JPH0618851A - Liquid crystal driving circuit - Google Patents

Liquid crystal driving circuit

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JPH0618851A
JPH0618851A JP17843192A JP17843192A JPH0618851A JP H0618851 A JPH0618851 A JP H0618851A JP 17843192 A JP17843192 A JP 17843192A JP 17843192 A JP17843192 A JP 17843192A JP H0618851 A JPH0618851 A JP H0618851A
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JP
Japan
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voltage
thin film
film transistor
gate
liquid crystal
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Withdrawn
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JP17843192A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Kakehi
達也 筧
Kenichi Yanai
健一 梁井
Kenichi Oki
賢一 沖
Fumiyo Takeuchi
文代 竹内
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent occurrence of DC bias in a liquid crystal driving circuit. CONSTITUTION:Parasitic capacity between a gate and a source of a TFT Talpha for driving liquid crystal at the time of OFF and ON state are respectively defined as CGSM1, CGSM2, parasitic capacity between a gate and a source of a TFT TC for compensating voltage shift generated at the time of OFF state of a gate pulse of Talpha is defined as CGSC1, fine variations of these parasitic capacity are respectively defined as DELTACGSM1, DELTACGSM2, DELTACGSC1, high level voltage and low level voltage of a gate pulse of Talpha are respectively defined as VGA1, VGA2, similarly, that of TC VGC1, VGC2, and gate voltage at an intermediate point when gate capacity is varied by gate voltage is defined as VTH, sizes of a pulse and parasitic capacity are set so that a equation CGSC1(VGC1-VGC2)+ CGSM1(VGA2-VTH)+CGSM2(VTH-VGA1) O, DELTACGSC1(VGC1-VGC2)+DELTACGSM1(VGA2-VTH)+DELTACCSM2(VTH-VGA1) O be applicable.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶駆動回路に係り、
詳しくは、例えば、アクティブマトリクス型液晶表示装
置の分野に用いて好適な、特に、液晶を薄膜トランジス
タ(TFT:Thin Film Transistor)で駆動する液晶駆
動回路に関する。 [発明の背景]近年、例えば、コンピュータシステム等
の情報端末装置の表示装置、小型テレビ、投射型プロジ
ェクションテレビ等において、従来のCRT(Cathode
Ray Tube)に代わる小型で高画質な表示装置として、薄
膜トランジスタによるアクティブマトリクス型液晶表示
装置が注目されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal driving circuit,
More specifically, for example, the present invention relates to a liquid crystal drive circuit suitable for use in the field of active matrix liquid crystal display devices, and particularly to a liquid crystal drive circuit for driving liquid crystal by a thin film transistor (TFT). BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, for example, in a display device of an information terminal device such as a computer system, a small television, a projection type projection television and the like, a conventional CRT (Cathode) is used.
An active matrix liquid crystal display device using a thin film transistor has been attracting attention as a small and high-quality display device that replaces a Ray Tube.

【0002】これは、薄膜トランジスタによって液晶に
印加する電圧を制御することにより、階調表示を行うも
のであり、印加する駆動電圧が正確でないと、表示品位
が低下する。そこで、このようなアクティブマトリクス
型液晶表示装置では、薄膜トランジスタによって正確な
駆動電圧を印加することが要求される。
This is to display a gradation by controlling the voltage applied to the liquid crystal by a thin film transistor. If the applied drive voltage is not accurate, the display quality is degraded. Therefore, in such an active matrix type liquid crystal display device, it is required to apply an accurate drive voltage by a thin film transistor.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来のこの種の液晶駆動回路としては、
例えば、図6に示すようなものがある。図6において、
Taは薄膜トランジスタ、CLCは液晶であり、CGSは薄
膜トランジスタTaのゲート−ソース間の寄生容量、V
G はゲートパルス電圧、VS は端子電圧、VD は液晶側
端子電圧、VR はグランド電圧である。
2. Description of the Related Art As a conventional liquid crystal drive circuit of this type,
For example, there is one as shown in FIG. In FIG.
Ta is a thin film transistor, C LC is a liquid crystal, C GS is a gate-source parasitic capacitance of the thin film transistor Ta, V
G is a gate pulse voltage, V S is a terminal voltage, V D is a liquid crystal side terminal voltage, and V R is a ground voltage.

