JPH0623313A - Spin coating and its device - Google Patents
Spin coating and its deviceInfo
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- JPH0623313A JPH0623313A JP4245292A JP4245292A JPH0623313A JP H0623313 A JPH0623313 A JP H0623313A JP 4245292 A JP4245292 A JP 4245292A JP 4245292 A JP4245292 A JP 4245292A JP H0623313 A JPH0623313 A JP H0623313A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、基板表面に塗料、フォ
トレジスト等をスピンコーティングする方法およびその
装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for spin coating a substrate surface with a paint, a photoresist or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のスピンコーティング方法として
は、図１０に示すものが知られている。図１０（１）に
示すように、スピンナ４０の上に基板５０を固定し、塗
料等の液６０を吐出する吐出ノズル１０をスピンナ４０
の回転中心の上方に設け、スピンナ４０を停止または低
速スピンしている間に、吐出ノズル１０から液６０を所
定量、吐出する。その後、図１０（２）に示すように、
スピンナ４０を高速回転させ、基板５０の中央部に滴下
された液６０が遠心力によって、基板５０の周縁部分に
向かって広げられ、基板５０の上部表面の全面に液６０
が塗られ、これによってコーティング動作が終了する。
なお、スピンナ４０を高速回転させることによって液６
０が基板５０上で広がる途中で、液６０と基板５０の表
面との間の張力が、基板５０上で液６０が広がる動きに
対する抵抗力となるが、この抵抗力は液６０と基板５０
との境界線上に作用する。しかし、この場合、液６０の
全体に遠心力が作用しているので、液６０のうちで基板
５０と接触していない部分が分離し、液滴となり、基板
５０以外の部分へ飛散してしまう。この飛散した液滴
は、基板５０へのコーティングには寄与できなくなる。2. Description of the Related Art As a conventional spin coating method, one shown in FIG. 10 is known. As shown in FIG. 10A, the spinner 40 is provided with the substrate 50 fixed on the spinner 40, and the ejection nozzle 10 for ejecting the liquid 60 such as paint.
The liquid 60 is discharged from the discharge nozzle 10 by a predetermined amount while the spinner 40 is stopped or spins at low speed. After that, as shown in FIG.
The spinner 40 is rotated at a high speed, and the liquid 60 dropped on the central portion of the substrate 50 is spread toward the peripheral portion of the substrate 50 by the centrifugal force, and the liquid 60 is spread over the entire upper surface of the substrate 50.
Is applied, which ends the coating operation.
By rotating the spinner 40 at high speed, the liquid 6
While 0 spreads on the substrate 50, the tension between the liquid 60 and the surface of the substrate 50 serves as a resistance force against the spreading motion of the liquid 60 on the substrate 50.
It acts on the boundary between and. However, in this case, since the centrifugal force acts on the entire liquid 60, the portion of the liquid 60 that is not in contact with the substrate 50 is separated, becomes a droplet, and is scattered to a portion other than the substrate 50. . The scattered droplets cannot contribute to the coating on the substrate 50.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記従来例において
は、高速回転時に液６０が基板５０上を広がる途中で、
液６０の一部分が液滴となって次々に飛散するので、基
板５０上に存在する液６０の量が次第に減少する。一
方、基板５０上の液６０で作られる液膜が広がるにつれ
て、液６０と基板５０との境界線が次第に長くなるの
で、液６０と基板５０の表面との間の張力が大きくな
る。このように液６０と基板５０との境界線が次第に長
くなるに従って、液膜の外縁部に作用する遠心力も大き
くなるが、基板５０上の液６０の質量が小さくなるの
で、液６０と基板５０の表面との間の張力が急激に大き
くなり、この張力は遠心力と比較して急激に大きくな
る。この状態で、基板５０上に液６０が充分に残存せ
ず、しかも遠心力が充分でない場合には、液膜を充分に
広げることができず、塗り残しが生じたり、液の膜厚が
不均一になるという欠点がある。In the above-mentioned conventional example, while the liquid 60 spreads on the substrate 50 during high speed rotation,
Since a part of the liquid 60 becomes droplets and scatters one after another, the amount of the liquid 60 existing on the substrate 50 gradually decreases. On the other hand, as the liquid film formed by the liquid 60 on the substrate 50 spreads, the boundary line between the liquid 60 and the substrate 50 gradually lengthens, and thus the tension between the liquid 60 and the surface of the substrate 50 increases. Thus, as the boundary line between the liquid 60 and the substrate 50 gradually increases, the centrifugal force acting on the outer edge of the liquid film also increases, but the mass of the liquid 60 on the substrate 50 decreases, so the liquid 60 and the substrate 50. The tension between the surface and the surface suddenly increases, and this tension rapidly increases as compared with the centrifugal force. In this state, if the liquid 60 does not sufficiently remain on the substrate 50 and the centrifugal force is not sufficient, the liquid film cannot be sufficiently spread, and uncoating may occur, or the film thickness of the liquid may be insufficient. It has the drawback of being uniform.
