JPH0628849A - Dynamic type ram - Google Patents

Dynamic type ram

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Publication number
JPH0628849A
JPH0628849A JP4207227A JP20722792A JPH0628849A JP H0628849 A JPH0628849 A JP H0628849A JP 4207227 A JP4207227 A JP 4207227A JP 20722792 A JP20722792 A JP 20722792A JP H0628849 A JPH0628849 A JP H0628849A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refresh
circuit
dynamic ram
timer
memory cell
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4207227A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shiyouji Kubono
昌次 久保埜
Yoshihisa Koyama
芳久 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP4207227A priority Critical patent/JPH0628849A/en
Publication of JPH0628849A publication Critical patent/JPH0628849A/en
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Abstract

PURPOSE:To allow a dynamic type cell memory to hold information with a high reliability by providing a tire circuit at a part where heat radiating condition is bad on a semiconductor substrate. CONSTITUTION:A tire circuit 4 is provided at the central part of a semiconductor chip 1 on the worst condition of the radiation of heat. When a dynamic type RAM is switched from an operating state to a data holding mode (automatic refresh mode), the part remains to be a high temperature until the end of a temperature distribution generated by the chip 1. Then, a refresh cycle corresponding to the high temperature is decided by arranging the tire circuit 4 at the pertinent part. Therefore, it is not necessary to set the refresh cycle longer than the refresh time of the memory cell arranged at an area where the radiating condition is satisfactory.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ダイナミック型RA
M(ランダム・アクセス・メモリ)に関し、特に自動リ
フレッシュ制御回路とそのリフレッシュ周期を決定する
ためのタイマー回路を内蔵したものに利用して有効な技
術に関するものである。
This invention relates to a dynamic RA
The present invention relates to an M (random access memory), and more particularly to a technique effective when used in an automatic refresh control circuit and a timer circuit for determining its refresh cycle.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイナミック型RAMのメモリセルは、
1個のMOSFET(絶縁ゲート型電界効果トランジス
タ、以下同じ)と1個のキャパシタとにより構成され、
キャパシタの保持電荷の有無により情報記憶を行う。そ
のため、キャパシタの保持電荷がリーク電流により失わ
れてしまう前にそれを読み出して増幅して再書き込みを
行うというリフレッシュ動作を必要とする。このような
リフレッシュ動作を内蔵のタイマー回路により自動的に
行うようにしたダイナミック型RAMがある。このよう
なダイナミック型RAMの例としては、特開昭60−8
3293号公報がある。
2. Description of the Related Art A memory cell of a dynamic RAM is
Composed of one MOSFET (insulated gate type field effect transistor, the same applies hereinafter) and one capacitor,
Information is stored depending on the presence / absence of charges held in the capacitor. Therefore, a refresh operation is required in which the charge held in the capacitor is read out, amplified, and rewritten before being lost due to the leak current. There is a dynamic RAM in which such a refresh operation is automatically performed by a built-in timer circuit. An example of such a dynamic RAM is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 60-8.
There is a 3293 publication.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ダイナミック型メモリ
セルの情報保持時間は温度依存性を持ち、高温度ではリ
ーク電流が増大して保持時間が短くなる。本願発明者の
実験によれば、高温度時では室温時より1桁以上も短く
なってしまう。しかし、上記公報のダイナミック型RA
Mでは、メモリアレイ周辺においてリークの多いメモリ
セル部を用いるだけで、半導体基板上での熱の流れによ
る温度分布の変化や、他回路による少数キャリアの影響
が考慮されておらず、リフレッシュ周期の制御には不十
分なものであると言わざる得ない。
Information retention time of a dynamic memory cell has temperature dependency, and at high temperature, leakage current increases and retention time becomes short. According to the experiments by the inventor of the present application, at high temperature, it becomes shorter than that at room temperature by one digit or more. However, the dynamic RA of the above publication
In M, only the memory cell portion having a large amount of leakage around the memory array is used, the change in temperature distribution due to the heat flow on the semiconductor substrate and the influence of minority carriers due to other circuits are not taken into consideration. It must be said that the control is insufficient.