【0004】以上の構成のような薄膜トランジスタを用
いた液晶駆動回路では、図7に示すように、ゲートパル
ス電圧VG の立ち下がり時T1 において、薄膜トランジ
スタTaのゲートソース間の寄生容量GGSによる液晶C
LCと薄膜トランジスタTaとの接続点位置での端子電圧
S がシフトするため、書き込んだ所定電圧値からずれ
てしまっていた。
In the liquid crystal drive circuit using the thin film transistor having the above structure, as shown in FIG. 7, when the gate pulse voltage V G falls T 1 , the parasitic capacitance G GS between the gate and source of the thin film transistor Ta is caused. Liquid crystal C
Since the terminal voltage V S at the connection point of the LC and the thin film transistor Ta is shifted had deviates from a predetermined voltage value written.

【0005】一般に液晶CLCはDCバイアスが加わると
特性が劣化するため、交流駆動が行われるが、上記のよ
うな電圧シフトはDCバイアス成分となるため特性劣化
の問題が生じる。そこで、図1に示すように、駆動用の
薄膜トランジスタTaとは別に電圧シフトを補償する薄
膜トランジスタTcを設けた液晶駆動回路が提案されて
いる。
In general, the liquid crystal C LC deteriorates in characteristics when a DC bias is applied, and therefore AC driving is performed. However, the above-mentioned voltage shift causes a DC bias component, which causes a problem of deterioration in characteristics. Therefore, as shown in FIG. 1, a liquid crystal drive circuit has been proposed in which a thin film transistor Tc for compensating a voltage shift is provided in addition to a driving thin film transistor Ta.

【0006】図1において、Taはアドレス用の薄膜ト
ランジスタ、Tcは電圧シフト補償用の薄膜トランジス
タ、CLCは液晶であり、CGSM は薄膜トランジスタTa
のゲート−ソース間の寄生容量、CGSC は薄膜トランジ
スタTcのゲート−ソース間の寄生容量、VGAはアドレ
ス用ゲートパルス電圧、VGCは補償用ゲートパルス電
圧、VS は端子電圧、VD は液晶側端子電圧、VR はグ
ランド電圧である。なお、VGA1 はアドレス用ゲートパ
ルスのハイレベル電圧、VGA2 はアドレス用ゲートパル
スのローレベル電圧、VGC1 は補償用ゲートパルスのハ
イレベル電圧、V GC2 は補償用ゲートパルスのローレベ
ル電圧である。
In FIG. 1, Ta is a thin film transistor for addressing.
Transistor, Tc is a thin film transistor for voltage shift compensation
Ta, CLCIs a liquid crystal, CGSMIs a thin film transistor Ta
Gate-source parasitic capacitance, CGSCIs a thin film transistor
Gate-source parasitic capacitance of the transistor Tc, VGAIs address
Gate pulse voltage, VGCIs the gate pulse voltage for compensation
Pressure, VSIs the terminal voltage, VDIs the liquid crystal terminal voltage, VRHa
Land voltage. In addition, VGA1Is the address gate
Lus high level voltage, VGA2Is the address gate pal
Low level voltage, VGC1Is the compensation gate pulse
Level voltage, V GC2Is the low level of the compensation gate pulse
Voltage.

【0007】以上の構成において、図2に基づいて対向
側駆動の場合について説明する。まず、対向側駆動であ
るため、データ電圧が液晶側端子電圧VD として印加さ
れる。アドレス用ゲートパルス電圧VGAの立ち下がり時
1 において、薄膜トランジスタTaと薄膜トランジス
タTcとの接続点位置での端子電圧VS は、前述したよ
うにシフトするが、電圧シフト補償用の薄膜トランジス
タTcにおけるゲート−ソース間の寄生容量CGSC によ
るカップリングを利用して、逆極性の補償用ゲートパル
ス電圧VGCによる逆方向の電圧シフトを起こすことによ
って、補償用ゲートパルス電圧VGCの立ち上がり時T2
で元の書き込み時における所定電圧値に戻る。
In the above configuration, the case of opposite side driving will be described with reference to FIG. First, since the driving is on the opposite side, the data voltage is applied as the liquid crystal side terminal voltage V D. At the falling edge T 1 of the address gate pulse voltage V GA , the terminal voltage V S at the connection point position between the thin film transistor Ta and the thin film transistor Tc shifts as described above, but the gate in the thin film transistor Tc for voltage shift compensation is shifted. - using the coupling due to the parasitic capacitance C GSC between the source, by causing reverse voltage shift due to the opposite polarity compensating the gate pulse voltage V GC of the rising time T 2 of the compensation gate pulse voltage V GC
Returns to the predetermined voltage value at the time of original writing.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の液晶駆動回路にあっては、電圧シフト補償用
の薄膜トランジスタTcにおけるゲート−ソース間の寄
生容量CGSC によるカップリングを利用し、逆方向の電
圧シフトを起こすことによって、補償用ゲートパルス電
圧VGCの立ち上がり時T2 において、電圧シフトを補償
するという構成となっていたため、以下に述べるような
問題点があった。
However, in such a conventional liquid crystal driving circuit, the coupling due to the parasitic capacitance C GSC between the gate and the source in the thin film transistor Tc for voltage shift compensation is used to reverse the direction. Since the voltage shift is caused to compensate the voltage shift at the rising time T 2 of the compensating gate pulse voltage V GC , there is a problem as described below.

