JPH06339081A - Driving method for solid-state image pickup element - Google Patents
Driving method for solid-state image pickup elementInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、固体撮像素子の駆動方
法に関し、特にオーバーフロードレイン(OFD)構造
を有する固体撮像素子において各センサ部から垂直転送
部へ信号電荷を読み出すときの駆動方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for driving a solid-state image pickup device, and more particularly to a method for driving a solid-state image pickup device having an overflow drain (OFD) structure when reading signal charges from each sensor unit to a vertical transfer unit.
【0002】[0002]
【従来の技術】図7は、インターライン転送型CCD固
体撮像素子の代表的な構成例を示す全体構成図である。
図7において、マトリクス状に2次元配列されて光電変
換を行う多数のフォトセンサ(センサ部)21と、これ
らフォトセンサ21の垂直列毎に配されかつ読出しゲー
ト22を介して読み出された信号電荷を垂直方向に転送
する垂直転送レジスタ(垂直転送部)23とによって撮
像部24が構成されている。垂直転送レジスタ23は、
例えば4相の垂直転送クロックφV1〜φV4によって
転送駆動される。2. Description of the Related Art FIG. 7 is an overall configuration diagram showing a typical configuration example of an interline transfer CCD solid-state image pickup device.
In FIG. 7, a large number of photosensors (sensor portions) 21 that are two-dimensionally arranged in a matrix and perform photoelectric conversion, and signals that are arranged in each vertical column of these photosensors 21 and that are read out through a read gate 22. An image pickup unit 24 is configured by a vertical transfer register (vertical transfer unit) 23 that transfers charges in the vertical direction. The vertical transfer register 23 is
For example, transfer is driven by four-phase vertical transfer clocks φV1 to φV4.
【0003】垂直転送レジスタ23に読み出された信号
電荷は、1走査線に相当する部分ずつ順に水平転送レジ
スタ25へ転送される。この1走査線分の信号電荷は、
水平転送レジスタ25によって水平方向に順次転送され
て電荷検出部26に供給される。水平転送レジスタ25
は、例えば2相の水平転送クロックφH1,φH2によ
って転送駆動される。電荷検出部26は、例えばフロー
ティング・ディフュージョン・アンプによって構成さ
れ、水平転送レジスタ25によって転送されてきた信号
電荷を検出し、これを信号電圧Vout に変換して出力す
る。The signal charges read out to the vertical transfer register 23 are sequentially transferred to the horizontal transfer register 25 in units corresponding to one scanning line. The signal charge for one scan line is
The charges are sequentially transferred in the horizontal direction by the horizontal transfer register 25 and supplied to the charge detection unit 26. Horizontal transfer register 25
Are driven by, for example, two-phase horizontal transfer clocks φH1 and φH2. The charge detection unit 26 is composed of, for example, a floating diffusion amplifier, detects the signal charge transferred by the horizontal transfer register 25, converts the signal charge into a signal voltage Vout, and outputs the signal voltage Vout.
【0004】この種のCCD固体撮像素子において、読
出しゲート22のゲート電極を、垂直転送レジスタ23
の例えば第1相目(φV1)及び第3相目(φV3)の
転送電極と兼用した場合には、図8のタイミングチャー
トに示すように、4相の垂直転送クロックφV1〜φV
4のうち、垂直転送クロックφV1,φV3は3値レベ
ル(VL ,VH ,VT )をとる。そして、一番高い電圧
パルスVT をフォトセンサ21から垂直転送レジスタ2
3へ信号電荷を読み出すための読出しパルスとして用い
ている。この読出しパルスを読出しゲート22のゲート
電極に印加することにより、フォトセンサ21に蓄積さ
れた信号電荷は読出しゲート22を介して垂直転送レジ
スタ23に読み出されることになる。In this type of CCD solid-state image sensor, the gate electrode of the read gate 22 is connected to the vertical transfer register 23.
Of the first phase (φV1) and the third phase (φV3) transfer electrodes, the four-phase vertical transfer clocks φV1 to φV are used as shown in the timing chart of FIG.