【0004】この発明の目的は、最適な自動リフレッシ
ュ周期の設定を実現したダイナミック型RAMを提供す
ることにある。この発明の前記ならびにそのほかの目的
と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明
らかになるであろう。
An object of the present invention is to provide a dynamic RAM which realizes the optimum automatic refresh cycle setting. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、自動リフレッシュ制御回路
のリフレッシュ周期を決定するタイマー回路をダイナミ
ック型RAMが形成される半導体基板上における熱放出
の遅い領域に配置する。
The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, a timer circuit that determines the refresh cycle of the automatic refresh control circuit is arranged in a region where heat is released slowly on the semiconductor substrate on which the dynamic RAM is formed.

【0006】[0006]

【作用】上記した手段によれば、半導体基板上での放熱
条件の悪い部分にタイマー回路が設けられるので、メモ
リセルのリフレッシュ時間が実力より長くなるという不
都合の虞れがなく、ダイナミック型メモリセルに対して
信頼性の高い情報保持動作を行わせることができる。
According to the above-mentioned means, since the timer circuit is provided in the portion on the semiconductor substrate where the heat dissipation condition is bad, there is no fear that the refresh time of the memory cell will be longer than it actually is, and the dynamic memory cell Can perform a highly reliable information holding operation.

【0007】[0007]

【実施例】図1には、この発明に係るダイナミック型R
AMの一実施例の概略チップレイアウト図が示されてい
る。同図において半導体チップ1は、縦長の長方形に形
成される。半導体チップ1の上と下の短辺に沿って複数
からなるボンディングパッド2が形成される。メモリア
レイ3は、チップの上下に分けて配置される。上記2つ
のメモリアレイ3に挟まれた中央部にリフレッシュ用の
タイマー回路4が配置される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a dynamic type R according to the present invention.
A schematic chip layout diagram of one embodiment of an AM is shown. In the figure, the semiconductor chip 1 is formed in a vertically long rectangle. A plurality of bonding pads 2 are formed along the upper and lower short sides of the semiconductor chip 1. The memory array 3 is arranged above and below the chip. A timer circuit 4 for refreshing is arranged in the central portion between the two memory arrays 3.

【0008】ダイナミック型RAMにあっては、メモリ
アレイ3に形成されたメモリセルを選択するためのアド
レス選択回路、アドレス信号を取り込むためのアドレス
バッファ、書き込みデータの取り込みを行うデータ入力
バッファ、メモリセルからの読み出し信号を増幅するメ
インアンプやデータ出力バッファや、制御信号を受けて
内部回路の動作に必要な各種タイミング信号を発生させ
る制御回路等を必要とするが、これらはまとめてメモリ
アレイ3に含まれるものと理解されたい。また、自動リ
フレッシュ制御回路は、タイマー回路4に含まれるもの
であってもよいし、制御回路に含まれるものであっても
よい。
In the dynamic RAM, an address selection circuit for selecting a memory cell formed in the memory array 3, an address buffer for capturing an address signal, a data input buffer for capturing write data, and a memory cell. A main amplifier and a data output buffer for amplifying a read signal from the CPU, a control circuit for receiving a control signal and generating various timing signals necessary for the operation of the internal circuit, and the like are required. It should be understood to be included. Further, the automatic refresh control circuit may be included in the timer circuit 4 or may be included in the control circuit.

【0009】なお、実際には公知のダイナミック型RA
Mと同様にアドレスバッファやデータ入力バッファ及び
データ出力バッファのような入出力回路は、上記のよう
なボンディングパッドに近く配置され、アドレスデコー
ダやワード線ドライバ、カラムスイッチ回路やデータ入
出力線等はメモリアレイに隣接した所定の位置に配置
さ、メモリアレイを構成する相補データ線にはセンスア
ンプやプリチャージ回路が接続される。シェアードセン
スアンプ方式のものでは、センスアンプが相補データ線
に直接に接続されるのではくなく、選択用のスイッチM
OSFETを介して左右の相補データ線に対して選択的
に接続される。
[0009] Actually, a known dynamic RA
Like M, the input / output circuits such as the address buffer, the data input buffer, and the data output buffer are arranged close to the bonding pads as described above, and the address decoder, word line driver, column switch circuit, data input / output line, etc. A sense amplifier and a precharge circuit are connected to complementary data lines which are arranged at a predetermined position adjacent to the memory array and which constitute the memory array. In the shared sense amplifier type, the sense amplifier is not directly connected to the complementary data line, but the selection switch M.
It is selectively connected to the left and right complementary data lines via the OSFET.

