JPH0666832A - Probe and inspecting device - Google Patents

Probe and inspecting device

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JPH0666832A
JPH0666832A JP22428292A JP22428292A JPH0666832A JP H0666832 A JPH0666832 A JP H0666832A JP 22428292 A JP22428292 A JP 22428292A JP 22428292 A JP22428292 A JP 22428292A JP H0666832 A JPH0666832 A JP H0666832A
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JP
Japan
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probe
inspected
contact
pin
probe pin
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JP22428292A
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Japanese (ja)
Inventor
Isao Kinumegawa
勲 衣目川
Tadashi Takagaki
正 高垣
Kiyoshi Numata
清 沼田
Hironobu Toyoshima
広宣 豊島
Nobutaka Kawamura
宜孝 河村
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Hitachi Ltd
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to JP22428292A priority Critical patent/JPH0666832A/en
Publication of JPH0666832A publication Critical patent/JPH0666832A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a probe and an inspecting device using this probe in which a probe can be surely brought into contact with a required position of a material to be inspected, even when it is, made fine, to allow various tests by the four-terminal method. CONSTITUTION:A probe is a concentric probe, which has a mutually insulated outside probe pin 30 and inside probe pin 31, and is constituted in such a manner that each probe pin is independently recessed. The top end of the inside probe pin 31 is formed into a pyramid, the top end of the outside probe pin 30 is formed in a four-divided form, and both the top ends are formed with sharp angles. By using both the probe pins, the contact of the probes can be confirmed, and by using two probes, the space between two points to be inspected can be precisely inspected by the four-terminal method.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プローブ及び検査装置
に係り、特に、半導体の製造において実施されるウエハ
テスト、または、微小基板の製造過程、製作後のテスト
を行うために使用して好適なプローブ、及び、該プロー
ブを備えた検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe and an inspection apparatus, and is particularly suitable for use in a wafer test carried out in the manufacture of semiconductors, a manufacturing process of minute substrates, and a test after manufacture. Probe, and an inspection apparatus including the probe.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体ウエハ、半導体ウエハマ
ウント用の微小基板等の製造工程中あるいは製造後に、
これらを検査するため、半導体ウエハ、微小基板、プリ
ント基板あるいはセラミック基板にプローブを接触さ
せ、4端子法により抵抗を測定し、導通状態を確認する
等の検査が行われている。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor wafer, a minute substrate for mounting a semiconductor wafer, or the like is manufactured during or after the manufacturing process.
In order to inspect these, a probe is brought into contact with a semiconductor wafer, a minute substrate, a printed circuit board, or a ceramic substrate, resistance is measured by the four-terminal method, and a conduction state is confirmed.

【0003】この種の検査のために使用するプローブと
して、通常、片持梁状のプローブ、棒状のプローブ等が
使用されている。
As a probe used for this type of inspection, a cantilever beam-shaped probe, a rod-shaped probe or the like is usually used.

【0004】なお、この種のプローブ、検査装置に関す
る従来技術として、例えば、特開平1−184932号
公報等に記載された技術が知られている。
As a conventional technique relating to this type of probe and inspection apparatus, for example, the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 1-184932 is known.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前記従来技術による片
持梁状プローブは、屈曲した探針をその弾性によつて半
導体ウエハ等上の所要個所、例えば、半田バンプに押圧
するものであり、半導体の高集積化によって、多数存在
する半田バンプ間の間隔が狭くなつてくると、プローブ
同士が接触してしまい、検査を行うことが困難になると
いう問題点を有している。
The cantilever beam-shaped probe according to the above-mentioned prior art is one in which a bent probe is pressed against a required position on a semiconductor wafer or the like, for example, a solder bump by its elasticity. If the spacing between a large number of solder bumps becomes narrower due to higher integration, the probes come into contact with each other, making it difficult to perform an inspection.

【0006】このような問題点を解決するために、棒状
のプローブが提案されているが、棒状プローブは、棒状
の探針を半田バンプに対向させ、探針を半田バンプとの
対向間隔を無くすように、探針または半導体ウエハを移
動させて探針と半田バンプとを接触させるものである。
In order to solve such a problem, a rod-shaped probe has been proposed. In the rod-shaped probe, the rod-shaped probe is opposed to the solder bump, and the probe is prevented from facing the solder bump. As described above, the probe or the semiconductor wafer is moved to bring the probe and the solder bump into contact with each other.

