JPH06175561A - Hologram recording medium and production of volume phase type hologram by using the recording medium - Google Patents

Hologram recording medium and production of volume phase type hologram by using the recording medium

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JPH06175561A
JPH06175561A JP35072692A JP35072692A JPH06175561A JP H06175561 A JPH06175561 A JP H06175561A JP 35072692 A JP35072692 A JP 35072692A JP 35072692 A JP35072692 A JP 35072692A JP H06175561 A JPH06175561 A JP H06175561A
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JP
Japan
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group
recording medium
hologram
hologram recording
volume phase
Prior art date
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Application number
JP35072692A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeo Yamaguchi
岳男 山口
Yasumasa Toba
泰正 鳥羽
Madoka Yasuike
円 安池
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a process for production of a hologram recording medium having excellent chemical stability and environmental resistance characteristic and characteristics of high sensitivity, high diffraction efficiency, high transparency and high resolution over a wide wavelength region and a volume phase type hologram by using the recording medium. CONSTITUTION:This hologram recording medium is constituted by containing a photosensitive material for hologram recording including a combination of a high-polymer compd. which is a single polymer of acrylate or methacrylate or a copolymer of >=2 components of the acrylate or methacrylate and vinyl monomer (A), a compd. having at least >=1 pieces of polymerizable ethylenic unsatd. bonds (B), pyrilium salt or thiopyrilium salt deriv. (C) and sulfonium org. boron complex (D) by an optically transparent base material and an optically transparent protective film to form a photosensitive film. This process for production of the volume phase type hologram consists using the hologram recording material.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【産業上の利用分野】本発明は、化学的安定性や耐環境
特性に優れ、広い波長領域に渡って高い感度特性を有
し、且つ解像度、回折効率及び透明性などのホログラム
特性に特に優れたホログラム記録媒体及びそれを用いた
体積位相型ホログラムの製造方法に関するものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention has excellent chemical stability and environment resistance, high sensitivity characteristics over a wide wavelength range, and particularly excellent hologram characteristics such as resolution, diffraction efficiency and transparency. The present invention also relates to a hologram recording medium and a method of manufacturing a volume phase hologram using the hologram recording medium.

【従来の技術】従来、ホログラム記録媒体として、漂白
処理銀塩および重クロム酸ゼラチン系の感光材料が一般
に使用されてきた。しかし、これらのホログラム記録媒
体によるホログラムの製造は、何れも感光板の作製方
法、ホログラム製造のための処理が煩雑であったり、製
造されたホログラムが耐環境特性、例えば耐湿性、耐候
性に劣る、また解像度に限界があるという問題点を有し
ていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, bleached silver salt and dichromated gelatin type photosensitive materials have been generally used as hologram recording media. However, in the production of holograms using these hologram recording media, the method for producing the photosensitive plate and the process for producing the holograms are complicated, and the produced holograms are inferior in environmental resistance characteristics such as moisture resistance and weather resistance. Moreover, there is a problem that the resolution is limited.

【0001】かかる問題を解決するために、耐環境特性
に優れ、且つ高解像度、高回折効率などのホログラムの
有すべき特性を備えた体積位相型ホログラムの製造方法
として、フォトポリマーを利用した例が知られている。
例えば、特公昭62−22152号公報では、担体とな
るべき重合体中に光重合性物質である2個以上のエチレ
ン性不飽和結合を有する多官能単量体を分散せしめた感
材を、輻射線の干渉パターンに露出する第1の工程、該
感材を第1の溶媒で処理し該感材を膨潤せしめる第2の
工程、膨潤作用の乏しい第2の溶媒で処理し該感材を収
縮せしめる第3の工程とを具備してなることを特徴とす
るホログラム製造方法が開示されている。しかしなが
ら、該公知文献における方法において、充分な回折効率
を有するホログラムを製造するためには50mJ/cm
2 以上の露光エネルギーが必要とされ、ホログラムの大
量複製、即ち露光時間の短縮化において重要な特性とな
る感度特性をより一層向上させることが望まれた。
In order to solve such a problem, an example of using a photopolymer as a method for producing a volume phase hologram having excellent environment resistance characteristics and having characteristics that a hologram should have, such as high resolution and high diffraction efficiency. It has been known.
For example, in JP-B-62-22152, a light-sensitive material prepared by dispersing a polyfunctional monomer having two or more ethylenically unsaturated bonds, which is a photopolymerizable substance, in a polymer to be a carrier is radiated. First step of exposing to a line interference pattern, second step of treating the sensitive material with a first solvent to swell the sensitive material, and treatment with a second solvent having a poor swelling action to shrink the sensitive material A hologram manufacturing method is disclosed, which comprises a third step. However, in order to produce a hologram having a sufficient diffraction efficiency, the method of the known document requires 50 mJ / cm 2.
More than two exposure energies are required, and it has been desired to further improve the sensitivity characteristics, which are important characteristics in mass replication of holograms, that is, in shortening the exposure time.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、化学的安定
性や耐環境特性に優れ、広い波長領域に渡って高い感度
特性を有し、且つ解像度、回折効率及び透明性に特に優
れたホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホ
ログラムの製造方法を提供するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is a hologram having excellent chemical stability and environmental resistance, high sensitivity over a wide wavelength range, and particularly excellent resolution, diffraction efficiency and transparency. The present invention provides a recording medium and a volume phase hologram manufacturing method using the same.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
点を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
本発明に至ったものである。すなわち、本発明の第一の
発明は、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ルの単一重合体、またはアクリル酸エステルまたはメタ
クリル酸エステルとビニルモノマーとの2成分以上の共
重合体である高分子化合物(A)、重合可能なエチレン
性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物
(B)、ピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導体
(C)およびスルホニウム有機ホウ素錯体(D)の組合
せを含むことを特徴とするホログラム記録用感光材料
が、光学的に透明な基材と、光学的に透明な保護膜に挟
まれて感光膜を形成していることを特徴とするホログラ
ム記録媒体であり、第二の発明は、前記ホログラム記録
媒体に、輻射線の干渉パターンに露出する第1の工程、
該記録媒体から未重合の該輻射線重合性物質を除去し且
つまた該記録媒体を膨潤せしめる溶媒にて処理する第2
の工程、さらに該記録媒体に対する溶解性及び膨潤性に
乏しい溶媒に、該記録媒体を接触せしめる第3の工程を
具備してなることを特徴とする体積位相型ホログラムの
製造方法であり、第三の発明は、前記ホログラム記録媒
体を輻射線による干渉パターンに露出する前あるいは後
に、紫外線、可視光線、電子線などの活性線への露出処
理、(および)または加熱処理することを特徴とする前
記体積位相型ホログラムの製造方法である。
Means for Solving the Problems In consideration of the above points, the present inventors have made earnest studies to achieve the above object, and as a result,
The present invention has been achieved. That is, the first invention of the present invention is a polymer compound (A) which is a homopolymer of an acrylic ester or a methacrylic ester, or a copolymer of two or more components of an acrylic ester or a methacrylic ester and a vinyl monomer. ), A compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond (B), a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and a sulfonium organoboron complex (D) in combination, for hologram recording. A second aspect of the present invention is a hologram recording medium, characterized in that a photosensitive material is formed by sandwiching an optically transparent base material and an optically transparent protective film to form a photosensitive film. A first step of exposing the recording medium to a radiation interference pattern,
A second treatment for removing the unpolymerized radiation-polymerizable substance from the recording medium and also treating with a solvent capable of swelling the recording medium;
And a third step of bringing the recording medium into contact with a solvent having poor solubility and swelling property with respect to the recording medium. In the invention, before or after exposing the hologram recording medium to an interference pattern due to radiation, exposure treatment to actinic rays such as ultraviolet rays, visible rays, electron rays, and / or heat treatment is performed. It is a method of manufacturing a volume phase hologram.

【0004】以下、詳細にわたって本発明を説明する。The present invention will be described in detail below.

