JPH0668809A - Color picture tube - Google Patents

Color picture tube

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Publication number
JPH0668809A
JPH0668809A JP5054837A JP5483793A JPH0668809A JP H0668809 A JPH0668809 A JP H0668809A JP 5054837 A JP5054837 A JP 5054837A JP 5483793 A JP5483793 A JP 5483793A JP H0668809 A JPH0668809 A JP H0668809A
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JP
Japan
Prior art keywords
mask
screen
parallel
center
sides
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5054837A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Filippo Mancini
マンチーニ フイリツポ
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Videocolor SpA
Original Assignee
Videocolor SpA
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Filing date
Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • H01J29/076Shadow masks for colour television tubes characterised by the shape or distribution of beam-passing apertures

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a shadow mask type color image tube which reduces moires. CONSTITUTION: A color image tube is provided with an observation screen, a shadow mask 24 arranged adjacently to this screen, and an electronic gun for generating a plurality of electron beams and pointing them to the screen through the mask. The mask has a rectangular peripheral edge with short sides and long sides, and its major axis and minor axis respectively pass the center of the mask and are extended in parallel to the long sides and short sides. The mask has slit-like openings 36, arranged in basically parallel rows to the minor axis, and the adjacent openings 36 in each row are separated by a tie bar 38. The beams scan the screen, while describing scanning lines parallel to the major axis. The length (h) of the opening, as measured in a minor axis direction is almost equal to a multiple of the distance TS between the center of the adjacent scanning lines in the minor axis direction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、スリット状開孔を有
し、この開孔が列をなすように配列されて形成されてお
り、各列中の開孔がタイバー(tie bar) によって分離さ
れているようなシャドウマスクを有する形式のカラー映
像管に関し、特に、開孔の長さが映像管の観察スクリー
ン上で最適なモワレ性能が得られるように選定されたシ
ャドウマスクを有するカラー映像管に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has slit-shaped openings formed by arranging the openings in rows, and the openings in each row are separated by a tie bar. Color video tube of the type having a shadow mask as described above, and in particular, a color video tube having a shadow mask whose aperture length is selected so as to obtain optimum moire performance on the viewing screen of the video tube. It is about.

【0002】[0002]

【発明の背景】今日使用されているカラー映像管の大多
数のものは、ラインスクリーンと、スリット状開孔を有
するシャドウマスクとを備えている。これらの開孔は列
をなして配列されており、各列中の開孔相互間は、マス
ク中のウェブ即ちタイバーによって分離されている。こ
のようなタイバーは、マスクを管の観察フェースプレー
トの内面の形状とある程度平行なドーム状の形状に成形
する際、その完全性を保持するために欠かすことのでき
ないものである。1つの列中のバーは、隣接する列中の
タイバーから、列の長さ方向(即ち垂直方向)に偏移し
ている。電子ビームがシャドウマスクに当たると、タイ
バーがビームの一部を遮断し、そのタイバーの直ぐ後ろ
のスクリーン上に影(シャドウ)を形成する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The majority of color picture tubes in use today include line screens and shadow masks having slit-shaped apertures. The apertures are arranged in rows, with the apertures in each row separated by a web or tie bar in the mask. Such tie bars are essential for maintaining their integrity when the mask is shaped into a dome shape that is somewhat parallel to the shape of the inner surface of the viewing faceplate of the tube. The bars in one row are offset from the tie bars in the adjacent row in the lengthwise direction of the row (ie, the vertical direction). When the electron beam hits the shadow mask, the tie bar blocks part of the beam and creates a shadow on the screen directly behind the tie bar.

【0003】電子ビームが開孔列に垂直な方向(即ち水
平方向)に繰り返し走査すると、その走査によって、ス
クリーン上に一連の明るい水平の線と暗い水平の線が生
じる。これらの明るい水平の線と暗い水平の線は、タイ
バーによって形成される影と相互に作用しあって、より
明るい領域とより暗い領域とを形成し、スクリーン上に
モワレパターンと称する波状のパターンが出来る。この
ようなモワレパターンはスクリーン上に表示される画像
の画質を低下させてしまう。
When the electron beam is repeatedly scanned in a direction perpendicular to the row of apertures (ie, in the horizontal direction), the scanning produces a series of bright and dark horizontal lines on the screen. These bright and dark horizontal lines interact with the shadows formed by the tie bars to form lighter and darker areas, creating a wavy pattern called a moire pattern on the screen. I can. Such a moire pattern deteriorates the image quality of the image displayed on the screen.