【０００４】したがって、上記従来例においては、塗り
残しが生じないようにしたり、液膜厚を均一にするに
は、基板中央に滴下する液の量を、出来上がりのコーテ
ィング量よりも相当多くせざるを得ず、このために、滴
下液量を相当過剰に供給するという問題がある。Therefore, in the above-mentioned conventional example, the amount of the liquid dropped on the center of the substrate must be considerably larger than the finished coating amount in order to prevent the uncoated portion from remaining and to make the liquid film thickness uniform. Therefore, there is a problem in that the amount of the dropped liquid is supplied in a considerably excessive amount.
【０００５】本発明は、液の塗り残し、液膜の不均一を
防止することができ、しかも滴下液の過剰量を極力低下
させることができるスピンコーティング方法およびその
装置を提供することを目的とするものである。It is an object of the present invention to provide a spin coating method and apparatus capable of preventing uncoating of the liquid and nonuniformity of the liquid film and further reducing the excess amount of the dropped liquid as much as possible. To do.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、基板表面に滴
下された所定液を機械的に押すことによって、基板表面
の全域に液を薄く塗った後に、基板を高速で回転するも
のである。また、本発明は、基板表面に滴下された所定
液を機械的に押し広げることによって、基板の回転中心
を中心として液を円状に薄く塗った後に、基板を高速で
回転するものである。According to the present invention, a predetermined liquid dropped on the surface of a substrate is mechanically pressed to thinly coat the entire surface of the substrate and then the substrate is rotated at a high speed. . Further, according to the present invention, the predetermined liquid dropped onto the surface of the substrate is mechanically spread out to thinly apply the liquid in a circular shape around the rotation center of the substrate, and then the substrate is rotated at high speed.
【０００７】[0007]
【作用】本発明は、基板表面に滴下された所定液を機械
的に押し広げることによって、基板表面の全域に液を薄
く塗った後に、または基板の回転中心を中心として液を
円状に薄く塗った後に、基板を高速で回転するので、基
板における液の塗り残しがなく、液膜が均一になり、し
かも滴下液の過剰量を極力低下させることができる。The present invention mechanically spreads the prescribed liquid dropped on the surface of the substrate to thinly coat the liquid on the entire surface of the substrate, or thin the liquid in a circular shape around the rotation center of the substrate. Since the substrate is rotated at a high speed after coating, the liquid remains uncoated on the substrate, the liquid film becomes uniform, and the excess amount of the dropped liquid can be reduced as much as possible.
【０００８】[0008]
【実施例】図１は、本発明の一実施例の説明図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view of an embodiment of the present invention.