【0005】本発明のホログラム記録媒体において使用
される高分子化合物(A)は、アクリル酸エステルまた
はメタクリル酸エステルの単一重合体、またはアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステルと、その他のビ
ニルモノマーとの2成分以上の共重合体である。具体的
なアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単
一重合体としては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、ドデシル、2−メチルブチル、3−メ
チルブチル、2−エチルブチル、1,3−ジメチルブチ
ル、2−エチルヘキシル、2−メチルペンチル、シクロ
ヘキシル、アダマンチル、イソボルニル、ジシクロペン
タニル、テトラヒドロフルフリールなどの鎖状、分枝状
及び環状アルキルのアクリル酸またはメタクリル酸エス
テルモノマーの重合体、フェニル、4−メトキシカルボ
ニルフェニル、4−エトキシカルボニルフェニル、4−
ブトキシカルボニルフェニル、4−tert−ブチルフ
ェニル、ベンジル、4−フェニルエチル、4−フェノキ
シジエチレングルコール、4−フェノキシテトラエチレ
ングリコール、4−フェノキシヘキサエチレングリコー
ル、4−ビフェニリルなどの芳香環を含有するアクリル
酸またはメタクリル酸エステルモノマーの重合体、フェ
ロセニルメチル、フェロセニルエチルなどの鉄原子を含
有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー
の重合体、トリフルオロエチル、テトラフルオロプロピ
ル、ヘプタデカフルオロデシル、オクタフルオロペンチ
ル、2,3−ジブロモプロピルなどのハロゲン原子を含
有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー
の重合体、トリメトキシシリルプロピルなどのケイ素原
子を含有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルの
重合体、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリ
レートなどのエポキシ基を含有するアクリル酸またはメ
タクリル酸エステルモノマーの重合体、N,N−ジメチ
ルアミノエチル、N,N−ジエチルアミノエチル、t−
ブチルアミノエチルなどのアミノ基を含有するアクリル
酸またはメタクリル酸エステルモノマーの重合体などが
挙げられる。これらのアクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステルモノマーは、必要に応じて2成分以上の
共重合体として使用することが可能である。
The polymer compound (A) used in the hologram recording medium of the present invention comprises a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester, or an acrylic acid ester or methacrylic acid ester and another vinyl monomer. It is a copolymer of more than one component. Specific homopolymers of acrylic acid ester or methacrylic acid ester include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl and dodecyl. , 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 2-ethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2-ethylhexyl, 2-methylpentyl, cyclohexyl, adamantyl, isobornyl, dicyclopentanyl, tetrahydrofurfuryl, etc. Polymers of branched and cyclic alkyl acrylic or methacrylic acid ester monomers, phenyl, 4-methoxycarbonylphenyl, 4-ethoxycarbonylphenyl, 4-
Acrylics containing aromatic rings such as butoxycarbonylphenyl, 4-tert-butylphenyl, benzyl, 4-phenylethyl, 4-phenoxydiethylene glycol, 4-phenoxytetraethylene glycol, 4-phenoxyhexaethylene glycol, 4-biphenylyl Polymers of acid or methacrylic acid ester monomers, ferrocenylmethyl, polymers of acrylic acid or methacrylic acid ester monomers containing iron atoms such as ferrocenylethyl, trifluoroethyl, tetrafluoropropyl, heptadecafluorodecyl, Polymers of acrylic acid or methacrylic acid ester monomers containing halogen atoms such as octafluoropentyl and 2,3-dibromopropyl, acetic acid containing silicon atoms such as trimethoxysilylpropyl. Polymer Le acid or methacrylic acid esters, polymers of acrylic acid or methacrylic acid ester monomer containing an epoxy group such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl, N, N-diethylaminoethyl, t-
Examples thereof include polymers of acrylic acid or methacrylic acid ester monomers containing an amino group such as butylaminoethyl. These acrylic acid ester or methacrylic acid ester monomers can be used as a copolymer of two or more components, if necessary.

【0006】前記したアクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステルモノマーとの2成分以上の共重合体とし
て使用できるビニルモノマーとしては、ブタジエン、イ
ソプレン、アクリルアミド、N−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロニトリ
ル、スチレン、4−ブロモスチレン、パーフルオロスチ
レン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、ビニル
ピロリジンなどが挙げられる。
Vinyl monomers that can be used as a copolymer of two or more components with the above-mentioned acrylic acid ester or methacrylic acid ester monomers include butadiene, isoprene, acrylamide, N-butylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acrylonitrile, Examples thereof include styrene, 4-bromostyrene, perfluorostyrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, vinylpyridine and vinylpyrrolidine.

【0007】本発明のホログラム記録媒体に供される重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有
する化合物(B)としては、1官能であるビニルモノマ
ーの他にオリゴマーを含むものであり、さらには高分子
量化合物であってもよく、またこれらの混合物であって
もよい。その様な化合物としては、アクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、マレイン酸、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ビニルカルバ
ゾール等の高沸点ビニルモノマー、さらには、脂肪族ポ
リヒドロキシ化合物、例えば、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3
−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5
−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,
10−デカンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビト
ール、マンニトールなどのジあるいはポリ(メタ)アク
リルエステル類、芳香族ポリヒドロキシ化合物、例え
ば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロ
ール等のジあるいはポリ(メタ)アクリルエステル、イ
ソシアヌル酸のエチレンオキシド変性(メタ)アクリレ
ート、さらには、側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチ
ル基の如き反応活性を有する官能基を持つ重合体とアク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの不飽和カルボ
ン酸との高分子反応によって得られるポリマーも好適に
使用しうる。このような高分子化合物としては、ポリビ
ニルアルコール、ビニルアルコールと酢酸ビニルとの共
重合体、ポリエピクロルヒドリン、フェノキシ樹脂、ポ
リクロロメチルスチレン、2−ヒドロキシ(メタ)アク
リレートと種々アクリレートモノマーとの共重合体、フ
ェノール樹脂などが挙げられる。さらには、(メタ)ア
クリル化されたエポキシ樹脂、ポリエステルアクリレー
トオリゴマー、(メタ)アクリル化ウレタンオリゴマ
ー、アクロレイン化ポリビニルアルコール等をあげるこ
とができる。
The compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond to be used in the hologram recording medium of the present invention includes an oligomer in addition to a monofunctional vinyl monomer, Further, it may be a high molecular weight compound or a mixture thereof. Examples of such a compound include high boiling point vinyl monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-vinylcarbazole, and the like. , Aliphatic polyhydroxy compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, 1,3
-Propanediol, 1,4-butanediol, 1,5
-Pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,
Di- or poly (meth) acrylic esters such as 10-decanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, and mannitol; aromatic polyhydroxy compounds such as hydroquinone, resorcin, catechol, and pyrogallol. Poly (meth) acrylic ester, ethylene oxide-modified (meth) acrylate of isocyanuric acid, and further a polymer having a functional group having a reactive activity such as a hydroxy group or a methyl halide group in the side chain and acrylic acid, methacrylic acid, croton A polymer obtained by a polymer reaction with an unsaturated carboxylic acid such as an acid can also be suitably used. Examples of such polymer compounds include polyvinyl alcohol, copolymers of vinyl alcohol and vinyl acetate, polyepichlorohydrin, phenoxy resin, polychloromethylstyrene, copolymers of 2-hydroxy (meth) acrylate with various acrylate monomers. , Phenolic resins and the like. Furthermore, (meth) acrylated epoxy resin, polyester acrylate oligomer, (meth) acrylated urethane oligomer, acroleinized polyvinyl alcohol, etc. can be mentioned.

【0008】本発明で使用のピリリウム塩またはチオピ
リリウム塩誘導体(C)は、一般式(1)
The pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) used in the present invention has the general formula (1)

【0009】一般式(1)General formula (1)

【化1】 [Chemical 1]

【0010】(式中、R1 〜R5 は、それぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良いアルキル
基、置換基を有しても良いハロアルキル基、置換基を有
しても良いアルケニル基、置換基を有しても良いスチリ
ル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有
しても良いアリール基、ニトロ基、置換基を有しても良
いアミノ基、ヒドロキシ基、置換基を有していも良い複
素環基より選ばれる基を示す。R1 とR2 、R2
3 、R3 とR4 、R4 とR5 は、それぞれ一体となっ
て、芳香環または複素環を形成しても良い。また、Yは
酸素原子または硫黄原子を示し、Xは、ハロゲン、BF
4 、PF6 、AsF6 、ClO4 、SbF6 、CF3
3 、CH3 SO3 、またはCH3 6 4 SO3 を示
す。)で表される。
(In the formula, R 1 to R 5 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, a haloalkyl group which may have a substituent, or a substituent. Alkenyl group, optionally substituted styryl group, optionally substituted alkoxy group, optionally substituted aryl group, nitro group, optionally substituted group A group selected from an amino group, a hydroxy group, and a heterocyclic group which may have a substituent, R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 are respectively Together, they may form an aromatic ring or a heterocyclic ring, Y represents an oxygen atom or a sulfur atom, X represents a halogen, BF.
4 , PF 6 , AsF 6 , ClO 4 , SbF 6 , CF 3 S
Indicates O 3 , CH 3 SO 3 , or CH 3 C 6 H 4 SO 3 . ).