Of the four vertical transfer clock .phi.V1, .phi.V3 ternary level (V L, V H, V T) taking. Then, the highest voltage pulse V T is sent from the photo sensor 21 to the vertical transfer register 2
3 is used as a read pulse for reading the signal charge. By applying this read pulse to the gate electrode of the read gate 22, the signal charge accumulated in the photosensor 21 is read to the vertical transfer register 23 via the read gate 22.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成のCCD固体撮像素子においては、垂直転送クロック
φV1,φV3が3値レベルをとることにより、読出し
パルスの電圧VT を高レベルに設定せざるを得なく、通
常の場合、アンチブルーミング特性を低下させることな
く読出しパルスの電圧VT を下げることは難しいため、
消費電力が高くなってしまうという問題があった。特
に、アンチブルーミング特性が十分でないCCD固体撮
像素子において、アンチブルーミング特性を確保する条
件下では、フォトセンサ21に蓄積された信号電荷を十
分に読み出すためには、読出しパルスの電圧VT を高く
設定する必要があり、消費電力がより増大することにな
る。[SUMMARY OF THE INVENTION However, in the CCD solid-state imaging device having the above configuration, the vertical transfer clock .phi.V1, by φV3 takes three values levels, forced to set the voltage V T of the read pulse to a high level In the normal case, it is difficult to lower the voltage V T of the read pulse without lowering the anti-blooming characteristic.
There was a problem that power consumption would be high. In particular, in a CCD solid-state image sensor having an insufficient anti-blooming characteristic, under the condition that the anti-blooming characteristic is ensured, the voltage V T of the read pulse is set high in order to sufficiently read the signal charge accumulated in the photosensor 21. Power consumption will increase.
【0006】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、フォトセンサから垂
直転送レジスタへ信号電荷を読み出すための読出しパル
スの電圧をアンチブルーミング特性を低下させることな
く下げ、デバイスの低電圧化を可能とした固体撮像素子
の駆動方法を提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to reduce the voltage of a read pulse for reading a signal charge from a photosensor to a vertical transfer register to reduce the anti-blooming characteristic. Another object of the present invention is to provide a method for driving a solid-state image sensor, which is capable of lowering the voltage of the device.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による固体撮像素子の駆動方法は、マトリク
ス状に2次元配列されて光電変換を行う多数のセンサ部
と、これらセンサ部の垂直列毎に配されて前記センサ部
から読み出された信号電荷を垂直転送する垂直転送部と
を有する撮像部を備えた固体撮像素子において、センサ
部から垂直転送部へ信号電荷を読み出すときに、センサ
部のポテンシャルを浅くしつつ信号電荷の読出し駆動を
行うことを特徴としている。In order to achieve the above object, a method of driving a solid-state image pickup device according to the present invention comprises a large number of sensor units arranged two-dimensionally in a matrix for photoelectric conversion, and these sensor units. In a solid-state imaging device including an image pickup unit having a vertical transfer unit arranged in each vertical column and vertically transferring the signal charge read from the sensor unit, when reading the signal charge from the sensor unit to the vertical transfer unit It is characterized in that the signal charge is read out and driven while the potential of the sensor section is made shallow.
【0008】[0008]
【作用】OFD構造を有する固体撮像素子において、セ
ンサ部から垂直転送部へ信号電荷を読み出すときに、オ
ーバーフローバリアとして機能するPウェルに印加する
クロック電圧を、信号電荷の読出しパルスに同期して低
レベルとする。これにより、オーバーフローバリアのポ
テンシャルが変調により浅くなり、これに伴いセンサ部
のポテンシャルも浅くなる。その結果、センサ部と垂直
転送部間のポテンシャル差が大きくなることから、セン
サ部から垂直転送部にかけての電界が強くなるため、読
出しパルスの電圧が従来よりも低くても十分に信号電荷
の読出しが可能となる。In the solid-state imaging device having the OFD structure, when the signal charge is read from the sensor unit to the vertical transfer unit, the clock voltage applied to the P well functioning as the overflow barrier is lowered in synchronization with the signal charge read pulse. Level. As a result, the potential of the overflow barrier becomes shallower due to the modulation, and the potential of the sensor section becomes shallower accordingly. As a result, the potential difference between the sensor unit and the vertical transfer unit becomes large, and the electric field from the sensor unit to the vertical transfer unit becomes strong. Therefore, even if the voltage of the read pulse is lower than the conventional one, the signal charge is sufficiently read. Is possible.