【０００９】この実施例において、供給管１０は、塗
料、フォトレジスト等の液６０を基板５０の表面に供給
する管であり、板状のドクターブレード２０は、基板５
０の表面に供給された液６０を機械的に押し広げる押圧
手段の一例である。なお、基板５０は、スピンナ４０の
回転部分に固定され、円板状を有するが、板状であれ
ば、方形等の非円形でもよい。また、直線運動機構等の
図示しない移動手段が設けられ、この移動手段は、液６
０が基板５０の表面の所定面（図１に示す実施例では、
上面）の全域に塗られる迄、ドクターブレード２０を基
板５０に対して移動し、しかも機械的に移動させる手段
である。なお、上記移動手段は、ドクターブレード２０
を固定し、スピンナ４０と基板５０とを移動するもので
あってもよく、つまり、ドクターブレード２０と基板５
０とを相対的にしかも機械的に移動させる手段である。
また、基板５０の周囲に、飛散した液滴を捕集するコー
ターハウスが設けられている。In this embodiment, the supply pipe 10 is a pipe for supplying a liquid 60 such as paint or photoresist to the surface of the substrate 50, and the plate-shaped doctor blade 20 is used for the substrate 5
It is an example of a pressing unit that mechanically spreads the liquid 60 supplied to the surface of No. 0. The substrate 50 is fixed to the rotating portion of the spinner 40 and has a disc shape, but may be a non-circular shape such as a square shape as long as it is a plate shape. Further, a moving means (not shown) such as a linear movement mechanism is provided, and this moving means is a liquid 6
0 is a predetermined surface of the surface of the substrate 50 (in the embodiment shown in FIG. 1,
It is a means for moving the doctor blade 20 relative to the substrate 50 and mechanically moving it until the entire area of the upper surface) is coated. The moving means is a doctor blade 20.
May be fixed and the spinner 40 and the substrate 50 may be moved, that is, the doctor blade 20 and the substrate 5 may be moved.
It is a means for moving 0 relative to each other and mechanically.
In addition, a coater house that collects the scattered droplets is provided around the substrate 50.
【００１０】次に、上記実施例の動作について説明す
る。Next, the operation of the above embodiment will be described.
【００１１】まず、図１（１）に示すように、コーティ
ングすべき基板５０をスピンナ４０の上に固定し、ドク
ターブレード２０を基板５０の図中、左端やや上にセッ
トし、供給管１０のノズルをドクターブレード２０の右
側部分にセットする。そして、供給管１０から液６０を
徐々に吐出しながら（または所定量を一度に吐出し）、
供給管１０とドクターブレード２０とを図中、右にスラ
イドすることによって液６０を引き延ばし、図１（２）
に示すように、ドクターブレード２０が基板５０の右端
に到達したときに、基板５０の上面の全域に薄い滴下液
膜が形成される。そして、供給管１０から液６０を吐出
することを停止するとともに、供給管１０とドクターブ
レード２０とを基板５０から退避させる。その後、図１
（３）に示すように、スピンナ４０を高速回転させる。
これによって、液６０の塗り残しが生じず、液６０の膜
が均一になり、しかもドクターブレード２０と基板５０
との間隔を適度に設定しておけば、滴下液の過剰量を極
力低下させることができる。First, as shown in FIG. 1A, a substrate 50 to be coated is fixed on a spinner 40, a doctor blade 20 is set slightly above the left end of the substrate 50 in the figure, and a supply pipe 10 is attached. The nozzle is set on the right side of the doctor blade 20. Then, while gradually discharging the liquid 60 from the supply pipe 10 (or discharging a predetermined amount at a time),
The liquid 60 is extended by sliding the supply pipe 10 and the doctor blade 20 to the right in the figure, and the liquid 60 is extended as shown in FIG.
As shown in, when the doctor blade 20 reaches the right end of the substrate 50, a thin dropped liquid film is formed on the entire upper surface of the substrate 50. Then, the discharge of the liquid 60 from the supply pipe 10 is stopped, and the supply pipe 10 and the doctor blade 20 are retracted from the substrate 50. Then, Figure 1
As shown in (3), the spinner 40 is rotated at high speed.
As a result, the uncoated portion of the liquid 60 does not occur, the film of the liquid 60 becomes uniform, and the doctor blade 20 and the substrate 50
If the interval between and is set appropriately, the excess amount of the dropped liquid can be reduced as much as possible.