【0007】しかし、この従来技術は、加工精度の差に
より半田バンプの高さに差があること等により、探針が
半田バンプに確実に接触しているか否かを確認すること
が非常に困難であるという問題点を有している。
However, in this conventional technique, it is very difficult to confirm whether or not the probe is surely in contact with the solder bump due to the difference in the height of the solder bump due to the difference in processing accuracy. It has a problem that

【0008】また、棒状のプローブを有する検査装置
は、半田バンプ、あるいは、プリント基板、セラミック
基板等の金属配線膜等に探針を接触させた場合、金属表
面の酸化膜が絶縁性であるために、下地の純金属層に探
針が到達せず、確実な接触を得ることができないことが
あり、また、基板のスルーホール内の配線膜に確実にプ
ローブを接触させることができない場合があるという問
題点を有している。
Further, in the inspection device having the rod-shaped probe, when the probe is brought into contact with a solder bump or a metal wiring film such as a printed circuit board or a ceramic substrate, the oxide film on the metal surface is insulative. In some cases, the probe may not reach the pure metal layer of the base, and reliable contact may not be obtained, and in some cases, the probe may not be able to reliably contact the wiring film in the through hole of the substrate. There is a problem.

【0009】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を
解決し、被検査物が微小化した場合にも、確実に探針を
被検査物の所要個所に接触させて、4端子法による各種
テストを行うことを可能とするプローブと、該プローブ
を使用する検査装置を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and even when the inspection object is miniaturized, the probe is surely brought into contact with a required portion of the inspection object by the 4-terminal method. An object of the present invention is to provide a probe that enables various tests and an inspection device that uses the probe.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明によれば前記目的
は、被検査物に対向配置されるプローブを、同軸構造で
互いに電気的に絶縁され、かつ、個別に沈込可能な内側
プローブピン及び外側プローブピンにより構成すること
により、また、両プローブピンの先端を鋭角状に形成す
ることにより達成される。
According to the present invention, the above-mentioned object is to provide an inner probe pin which allows a probe arranged to face an object to be inspected to be electrically insulated from each other by a coaxial structure and individually sunk. And the outer probe pin, and by forming the tips of both probe pins in an acute angle.

【0011】また、前記目的は、プローブを被検査物の
一方の面側に少なくとも2本、他方の面側に少なくとも
1本配置する構成とすることにより達成される。
The above object can be achieved by arranging at least two probes on one surface side of the object to be inspected and at least one probe on the other surface side.

【0012】[0012]

【作用】内側プローブピン、外側プローブピンは、半田
バンプ等の被検査点に衝合する際、個別に沈込むことが
できるので、半田バンプに加工精度上生じる高低差があ
る場合にも、先に接触したプローブピンは、他方のプロ
ーブピンが接触するまで沈込み、これにより、内外両プ
ローブピンは、確実に半田バンプ等の被検査点に接触す
ることができる。
[Function] Since the inner probe pin and the outer probe pin can be individually sunk when colliding with a point to be inspected such as a solder bump, even if there is a difference in height caused by processing accuracy in the solder bump, The probe pin that has come into contact with the probe pin sinks until the other probe pin comes into contact therewith, whereby both the inner and outer probe pins can surely contact the inspected point such as a solder bump.

【0013】また、内外両プローブピンは、同軸状とさ
れているので、沈込みにより相互に軸方向に摺動するだ
けで、外側プローブピンがその内側の部材の支持体とな
り、プローブの小型化、細径化が可能であり、被検査物
の高集積化に充分に対応することが可能である。
Further, since the inner and outer probe pins are coaxial, the outer probe pin serves as a support member for the inner member only by sliding the inner and outer probe pins in the axial direction due to the depression, thereby reducing the size of the probe. Further, the diameter can be reduced, and it is possible to sufficiently cope with high integration of the inspection object.

