電極g5に印加す
る。バイアス電圧Vb は適切な方法で取り出すことがで
き、例えば適当な分圧器を用いて第1の給電ラインと第
2の給電ラインとの間の電圧から取り出すことができ
る。この分圧器はダイオード接続したnチャネルTFT
列に第5TFTQ5の制御ゲートへのタップオフ接続を
設けて必要なバイアス電圧を供給する。ダイオード接続
したnチャネルTFTを用いることは、金属処理用のマ
スクにわずかな変更を加えただけで同一のプロセスを用
いてTFTQ1〜Q5で製造できる利点がある。
The control electrodes g3 and g4 of the third and fourth transistors Q3 and Q4 constitute the positive and negative input parts 4a and 4b of the amplifying means 4 ', the anode of the photodiode D1 and the drain electrode of the fourth transistor Q4. The connection to d4 is coupled to the output 4c of the amplification means 4. The bias voltage Vb is applied to the control electrode g5 of the fifth transistor. The bias voltage V b can be derived in any suitable way, for example using a suitable voltage divider from the voltage between the first and second feed lines. This voltage divider is a diode-connected n-channel TFT
The column is provided with a tap-off connection to the control gate of the fifth TFT Q5 to supply the required bias voltage. The use of the diode-connected n-channel TFT has an advantage that the TFTs Q1 to Q5 can be manufactured by using the same process with a slight modification of the metal processing mask.

【0042】インバータ回路5はフォトダイオードD1
が照明されるまで非動作状態にある。フォトダイオード
D1が受光すると、フォトダイオードD1の反転バイア
スに依存しないフォト電流が発生する。従って、フォト
ダイオードD1は印加される電圧に依存しないフォト電
流を発生し、このフォトダイオードD1は極めて高いイ
ンピダンスを有しインバータ回路5の利得はトランジス
タQ3の出力インピダンスにより決定される。
The inverter circuit 5 is a photodiode D1.
Is inactive until illuminated. When the photodiode D1 receives light, a photocurrent that does not depend on the reverse bias of the photodiode D1 is generated. Therefore, the photodiode D1 generates a photocurrent that does not depend on the applied voltage, and the photodiode D1 has an extremely high impedance, and the gain of the inverter circuit 5 is determined by the output impedance of the transistor Q3.

【0043】図3に示す増幅手段4′は30程度の利得
を与える高い出力を発生する。この利得の実際の値は、
第4トランジスタQ4の性能及びフォトダイオードD1
の特性を含む多数の因子による影響を受けるため良好に
規定することができない。一方、本例では増幅器として
より高い利得が要求されるが、増幅器の利得を良好に規
定する必要はない。
The amplifying means 4'shown in FIG. 3 generates a high output giving a gain of about 30. The actual value of this gain is
Performance of fourth transistor Q4 and photodiode D1
It cannot be well defined because it is affected by many factors including the characteristics of On the other hand, in this example, a higher gain is required for the amplifier, but it is not necessary to well define the gain of the amplifier.

【0044】図4に示す増幅手段4″も同様にロングテ
ィルド ペェアの形態であるが、光感知素子すなわちダ
イオードD1を別のトランジスタである負荷で置換す
る。尚、この別のトランジスタはnチャネルエンハンス
メントTFTQ6として示す。別のTFTQ6のドレイ
ン電極d6を第1の給電ライン1に結合し、ソース電極
s6は第4トランジスタQ4のドレイン電極d4に結合
する。
The amplifying means 4 "shown in FIG. 4 is likewise in the form of a long-tiled pair, but replaces the light-sensing element or diode D1 with a load which is another transistor, which is an n-channel enhancement. Shown as TFT Q6 The drain electrode d6 of another TFT Q6 is coupled to the first power supply line 1, and the source electrode s6 is coupled to the drain electrode d4 of the fourth transistor Q4.

【0045】光感知非線形抵抗装置D2、本例では光応
答性P−i−nダイオードの列をトランジスタQ6の制
御(ゲート)電極g6と第1の主電極(ソース電極)s
6との間に各光感知ダイオードD2が隣接するダイオー
ドのカソードに結合され、ダイオード列の最初のダイオ
ードのアノードが制御電極g6に結合され、ダイオード
列の最後段のダイオードのカソードが負荷トランジスタ
Q6の第1の主電極及び接続部J3を介して増幅段
4′′′の出力部4cに結合されるように結合する。
A photo-sensing nonlinear resistance device D2, in this example a column of photo-responsive P-i-n diodes, is connected to the control (gate) electrode g6 of the transistor Q6 and the first main electrode (source electrode) s.
6, each light-sensing diode D2 is coupled to the cathode of the adjacent diode, the anode of the first diode in the diode string is coupled to the control electrode g6, and the cathode of the diode in the last stage of the diode string is connected to the load transistor Q6. It is so coupled that it is coupled to the output 4c of the amplifier stage 4 "'" via the first main electrode and the connection J3.

【0046】本例では、インバータ回路5′の動作中、
負荷トランジスタQ6のゲートソース間電圧は光感知ダ
イオードD2に光が入射したときの光感知ダイオード列
により印加される。トランジスタQ6のゲートソース間
電圧はインバータ回路の出力電圧の関数ではないので、
このインバータ回路の出力電圧は増加する。
In this example, during operation of the inverter circuit 5 ',
The gate-source voltage of the load transistor Q6 is applied by the photo-sensing diode array when light is incident on the photo-sensing diode D2. Since the gate-source voltage of the transistor Q6 is not a function of the output voltage of the inverter circuit,
The output voltage of this inverter circuit increases.

【0047】各光応答性ダイオードD2の微小電圧降下
は、フォト電流の大きさに等しい順方向電流を与えるの
に必要な順方向バイアスに等しい。必要な光感知ダイオ
ードD2の数は、この光感知ダイオードの特性及び要求
されるインバータ回路の特性に依存するが(例えば1個
とすることができる)、負荷トランジスタQ6をターン
オンされるための十分なゲート−ソース間電圧を与える
ものでなければならない。
The small voltage drop across each photoresponsive diode D2 is equal to the forward bias required to provide a forward current equal to the magnitude of the photocurrent. The number of photo-sensing diodes D2 required depends on the characteristics of this photo-sensing diode and the required characteristics of the inverter circuit (which may be, for example, one), but is sufficient to turn on the load transistor Q6. It must provide a gate-source voltage.