【0010】この実施例のように半導体チップ1におけ
るメモリアレイ3に挟まれた中央部にタイマー回路4を
配置するのは、次のような理由によるものである。放熱
フィンを持たない半導体パッケージにおいては、半導体
チップで発生した熱が主としてボンディングパッドから
ボンディングワイヤー、リードフレーム(リード引き出
しピン)へ流れる。このため、動作状態の半導体集積回
路装置では、熱の発生源である回路素子の温度は高く、
ボンディングパッドに近づくほど温度が低くなる。
The timer circuit 4 is arranged in the central portion of the semiconductor chip 1 between the memory arrays 3 as in this embodiment for the following reason. In a semiconductor package having no heat radiation fin, the heat generated in the semiconductor chip mainly flows from the bonding pad to the bonding wire and the lead frame (lead extraction pin). Therefore, in the operating semiconductor integrated circuit device, the temperature of the circuit element that is the heat generation source is high,
The temperature gets lower as it gets closer to the bonding pad.

【0011】ダイナミック型RAMが、上記のような動
作状態からデータ保持モード(自動リフレッシュモー
ド)に入ると、半導体チップ1内で発生した熱がボンデ
ィングパッドに向かって流れて温度勾配ができることに
なる。そこで、このような温度勾配を配慮しないで、例
えば図6に示すようにチップ周辺であって、ボンディン
グパッド2に近い位置にタイマー回路4を配置したので
は、上記の温度勾配に従って比較的低い温度によりタイ
マー回路4が作動し、中央部のように高温度中で動作す
るメモリセルのリフレッシュ時間の実力よりも1桁も長
くなるような時間設定をしてしまう虞れがある。
When the dynamic RAM enters the data holding mode (automatic refresh mode) from the above operating state, the heat generated in the semiconductor chip 1 flows toward the bonding pad and a temperature gradient is generated. Therefore, without considering such a temperature gradient, for example, as shown in FIG. 6, if the timer circuit 4 is arranged at a position near the bonding pad 2 on the periphery of the chip, a relatively low temperature is obtained according to the temperature gradient. As a result, the timer circuit 4 is activated, and there is a possibility that the time is set to be one digit longer than the refresh time of the memory cell that operates in a high temperature such as the central portion.

【0012】図1の実施例では、最も放熱的には条件の
悪い半導体チップ1の中央部にタイマー回路4が配置さ
れている。この部分は、ダイナミック型RAMが動作状
態からデータ保持モード(自動リフレッシュモード)に
入るときに半導体チップ1に発生する温度分布のうち最
後まで高温に留まる領域であり、そこにタイマー回路4
を配置させて、この高温度に対応したリフレッシュ周期
を決定するようにするものである。したがって、タイマ
ー回路4は、それよりも放熱的には条件の良い領域に配
置されるメモリセルのリフレッシュ時間の実力よりも長
くなるような時間設定をしてしまうことはない。
In the embodiment shown in FIG. 1, the timer circuit 4 is arranged in the central portion of the semiconductor chip 1 which has the worst heat dissipation conditions. This portion is an area where the temperature of the dynamic RAM remains high until the end of the temperature distribution generated in the semiconductor chip 1 when the dynamic RAM enters the data retention mode (automatic refresh mode), and the timer circuit 4 is provided there.
Are arranged so that the refresh cycle corresponding to this high temperature is determined. Therefore, the timer circuit 4 never sets a time longer than the ability of the refresh time of the memory cells arranged in the region having better heat dissipation conditions.