【0009】[0009]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は、縦型OFD(オーバーフロードレ
イン)構造を有するCCD固体撮像素子におけるセンサ
部周辺の断面構造図であり、図中、図7と同等部分には
同一符号を付して示してある。図1において、光電変換
を行うフォトセンサ21は、N型シリコン基板1の表面
側に浅く形成されたP+ 型不純物からなる正孔蓄積層2
と、この正孔蓄積層2の下に形成されたN+ 型不純物か
らなる信号電荷蓄積層3とによって構成されている。ま
た、正孔蓄積層2に隣接してP++型不純物からなるチャ
ネルストップ領域4が形成されている。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional structure diagram around a sensor portion in a CCD solid-state imaging device having a vertical OFD (overflow drain) structure. In the figure, the same parts as those in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 1, a photosensor 21 that performs photoelectric conversion includes a hole storage layer 2 made of a P + -type impurity and shallowly formed on the surface side of an N-type silicon substrate 1.
And a signal charge storage layer 3 made of N + type impurities formed under the hole storage layer 2. Further, a channel stop region 4 made of a P ++ type impurity is formed adjacent to the hole storage layer 2.
【0010】垂直転送レジスタ23は、基板表面側に形
成されたN+ 型不純物からなる信号電荷転送領域5と、
その上方にシリコン酸化膜SiO2からなる絶縁層(図示せ
ず)を介して形成された転送電極6とによって構成され
ている。フォトセンサ21と垂直転送レジスタ23の間
にはP+ 不純物領域7が形成され、このP+ 型不純物領
域7は読出しゲート22として作用する。この読出しゲ
ート22のゲート電極としては、垂直転送レジスタ23
の例えば第1相目(φV1)及び第3相目(φV3)の
転送電極6が兼用されている。また、N型シリコン基板
1の中間領域にはオーバーフローバリアとしてのPウェ
ル8が形成され、このPウェル8を介してフォトセンサ
21に蓄積された信号電荷を基板側に掃き捨てる縦型オ
ーバーフロードレイン構造を採っている。The vertical transfer register 23 includes a signal charge transfer region 5 made of N + -type impurities formed on the substrate surface side,
A transfer electrode 6 is formed thereabove with an insulating layer (not shown) made of a silicon oxide film SiO 2 interposed therebetween. P + impurity region 7 is provided between the photo sensor 21 and the vertical transfer register 23 are formed, the P + -type impurity region 7 acts as a readout gate 22. The gate electrode of the read gate 22 is the vertical transfer register 23.
, The transfer electrodes 6 of the first phase (φV1) and the third phase (φV3) are also used. Further, a P-well 8 is formed as an overflow barrier in the intermediate region of the N-type silicon substrate 1, and a vertical overflow drain structure for sweeping out signal charges accumulated in the photosensor 21 via the P-well 8 to the substrate side. Is taking.
【0011】図2は、垂直転送レジスタ23を4相駆動
するための垂直転送クロックφV1〜φV4及びオーバ
ーフローバリア(OFB)として機能するPウェル8に
印加するクロック電圧φOFBのタイミングチャートで
ある。4相の垂直転送クロックφV1〜φV4のうち、
垂直転送クロックφV1,φV3は、上述したように第
1相目と第3相目の転送電極6が読出しゲート22のゲ
ート電極を兼ねていることから、VL ,VH ,VT の3
値レベルをとり、電圧VL ,VH が垂直転送のための転
送パルスとなり、一番高い電圧VT がフォトセンサ21
から垂直転送レジスタ23へ信号電荷を読み出すための
読出しパルスとなる。FIG. 2 is a timing chart of vertical transfer clocks .phi.V1 to .phi.V4 for driving the vertical transfer register 23 in four phases and a clock voltage .phi.OFB applied to the P well 8 functioning as an overflow barrier (OFB). Of the four-phase vertical transfer clocks φV1 to φV4,
As described above, the vertical transfer clocks φV1 and φV3 have three levels of V L , V H , and V T because the transfer electrodes 6 of the first and third phases also serve as the gate electrodes of the read gate 22.
Taking the value level, the voltages V L and V H become transfer pulses for vertical transfer, and the highest voltage V T is the photosensor 21.
Is a read pulse for reading the signal charge from the vertical transfer register 23 to the vertical transfer register 23.