【0048】より大きな利得が必要な場合、図3及び図
4に示す増幅手段4′及び4″はインバータ出力段をロ
ンダティルド ペェアに付加することにより変更でき
る。このインバータ出力段はインバータ回路5又は5′
のうちの1個の回路で構成できる。
If a larger gain is required, the amplifying means 4'and 4 "shown in FIGS. 3 and 4 can be modified by adding an inverter output stage to the Ronda Tiller pair. 5 '
It can be configured with one of the circuits.

【0049】勿論、いかなる他の適切な増幅手段を用い
ることもできる。一方、図3及び図4に示す実施例は、
トランジスタQ1及びQ2と同一極性のトランジスタだ
けを用いるだけで高利得及び高出力インピダンスを得る
ことができる利点があり、この利点は本例では極めて有
益である。この理由は、現在では許容できる閾値電圧及
び作動特性を有するPチャネルTFTが利用できないた
めである。
Of course, any other suitable amplification means can be used. On the other hand, the embodiment shown in FIG. 3 and FIG.
There is an advantage that high gain and high output impedance can be obtained by using only transistors having the same polarity as the transistors Q1 and Q2, and this advantage is extremely beneficial in this example. The reason for this is that P-channel TFTs with acceptable threshold voltage and operating characteristics are not currently available.

【0050】本発明による電流源回路は定電流源を構成
する必要があるいかなる状況においても用いることがで
きる。特に、本発明の電流源回路は、相補形のトランジ
スタを用いることができず、例えば前述した薄膜回路間
は又はスマートパワー集積回路を構成するために用いる
処理技術が極めて複雑化してしまう状況下において有用
である。
The current source circuit according to the invention can be used in any situation where a constant current source has to be constructed. In particular, in the current source circuit of the present invention, complementary transistors cannot be used, and for example, in the situation where the thin film circuits described above or the processing technology used for configuring the smart power integrated circuit becomes extremely complicated. It is useful.

【0051】定電流源又はバイアス電流源が必要となる
分野は、刊行物“スイッチド−カーレンツ アン アナ
ログ テクニーク フォー ディジタル テクノロジー
(Switched-currents an analogue for digital technol
ogy)" に記載されているスイッチド電流技術の分野であ
る。簡単に説明すると、このスイッチド電流技術はMO
Sトランジスタ(TFTとすることができる)の性能を
利用してゲート酸化膜ノキャパシタに蓄えられた電荷を
用いてドレイン電流を維持する電流モード信号処理技術
である。
An area in which a constant current source or a bias current source is needed is the publication "Switched-Carrents-Analog Technic for Digital Technology".
(Switched-currents an analogue for digital technol
ogy) "is the field of switched current technology. Briefly, this switched current technology is
It is a current mode signal processing technique that utilizes the performance of an S-transistor (which can be a TFT) to maintain the drain current by using the charge stored in the gate oxide film capacitor.

【0052】この技術を利用することにより、積分器や
遅延線等のバイアス素子を上述した刊行物に記載されて
いるように形成することがてきる。本発明による回路
は、一定のバイアス電流が必要ないかなるスイッチド電
流回路の適切な部分に用いることができる。図5は損失
のない非反転積分器20の一例を示す。こ回路では、2
個の電流源21及び20は適切なバイアス電流を供給す
るようにそれぞれ構成した本発明の回路によって構成さ
れ、この回路の実効負荷RLはnチャネルエンハンスメ
ント型MOSトランジスタQ7及びQ8並び値nチャネ
ルエンハンスメント型MOSトランジスタQ9で構成す
る。これらトランジスタQ7〜Q9の各々はTFTとす
る。トランジスタQ7及びQ8は互いに同一のものと
し、トランジスタQ9はそのチャネルの幅/長さの比が
トランジスタQ7の比のα1 倍の比を有している。図5
に示す回路20の動作は上述した刊行物の第39頁〜第
41頁に記載されているが、ここで簡単に説明すると、
クロック期間(n−1)の位相φ2において、スイッチ
23及び24(これらスイッチはいかなる適切な形態の
スイッチとすることができ、例えばMOSトランジスタ
とする)が閉成しスイッチ25が開放するので、トラン
ジスタQ7はダイオード接続され、このトランジスタQ
7は入力部からのi(n−1)の電流と、バスアス電流
源21からの電流2Jと、トランジスタQ8からの電流
−(J−io (n−1)/α1 )とを加算した電流を受
け取る。クロック期間(n)の次の位相φ2において、
スイッチ23及び24が開放しスイッチ25が閉成する
ので、トランジスタQ8がダイオード接続され、このト
ランジスタQ8はL2=2J−L1を通過させ、出力電
流i out (n)はα1 (J−L1)となる。
By using this technique, an integrator and
Bias elements such as delay lines are described in the publications mentioned above.
It can be shaped like Circuit according to the invention
Is any switched current that requires a constant bias current.
It can be used in any suitable part of the flow circuit. Figure 5 is loss
An example of a non-inverted integrator 20 without a switch is shown. In this circuit, 2
The individual current sources 21 and 20 provide suitable bias currents.
The circuit of the present invention is configured as follows.
The effective load RL of this circuit is the n-channel enhancement.
N-type MOS transistors Q7 and Q8 array value n channel
It consists of a Ru enhancement type MOS transistor Q9.
It Each of these transistors Q7 to Q9 is a TFT.
It Transistors Q7 and Q8 are the same
However, the transistor Q9 has a channel width / length ratio of
Ratio of transistor Q7 α1It has a double ratio. Figure 5
The operation of the circuit 20 shown in FIG.
Although it is described on page 41, here is a brief explanation:
In the phase φ2 of the clock period (n-1), the switch
23 and 24 (these switches are of any suitable form)
Can be a switch, for example a MOS transistor
Will be closed and switch 25 will be opened.
The transistor Q7 is diode-connected and this transistor Q7
7 is the current i (n-1) from the input unit and the bus ass current
Current 2J from source 21 and current from transistor Q8
-(Jio(N-1) / α1) And
Brush off. In the next phase φ2 of the clock period (n),
Switches 23 and 24 open and switch 25 closes.
Therefore, the transistor Q8 is diode-connected.
The transistor Q8 passes L2 = 2J-L1 and outputs
Flow i out(N) is α1(J-L1).

【0053】勿論、このような積分器は例えばビデオ信
号処理回路のようないかなる関連する回路にも用いるこ
とができる。
Of course, such an integrator can be used in any associated circuit, such as a video signal processing circuit.