【0014】外側のプローブピンは、全周で半田バンプ
等の被検査点に接触する必要はなく、一部で接触してい
れば良いため、半田バンプがプローブよりも相対的に小
さいものであつても、両プローブピンを半田バンプに確
実に接触させることができる。また、外側プローブピン
の一部が半田バンプに接触していれば良いので、内側プ
ローブピンとの相対摺動量の小さい範囲でテストを行う
ことができ、沈込量が小さい沈込機構とすることがで
き、これにより、小型、細径のプローブを実現すること
ができる。
The outer probe pin does not have to come into contact with a point to be inspected such as a solder bump over the entire circumference, and it is sufficient that the probe pin on the outside is in contact with part of the probe pin. Therefore, the solder bump is relatively smaller than the probe. However, both probe pins can be reliably brought into contact with the solder bumps. Further, since it is sufficient that a part of the outer probe pin is in contact with the solder bump, it is possible to perform a test in a range where the relative sliding amount with the inner probe pin is small, and it is possible to use a sinking mechanism with a small sinking amount. This makes it possible to realize a small probe having a small diameter.

【0015】さらに、両プローブピンの先端は、鋭角状
に形成されているので、プローブピンが半田バンプ等の
被検査点に接触したとき、表面の絶縁性酸化膜を突破っ
て、内側の純金属層に達することができ、確実な通電を
実現できる。
Further, since the tips of both probe pins are formed in an acute angle, when the probe pins come into contact with a point to be inspected such as a solder bump, the probe pin breaks through the insulating oxide film on the surface and is pure inside. It is possible to reach the metal layer and realize reliable energization.

【0016】また、前述のようなプローブを、被検査物
の一方の面側に少なくとも2本、他方の面側に少なくと
も1本配置して検査装置を構成することができ、これに
より、被検査物の任意の2点間の検査、例えば、不良現
認、不良解析等を確実に行うことができる。
Further, it is possible to configure an inspection device by disposing at least two probes as described above on one surface side of the object to be inspected and at least one probe on the other surface side of the object to be inspected. It is possible to reliably perform inspection between any two points on an object, for example, defect identification, defect analysis, and the like.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明によるプローブ及び検査装置の
一実施例を図面により詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a probe and an inspection apparatus according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明の一実施例による検査装置の
主要部の構造を示す斜視図、図2は本発明の一実施例に
よる検査装置の構成を示すブロック図、図3はプローブ
の構造を示す部分断面図、図4はプローブと被検査点で
あるスルーホールの接触状況を説明する図、図5は検査
装置に用いられるプローブ切換え機構の構造を示す正面
図及び上面図である。図1〜図5において、1a〜1
c、2a〜2cはX−Yテーブル、3a〜3cはカメ
ラ、4a〜4c、5はZテーブル、6はプローブ、7a
〜7cはプローバ、8は基板、9は基板ホルダ、10は
ローダ、11は接触検知回路、12は抵抗測定器、13
は電流源、14は高抵抗測定器、15は耐圧測定器、1
6はシーケンサ、17は切替回路、18a〜18cはカ
メラコントローラ、19は画像処理装置、20a〜20
cはモニタ、21a〜21eはモータドライバ、22a
〜22eはモータコントローラ、23はパソコン、30
は外側プローブピン、31は内側プローブピン、32、
33はコイルバネ、34は外装用チューブ、35は絶縁
用チューブである。
FIG. 1 is a perspective view showing a structure of a main part of an inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of the inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a structure of a probe. FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing the state of contact between the probe and a through hole which is a point to be inspected, and FIG. 5 is a front view and a top view showing the structure of the probe switching mechanism used in the inspection apparatus. 1 to 5, 1a to 1
c, 2a to 2c are XY tables, 3a to 3c are cameras, 4a to 4c, 5 are Z tables, 6 is a probe, and 7a.
7c is a prober, 8 is a substrate, 9 is a substrate holder, 10 is a loader, 11 is a contact detection circuit, 12 is a resistance measuring device, 13
Is a current source, 14 is a high resistance measuring instrument, 15 is a withstand voltage measuring instrument, 1
6 is a sequencer, 17 is a switching circuit, 18a to 18c are camera controllers, 19 is an image processing device, and 20a to 20.
c is a monitor, 21a to 21e are motor drivers, 22a
22e is a motor controller, 23 is a personal computer, 30
Is an outer probe pin, 31 is an inner probe pin, 32,
33 is a coil spring, 34 is an exterior tube, and 35 is an insulating tube.