【0004】テレビジョン受像機における全ての走査条
件においてモワレパターンを最小にするようなモワレモ
ードを選定することが大いに望まれている。現在用いら
れている2つの走査条件は、飛越し走査と非飛越し走査
である。モワレモードというのは、タイバーによって形
成される影のピッチに対する走査線のピッチの比であ
る。光出力とマスク強度についての実用上の制限のため
に、このモワレモードは通常は6/8と10/8の間に
選定される。最も多く選択されるモワレモードは7/8
である。このようなモードは次の式で表すことができ
る。 モワレモード=Ts /av この式において、Ts は、ある与えられたテレビジョン
システムの走査線のピッチあるいは周期で、これはその
テレビジョンシステムの観察スクリーンの垂直の高さH
を有効走査線の数ne で除したものに等しい。また、a
v はスクリーン上におけるマスク開孔の垂直方向繰り返
し距離である。
It is highly desirable to select a moire mode that minimizes a moire pattern under all scanning conditions in a television receiver. The two scanning conditions currently used are interlaced scanning and non-interlaced scanning. Moire mode is the ratio of the scan line pitch to the pitch of the shadow formed by the tie bars. Due to practical limits on light output and mask intensity, this moire mode is typically chosen between 6/8 and 10/8. The most selected moire mode is 7/8
Is. Such a mode can be expressed by the following equation. In Mowaremodo = T s / a v this equation, T s is the pitch or period of the scan line of a given television system, which is the height H of the vertical viewing screen of the television system
Is divided by the number of effective scan lines n e . Also, a
v is the vertical repeating distance of the mask openings on the screen.

【0005】第3の走査条件の使用の可能性もある。こ
の第3の条件は順次走査と呼ばれ、例えば、高精細度テ
レビジョン受像機で使用される。順次走査には高い走査
周波数が必要とされる。この順次走査という特殊なケー
スでは、1つの走査条件しかモワレパターンを最小にで
きないと考えられている。この走査条件では、モワレが
少なく、より滑らかな画面が得られる。この条件には、
6/8より小さいモワレモードまたは10/8より大き
なモワレモードが使用されよう。この条件のために最も
多く選択されるモワレモードは5/8である。
There is also the possibility of using a third scanning condition. This third condition is called progressive scanning and is used, for example, in high definition television receivers. A high scanning frequency is required for progressive scanning. In this special case of progressive scanning, it is considered that only one scanning condition can minimize the moire pattern. Under this scanning condition, a smooth screen can be obtained with less moire. This condition includes:
Moire modes less than 6/8 or moire modes greater than 10/8 may be used. The moire mode most often selected for this condition is 5/8.

【0006】モワレの問題を少なくするために多くの技
術が提案されてきた。このような技術の多くは、電子ビ
ーム走査線とタイバーの影との間にビートが生じる可能
性を小さくするように、マスク中のタイバーの位置を再
配列することが含まれている。このような技術の多くは
これまでモワレを少なくすることに成功しているが、こ
れらの従来技術のほとんどは、スクリーンの全ての部分
においてモワレを補正するわけではないので、さらに改
善されたモワレ低減技術に対する要求が依然としてあ
る。このような改善されたモワレ低減技術が特に必要と
されるのは、高精細度テレビジョンに必要な新しい高品
質のカラー映像管である。例えば、電子銃の性能が高精
細度テレビジョンの要求に応じるために改善されると、
このような改良型電子銃によってスクリーンに形成され
る電子ビームスポットは小さくなる。電子ビームスポッ
トのサイズが小さくなると、スクリーン上には視覚的に
より鮮鋭な走査線が生成され、そのような走査線がタイ
バーの影と作用しあってモワレパターンの問題をより大
きくしてしまう。
Many techniques have been proposed to reduce the problem of moire. Many such techniques involve rearranging the position of the tie bars in the mask to reduce the likelihood of beats between the electron beam scan lines and the shadows of the tie bars. Many of these techniques have been successful in reducing moire so far, but most of these conventional techniques do not correct moire in all parts of the screen, so improved moire reduction has been improved. There is still a demand for technology. What is particularly needed for such improved moire reduction techniques is the new high quality color picture tube required for high definition television. For example, if the performance of electron guns is improved to meet the demands of high definition television,
The electron beam spot formed on the screen by such an improved electron gun becomes smaller. Smaller electron beam spot sizes produce visually sharper scan lines on the screen, and such scan lines interact with the tie bar shadows, further exacerbating the moire pattern problem.