【0011】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素原子が挙げられ、置換基を有しても良いアル
キル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基な
どの直鎖状あるいは分枝状のアルキル基が挙げられ、置
換基を有しても良いハロアルキル基の置換基としてはフ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子が挙げら
れ、置換基を有しても良いアルケニル基としては、ビニ
ル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基などが挙げら
れ、置換基を有しても良いスチリル基としては、スチリ
ル基、p−メチルスチリル基、p−メトキシスチリル
基、p−エトキシスチリル基、p−tert−ブチルス
チリル基、p−クロロスチリル基、p−ジメチルアミノ
スチリル基、p−ニトロスチリル基などが挙げられ、置
換基を有しても良いアルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポシキ基、ブ
トキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブト
キシ基、tert−ブトキシ基、ベンジルオキシ基など
が挙げられ、置換基を有しても良いアリール基として
は、フェニル基、p−トリル基、p−tert−ブチル
フェニル基、p−クロロフェニル基、p−メトキシフェ
ニル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンス
リル基、フェナントリル基などが挙げられ、置換基を有
しても良いアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基などが挙げられる。
The halogen atom includes fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms, and the alkyl group which may have a substituent includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and an isobutyl group. , Sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group,
Examples thereof include linear or branched alkyl groups such as octyl group, decyl group, dodecyl group and octadecyl group, and examples of the substituent of the haloalkyl group which may have a substituent include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Examples of the alkenyl group that may have a substituent include a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1-butenyl group, and the like, and as the styryl group that may have a substituent, Examples include styryl group, p-methylstyryl group, p-methoxystyryl group, p-ethoxystyryl group, p-tert-butylstyryl group, p-chlorostyryl group, p-dimethylaminostyryl group, p-nitrostyryl group and the like. Examples of the alkoxy group which may have a substituent include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group and a butoxy group. Examples of the aryl group that may have a substituent include a phenyl group, a p-tolyl group, a p-tert-butylphenyl group, and an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, and a benzyloxy group. A p-chlorophenyl group, a p-methoxyphenyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and the like can be mentioned. Examples of the amino group which may have a substituent include a dimethylamino group and a diethylamino group. Is mentioned.

【0012】一般式(1)で示される具体的な化合物と
しては、2,4,6−トリフェニルピリリウム、2,
4,6−トリス(4−メトキシフェニル)ピリリウム、
2,4,6−トリス(4−ブトキシフェニル)ピリリウ
ム、2,4,6−トリス(4−ジメチルアミノフェニ
ル)ピリリウム、2,6−ジフェニル−4−(4−メト
キシフェニル)ピリリウム、4−(4−ブトキシフェニ
ル)−2,6−ジフェニルピリリウム、2,6−ビス
(4−メトキシフェニル)−4−フェニルピリリウム、
4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2,6−ジフェ
ニルピリリウム、4−(2,4−ジクロロフェニル)−
2,6−ジフェニルピリリウム、2,6−ジフェニル−
4−(4−エチルフェニル)ピリリウム、2,6−ビス
(4−ブトキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニ
ル)ピリリウム、2−(4−エトキシフェニル)−4,
6−ジフェニルピリリウム、2−(β,β−ビス(4−
ジメチルアミノフェニル)ビニレン)−4,6−ジフェ
ニルピリリウム、2−(4−ジメチルアミノスチリル)
−4,6−ジフェニルピリリウム、2−(3,4−ジエ
トキシスチリル)−4,6−ジフェニルピリリウム、2
−(4−ジメチルアミノ−β−エチルスチリル)−4,
6−ジフェニルピリリウム、4,6−ビス(4−ブチル
フェニル)−2−(4−ニトロフェニル)ピリリウム、
2,6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−メチルピ
リリウム、4,6−ビス(4−ジメチルアミノフェニル
−β−メトキシスチリル)−2−ヒドロキシピリリウ
ム、4−(4−メトキシフェニル)−2−ニトロ−6−
フェニルピリリウム、4,6−ビス(4−ジメチルアミ
ノスチリル)−2−ニトロピリリウム、4,6−ビス
(4−ブトキシスチリル)−2−アミノピリリウム、2
−メトキシ−4−ナフチル−6−スチリルピリリウム、
2,4,6−トリフェニルチオピリリウム、2,4,6
−トリス(4−メトキシフェニル)チオピリリウム、
2,4,6−トリス(4−ブトキシフェニル)チオピリ
リウム、2,4,6−トリス(4−ジメチルアミノフェ
ニル)チオピリリウム、2,6−ジフェニル−4−(4
−メトキシフェニル)チオピリリウム、4−(4−ブト
キシフェニル)−2,6−ジフェニルチオピリリウム、
2,6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−フェニル
チオピリリウム、4−(4−ジメチルアミノフェニル)
−2,6−ジフェニルチオピリリウム、4−(2,4−
ジクロロフェニル)−2,6−ジフェニルチオピリリウ
ム、2,6−ジフェニル−4−(4−エチルフェニル)
チオピリリウム、2,6−ビス(4−ブトキシフェニ
ル)−4−(4−メトキシフェニル)チオピリリウム、
2−(4−エトキシフェニル)−4,6−ジフェニルチ
オピリリウム、2−(β,β−ビス(4−ジメチルアミ
ノフェニル)ビニレン)−4,6−ジフェニルチオピリ
リウム、2−(4−ジメチルアミノスチリル)−4,6
−ジフェニルチオピリリウム、2−(3,4−ジエトキ
シスチリル)−4,6−ジフェニルチオピリリウム、2
−(4−ジメチルアミノ−β−エチルスチリル)−4,
6−ジフェニルチオピリリウム、4,6−ビス(4−ブ
チルフェニル)−2−(4−ニトロフェニル)チオピリ
リウム、2,6−ビス(4−メトキシフェニル)−4−
メチルチオピリリウム、4,6−ビス(4−ジメチルア
ミノフェニル−β−メトキシスチリル)−2−ヒドロキ
シチオピリリウム、4−(4−メトキシフェニル)−2
−ニトロ−6−フェニルチオピリリウム、4,6−ビス
(4−ジメチルアミノスチリル)−2−ニトロチオピリ
リウム、4,6−ビス(4−ブトキシスチリル)−2−
アミノチオピリリウム、2−メトキシ−4−ナフチル−
6−スチリルチオピリリウムなどの塩素塩、臭素塩、ヨ
ウ素塩、テトラフルオロボレート塩、過塩素酸塩、ヘキ
サフルオロアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェ
ート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩などの他、「ケ
ミッシュ・ベリヒテ(Chem.Ber.)」、第23
09頁〜2320頁(1959年)記載、あるいは、
「ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
(J.Org.Chem.)」第36巻、第600頁〜
602頁(1971年)記載の化合物を例示することが
できる。
Specific compounds represented by the general formula (1) include 2,4,6-triphenylpyrylium, 2,
4,6-tris (4-methoxyphenyl) pyrylium,
2,4,6-Tris (4-butoxyphenyl) pyrylium, 2,4,6-tris (4-dimethylaminophenyl) pyrylium, 2,6-diphenyl-4- (4-methoxyphenyl) pyrylium, 4- ( 4-butoxyphenyl) -2,6-diphenylpyrylium, 2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-phenylpyrylium,
4- (4-dimethylaminophenyl) -2,6-diphenylpyrylium, 4- (2,4-dichlorophenyl)-
2,6-diphenylpyrylium, 2,6-diphenyl-
4- (4-ethylphenyl) pyrylium, 2,6-bis (4-butoxyphenyl) -4- (4-methoxyphenyl) pyrylium, 2- (4-ethoxyphenyl) -4,
6-diphenylpyrylium, 2- (β, β-bis (4-
Dimethylaminophenyl) vinylene) -4,6-diphenylpyrylium, 2- (4-dimethylaminostyryl)
-4,6-diphenylpyrylium, 2- (3,4-diethoxystyryl) -4,6-diphenylpyrylium, 2
-(4-dimethylamino-β-ethylstyryl) -4,
6-diphenylpyrylium, 4,6-bis (4-butylphenyl) -2- (4-nitrophenyl) pyrylium,
2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-methylpyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminophenyl-β-methoxystyryl) -2-hydroxypyrylium, 4- (4-methoxyphenyl) -2-Nitro-6-
Phenylpyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminostyryl) -2-nitropyrylium, 4,6-bis (4-butoxystyryl) -2-aminopyrylium, 2
-Methoxy-4-naphthyl-6-styrylpyrylium,
2,4,6-triphenylthiopyrylium, 2,4,6
-Tris (4-methoxyphenyl) thiopyrylium,
2,4,6-Tris (4-butoxyphenyl) thiopyrylium, 2,4,6-tris (4-dimethylaminophenyl) thiopyrylium, 2,6-diphenyl-4- (4
-Methoxyphenyl) thiopyrylium, 4- (4-butoxyphenyl) -2,6-diphenylthiopyrylium,
2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-phenylthiopyrylium, 4- (4-dimethylaminophenyl)
-2,6-diphenylthiopyrylium, 4- (2,4-
Dichlorophenyl) -2,6-diphenylthiopyrylium, 2,6-diphenyl-4- (4-ethylphenyl)
Thiopyrylium, 2,6-bis (4-butoxyphenyl) -4- (4-methoxyphenyl) thiopyrylium,
2- (4-ethoxyphenyl) -4,6-diphenylthiopyrylium, 2- (β, β-bis (4-dimethylaminophenyl) vinylene) -4,6-diphenylthiopyrylium, 2- (4- Dimethylaminostyryl) -4,6
-Diphenylthiopyrylium, 2- (3,4-diethoxystyryl) -4,6-diphenylthiopyrylium, 2
-(4-dimethylamino-β-ethylstyryl) -4,
6-diphenylthiopyrylium, 4,6-bis (4-butylphenyl) -2- (4-nitrophenyl) thiopyrylium, 2,6-bis (4-methoxyphenyl) -4-
Methylthiopyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminophenyl-β-methoxystyryl) -2-hydroxythiopyrylium, 4- (4-methoxyphenyl) -2
-Nitro-6-phenylthiopyrylium, 4,6-bis (4-dimethylaminostyryl) -2-nitrothiopyrylium, 4,6-bis (4-butoxystyryl) -2-
Aminothiopyrylium, 2-methoxy-4-naphthyl-
In addition to chlorine salts such as 6-styrylthiopyrylium, bromine salts, iodine salts, tetrafluoroborate salts, perchlorates, hexafluoroantimonate salts, hexafluorophosphate salts, hexafluoroarsenate salts, etc. Chem. Ber. ”, No. 23
09 to 2320 (1959), or
"Journal of Organic Chemistry", Vol. 36, page 600-
The compounds described on page 602 (1971) can be exemplified.