【0009】すなわち、端子電圧VS の時間T1 での電
圧シフトは、主にアドレス用ゲートパルス電圧VGAの大
きさとアドレス用薄膜トランジスタTaの寄生容量C
GSM とにより決定され、また、時間T2 での電圧シフト
の戻りは、主に補償用ゲートパルス電圧VGCの大きさと
電圧シフト補償用の薄膜トランジスタTcの寄生容量C
GSC とにより決定される。
That is, the terminal voltage VSTime T1Electricity at
The pressure shift is mainly due to the address gate pulse voltage VGALarge of
The parasitic capacitance C of the thin film transistor Ta for address
GSMAnd the time T2Voltage shift at
Return is mainly due to the compensation gate pulse voltage VGCThe size of
Parasitic capacitance C of thin film transistor Tc for voltage shift compensation
GSCDetermined by.

【0010】したがって、アドレス用ゲートパルス電圧
GAと補償用ゲートパルス電圧VGCとのパルスの大きさ
や、薄膜トランジスタTaと薄膜トランジスタTcとの
形状が等しく、ペア性が良好であるならば、端子電圧V
S は正確に元に戻るはずであるが、実際にはデバイスパ
ラメータのばらつき等のため、故意にペア性をずらさざ
るを得ない。
Therefore, if the pulse magnitudes of the address gate pulse voltage V GA and the compensation gate pulse voltage V GC and the shapes of the thin film transistors Ta and Tc are the same and the pairing is good, the terminal voltage V
S should return to the original value accurately, but in reality, due to variations in device parameters, the pairing property must be intentionally shifted.

【0011】これを薄膜トランジスタがNチャネル型、
すなわち、ゲート電圧が“H”の場合にオンとなり、
“L”の場合にオフとなるものとして説明する。補償用
ゲートパルス電圧VGCが補償のために立ち上がった後
(すなわち、時間T2 以降)は、他の画素のアドレスを
設定するべき時間となるので、オフ状態になければなら
ないため、図2に示す電圧VGC1 はオフ状態の電圧でな
ければならず、また、図2に示す電圧VGC2 はV1 より
低いので、同じくオフ状態である。
The thin film transistor is an N channel type,
That is, it turns on when the gate voltage is "H",
It will be described that it is turned off in the case of "L". After the compensating gate pulse voltage V GC rises for compensation (that is, after time T 2 ), it is time to set the address of another pixel, and therefore it must be in the off state, and therefore FIG. The indicated voltage V GC1 must be the off-state voltage, and since the voltage V GC2 shown in FIG. 2 is lower than V 1 , it is also in the off-state.

【0012】一方、アドレス用の薄膜トランジスタTa
は、通常のオン・オフ動作をさせているので、図2に示
す電圧VGA1 ではオン状態、電圧VGA2 ではオフ状態で
ある。薄膜トランジスタは、オン状態とオフ状態とでは
寄生容量が異なるため、図1に示す構成では、薄膜トラ
ンジスタの形状や印加するパルスの大きさをアドレス側
と補償側とでうまくずらしてやらないと端子電圧VS
電圧シフトは元通りにはならない。
On the other hand, an address thin film transistor Ta
Since the normal ON / OFF operation is performed, the voltage V GA1 shown in FIG. 2 is in the ON state and the voltage V GA2 is in the OFF state. Since the thin film transistor has different parasitic capacitances between the ON state and the OFF state, in the configuration shown in FIG. 1, the terminal voltage V S must be adjusted unless the shape of the thin film transistor and the magnitude of the applied pulse are different between the address side and the compensation side. The voltage shift of will not be restored.