【００１２】つまり、ドクターブレード２０と基板５０
との間隔は、ドクターブレード２０をスライドすること
によって液６０が基板５０の表面に塗られたときに塗り
残しが生じず（多少、塗り残しがあってもよい）、しか
もその後に高速回転したときに無駄な液が多量に飛散し
ない程度に、ドクターブレード２０と基板５０との間隔
が設定されている。なお、ドクターブレード２０をスラ
イドすることによって液６０が基板５０の表面に塗られ
たときに、多少、塗り残しがあってもよく、この塗り残
しは、その後の高速回転によって除去される。That is, the doctor blade 20 and the substrate 50
When the liquid 60 is applied to the surface of the substrate 50 by sliding the doctor blade 20, there is no unpainted portion left (some may be left unpainted), and when it is rotated at a high speed thereafter. The distance between the doctor blade 20 and the substrate 50 is set to such an extent that a large amount of unnecessary liquid does not scatter. When the liquid 60 is applied to the surface of the substrate 50 by sliding the doctor blade 20, there may be some unpainted residue, and this unpainted residue is removed by subsequent high-speed rotation.
【００１３】また、上記実施例において、板状のドクタ
ーブレード２０の代わりに、三角柱状のドクターブレー
ドを使用してもよい。Further, in the above embodiment, instead of the plate-shaped doctor blade 20, a triangular prism-shaped doctor blade may be used.
【００１４】図２は、本発明の他の実施例の説明図であ
る。FIG. 2 is an explanatory view of another embodiment of the present invention.
【００１５】この実施例は、図１に示す実施例におい
て、板状のドクターブレード２０の代わりに、円筒状の
ドクターロール２１を使用した場合の実施例である。な
お、ドクターロール２１を回転させる回転機構（図示せ
ず）と、吐出ノズル１０を移動させる直線運動機構とが
設けられている。図２（１）において、基板５０の図
中、左端で、供給管１０から液６０の吐出を開始し、図
２（２）において、供給管１０から液６０の供給を停止
し、図２（３）において、スピンナ４０を高速スピンす
る。この実施例の場合も、液６０の塗り残しが生じず、
液６０の膜が均一になり、しかもドクターロール２１と
基板５０との間隔を適度に設定しておけば、滴下液の過
剰量を極力低下させることができる。This embodiment is an embodiment in which a cylindrical doctor roll 21 is used instead of the plate-shaped doctor blade 20 in the embodiment shown in FIG. A rotation mechanism (not shown) that rotates the doctor roll 21 and a linear movement mechanism that moves the discharge nozzle 10 are provided. 2 (1), the discharge of the liquid 60 from the supply pipe 10 is started at the left end of the substrate 50 in the figure, and the supply of the liquid 60 from the supply pipe 10 is stopped in FIG. 2 (2). In 3), the spinner 40 is spun at high speed. Also in the case of this embodiment, there is no uncoated portion of the liquid 60,
If the film of the liquid 60 becomes uniform and the distance between the doctor roll 21 and the substrate 50 is set appropriately, the excess amount of the dropped liquid can be reduced as much as possible.
【００１６】図２の実施例においては、供給管１０から
液６０を供給しながら供給管１０とともにドクターロー
ル２１を図中、右に移動するときに、ドクターロール２
１を回転しても、回転しなくてもよい。なお、ドクター
ロール２１を回転する場合、その回転方向、回転速度
は、液６０の物性、膜厚の設定条件に応じて選択すれば
よい。In the embodiment of FIG. 2, when the doctor roll 21 is moved to the right in the figure together with the supply pipe 10 while supplying the liquid 60 from the supply pipe 10, the doctor roll 2
1 may or may not be rotated. When the doctor roll 21 is rotated, its rotation direction and rotation speed may be selected according to the physical properties of the liquid 60 and the setting conditions of the film thickness.
【００１７】図３は、本発明のさらに他の実施例の説明
図である。FIG. 3 is an explanatory view of still another embodiment of the present invention.
【００１８】図１に示す実施例においては、基板５０の
周縁にドクターブレード２０をセットし、そこから液６
０を塗り始めるが、図３に示す実施例においては、円板
状の基板５０に対して、その半径方向にドクターブレー
ド２２を設け、また、図１に示す供給管１０の代わり
に、複数の供給管１１が図３の実施例に設けられてい
る。さらに、図３の実施例においては、供給管１１から
液６０を徐々に供給しながら、ドクターブレード２２と
供給管１１とを、スピンナ４０の回転中心軸を中心とし
て回転し、ドクターブレード２２と供給管１１とが１回
転した後に、ドクターブレード２２と供給管１１とを基
板５０から退避させ、スピンナ４０を高速回転する。In the embodiment shown in FIG. 1, the doctor blade 20 is set on the periphery of the substrate 50, and the liquid 6
Although 0 is started to be applied, in the embodiment shown in FIG. 3, a doctor blade 22 is provided in the radial direction of the disk-shaped substrate 50, and instead of the supply pipe 10 shown in FIG. A supply pipe 11 is provided in the embodiment of FIG. Furthermore, in the embodiment of FIG. 3, while gradually supplying the liquid 60 from the supply pipe 11, the doctor blade 22 and the supply pipe 11 are rotated about the rotation center axis of the spinner 40 to supply the doctor blade 22 and the supply. After the tube 11 has rotated once, the doctor blade 22 and the supply tube 11 are retracted from the substrate 50, and the spinner 40 is rotated at high speed.