【0013】図1において、タイマー回路4を示した位
置は、そこに全部にタイマー回路が形成されるという意
味ではない。ブロック4で示された位置にタイマー回路
が存在すれば良いという意味である。すなわち、タイマ
ー回路そのものは、基本的にはダイナミック型メモリセ
ルと同様にキャパシタとチャージアップを行うMOSF
ETから構成され、上記キャパシタの保持電圧を検出す
る電圧検出手段等から構成される比較的簡単な回路によ
り形成できるからである。ただし、このダイナミック型
メモリセルは、キャパシタの容量を等価的に小さくし
て、電荷保持時間を短くできる素子の構造とされる。
In FIG. 1, the position where the timer circuit 4 is shown does not mean that the timer circuit is entirely formed there. This means that the timer circuit may be present at the position indicated by block 4. That is, the timer circuit itself is basically a MOSF that performs charge-up with a capacitor like a dynamic memory cell.
This is because it can be formed by a relatively simple circuit that is composed of ET and that is composed of voltage detection means for detecting the holding voltage of the capacitor. However, this dynamic memory cell has an element structure in which the capacitance of the capacitor is equivalently reduced and the charge retention time can be shortened.

【0014】図2には、この発明に係るダイナミック型
RAMの他の一実施例の概略チップレイアウト図が示さ
れている。同図において半導体チップ1は、縦長の長方
形に形成される。この実施例では、半導体チップ1の4
つの辺に沿って複数からなるボンディングパッド2が形
成される。メモリアレイ3は、チップの上下に分けて配
置される。このように4辺に沿ってボンディングパッド
2が配置されるときには、左右のボンディングパッド2
からも離れた半導体チップ1の中央部分の比較的狭い範
囲にリフレッシュ用のタイマー回路4が配置される。こ
の構成により、タイマー回路4は、上記同様にそれより
も放熱的には条件の良い領域に配置されるメモリセルの
リフレッシュ時間の実力よりも長くなるような時間設定
をしてしまうことはない。
FIG. 2 is a schematic chip layout diagram of another embodiment of the dynamic RAM according to the present invention. In the figure, the semiconductor chip 1 is formed in a vertically long rectangle. In this embodiment, four of the semiconductor chips 1 are used.
A plurality of bonding pads 2 are formed along one side. The memory array 3 is arranged above and below the chip. When the bonding pads 2 are arranged along the four sides in this manner, the left and right bonding pads 2 are arranged.
A timer circuit 4 for refreshing is arranged in a relatively narrow range in the central portion of the semiconductor chip 1 away from the. With this configuration, the timer circuit 4 does not set the time longer than the ability of the refresh time of the memory cells arranged in the region where the heat dissipation is better than the above, similarly to the above.

【0015】図3には、この発明に係るダイナミック型
RAMの他の一実施例の概略チップレイアウト図が示さ
れている。同図において半導体チップ1は、縦長の長方
形に形成される。この実施例では、半導体チップ1の縦
中央部にボンディングパッド2が形成される。このよう
な半導体チップ1の中央部にボンディングパッド2を配
置した場合、LOC(リード・オン・チップ)技術が利
用される。
FIG. 3 is a schematic chip layout diagram of another embodiment of the dynamic RAM according to the present invention. In the figure, the semiconductor chip 1 is formed in a vertically long rectangle. In this embodiment, the bonding pad 2 is formed at the vertical center of the semiconductor chip 1. When the bonding pad 2 is arranged at the center of the semiconductor chip 1 as described above, the LOC (lead-on-chip) technique is used.

