JPH0625010Y2 - Wafer delivery mechanism - Google Patents

Wafer delivery mechanism

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JPH0625010Y2
JPH0625010Y2 JP13647388U JP13647388U JPH0625010Y2 JP H0625010 Y2 JPH0625010 Y2 JP H0625010Y2 JP 13647388 U JP13647388 U JP 13647388U JP 13647388 U JP13647388 U JP 13647388U JP H0625010 Y2 JPH0625010 Y2 JP H0625010Y2
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JP
Japan
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wafer
lever
pin
rod
delivery mechanism
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勉 水村
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この考案による受渡し機構は、半導体の製造工程でウエ
ハの上面に形成した電子回路の検査を行なうプローバに
おいて、ウエハを載物用テーブルに搬入、搬出する機構
に係るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial field of application> The delivery mechanism according to the present invention is designed to transfer a wafer to a stage table in a prober for inspecting an electronic circuit formed on the upper surface of the wafer in a semiconductor manufacturing process. It relates to a mechanism for carrying out.

〈従来技術〉 プローバにおいて、ウエハを搬送するときウエハの上面
には多数の回路が作られているので、この上面に接触す
ることは望ましくない。またウエハは割れ易い材質で作
られているので静かに取扱う必要があり、かつ予じめ方
向を決められて送り込まれてくるので、その姿勢をその
ままウエハテーブルに移す必要がある。そこで従来技術
の一つとして、ベルヌーイチャックと呼ばれる吸着装置
によりウエハの外周を持って保持し、移送する方法が取
られてきた。しかしこの方法は、ウエハの上面を吸引し
て操作するので望ましくないとされている。
<Prior Art> Since many circuits are formed on the upper surface of the wafer when the wafer is transferred in the prober, it is not desirable to contact the upper surface. Further, since the wafer is made of a material that easily breaks, it needs to be handled gently, and since the wafer is sent in a predetermined direction, it is necessary to move its posture to the wafer table as it is. Therefore, as one of the conventional techniques, a method of holding and transferring the outer periphery of the wafer by a suction device called a Bernoulli chuck has been adopted. However, this method is not desirable because it operates by suctioning the top surface of the wafer.

また一部には、ウエハを下から支える方式が採用されて
いるが、テーブルに置くときの機構が複雑で高価につく
欠点がある。
In addition, a method of supporting the wafer from below is adopted in some of them, but it has a drawback that the mechanism for placing the wafer on the table is complicated and expensive.

〈本考案の問題解決方法〉 第1図によって本考案の構成の概要を示す。ウエハ3を
Aに示すようにベルト搬送機構2に載せ、さらに搬送機
構2を右方向に移動させる。Bにおいて載物用テーブル
1の直上まで正確に、かつ静かに運ぶ。このとき搬送機
構2はその中央部においてウエハ3を支えている。また
搬送機構の搬出入に邪魔にならない位置に、テーブル1
を貫通して複数本の、上下動できるピン4を上昇させ、
ウエハを下から支えて、搬送機構から浮かせる。次にC
の段階で搬送機構を左に移し、ピン4を下げ、Dでウエ
ハ3をテーブル1の上に静かに置く。本考案はピン4の
上下動機構に係るものである。なお従来方法ではウエハ
の下面を吸着保持して、テーブル上に搬送する方法があ
るが、このときにもテーブルを貫通するピン4で吸着保
持機構からウエハを受け取り、テーブル面に下げる。ま
た、プローバ天井から下向きに設置されているウエハ回
路の検査用触針と、ウエハの回路端子を接触させるため
の上下動機構をテーブルが有しており、本考案において
は、その上下動機構の一部を利用してピン4の上下運動
を行う。
<Problem Solving Method of the Present Invention> FIG. 1 shows an outline of the configuration of the present invention. The wafer 3 is placed on the belt transfer mechanism 2 as shown in A, and the transfer mechanism 2 is further moved to the right. At B, it is accurately and quietly carried to directly above the table 1 for loading. At this time, the transfer mechanism 2 supports the wafer 3 at its central portion. In addition, place the table 1 at a position that does not interfere with the loading and unloading of the transport mechanism.
A plurality of pins 4 that can move up and down through the
The wafer is supported from below and floated from the transfer mechanism. Then C
At the stage, the transfer mechanism is moved to the left, the pin 4 is lowered, and the wafer 3 is gently placed on the table 1 by D. The present invention relates to a vertical movement mechanism of the pin 4. In the conventional method, there is a method in which the lower surface of the wafer is suction-held and conveyed onto the table, but at this time also, the pin 4 penetrating the table receives the wafer from the suction-holding mechanism and lowers it to the table surface. In addition, the table has a vertical movement mechanism for contacting the circuit terminals of the wafer with a probe for inspecting the wafer circuit, which is installed downward from the prober ceiling. The part 4 is used to move the pin 4 up and down.