【0012】電荷蓄積時における図1の断面でのチャネ
ルポテンシャルを図3(A)に、センサ部21の深さ方
向のポテンシャルを図3(B)にそれぞれ示す。この電
荷蓄積状態において、入射光は光電変換されて電荷とな
り、フォトセンサ21の信号電荷蓄積層3に蓄積され
る。この蓄積された信号電荷は、垂直転送クロックφV
1,φV3の読出しパルスが転送電極6に印加されるこ
とにより、読出しゲート22のポテンシャルが深くなる
ため、この読出しゲート22を介して垂直転送レジスタ
23へ読み出される。FIG. 3A shows the channel potential in the cross section of FIG. 1 during charge accumulation, and FIG. 3B shows the potential of the sensor portion 21 in the depth direction. In this charge storage state, the incident light is photoelectrically converted into a charge and stored in the signal charge storage layer 3 of the photosensor 21. The accumulated signal charges are transferred to the vertical transfer clock φV.
When the read pulse of 1, φV3 is applied to the transfer electrode 6, the potential of the read gate 22 becomes deeper, and the read gate 22 reads the potential to the vertical transfer register 23.
【0013】本発明においては、この信号電荷の読出し
時の駆動方法を特徴としている。すなわち、Pウェル8
に印加するクロック電圧φOFBを、垂直転送クロック
φV1,φV3の読出しパルスに同期して低レベルとし
ている。この電荷読出し時における図1の断面でのチャ
ネルポテンシャルを図4(A)に、センサ部21の深さ
方向のポテンシャルを図4(B)にそれぞれ示す。図4
から明かなように、信号電荷の読出し時に、Pウェル8
に印加するクロック電圧φOFBを低レベルとすること
により、オーバーフローバリア(Pウェル8)のポテン
シャルが変調により浅くなり、その結果フォトセンサ2
1のポテンシャルも浅くなる。The present invention is characterized by the driving method at the time of reading the signal charge. That is, P well 8
The clock voltage .phi.OFB applied to is set to the low level in synchronization with the read pulses of the vertical transfer clocks .phi.V1 and .phi.V3. FIG. 4 (A) shows the channel potential in the cross section of FIG. 1 and FIG. 4 (B) shows the potential in the depth direction of the sensor portion 21 during the charge reading. Figure 4
As is clear from the above, when the signal charge is read out, the P well 8
By setting the clock voltage φOFB applied to the low level to a low level, the potential of the overflow barrier (P well 8) becomes shallow due to the modulation, and as a result, the photosensor 2
The potential of 1 also becomes shallow.
【0014】このように、フォトセンサ21から垂直転
送レジスタ23へ信号電荷を読み出すときに、フォトセ
ンサ21のポテンシャルを浅くしつつ信号電荷の読出し
駆動を行うことにより、フォトセンサ21と垂直転送レ
ジスタ23の間のポテンシャル差が従来よりも大きくな
る。このポテンシャル差が大きければ、フォトセンサ2
1から垂直転送レジスタ23にかけての電界が強くなる
ため、読出しパルスの電圧VT が従来よりも低くても十
分に信号電荷の読出しが可能となる。As described above, when the signal charge is read from the photosensor 21 to the vertical transfer register 23, the photosensor 21 and the vertical transfer register 23 are read by driving the signal charge while making the potential of the photosensor 21 shallow. The potential difference between the two becomes larger than before. If this potential difference is large, the photo sensor 2
Since the electric field from 1 to the vertical transfer register 23 becomes strong, the signal charge can be sufficiently read even if the voltage V T of the read pulse is lower than that of the conventional one.
【0015】これによれば、アンチブルーミング特性を
低下させることなく、読出しパルスVT の電圧を下げる
ことができるので、デバイスの低電圧化が可能となる。
図4において、破線は信号電荷を読み出すときに、フォ
トセンサ21のポテンシャルを浅くしないまま、読出し
パルスの電圧VT を下げた場合を示している。この場合
には、フォトセンサ21のポテンシャルよりも、読出し
ゲート22のポテンシャルが浅くなってしまうため、フ
ォトセンサ21からの信号電荷の読み残しが生じること
になり、更に高い読出しパルスの電圧VT を掛けなけれ
ばならず、本発明による駆動方法での読出しパルスの電
圧VT より高い電圧が必要となる。According to this, the voltage of the read pulse V T can be lowered without deteriorating the anti-blooming characteristic, so that the device voltage can be lowered.
In FIG. 4, the broken line indicates the case where the voltage V T of the read pulse is lowered without reading the potential of the photosensor 21 shallow when reading the signal charge. In this case, the potential of the read gate 22 becomes shallower than the potential of the photosensor 21, which causes the signal charge from the photosensor 21 to be left unread, and a higher read pulse voltage V T is obtained. It must be applied and requires a voltage higher than the voltage V T of the read pulse in the driving method according to the present invention.
