JPH06283112A - Electron gun - Google Patents

Electron gun

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Publication number
JPH06283112A
JPH06283112A JP5069556A JP6955693A JPH06283112A JP H06283112 A JPH06283112 A JP H06283112A JP 5069556 A JP5069556 A JP 5069556A JP 6955693 A JP6955693 A JP 6955693A JP H06283112 A JPH06283112 A JP H06283112A
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JP
Japan
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grid
main lens
vertical
horizontal
electron beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP5069556A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisakazu Yamane
久和 山根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Priority to CN94103105A priority patent/CN1093829A/en
Publication of JPH06283112A publication Critical patent/JPH06283112A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/48Electron guns
    • H01J29/50Electron guns two or more guns in a single vacuum space, e.g. for plural-ray tube

Abstract

PURPOSE:To provide an in-line type electron gun capable of improving resolution. CONSTITUTION:Laterally rectangular passing holes 2a are formed on the first grid 2, laterally rectangular passing holes 3a are formed on the first grid 2 side on the second grid 3, and circular passing holes 3b are formed on the opposite side. The object point position in the horizontal direction from a main lens at three pole sections is formed farther than the object point position in the vertical direction, and the emittance in the vertical direction is made smaller than the emittance in the horizontal direction. In order to form the main lens having the focal distance in the horizontal direction longer than the focal distance in the vertical direction, the third grid 4 formed with an elliptic passing hole 4b at the center on one face side and deformed elliptic passing holes 4a, 4c on both sides of it and the fourth grid 5 are provided. Electron beams are extended in the horizontal direction at the deflection center, they are hardly applied with a deflection aberration, they are made almost a completely round, and resolution is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば3本の電子ビー
ムを一水平面上に放射するインライン型の電子銃に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an in-line type electron gun which emits, for example, three electron beams on one horizontal plane.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10は従来のインライン型電子銃を備え
た陰極線管の3極部の構成を示す模式図であり、電子ビ
ームの内、1本のみを示している。図示しない陰極線管
の管軸に沿って、円形のカソード1と、カソード1から
放出された電子ビームを通過させる円形の通過孔12a を
有する第1グリッド12と、第1グリッド12側に円形の電
子ビームの通過孔13a が形成され、反対側に横長矩形の
通過孔13b が形成された第2グリッド13と、第2グリッ
ド13と共にプリフォーカスレンズを構成するためのフォ
ーカス電極(第3グリッド)14と、フォーカス電極14と
共に主レンズを構成するための高圧電極(第4グリッ
ド)15とがこの順に備えられており、陰極線管の正面に
は集束された電子ビームが射突することにより発光する
蛍光面を備えたスクリーン16が設けられている。
2. Description of the Related Art FIG. 10 is a schematic view showing a structure of a triode of a cathode ray tube equipped with a conventional in-line type electron gun, and shows only one electron beam. A circular cathode 1, a first grid 12 having a circular passage hole 12a for passing an electron beam emitted from the cathode 1, and a circular electron on the first grid 12 side are arranged along the tube axis of a cathode ray tube (not shown). A second grid 13 in which a beam passage hole 13a is formed and a laterally long rectangular passage hole 13b is formed on the opposite side, and a focus electrode (third grid) 14 for forming a prefocus lens together with the second grid 13. , A focus electrode 14 and a high-voltage electrode (fourth grid) 15 for constituting a main lens are provided in this order, and a fluorescent screen which emits light when a focused electron beam strikes in front of the cathode ray tube. Is provided with a screen 16.

【0003】第1グリッド12にはカソード1より低い電
圧を加え、カソード1,第1グリッド12間の電位差で電
子の量を制御して電子ビームを放射する。そして第2グ
リッド13に正電圧を印加することにより、第1グリッド
12の通過孔12a を通過した電子ビームは第2グリッド13
に吸引される。さらに第2グリッド13を通過した電子ビ
ームは第3,第4グリッド14,15に加えられる正電圧で
さらに加速,集束され所定の速度でスクリーン16に達す
る。
A voltage lower than that of the cathode 1 is applied to the first grid 12, the electron amount is controlled by the potential difference between the cathode 1 and the first grid 12, and an electron beam is emitted. By applying a positive voltage to the second grid 13, the first grid
The electron beam that has passed through the 12 through holes 12a is in the second grid 13
Is sucked into. Further, the electron beam passing through the second grid 13 is further accelerated and focused by the positive voltage applied to the third and fourth grids 14 and 15, and reaches the screen 16 at a predetermined speed.