〈実施例〉 第2図において、テーブル1の中心軸5が固定部ベース
6の中に垂直に差し込まれる。また、固定部にはモータ
7が横向きに取り付けられ、そのモータ軸8には偏心カ
ム9が取り付けられている。テーブルの中心軸5の下端
はベアリングを介してカム9と係合している。モータ軸
8の他端には、第3図に示す形状のレバー10を取り付
ける。レバー10の先端には、固定部ベース6を貫通
し、垂直方向に上下動可能な垂直ロッド11の下端を接
触させる。このときロッド11は上下動はできるが、回
転はできないように取り付ける。垂直ロッド11の頂部
にリング12を固定する。リング12に複数本のピン4
を設置する。ピン4は偏心カム9の回転に同期し、ロッ
ド11・リング12を介して、上下動できるよう構成さ
れている。すなわち、第3図に示すように偏心カム9の
偏心量が最大の時、レバー10は水平位置(b位置)に
あり、そのときのピン4の先端は第2図に示すようにテ
ーブル1の上面より突出しないよう構成されている。さ
らに、レバー10はモータ7の回転によりb位置からc
位置まで旋回することができ、そのときのピン4の先端
はテーブル1の上面より突出するよう構成されている。
<Embodiment> In FIG. 2, the central axis 5 of the table 1 is vertically inserted into the fixed portion base 6. Further, a motor 7 is laterally attached to the fixed portion, and an eccentric cam 9 is attached to a motor shaft 8 thereof. The lower end of the central shaft 5 of the table is engaged with the cam 9 via a bearing. A lever 10 having the shape shown in FIG. 3 is attached to the other end of the motor shaft 8. The lower end of a vertical rod 11 that penetrates through the fixed portion base 6 and is vertically movable is brought into contact with the tip of the lever 10. At this time, the rod 11 is attached so that it can move up and down but cannot rotate. Fix the ring 12 on top of the vertical rod 11. Multiple pins 4 on ring 12
Set up. The pin 4 is configured to be capable of moving up and down in synchronization with the rotation of the eccentric cam 9 via the rod 11 and the ring 12. That is, as shown in FIG. 3, when the eccentric amount of the eccentric cam 9 is maximum, the lever 10 is in the horizontal position (position b), and the tip of the pin 4 at that time is the table 1 as shown in FIG. It is configured so as not to project from the upper surface. Further, the lever 10 is rotated from the position b to the position c by the rotation of the motor 7.
The pin 4 can be swung up to the position, and the tip of the pin 4 at that time projects from the upper surface of the table 1.

以上の構成において、モータ7が回転して偏心カム9
が、第3図のa〜b間を旋回すると、テーブル1が偏心
カム9に同期して上下動する。テーブル1上に載置され
たウエハの各チップの電極は、図示しない検出用触針に
接触し、連続して各チップの電気的特性を測定し良否の
判定を行う。この時レバー10も同時にb位置まで旋回
し、垂直ロッド11が上昇するが、ピン4の先端はテー
ブル1の上面より突出しないので、上記測定に支障をき
たすことはない。ウエハ上の全てのチップの測定が完了
すると、モータ7によりレバー10がb位置からc位置
に旋回し、それに伴ってロッド11、リング12を介し
てピン4がテーブル1の上面より突出し、測定を終えた
ウエハをテーブル1より浮上させる。この時、第1図に
おいてベルト搬送機構2が前進してウエハ3を受け取
る。次いでレバー10がc位置からb位置方向へ旋回
し、ピン4が後退し、支えられていたウエハがベルト搬
送機構に受渡されて搬送される。
In the above configuration, the motor 7 rotates to rotate the eccentric cam 9
However, when turning between a and b in FIG. 3, the table 1 moves up and down in synchronization with the eccentric cam 9. The electrode of each chip of the wafer placed on the table 1 contacts a detection stylus (not shown), and the electrical characteristics of each chip are continuously measured to determine the quality. At this time, the lever 10 also pivots to the b position at the same time and the vertical rod 11 rises, but the tip of the pin 4 does not protrude from the upper surface of the table 1, so that the above measurement is not hindered. When the measurement of all the chips on the wafer is completed, the lever 7 is swung from the position b to the position c by the motor 7, and accordingly, the pin 4 is projected from the upper surface of the table 1 via the rod 11 and the ring 12 to perform the measurement. The finished wafer is levitated from the table 1. At this time, in FIG. 1, the belt transfer mechanism 2 advances to receive the wafer 3. Next, the lever 10 pivots from the position c to the position b, the pin 4 retracts, and the supported wafer is transferred to the belt transfer mechanism and transferred.