【0013】次に、本発明で使用のスルホニウム有機ホ
ウ素錯体(D)は、一般式(2)
Next, the sulfonium organic boron complex (D) used in the present invention is represented by the general formula (2)

【0014】一般式(2)General formula (2)

【化2】 (式中R6 〜R8 はそれぞれ独立に、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置
換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよ
いアルキレン基、置換基を有してもよい脂環基、置換基
を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいア
リールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ
基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有
してもよいアミノ基より選ばれる基を、R9 は酸素原子
もしくは孤立電子対を、R10、R11、R12およびR13
それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい
アルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基より
選ばれる基を示し、R6 、R7 およびR8 はその2個以
上の基が結合している環状構造であってもよく、R6
7 およびR8 の二つ以上が同時に置換基を有してもよ
いアリール基となることはなく、R10〜R13全てが同時
に置換基を有してもよいアリール基となることはな
い。)で表されるスルホニウム有機ホウ素錯体またはオ
キソスルホニウム有機ホウ素錯体から選ばれるスルホニ
ウム有機ホウ素錯体を示す。一般式(2)で表されるス
ルホニウム有機ホウ素錯体は、特願平4−56831号
にて記載の方法に従い合成することができる。
[Chemical 2] (In the formula, R 6 to R 8 each independently have an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, and a substituent which may have a substituent. Alkylene group which may be substituted, alicyclic group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, and which may have a substituent A group selected from an alkylthio group, an arylthio group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent, R 9 is an oxygen atom or a lone electron pair, R 10 , R 11 , R 12 and R 13's each independently represent an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, or an alkynyl group which may have a substituent. A group selected from the group consisting of two or more groups represented by R 6 , R 7 and R 8 It may have a cyclic structure, and R 6 ,
Two or more of R 7 and R 8 do not become an aryl group which may have a substituent at the same time, and all R 10 to R 13 do not become an aryl group which may have a substituent at the same time. . ) Represents a sulfonium organoboron complex selected from a sulfonium organoboron complex or an oxosulfonium organoboron complex. The sulfonium organic boron complex represented by the general formula (2) can be synthesized according to the method described in Japanese Patent Application No. 4-56831.

【0015】一般式(2)におけるスルホニウムまたは
オキソスルホニウムカチオン上の置換基R6 、R7 およ
びR8 において、置換基を有してもよいアルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、ベンジル基、アセトニル基、フェナシル基、サリチ
ル基、アニシル基、シアノメチル基、クロロメチル基、
ブロモメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキ
シカルボニルメチル基、メンチル基、ピナニル基等が、
置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル
基、p−トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、p−メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ナフチ
ル基、アンスリル基、フェナントリル基、p−シアノフ
ェニル基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル基、p−フルオロフェニル基、p−クロロフェニル
基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−フェニルチオ
フェニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル基と
しては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル
基、3,3−ジシアノ−1−プロペニル基等が、置換基
を有してもよい脂環基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、1−シ
クロヘキセニル基等が、置換基を有してもよいアルコキ
シル基としてはメトキシ基、tert−ブトキシ基、ベ
ンジルオキシ基等が、置換基を有してもよいアリールオ
キシ基としては、フェノキシ基、p−トリルオキシ基、
p−フルオロフェノキシ基、p−ニトロフェノキシ基等
が、置換基を有してもよいアルキルチオ基としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等が、置換基
を有してもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ
基、p−トリルチオ基、p−シアノフェニルチオ基等
が、置換基を有してもよいアミノ基としては、アミノ
基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基
等が挙げられ、さらにR6 、R7 およびR8 はその2個
以上の基が結合している環状構造であってもよく、例え
ば、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1,4−ジ
クロロテトラメチレン基等の置換基を有してもよいアル
キレン基、エチレンジオキシ基、ジエチレンジオキシ
基、アジポイル基、エチレンジチオ基等が挙げられるが
本発明はこれらに限定されるものではない。
In the substituents R 6 , R 7 and R 8 on the sulfonium or oxosulfonium cation in the general formula (2), the alkyl group which may have a substituent is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, te
rt-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, allyl group, benzyl group, acetonyl group, phenacyl group, salicyl group, anisyl group, cyanomethyl group, chloromethyl group,
Bromomethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, menthyl group, pinanyl group, etc.
Examples of the aryl group which may have a substituent include a phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, p-methoxyphenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, p- Cyanophenyl group, 2,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, p-fluorophenyl group, p-chlorophenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-phenylthiophenyl group, etc. have a substituent As the alkenyl group which may also be a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1-butenyl group, a 3,3-dicyano-1-propenyl group, or the like, an alicyclic group which may have a substituent is a cyclopentyl group, A cyclohexyl group, a norbornyl group, a bornyl group, a 1-cyclohexenyl group and the like are methoxy as an alkoxyl group which may have a substituent. , Tert- butoxy group, a benzyloxy group, the aryloxy group which may have a substituent, a phenoxy group, p- tolyloxy group,
P-fluorophenoxy group, p-nitrophenoxy group and the like are alkylthio groups which may have a substituent, methylthio group, ethylthio group, butylthio group and the like are arylthio groups which may have a substituent. , Phenylthio group, p-tolylthio group, p-cyanophenylthio group and the like, the amino group which may have a substituent is, for example, amino group, methylamino group, dimethylamino group, cyclohexylamino group, anilino group, piperidino group. Group, morpholino group and the like, and R 6 , R 7 and R 8 may have a cyclic structure in which two or more groups are bonded, and examples thereof include a tetramethylene group, a pentamethylene group, 1, Alkylene group which may have a substituent such as 4-dichlorotetramethylene group, ethylenedioxy group, diethylenedioxy group, adipoyl group and ethyle The present invention is not limited to these.

【0016】また、一般式(2)における有機ホウ素ア
ニオン上の置換基R10〜R13において、置換基を有して
もよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s
ec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタ
デシル基、アリル基、ベンジル基等が、置換基を有して
もよいアリール基としては、フェニル基、p−トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、p−メトキ
シフェニル基、ナフチル基、2,4−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル基、p−フルオロフェニル基、p−
クロロフェニル基、p−ブロモフェニル基等が、置換基
を有してもよいアルケニル基としては、ビニル基、1−
プロペニル基、1−ブテニル基等が、置換基を有しても
よいアルキニル基としては、エテニル基、2−tert
−ブチルエテニル基、2−フェニルエテニル基等が挙げ
られるが本発明はこれらに限定されるものではない。
In the substituents R 10 to R 13 on the organic boron anion in the general formula (2), the alkyl group which may have a substituent is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, Butyl group, isobutyl group, s
An ec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, an octadecyl group, an allyl group, a benzyl group and the like, an aryl group which may have a substituent is phenyl. Group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, p-methoxyphenyl group, naphthyl group, 2,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, p-fluorophenyl group, p-
Examples of the alkenyl group which may have a substituent include a chlorophenyl group and a p-bromophenyl group, and a vinyl group, 1-
Examples of the alkynyl group which may have a substituent include a propenyl group and a 1-butenyl group, and an ethenyl group and 2-tert.
Examples thereof include -butylethenyl group and 2-phenylethenyl group, but the present invention is not limited thereto.