【0004】図11は、以上の如き構成の電子銃における
電子ビームの軌道を示す説明図である。カソード面から
放射され、主レンズを通過した電子ビームは、スクリー
ン16における画面の各点を走査するために、陰極線管外
部に備えられた、例えば偏向ヨーク(図示せず)により
偏向される。Vは垂直方向最外の電子ビーム軌道を示
し、Hは水平方向最外の電子ビーム軌道を示している。
FIG. 11 is an explanatory view showing trajectories of electron beams in the electron gun having the above-mentioned structure. The electron beam emitted from the cathode surface and passing through the main lens is deflected by, for example, a deflection yoke (not shown) provided outside the cathode ray tube in order to scan each point of the screen on the screen 16. V indicates the outermost electron beam trajectory in the vertical direction, and H indicates the outermost electron beam trajectory in the horizontal direction.

【0005】一般に従来の陰極線管における電子ビーム
の偏向システムは、画面上で3本の電子ビームを自動的
に集中させることでダイナミック(動)コンバーゼンス
回路を不用とするものである。このために水平偏向磁界
をピンクッション状(糸巻状)に、また垂直偏向磁界を
バレル状(樽状)に非斉一に歪ませるセルフコンバーゼ
ンスシステムを採用している。このシステムは調整が容
易でコストが安く、コンバーゼンスの経時変化も少ない
等、多くの利点があり、現在広く用いられている。
Generally, a conventional electron beam deflection system in a cathode ray tube does not require a dynamic convergence circuit by automatically focusing three electron beams on a screen. For this reason, a self-convergence system is adopted that distorts the horizontal deflection magnetic field in a pincushion shape (pincushion shape) and the vertical deflection magnetic field in a barrel shape (barrel shape). This system has many advantages such as easy adjustment, low cost, and little change in convergence over time, and is widely used at present.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】図12は、主レンズ, ス
クリーン16間の電子ビームの軌道を示す説明図である。
主レンズにおける電子ビームの径DSM(iameter
ize in ain lens) の垂直径DSMvが大きいと偏向
収差を受け易く、またスクリーン16における電子ビーム
スポットの径DS(iameter ize)の垂直径DSvが
大きいと画面中央における解像度が悪くなる。従来は上
述のセルフコンバーゼンス用偏向ヨークが形成する非斉
一磁界のために生ずる4極磁界成分が、偏向された電子
ビームに非点収差を生じさせていた。そのため電子ビー
ムは垂直方向では集束作用、即ち偏向収差(歪)を受
け、その結果偏向されたビームスポットは垂直方向がオ
ーバーフォーカスとなり、画面周辺で上下方向に長く伸
びたハロー(過集束部)を生じて垂直解像度が劣化す
る。ここで例えば垂直方向をフォーカス電圧(集束電極
に印加する電圧)等を補正して垂直方向の集束を最適に
すると、最適フォーカスが維持されていた水平方向がア
ンダーフォーカスとなり、水平解像度が劣化するという
問題が生じる。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing the trajectory of the electron beam between the main lens and the screen 16.
Diameter of the electron beam in the main lens DSM (D iameter S
ize in M ain lens) susceptible to the deflection aberration perpendicular diameters DSMv is large, also the resolution is degraded in the center of the screen perpendicular diameters DSv large diameter DS of the electron beam spot (D iameter S ize) in the screen 16. Conventionally, the quadrupole magnetic field component generated due to the nonuniform magnetic field formed by the above-described self-convergence deflection yoke has caused astigmatism in the deflected electron beam. Therefore, the electron beam undergoes a focusing action, that is, deflection aberration (distortion) in the vertical direction, and as a result, the deflected beam spot becomes overfocus in the vertical direction, and a halo (overfocusing portion) that extends vertically in the peripheral portion of the screen As a result, the vertical resolution deteriorates. If, for example, the vertical direction is corrected by adjusting the focus voltage (voltage applied to the focusing electrode) or the like to optimize the vertical focusing, the horizontal direction in which the optimum focus is maintained becomes the underfocus and the horizontal resolution is deteriorated. The problem arises.