【0019】本発明の一実施例による検査装置は、図1
に示すように、互いに直交するX方向及びY方向を含む
平面内で移動自在な3組のX−Yテーブル1a〜1c、
2a〜2cと、それぞれのテーブル上に載置される3組
のカメラ3a〜3cと、Z方向に上下動を与えるZテー
ブル4a〜4cとが組み合わせられて構成されている。
そして、カメラ3cは、焦点の位置を変更するためにZ
方向に上下動するZテーブル5を介してYテーブル2c
に取付けられている。
An inspection apparatus according to an embodiment of the present invention is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, three sets of XY tables 1a to 1c movable in a plane including the X direction and the Y direction orthogonal to each other,
2a to 2c, three sets of cameras 3a to 3c mounted on the respective tables, and Z tables 4a to 4c that move up and down in the Z direction are combined.
Then, the camera 3c uses Z to change the focal position.
Y table 2c through Z table 5 which moves up and down in the direction
Installed on.

【0020】また、Zテーブル4a〜4cの上には、互
いに外径寸法が異なる複数のプローブ6を切換えるため
のプローバ7a〜7cが組み立てられている。プローバ
7aとプローバ7bとは、被検査物である基板8の上面
に、プローバ7cは、基板8の下面にプローブ6を接触
させることができるように配置されている。そして、被
検査物である基板8は、絶縁材料で形成される基板ホル
ダ9に取付けられ、基板ホルダ9を保持しているローダ
10を介して装置内に送り込まれる。
Further, on the Z tables 4a to 4c, probers 7a to 7c for switching a plurality of probes 6 having different outer diameters are assembled. The prober 7a and the prober 7b are arranged on the upper surface of the substrate 8 to be inspected, and the prober 7c is arranged so that the probe 6 can be brought into contact with the lower surface of the substrate 8. Then, the substrate 8 which is the object to be inspected is attached to a substrate holder 9 formed of an insulating material, and is fed into the apparatus via a loader 10 holding the substrate holder 9.

【0021】次に、前述のような構造を有する検査装置
の制御系を含む構成を図2を参照して説明する。
Next, the structure including the control system of the inspection apparatus having the above-mentioned structure will be described with reference to FIG.

【0022】プローブ6は切替回路17に接続され、切
替回路17は、接触検知回路11、低抵抗を測定するた
めの抵抗測定器12、そのための定電流源13、高抵抗
を測定するための高抵抗測定器14、耐圧測定器15に
接続されている。また、切替回路17は、シーケンサ1
6にも接続されており、シーケンサ16からの信号によ
り、回路を切換えて1つの測定器とプローブとの接続を
行う。なお、接触検知回路11は、プローブ6が基板8
上の被検査点である回路端子(後述)に接触しているか
否かを検知するための回路である。
The probe 6 is connected to a switching circuit 17, which includes a contact detection circuit 11, a resistance measuring device 12 for measuring a low resistance, a constant current source 13 therefor, and a high resistance for measuring a high resistance. It is connected to the resistance measuring device 14 and the breakdown voltage measuring device 15. Further, the switching circuit 17 includes the sequencer 1
6 is also connected, and the circuit is switched by the signal from the sequencer 16 to connect one measuring instrument and the probe. In the contact detection circuit 11, the probe 6 has the substrate 8
It is a circuit for detecting whether or not it is in contact with a circuit terminal (which will be described later) that is an upper inspection point.

【0023】カメラ3a〜3cは、カメラコントローラ
18a〜18cを介して画像処理装置19及びモニタ2
0a〜20cに接続されており、基板8上の回路端子の
画像、あるいは、回路端子と相対的に位置関係の保たれ
た検知用マークの画像を検出するものであり、これによ
り、その位置を計測することができる。
The cameras 3a to 3c are connected to the image processing device 19 and the monitor 2 via the camera controllers 18a to 18c.
0a to 20c and detects an image of a circuit terminal on the substrate 8 or an image of a detection mark whose positional relationship is relatively maintained with respect to the circuit terminal. It can be measured.

【0024】各X、Y、Zのテーブルは、モータドライ
バ21a〜21e、モータコントローラ22a〜22e
に接続されている。
The X, Y, and Z tables include motor drivers 21a to 21e and motor controllers 22a to 22e.
It is connected to the.