【0007】[0007]

【発明の概要】この発明による改良されたカラー映像管
は、観察スクリーンと、このスクリーンに隣接して配置
されたシャドウマスクと、複数の電子ビームを発生して
これらのビームをマスクを通してスクリーンに投射する
電子銃とを備えている。マスクは2つの長辺と2つの短
辺とを有する矩形の周縁を持っている。長軸がマスクの
中心を通り、長辺と平行に延び、また、短軸がマスクの
中心を通り、短辺と平行に延びる。このマスクは、上記
短辺と実質的に平行に延びる列をなすように配列された
スリット状開孔を備えている。各列中の隣接する開孔
は、マスク中のタイバーによって分離されている。ビー
ムはスクリーンを走査して、長軸と平行な走査線を描く
ことができる。この発明の改良点は、短軸の方向に測っ
た開孔の長さが、短軸の方向に測った隣接走査線間の中
心間距離の倍数にほぼ等しくされていることである。
SUMMARY OF THE INVENTION An improved color picture tube in accordance with the present invention includes a viewing screen, a shadow mask disposed adjacent the screen, and a plurality of electron beams which are projected through the mask onto the screen. It is equipped with an electron gun. The mask has a rectangular periphery with two long sides and two short sides. The long axis passes through the center of the mask and extends parallel to the long side, and the short axis passes through the center of the mask and extends parallel to the short side. The mask has slit-shaped apertures arranged in rows extending substantially parallel to the short sides. Adjacent apertures in each row are separated by tie bars in the mask. The beam can scan the screen to describe a scan line parallel to the long axis. An improvement of the invention is that the length of the aperture measured in the direction of the minor axis is approximately equal to a multiple of the center-to-center distance between adjacent scan lines measured in the direction of the minor axis.

【0008】[0008]

【実施例の説明】図1は、矩形ファネル15によって接
続された矩形フェースプレートパネル12と管状ネック
14とを含むガラス外囲器11を有する矩形カラー映像
管10を示す。ファネル15は陽極ボタン16からネッ
ク14まで延びる内部導電性コーティング(図示せず)
を持っている。パネル12は観察フェースプレート18
と、ガラスフリット17によってファネル15に封着さ
れた周縁フランジ即ち側壁20とを含む。3色蛍光体ス
クリーン22がフェースプレート18の内面に支持され
ている。スクリーン22は三つ組(トライアド)に配列
された蛍光体の線を有するラインスクリーンで、各三つ
組には3つの色の各々のものの蛍光体のラインが含まれ
ている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT FIG. 1 shows a rectangular color picture tube 10 having a glass envelope 11 including a rectangular faceplate panel 12 and a tubular neck 14 connected by a rectangular funnel 15. Funnel 15 is an internal conductive coating (not shown) that extends from anode button 16 to neck 14.
have. Panel 12 is an observation face plate 18
And a peripheral flange or sidewall 20 sealed to the funnel 15 by a glass frit 17. A three-color phosphor screen 22 is supported on the inner surface of the face plate 18. Screen 22 is a line screen having phosphor lines arranged in triads, each triad containing phosphor lines for each of the three colors.

【0009】スクリーン22からある間隔を置いて予め
定められた関係で、多孔色選択電極、即ちシャドウマス
ク24が、通常の手段により、取り外し可能に取り付け
られている。また、図1に点線で概略図示した電子銃2
6がネック14中に中心合わせして取り付けられてお
り、3本の電子ビーム28を発生してこれらのビームを
集中性の経路に沿ってマスク24を通してスクリーン2
2に投射する。
A porous color selection electrode, or shadow mask 24, is removably mounted by conventional means in a predetermined relationship at a distance from the screen 22. In addition, an electron gun 2 schematically shown by a dotted line in FIG.
6 is mounted centered in the neck 14 and produces three electron beams 28 which direct these beams through the mask 24 along a concentric path through the screen 2.
Project to 2.