【0007】そこでこの問題を解決するために、従来の
インライン型電子銃ではプリフォーカスレンズ作用を強
くして電子ビームを絞り込み、偏向磁界内での電子ビー
ム径を小さく保って偏向収差の影響を受け難くする方法
が採られている。特に垂直方向の偏向収差を低減するた
めに、図12に示す如く、主レンズ内での電子ビーム径を
横長とすることが多く、実際には第2グリッド3の通過
孔3bの形状を横長スロットとして、第3グリッド4との
間に4極レンズ作用を保持させる方法が採られている。
In order to solve this problem, in the conventional in-line type electron gun, the action of the prefocus lens is strengthened to narrow down the electron beam, and the diameter of the electron beam in the deflection magnetic field is kept small to be influenced by the deflection aberration. The method of making it difficult is adopted. In particular, in order to reduce the deflection aberration in the vertical direction, as shown in FIG. 12, the electron beam diameter in the main lens is often made horizontally long, and in reality, the shape of the passage hole 3b of the second grid 3 is made to be horizontally long slot. As a method, a method of holding a quadrupole lens action with the third grid 4 is adopted.

【0008】しかしながら上述のようにプリフォーカス
レンズの作用を強くして電子ビームを絞り込む方法で
は、プリフォーカスレンズの倍率が増加し、仮想物点が
拡大されて電子ビームスポット径の増大を招く。従って
画面周辺の偏向収差が低減されても画面中央における電
子ビームスポット垂直径DSvが図12に示すように増大
し、画面中央部の解像度の低下を引き起こす。また図10
に示す横長の通過孔3bを使用し、その後のプリフォーカ
スレンズ等の4極レンズ作用のみで電子ビームを横長と
する方法は、カソード1から放射される電子ビームが円
形であるため限界がある。
However, in the method of narrowing the electron beam by strengthening the action of the prefocus lens as described above, the magnification of the prefocus lens is increased, the virtual object point is enlarged, and the electron beam spot diameter is increased. Therefore, even if the deflection aberration at the periphery of the screen is reduced, the vertical diameter DSv of the electron beam spot at the center of the screen is increased as shown in FIG. 12, and the resolution at the center of the screen is lowered. Fig. 10
There is a limit to the method of using the horizontally long passage hole 3b shown in (1) and then making the electron beam horizontally long only by the action of the quadrupole lens such as the prefocus lens because the electron beam emitted from the cathode 1 is circular.

【0009】仮に偏向中心で電子ビームを横長とするこ
とができても、図13に示すように画面中央で円形の電子
ビームスポット(最適フォーカス)を得ることができな
くなり、画面全体の解像度を良くすることは困難であ
る。本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであ
り、第1グリッド、及び第2グリッドの少なくとも第1
グリッド側の通過孔形状を、垂直方向よりも水平方向が
長い形状とすることにより偏向収差による歪を低減し、
所要のアスティグマ(水平方向のフォーカス電圧−垂直
方向のフォーカス電圧)を有する電極を備えることによ
り、画面中央部において高い解像度を得ることができる
インライン型電子銃を提供することを目的とする。
Even if the electron beam can be made horizontally long at the deflection center, it becomes impossible to obtain a circular electron beam spot (optimal focus) at the center of the screen as shown in FIG. 13, and the resolution of the entire screen is improved. Is difficult to do. The present invention has been made in view of such circumstances, and includes at least a first grid and a first grid.
Distortion due to deflection aberration is reduced by making the grid side passage hole shape longer in the horizontal direction than in the vertical direction,
An object of the present invention is to provide an in-line type electron gun that can obtain high resolution in the center of the screen by providing an electrode having a required stigma (horizontal focus voltage-vertical focus voltage).

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】第1発明に係る電子銃
は、3極部の水平方向の物点を垂直方向の物点より主レ
ンズ側から遠い位置に形成し、また3極部の垂直方向の
エミッタンスを水平方向のエミッタンスより小さくする
ため、第1グリッドに形成された通過孔、及び第2グリ
ッドの少なくとも第1グリッド側に形成された通過孔を
垂直方向よりも水平方向が長い形状となしてあることを
特徴とする。
In the electron gun according to the first aspect of the invention, the horizontal object point of the three-pole portion is formed at a position farther from the main lens side than the vertical object point, and the three-pole portion is vertical. In order to make the emittance in the horizontal direction smaller than the emittance in the horizontal direction, the through holes formed in the first grid and the through holes formed at least on the first grid side of the second grid have a shape in which the horizontal direction is longer than the vertical direction. It is characterized by being done.