【0054】本発明による回路及び上記積分回路を用い
るスイッチド電流回路は、薄膜技術を用いて形成される
2次元アクティブマトリックスアドレスアレイ10との
関連において特に重要である。図6はこのようなアレイ
30の一例を示す。このアレイ30はn行m列に配置し
た記憶素子31のアレイを具える。各記憶素子31はア
レイ30が例えば液晶表示装置を構成する場合表示素子
とすることができ、アレイ30がイメージセンサを構成
する場合トランジスタ又はp−i−nダイオードのよう
な光感知素子とすることができる。勿論、アレイ30は
種々の型式の記憶素子31を設けることによりこれらを
2個又はそれ以上組み合せることもできる。
The switched current circuit using the circuit according to the invention and the integrator circuit is of particular importance in connection with the two-dimensional active matrix address array 10 formed using thin film technology. FIG. 6 shows an example of such an array 30. The array 30 comprises an array of storage elements 31 arranged in n rows and m columns. Each storage element 31 may be a display element when the array 30 constitutes, for example, a liquid crystal display device, and may be a light sensing element such as a transistor or a pin diode when the array 30 constitutes an image sensor. You can Of course, the array 30 can also be a combination of two or more by providing various types of storage elements 31.

【0055】図6において、記憶素子31は単にキャパ
シタとして図示する。このキャパシタは、表示装置の場
合には表示素子のキャパシタとすることができ、イメー
ジセンサの場合には真性フォトダイオード(又はこれに
別のキャパシタを付加したもの)をキャパシタとし、薄
膜メモリの場合メモリ素子の記憶キャパシタとすること
ができる。
In FIG. 6, the storage element 31 is shown simply as a capacitor. In the case of a display device, this capacitor can be used as a capacitor of a display element, in the case of an image sensor, an intrinsic photodiode (or another capacitor added thereto) as a capacitor, and in the case of a thin film memory, a memory. It can be a storage capacitor for the device.

【0056】図6に示す実施例において、各キャパシタ
31の一方の電極は基準電位(本例の場合アース)に維
持されている共通の電極に結合し、他方のプレートはn
チャネルエンハンスメント型TFTスイッチング素子3
2の一方の主電極に結合し、このスイッチング素子32
は記憶素子31と共にアレイ素子すなわち画素を構成す
る。n行の記憶素子31と関連する全てのTFT32の
ゲート電極すなわち、制御電極は同一行の導体部33に
結合し、m列の記憶素子32と関連する全てのTFTの
他方の主電極は同一列の導体部34に結合する。行アド
レス回路35及び列アドレス回路36を設けて各記憶素
子をスイッチング素子TFT32を介して個別にアクセ
スさせることができる。行アドレス回路及び列アドレス
回路の実際の性能はアレイの精度に応じて定められ、例
えば表示装置とするか又はイメージセンサとするかに応
じて定められ、表示装置の場合列アドレス回路はアレイ
にビデオ信号情報を供給する必要があり、イメージセン
サの場合光感知素子に蓄積された電荷を読み出すことが
できる必要がある。これら2個の装置に用いる行アドレ
ス回路及び列アドレス回路の例は多くの刊行物に見い出
すことができる。従って、例えば液晶表示装置の駆動方
法については欧州特許出願公開第391655号又は英
国特許出願公開第2186414号を参照でき、イメー
ジセンサの駆動方法については例えば米国特許第500
3167号、米国特許第4382187号、米国特許第
4945243号明細書を参照することができる。勿
論、他の型式のスイッチング素子(ダイオード、TFT
等)を用いること(例えば、米国特許第4945243
号又は欧州特許出願公開第233104号明細書を参
照)並びに他の回路構成をとることも可能であることは
当業者にとって自明のことである。また、記憶素子31
のマトリックスアレイとして3×3のアクティブ領域3
0aだけを図4に図示したが、実際にはアレイはより多
くの記憶素子で構成することができ、実際の素子数は所
望の用途に応じて定める。
In the embodiment shown in FIG. 6, one electrode of each capacitor 31 is coupled to a common electrode which is maintained at a reference potential (ground in this example) and the other plate is n.
Channel enhancement type TFT switching element 3
This switching element 32 is connected to one of the two main electrodes.
Together with the storage element 31 form an array element, that is, a pixel. The gate electrodes, ie, control electrodes, of all the TFTs 32 associated with the memory elements 31 in the n-th row are coupled to the conductor portions 33 in the same row, and the other main electrodes of all the TFTs associated with the memory elements 32 in the m-th column are in the same column. Coupled to the conductor portion 34 of. By providing the row address circuit 35 and the column address circuit 36, each memory element can be individually accessed through the switching element TFT 32. The actual performance of the row address circuit and the column address circuit is determined according to the accuracy of the array, for example, whether it is a display device or an image sensor. It is necessary to supply signal information, and in the case of an image sensor, it is necessary to be able to read out the charges accumulated in the photosensitive element. Examples of row and column address circuits for these two devices can be found in many publications. Therefore, for example, the driving method of the liquid crystal display device can be referred to European Patent Application Publication No. 391655 or British Patent Application Publication No. 2186414, and the driving method of the image sensor can be described in, for example, US Pat.
Reference can be made to 3167, U.S. Pat. No. 4,382,187, and U.S. Pat. No. 4,945,243. Of course, other types of switching elements (diodes, TFTs)
Etc. (eg US Pat. No. 4,945,243).
It is obvious to those skilled in the art that other circuit configurations are also possible. In addition, the storage element 31
3 × 3 active area 3 as matrix array
Although only 0a is shown in FIG. 4, in practice the array can be made up of more storage elements, the actual number of elements being determined by the desired application.

【0057】このようなアレイ装置の行アドレス回路及
び列アドレス回路はシフトレジスタ等を一般に用い、こ
れらシフトレシズタ等は図2〜図4に示す形態の電流源
回路を通常用いる必要はないが、アレイ30と同様に行
駆動回路及び列駆動回路の両方を同一基板(一般にはガ
ラス又はプラスチック基)上に集積化する必要があり、
特にイメージセンサの場合付加的な機能をイメージセン
サアレイに組み込む必要もある。この付加的な機能は、
例えば画素レベル利得、A/D変換、及び最接近平均化
処理のような画像処理を含むことができる。これらの画
素レベル信号処理機能の多くは、定電流源(高出力イン
ピダンス)を必要とする画素から生ずる信号を処理する
手段を必要とし、この定電流源は本発明による回路を用
いて有益に実現することができる。
The row address circuit and the column address circuit of such an array device generally use shift registers and the like, and these shift registers and the like do not usually need to use the current source circuits of the forms shown in FIGS. Both row and column drive circuits need to be integrated on the same substrate (typically glass or plastic substrate) as well as
Especially in the case of an image sensor, it is necessary to incorporate additional functions into the image sensor array. This additional feature
For example, image processing such as pixel level gain, A / D conversion, and closest averaging processing can be included. Many of these pixel level signal processing functions require a means to process the signals originating from the pixels that require a constant current source (high output impedance), which constant current source is beneficially implemented using the circuit according to the invention. can do.