【0010】図1の管は外部磁気偏向ヨーク、例えば、
ファネルとネックの接合部の近傍に示されているヨーク
30と共に用いるように設計されている。付勢される
と、ヨーク30は3本のビーム28を、スクリーン22
上に矩形ラスタを描かせるようにビームを水平及び垂直
に走査させる磁界の影響下に置く。偏向の初期面(ゼロ
偏向時)はヨーク30のほぼ中間にある。フリンジ磁界
により、管の偏向の領域はヨーク30から軸方向に銃2
6の領域内に延びる。図示の簡略化のために、図1で
は、偏向領域における偏向されたビームの経路の実際の
湾曲は示されていない。
The tube of FIG. 1 is an external magnetic deflection yoke, eg,
It is designed for use with the yoke 30 shown near the funnel-neck junction. When energized, the yoke 30 directs the three beams 28 onto the screen 22.
Place it under the influence of a magnetic field that causes the beam to scan horizontally and vertically so as to draw a rectangular raster on it. The initial plane of deflection (at the time of zero deflection) is almost in the middle of the yoke 30. Due to the fringe magnetic field, the deflection region of the tube is axially moved from the yoke 30 to the gun 2
It extends in the area of 6. For simplicity of illustration, the actual curvature of the deflected beam path in the deflection region is not shown in FIG.

【0011】シャドウマスク24はマスク−フレーム構
体32の一部を構成し、このマスク−フレーム構体32
はさらに周縁フランジ34を含んでいる。このマスク−
フレーム構体32は、図1に、フェースプレートパネル
12内に配置されて示されている。シャドウマスク24
は、湾曲した有孔部分25、この有孔部分25を取り囲
む無孔の境界部27、及び境界部27から後方に曲げら
れてスクリーン22から遠ざかる方向に延びるスカート
部29を含む。マスク24はフレーム34の内側または
外側に嵌合しており、スカート部29がフレーム34に
溶接されている。
The shadow mask 24 forms a part of the mask-frame structure 32.
Further includes a peripheral flange 34. This mask
The frame structure 32 is shown disposed in the faceplate panel 12 in FIG. Shadow mask 24
Includes a curved perforated portion 25, an unperforated border 27 surrounding the perforated portion 25, and a skirt portion 29 that is bent rearward from the border 27 and extends away from the screen 22. The mask 24 is fitted inside or outside the frame 34, and the skirt portion 29 is welded to the frame 34.

【0012】図2及び図3に詳細を示すシャドウマスク
24は、2つの長辺と2つの短辺を有する矩形の周縁を
持っている。また、マスク24は、マスクの中心を通り
長辺に平行な長軸Xと、同じくマスクの中心を通り短辺
と平行な短軸Yとを持っている。マスク24は本質的に
短軸Yに平行な列37をなすように配列されたスリット
状開孔36を含んでいる。各列中で隣接する開孔36は
マスク中のタイバー38によって分離されている。図3
に示すように、列中の隣接タイバー38間の間隔を、マ
スク上のある特定位置におけるタイバーピッチ、あるい
は垂直の繰り返しav とする。開孔の長さはhで表され
ている。
The shadow mask 24 shown in detail in FIGS. 2 and 3 has a rectangular peripheral edge having two long sides and two short sides. Further, the mask 24 has a long axis X that passes through the center of the mask and is parallel to the long side, and a short axis Y that also passes through the center of the mask and is parallel to the short side. The mask 24 includes slit-shaped apertures 36 arranged in rows 37 essentially parallel to the minor axis Y. Adjacent apertures 36 in each row are separated by tie bars 38 in the mask. Figure 3
As shown in FIG. 5, the interval between adjacent tie bars 38 in the row is the tie bar pitch at a specific position on the mask, or the vertical repetition a v . The length of the aperture is represented by h.

【0013】このシャドウマスク24の製造方法は、後
にドーム形マスクに成形される開孔が設けられた平坦な
マスクを作ることを含む。この発明の方法に従って構成
された管では、スリット状開孔の長さhと電子ビーム走
査線ピッチTs との間のモワレを最小にする関係を利用
する。このような関係は次のようにして決める。
The method of making the shadow mask 24 includes making a flat mask with apertures that will later be formed into a dome-shaped mask. A tube constructed in accordance with the method of the present invention utilizes the relationship that minimizes moire between the slit aperture length h and the electron beam scan line pitch T s . Such a relationship is determined as follows.

【0014】図示のマスク開孔列を通過する電子ビーム
エネルギは、次の式(1)に示されるように、開孔列間
隔Tx 内で水平方向xに積分した垂直位置yの周期的関
数である。
The electron beam energy passing through the illustrated mask aperture array is a periodic function of the vertical position y integrated in the horizontal direction x within the aperture array interval T x as shown in the following equation (1). Is.