【0011】第2発明に係る電子銃は、3極部の水平方
向の物点を垂直方向の物点より主レンズ側から遠い位置
に形成し、また3極部の垂直方向のエミッタンスを水平
方向のエミッタンスより小さくするため、第1グリッド
に形成された通過孔、及び第2グリッドの少なくとも第
1グリッド側に形成された通過孔を垂直方向よりも水平
方向が長い形状となしてあり、水平方向の焦点距離の長
さが、垂直方向の焦点距離の長さと同等か、又はそれ以
上である主レンズを形成する電極を備えることを特徴と
する。
In the electron gun according to the second invention, the horizontal object point of the three-pole portion is formed at a position farther from the main lens side than the vertical object point, and the vertical emittance of the three-pole portion is horizontal. In order to reduce the emittance of the first grid and the through holes formed on at least the first grid side of the second grid, the horizontal direction is longer than the vertical direction. Is provided with an electrode forming a main lens whose focal length is equal to or longer than the vertical focal length.

【0012】[0012]

【作用】第1グリッド及び第2グリッドの通過孔により
第1グリッドのカソード側と第2グリッド側に夫々4極
レンズが形成される。そしてカソード側の4極レンズ
は、電子ビームの質に作用し、第2グリッド側の4極レ
ンズは電子ビームの集束、即ち物点位置に作用する。従
って第1発明にあっては、第1グリッドの通過孔及び第
2グリッドの少なくとも第1グリッド側の通過孔形状
を、垂直方向よりも水平方向が長い形状とすることによ
り、主レンズ側からの3極部の水平方向の物点を垂直方
向の物点より遠い位置に形成する。これにより偏向中心
における電子ビームの垂直径を小さくして偏向収差を受
け難くすることができ、画面周辺部の解像度が増す。ま
た前述の通過孔形状により3極部の垂直方向のエミッタ
ンスが水平方向のエミッタンスより小さくしているの
で、従来装置において起こっていた垂直方向の解像度の
劣化を軽減することができる。
With the passage holes of the first grid and the second grid, quadrupole lenses are formed on the cathode side and the second grid side of the first grid, respectively. The quadrupole lens on the cathode side acts on the quality of the electron beam, and the quadrupole lens on the second grid side acts on the focusing of the electron beam, that is, the object point position. Therefore, in the first aspect of the invention, the shape of the passage holes of the first grid and the passage holes of at least the first grid side of the second grid are made longer in the horizontal direction than in the vertical direction, so that the main lens side The horizontal object point of the three-pole portion is formed at a position farther than the vertical object point. As a result, the vertical diameter of the electron beam at the deflection center can be reduced to make it difficult to receive the deflection aberration, and the resolution at the peripheral portion of the screen is increased. Further, since the vertical emittance of the three poles is made smaller than the horizontal emittance due to the shape of the through hole described above, it is possible to reduce the deterioration of the vertical resolution that has occurred in the conventional device.