【００１９】図３の実施例の場合も、液６０の塗り残し
が生じず、液６０の膜が均一になり、しかもドクターブ
レード２２と基板５０との間隔を適度に設定しておけ
ば、滴下液の過剰量を極力低下させることができる。な
お、図３の実施例においては、ドクターブレード２２で
液６０を引き延ばすときに、円板状の基板５０からはみ
出る液６０の量が、図１、２の実施例の場合よりも少な
い。In the case of the embodiment shown in FIG. 3 as well, the uncoated portion of the liquid 60 does not occur, the film of the liquid 60 becomes uniform, and if the distance between the doctor blade 22 and the substrate 50 is set appropriately, the liquid drops. The excess amount of liquid can be reduced as much as possible. In the embodiment of FIG. 3, when the liquid 60 is extended by the doctor blade 22, the amount of the liquid 60 protruding from the disk-shaped substrate 50 is smaller than that in the embodiments of FIGS.
【００２０】図４、図５は、本発明の別の実施例の説明
図であり、図４に示す実施例は、図３の実施例における
ドクターブレード２２の代わりに、円筒状のドクターロ
ール２３を設けたものであり、図５に示す実施例は、図
４の実施例におけるドクターロール２３の代わりに、円
錐台状のドクターロール２４を設けたものである。な
お、図５の実施例によれば、ドクターロール２４と基板
５０との相対速度がドクターロール２４の軸方向で異な
ることがなく、したがって、より条件が厳しい液を使用
する場合に有効であり、また、仕上がり膜の条件が厳し
い場合に有効である。FIGS. 4 and 5 are explanatory views of another embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 4, instead of the doctor blade 22 in the embodiment of FIG. 3, a cylindrical doctor roll 23 is used. In the embodiment shown in FIG. 5, instead of the doctor roll 23 in the embodiment of FIG. 4, a truncated cone-shaped doctor roll 24 is provided. According to the embodiment of FIG. 5, the relative speed between the doctor roll 24 and the substrate 50 does not differ in the axial direction of the doctor roll 24, and therefore, it is effective when using a liquid under more severe conditions, It is also effective when the conditions of the finished film are severe.
【００２１】図６は、本発明のさらに別の実施例の説明
図である。FIG. 6 is an explanatory view of still another embodiment of the present invention.
【００２２】この実施例において、供給管１２は、塗
料、フォトレジスト等の液６０を基板５０の表面に供給
する管であり、３本設けられている。ドクタープレート
２５は、基板５０の表面に供給された液６０を機械的に
押圧する手段であり、供給管１２の下端が挿通されてい
る。なお、ドクタープレート２５は、円板状の基板５０
の半径方向に向けられ、支柱２５ａで支持されている。In this embodiment, the supply pipes 12 are pipes for supplying a liquid 60 such as paint or photoresist to the surface of the substrate 50, and three pipes are provided. The doctor plate 25 is means for mechanically pressing the liquid 60 supplied to the surface of the substrate 50, and the lower end of the supply pipe 12 is inserted therethrough. The doctor plate 25 is a disk-shaped substrate 50.
And is supported by a column 25a.
【００２３】また、スピンナ４１は、ドクタープレート
２５によって液６０が押圧されているときに低速回転す
るスピンナであって、この低速回転によって、液６０
が、基板５０の回転中心を中心として円状の液膜を形成
した後に、基板５０を高速回転するスピンナである。The spinner 41 is a spinner that rotates at a low speed when the liquid 60 is being pressed by the doctor plate 25.