【0017】一般式(2)において特に好ましい構造と
しては、R6 、R7 およびR8 のうち少なくとも1つ
が、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有しても
よいベンジル基、置換基を有しても良いビニル基、もし
くは置換基を有してもよいフェナシル基のいずれかであ
り、R10が置換基を有してもよいアルキル基であり、R
11、R12およびR13が置換基を有してもよいアリール基
である構造である。
In the general formula (2), as a particularly preferred structure, at least one of R 6 , R 7 and R 8 is an allyl group which may have a substituent or a benzyl group which may have a substituent. , A vinyl group which may have a substituent, or a phenacyl group which may have a substituent, and R 10 is an alkyl group which may have a substituent;
A structure in which 11 , R 12 and R 13 are aryl groups which may have a substituent.

【0018】この理由として、一般式(2)で示される
スルホニウム有機ホウ素錯体が、ピリリウム塩またはチ
オピリリウム塩誘導体(C)によって効果的に光増感分
解されることが要求されるが、R6 、R7 およびR8
内、少なくとも一つに、置換基を有してもよいアリル
基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有して
もよいビニル基、もしくは置換基を有してもよいフェナ
シル基を導入することによって、一般式(2)で示され
る重合開始剤の電子受容性が高まり、且つ、これらの基
が優先的且つ効率的にスルホニウムまたはオキソスルホ
ニウムカチオンから分解する性質を帯びることによっ
て、フリーラジカルの発生効率が高まると考えられ、そ
の結果感度の向上を図ることが可能となるからである。
[0018] For this reason, a sulfonium organic boron complex represented by the general formula (2) is, but effectively is required to be degraded photosensitized by pyrylium salt or thiopyrylium salt derivatives (C), R 6, At least one of R 7 and R 8 is an aryl group which may have a substituent, a benzyl group which may have a substituent, a vinyl group which may have a substituent, or a substituent. By introducing the phenacyl group which may be contained, the electron accepting property of the polymerization initiator represented by the general formula (2) is enhanced, and these groups are preferentially and efficiently decomposed from the sulfonium or oxosulfonium cation. This is because it is considered that the efficiency of generating free radicals is increased by imparting such a property, and as a result, the sensitivity can be improved.

【0019】具体的な化合物(a)ないし(g)を次に
示す。
Specific compounds (a) to (g) are shown below.

【0020】化合物(a)Compound (a)

【化3】 [Chemical 3]

【0021】化合物(b)Compound (b)

【化4】 [Chemical 4]

【0022】化合物(c)Compound (c)

【化5】 [Chemical 5]

【0023】化合物(d)Compound (d)

【化6】 [Chemical 6]

【0024】化合物(e)Compound (e)

【化7】 [Chemical 7]

【0025】化合物(f)Compound (f)

【化8】 [Chemical 8]

【0026】化合物(g)Compound (g)

【化9】 [Chemical 9]

【0027】本発明のホログラム記録媒体は、アクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単一重合体、
またはアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
とビニルモノマーとの2成分以上の共重合体である高分
子化合物(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも1個有する化合物(B)、ピリリウム塩または
チオピリリウム塩誘導体(C)及びスルホニウム有機ホ
ウ素錯体(D)を適当な溶媒中に溶解させ、得られた溶
液を光学的に透明な基材上、あるいは光学的に透明な保
護膜上に皮膜状に塗布して形成される。塗布される厚み
は、乾燥後の膜厚として1μmから20μmにすること
が好ましく、4μmから10μmの範囲がより好まし
い。上記各成分の配合比に特定の制限はないが、照射用
レーザ光の透過率が1%以上となるようにピリリウム塩
またはチオピリリウム塩誘導体(C)の濃度を調製する
ことが好ましい。さらに必要に応じて、各種添加剤、例
えば可塑剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等を添加しても
よい。
The hologram recording medium of the present invention is a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester,
Alternatively, a polymer compound (A) which is a copolymer of two or more components of an acrylic ester or methacrylic ester and a vinyl monomer, a compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond, a pyrylium salt, or The thiopyrylium salt derivative (C) and the sulfonium organoboron complex (D) are dissolved in a suitable solvent, and the resulting solution is formed into a film on an optically transparent substrate or an optically transparent protective film. It is formed by coating. The applied thickness is preferably 1 μm to 20 μm as a film thickness after drying, and more preferably 4 μm to 10 μm. There is no particular limitation on the compounding ratio of each of the above components, but it is preferable to adjust the concentration of the pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) so that the transmittance of the irradiation laser light is 1% or more. Further, if necessary, various additives such as a plasticizer, an antioxidant and a thermal polymerization inhibitor may be added.

【0028】アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステルの単一重合体、またはアクリル酸エステルまたは
メタクリル酸エステルとビニルモノマーとの2成分以上
の共重合体である高分子化合物(A)のホログラム記録
材料に占める量は、高回折効率、高解像度、高透明性を
有する体積位相型ホログラムを製造するためには、10
〜90重量%、好ましくは、30〜70重量%である。
重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上
有する化合物(B)の使用量は、アクリル酸エステルま
たはメタクリル酸エステルの単一重合体、またはアクリ
ル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとビニルモノ
マーとの2成分以上の共重合体である高分子化合物
(A)100重量部に対し10〜200重量部、好まし
くは40〜150重量部である。上記範囲を逸脱すると
高い回折効率の維持および感度特性の向上が困難となる
ので好ましくない。
Amount of polymer compound (A), which is a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester, or a copolymer of two or more components of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and vinyl monomer, in the hologram recording material. Is required to produce a volume phase hologram having high diffraction efficiency, high resolution and high transparency.
˜90 wt%, preferably 30-70 wt%.
The amount of the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond used is a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester, or two components of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and vinyl monomer. The amount is 10 to 200 parts by weight, preferably 40 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer compound (A) which is the above copolymer. If it deviates from the above range, it becomes difficult to maintain high diffraction efficiency and improve sensitivity characteristics, which is not preferable.

【0029】本発明のホログラム記録媒体で使用される
光重合開始剤のうち、ピリリウム塩またはチオピリリウ
ム塩誘導体(C)は、アクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステルの単一重合体、またはアクリル酸エステ
ルまたはメタクリル酸エステルとビニルモノマーとの2
成分以上の共重合体である高分子化合物(A)100重
量部に対し、0.1〜30重量部、好ましくは、0.5
〜15重量部の範囲で使用される。使用量は、感光層膜
厚と、該膜厚の光学密度によって制限を受ける。即ち、
光学密度が2を越さない範囲で使用することが好まし
い。また、光重合開始剤のもう一方の成分であるスルホ
ニウム有機ホウ素錯体(D)は、アクリル酸エステルま
たはメタクリル酸エステルの単一重合体、またはアクリ
ル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとビニルモノ
マーとの2成分以上の共重合体である高分子化合物
(A)100重量部に対し、0.1〜20重量部、好ま
しくは1〜15重量部の範囲で使用される。
Among the photopolymerization initiators used in the hologram recording medium of the present invention, the pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) is a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester, or acrylic acid ester or methacrylic acid ester. 2 of ester and vinyl monomer
0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.5 to 100 parts by weight of the polymer compound (A) which is a copolymer of at least one component.
Used in the range of up to 15 parts by weight. The amount used is limited by the film thickness of the photosensitive layer and the optical density of the film thickness. That is,
It is preferably used in a range where the optical density does not exceed 2. The sulfonium organoboron complex (D) which is the other component of the photopolymerization initiator is a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester, or two or more components of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and a vinyl monomer. It is used in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer compound (A) which is a copolymer.