【0013】第2発明にあっては、第1発明の効果に加
え、主レンズにおける水平方向の焦点距離が、垂直方向
の焦点距離と同等か、又はそれ以上とする、例えば主レ
ンズ部のアスティグマが0〜− 300Vとなるように設定
することにより、水平方向,垂直方向の物点位置差を補
正して、主レンズにおいて垂直径が水平径より小さい電
子ビームを画面では真円に近いビームスポット形状(最
適フォーカス)とすることができ、画面中央部における
解像度が高くなる。以上より画面全域で良好な解像度が
得られる。
According to the second invention, in addition to the effect of the first invention, the focal length in the horizontal direction of the main lens is equal to or longer than the focal length in the vertical direction. By setting the stigma to be 0 to -300 V, the difference in the object point position in the horizontal and vertical directions is corrected, and an electron beam whose vertical diameter is smaller than the horizontal diameter in the main lens is close to a perfect circle on the screen. The spot shape (optimal focus) can be obtained, and the resolution in the central portion of the screen becomes high. As described above, good resolution can be obtained over the entire screen.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明をその実施例を示す図面に基づ
き具体的に説明する。図1は、本発明に係るインライン
型の電子銃(以下本発明装置という)の3極部及び主レ
ンズ部の構成を示す模式図であり、3本の電子ビームを
放射する電子銃の場合を示している。図示しない陰極線
管の管軸に沿って、インラインに配列された3つの円形
のカソード1,1,1と、カソード1,1,1から放射
された電子ビームを加速し通過させる横長矩形の3つの
通過孔2a,2a,2aを有する第1グリッド2と、第1グリ
ッド2側に横長矩形の3つの通過孔3a,3a,3aが形成さ
れ、反対側に円形の3つの通過孔3b,3b,3bが形成され
た第2グリッド3と、第2グリッド3側に円形の3つの
通過孔4d,4d,4dを有し反対側に後述する形状の通過孔
4a, 4b, 4cを有するトラック状の電極である第3グリッ
ド4と、第3グリッド4側に通過孔4a, 4b, 4cを有する
トラック状の電極である第4グリッド5とがこの順に備
えられており、第2グリッド3の第3グリッド4側と第
3グリッド4の第2グリッド3側とでプリフォーカスレ
ンズを形成し、第3グリッド4の第4グリッド5側と第
4グリッド5の第3グリッド4側とで主レンズを形成す
るようになっている。そして陰極線管の正面には主レン
ズにより集束された電子ビームにより発光する蛍光面を
備えたスクリーン6が設けられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the drawings showing the embodiments. FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a three-pole part and a main lens part of an in-line type electron gun (hereinafter referred to as the device of the present invention) according to the present invention. In the case of an electron gun that emits three electron beams, Shows. Along the tube axis of a cathode ray tube (not shown), three circular cathodes 1, 1, 1 arranged inline, and three horizontally elongated rectangles for accelerating and passing the electron beam emitted from the cathodes 1, 1, 1 A first grid 2 having passing holes 2a, 2a, 2a, three horizontally-long rectangular passing holes 3a, 3a, 3a are formed on the first grid 2 side, and three circular passing holes 3b, 3b, on the opposite side. A second grid 3 having 3b formed therein and three circular passage holes 4d, 4d, 4d on the second grid 3 side, and a passage hole having a shape described later on the opposite side.
A third grid 4 which is a track-shaped electrode having 4a, 4b and 4c, and a fourth grid 5 which is a track-shaped electrode having through holes 4a, 4b and 4c on the side of the third grid 4 are provided in this order. Therefore, a prefocus lens is formed by the third grid 4 side of the second grid 3 and the second grid 3 side of the third grid 4, and the fourth grid 5 side of the third grid 4 and the fourth grid 5 side of the fourth grid 5 are formed. The main lens is formed with the 3 grid 4 side. A screen 6 having a fluorescent screen which emits light by an electron beam focused by a main lens is provided on the front surface of the cathode ray tube.

【0015】図2は、第2グリッド3を示す模式図であ
る。図2(a) は断面図、図2(b) は第1グリッド2側か
ら見た側面図、図2(c) はスクリーン側から見た側面図
を夫々示している。第2グリッド3の第1グリッド2側
には横長矩形の通過孔3aが形成されており、スクリーン
6側には通過孔3aより径が小さい円形の通過孔3bが形成
されている。以上の如き第1グリッド2及び第2グリッ
ド3の構成により、第1グリッド2のカソード1側,第
2グリッド3側の夫々に4極レンズを作り出している。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the second grid 3. 2A is a sectional view, FIG. 2B is a side view as seen from the first grid 2 side, and FIG. 2C is a side view as seen from the screen side. A laterally long rectangular passage hole 3a is formed on the first grid 2 side of the second grid 3, and a circular passage hole 3b having a smaller diameter than the passage hole 3a is formed on the screen 6 side. With the configuration of the first grid 2 and the second grid 3 as described above, a quadrupole lens is created on each of the cathode 1 side and the second grid 3 side of the first grid 2.