Is a spinner that rotates the substrate 50 at high speed after forming a circular liquid film around the rotation center of the substrate 50.
【００２４】次に、図６に示す実施例の動作について説
明する。Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 6 will be described.
【００２５】まず、コーティングすべき基板５０をスピ
ンナ４１の上に固定し、ドクタープレート２５を図６
（１）に示すように、ドクタープレート２５の一端が、
基板５０の回転中心をカバーする位置にセットする。そ
して、供給管１２から液６０を徐々に吐出しながら（ま
たは所定量を一度に吐出し）、スピンナ４１を低速回転
させることによって液６０を引き延ばし、スピンナ４１
が一回転したときに、図６（２）に示すように、基板５
０の上面の中心部分に薄い滴下膜が形成される。そし
て、供給管１２から液６０を吐出することを停止すると
ともに、供給管１２とドクタープレート２５とを基板５
０から退避させる。その後、図６（３）に示すように、
スピンナ４１を高速回転させる。これによって、液６０
の塗り残しが生じず、液６０の膜が均一になり、しかも
ドクタープレート２５と基板５０との間隔を適度に設定
しておけば、滴下液の過剰量を極力低下させることがで
きる。図７は、図６に示す実施例の説明図であり、図７
（１）は、供給管１２から液６０を吐出しながら基板５
０（スピンナ４１）が低速回転している場合の側面図で
あり、図７（２）は、その正面図である。First, the substrate 50 to be coated is fixed on the spinner 41, and the doctor plate 25 is attached as shown in FIG.
As shown in (1), one end of the doctor plate 25
The substrate 50 is set at a position that covers the center of rotation. Then, while gradually ejecting the liquid 60 from the supply pipe 12 (or ejecting a predetermined amount at a time), the spinner 41 is rotated at a low speed to extend the liquid 60, and the spinner 41 is rotated.
As shown in FIG. 6B, when the substrate rotates once, the substrate 5
A thin drop film is formed at the center of the upper surface of 0. Then, the discharge of the liquid 60 from the supply pipe 12 is stopped, and the supply pipe 12 and the doctor plate 25 are connected to the substrate 5
Evacuate from 0. After that, as shown in FIG. 6 (3),
The spinner 41 is rotated at high speed. As a result, the liquid 60
No coating residue occurs, the film of the liquid 60 becomes uniform, and if the distance between the doctor plate 25 and the substrate 50 is set appropriately, the excess amount of the dropped liquid can be reduced as much as possible. FIG. 7 is an explanatory diagram of the embodiment shown in FIG.
(1) is the substrate 5 while discharging the liquid 60 from the supply pipe 12.
0 (spinner 41) is a low-speed rotation side view, FIG. 7 (2) is a front view thereof.
【００２６】図８は、図６に示す実施例の説明図であ
る。FIG. 8 is an explanatory diagram of the embodiment shown in FIG.
【００２７】液６０の吐出量を相当少なく設定した場合
や、ドクタープレート２５と基板５０との間隔の設定を
精密に行なわなかった場合には、基板５０上に引き延ば
された液６０の液膜の厚さにムラが生じやすい。ところ
が、図６の実施例では、基板５０上に引き延ばされた液
膜厚にムラが生じても、図８（１）に示すように、やや
膜厚の厚い部分６０ａとやや膜厚の薄い部分６０ｂとが
同心の環状に形成される（近似する膜厚の液が、近似す
る半径位置に環状に配置される）ので、高速回転時に、
図８（２）に示すように、きれいな円形状の液膜となっ
て基板５０上を広がる。したがって、図６の実施例で
は、吐出液量が相当少なく設定した場合、また、ドクタ
ープレート２５と基板５０との間隔の設定を精密に行な
わなかった場合でも、塗り残しがない均一な仕上がり膜
が得られる。When the discharge amount of the liquid 60 is set to a considerably small amount or when the distance between the doctor plate 25 and the substrate 50 is not set precisely, the liquid of the liquid 60 stretched on the substrate 50 is set. The thickness of the film tends to be uneven. However, in the embodiment of FIG. 6, even if the liquid film thickness stretched on the substrate 50 is uneven, as shown in FIG. Since the thin portion 60b and the thin portion 60b are formed in a concentric annular shape (a liquid having an approximate film thickness is annularly arranged at an approximate radial position), therefore, at the time of high speed rotation,
As shown in FIG. 8 (2), a clean circular liquid film spreads on the substrate 50. Therefore, in the embodiment of FIG. 6, even if the discharge liquid amount is set to be considerably small, or even if the distance between the doctor plate 25 and the substrate 50 is not precisely set, a uniform finish film without uncoating remains. can get.