【0025】パソコン23は、シーケンサ16、モータ
コントローラ22a〜22e、各種抵抗測定器11〜1
4、画像処理装置19に接続されており、装置全体の制
御を行う。また、パソコン23は、CRT24、キーボ
ード25、ハードデイスク26、フロツピーデイスク装
置27、プリンタ28とも接続されており、ホストコン
ピユータ29と接続されて、このホストコンピユータ2
9からの指令で装置全体の制御を行うようにすることも
できる。
The personal computer 23 includes a sequencer 16, motor controllers 22a-22e, and various resistance measuring devices 11-1.
4. It is connected to the image processing device 19 and controls the entire device. The personal computer 23 is also connected to a CRT 24, a keyboard 25, a hard disk 26, a floppy disk device 27, and a printer 28, and is connected to a host computer 29 to connect the host computer 2
It is also possible to control the entire apparatus by a command from 9.

【0026】プローブ6は、図3に示すように、外装チ
ューブ34内に、外側プローブピン30と内側プローブ
ピン31とを備えて同軸状に構成され、これらの外側と
内側のプローブピン30、31は、絶縁チューブ35に
より絶縁されている。そして、外側プローブピン30と
内側プローブピン31とは、それぞれ、コイルバネ3
2、33により、基板上の回路端子に接触したときに、
軸方向に個別に沈み込むことができるように構成されて
いる。また、内側プローブピン31の先端は、角錘状に
形成されており、外側プローブピン30の先端も、4つ
割状に形成されて鋭い先端を有している。
As shown in FIG. 3, the probe 6 has an outer tube 34 and an outer probe pin 30 and an inner probe pin 31, which are coaxially arranged. These outer and inner probe pins 30 and 31 are provided. Are insulated by an insulating tube 35. The outer probe pin 30 and the inner probe pin 31 are respectively connected to the coil spring 3
2, 33, when it contacts the circuit terminal on the board,
It is configured to be able to sink individually in the axial direction. Further, the tip of the inner probe pin 31 is formed in a pyramid shape, and the tip of the outer probe pin 30 is also formed in a quarter shape and has a sharp tip.

【0027】前述のような構造を持つプローブ6を基板
8の被検査点に接触させた場合の例を図4に示してい
る。この例では、スルーホール38に設けられる回路端
子39を被検査点とした場合を示している。
FIG. 4 shows an example in which the probe 6 having the above-described structure is brought into contact with the inspected point on the substrate 8. In this example, the case where the circuit terminal 39 provided in the through hole 38 is the inspected point is shown.

【0028】この場合、内側プローブピン31の先端の
角錘部がホール38内に入り込み、スルーホール38の
角部に角錘の角部がくい込む。また、外側プローブピン
30の先端の4つ割状になって形成される鋭い先端は、
回路端子39の表面に確実に接触する。そして、いずれ
の先端部も酸化膜を破壊し、下地層に接触し、確実に通
電が可能である。
In this case, the pyramidal portion at the tip of the inner probe pin 31 enters into the hole 38, and the corner portion of the pyramid bites into the corner portion of the through hole 38. In addition, the sharp tip formed by dividing the tip of the outer probe pin 30 into quarters,
The surface of the circuit terminal 39 is surely contacted. Then, any of the tips destroys the oxide film and comes into contact with the underlying layer, so that the current can be surely supplied.

【0029】なお、被検査点としては、スルーホールに
設けられる回路端子だけでなく、はんだバンプ等による
回路端子、配線パターン上の任意の点等を選択すること
ができる。
As the inspection point, not only the circuit terminal provided in the through hole, but also a circuit terminal such as a solder bump or an arbitrary point on the wiring pattern can be selected.

【0030】一般に、プローブ6の内側プローブピン3
1の径は、通常、小さければよいが、図4に示すよう
に、スルーホールの位置を被検査点とする場合、内側プ
ローブピン31が、スルーホール38の穴内に挿入され
てしまうほどの径の場合、信頼性の高い接触を得ること
ができないので、このような場合、スルーホール径より
太い径の内側プローブピン31を持つプローブを用意す
る必要がある。
In general, the inner probe pin 3 of the probe 6
Usually, the diameter of 1 is small, but as shown in FIG. 4, when the position of the through hole is set as the inspected point, the diameter of the inner probe pin 31 is inserted into the hole of the through hole 38. In that case, reliable contact cannot be obtained, and in such a case, it is necessary to prepare a probe having the inner probe pin 31 having a diameter larger than the diameter of the through hole.