【0016】図3は主レンズを形成する第3グリッド4
(又は第4グリッド5)の一面側を示す模式図であり、
図3(a) は斜視図であり、図3(b) は正面図である。第
3グリッド4は、3つの通過孔4a, 4b, 4cを有する長円
形のプレート41が、プレート41と同形の開口部を形成す
る高さHvのトラック状電極42の一側に嵌合されたもの
である。プレート41の中央に位置する通過孔4bは、長軸
がCv,短軸がCh(Cv>Ch)の楕円形である。通
過孔4bの両側の通過孔4a, 4cは線対称の同形であり、通
過孔4b側の半分が長軸がCv,短軸がChの楕円弧、外
側の半分が半径Sr(Cv>Sr>Ch)の円弧である
異形楕円形をなしている。第3グリッド4及び第4グリ
ッド5が備える通過孔4a, 4b, 4cは前記管軸方向に所定
距離を隔ててプレート41側が相対向する態様で配置さ
れ、主レンズを形成している。
FIG. 3 shows a third grid 4 forming the main lens.
(Or a fourth grid 5) is a schematic view showing one surface side,
3 (a) is a perspective view and FIG. 3 (b) is a front view. In the third grid 4, an elliptical plate 41 having three through holes 4a, 4b, 4c is fitted to one side of a track-shaped electrode 42 having a height Hv forming an opening having the same shape as the plate 41. It is a thing. The passage hole 4b located at the center of the plate 41 has an elliptical shape with a major axis Cv and a minor axis Ch (Cv> Ch). The passage holes 4a and 4c on both sides of the passage hole 4b have the same line-symmetrical shape. The half on the passage hole 4b side is an elliptic arc with the major axis Cv and the minor axis Ch, and the outside half has a radius Sr (Cv>Sr> Ch). ) Has an elliptical shape that is a circular arc. The through holes 4a, 4b, 4c provided in the third grid 4 and the fourth grid 5 are arranged in such a manner that the plate 41 sides face each other at a predetermined distance in the tube axis direction and form a main lens.

【0017】なお第3グリッド4を構成するトラック状
電極42の他面側には前述の如く円形の3つの通過孔4d,
4d,4dを有するプレートが嵌合されており、第4グリッ
ド5を構成するトラック状電極42の他面側は開口状態で
ある。前記主レンズのフォーカス特性(アスティグマ特
性)は、各通過孔4a, 4b, 4cの形状,大きさ及びトラッ
ク状電極42の形状,深さを変えることにより、所望の特
性を得ることができる。本実施例では0〜− 300Vを得
るように設定してある。
On the other surface side of the track-shaped electrode 42 forming the third grid 4, three circular through holes 4d,
Plates having 4d and 4d are fitted, and the other surface side of the track-shaped electrode 42 forming the fourth grid 5 is in an open state. As for the focus characteristics (astigma characteristics) of the main lens, desired characteristics can be obtained by changing the shapes and sizes of the through holes 4a, 4b, 4c and the shapes and depths of the track-shaped electrodes 42. In this embodiment, it is set to obtain 0 to -300V.

【0018】以上の如き構成の本発明装置において、カ
ソード1から放射された電子ビームは、第1グリッド2
の通過孔を通過し、第2グリッド3に吸引,加速され、
さらにプリフォーカスレンズ,主レンズにて加速,集束
され所定の速度でスクリーン6に達する。
In the device of the present invention having the above structure, the electron beam emitted from the cathode 1 is emitted from the first grid 2
Passing through the passage hole of the second grid 3 is sucked and accelerated,
Further, it is accelerated and focused by the prefocus lens and the main lens and reaches the screen 6 at a predetermined speed.

【0019】図4は、本発明装置における電子ビームの
軌道を示す説明図であり、Vは垂直方向最外の電子ビー
ム軌道を示し、Hは水平方向最外の電子ビーム軌道を示
している。また図5はカソード1から主レンズまでの電
子ビームの軌道を示す説明図、図6は主レンズからスク
リーンまでの電子ビームの軌道を示す説明図、図7はこ
の軌道をビームクロスセクションを使用して示した説明
図である。本実施例のように第1グリッド2,第2グリ
ッド3及び主レンズ部を組み合わせることにより、まず
DSMvが従来より小さくなるため電子ビームの形状は
横長となり、偏向収差を受け難くなる。これにより画面
周辺部及び中央部の解像度は向上する。加えてDSvが
従来より小さくなって画面中央部のビームスポット形は
真円に近くなるので、画面中央部における解像度がさら
に高くなり、画面全域において高い解像度が得られる。
FIG. 4 is an explanatory view showing the trajectory of the electron beam in the device of the present invention, V indicates the outermost electron beam trajectory in the vertical direction, and H indicates the outermost electron beam trajectory in the horizontal direction. 5 is an explanatory diagram showing the trajectory of the electron beam from the cathode 1 to the main lens, FIG. 6 is an explanatory diagram showing the trajectory of the electron beam from the main lens to the screen, and FIG. 7 shows this trajectory using a beam cross section. FIG. By combining the first grid 2, the second grid 3 and the main lens portion as in this embodiment, the DSMv becomes smaller than the conventional one, so that the shape of the electron beam becomes laterally long and it becomes difficult to receive the deflection aberration. As a result, the resolution of the peripheral portion and the central portion of the screen is improved. In addition, since the DSv becomes smaller than in the conventional case and the beam spot shape at the center of the screen becomes closer to a perfect circle, the resolution at the center of the screen becomes higher and a high resolution can be obtained over the entire screen.