【0016】LOCでは、ダイナミック型RAMを構成
する半導体チップに対して絶縁用のフィルムを介してリ
ードの下側と接着剤を用いて結合させる。これら各リー
ドの先端は、金ワイヤー(ボンディングワイヤー)によ
り半導体チップ1の中央に縦に並んで配置されたボンデ
ィングパッド2に接続させる。なお、半導体チップ1の
中央部にボンディングパッドを挟むように電源電圧と回
路の接地電位を供給する2つの電源供給用のバスバーリ
ードを配置し、複数箇所で適宜に電源供給用や接地電位
供給用のボンディングパッドに接続させて、電源インピ
ーダンスを低く抑えるようにすることもできる。
In the LOC, the semiconductor chip forming the dynamic RAM is bonded to the lower side of the lead with an adhesive through an insulating film. The tip of each of these leads is connected to a bonding pad 2 vertically arranged in the center of the semiconductor chip 1 by a gold wire (bonding wire). It should be noted that two power supply busbar leads for supplying the power supply voltage and the ground potential of the circuit are arranged in the central portion of the semiconductor chip 1 so as to sandwich the bonding pad, and the power supply and the ground potential are appropriately provided at a plurality of locations. The power supply impedance can be suppressed to a low level by connecting to the bonding pad of.

【0017】特に制限されないが、メモリアレイ3は、
半導体チップ1のボンディングパッド2が配列される縦
中央部と、上記タイマー回路4が形成される横中央部に
よって4つに分割される。上記のようなLOC構造を採
るときには、縦中央に配列されるボンディングパッド2
から離れたチップの周辺において、上記のようにタイマ
ー回路4が形成される。この構成により、タイマー回路
4は、上記同様にそれよりも放熱的には条件の良い領域
に配置されるメモリセルのリフレッシュ時間の実力より
も長くなるような時間設定をしてしまうことはない。
Although not particularly limited, the memory array 3 is
The semiconductor chip 1 is divided into four parts by the vertical center part in which the bonding pads 2 are arranged and the horizontal center part in which the timer circuit 4 is formed. When adopting the LOC structure as described above, the bonding pads 2 arranged in the vertical center are arranged.
The timer circuit 4 is formed as described above around the chip away from the chip. With this configuration, the timer circuit 4 does not set the time longer than the ability of the refresh time of the memory cells arranged in the region where the heat dissipation is better than the above, similarly to the above.

【0018】図4には、この発明に係るダイナミック型
RAMの他の一実施例の概略チップレイアウト図が示さ
れている。同図の半導体チップ1は、縦長の長方形に形
成される。この実施例では、図3と同様に半導体チップ
1の縦中央部にボンディングパッド2が形成される。こ
のような半導体チップ1の中央部にボンディングパッド
2を配置した場合、LOC(リード・オン・チップ)技
術が利用される。
FIG. 4 is a schematic chip layout diagram of another embodiment of the dynamic RAM according to the present invention. The semiconductor chip 1 in the figure is formed in a vertically long rectangle. In this embodiment, the bonding pad 2 is formed in the vertical center portion of the semiconductor chip 1 as in FIG. When the bonding pad 2 is arranged at the center of the semiconductor chip 1 as described above, the LOC (lead-on-chip) technique is used.

【0019】半導体チップ1は、P型基板が用いられ、
Nチャンネル型MOSFETによりメモリセルが構成さ
れる。このようなNチャンネル型MOSFETを用いた
メモリセルでは、P型基板に流れる回路の少数キャリア
である電子により情報保持時間が短くされる。そこで、
タイマー回路を前記のような放熱条件の悪い箇所の他
に、少数キャリアを発生し易い入出力バッファ6や基板
電圧発生回路5に近接させてタイマー回路4を設けるも
のである。
The semiconductor chip 1 uses a P-type substrate,
A memory cell is composed of N-channel MOSFETs. In a memory cell using such an N-channel MOSFET, the information holding time is shortened by electrons which are minority carriers of the circuit flowing in the P-type substrate. Therefore,
The timer circuit 4 is provided close to the input / output buffer 6 and the substrate voltage generation circuit 5, which are likely to generate minority carriers, in addition to the above-mentioned location where the heat dissipation condition is bad.

【0020】すなわち、この実施例では前記のように放
熱条件が悪い箇所として、チップの左中央部と、少数キ
ャリアの発生し易い回路として基板電圧発生回路5に近
接した箇所、及び入出力バッファ6のうちの出力バッフ
ァに近接し箇所にタイマー回路4を配置するものであ
る。
That is, in this embodiment, as described above, the places where the heat dissipation conditions are bad are the left center part of the chip, the place near the substrate voltage generating circuit 5 as a circuit in which minority carriers are easily generated, and the input / output buffer 6. Of these, the timer circuit 4 is arranged in the vicinity of the output buffer.