【0030】本発明におけるホログラム記録用感光材料
は、輻射線の干渉パターンに露出する前に、光学的に透
明な基材と光学的に透明な保護膜に挟まれた記録媒体と
して使用される。光学的に透明な基材としてはガラス
板、ポリカーボネ−ト板、ポリメチルメタクリレート板
またはポリエステルフィルムなどが挙げられる。また、
光学的に透明な保護膜としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンあるいはセロファン
フィルムなどが挙げられる。該ホログラム記録用感光材
料が前記した透明な基材上に形成されている場合は、前
記した光学的に透明な保護膜を、溶液状態での塗布、静
電的な密着、押し出し機を使った積層、あるいは予め粘
着剤を該保護膜に塗布したフィルムを貼り合わせること
によって、該感材上に積層することができる。一方、該
ホログラム記録用感光材料が前記した透明な保護膜上に
形成されている場合は、光学的に透明な基材に該感材面
側を密着せしめる方法にて貼り合わせることができる。
The photosensitive material for hologram recording in the present invention is used as a recording medium which is sandwiched between an optically transparent base material and an optically transparent protective film before being exposed to a radiation interference pattern. Examples of the optically transparent substrate include a glass plate, a polycarbonate plate, a polymethylmethacrylate plate and a polyester film. Also,
Examples of the optically transparent protective film include polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and cellophane film. When the photosensitive material for hologram recording is formed on the above-mentioned transparent base material, the above-mentioned optically transparent protective film is applied in a solution state, electrostatically adhered, or using an extruder. It can be laminated on the photosensitive material by laminating or laminating a film in which an adhesive is applied to the protective film in advance. On the other hand, when the hologram recording photosensitive material is formed on the above-mentioned transparent protective film, it can be bonded by a method of bringing the photosensitive material surface side into close contact with an optically transparent substrate.

【0031】この様に、本発明におけるホログラム記録
用感光材料を、輻射線の干渉パターンに露出する前に、
光学的に透明な基材と光学的に透明な保護膜に挟まれた
記録媒体の形態にて使用することにより、該ホログラム
記録感材を様々な外的作用から保護すると共に、輻射線
の干渉露光において該記録感材中で生ずるラジカル重合
の酸素による阻害作用を抑制することが可能となる。
As described above, before exposing the hologram recording photosensitive material of the present invention to the radiation interference pattern,
By using it in the form of a recording medium sandwiched between an optically transparent base material and an optically transparent protective film, the hologram recording photosensitive material is protected from various external effects and radiation interference It is possible to suppress the inhibitory effect of oxygen on radical polymerization that occurs in the recording light-sensitive material during exposure.

【0032】次に、本発明の体積位相型ホログラムの製
造方法について説明する。すなわち、前記したホログラ
ム記録媒体を、輻射線、特にHe−Cdレーザー、Ar
イオンレーザー、He−Neレーザー、Krイオンレー
ザー、あるいはルビーレーザーなどから発振される可視
レーザー光線の干渉パターンに露出する第1の工程に処
する。次いで該記録媒体を被覆している前記保護膜を該
記録媒体から剥離除去せしめた後に、該記録媒体から未
重合の該輻射線重合性物質を除去し、且つまた該記録媒
体におけるアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エス
テルの単一重合体、またはアクリル酸エステルまたはメ
タクリル酸エステルとビニルモノマーとの2成分以上の
共重合体である高分子化合物(A)を膨潤せしめる作用
を有する溶媒に浸漬する第2の工程、いわゆる膨潤工程
に処する。該工程に好適に用いられる溶媒としては、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系有機溶媒、
酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系有機溶
媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン系有機溶媒、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノールなどのアルコール系有機溶媒、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル系有機溶
媒、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロエタ
ンなどの塩素系有機溶媒など一般的に用いられる有機溶
媒、あるいはこれらの混合溶媒を適用することができ
る。その場合、該ホログラム記録媒体におけるアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単一重合体、
またはアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
とビニルモノマーとの2成分以上の共重合体である高分
子化合物(A)を、完全には溶解せず膨潤させる作用を
有することが必要で、使用する該高分子化合物(A)の
種類によって適宜選択する必要がある。該膨潤工程を完
遂するに必要な浸漬時間は、使用する溶媒の膨潤効率及
び浸漬温度によって異なるが、室温の場合、概ね30秒
から5分の間にて完了する。
Next, a method of manufacturing the volume phase hologram of the present invention will be described. That is, the hologram recording medium described above is converted into radiation, particularly He-Cd laser, Ar.
The first step of exposing to an interference pattern of a visible laser beam emitted from an ion laser, a He-Ne laser, a Kr ion laser, a ruby laser, or the like is performed. Then, the protective film coating the recording medium is peeled off from the recording medium, the unpolymerized radiation-polymerizable substance is removed from the recording medium, and the acrylate ester or Second step of immersing the polymer compound (A), which is a homopolymer of methacrylic acid ester or a copolymer of two or more components of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and vinyl monomer, in a solvent having an action of swelling , So-called swelling process. As the solvent preferably used in the step, benzene, toluene, an aromatic organic solvent such as xylene,
Ethyl acetate, acetate organic solvents such as butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, ketone organic solvents such as cyclohexanone, alcohol organic solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, dioxane, cyclic ether organic solvents such as tetrahydrofuran, dichloromethane, A commonly used organic solvent such as a chlorine-based organic solvent such as chloroform or tetrachloroethane, or a mixed solvent thereof can be applied. In that case, a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester in the hologram recording medium,
Alternatively, it is necessary that the polymer compound (A), which is a copolymer of two or more components of an acrylic acid ester or a methacrylic acid ester and a vinyl monomer, does not completely dissolve but has a function of swelling. It is necessary to select it appropriately depending on the type of the molecular compound (A). The dipping time required to complete the swelling step varies depending on the swelling efficiency of the solvent used and the dipping temperature, but at room temperature, the dipping time is generally completed within 30 seconds to 5 minutes.

【0033】前記膨潤処理工程に次いで、さらに、該記
録媒体に対する溶解性及び膨潤性に乏しい溶媒に、該記
録媒体を接触せしめ、前記膨潤処理工程にて膨潤した該
記録媒体を収縮せしめる第3の工程、いわゆる収縮処理
工程に処する。該工程に好適に用いられる溶媒の具体例
としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテ
ルなどのn−アルカン系有機溶媒が好適に用いられる
が、該記録媒体を収縮せしめる作用を有する溶媒であれ
ば、前記した溶媒に限定されるものではない。
Next to the swelling treatment step, the recording medium is brought into contact with a solvent having poor solubility and swelling property with respect to the recording medium, and the recording medium swollen in the swelling treatment step is contracted. Process, so-called shrinking process. Specific examples of the solvent preferably used in the step include n-alkane organic solvents such as pentane, hexane, heptane, and petroleum ether, but any solvent having an action of shrinking the recording medium can be used. However, the solvent is not limited to the above-mentioned solvents.

【0034】さらに、本発明のホログラム用記録媒体を
用いた体積位相型ホログラムの製造において、該記録媒
体を輻射線の干渉パターンに露出する前あるいは後に、
該記録媒体を紫外線、可視光線、または電子線などの活
性線に露出処理する、(および)または加熱処理するこ
とにより、本発明における体積位相型ホログラムの製造
をさらに効果的なものにすることが可能である。
Further, in the production of a volume phase hologram using the hologram recording medium of the present invention, before or after exposing the recording medium to the radiation interference pattern,
By exposing the recording medium to actinic rays such as ultraviolet rays, visible rays, or electron rays, and / or by subjecting it to heat treatment, the production of the volume phase hologram of the present invention can be made more effective. It is possible.

【0035】前記した処理のために用いられる活性線源
に特に限定はないが、紫外線源としては、低圧水銀灯、
中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンラン
プ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光
灯、タングステンランプなどが、また可視光線源として
は、前記光線源の他に、He−Cd、Arイオンなどの
可視光レーザー光源、白色灯、蛍光灯などを使用するこ
とが可能である。この場合、使用される活性光源から発
せられる活性線は、本発明のホログラム記録媒体に使用
される、ピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導体
(C)及び(または)スルホニウム有機ホウ素錯体
(D)によって効果的に吸収される必要がある。これら
活性線に露出する時間及び露出量は活性線源によって異
なるので、適宜、最適値を決める必要がある。
The actinic radiation source used for the above treatment is not particularly limited, but as the ultraviolet ray source, a low pressure mercury lamp,
Medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, and the like, and visible light sources other than the above light source, such as He-Cd and Ar ions. It is possible to use a visible light laser light source, a white light, a fluorescent light, or the like. In this case, the actinic ray emitted from the actinic light source used is effectively provided by the pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and / or the sulfonium organoboron complex (D) used in the hologram recording medium of the present invention. Need to be absorbed. Since the exposure time and the exposure amount of these actinic rays differ depending on the actinic ray source, it is necessary to appropriately determine the optimum value.

【0036】また加熱処理用の熱源としては、一般的に
は熱循環式オーブンあるいは加熱ロールが好適に用いら
れるが、これに限定されるものではない。加熱処理温度
範囲は50℃から120℃の間が好ましく、より好まし
くは60℃から90℃の間である。
As the heat source for the heat treatment, a heat circulation type oven or a heating roll is generally preferably used, but the heat source is not limited to this. The heat treatment temperature range is preferably between 50 ° C and 120 ° C, more preferably between 60 ° C and 90 ° C.