【0020】図8,図9は、第1グリッド2及び第2グ
リッド3の通過孔形状の他の実施例を示す模式図であ
る。図8では、第1グリッド2及び第2グリッド3の通
過孔をいずれも横長の矩形としている。また図9では第
1グリッド2及び第2グリッド3の通過孔を横長の楕円
形としている。図8,図9に示す如く、第1グリッド
2、及び第2グリッド3の少なくとも第1グリッド側の
通過孔形状を、水平方向が垂直方向より長い形状、例え
ば矩形,楕円形,長円形,卵形とすれば前述の実施例と
同様の効果が得られる。なお本実施例では、バイポテン
シャルの電子銃の場合について説明したが、多段集束形
の電子銃等、他の電子銃にも適用可能であることはいう
までもない。
FIGS. 8 and 9 are schematic views showing another embodiment of the shape of the through holes of the first grid 2 and the second grid 3. In FIG. 8, the passage holes of the first grid 2 and the second grid 3 are both horizontally long rectangles. Further, in FIG. 9, the passage holes of the first grid 2 and the second grid 3 have a horizontally long elliptical shape. As shown in FIG. 8 and FIG. 9, at least the first grid 2 and the second grid 3 have at least a first grid side through hole shape having a shape in which the horizontal direction is longer than the vertical direction, such as a rectangle, an ellipse, an oval, and an egg. With the shape, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained. In this embodiment, the case of the bipotential electron gun has been described, but it is needless to say that the present invention can be applied to other electron guns such as a multistage focusing electron gun.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように本発明に係る電子銃は、主
レンズ側からの3極部の水平方向の物点を垂直方向の物
点より遠い位置に形成することにより、偏向中心におけ
る電子ビームの垂直径を小さくして偏向収差を受け難く
することができ、画面周辺部の解像度が向上する。また
3極部の垂直方向のエミッタンスを水平方向のエミッタ
ンスより小さくすることにより、垂直方向の解像度の劣
化を軽減することができる。加えて主レンズにおける水
平方向の焦点距離が、垂直方向の焦点距離と同等か、又
は垂直方向の焦点距離より長い構成とすることにより、
偏向中心において垂直径が小さい電子ビームの画面にお
ける電子ビームスポットの垂直径を小さくすることがで
きるので、画面中央の解像度がさらに高くなり、画面全
域で良好な解像度が得られる等、本発明は優れた効果を
奏する。
As described above, the electron gun according to the present invention forms the electron at the deflection center by forming the horizontal object point of the three-pole part from the main lens side at a position farther than the vertical object point. The vertical diameter of the beam can be reduced to make it less susceptible to deflection aberrations, and the resolution in the peripheral area of the screen is improved. Further, by making the emittance in the vertical direction of the three-pole portion smaller than the emittance in the horizontal direction, deterioration of resolution in the vertical direction can be reduced. In addition, the horizontal focal length of the main lens is equivalent to the vertical focal length or longer than the vertical focal length.
Since the vertical diameter of the electron beam spot on the screen of the electron beam having a small vertical diameter at the deflection center can be reduced, the resolution at the center of the screen is further increased, and good resolution can be obtained over the entire screen. Produce the effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るインライン型電子銃の要部を示す
模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a main part of an in-line type electron gun according to the present invention.

【図2】図1における第2グリッドを示す模式図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a second grid in FIG.

【図3】図1における第3グリッドを示す模式図であ
る。
3 is a schematic diagram showing a third grid in FIG. 1. FIG.

【図4】図1に示す電子銃における電子ビームの軌道を
示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a trajectory of an electron beam in the electron gun shown in FIG.

【図5】図1に示す電子銃における電子ビームの軌道を
示す説明図である。
5 is an explanatory diagram showing a trajectory of an electron beam in the electron gun shown in FIG.

【図6】図1に示す電子銃における電子ビームの軌道を
示す説明図である。
6 is an explanatory diagram showing the trajectory of an electron beam in the electron gun shown in FIG.

【図7】図1に示す電子銃における電子ビームの軌道を
示す説明図である。
7 is an explanatory view showing the trajectory of an electron beam in the electron gun shown in FIG.