【数1】 [Equation 1]

【0015】ビームエネルギEM (y) はマスク開孔の垂
直ピッチav に等しい垂直周期TYを持つ。このビーム
エネルギEM (y) は分散フーリエ級数によって次の式
(2)のように表すことができる。
The beam energy E M (y) has a vertical period T Y equal to the vertical pitch a v of the mask openings. This beam energy E M (y) can be represented by the following equation (2) by the distributed Fourier series.

【数2】 ここでJ=(−1)1/2 ; n=ピッチav 内におけるy方向の点の座標; N=ピッチav を規定するために用いられるサンプリン
グ点nの総数; XM (k) =k次のフーリエ係数である。
[Equation 2] Where J = (− 1) 1/2 ; n = coordinates of points in y direction within pitch a v ; N = total number of sampling points n used to define pitch a v ; X M (k) = It is a k-th order Fourier coefficient.

【0016】式(2)はフーリエ係数XM (k) を得るた
めに次の式(3)のように書き換えることができる。
The equation (2) can be rewritten as the following equation (3) to obtain the Fourier coefficient X M (k).

【数3】 [Equation 3]

【0017】図4と図5は、マスクを横切ってx方向に
走査する時の1本の電子ビーム走査線40を示す。走査
線40内のエネルギ分布を図4には一連の点で示し、図
5には1つの点におけるものを拡大して示す。このエネ
ルギ分布はいくらかベル形状をしており、強度のピーク
が走査線のほぼ中央に位置している。マスクは図示の走
査線と平行な同様の一連の走査線で走査される。
FIGS. 4 and 5 show one electron beam scan line 40 as it scans across the mask in the x-direction. The energy distribution within the scan line 40 is shown in FIG. 4 as a series of points and in FIG. 5 at one point in an enlarged scale. This energy distribution is somewhat bell-shaped, with the intensity peak located approximately in the center of the scan line. The mask is scanned with a similar series of scan lines parallel to the one shown.

【0018】一定した強度の均一な走査線、例えば、図
4に示す走査線40のような走査線を考えると、図6に
示すように、3本の連続する隣接走査線はエネルギ分布
41、42、43の一部が互いに重畳している。これら
の3つのエネルギ分布を加算すると、下記に示す式
(4)で規定される変調度mを持った合成エネルギ分布
44が得られる。
Considering a uniform scan line of constant intensity, such as scan line 40 shown in FIG. 4, three consecutive adjacent scan lines have energy distribution 41, as shown in FIG. Some of 42 and 43 overlap each other. When these three energy distributions are added, a composite energy distribution 44 having a modulation factor m defined by the following equation (4) is obtained.

【数4】 ここで、IMAX とIMIN はそれぞれ最大強度と最小強度
である。合成エネルギ分布44はy方向に周期性を呈す
る。
[Equation 4] Here, I MAX and I MIN are the maximum intensity and the minimum intensity, respectively. The combined energy distribution 44 exhibits periodicity in the y direction.

【0019】図7は合成エネルギ分布の特殊なもの45
を示し、変調度mが非常に大きい場合を示す。このよう
なエネルギ分布は、例えば、非常に細く集束された電子
ビームを有する高品質の電子銃を用いた場合に得られ
る。この大きな変調度mは、管のスクリーン上の大きな
モワレ効果が現れる最も臨界的な条件を与える。
FIG. 7 shows a special composite energy distribution 45.
Shows the case where the modulation factor m is very large. Such an energy distribution is obtained, for example, when using a high quality electron gun with a very finely focused electron beam. This large modulation factor m gives the most critical condition for the large Moire effect on the screen of the tube to appear.

【0020】全ての周期関数はサイン関数とコサイン関
数の和として表すことができるから、y方向のエネルギ
分布s(n)は、サンプリング点nのコサイン関数であ
ると考えることができる。ここでサンプリング点nは、
合計N個であり、y方向の1本の線に属するものであ
る。即ち、
Since all periodic functions can be expressed as the sum of sine and cosine functions, the energy distribution s (n) in the y direction can be considered to be the cosine function at the sampling point n. Here, the sampling point n is
There are a total of N pieces, which belong to one line in the y direction. That is,

【数5】 この式(5)において、aは、テレビジョン信号の平均
強度値、mは、変調度、ws は、y方向の信号のパルス
周波数、これに対応する空間周期はTs =2π/ws
φは、位相の値である。
[Equation 5] In this equation (5), a is the average intensity value of the television signal, m is the modulation factor, w s is the pulse frequency of the signal in the y direction, and the corresponding spatial period is T s = 2π / w s. ,
φ is a phase value.