【0013】これは、薄膜トランジスタのデバイスパラ
メータ(例えば、パターン寸法や膜厚等)のばらつきが
ない場合には問題とはならないが、実際には配置場所に
よってばらつきが生じるため、故意にペア性をずらして
いる。以下、これを数式を用いて説明する。図3は図1
の平面図であり、図4は図3のA−A’線断面図であ
る。
This is not a problem when there is no variation in the device parameters of the thin film transistor (for example, pattern size, film thickness, etc.), but in reality, variation occurs depending on the arrangement location, so the pairing is intentionally shifted. ing. This will be described below using mathematical expressions. FIG. 3 shows FIG.
4 is a plan view of FIG. 4, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【0014】なお、図3中、DLはドレイン電極幅、G
M は薄膜トランジスタTaのソース電極幅、GSC
薄膜トランジスタTcのソース電極幅、Lはチャネル
長、Wはチャネル幅であり、図4中、d1 は絶縁膜+a
−Siの膜厚、d3 は絶縁膜のみの膜厚である。以上の
構成において、アドレス側のオフ時の容量は、
In FIG. 3, DL is the drain electrode width, G
S M is the source electrode width of the thin film transistor Ta, GS C is the source electrode width of the thin film transistor Tc, L is the channel length, W is the channel width, and in FIG. 4, d 1 is the insulating film + a
-Si film thickness, d 3 is the thickness of only an insulating film. In the above configuration, the capacity when the address side is off is

【0015】[0015]

【数4】 [Equation 4]

【0016】となり、アドレス側のオン時の容量は、Therefore, the capacity when the address side is on is

【0017】[0017]

【数5】 [Equation 5]

【0018】また、補償側のオフ時の容量は、The capacity on the compensation side when off is

【0019】[0019]

【数6】 [Equation 6]

【0020】となる。なお、ε0 は真空の誘電率、ε1
は絶縁膜の比誘電率である。アドレス側と補償側とで面
積比を調整するため、ソース電極幅GSは、薄膜トラン
ジスタTaとTcとでは異なる値(GSM とGSC )に
なっている。このように、薄膜トランジスタの寄生容量
は、オン時においてはa−Siの面積で、また、オフ時
においてはソース電極の面積で決定される。
[0020] Note that ε 0 is the dielectric constant of vacuum and ε 1
Is the relative dielectric constant of the insulating film. In order to adjust the area ratio between the address side and the compensation side, the source electrode width GS has different values (GS M and GS C ) between the thin film transistors Ta and Tc. As described above, the parasitic capacitance of the thin film transistor is determined by the area of a-Si when turned on and the area of the source electrode when turned off.

【0021】したがって、図2に示すように、電圧シフ
トを起こした後の電圧V1 は、
Therefore, as shown in FIG. 2, the voltage V 1 after the voltage shift is

【0022】[0022]

【数7】 [Equation 7]

【0023】で表され、補償された電圧V2 は、The compensated voltage V 2 represented by

【0024】[0024]

【数8】 [Equation 8]

【0025】で表される。なお、図5に示すように、V
THは薄膜トランジスタの寄生容量がゲート電圧により変
化する際の中間点のゲート電圧である。ここで、例え
ば、ソース電極幅GSM 及びGSC が設計値に対して細
くなったとすると、[数5]に示すように、アドレス側
のオン時の容量はa−Siの面積によって決定するので
容量の変化はないが、[数4]や[数6]に示すよう
に、オフ時の容量はソース電極の面積によって決定する
ので容量が下がる。
It is represented by In addition, as shown in FIG.
TH is the gate voltage at the midpoint when the parasitic capacitance of the thin film transistor changes with the gate voltage. Here, for example, if the source electrode widths GS M and GS C become narrower than the design value, as shown in [Equation 5], the on-side capacitance on the address side is determined by the area of a-Si. Although there is no change in the capacitance, as shown in [Equation 4] and [Equation 6], the off-time capacitance is determined by the area of the source electrode, so that the capacitance decreases.

【0026】したがって、補償側はオフ時の容量のみで
決定されるため、アドレス側よりも補償側の方が変化が
大きく、電圧シフトをキャンセルする条件が異なってく
る。すなわち、ソース電極幅GSが設計値よりも、片側
でxμmだけ細ったとすると、[数4]〜[数8]よ
り、電圧V2 =0となる条件は、
Therefore, since the compensation side is determined only by the off-state capacitance, the compensation side has a larger change than the address side, and the conditions for canceling the voltage shift differ. That is, assuming that the source electrode width GS is narrower than the design value by x μm on one side, the condition that the voltage V 2 = 0 is obtained from [Formula 4] to [Formula 8].