【００２８】なお、円形の基板５０の代わりに、図９に
示すような四角形の基板５１を使用してもよく、四角形
以外の非円形の基板を使用してもよい。また、供給管１
０、１１、１２の本数は、必要に応じて、上記実施例以
外の数に設定してもよい。Instead of the circular substrate 50, a rectangular substrate 51 as shown in FIG. 9 may be used, or a non-circular substrate other than the rectangular substrate may be used. Also, the supply pipe 1
The number of 0, 11, and 12 may be set to a number other than that in the above embodiment, if necessary.
【００２９】[0029]
【発明の効果】本発明によれば、液の塗り残し、液膜の
不均一を防止することができ、しかも滴下液の過剰量を
極力低下させることができるという効果を奏する。EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to prevent uncoating of the liquid and nonuniformity of the liquid film, and it is possible to reduce the excess amount of the dropped liquid as much as possible.
【図１】本発明の一実施例の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の他の実施例の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of another embodiment of the present invention.
【図３】本発明のさらに他の実施例の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of still another embodiment of the present invention.
【図４】本発明の別の実施例の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of another embodiment of the present invention.
【図５】本発明の別の実施例の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of another embodiment of the present invention.
【図６】本発明のさらに別の実施例の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of yet another embodiment of the present invention.
【図７】図６に示す実施例の説明図である。7 is an explanatory diagram of the embodiment shown in FIG.
【図８】図６に示す実施例の説明図である。8 is an explanatory diagram of the embodiment shown in FIG.
【図９】図６に示す実施例の説明図である。9 is an explanatory diagram of the embodiment shown in FIG.
【図１０】従来のスピンコーティング方法の説明図であ
る。FIG. 10 is an explanatory diagram of a conventional spin coating method.
１０、１１、１２…供給管、 ２０、２２…ドクターブレード、 ２１、２３、２４…ドクターロール、 ２５…ドクタープレート、 ２５ａ…支柱、 ４０、４１…スピンナ、 ４１ａ…回転中心軸、 ５０、５１…基板、 ６０…滴下液、 ６１ａ…やや厚い薄膜部分、 ６１ｂ…やや薄い膜部分。 10, 11, 12 ... Supply pipe, 20, 22 ... Doctor blade, 21, 23, 24 ... Doctor roll, 25 ... Doctor plate, 25a ... Strut, 40, 41 ... Spinner, 41a ... Rotation center axis, 50, 51 ... Substrate, 60 ... Dropping liquid, 61a ... Slightly thick film portion, 61b ... Slightly thin film portion.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ Ｈ０１Ｌ 21/027 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location G03F 7/16 502 H01L 21/027
Claims (6)
押し広げることによって、上記基板表面の全域に上記液
を薄く塗った後に、上記基板を高速で回転することを特
徴とするスピンコーティングの方法。1. A spin coating method, wherein a predetermined liquid dropped on the surface of a substrate is mechanically spread to thinly coat the liquid on the entire surface of the substrate, and then the substrate is rotated at a high speed. the method of.
上記基板表面に供給された上記液を機械的に押し広げる
押圧手段と；上記液が上記基板表面の所定面の全域に塗
られる迄、上記押圧手段と上記基板とを相対的にしかも
機械的に移動させる移動手段と；上記基板を高速回転す
るスピンナと；を有することを特徴とするスピンコーテ
ィング装置。2. A supply pipe for supplying a predetermined liquid to the substrate surface;
Pressing means for mechanically spreading the liquid supplied to the substrate surface; and the pressing means and the substrate relatively and mechanically until the liquid is applied to the entire area of a predetermined surface of the substrate surface. A spin coating apparatus comprising: a moving unit that moves; a spinner that rotates the substrate at a high speed.