【図8】本発明における第1,第2グリッドの他の実施
例を示す模式図である。
FIG. 8 is a schematic view showing another embodiment of the first and second grids in the present invention.

【図9】本発明における第1,第2グリッドの他の実施
例を示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic view showing another embodiment of the first and second grids in the present invention.

【図10】従来のインライン型電子銃を備えた陰極線管
の3極部の構成を示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing a configuration of a triode portion of a cathode ray tube including a conventional in-line type electron gun.

【図11】図10に示す電子銃における電子ビームの軌
道を示す説明図である。
11 is an explanatory diagram showing the trajectory of an electron beam in the electron gun shown in FIG.

【図12】図10に示す電子銃における電子ビームの軌
道を示す説明図である。
12 is an explanatory diagram showing the trajectory of an electron beam in the electron gun shown in FIG.

【図13】図10に示す電子銃における電子ビームの軌
道を示す説明図である。
13 is an explanatory diagram showing the trajectory of an electron beam in the electron gun shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カソード 2 第1グリッド 3 第2グリッド 2a, 3a, 3b, 4a, 4b, 4c, 4d 通過孔 4 第3グリッド 5 第4グリッド 41 プレート 42 トラック状電極 6 スクリーン 1 Cathode 2 1st grid 3 2nd grid 2a, 3a, 3b, 4a, 4b, 4c, 4d through hole 4 3rd grid 5 4th grid 41 plate 42 track electrode 6 screen

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一平面上に複数の電子ビームを放射する
カソード及び前記電子ビームを加速して通過させる通過
孔を有する第1,第2のグリッドからなる3極部と、該
3極部を通過した複数の電子ビームをスクリーン上に集
束する主レンズ部とを備えるインライン型の電子銃にお
いて、前記3極部の水平方向の物点を垂直方向の物点よ
り前記主レンズ側から遠い位置に形成し、また前記3極
部の垂直方向のエミッタンスを水平方向のエミッタンス
より小さくするため、前記第1グリッドに形成された通
過孔、及び前記第2グリッドの少なくとも前記第1グリ
ッド側に形成された通過孔を垂直方向よりも水平方向が
長い形状となしてあることを特徴とする電子銃。
1. A three-pole part composed of a cathode emitting a plurality of electron beams on one plane and first and second grids having passage holes for accelerating and passing the electron beams, and the three-pole part. In an in-line type electron gun including a main lens unit that focuses a plurality of electron beams that have passed through on a screen, a horizontal object point of the three-pole unit is located farther from the main lens side than a vertical object point. In order to make the vertical emittance of the three-pole portion smaller than the horizontal emittance, the through holes formed in the first grid and the second grid are formed at least on the first grid side. An electron gun characterized in that the through hole has a shape in which the horizontal direction is longer than the vertical direction.
【請求項2】 一平面上に複数の電子ビームを放射する
カソード及び前記電子ビームを加速して通過させる通過
孔を有する第1,第2のグリッドからなる3極部と、該
3極部を通過した複数の電子ビームをスクリーン上に集
束する主レンズ部とを備えるインライン型の電子銃にお
いて、前記3極部の水平方向の物点を垂直方向の物点よ
り前記主レンズ側から遠い位置に形成し、また前記3極
部の垂直方向のエミッタンスを水平方向のエミッタンス
より小さくするため、前記第1グリッドに形成された通
過孔、及び前記第2グリッドの少なくとも前記第1グリ
ッド側に形成された通過孔を垂直方向よりも水平方向が
長い形状となしてあり、水平方向の焦点距離の長さが、
垂直方向の焦点距離の長さと同等か、又はそれ以上であ
る主レンズを形成する電極を備えることを特徴とする電
子銃。
2. A three-pole part composed of a cathode emitting a plurality of electron beams on one plane and first and second grids having passage holes for accelerating and passing the electron beams, and the three-pole part. In an in-line type electron gun including a main lens unit that focuses a plurality of electron beams that have passed through on a screen, a horizontal object point of the three-pole unit is located farther from the main lens side than a vertical object point. In order to make the vertical emittance of the three-pole portion smaller than the horizontal emittance, the through holes formed in the first grid and the second grid are formed at least on the first grid side. The through hole has a shape in which the horizontal direction is longer than the vertical direction, and the horizontal focal length is
An electron gun comprising an electrode forming a main lens having a length equal to or longer than a focal length in a vertical direction.
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