【0021】上記のように複数箇所に分けて複数個のタ
イマー回路を設けた場合、その中の最も短い周期のもの
を用いて自動リフレッシュ動作が行われるようにされ
る。このような構成を採ることにより、ダイナミック型
メモリセルの電荷保持時間を短くする要因である温度と
少数キャリアを実質的にモニターしてリフレッシュ周期
を決定するので信頼性の高いダイナミック型メモリセル
の情報保持を実現できるものとなる。
When a plurality of timer circuits are provided at a plurality of locations as described above, the automatic refresh operation is performed using the one having the shortest cycle among them. By adopting such a configuration, the refresh cycle is determined by substantially monitoring the temperature and the minority carriers, which are factors that shorten the charge retention time of the dynamic memory cell, so that the information of the dynamic memory cell with high reliability is determined. Hold can be realized.

【0022】図5には、この発明に係る自動リフレッシ
ュ用のタイマー回路の一実施例のブロック図が示されて
いる。この実施例では、RTM1〜RTMnのようなn
個のリフレッシュタイマー回路を持ち、その出力信号を
オアゲート回路ORに供給してリフレッシュ周期を決定
するタイミングパルスφRTM を形成するとともに、それ
を各リフレッシュタイマー回路RTM1〜RTMnのリ
セット端子RESET に供給する。これにより、リフレッシ
ュ周期を決定するタイミングパルスφRTM は、上記複数
からなるリフレッシュタイマー回路RTM1〜RTMn
のうち最も短いタイマー出力により周期的に発生され
る。
FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of the timer circuit for automatic refreshing according to the present invention. In this example, n such as RTM1-RTMn
It has a plurality of refresh timer circuits, supplies its output signal to the OR gate circuit OR to form a timing pulse φ RTM for determining the refresh cycle, and supplies it to the reset terminal RESET of each refresh timer circuit RTM1 to RTMn. As a result, the timing pulse φ RTM that determines the refresh cycle is the refresh timer circuits RTM1 to RTMn composed of the above plurality.
It is generated periodically by the shortest timer output.

【0023】自動リフレッシュ制御回路は、上記タイミ
ングパルスφRTM を受けてリフレッシュ動作に必要なロ
ウ系のアドレス信号を発生させるアドレスカウンタ回路
と、自動リフレッシュモードの設定を受けてマルチプレ
クサを制御して外部のアドレス信号に代えてアドレスカ
ウンタ回路で形成された自動リフレッシュ用のアドレス
信号をロウ系のアドレス選択回路に供給したり、ロウ系
の動作に必要なタイミングパルスを発生したり、上記タ
イマー回路を活性化させる等の制御動作を行うものであ
り、公知のリフレッシュ制御回路そのものを利用できる
のでその説明を省略するものである。
The automatic refresh control circuit receives the timing pulse φ RTM and generates an address counter circuit for generating a row address signal necessary for a refresh operation, and an automatic refresh mode setting to control a multiplexer to control an external circuit. Instead of the address signal, an address signal for automatic refresh formed by an address counter circuit is supplied to a row address selection circuit, a timing pulse necessary for row operation is generated, and the timer circuit is activated. The control operation is performed, and the well-known refresh control circuit itself can be used, and the description thereof is omitted.

【0024】図5のリフレッシュタイマー回路RTM1
〜RTMnは、図4の実施例のように温度と少数キャリ
アを実質的にモニターするためのもの他、図1ないし図
3の実施例にも適用できるものである。例えば、図1な
いし図3の実施例においても、適宜に複数個からなるリ
フレッシュタイマー回路RTM1〜RTMnを設け、各
タイマー回路RTM1〜RTMnが設けられた場所によ
って温度勾配が同一ではないときには、もっとも悪い条
件のものに合わせてリフレッシュ周期を決定することが
できる。
Refresh timer circuit RTM1 of FIG.
˜RTMn is for substantially monitoring temperature and minority carriers as in the embodiment of FIG. 4, and is also applicable to the embodiments of FIGS. 1 to 3. For example, also in the embodiments shown in FIGS. 1 to 3, it is the worst when the plurality of refresh timer circuits RTM1 to RTMn are appropriately provided and the temperature gradients are not the same depending on the places where the timer circuits RTM1 to RTMn are provided. The refresh cycle can be determined according to the conditions.