【0058】図7は本発明による回路10をイメージセ
ンサ中に用いた一例を示す。本例では、回路10を用い
て、光感知素子に光が入射した場合に生ずる信号から光
が照射されない場合にイメージセンサの光感知素子に生
ずる信号すなわち“黒”信号を除去して出力信号が感知
された光を正確に表わすように構成する。
FIG. 7 shows an example in which the circuit 10 according to the present invention is used in an image sensor. In this example, the circuit 10 is used to remove a signal generated in the light-sensing element of the image sensor from the signal generated when light is incident on the light-sensing element, that is, a "black" signal, so that an output signal is obtained. It is configured to accurately represent the sensed light.

【0059】図7に示すように、回路10は図2に示す
回路とするが、本例では基準電流源3をnチャネルエン
ハンスメント型TFTQ7で構成し負荷抵抗RLを別の
nチャネルエンハンスメントTFTQ8で構成する。キ
ャパシタC1 及びC2 をそれぞれTFTQ7及びQ8の
ソース電極とゲート電極との間に結合する。TFTQ7
及びQ8のゲート電極すなわち制御電極をそれぞれスイ
ッチSW1及びSW2を経てイメージセンサ40の画素
すなわち撮像素子41の光感知素子D3に結合する。本
例では、各スィッチSW1及びSW2はそれぞれTFT
Q7及びQ8のゲート電極を光感知ダイオードD3のア
ノードに結合し、このダイオードD3のカソードを基準
電位Vref に結合する。光感知ダイオードD3のアノー
ドも第3のスイッチSW3を介してリセット電圧Vrst
に結合する。スイッチSW1〜SW3はnチャネルTF
Tとすることができ、各ゲート電極に既知の方法で適切
な電圧を印加することにより制御する。
As shown in FIG. 7, the circuit 10 is the circuit shown in FIG. 2, but in this example, the reference current source 3 is composed of an n-channel enhancement type TFT Q7 and the load resistance RL is composed of another n-channel enhancement TFT Q8. To do. Capacitors C 1 and C 2 are coupled between the source and gate electrodes of TFTs Q7 and Q8, respectively. TFT Q7
, And the control electrode of Q8 is coupled to the pixel of the image sensor 40, that is, the photosensitive element D3 of the image pickup element 41 via the switches SW1 and SW2, respectively. In this example, each switch SW1 and SW2 is a TFT.
The gate electrodes of Q7 and Q8 are coupled to the anode of the light sensitive diode D3 and the cathode of this diode D3 is coupled to the reference potential V ref . The anode of the photosensitive diode D3 is also reset voltage Vrst via the third switch SW3.
Bind to. Switches SW1 to SW3 are n-channel TF
T, which is controlled by applying an appropriate voltage to each gate electrode by a known method.

【0060】図7に示す“黒”信号取出回路の動作を理
解するため、光感知ダイオードD3がスイッチSW3を
閉成(導通させる)することによりリセットされた状態
を想定する。最初光感知ダイオードD3は光に対して遮
光されスイッチSW3は開放(非導通状態)されてい
る。次に、スイッチSW1が予め定めた時間に亘って閉
成(導通状態)されて光感知ダイオードD3をTFTQ
7の制御電極に結合し、光照射されていない光感知ダイ
オードに生じた電荷(“黒”信号)をキャパシタC1に
蓄積させる。次に、スイッチSW1が開放する。望まし
い場合を考慮すれば、光感知ダイオードに光照射する前
に再びリセットすることもできる。次に、光感知ダイオ
ードD3に光を入射させ、スイッチSW2を予め定めた
時間に亘って閉成して光感知ダイオードへの光照射中に
生じた電荷をTFTQ8の絶縁ゲートに転送する。TF
TQ8は、光照射中に光感知ダイオードによって感知さ
れた光による信号と“黒”信号との和を表わす電流I
s+d を通過させる。TFTQ7は、キャパシタC1に蓄
積された電荷により“黒”信号を表わす電流Id を通過
させ、この電流Id は回路10に対する基準電流を与え
る。回路10の作用効果は、TFTQ1及びQ2に同一
の電流Id を流すことができることである。勿論、TF
TQ8は電流Is+d を流すので、出力部Oにおいて電流
を連続させるためにはキルフィホッフの法則により電流
s を接続部J1に流す必要がある。従って、出力部O
は光感知ダイオードによって感知された実際の光を表わ
す電流信号Is すなわち“黒”信号が除去された電流信
号Is を発生する。
To understand the operation of the "black" signal extraction circuit shown in FIG. 7, assume that the photosensitive diode D3 is reset by closing (conducting) the switch SW3. Initially, the light-sensing diode D3 is shielded from light and the switch SW3 is opened (non-conducting state). Next, the switch SW1 is closed (conducting state) for a predetermined time, and the photo-sensing diode D3 is turned on by the TFT Q.
The charge (“black” signal) generated in the light-sensing diode which is coupled to the control electrode of No. 7 and is not irradiated with light is accumulated in the capacitor C1. Next, the switch SW1 is opened. If desired, it can be reset again before illuminating the light sensitive diode. Next, light is incident on the photo-sensing diode D3, the switch SW2 is closed for a predetermined time, and the charges generated during the light irradiation to the photo-sensing diode are transferred to the insulated gate of the TFT Q8. TF
TQ8 is a current I representing the sum of the light signal sensed by the light sensing diode during light irradiation and the "black" signal.
Pass s + d . TFTQ7 passes the current I d that represents the "black" signal by the charge accumulated in the capacitor C1, the current I d will give a reference current to the circuit 10. The effect of the circuit 10 is that the same current I d can flow through the TFTs Q1 and Q2. Of course, TF
Since the TQ8 causes the current I s + d to flow, in order to make the current continuous at the output portion O, it is necessary to flow the current I s to the connection portion J1 according to Kirfihoff's law. Therefore, the output section O
Generates a current signal I s of the current signal I s or "black" signal is removed to represent the actual light sensed by the light sensing diodes.