【0016】なお、上記実施例では、オーバーフローバ
リアとして機能するPウェル8に印加するクロック電圧
φOFBを、図2のタイミングチャートから明かなよう
に、読出しパルスの発生タイミングで低レベルにすると
したが、図5のタイミングチャートに示すように、第1
相(φV1)の読出しパルスに同期して第3相(φV
3)の読出しパルスの発生タイミングを含む一定期間T
だけ低レベルにするようにしても良く、上記の場合と同
様の効果が得られる。また、上記実施例では、オーバー
フロードレイン構造において、Pウェル8にクロック電
圧φOFBを印加することによってフォトセンサ21の
ポテンシャルを浅くするとしたが、いわゆる電子シャッ
ター動作を行わせるためにN型シリコン基板1に印加す
る基板パルスφSUBの電圧を、読出しパルスVT に同
期して低レベルにするようにしても良く、上記の場合と
同様の効果が得られる。In the above embodiment, the clock voltage .phi.OFB applied to the P well 8 functioning as an overflow barrier is set to a low level at the read pulse generation timing, as is clear from the timing chart of FIG. As shown in the timing chart of FIG. 5, the first
The third phase (φV1) is synchronized with the phase (φV1) read pulse.
3) A certain period T including the read pulse generation timing
However, the same effect as the above case can be obtained. In the above-described embodiment, in the overflow drain structure, the potential of the photo sensor 21 is made shallow by applying the clock voltage φOFB to the P well 8. The voltage of the substrate pulse φSUB to be applied may be set to the low level in synchronization with the read pulse V T , and the same effect as the above case can be obtained.
【0017】さらにまた、上記実施例においては、縦型
OFD構造を有するCCD固体撮像素子に適用した場合
について説明したが、本発明は、横型OFD構造を有す
るCCD固体撮像素子にも同様に適用し得る。図6に、
横型OFD構造を有するCCD固体撮像素子におけるセ
ンサ部周辺の断面構造図を示す。同図において、フォト
センサ21の横に連続してP型不純物によってオーバー
フローバリア領域11が、さらにその横に連続してN型
不純物によってオーバーフロードレイン領域12が形成
されている。Furthermore, in the above-mentioned embodiment, the case where the present invention is applied to the CCD solid-state image pickup device having the vertical type OFD structure has been described, but the present invention is similarly applied to the CCD solid-state image pickup device having the horizontal type OFD structure. obtain. In Figure 6,
FIG. 3 is a cross-sectional structure diagram around a sensor unit in a CCD solid-state imaging device having a horizontal OFD structure. In the figure, the overflow barrier region 11 is formed continuously by the P-type impurities next to the photosensor 21, and the overflow drain region 12 is further formed next by the N-type impurities.
【0018】そして、上記構成の横型OFD構造を有す
る固体撮像素子において、フォトセンサ21から垂直転
送レジスタ23へ信号電荷を読み出す際に、その読出し
パルスに同期してオーバーフローバリア領域11の上方
に配されたゲート電極13に負のクロック電圧を印加す
るようにする。これによれば、オーバーフローバリア領
域11のポテンシャルが変調によって浅くなり、フォト
センサ21からの信号電荷の読出しの際にフォトセンサ
21のポテンシャルを浅くすることができるため、上記
実施例の場合と同様の効果を得ることができる。In the solid-state image pickup device having the horizontal OFD structure having the above structure, when the signal charge is read from the photosensor 21 to the vertical transfer register 23, the signal charge is arranged above the overflow barrier region 11 in synchronization with the read pulse. A negative clock voltage is applied to the gate electrode 13. According to this, the potential of the overflow barrier region 11 becomes shallow due to the modulation, and the potential of the photosensor 21 can be made shallow when the signal charge is read from the photosensor 21, so that it is similar to the case of the above embodiment. The effect can be obtained.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
OFD構造を有する固体撮像素子において、センサ部か
ら垂直転送部へ信号電荷を読み出すときに、センサ部の
ポテンシャルを浅くしつつ信号電荷の読出し駆動を行う
ようにしたことにより、センサ部と垂直転送部の間のポ
テンシャル差が大きくなり、センサ部から垂直転送部に
かけての電界が強くなるため、読出しパルスの電圧が従
来よりも低くても十分に信号電荷の読出しが可能とな
り、その結果、デバイスの低電圧化が図れることにな
る。As described above, according to the present invention,
In the solid-state imaging device having the OFD structure, when the signal charge is read from the sensor unit to the vertical transfer unit, the signal charge is read out and driven while the potential of the sensor unit is made shallow. Since the potential difference between the two becomes large and the electric field from the sensor section to the vertical transfer section becomes strong, it is possible to sufficiently read the signal charge even when the voltage of the read pulse is lower than the conventional one, and as a result, the device The voltage can be achieved.