ドクタープレートのうちの少なくとも１つであることを
特徴とするスピンコーティング装置。3. The pressing means according to claim 2, wherein the pressing means is a doctor blade, a doctor roll,
A spin coating apparatus, which is at least one of doctor plates.
とを特徴とするスピンコーティング装置。4. The spin coating apparatus according to claim 3, wherein the doctor roll has a cylindrical shape or a truncated cone shape.
押し広げることによって、上記基板の回転中心を中心と
して上記液を円状に薄く塗った後に、上記基板を高速で
回転することを特徴とするスピンコーティングの方法。5. The substrate is rotated at high speed after the thin liquid is applied circularly around the rotation center of the substrate by mechanically spreading the predetermined liquid dropped on the surface of the substrate. Characteristic spin coating method.
上記基板表面に供給された上記液を機械的に押し広げる
押圧手段と；この押圧手段によって上記液が押し広げら
れているときに低速回転するスピンナであって、この低
速回転によって、上記液が、上記基板の回転中心を中心
として円状を形成した後に、上記基板を高速回転するス
ピンナと；を有することを特徴とするスピンコーティン
グ装置。6. A supply pipe for supplying a predetermined liquid to the substrate surface;
A pressing unit that mechanically spreads the liquid supplied to the substrate surface; a spinner that rotates at a low speed when the liquid is spread by the pressing unit, and the liquid rotates by the low-speed rotation. A spinner that forms a circle around the rotation center of the substrate and then rotates the substrate at a high speed;
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4042452A JP2577680B2 (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Spin coating method and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4042452A JP2577680B2 (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Spin coating method and apparatus therefor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0623313A true JPH0623313A (en) | 1994-02-01 |
| JP2577680B2 JP2577680B2 (en) | 1997-02-05 |
Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4042452A Expired - Fee Related JP2577680B2 (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Spin coating method and apparatus therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2577680B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0677334B2 (en) † | 1994-04-15 | 2005-03-30 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Coating method |
| JP2010205811A (en) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | Wafer processing method and wafer processing device |
| JP2010207723A (en) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | Resin film forming apparatus |
| JPWO2014057568A1 (en) * | 2012-10-11 | 2016-08-25 | サンデンホールディングス株式会社 | Method of applying sliding paint to disk-shaped substrate |
| CN114834858A (en) * | 2022-07-06 | 2022-08-02 | 山西戴德测控技术有限公司 | Detection device for aramid fiber conveying belt |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63246820A (en) * | 1987-04-02 | 1988-10-13 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of semiconductor |
| JPS63313159A (en) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Toshiba Corp | Resist coater |
| JPH02290277A (en) * | 1989-02-17 | 1990-11-30 | Dainippon Printing Co Ltd | Method and apparatus for applying viscous liquid |
-
1992
- 1992-01-31 JP JP4042452A patent/JP2577680B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63246820A (en) * | 1987-04-02 | 1988-10-13 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of semiconductor |
| JPS63313159A (en) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Toshiba Corp | Resist coater |
| JPH02290277A (en) * | 1989-02-17 | 1990-11-30 | Dainippon Printing Co Ltd | Method and apparatus for applying viscous liquid |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0677334B2 (en) † | 1994-04-15 | 2005-03-30 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Coating method |
| JP2010205811A (en) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | Wafer processing method and wafer processing device |
| JP2010207723A (en) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | Resin film forming apparatus |
| JPWO2014057568A1 (en) * | 2012-10-11 | 2016-08-25 | サンデンホールディングス株式会社 | Method of applying sliding paint to disk-shaped substrate |
| US9586230B2 (en) | 2012-10-11 | 2017-03-07 | Sanden Holdings Corporation | Method of coating lubrication paint on disk-shaped substrate |
| CN114834858A (en) * | 2022-07-06 | 2022-08-02 | 山西戴德测控技术有限公司 | Detection device for aramid fiber conveying belt |
| CN114834858B (en) * | 2022-07-06 | 2022-09-13 | 山西戴德测控技术有限公司 | Detection device for aramid fiber conveying belt |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2577680B2 (en) | 1997-02-05 |
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