【0061】回路10の増幅器4の光感知ダイオードD
1及びD2は“黒”信号を表わす電荷をキャパシタC2
に蓄積する期間中必ずしも光照射する必要はないが、勿
論光感知ダイオードD3の光照射中には光照射を行なっ
て回路10を動作させる。光感知ダイオードD3を照射
する光を用いて光感知ダイオードD1又はD2を照射す
ることも可能ではあるが、イメージセンサに入射する光
は変化するので個別の一定の光を発生する光源を光感知
ダイオードD1又はD2用に用いることが望ましい。こ
のような構成は、光感知ダイオードD3がダイオードの
上側表面に入射した光だけを受光し光感知ダイオードD
1又はD2がダイオードの底面に入射した光だけを受光
するように光感知ダイオードを金属化処理設計すること
により達成できる。
Photosensitive diode D of amplifier 4 of circuit 10
1 and D2 charge the capacitor C2 to represent the "black" signal.
Although it is not always necessary to irradiate light during the period of accumulation in the storage area, the circuit 10 is operated by irradiating light during the light irradiation of the photo-sensing diode D3. It is possible to irradiate the light-sensing diode D1 or D2 with the light irradiating the light-sensing diode D3, but since the light incident on the image sensor changes, a light source that generates individual constant light is used as the light-sensing diode. It is desirable to use it for D1 or D2. In such a configuration, the light-sensing diode D3 receives only the light incident on the upper surface of the diode and receives the light-sensing diode D3.
This can be achieved by designing the light-sensing diode to be metallized such that 1 or D2 receives only the light incident on the bottom surface of the diode.

【0062】図8は絶縁性基板42(一般にはガラス)
上に薄膜技術により形成したイメージセンサを一部を除
いて示す線図的断面図であり、異なる光感知ダイオード
が異なる方向からの光を受光できる構成を示す。
FIG. 8 shows an insulating substrate 42 (generally glass).
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an image sensor formed by a thin film technique with a part thereof removed, showing a configuration in which different light sensing diodes can receive light from different directions.

【0063】特に、図8は光感知ダイオードD1及び関
連するnチャネルエンハンスメントTFT(例えばTF
TQ4)の一例並びに光感知ダイオードD3及びスイッ
チSW1〜SW3のうちの1個のスイッチを構成する関
連するnチャネルエンハンスメントTFTの一例を示
す。全てのTFTは同一構造とすることができる。
In particular, FIG. 8 illustrates a photosensitive diode D1 and associated n-channel enhancement TFT (eg TF).
An example of a TQ4) and an example of a related n-channel enhancement TFT that constitutes one of the photo-sensing diode D3 and the switches SW1 to SW3 is shown. All TFTs can have the same structure.

【0064】図8はTFTSW1及びQ4について反転
スタガード構造を示す。各TFTは回路の他の部分へ適
切に接続するクロミウムの導体トラック43上に形成し
たクロミウムのゲート電極gを有する。一般に窒化シリ
コンのゲート絶縁層44によりゲート電極gを覆い、ゲ
ート絶縁層上に通常の堆積及びリソグラフィ技術により
一般にポリシリコンの真性半導体層(不純物が添加され
ていない半導体)であるチャネル形成層45を形成す
る。通常のエッチング停止絶縁領域46をチャネル形成
層45の制御区域に形成し、次にn形の半導体領域47
並びにソース及びドレイン電極(通常クロミウム)s及
びdを堆積し画成する。これらソース及びドレイン電極
上に絶縁層48を形成し、この絶縁層にコンタクト窓を
形成してクロミウムとアルミニウムから成る金属層を堆
積しソース及びドレイン電極を画成すると共にこの金属
層により回路の他の部分への接続も行なう。
FIG. 8 shows an inverted staggered structure for TFTs SW1 and Q4. Each TFT has a chromium gate electrode g formed on a chromium conductor track 43 for proper connection to the rest of the circuit. In general, the gate electrode g is covered with a gate insulating layer 44 of silicon nitride, and a channel forming layer 45 which is generally an intrinsic semiconductor layer (a semiconductor to which impurities are not added) of polysilicon is formed on the gate insulating layer by a normal deposition and lithography technique. Form. A conventional etch stop insulating region 46 is formed in the control area of the channel forming layer 45 and then an n-type semiconductor region 47.
And source and drain electrodes (usually chromium) s and d are deposited and defined. An insulating layer 48 is formed on the source and drain electrodes, a contact window is formed in the insulating layer, and a metal layer made of chromium and aluminum is deposited to define the source and drain electrodes. Also connect to the part.

【0065】ソース電極及びドレイン電極49の一方の
電極を構成する金属層は関連する光感知ダイオードの一
方の電極50a又は50bも形成する。この場合、光感
知ダイオードD1,D2及びD3は、不純物が適切に添
加された半導体材料の層、一般にアモルファスシリコン
の層を堆積してパターニングすることによりn−i−p
ダイオードで構成する。次に、窒化シリコンの別の絶縁
層51を堆積しパターニングして別の金属層を堆積及び
パターニングして光感知ダイオードのための他の電極5
2a及び52bを形成する。図8から明らかなように、
光感知ダイオードD1又はD2の下側電極50aに開口
部Aを形成して適当なバックライトBLからの光を光感
知ダイオードD1又はD2に入射させ、一方光感知ダイ
オードD3の下側電極50bにより光感知ダイオードD
3を遮光してバックライトBLからの直接光が入射しな
いようにする。これとは反対に光感知ダイオードD1又
はD2の上側電極52aは入射光に対してこれらダイオ
ードを遮光し、光感知ダイオードD3の上側電極52b
は該ダイオードD3の上側面に光を入射させるように形
成する。図示のように、このイメージセンサはポリイミ
ドのような材料の保護絶縁層53で被覆し、この保護絶
縁層上に撮像すべき原稿Dを配置することができる。こ
の場合、原稿Dは、イメージセンサ40の光透過性部分
を経て入射する別の光源からの光すなわち別のバックラ
イトからの光で照明することができる。
The metal layer which constitutes one of the source and drain electrodes 49 also forms one of the electrodes 50a or 50b of the associated photo-sensing diode. In this case, the photosensitive diodes D1, D2 and D3 are n-i-p by depositing and patterning a layer of appropriately doped semiconductor material, typically a layer of amorphous silicon.
Consists of a diode. Then another insulating layer 51 of silicon nitride is deposited and patterned to deposit and pattern another metal layer to form another electrode 5 for the photosensitive diode.
2a and 52b are formed. As is clear from FIG.
An opening A is formed in the lower electrode 50a of the light-sensing diode D1 or D2 so that light from a suitable backlight BL is incident on the light-sensing diode D1 or D2, while light is emitted by the lower electrode 50b of the light-sensing diode D3. Sensing diode D
3 is shielded so that the direct light from the backlight BL does not enter. On the contrary, the upper electrode 52a of the light sensing diode D1 or D2 shields these diodes from incident light, and the upper electrode 52b of the light sensing diode D3.
Is formed so that light is incident on the upper side surface of the diode D3. As shown, the image sensor can be covered with a protective insulating layer 53 of a material such as polyimide, on which the document D to be imaged can be placed. In this case, the document D can be illuminated with light from another light source, that is, light from another backlight, which is incident through the light transmitting portion of the image sensor 40.