【0031】本発明の一実施例による検査装置は、この
ため、プローブ6を保持するプローバ7を図5に示すよ
うに、複数のプローブ6を選択して使用することが可能
に構成している。すなわち、プローバ7は、プローブ6
を所定の位置に回転して移動するためのロータリーシリ
ンダ35とプローブ6を基板上に降ろすための上下用シ
リンダ36から構成され、異なる径を持つ複数のプロー
ブを選択して検査のために使用させることができる。な
お、図5に示す例は、プローブが2本の場合を示してい
るが、プローブの数を多くしてもよいことは言うまでも
ない。
Therefore, the inspection apparatus according to the embodiment of the present invention is configured so that the prober 7 holding the probe 6 can be used by selecting a plurality of probes 6 as shown in FIG. . That is, the prober 7 is the probe 6
A rotary cylinder 35 for rotating and moving the probe 6 to a predetermined position and a vertical cylinder 36 for lowering the probe 6 on the substrate. A plurality of probes having different diameters are selected and used for inspection. be able to. Note that the example shown in FIG. 5 shows the case where there are two probes, but it goes without saying that the number of probes may be increased.

【0032】前述した本発明の一実施例による検査装置
は、通常、被検査物である基板に対する導通試験器によ
り、基板上の回路端子を一括して試験した後の不良の解
析、不良の現認等に使用して好適なものであり、次に、
この検査方法を簡単に説明する。
In the inspection apparatus according to the above-described embodiment of the present invention, normally, the continuity tester for the substrate to be inspected is used to analyze the defects after the circuit terminals on the substrate are collectively tested. It is suitable for use in recognition, etc.
This inspection method will be briefly described.

【0033】すでに図1により説明したように本発明の
一実施例による検査装置は、被検査物である基板8の上
面に2本、下面に1本のプローブ6が備えられているの
で、基板8の上面の2つの被検査点間、及び、基板8の
上面と下面とにある2つの被検査点間の検査を行うこと
ができ、さらに、基板8の裏返すことにより、基板8の
下面の2つの被検査点間の検査を行うことができる。
As already described with reference to FIG. 1, the inspection apparatus according to the embodiment of the present invention is provided with two probes 6 on the upper surface of the substrate 8 to be inspected and one probe 6 on the lower surface. It is possible to perform an inspection between two inspected points on the upper surface of the substrate 8 and between two inspected points on the upper surface and the lower surface of the substrate 8, and by turning the substrate 8 over, Inspection between two inspected points can be performed.

【0034】そこで、まず、2本のプローブ6を、基板
8の検査を行いたい任意の被検査点のそれぞれに、X−
Yテーブル及びプローバを使用して接触させる。次に、
被検査点に接触させたプローブの外側プローブピン30
と内側プローブピン31とを使用して、プローブが確実
に被検査点接触していることを確認する。この接触確認
のテストは、接触検知回路11を使用して行われる。
Therefore, first, the two probes 6 are attached to each of the inspected points to be inspected on the substrate 8 by X-.
Contact using a Y table and prober. next,
Outer probe pin 30 of the probe brought into contact with the inspected point
And the inner probe pin 31 are used to confirm that the probe is surely in contact with the inspected point. This contact confirmation test is performed using the contact detection circuit 11.

【0035】次に、プローブ6を接触させた2つの被検
査点相互間の低抵抗測定、高抵抗測定を、定電流源1
3、低抵抗測定器12、高抵抗測定器14を使用して実
行し、2つの被検査点間の不良の解析、不良の現認等の
検査を行う。この抵抗測定は、2本のプローブのそれぞ
れの外側プローブピン30と内側プローブピン31とを
使用した4端子測定法により行うことができるので高精
度の測定を行うことができる。また、耐圧測定器15を
使用して2つの被検査点間の耐圧検査をも行うことがで
きる。
Next, low resistance measurement and high resistance measurement between two inspected points with which the probe 6 is in contact are performed by the constant current source 1.
3. The low resistance measuring device 12 and the high resistance measuring device 14 are used to carry out the inspection such as the analysis of the defect between the two inspected points and the recognition of the defect. Since this resistance measurement can be performed by a four-terminal measurement method using the outer probe pin 30 and the inner probe pin 31 of each of the two probes, highly accurate measurement can be performed. Further, the breakdown voltage measuring device 15 can be used to perform a breakdown voltage test between two points to be inspected.