【0025】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) 自動リフレッシュ制御回路のリフレッシュ周期
を決定するタイマー回路をダイナミック型RAMが形成
される半導体基板上における熱放出の遅い領域に配置す
ることにより、リフレッシュ周期がメモリセルのリフレ
ッシュ時間の実力より長くなるという不都合の虞れがな
く、ダイナミック型メモリセルに対して信頼性の高い情
報保持動作を行わせることができるという効果が得られ
る。
The operational effects obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) by arranging a timer circuit that determines the refresh cycle of the automatic refresh control circuit in a region where heat is released slowly on the semiconductor substrate on which the dynamic RAM is formed, the refresh cycle has an ability of the refresh time of the memory cell. The effect that the dynamic memory cell can perform the information holding operation with high reliability can be obtained without the fear of becoming longer.

【0026】(2) リフレッシュ周期を決定するタイ
マー回路を半導体基板上におけるボンディングパッドが
形成される部分から離れ領域に形成することにより、半
導体チップで発生した熱が主としてボンディングパッド
からボンディングワイヤー、リードフレーム(リード引
き出しピン)へ流れることから、リフレッシュ周期がメ
モリセルのリフレッシュ時間の実力より長くなるという
不都合の虞れがなく、ダイナミック型メモリセルに対し
て信頼性の高い情報保持動作を行わせることができると
いう効果が得られる。
(2) By forming the timer circuit for determining the refresh cycle in a region apart from the portion where the bonding pad is formed on the semiconductor substrate, the heat generated in the semiconductor chip is mainly generated from the bonding pad to the bonding wire and the lead frame. Since it flows to the (lead lead-out pin), there is no fear that the refresh cycle becomes longer than the refresh time of the memory cell, and it is possible to cause the dynamic memory cell to perform highly reliable information holding operation. The effect of being able to be obtained is obtained.

【0027】(3) 上記タイマー回路は、実質的にメ
モリセルと等価にされたダミーセル又は拡散層のリーク
電流を利用して構成され、基板電流が発生しやすい領域
に近接して配置させることにより、少数キャリアにより
ダイナミック型メモリセルの保持時間が短くされるとい
う要因に対しても対応できるから、ダイナミック型メモ
リセルに対して信頼性の高い情報保持動作を行わせるこ
とができるという効果が得られる。
(3) The timer circuit is constructed by utilizing the leak current of the dummy cell or the diffusion layer substantially equivalent to the memory cell, and is arranged in the vicinity of the region where the substrate current is likely to occur. Since it is possible to cope with the factor that the retention time of the dynamic memory cell is shortened by the minority carriers, it is possible to obtain the effect that the dynamic memory cell can perform a highly reliable information retention operation.

【0028】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、ダイ
ナミック型RAM全体のレイアウトは、種々の実施形態
を採ることができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, the layout of the entire dynamic RAM can adopt various embodiments.

【0029】[0029]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、自動リフレッシュ制御回路
のリフレッシュ周期を決定するタイマー回路をダイナミ
ック型RAMが形成される半導体基板上における熱放出
の遅い領域に配置することにより、リフレッシュ周期が
メモリセルのリフレッシュ時間の実力より長くなるとい
う不都合の虞れがなく、ダイナミック型メモリセルに対
して信頼性の高い情報保持動作を行わせることができ
る。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, by arranging the timer circuit that determines the refresh cycle of the automatic refresh control circuit in a region on the semiconductor substrate on which the dynamic RAM is formed, where heat is released slowly, the refresh cycle becomes longer than the refresh time of the memory cell. Therefore, it is possible to cause the dynamic memory cell to perform the information holding operation with high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係るダイナミック型RAMの一実施
例を示す概略チップレイアウト図である。
FIG. 1 is a schematic chip layout diagram showing an embodiment of a dynamic RAM according to the present invention.