【0066】勿論、撮像されるべき物体がイメージセン
サに直接接触していない場合、周囲からの光によって物
体を撮像することもできる。一方、“黒”信号を形成す
るためには、例えば機械的シャッタや液晶表示シャッタ
のような適切なシャッタを用いて光感知ダイオードD3
を遮光する必要がある。
Of course, when the object to be imaged is not in direct contact with the image sensor, the object can be imaged by the light from the surroundings. On the other hand, in order to form the "black" signal, a suitable shutter such as a mechanical shutter or a liquid crystal display shutter is used to detect the photo-sensing diode D3.
Need to be shaded.

【0067】図7は画素41だけを示すが、勿論図7の
回路を画素41のマトリックスアレイを有する2次元ア
クティブマトリックスイメージセンサに適用することも
可能である。この場合行導体54及び列導体55により
各画素をアクセスし、本例では光感知ダイオードD3の
カソードを各行電極54にそれぞれ結合する。また、n
チャネルTFTの付加的なスイッチを用いることによ
り、単一の回路10がアレイの1個の列中の全ての画素
について分担するように構成することもできる。図9は
2次元アレイのm列の一部を一例として示す。各光感知
ダイオードD3はキャパシタC1及びC2とスイッチS
W1〜SW3とを有し、各画素列に対して1個のTFT
Q7及びTFTQ8だけを設ける。各キャパシタC1は
それぞれスイッチSW4を介してTFTQ7の制御電極
に結合した第1の列導体55に結合し、各キャパシタC
2はそれぞれスイッチSW5を介してTFTQ8の制御
電極に結合した第2の列導体55bに結合する。スイッ
チSW1〜SW5の動作を制御する適切なタイミング信
号を用いることにより、N行の光感知ダイオードD3の
キャパシタC2に記憶された電荷を読み出し、その間に
N−1行の光感知ダイオードD3をリセットすると共に
N+1行の光感知ダイオードを照明して関連するキャパ
シタC2に電荷を蓄積することができる。キャパシタC
1が蓄積された電荷を維持できる時間長及びアレイ全体
の光感知ダイオードを読み出すのに必要な時間長に応じ
て、アレイを構成する光感知ダイオードD3が読み出さ
れる前に各光感知ダイオードD3の“黒”信号を得るこ
とができ、或は前述した方法で個々の光感知ダイオード
D3が読み出される前に得ることもできる。各列毎に個
別の回路10を設ける場合m列の光感知ダイオードD3
を同時に読み出すことができ、或は適当なマルチプレク
サ回路を用いればアレイ全体について単一の回路10を
用いることもできる。
Although FIG. 7 shows only the pixel 41, the circuit of FIG. 7 can of course be applied to a two-dimensional active matrix image sensor having a matrix array of pixels 41. In this case, each pixel is accessed by the row conductor 54 and the column conductor 55, and in this example, the cathode of the photosensitive diode D3 is coupled to each row electrode 54. Also, n
It is also possible to configure a single circuit 10 to share for all the pixels in one column of the array by using the additional switches of the channel TFTs. FIG. 9 shows a part of the m columns of the two-dimensional array as an example. Each light sensing diode D3 has a capacitor C1 and C2 and a switch S.
W1 to SW3, one TFT for each pixel column
Only Q7 and TFT Q8 are provided. Each capacitor C1 is coupled to the first column conductor 55 coupled to the control electrode of the TFT Q7 via the switch SW4, and each capacitor C1
2 is coupled to the second column conductor 55b coupled to the control electrode of the TFT Q8 via the switch SW5. By using an appropriate timing signal for controlling the operation of the switches SW1 to SW5, the charge stored in the capacitor C2 of the N rows of light sensing diodes D3 is read out, and in the meanwhile, the N−1th row of light sensing diodes D3 is reset. At the same time, the light-sensing diodes in the N + 1th row can be illuminated to store charge in the associated capacitor C2. Capacitor C
Depending on the length of time that 1 can hold the accumulated charge and the length of time required to read out the photo-sensing diodes of the entire array, the “d” of each photo-sensing diode D3 is read before the photo-sensing diodes D3 forming the array are read. A "black" signal can be obtained, or can be obtained in the manner described above before the individual photo-sensing diodes D3 are read out. When an individual circuit 10 is provided for each column, m columns of photo-sensing diodes D3
Can be read simultaneously, or a single circuit 10 can be used for the entire array with suitable multiplexer circuits.

【0068】前で指摘したように、本発明により、一極
性トランジスタ(一般には、電流源が必要になるnチャ
ネルエンハンスメント型MOSトランジスタ)で要求さ
れる多数キャリヤ用のシンクを構成する高インピダンス
を構成することができ、本発明は薄膜表示装置、イメー
ジセンサ及びメモリ用の制御回路のような薄膜技術回路
並びに例えばスマートパワーの分野のようなバルク半導
体技術において有用な利点がある。このような多数電荷
キャリヤ用のシンクを用いて電流ミラー回路を実現する
ことができ、勿論既知の電流ミラー技術を用いることに
より出力電流の値を調整することもできる。本発明は、
適当な負荷に定電圧を印加するために用いることもでき
る。
As pointed out above, the present invention provides a high impedance which constitutes the sink for the majority carriers required in a unipolar transistor (generally an n-channel enhancement type MOS transistor which requires a current source). The present invention can be useful in thin film technology circuits, such as thin film displays, control circuits for image sensors and memories, and in bulk semiconductor technology, for example in the field of smart power. A current mirror circuit can be realized using such a sink for majority charge carriers, and of course the value of the output current can be adjusted by using known current mirror technology. The present invention is
It can also be used to apply a constant voltage to a suitable load.

【0069】前述した実施例において、トランジスタQ
1及びQ2は同一電流が流れるように整合しているが、
回路に適切な変更を加えて互いに予め定めた比(互いに
等しくない)の電流を流し出力電流が基準電流Ir に対
して予め定めた比となるように設定することもできる。
In the embodiment described above, the transistor Q
1 and Q2 are matched so that the same current flows,
It is also possible to make appropriate changes to the circuit so that currents having a predetermined ratio (not equal to each other) are made to flow so that the output current has a predetermined ratio with respect to the reference current I r .