新たに測定すべきウエハがベルト搬送機構によりテーブ
ル1上に搬入されてくると、レバー10がc位置まで旋
回し、ピン4の先端がテーブル1上より突出してウエハ
を受け取る。
When a new wafer to be measured is loaded onto the table 1 by the belt transport mechanism, the lever 10 pivots to the position c, and the tip of the pin 4 projects from the table 1 to receive the wafer.

次いでベルト搬送機構が後退して、レバー10がb位置
方向へ旋回して、ピン4が後退しウエハはテーブル1上
に載置されて、測定状態になる。
Next, the belt transport mechanism retracts, the lever 10 pivots in the direction of the position b, the pin 4 retracts, and the wafer is placed on the table 1 to be in the measurement state.

このようにして、測定のためにテーブルを上下させる機
構を利用してウエハ受渡し用のピンの上下動を容易に行
うことができる。
In this manner, the wafer transfer pins can be easily moved up and down by utilizing the mechanism for moving the table up and down for measurement.

〈効果〉 本考案に係る受渡し機構は、テーブルが備えている上下
動用モータ機構を使用するため、従来のピンの上下動機
構を付加されるテーブルと比較して構成部品が少なく、
製品費用を安くすることができる。
<Effect> Since the delivery mechanism according to the present invention uses the vertical movement motor mechanism provided in the table, the number of components is smaller than that of the conventional table to which the vertical movement mechanism of the pin is added.
Product cost can be reduced.

さらにテーブル重量を軽くすることができるためテーブ
ルの位置決め速度が速くなり、検査工程の時間短縮が可
能となる。
Furthermore, since the weight of the table can be reduced, the positioning speed of the table is increased, and the inspection process time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本考案が使用される状態の説明図、第2図は本
考案の構成を示す断面図、第3図は部分的側面図 1……ウエハテーブル 2……搬送機構 3……ウエハ 4……支持ピン 5……中心軸 7……テーブル上下駆動用モータ 10……レバー 11……垂直ロッド 12……リング
FIG. 1 is an explanatory view of a state in which the present invention is used, FIG. 2 is a sectional view showing the configuration of the present invention, and FIG. 3 is a partial side view 1 ... Wafer table 2 ... Transfer mechanism 3 ... Wafer 4 ... Support pin 5 ... Center shaft 7 ... Table vertical drive motor 10 ... Lever 11 ... Vertical rod 12 ... Ring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 B 7377−4M // B65G 47/52 C 8010−3F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical display location H01L 21/66 B 7377-4M // B65G 47/52 C 8010-3F

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】半導体ウエハの電気的特性を測定するため
のプロービングマシンにおいて、 前記半導体ウエハを載置するテーブルと、 固定ベースに垂直に差し込まれた前記テーブルの中心軸
下端部にベアリングを介して係合されたテーブルの上下
駆動用モータ軸に接続された偏心カムと、 前記モータ軸の他端に設けられたレバーと、 該レバーを介し上下動するロッドと、 該ロッドの頂部と結合され、前記テーブルを貫通し、ウ
エハを支える複数本のピンを設置したリングから構成さ
れるウエハ受渡し機構。
1. A probing machine for measuring electrical characteristics of a semiconductor wafer, comprising: a table on which the semiconductor wafer is placed; and a lower end of a central axis of the table vertically inserted into a fixed base via a bearing. An eccentric cam connected to the vertically driven motor shaft of the engaged table, a lever provided at the other end of the motor shaft, a rod that moves up and down through the lever, and a top portion of the rod, A wafer delivery mechanism comprising a ring that penetrates the table and has a plurality of pins for supporting the wafer.
JP13647388U 1988-10-19 1988-10-19 Wafer delivery mechanism Expired - Fee Related JPH0625010Y2 (en)

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JPH0258334U JPH0258334U (en) 1990-04-26
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JP2002164423A (en) * 2000-11-28 2002-06-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd Wafer holding apparatus with wafer lift
JP4745040B2 (en) * 2005-12-05 2011-08-10 東京エレクトロン株式会社 Substrate transport apparatus and substrate processing apparatus
JP6562305B2 (en) * 2015-12-03 2019-08-21 日本電気硝子株式会社 Sheet glass manufacturing method and manufacturing apparatus

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