【作用】本発明のホログラム記録媒体は、アクリル酸エ
ステルまたはメタクリル酸エステルの単一重合体、また
はアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとビ
ニルモノマーとの2成分以上の共重合体である高分子化
合物(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少なく
とも1個以上有する化合物(B)、ピリリウム塩または
チオピリリウム塩誘導体(C)およびスルホニウム有機
ホウ素錯体(D)の組合せを含むことを特徴とする。本
発明において使用されるピリリウム塩またはチオピリリ
ウム塩誘導体(C)は、Arイオンレーザー、He−C
dレーザー、He−Neレーザー、あるいはKrイオン
レーザーなどの可視レーザー光源から発振される可視光
を効率良く吸収し、その分光増感作用によってスルホニ
ウム有機ホウ素錯体(D)を効率良く分解する。その結
果フリーラジカルが発生し、ラジカル重合が効果的に誘
起されることになる。特に本発明において使用されるス
ルホニウム有機ホウ素錯体は、その分子内に2つのフリ
ーラジカル発生源を有するために、効果的にフリーラジ
カルを発生し、感度特性の格段の向上を図ることが可能
になったものと推察される。また、アクリル酸エステル
またはメタクリル酸エステルの単一重合体、またはメタ
クリル酸エステルとビニルモノマーとの2成分以上の共
重合体である高分子化合物(A)を使用することによっ
て、化学的安定性や耐環境特性に優れ、且つ透明性や感
度特性に優れた体積位相型ホログラムを製造することが
可能になったと推量される。
The hologram recording medium of the present invention is a high molecular compound (A) which is a homopolymer of an acrylic ester or a methacrylic ester or a copolymer of two or more components of an acrylic ester or a methacrylic ester and a vinyl monomer. ), A compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond, a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and a sulfonium organoboron complex (D) in combination. The pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) used in the present invention is an Ar ion laser, He-C.
Visible light emitted from a visible laser light source such as a d laser, a He-Ne laser, or a Kr ion laser is efficiently absorbed, and the sulfonium organoboron complex (D) is efficiently decomposed by its spectral sensitizing action. As a result, free radicals are generated, and radical polymerization is effectively induced. In particular, the sulfonium organoboron complex used in the present invention has two free radical generation sources in its molecule, and therefore, it is possible to effectively generate free radicals and significantly improve the sensitivity characteristics. It is presumed that it was Further, by using a polymer compound (A) which is a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester or a copolymer of two or more components of methacrylic acid ester and vinyl monomer, chemical stability and resistance can be improved. It is presumed that it has become possible to manufacture a volume phase hologram having excellent environmental characteristics and excellent transparency and sensitivity characteristics.

【0037】また一方では、該ホログラム記録用媒体を
用いた体積位相型ホログラム記録において、該記録媒体
に輻射線の干渉パターン露出すると、該輻射線露出部位
中、干渉作用の強い部位においては、重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物
(B)の重合反応が生じ、支持体としてのアクリル酸エ
ステルまたはメタクリル酸エステルの単一重合体、また
はアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとビ
ニルモノマーとの2成分以上の共重合体である高分子化
合物(A)と共に網目構造を形成し、次の膨潤処理工程
にて使用される溶媒に対し不溶となる。一方、輻射線露
出部位中、干渉作用の弱い部位においては、重合可能な
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合
物(B)の重合反応が生じないか、あるいは、重合度が
低いため、該膨潤処理用溶媒によって、該記録媒体は膨
潤する。これにより両部位における密度差が形成され、
その結果屈折率差を生じホログラム記録がおこなわれる
ものと推量される。この作用は、該記録媒体に対する溶
解性及び膨潤性に乏しい第2の溶媒に接触せしめること
によって顕著に増幅され、且つまた、該記録媒体の膜厚
を膨潤処理前の膜厚に戻す作用と相まって、高い回折効
率およびプレイバック波長再現性に優れた体積位相型ホ
ログラムを提供するに至ったものと考えられる。
On the other hand, in the volume phase hologram recording using the hologram recording medium, when an interference pattern of radiation is exposed on the recording medium, polymerization occurs at a portion having a strong interference action in the exposed portion of the radiation. Polymerization reaction of the compound (B) having at least one possible ethylenically unsaturated bond occurs, and a homopolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester as a support, or acrylic acid ester or methacrylic acid ester and vinyl monomer A network structure is formed together with the polymer compound (A) which is a copolymer of two or more components with and becomes insoluble in the solvent used in the next swelling treatment step. On the other hand, in the radiation-exposed portion, in the portion having a weak interference action, the polymerization reaction of the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond does not occur, or the polymerization degree is low, The recording medium swells with the swelling treatment solvent. This creates a density difference between the two parts,
As a result, a difference in refractive index is generated, and it is estimated that hologram recording is performed. This effect is remarkably amplified by bringing it into contact with the second solvent having poor solubility and swelling property for the recording medium, and is also combined with the effect of returning the film thickness of the recording medium to the film thickness before the swelling treatment. It is considered that the present invention has provided a volume phase hologram excellent in high diffraction efficiency and playback wavelength reproducibility.

【0038】[0038]

【実施例】以下実施例に基づき、本発明をより詳細に説
明する。以下の各例において、部は特に断わりのない限
り重量部を表わす。
The present invention will be described in more detail based on the following examples. In the following examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.

【0039】実施例1〜10 ポリメタクリル酸メチル(アルドリッチ社製、重量平均
分子量71万)を100部、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート(PETA)を70部、表1に示した一般
式(1)で表されるピリリウム塩またはチオピリリウム
塩誘導体を5部、ジメチルフェナシルスルホニウム−n
−ブチルトリフェニルボレート(化合物(a))を5
部、メチルエチルケトンを900部からなる感光液を1
00×125×3mmのガラス板上に、感光液乾燥後の
膜厚が7μmとなるように3ミルアプリケーターを用い
て塗布し、60℃オーブン中にて20分間乾燥させた。
さらに、ポリビニルアルコール(アルドリッチ社製、鹸
化度99%以上)水溶液をホログラム記録用感光膜の上
に塗布し、体積位相型ホログラム記録用媒体を作成し
た。次いで、該記録媒体を60W蛍光灯に60秒間暴露
し、前露光処理を行った。
Examples 1 to 10 Polymethyl methacrylate (manufactured by Aldrich, weight average molecular weight: 710,000) 100 parts, pentaerythritol triacrylate (PETA) 70 parts, represented by the general formula (1) shown in Table 1. 5 parts of pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative, dimethylphenacylsulfonium-n
-Butyltriphenylborate (compound (a))
Part, 900 parts of methyl ethyl ketone
A 3 mil applicator was applied onto a glass plate of 00 × 125 × 3 mm so that the film thickness after drying the photosensitive solution was 7 μm, and dried in an oven at 60 ° C. for 20 minutes.
Further, an aqueous solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Aldrich, saponification degree of 99% or more) was applied onto the hologram recording photosensitive film to prepare a volume phase hologram recording medium. Then, the recording medium was exposed to a 60 W fluorescent lamp for 60 seconds to perform a pre-exposure treatment.

【0040】この媒体に、図1に示す体積位相型ホログ
ラム製造用光学系を用いて、実施例1ないし5において
はArイオンレーザーの488nm光を、実施例6およ
び7においてはArイオンレーザーの514nm光を、
実施例8ないし10においてはHe−Neレーザーの6
33nm光を用いて、それぞれ体積位相型ホログラム記
録を施した。次いで、保護層であるポリビニルアルコー
ル層を剥離除去した後、該記録媒体をキシレンに1分間
浸漬し、感光層を現像および膨潤処理し、ヘプタンに3
0秒間浸漬し収縮処理させ、体積位相型型ホログラムを
製造した。回折効率は、日本分光工業(株)製ART2
5C型分光光度計で測定した。該装置は、幅3mmのス
リットを有したフォトマルチメータを、試料を中心にし
た半径20cmの円周上に設置できる。幅0.3mmの
単色光を試料に45度の角度で入射し、試料からの回折
光を検出した。正反射光以外で最も大きな値と、試料を
置かず直接入射光を受光したときの値との比を回折効率
とした。表1に、最大回折効率を与える露光エネルギー
量、回折効率、プレイバック波長、および保存安定性試
験結果をまとめて示した。
The optical system for producing a volume phase hologram shown in FIG. 1 is used for this medium, and 488 nm light of an Ar ion laser is used in Examples 1 to 5 and 514 nm of an Ar ion laser is used in Examples 6 and 7. the light,
In Examples 8 to 10, a He-Ne laser 6 was used.
Volume phase hologram recording was performed using 33 nm light. Then, after removing the polyvinyl alcohol layer, which is a protective layer, by peeling off, the recording medium is immersed in xylene for 1 minute to develop and swell the photosensitive layer, and then to a heptane.
A volume phase type hologram was manufactured by immersing it for 0 seconds and shrinking it. Diffraction efficiency is ART2 manufactured by JASCO Corporation
It was measured with a 5C type spectrophotometer. In this device, a photomultimeter having a slit with a width of 3 mm can be installed on the circumference of a 20 cm radius centered on the sample. Monochromatic light having a width of 0.3 mm was incident on the sample at an angle of 45 degrees, and diffracted light from the sample was detected. The diffraction efficiency was defined as the ratio between the maximum value other than the specular reflection light and the value when the incident light was received directly without placing the sample. Table 1 collectively shows the amount of exposure energy that gives the maximum diffraction efficiency, the diffraction efficiency, the playback wavelength, and the storage stability test results.