【0070】一般に、本発明による回路10の全ての素
子を同一基板に集積化することができる。一方、1又は
それ以上の素子を別体構造とすることもできる。
In general, all elements of the circuit 10 according to the invention can be integrated on the same substrate. On the other hand, one or more elements may have a separate structure.

【0071】原理的に、本発明は、電圧極性等について
適切な変更を行なうことにより用いることができるトラ
ンジスタが例えばpnpバイポーラトランジスタ又はP
チャネルエンハンスメントMOSトランジスタのような
P形の場合にも適用することができ、この結果P形の装
置だけしか用いられない場合に困難な電流シンクを構成
する回路を形成することができる。このようなP形装置
が必要又は望ましい状況は、例えば特別な目的のため電
流源を必要とする論理回路がPチャネルのバーチカルパ
ワー装置と共に集積化した場合にだけ生ずる。
In principle, according to the present invention, a transistor that can be used by appropriately changing the voltage polarity and the like is, for example, a pnp bipolar transistor or a P-type transistor.
It can also be applied in the case of P-types such as channel enhancement MOS transistors, so that it is possible to form a circuit which constitutes a difficult current sink when only P-type devices are used. The situation in which such a P-type device is necessary or desirable occurs only if, for example, a logic circuit requiring a current source for a special purpose is integrated with a P-channel vertical power device.

【0072】勿論、特に本発明による回路が薄膜技術で
はなくバルク技術を用いて形成される場合、図4のトラ
ンジスタQ6を除いてエンハスメントMOSトランジス
タは適当な極性のバイポーラトランジスタで置換するこ
とができる(すなわち、nチャネルMOSトランジスタ
をnpnバイポーラトランジスタで置換する)。
Of course, especially when the circuit according to the invention is formed using bulk technology rather than thin film technology, the enhancement MOS transistors can be replaced by bipolar transistors of suitable polarity (except transistor Q6 of FIG. 4). That is, the n-channel MOS transistor is replaced with an npn bipolar transistor).

【0073】本発明は上述した実施例だけに限定されず
種々の変更や変形が可能である。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes and modifications can be made.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】NMOSインバータを構成する既知の回路を示
す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a known circuit that constitutes an NMOS inverter.

【図2】本発明による電流源を構成する回路を示す回路
図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit constituting a current source according to the present invention.

【図3】本発明による電流源を構成する回路を示す回路
図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a circuit constituting a current source according to the present invention.

【図4】本発明による電流源を構成する別の回路を示す
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another circuit constituting the current source according to the present invention.

【図5】本発明による電流源回路を有するスイッチド電
流回路の一例を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a switched current circuit having a current source circuit according to the present invention.

【図6】本発明による1個又はそれ以上の回路を有する
2次元記憶素子アレイの構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a two-dimensional storage element array having one or more circuits according to the present invention.

【図7】本発明による回路を用いたイメージセンサの一
例の構成を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of an example of an image sensor using a circuit according to the present invention.

【図8】図7に示す本発明による回路が組み込まれたイ
メージセンサの一部を示す断面図である。
8 is a sectional view showing a part of an image sensor in which the circuit according to the present invention shown in FIG. 7 is incorporated.

【図9】本発明による回路が組み込まれた2次元イメー
ジセンサの構成を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a two-dimensional image sensor incorporating a circuit according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 給電ライン Q1 第1トランジスタ Q2 第2トランジスタ RL 負荷 Q3 第3トランジスタ Q4 第4トランジスタ Q5 第5トランジスタ Q6 別のトランジスタ 4 増幅手段 D1,D2,D3 光感知ダイオード C1,C2 キャパシタ SW1〜SW3 スイッチ 1, 2 feeding line Q1 first transistor Q2 second transistor RL load Q3 third transistor Q4 fourth transistor Q5 fifth transistor Q6 another transistor 4 amplifying means D1, D2, D3 light sensing diode C1, C2 capacitors SW1 to SW3 switches