【0036】前述した本発明の一実施例によれば、プロ
ーブ6が、お互いに絶縁された外側プローブピン30と
内側プローブピン31とを備えて同軸状に、軸方向に個
別に沈み込むことができるように構成され、また、内側
プローブピン31の先端は、角錘状に形成されており、
外側プローブピン30の先端も、4つ割状に形成されて
鋭い先端を有しているので、被検査物が微小化した場合
にも、表面の酸化物を破って、確実にピンの先端を被検
査物の所要個所の金属に接触させて検査を行うことがで
きる。そして、プローブを構成する2本のプローブピン
により、接触の確認を行うことができ、かつ、2つの被
検査点間を4端子法により検査することができるので、
高精度に各種テストを行うことができる。
According to the above-described embodiment of the present invention, the probe 6 is provided with the outer probe pin 30 and the inner probe pin 31 which are insulated from each other, so that the probe 6 can be coaxially and individually depressed in the axial direction. In addition, the tip of the inner probe pin 31 is formed in a pyramid shape,
Since the tip of the outer probe pin 30 is also formed in a quartered shape and has a sharp tip, the oxide on the surface is broken and the tip of the pin is securely fixed even when the inspection object is miniaturized. The inspection can be performed by contacting the metal at the required portion of the inspection object. Since the contact can be confirmed by the two probe pins forming the probe, and the two points to be inspected can be inspected by the four-terminal method,
Various tests can be performed with high accuracy.

【0037】前述した本発明の一実施例による検査装置
は、半導体の製造において実施されるウエハテスト、ま
たは、微小基板の製造過程、製作後のテスト、特に、不
良の解析、不良の現認等の検査を行うとして説明した
が、本発明は、例えば、基板のスルーホールの両端にプ
ローブを接触させ、低抵抗測定を行うことにより、スル
ーホール内のめっきの状態を確認するために使用するこ
ともでき、また、ロット試験等のために使用するように
することもできる。
The above-described inspection apparatus according to the embodiment of the present invention is used in a wafer test carried out in the manufacture of a semiconductor, a manufacturing process of a micro substrate, a test after manufacture, particularly, analysis of defects, identification of defects, etc. However, the present invention can be used for confirming the plating state in the through hole by, for example, bringing probes into contact with both ends of the through hole of the substrate and performing low resistance measurement. It can also be used for a lot test or the like.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、被
検査点の表面に酸化被膜等の絶縁物が形成されている場
合、また、被検査点スルーホールであっても、確実にプ
ローブを被検査物の被検査点に接触させて、各種の検査
を行うことができる。
As described above, according to the present invention, the probe can be reliably used when an insulator such as an oxide film is formed on the surface of the point to be inspected or even when the through hole is to be inspected. It is possible to perform various inspections by contacting the inspected point of the inspected object with.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例による検査装置の主要部の構
造を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a structure of a main part of an inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例による検査装置の構成を示す
ブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of an inspection device according to an embodiment of the present invention.

【図3】プローブの構造を示す部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing the structure of a probe.

【図4】プローブと被検査点であるスルーホールの接触
状況を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a contact state between a probe and a through hole which is an inspection point.

【図5】検査装置に用いられるプローブ切換え機構の構
造を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a structure of a probe switching mechanism used in the inspection device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a〜1c、2a〜2c X−Yテーブル 3a〜3c カメラ 4a〜4c、5 Zテーブル 6 プローブ 7a〜7c プローバ 8 基板 9 基板ホルダ 10 ローダ 11 接触検知回路 12 抵抗測定器 13 定電流源 14 高抵抗測定器 15 耐圧測定器 16 シーケンサ 17 切替回路 18a〜18c カメラコントローラ 19 画像処理装置 20a〜20c モニタ 21a〜21e モータドライバ 22a〜22e モータコントローラ 23 パソコン 30 外側プローブピン 31 内側プローブピン 32、33 コイルバネ 34 外装用チューブ 35 絶縁用チューブ 1a-1c, 2a-2c XY table 3a-3c Cameras 4a-4c, 5Z table 6 Probes 7a-7c Prober 8 Substrate 9 Substrate holder 10 Loader 11 Contact detection circuit 12 Resistance measuring instrument 13 Constant current source 14 High resistance Measuring device 15 Withstand voltage measuring device 16 Sequencer 17 Switching circuit 18a-18c Camera controller 19 Image processing device 20a-20c Monitor 21a-21e Motor driver 22a-22e Motor controller 23 Personal computer 30 Outer probe pin 31 Inner probe pin 32, 33 Coil spring 34 Exterior Tube 35 Insulation tube