【0027】[0027]

【数9】 [Equation 9]

【0028】となり、あるデバイスパラメータ(膜厚、
寸法)の時各々のパルスを何Vに設定すればよいかが求
まる。また、ソース電極幅GSが片側xμm細った時に
[数9]を満たすパルスを[数8]に代入すると、
Then, some device parameter (film thickness,
In the case of (dimension), what voltage each pulse should be set to is determined. Further, when a pulse satisfying [Equation 9] is substituted into [Equation 8] when the source electrode width GS is reduced by x μm on one side,

【0029】[0029]

【数10】 [Equation 10]

【0030】となり、[数10]にx=0を代入する
と、V2 =0となる。つまり、パターン細りが全くない
時は[数9]によりパルス電圧を設定してやれば完全に
電圧シフトを補償するが、細りが生じた時は、[数1
0]に示すように、種々のパラメータにより定まる値と
なり0にはならない。この場合、細った値に応じて[数
9]に基づいてパルスの設定電圧を変えてやればよい
が、これは液晶パネルの列毎にパターンや膜厚がどれだ
けずれているかを前もって知った上で各々の列に微妙に
大きさの異なるゲートパルスを加えることとなり、実際
にはほぼ不可能である。
Substituting x = 0 into [Equation 10] results in V 2 = 0. That is, when there is no pattern thinning, the voltage shift is completely compensated by setting the pulse voltage by [Equation 9], but when the thinning occurs, [Equation 1]
[0], the value is determined by various parameters and does not become 0. In this case, the set voltage of the pulse may be changed according to [Numerical equation 9] according to the narrowed value, but this is known in advance how much the pattern and the film thickness are different for each row of the liquid crystal panel. In the above, a gate pulse having a slightly different magnitude is added to each column, which is practically impossible.

【0031】したがって、パルスの大きさをキャンセル
する条件に設定したとしても、図2に示すV2 は0Vと
はならず、図1に示す回路においては、デバイスパラメ
ータの値のばらつきを考慮した場合、電圧シフトをキャ
ンセルするための条件が非常に複雑となるため、任意の
箇所で均一にV2 =0Vとすることはほぼ不可能であ
り、このため、場所によってDCバイアス成分が液晶に
加わるために特性の劣化を引き起こしていた。
Therefore, even if the condition for canceling the magnitude of the pulse is set, V 2 shown in FIG. 2 does not become 0 V, and in the circuit shown in FIG. 1, when variations in device parameter values are taken into consideration. Since the condition for canceling the voltage shift becomes very complicated, it is almost impossible to set V 2 = 0V uniformly at any place, and therefore, the DC bias component is added to the liquid crystal depending on the place. Caused deterioration of characteristics.

【0032】[目的]そこで本発明は、DCバイアス成
分の発生を防止する液晶駆動回路を提供することを目的
としている。
[Object] Therefore, an object of the present invention is to provide a liquid crystal drive circuit for preventing the generation of a DC bias component.

【0033】[0033]

【課題を解決するための手段】本発明による液晶駆動回
路は上記目的達成のため、液晶駆動用の第一薄膜トラン
ジスタと、該第一薄膜トランジスタのゲートパルスのオ
フ時に発生する電圧シフトを補償する第二薄膜トランジ
スタとを有する液晶駆動回路において、前記第一薄膜ト
ランジスタのオフ時におけるゲート−ソース間の寄生容
量をCGSM1、該第一薄膜トランジスタのオン時における
ゲート−ソース間の寄生容量をCGSM2、前記第二薄膜ト
ランジスタのオフ時におけるゲート−ソース間の寄生容
量をCGS C1、該各寄生容量CGSM1,CGSM2,CGSC1の微
小な容量変化をそれぞれΔCGSM1,ΔCGSM2,Δ
GSC1、該第一薄膜トランジスタのゲートパルスのハイ
レベル電圧をVGA1 、ローレベル電圧をVGA2 、該第二
薄膜トランジスタのゲートパルスのハイレベル電圧をV
GC1 、ローレベル電圧をVGC2 、ゲート容量がゲート電
圧により変化する場合の中間点におけるゲート電圧をV
THとした場合、
In order to achieve the above object, a liquid crystal driving circuit according to the present invention includes a first thin film transistor for driving a liquid crystal and a second thin film transistor for compensating a voltage shift generated when a gate pulse of the first thin film transistor is turned off. In a liquid crystal drive circuit having a thin film transistor, the gate-source parasitic capacitance when the first thin film transistor is off is C GSM1 , the gate-source parasitic capacitance when the first thin film transistor is on is C GSM2 , and the second When the thin film transistor is off, the gate-source parasitic capacitance is C GS C1 , and the minute capacitance changes of the respective parasitic capacitances C GSM1 , C GSM2 , C GSC1 are ΔC GSM1 , ΔC GSM2 , Δ, respectively.
C GSC1 , the high level voltage of the gate pulse of the first thin film transistor is V GA1 , the low level voltage is V GA2 , and the high level voltage of the gate pulse of the second thin film transistor is V GA1 .
GC1 , the low level voltage is V GC2 , and the gate voltage at the intermediate point when the gate capacitance changes with the gate voltage is V
If TH

【0034】[0034]

【数11】 [Equation 11]

【0035】[0035]

【数12】 [Equation 12]