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数電荷キャリヤ用のシンクを形成する
回路であって、第1及び第2の給電ラインと、各々が制
御電極並びに第1及び第2の主電極を有する同一極性の
第1及び第2のトランジスタと、主及び負の入力部並び
に出力部を有する増幅手段とを具え、 前記第2トランジスタが第1トランジスタの対応する寸
法に対して予め定めた比の寸法を有し、第1及び第2の
トランジスタの第1主電極を前記第1及び第2の給電ラ
インの一方の給電ラインに結合し、第1トランジスタの
主電極をこの第1トランジスタを経て基準電流を供給す
る基準電流源を介して他方の給電ラインに結合し、並び
に第2トランジスタの第2主電極を負荷を介して前記他
方の給電ラインに結合されるように配置し、回路の動作
中多数キャリヤを第1及び第2のトランジスタを経て前
記他方の給電ラインから離れる方向に流し、 前記増幅手段の負の入力部を第1トランジスタの第2の
主電極に結合し、正の入力部を第2トランジスタの第2
の主電極に結合し、並びに出力部を第1及び第2のトラ
ンジスタの制御電極に結合して増幅手段の正の入力部の
電圧及び負の入力部の電圧を等しくする負帰還を形成
し、第2トランジスタがこの第2トランジスタの第2主
電極と前記他方の給電ラインとの間に結合した負荷に前
記基準電流に対して予め定めた比の電流を供給するよう
に構成したシンク形成回路。
1. A circuit forming a sink for majority charge carriers, the first and second feed lines and first and second polarities of the same polarity each having a control electrode and a first and a second main electrode. A second transistor and an amplifying means having a main and negative input and an output, the second transistor having a dimension of a predetermined ratio with respect to the corresponding dimension of the first transistor; And a first main electrode of the second transistor is coupled to one of the first and second power supply lines, and a main electrode of the first transistor supplies a reference current through the first transistor to supply a reference current source. Via a load, and a second main electrode of the second transistor is arranged to be coupled to the other feed line via a load, and during operation of the circuit the majority carrier is 2's Via Njisuta flowed in a direction away from the other feed line, the negative input of the amplifying means coupled to the second main electrode of the first transistor, a positive input second second transistor
Forming a negative feedback for equalizing the voltage at the positive input and the voltage at the negative input of the amplifying means by coupling the output to the control electrodes of the first and second transistors, A sink forming circuit configured to supply a current having a predetermined ratio to the reference current to a load coupled between the second main electrode of the second transistor and the other power supply line.
【請求項2】 前記第1及び第2のトランジスタが、前
記増幅手段の負及び正の入力部にそれぞれ結合したソー
ス電極を有するnチャネルエンハンスメントMOSトラ
ンジスタを有し、電流源を形成するように構成した請求
項1に記載のシンク形成回路。
2. The first and second transistors comprise n-channel enhancement MOS transistors having source electrodes coupled to the negative and positive inputs of the amplifying means, respectively, to form a current source. The sink forming circuit according to claim 1.
【請求項3】 前記第1及び第2のトランジスタが互い
に整合している請求項1に記載のシンク形成回路。
3. The sink forming circuit according to claim 1, wherein the first and second transistors are matched with each other.
【請求項4】 前記増幅手段が、前記正の入力部及び負
の入力部に結合した入力トランジスタ回路を有する反転
回路と、この反転回路の動作中に照明される光感知素子
を有する負荷装置とを有する請求項1,2又は3に記載
のシンク形成回路。
4. An inverting circuit, wherein the amplifying means has an input transistor circuit coupled to the positive input portion and the negative input portion, and a load device having a light sensing element illuminated during the operation of the inverting circuit. The sink forming circuit according to claim 1, further comprising:
【請求項5】 前記入力トランジスタ回路が第3,第4
及び第5トランジスタを有し、核トランジスタが第1及
び第2の主電極と制御電極とを具え、第3トランジスタ
の制御電極を前記正の入力部に結合し、第4トランジス
タの制御電極を前記負の入力部に結合し、第5トランジ
スタの制御電極をバイアス電圧源に結合し、第3及び第
5トランジスタを前記第1の給電ラインと第2の給電ラ
インとの間に直列に接続し、第5トランジスタを第4ト
ランジスタ及び前記光感知素子に直列に結合し、光感知
素子を増幅手段の出力部に結合した請求光4に記載のシ
ンク形成回路。
5. The third and fourth input transistor circuits are provided.
And a fifth transistor, the nuclear transistor comprising first and second main electrodes and a control electrode, the control electrode of the third transistor being coupled to the positive input, and the control electrode of the fourth transistor being A negative input, a control electrode of a fifth transistor coupled to a bias voltage source, and third and fifth transistors connected in series between the first and second feed lines, The sink forming circuit according to claim 4, wherein a fifth transistor is coupled in series with the fourth transistor and the light sensing element, and the light sensing element is coupled to the output of the amplifying means.
【請求項6】 前記光感知素子を、前記第4トランジス
タの第1の主電極と第1の給電ラインとの間に結合した
光感知性非線形抵抗装置で構成した請求項5に記載のシ
ンク形成回路。
6. The sink formation according to claim 5, wherein the photo-sensing element comprises a photo-sensitive nonlinear resistance device coupled between the first main electrode of the fourth transistor and the first feed line. circuit.
【請求項7】 前記光感知素子が、前記第4トランジス
タに直列に結合した別のトランジスタの第2の主電極と
制御電極との間に結合した少なくとも1個の光感知装置
を有し、光が入射したとき、前記別のトランジスタの第
2の主電極と制御電極との間に電圧が生ずるように構成
した請求項5に記載のシンク形成回路。
7. The light-sensing element comprises at least one light-sensing device coupled between a second main electrode and a control electrode of another transistor in series with the fourth transistor, the light-sensing device comprising: 6. The sink forming circuit according to claim 5, wherein a voltage is generated between the second main electrode and the control electrode of the other transistor when is input.
【請求項8】 請求項1から7までのいずれか1項に記
載のシンク形成回路に基づいて構成された電流源回路を
有するスイッチド電流回路。
8. A switched current circuit having a current source circuit configured based on the sink forming circuit according to claim 1. Description:
【請求項9】 行及び列状に配置した記憶素子の2次元
アレイ装置であって、個々の記憶素子をアクセスする行
導体及び列導体と、これら行導体及び列導体による記憶
素子へのアクセスを制御する制御回路とを具え、前記制
御回路が請求項1から8までのいずれか1項に記載のシ
ンク形成回路を少なくとも1個有する記憶素子の2次元
アレイ装置。
9. A two-dimensional array device of storage elements arranged in rows and columns, comprising row conductors and column conductors for accessing individual storage elements, and access to the storage elements by these row conductors and column conductors. A two-dimensional array device of storage elements, comprising a control circuit for controlling, wherein the control circuit has at least one sync forming circuit according to any one of claims 1 to 8.
【請求項10】 少なくとも1個の光感知素子と、請求
項1から7までのいずれか1項に記載のシンク形成回路
と、第1及び第2の主電極並びに絶縁ゲート電極を有
し、第1の給電ラインと第2の給電ラインとの間で第1
のトランジスタに直列に接続されて基準電流源を形成す
る別のトランジスタと、前記第1の給電ラインと第2の
給電ラインとの間で第2のトランジスタに直列に結合さ
れ、回路の負荷に対して第2のトランジスタと前記別の
トランジスタとの間の接続部に生ずる出力を与える付加
的なトランジスタと、スイッチング手段とを具え、前記
スイッチング手段が、前記光感知素子を給電ラインと前
記別のトランジスタの制御電極との間に結合して前記別
のトランジスタが前記光感知素子が照明されない場合に
光感知素子によって生じた第1信号を表わす第1の電流
を発生すると共に、前記光感知素子を給電ラインと前記
付加的なトランジスタの制御電極との間に結合して前記
付加的な前記光感知素子が照明された場合にこの光感知
素子により生ずる第2の信号を表わす第2の電流を発生
し、前記出力部に生ずべき第1の信号と第2の信号との
間の差を表わす第3の電流を発生するように構成したイ
メージセンサ。
10. At least one photosensitive element, the sink forming circuit according to claim 1, a first and a second main electrode, and an insulated gate electrode, Between the first power supply line and the second power supply line
Another transistor connected in series with the second transistor to form a reference current source, and connected in series to the second transistor between the first power supply line and the second power supply line, and to a load of the circuit. A second transistor and an additional transistor for providing an output at the connection between the second transistor and the further transistor, and switching means, the switching means connecting the photosensitive element to the feed line and the further transistor. A second transistor coupled to a control electrode of the photosensor to generate a first current representative of a first signal generated by the photosensing element when the photosensing element is not illuminated and power the photosensing element. Caused by a line coupled to the control electrode of the additional transistor when the additional photo-sensing device is illuminated. A second current representing the second signal is generated, the third image sensor adapted to generate a current representative of the difference between the first and second signals which may arise in the output section.
JP24640294A 1993-10-12 1994-10-12 Sync formation circuit Pending JPH07234737A (en)

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