【0021】2つの周期的な効果、即ち、マスクの周期
的エネルギ透過特性EM (n)とテレビジョン信号のエ
ネルギ分布s(n)を重畳させると、式(6)が得られ
る。
By superimposing two periodic effects, that is, the periodic energy transmission characteristic E M (n) of the mask and the energy distribution s (n) of the television signal, the equation (6) is obtained.

【数6】 [Equation 6]

【0022】図8は、1つの開孔列に沿って垂直に見た
代表的なマスク透過パターンを示す。開孔はビームを通
過させ、タイバーはビームの通過を阻止する。図8にお
けるピーク−ピーク間距離が、上述したタイバーのピッ
チav である。
FIG. 8 shows a typical mask transmission pattern seen vertically along one row of apertures. The apertures allow the beam to pass and the tie bars prevent the beam from passing. The peak-to-peak distance in FIG. 8 is the tie bar pitch a v described above.

【0023】図9は、ある1つの開孔列に沿う、均一な
テレビジョン信号走査線の典型的な垂直y方向断面を示
す。図9におけるピーク−ピーク間距離は、走査線間の
中心間距離Ts である。
FIG. 9 shows a typical vertical y-direction cross section of a uniform television signal scan line along an array of apertures. The peak-to-peak distance in FIG. 9 is the center-to-center distance T s between scanning lines.

【0024】図10は、垂直方向に見た、ある1つの開
孔列を通過する電子ビームエネルギを示す。図から、い
くらかの電子ビームエネルギがマスク中のタイバーの各
々によって遮断されていることがわかる。
FIG. 10 shows the electron beam energy passing through a row of apertures viewed vertically. From the figure, it can be seen that some electron beam energy is blocked by each of the tie bars in the mask.

【0025】図11は、図10に示した開孔列に隣接す
る開孔列を通過した電子ビームエネルギを示す。図10
と図11を比較すると、通過するエネルギが極大になる
垂直位置が隣接開孔列で異なっていることがわかる。
FIG. 11 shows the electron beam energy which has passed through the row of apertures adjacent to the row of apertures shown in FIG. Figure 10
11 is compared with FIG. 11, it can be seen that the vertical position at which the energy passing therethrough is maximized in the adjacent aperture rows.

【0026】ある与えられたマスク構造の周期Ty につ
いて、モワレ効果はテレビジョン信号の周期Ts と位相
φの関数である。モワレ効果を最小にするという目的
は、マスクを横切って通過し、各マスク開孔が透過する
エネルギを、テレビジョン信号の位相φによって左右さ
れないようにするTs を見出すことにより達成できる。
そのよな場合には、マスク開孔に対するテレビジョン信
号の走査線の位置は通過エネルギあるいは透過エネルギ
にいかなる影響も持たない。
For a given mask structure period T y , the Moire effect is a function of the period T s of the television signal and the phase φ. The purpose of minimizing the Moire effect can be achieved by finding T s so that the energy passing through the mask and transmitted by each mask aperture is not influenced by the phase φ of the television signal.
In such a case, the position of the scan line of the television signal with respect to the mask aperture has no effect on the transmitted energy or transmitted energy.

【0027】個々のマスク開孔の各々を通過するエネル
ギを計算するために、次の式(7)に示す関数の、周期
y にわたる積分を考えなければならない。
In order to calculate the energy passing through each individual mask aperture, one must consider the integral of the function shown in equation (7) over period T y .

【数7】 φについてのE(ws ,φ)の導関数を用いることによ
り、エネルギを最小にするws を次の式(8)から求め
ることが出来る。
[Equation 7] E for phi (w s, phi) by using a derivative of, can be obtained w s to minimize energy from the following equation (8).

