JPH06104416A - ラインイメージセンサ及び駆動方法 - Google Patents

ラインイメージセンサ及び駆動方法

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JPH06104416A
JPH06104416A JP4314595A JP31459592A JPH06104416A JP H06104416 A JPH06104416 A JP H06104416A JP 4314595 A JP4314595 A JP 4314595A JP 31459592 A JP31459592 A JP 31459592A JP H06104416 A JPH06104416 A JP H06104416A
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JP
Japan
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photoelectric conversion
buffer
transfer switch
shift register
signal
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Application number
JP4314595A
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English (en)
Inventor
Tatsuya Nagata
達也 永田
Hiroya Shimizu
浩也 清水
Michihiro Watanabe
道弘 渡邊
Hirosuke Kurihara
啓輔 栗原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH06104416A publication Critical patent/JPH06104416A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【構成】シフトレジスタ22、バッファ23及び転送ス
イッチ24を電界効果型非晶質シリコン薄膜トランジス
タを用いて構成し、シフトレジスタ22、バッファ23
を構成するトランジスタのチャンネル長を転送スイッチ
24を構成するトランジスタのチャンネル長よりも小さ
くし、またシフトレジスタ22、バッファ23を光電変
換素子20、21を挟んでマトリクス信号線26と反対
側に配置した。入力信号によりブロック選択信号の時間
を制御した。 【効果】シフトレジスタ、バッファを構成する薄膜トラ
ンジスタのチャンネル長を小さくできるので、転送スイ
ッチのリーク電流が小さく、シフトレジスタ及びバッフ
ァの駆動能力を向上し、高速動作が可能となる。また安
定な読み取りが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はファクシミリやイメージ
スキャナに用いられるラインイメージセンサ及びその駆
動方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のラインイメージセンサは、例え
ば、特開昭61−26364号公報に開示のように複数の光電
変換素子と、複数の光電変換素子の各々に対応して設け
られ光電変換素子の各出力信号を蓄積する蓄積手段と、
この蓄積手段に蓄積された信号を一定数ずつ順次取り出
す第1のスイッチ手段と、この第1のスイッチ手段によ
って取り出された一定数の信号を各々蓄積する第2の蓄
積手段と、この第2の蓄積手段の各々と並列に接続した
放電用のスイッチ手段と、この第2の蓄積手段に蓄積さ
れた信号を時系列的に読み出す第2のスイッチ手段とで
構成していた。
【0003】また、特開平3−96061号公報に開示のよう
に、非晶質シリコン薄膜トランジスタを用いてシフトレ
ジスタを構成し、マトリクス配線と組み合わせて光電変
換信号をビットごとに転送する構成を採っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】特開昭61−26364号公
報に開示されているラインイメ−ジセンサにおいて、第
1のスイッチ手段はシフトレジスタと転送用のスイッチ
とから成っている。通常、このシフトレジスタには結晶
シリコンを用いており、スイッチにのみ非晶質シリコン
薄膜トランジスタを用いている。このような構成では、
例えば一括転送する素子数をm、ブロック数をnとする
と、素子数はm×nとなり配線数はm+nとなる。この
ように基板内に多くの配線を設ける必要があることから
基板の小型化に制約が有り、また基板の外に配線を取り
出しICと接続する必要が有ることから、接続部の縮小
も難しかった。また、結晶シリコンのICを必要とする