【0036】の2式を満たすパルス及び寄生容量の大き
さを設定するように構成している。なお、この場合、前
記各薄膜トランジスタは、それぞれソース電極及びドレ
イン電極をa−Si膜で覆い、さらに、絶縁膜、ゲート
で順に覆ったものであり、前記第一薄膜トランジスタの
ソース電極幅をGSM 、前記第二薄膜トランジスタのソ
ース電極幅をGSC 、該各薄膜トランジスタのドレイン
電極幅をDL、チャネル幅をL、a−Si膜と絶縁膜と
の合計膜厚をd1 、絶縁膜の膜厚をd3 、ソース電極幅
GSM 及びGSC の比GSC /GSM をnとした場合、
The configuration is such that the magnitude of the pulse and the parasitic capacitance satisfying the above two expressions are set. In this case, each of the thin film transistor, covering the source and drain electrodes in a-Si film, respectively, further, the insulating film, which was covered sequentially with a gate, a source electrode width of the first TFT GS M, The source electrode width of the second thin film transistor is GS C , the drain electrode width of each thin film transistor is DL, the channel width is L, the total film thickness of the a-Si film and the insulating film is d 1 , and the film thickness of the insulating film is d. 3 , when the ratio GS C / GS M of the source electrode widths GS M and GS C is n,

【0037】[0037]

【数13】 [Equation 13]

【0038】の式を満たすようにすることが好ましく、
また、前記第二薄膜トランジスタのゲートパルスの電圧
幅(VGC1 −VGC2 )は、前記第一薄膜トランジスタの
ゲートパルスの電圧幅(VTH−VGA2 、またはVGA1
TH)の整数倍とすることは有効である。
It is preferable to satisfy the following equation:
Further, the gate pulse voltage width (V GC1 −V GC2 ) of the second thin film transistor is equal to the gate pulse voltage width (V TH −V GA2 or V GA1 −) of the first thin film transistor.
It is effective to make it an integral multiple of V TH ).

【0039】[0039]

【作用】本発明では、第一薄膜トランジスタ及び第二薄
膜トランジスタのソース電極面積比が、ある特定の値の
場合、膜厚やパターンのずれに無関係に電圧シフトが補
償される。すなわち、電圧シフトが均一に抑えられ、D
Cバイアス成分の発生が防止される。
In the present invention, when the source electrode area ratio of the first thin film transistor and the second thin film transistor has a specific value, the voltage shift is compensated regardless of the film thickness and the pattern shift. That is, the voltage shift is uniformly suppressed, and D
Generation of the C bias component is prevented.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。な
お、本発明による液晶駆動回路の構成は図1〜図4に示
す従来例と同一であるため、その説明を省略する。前述
の[数9]を並べ変えて、“n=”の形にすると、
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. Since the structure of the liquid crystal drive circuit according to the present invention is the same as that of the conventional example shown in FIGS. 1 to 4, the description thereof will be omitted. Rearranging the above [Equation 9] to form “n =”,

【0041】[0041]

【数14】 [Equation 14]

【0042】ここで、ソース電極幅の比nを[数14]
に示すような値にした場合、V2 =0となる。これは電
圧V2 におけるすべてのパラメータを絶対値に関係なく
キャンセルするためである。よって、寸法比nが[数1
4]を満たすとき、各パラメータの絶対値のずれに関係
なく電圧シフトは0Vとなる。
Here, the source electrode width ratio n is expressed by
When the value is set as shown in, V 2 = 0. This is to cancel all parameters at voltage V 2 regardless of their absolute value. Therefore, the dimensional ratio n is
4], the voltage shift becomes 0V regardless of the deviation of the absolute value of each parameter.

【0043】また、[数14]において各パルスが、例
えば、 VTH−VGA2 =VGA1 −VTH=VGC1 −VGC2 を満たすと、さらに寸法比nの条件は簡略化され、n
は、
Further, if each pulse satisfies, for example, V TH -V GA2 = V GA1 -V TH = V GC1 -V GC2 in [Equation 14], the condition of the size ratio n is further simplified, and n
Is

【0044】[0044]

【数15】 [Equation 15]

【0045】で表される。この場合、VTH−VGA2 ,V
GA1 −VTH,VGC1 −VGC2 の各値は、イコールでな
く、整数比になっていれば、[数15]のように簡略化
される。以下、具体的な数値に基づいて説明する。今、
THが0Vの薄膜トランジスタを使用する場合を想定
し、図2において、VGA1 =10V、VGA2 =−10
V、VGA1 =−10V、VGA2 =−20Vとすると、こ
れらはVTH−VGA2 =VGA1 −VTH=VGC1 −VGC2
満たす。
It is represented by In this case, V TH −V GA2 , V
GA1 -V TH, the values of V GC1 -V GC2 are not equal, if an integral ratio, simplifies to Equation 15]. Hereinafter, description will be given based on specific numerical values. now,
Assuming that a thin film transistor having V TH of 0 V is used, V GA1 = 10 V and V GA2 = −10 in FIG.
If V, V GA1 = −10 V, and V GA2 = −20 V, then these satisfy V TH −V GA2 = V GA1 −V TH = V GC1 −V GC2 .