【数8】 [Equation 8]

【0028】式(8)における導関数は依然として位相
φの関数であるので、その独立変数(argumen
t)の絶対値(modulus)が0の時にのみ0とな
る。この独立変数の絶対値は積|XM (k)||sin
(ws +φ)|の和によって与えられる。しかし、|s
in(ws +φ)|は、ws /2πに等しい周波数fs
に対してのみ0または1のいずれかと等しくなる。従っ
て、|XM (k)||sin(ws +φ)|の和におい
て、周波数fs =ws /2πに対応する値|XM(k)
|のみを考察しなければならない。式(8)、即ち、積
|XM (k)||sin(ws +φ)|の和を極小にす
る目的は、fs =ws /2πの値を|XM(k)|が最
小または0になるように選択したときに達成される。
Since the derivative in equation (8) is still a function of the phase φ, its independent variable (argumen)
It becomes 0 only when the absolute value (modulus) of t) is 0. The absolute value of this independent variable is the product | X M (k) || sin
It is given by the sum of (w s + φ) |. However, | s
in (w s + φ) | is a frequency f s equal to w s / 2π
Is only equal to either 0 or 1. Therefore, in the sum of | X M (k) || sin (w s + φ) |, a value | X M (k) corresponding to the frequency f s = w s / 2π
Only | must be considered. Equation (8), that is, the purpose of minimizing the sum of the products | X M (k) || sin (w s + φ) | is that the value of f s = w s / 2π is | X M (k) | Achieved when selected to be minimum or zero.

【0029】完全に矩形のマスク開孔では、上記絶対値
は開孔の長さhが走査線周期Ts と等しいか、あるい
は、その倍数である時に0となる。従って、モワレ効果
を最小にする開孔長hは、周期Ts =2π/ws を用い
て表すと、次の式(9)で表すことができる。 h=Ts の倍数、または、好ましくはTs (9)
For a perfectly rectangular mask aperture, the absolute value is 0 when the aperture length h is equal to or a multiple of the scan line period T s . Therefore, the aperture length h that minimizes the Moire effect can be expressed by the following equation (9) when expressed using the period T s = 2π / w s . h = multiple of T s , or preferably T s (9)

【0030】上述したように、Ts はスクリーンの垂直
の高さをスクリーン上の有効走査線の数で除したものに
等しい。例えば、走査線の数が625のテレビジョン信
号においては、Ts =H/550である。
As mentioned above, T s is equal to the vertical height of the screen divided by the number of effective scan lines on the screen. For example, for a television signal with 625 scan lines, T s = H / 550.

【0031】図12は、Ts に対する開孔の垂直長さh
の比(観察スクリーンの高さをスクリーン上の有効走査
線の数で除したもの)に対するフーリエ係数の絶対値|
M(k)|で表した、開孔を通過する光の変調を表す
グラフである。Ts に対するhの比は、成形されたマス
ク表面上と全面パネル表面上とで同じ値である。
FIG. 12 shows the vertical length h of the aperture with respect to T s .
Absolute value of the Fourier coefficient with respect to the ratio (the height of the observation screen divided by the number of effective scanning lines on the screen) |
6 is a graph showing the modulation of light passing through an aperture, represented by X M (k) |. The ratio of h to T s has the same value on the formed mask surface and on the entire panel surface.

【0032】マスク開孔の隅の部分を直角にしない場合
には、フーリエ係数XM (k)に、実際の丸みを持った
マスク開孔構造を計算に入れられる。実際のマスク構造
についてXM (k)を考察することにより、Ts の選択
は、図13に示すように、1/Ts をXM (k)の絶対
値の極小値に一致させることにより行われる。即ち、あ
る与えられた一定のパターンのマスクについては、その
スリット状開孔の端部が直角である場合には、そのスリ
ット状マスク開孔の開孔長hに等しくなるような適切な
周期Ts が選ばれ、また、開孔の端部が直角とされない
場合には、Tsの値は幾らか異なるものとなる。
When the corner portion of the mask opening is not made into a right angle, the Fourier opening coefficient X M (k) can be used to calculate the mask opening structure having an actual roundness. By considering X M (k) for the actual mask structure, selection of T s, as shown in FIG. 13, by matching the 1 / T s to the minimum value of the absolute value of X M (k) Done. That is, for a given mask having a given pattern, when the end of the slit-shaped opening is at a right angle, an appropriate period T that is equal to the opening length h of the slit-shaped mask opening is obtained. If s is chosen and the ends of the apertures are not squared, the value of T s will be somewhat different.

【0033】図14は、この発明に従って形成した成形
シャドウマスクの右上の象限における開孔長を示すグラ
フである。このマスクは対角線寸法が86cmで16:
9のアスペクト比のスクリーンを有する管に使用され
る。このグラフにおいて、等高線ににた線はマスク中で
同様の長さを持つ開孔の位置を示している。なお、図1
4において、寸法は全てmmで表してある。
FIG. 14 is a graph showing the aperture length in the upper right quadrant of the shaped shadow mask formed according to the present invention. This mask has a diagonal dimension of 86 cm and 16:
Used for tubes with screens with aspect ratio of 9. In this graph, contour lines indicate the positions of openings having the same length in the mask. Note that FIG.
In 4, all dimensions are in mm.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明を実施したカラー映像管の軸に沿う断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view along the axis of a color picture tube embodying the present invention.