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沼田 清 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所神奈川工場内 (72)発明者 豊島 広宣 東京都千代田区神田駿河台四丁目3番地 日立テクノエンジニアリング株式会社内 (72)発明者 河村 宜孝 東京都千代田区神田駿河台四丁目3番地 日立テクノエンジニアリング株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kiyoshi Numata 1 Horiyamashita, Horiyamashita, Hadano, Kanagawa Kanagawa factory (72) Inventor Hironobu Toyoshima 4th, Kanda Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Yoshitaka Kawamura 4-3, Surugadai Kanda, Chiyoda-ku, Tokyo Hitachi Techno Engineering Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検査物に垂直に対向させたピンを前記
被検査物の被検査点に接触させてテストを行うプローブ
において、外側プローブピンと内側プローブピンとを備
え、これらのプローブピンがお互いに絶縁されて同軸状
に形成され、被検査物に接触したとき個別に沈込むこと
を特徴とするプローブ。
1. A probe for performing a test by bringing a pin, which is vertically opposed to an object to be inspected, into contact with an inspected point of the object to be inspected, comprises an outer probe pin and an inner probe pin, and these probe pins are mutually connected. A probe, which is insulated and formed coaxially, and sinks individually when it comes into contact with an object to be inspected.
【請求項2】 前記外側プローブピンと内側プローブピ
ンとは、その先端が鋭角状に形成されていることを特徴
とする請求項1記載のプローブ。
2. The probe according to claim 1, wherein the outer probe pin and the inner probe pin are formed so that their tips have an acute angle.
【請求項3】 被検査物に垂直に対向させたプローブを
前記被検査物の被検査点に接触させてテストを行う検査
装置において、前記プローブとして、請求項1または2
記載のプローブを使用することを特徴とする検査装置。
3. An inspection apparatus for performing a test by bringing a probe vertically opposed to an object to be inspected into contact with an inspected point of the object to be inspected, wherein the probe is used as the probe.
An inspection apparatus using the described probe.
【請求項4】 前記プローブの外側プローブピンと内側
プローブピンとにより、プローブが被検査点に接触した
ことを確認することを特徴とする請求項3記載の検査装
置。
4. The inspection apparatus according to claim 3, wherein it is confirmed by the outer probe pin and the inner probe pin of the probe that the probe is in contact with a point to be inspected.
【請求項5】 前記プローブを2本使用し、2つの被検
査点間の検査を4端子測定法により検査することを特徴
とする請求項3または4記載の検査装置。
5. The inspection apparatus according to claim 3, wherein the two probes are used and the inspection between two inspected points is inspected by a four-terminal measuring method.
【請求項6】 被検査物の一方の面側に少なくとも2
本、他方の面側に少なくとも1本のプローブを配置して
構成されることを特徴とする請求項3、4または5記載
の検査装置。
6. At least two on one surface side of the inspection object.
6. The inspection apparatus according to claim 3, 4 or 5, wherein at least one probe is arranged on the other side of the book.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6516058B1 (en) 1997-12-12 2003-02-04 Nec Corporation Voice network access system
JP2006250546A (en) * 2005-03-08 2006-09-21 Hioki Ee Corp Short circuit detector
WO2007138831A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-06 Nidec-Read Corporation Board examination method and board examination device
WO2008001651A1 (en) * 2006-06-29 2008-01-03 Nidec-Read Corporation Board inspecting method and board inspecting device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6516058B1 (en) 1997-12-12 2003-02-04 Nec Corporation Voice network access system
JP2006250546A (en) * 2005-03-08 2006-09-21 Hioki Ee Corp Short circuit detector
WO2007138831A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-06 Nidec-Read Corporation Board examination method and board examination device
WO2008001651A1 (en) * 2006-06-29 2008-01-03 Nidec-Read Corporation Board inspecting method and board inspecting device
JP2008008773A (en) * 2006-06-29 2008-01-17 Nidec-Read Corp Substrate inspection method and substrate inspecting device

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