【0046】次に、デバイスパラメータの例として、d
1 =0.325μm、d3 =0.3μm、GSM =10
μm、DL=10μm、L=5μmとすると、[数1
5]より、
Next, as an example of the device parameter, d
1 = 0.325 μm, d 3 = 0.3 μm, GS M = 10
If μm, DL = 10 μm, and L = 5 μm, then [Equation 1
5]

【0047】[0047]

【数16】 [Equation 16]

【0048】となり、電圧シフト補償用薄膜トランジス
タTcのソース電極幅GSC を、アドレス用薄膜トラン
ジスタTaのソース電極幅GSM の2.354倍とすれ
ば、ばらつきに関係なく電圧シフトを抑えることができ
る。このように本実施例では、アドレス側と補償側との
ソース電極幅比を、デバイスパラメータにより定まる所
定の値に設定することで、仮に場所によるパラメータの
ばらつきが生じてもアドレス側のゲートパルスの立ち下
がりに発生する電圧シフトを均一に抑えることができ、
DC成分の発生による特性の劣化を防止できる。
Therefore, if the source electrode width GS C of the voltage shift compensating thin film transistor Tc is set to 2.354 times the source electrode width GS M of the address thin film transistor Ta, the voltage shift can be suppressed regardless of variations. As described above, in this embodiment, the source electrode width ratio between the address side and the compensation side is set to a predetermined value determined by the device parameter, so that the gate pulse of the address side is not affected even if the parameter varies depending on the location. The voltage shift that occurs at the fall can be suppressed uniformly,
It is possible to prevent deterioration of characteristics due to generation of DC component.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明では、第一薄膜トランジスタ及び
第二薄膜トランジスタのソース電極面積比がある特定の
値の場合、膜厚やパターンのずれとは無関係に電圧シフ
トを補償することができる。したがって、電圧シフトを
均一に抑えることができ、DCバイアス成分の発生を防
止できる。
According to the present invention, when the source electrode area ratio of the first thin film transistor and the second thin film transistor has a specific value, the voltage shift can be compensated regardless of the film thickness and the pattern shift. Therefore, the voltage shift can be suppressed uniformly, and the generation of the DC bias component can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施例及び従来例の液晶駆動回路の回路図で
ある。
FIG. 1 is a circuit diagram of a liquid crystal drive circuit according to an embodiment and a conventional example.

【図2】図1の動作を説明するためのタイミングチャー
トである。
FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of FIG.

【図3】図1の平面図である。FIG. 3 is a plan view of FIG.

【図4】図3のA−A’線断面図である。4 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG.

【図5】寄生容量がゲート電圧により変化する際の中間
点のゲート電圧を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a gate voltage at an intermediate point when the parasitic capacitance changes according to the gate voltage.

【図6】従来例の要部構成を示す回路である。FIG. 6 is a circuit showing a configuration of a main part of a conventional example.

【図7】図6の動作を説明するためのタイミングチャー
トである。
7 is a timing chart for explaining the operation of FIG.

【符号の説明】 Ta 薄膜トランジスタ(アドレス用) Tc 薄膜トランジスタ(電圧シフト補償用) CLC 液晶 CGS 薄膜トランジスタTaのゲート−ソース間の寄
生容量 CGSM 薄膜トランジスタTaのゲート−ソース間の寄
生容量 CGSC 薄膜トランジスタTcのゲート−ソース間の寄
生容量 VG ゲートパルス電圧 VGA アドレス用ゲートパルス電圧 VGA1 アドレス用ゲートパルスのハイレベル電圧 VGA2 アドレス用ゲートパルスのローレベル電圧 VGC 補償用ゲートパルス電圧 VGC1 補償用ゲートパルスのハイレベル電圧 VGC2 補償用ゲートパルスのローレベル電圧 VS 端子電圧 VD 液晶側端子電圧 VR グランド電圧
[Explanation of Codes] Ta thin film transistor (for address) Tc thin film transistor (for voltage shift compensation) C LC liquid crystal C GS Thin film transistor Ta gate-source parasitic capacitance C GSM Thin film transistor Ta gate-source parasitic capacitance C GSC thin film transistor Tc Gate-source parasitic capacitance of V G Gate pulse voltage V GA Address gate pulse voltage V GA1 Address gate pulse high level voltage V GA2 Address gate pulse low level voltage V GC compensation gate pulse voltage V GC1 compensation low-level voltage V S terminal voltage V D on the liquid crystal side terminal voltage V R the ground voltage of the use gate pulse high voltage V GC2 compensation gate pulse