【図1】縦型OFD構造におけるセンサ部周辺の断面構
造図である。FIG. 1 is a cross-sectional structural diagram around a sensor unit in a vertical OFD structure.
【図2】本発明による駆動方法の動作を説明するための
タイミングチャート(その1)である。FIG. 2 is a timing chart (No. 1) for explaining the operation of the driving method according to the present invention.
【図3】電荷蓄積時のチャネルポテンシャル図である。FIG. 3 is a channel potential diagram during charge storage.
【図4】電荷読出し時のチャネルポテンシャル図であ
る。FIG. 4 is a channel potential diagram at the time of reading charges.
【図5】本発明による駆動方法の動作を説明するための
タイミングチャート(その2)である。FIG. 5 is a timing chart (No. 2) for explaining the operation of the driving method according to the present invention.
【図6】横型OFD構造におけるセンサ部周辺の断面構
造図である。FIG. 6 is a cross-sectional structural diagram around a sensor unit in a horizontal OFD structure.
【図7】インターライン転送型CCD固体撮像素子の代
表的な構成例を示す全体構成図である。FIG. 7 is an overall configuration diagram showing a typical configuration example of an interline transfer CCD solid-state imaging device.
【図8】垂直転送パルスφV1〜φV4のタイミングチ
ャートである。FIG. 8 is a timing chart of vertical transfer pulses φV1 to φV4.
2 正孔蓄積層 3 信号電荷蓄積層 5 信号電荷転送領域 6 転送電極 8 Pウェル(オーバーフローバリア) 21 フォトセンサ 22 読出しゲート 23 垂直転送レジスタ 24 撮像部 25 水平転送レジスタ 2 hole storage layer 3 signal charge storage layer 5 signal charge transfer region 6 transfer electrode 8 P well (overflow barrier) 21 photosensor 22 read gate 23 vertical transfer register 24 image pickup unit 25 horizontal transfer register
Claims (3)
換を行う多数のセンサ部と、これらセンサ部の垂直列毎
に配されて前記センサ部から読み出された信号電荷を垂
直転送する垂直転送部とを有する撮像部を備えた固体撮
像素子の駆動方法であって、 前記センサ部から前記垂直転送部へ信号電荷を読み出す
ときに、前記センサ部のポテンシャルを浅くしつつ信号
電荷の読出し駆動を行うことを特徴とする固体撮像素子
の駆動方法。1. A plurality of sensor units arranged two-dimensionally in a matrix to perform photoelectric conversion, and vertical transfer for vertically transferring signal charges read from the sensor units arranged in each vertical column of these sensor units. A method of driving a solid-state image sensor including an image pickup unit having a sensor unit, wherein when the signal charge is read from the sensor unit to the vertical transfer unit, the signal charge is read and driven while the potential of the sensor unit is made shallow. A method for driving a solid-state imaging device, which is characterized by being performed.
ーバリア部を介して掃き捨てるオーバーフロードレイン
構造を有する固体撮像素子において、 前記センサ部から前記垂直転送部への信号電荷の読出し
パルスに同期して前記オーバーフローバリア部にクロッ
ク電圧を印加することを特徴とする請求項1記載の固体
撮像素子の駆動方法。2. A solid-state imaging device having an overflow drain structure for sweeping out signal charges of the sensor section through an overflow barrier section, wherein the signal charge is read from the sensor section to the vertical transfer section in synchronization with the readout pulse. The method for driving a solid-state imaging device according to claim 1, wherein a clock voltage is applied to the overflow barrier section.
号電荷の読出しパルスに同期して基板にクロック電圧を
印加することを特徴とする請求項2記載の固体撮像素子
の駆動方法。3. The method for driving a solid-state image pickup device according to claim 2, wherein a clock voltage is applied to the substrate in synchronization with a read pulse of signal charges from the sensor unit to the vertical transfer unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5151142A JPH06339081A (en) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | Driving method for solid-state image pickup element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5151142A JPH06339081A (en) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | Driving method for solid-state image pickup element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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- 1993-05-28 JP JP5151142A patent/JPH06339081A/en active Pending
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