【0041】実施例11〜16 実施例1における、ジメチルフェナシルスルホニウム−
n−ブチルトリフェニルボレート(化合物(a))を、
化合物(b)ないし化合物(g)で表されるスルホニウ
ム有機ホウ素錯体に変えた他は実施例1と同様の方法で
操作し、体積位相型ホログラムを作製した。得られたホ
ログラム特性を表2にまとめて示した。
Examples 11 to 16 In Example 1, dimethylphenacylsulfonium-
n-butyltriphenylborate (compound (a)),
A volume phase hologram was prepared in the same manner as in Example 1 except that the sulfonium organoboron complex represented by the compound (b) to the compound (g) was used. The hologram properties obtained are summarized in Table 2.

【0042】実施例17 実施例1におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸イソボルニルに変え、他は実施例1と同様の方
法で操作したときのホログラム特性結果を表3に示し
た。
Example 17 Table 3 shows the results of hologram characteristics when polymethylmethacrylate in Example 1 was replaced by polyisomethanylmethacrylate and the same operation as in Example 1 was carried out.

【0043】実施例18 実施例1におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸フェロセニルメチルに変え、他は実施例1と同
様の方法で操作したときのホログラム特性結果を表3に
示した。尚、ポリメタクリル酸フェロセニルメチルは、
C.U.Pittmanらの「Macromolecu
les」誌の第3巻、第746頁(1970年)に記載
の方法にて得る事ができる。
Example 18 The results of hologram characteristics are shown in Table 3 when polymethylmethacrylate in Example 1 was changed to ferrocenylmethylmethacrylate and the same procedure was followed as in Example 1. In addition, polyferrocenylmethyl methacrylate is
C. U. Pittman et al., "Macromoleculecu
It can be obtained by the method described in "Les" magazine, Vol. 3, page 746 (1970).

【0044】実施例19 実施例1におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸ベンジルに変え、他は実施例1と同様の方法で
操作したときのホログラム特性結果を表3に示した。
Example 19 Table 3 shows the results of hologram characteristics when polymethyl methacrylate in Example 1 was changed to polybenzyl methacrylate and the same operation as in Example 1 was carried out.

【0045】実施例20 実施例1におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリアク
リル酸トリメトキシシリルプロピルに変え、他は実施例
1と同様の方法で操作したときのホログラム特性結果を
表3に示した。
Example 20 Table 3 shows the results of hologram characteristics when polymethyl methacrylate in Example 1 was changed to polymethoxytrimethoxysilylpropyl and the same operation as in Example 1 was carried out.

【0046】実施例21 実施例1におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸メチルとスチレンの共重合体(モル比で7:
3)に変え、他は実施例1と同様の方法で操作したとき
のホログラム特性結果を表3に示した。
Example 21 Polymethylmethacrylate in Example 1 was replaced by a copolymer of polymethylmethacrylate and styrene (molar ratio 7:
Table 3 shows the results of hologram characteristics when the same procedure as in Example 1 was performed except that the above method was used.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】保存性1は、25℃、60%RH保存下に
おける耐久性を示す。保存性2は、90℃保存下におけ
る耐久性を示す。
Storability 1 indicates durability under storage at 25 ° C. and 60% RH. Storability 2 indicates durability under storage at 90 ° C.

【0049】[0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】保存性1は、25℃、60%RH保存下に
おける耐久性を示す。保存性2は、90℃保存下におけ
る耐久性を示す。
Storability 1 indicates durability under storage at 25 ° C. and 60% RH. Storability 2 indicates durability under storage at 90 ° C.

【0051】[0051]

【表3】 [Table 3]

【0052】保存性1は、25℃、60%RH保存下に
おける耐久性を示す。保存性2は、90℃保存下におけ
る耐久性を示す。
Storability 1 indicates durability under storage at 25 ° C. and 60% RH. Storability 2 indicates durability under storage at 90 ° C.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明におけるホログラム記録媒体の使
用、および該記録媒体を用いた本発明のホログラム製造
方法により、広い波長領域に渡って20mJ/cm2
下と少ない露光エネルギーで、化学的安定性や耐環境特
性に優れ、かつ高解像度、高回折効率、高透明性を有す
る体積位相型ホログラムを製造することが可能となる。
Industrial Applicability By the use of the hologram recording medium of the present invention and the method for producing a hologram of the present invention using the recording medium, chemical stability can be achieved with a small exposure energy of 20 mJ / cm 2 or less over a wide wavelength range. It becomes possible to manufacture a volume phase hologram having excellent environment resistance characteristics, high resolution, high diffraction efficiency, and high transparency.

【0054】[0054]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【0055】図1は、体積位相型ホログラム製造用の二
光束レーザー露光装置のブロック図を示す。
FIG. 1 is a block diagram of a two-beam laser exposure apparatus for manufacturing a volume phase hologram.

【0056】[0056]

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:レーザー光源 2:ミラー 3:レンズ 4:スペーシャルフィルター 5:基材(ガラス板) 6:ホログラム感光膜 7:保護膜(ポリビニルアルコール膜) 1: Laser light source 2: Mirror 3: Lens 4: Spatial filter 5: Substrate (glass plate) 6: Hologram photosensitive film 7: Protective film (polyvinyl alcohol film)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display area G03F 7/038

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アクリル酸エステルまたはメタクリル酸
エステルの単一重合体、またはアクリル酸エステルまた
はメタクリル酸エステルとビニルモノマーとの2成分以
上の共重合体である高分子化合物(A)、重合可能なエ
チレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物
(B)、ピリリウム塩またはチオピリリウム塩誘導体
(C)およびスルホニウム有機ホウ素錯体(D)の組合
せを含むことを特徴とするホログラム記録用感光材料
が、光学的に透明な基材と、光学的に透明な保護膜に挟
まれて感光膜を形成していることを特徴とするホログラ
ム記録媒体。
1. A polymer compound (A), which is a homopolymer of an acrylic ester or a methacrylic ester, or a copolymer of two or more components of an acrylic ester or a methacrylic ester and a vinyl monomer, and a polymerizable ethylene. A photosensitive material for hologram recording, comprising a combination of a compound (B) having at least one or more unsaturated unsaturated bonds, a pyrylium salt or thiopyrylium salt derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D), A holographic recording medium characterized in that a photosensitive film is formed by being sandwiched between a transparent base material and an optically transparent protective film.
【請求項2】 請求項1のホログラム記録媒体に、輻射
線の干渉パターンに露出する第1の工程、該記録媒体を
膨潤せしめる溶媒にて処理する第2の工程、さらに該記
録媒体に対する溶解性及び膨潤性に乏しい溶媒に、該記
録媒体を接触せしめる第3の工程を具備してなることを
特徴とする体積位相型ホログラムの製造方法。
2. The hologram recording medium according to claim 1, wherein the hologram recording medium is exposed to a radiation interference pattern, a first step, a second step of treating the hologram recording medium with a solvent for swelling the medium, and a solubility in the recording medium. And a method for producing a volume phase hologram, comprising a third step of bringing the recording medium into contact with a solvent having a poor swelling property.
【請求項3】 請求項1のホログラム記録媒体を輻射線
による干渉パターンに露出する前あるいは後に、紫外
線、可視光線、電子線などの活性線への露出処理、(お
よび)または加熱処理することを特徴とする請求項2記
載の体積位相型ホログラムの製造方法。
3. The exposure treatment (and / or) or heat treatment to active rays such as ultraviolet rays, visible rays, and electron beams before or after exposing the hologram recording medium according to claim 1 to an interference pattern by radiation. The method for producing a volume phase hologram according to claim 2, wherein the hologram is a volume phase hologram.
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Cited By (85)

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