【図2】図1の管のマスク−フレーム構体の背面図であ
る。
2 is a rear view of the mask-frame assembly of the tube of FIG. 1. FIG.

【図3】図1の管のシャドウマスクの一部の拡大平面図
である。
3 is an enlarged plan view of a portion of the shadow mask of the tube of FIG.

【図4】複数の点における強度分布を示す1本の電子ビ
ーム走査線の図である。
FIG. 4 is a diagram of one electron beam scanning line showing the intensity distribution at a plurality of points.

【図5】図4の電子ビーム走査線の拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of the electron beam scanning line of FIG.

【図6】2本の隣接する電子ビーム走査線の強度とその
合成エネルギ分布を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the intensities of two adjacent electron beam scanning lines and their combined energy distribution.

【図7】変調度が大きい場合の、図6と同様の合成エネ
ルギ分布を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a combined energy distribution similar to that of FIG. 6 when the degree of modulation is large.

【図8】典型的なマスク透過パターンを示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a typical mask transmission pattern.

【図9】均一なテレビジョン線の典型的な垂直y方向に
沿う断面を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a cross section along a typical vertical y-direction of a uniform television line.

【図10】垂直方向の垂直マスク開孔列に沿うエネルギ
を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing energy along a vertical mask aperture row in a vertical direction.

【図11】図10の列に隣接する垂直開孔列に沿うエネ
ルギを示す図である。
11 is a diagram showing energy along a row of vertical apertures adjacent to the row of FIG.

【図12】開孔長対走査線間隔比に対する変調度mを示
す図である。
FIG. 12 is a diagram showing the modulation degree m with respect to the aperture length-to-scan line spacing ratio.

【図13】端部が直角の開孔を有するマスクと端部が丸
みを付けられた開孔を有するマスクについてのフーリエ
係数X(k)を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing Fourier coefficients X (k) for a mask having right-angled openings at the ends and a mask having rounded openings at the ends.

【図14】この発明による成形されたシャドウマスクの
1つの象限における開孔長分布を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing an aperture length distribution in one quadrant of a shadow mask molded according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

22 スクリーン 24 シャドウマスク 26 電子銃 36 開孔 38 タイバー h 開孔の長さ Ts 隣接走査線の中心間距離22 screen 24 shadow mask 26 electron gun 36 aperture 38 tie bar h aperture length T s center-to-center distance between adjacent scan lines

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 観察スクリーンと、このスクリーンに隣
接して配置されたシャドウマスクと、複数の電子ビーム
を発生してこれを上記マスクを通して上記スクリーンに
指向させるための電子銃とを有し、上記マスクは2つの
長辺と2つの短辺とを有する矩形周縁を有し、長軸が上
記マスクの中心を通り上記長辺に平行に延びており、短
軸が上記マスクの中心を通り上記短辺に平行に延びてお
り、上記マスクは上記短軸に基本的に平行な列をなして
配列されたスリット状開孔を有し、各列中の隣接開孔は
上記マスク中のタイバーによって分離されており、さら
に上記電子ビームが上記長軸に平行な走査線を描いて上
記スクリーンを走査するようにされており、特徴とし
て、上記開孔の長さが、上記短軸の方向に測った隣接走
査線の中心間距離の倍数にほぼ等しくされている、カラ
ー映像管。
1. An observation screen, a shadow mask disposed adjacent to the screen, and an electron gun for generating a plurality of electron beams and directing the electron beams to the screen through the masks. The mask has a rectangular periphery having two long sides and two short sides, a long axis extending through the center of the mask and parallel to the long sides, and a short axis passing through the center of the mask and the short sides. Extending parallel to the sides, the mask has slit-shaped apertures arranged in rows essentially parallel to the minor axis, with adjacent apertures in each row separated by tie bars in the mask. Further, the electron beam scans the screen by drawing a scanning line parallel to the long axis, and as a feature, the length of the aperture is measured in the direction of the short axis. Double the distance between the centers of adjacent scan lines Color video tubes, which are almost equal in number.
JP5054837A 1992-02-20 1993-02-19 Color picture tube Withdrawn JPH0668809A (en)

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