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹内 文代 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Fumiyo Takeuchi 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Fujitsu Limited

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶駆動用の第一薄膜トランジスタと、該
第一薄膜トランジスタのゲートパルスのオフ時に発生す
る電圧シフトを補償する第二薄膜トランジスタとを有す
る液晶駆動回路において、 前記第一薄膜トランジスタのオフ時におけるゲート−ソ
ース間の寄生容量をC GSM1、該第一薄膜トランジスタの
オン時におけるゲート−ソース間の寄生容量をCGSM2
前記第二薄膜トランジスタのオフ時におけるゲート−ソ
ース間の寄生容量をCGSC1、該各寄生容量CGSM1,C
GSM2,CGSC1の微小な容量変化をそれぞれΔCGSM1,Δ
GSM2,ΔCGSC1、該第一薄膜トランジスタのゲートパ
ルスのハイレベル電圧をVGA1 、ローレベル電圧をV
GA2 、該第二薄膜トランジスタのゲートパルスのハイレ
ベル電圧をVGC1 、ローレベル電圧をVGC2 、ゲート容
量がゲート電圧により変化する場合の中間点におけるゲ
ート電圧をVTHとした場合、 【数1】 【数2】 の2式を満たすパルス及び寄生容量の大きさを設定する
ことを特徴とする液晶駆動回路。
1. A first thin film transistor for driving a liquid crystal, and
This occurs when the gate pulse of the first thin film transistor is turned off.
A second thin film transistor that compensates the voltage shift due to
In the liquid crystal driving circuit according to claim 1,
The parasitic capacitance between GSM1, Of the first thin film transistor
The parasitic capacitance between the gate and the source when turned on is CGSM2,
The gate-source when the second thin film transistor is off.
The parasitic capacitance betweenGSC1, The parasitic capacitance CGSM1, C
GSM2, CGSC1ΔCGSM1, Δ
CGSM2, ΔCGSC1, The gate pattern of the first thin film transistor
The high level voltage of the lus is VGA1, Low level voltage V
GA2, The gate pulse high voltage of the second thin film transistor
Bell voltage is VGC1, Low level voltage VGC2, The gate Yong
The amount at the midpoint when the amount varies with the gate voltage.
Voltage to VTHIf, then,[Equation 2]Set the magnitude of the pulse and parasitic capacitance that satisfy the two equations
A liquid crystal drive circuit characterized by the above.
【請求項2】前記各薄膜トランジスタは、それぞれソー
ス電極及びドレイン電極をa−Si膜で覆い、さらに、
絶縁膜、ゲートで順に覆ったものであり、 前記第一薄膜トランジスタのソース電極幅をGSM 、前
記第二薄膜トランジスタのソース電極幅をGSC 、該各
薄膜トランジスタのドレイン電極幅をDL、チャネル幅
をL、a−Si膜と絶縁膜との合計膜厚をd1 、絶縁膜
の膜厚をd3 、ソース電極幅GSM 及びGSC の比GS
C /GSM をnとした場合、 【数3】 の式を満たすことを特徴とする請求項1記載の液晶駆動
回路。
2. Each of the thin film transistors has a source electrode and a drain electrode covered with an a-Si film, and
The source electrode width of the first thin film transistor is GS M , the source electrode width of the second thin film transistor is GS C , the drain electrode width of each thin film transistor is DL, and the channel width is L. , The total film thickness of the a-Si film and the insulating film is d 1 , the film thickness of the insulating film is d 3 , the ratio GS of the source electrode widths GS M and GS C.
If C / GS M is n, then 2. The liquid crystal drive circuit according to claim 1, wherein the formula is satisfied.
【請求項3】前記第二薄膜トランジスタのゲートパルス
の電圧幅(VGC1 −VGC2 )は、前記第一薄膜トランジ
スタのゲートパルスの電圧幅(VTH−VGA2 、またはV
GA1−VTH)の整数倍であることを特徴とする請求項
1、または2記載の液晶駆動回路。
3. The gate pulse voltage width (V GC1 -V GC2 ) of the second thin film transistor is equal to the gate pulse voltage width (V TH -V GA2 or V TH of the first thin film transistor).
3. The liquid crystal drive circuit according to claim 1, wherein the liquid crystal drive circuit is an integral multiple of ( GA1− V TH ).
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