【図2】この発明に係るダイナミック型RAMの他の一
実施例を示す概略チップレイアウト図である。
FIG. 2 is a schematic chip layout diagram showing another embodiment of the dynamic RAM according to the present invention.

【図3】この発明に係るダイナミック型RAMの他の一
実施例を示す概略チップレイアウト図である。
FIG. 3 is a schematic chip layout diagram showing another embodiment of the dynamic RAM according to the present invention.

【図4】この発明に係るダイナミック型RAMの他の一
実施例を示す概略チップレイアウト図である。
FIG. 4 is a schematic chip layout diagram showing another embodiment of the dynamic RAM according to the present invention.

【図5】この発明に係る自動リフレッシュ用のタイマー
回路の一実施例を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of an automatic refresh timer circuit according to the present invention.

【図6】この発明を説明するための従来のダイナミック
型RAMの一例を説明するための概略ブロック図であ
る。
FIG. 6 is a schematic block diagram for explaining an example of a conventional dynamic RAM for explaining the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体チップ、2…ボンディングパッド、3…メモ
リアレイ、4…タイマー回路、5…基板電圧発生回路、
6…入出力バッファ。RTM1〜RTMn…リフレッシ
ュタイマー回路、OR…オアゲート回路。
1 ... Semiconductor chip, 2 ... Bonding pad, 3 ... Memory array, 4 ... Timer circuit, 5 ... Substrate voltage generating circuit,
6 ... Input / output buffer. RTM1 to RTMn ... Refresh timer circuit, OR ... OR gate circuit.

フロントページの続き (72)発明者 小山 芳久 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Yoshihisa Koyama 5-201-1, Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitate Cho-LS Engineering Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 自動リフレッシュ制御回路を内蔵し、リ
フレッシュ周期を決定するタイマー回路を半導体基板上
における熱放出の遅い領域に形成してなることを特徴と
するダイナミック型RAM。
1. A dynamic RAM comprising a built-in automatic refresh control circuit and forming a timer circuit for determining a refresh cycle in a region on a semiconductor substrate where heat is released slowly.
【請求項2】 自動リフレッシュ制御回路を内蔵し、リ
フレッシュ周期を決定するタイマー回路を半導体基板上
におけるボンディングパッドが形成される部分から離れ
た領域に形成してなることを特徴とするダイナミック型
RAM。
2. A dynamic RAM comprising an automatic refresh control circuit and a timer circuit for determining a refresh cycle, which is formed in a region apart from a portion where a bonding pad is formed on a semiconductor substrate.
【請求項3】 上記タイマー回路は、実質的にメモリセ
ルと等価にされたダミーメモリセルセル又は拡散層のリ
ーク電流を利用して構成され、基板電流が発生しやすい
領域に近接して配置されるものであることを特徴とする
請求項1又は請求項2のダイナミック型RAM。
3. The timer circuit is configured by utilizing a leak current of a dummy memory cell cell or a diffusion layer which is substantially equivalent to a memory cell, and is arranged close to a region where a substrate current is likely to occur. The dynamic RAM according to claim 1 or 2, wherein the dynamic RAM is a memory.
【請求項4】 上記タイマー回路は複数個が異なる位置
に配置され、複数からなるタイマー出力のうち最も周期
の短いタイマー出力によリフレッシュ周期が決定される
ことを特徴とする請求項1、請求項2又は請求項3のダ
イナミック型RAM。
4. The refresh circuit according to claim 1, wherein a plurality of the timer circuits are arranged at different positions, and the refresh cycle is determined by the timer output having the shortest cycle among the plurality of timer outputs. The dynamic RAM according to claim 2 or claim 3.
JP4207227A 1992-07-11 1992-07-11 Dynamic type ram Withdrawn JPH0628849A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6740423B2 (en) 2000-01-31 2004-05-25 Nichiha Corporation Colored building boards, manufacturing methods thereof

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