点は考慮されていなかった。また、キャリアの移動度の
小さな非晶質シリコン薄膜トランジスタ等のトランジス
タをシフトレジスタやバッファのような駆動回路に用い
るセンサ構成や信号タイミングの点については考慮され
ていなかった。
【0005】また、特開平3−96061号公報に開示のライ
ンイメ−ジセンサにおいては、シフトレジスタを非晶質
シリコン薄膜トランジスタで構成しているため、キャリ
アの移動度が0.2〜0.6cm2/V・sec程度と小さく、
高速動作が難しかった。また、マトリクス線とシフトレ
ジスタが受光素子に対して同じ側に配置されるため寄生
容量によってノイズが大きくなる点は改良の余地が有っ
た。
【0006】本発明の目的は、非晶質シリコン薄膜トラ
ンジスタ等の移動度の小さなトランジスタを用いた駆動
回路をセンサ基板上に形成して、小型で安価なラインイ
メージセンサを提供するとともに、このような構成にお
いてもノイズの小さな読み取り動作が得られるセンサ構
成及び駆動方法を提供することに有る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、複数の光電変換素子と、複数の光電変換素子の各々
に対応して設けられ光電変換素子の各出力信号を蓄積す
る蓄積容量と、蓄積容量に蓄積された信号を一定数ずつ
順次取り出す転送スイッチと、一定数ずつの転送スイッ
チを選択するシフトレジスタ及びバッファと、転送スイ
ッチと接続したマトリクス信号線と、マトリクス信号線
に転送された信号を時系列的に読み出す読み出し回路と
から成るラインイメージセンサにおいて、シフトレジス
タ、バッファ及び転送スイッチを電界効果型非晶質シリ
コン薄膜トランジスタを用いて構成し、かつ、シフトレ
ジスタ、バッファを構成するトランジスタのチャンネル
長を転送スイッチを構成するトランジスタのチャンネル
長よりも小さくしたものである。
【0008】また、上記目的を達成するために、複数の
光電変換素子と、複数の光電変換素子の各々に対応して
設けられ光電変換素子の各出力信号を蓄積する蓄積容量
と、蓄積容量の各々に接続され蓄積された信号を一定数
からなるブロックごとに順次取り出す転送スイッチと、
転送スイッチに接続したマトリクス信号線と、ブロック
ごとの転送スイッチを順次選択するブロック選択信号を
生成するシフトレジスタ及びバッファとを備えるライン
イメージセンサにおいて、シフトレジスタ、バッファ及
び転送スイッチを電界効果型非晶質シリコン薄膜トラン
ジスタを用いて構成し、かつシフトレジスタ、バッファ
を光電変換素子を挟んでマトリクス信号線と反対側に配
置したものである。
【0009】また、上記目的を達成するために、複数の
光電変換素子と、複数の光電変換素子の各々に対応して
設けられ光電変換素子の各出力信号を蓄積する蓄積容量
と、蓄積容量の各々に接続され蓄積された信号を一定数
からなるブロックごとに順次取り出す転送スイッチと、
転送スイッチに接続したマトリクス信号線と、ブロック
ごとの転送スイッチを選択するブロック選択信号を生成
するシフトレジスタ及びバッファとを備えるラインイメ
ージセンサにおいて、光電変換素子、蓄積容量、転送ス
イッチ、マトリクス信号線、シフトレジスタ及びバッフ
ァを基板上に形成し、ブロック選択信号の時間幅を入力
信号により制御する機能を設けたものである。
【0010】また、上記目的を達成するために、基板上
に、複数の光電変換素子と、複数の光電変換素子の各々
に対応して設けられ光電変換素子の各出力信号を蓄積す
る蓄積容量と、蓄積容量の各々に接続され蓄積された信
号を一定数からなるブロックごとに順次取り出す転送ス
イッチと、転送スイッチに接続したマトリクス信号線
と、ブロックごとの転送スイッチを選択するブロック選
択信号を生成するシフトレジスタ及びバッファとを備え
てなるラインイメージセンサの駆動方法において、シフ
トレジスタ及びバッファにより順次生成されたブロック
選択信号が、入力信号によりその時間幅を制御され、重
なりを持たないものである。
【0011】さらに、上記目的を達成するために、基板
上に、複数の光電変換素子と、複数の光電変換素子の各
々に対応して設けられ光電変換素子の各出力信号を蓄積
する蓄積容量と、蓄積容量の各々に接続され蓄積された
信号を一定数からなるブロックごとに順次取り出す転送
スイッチと、転送スイッチに接続したマトリクス信号線
と、ブロックごとの転送スイッチを選択するブロック選
択信号を生成するシフトレジスタ及びバッファとを備え
てなるラインイメージセンサの駆動方法において、シフ
トレジスタ及びバッファにより順次生成されたブロック
選択信号が重なりを持つものである。
【0012】
【作用】複数の光電変換素子は読み取る画像に対応して
光電変換素子に入射する光を光電変換する。この複数の
光電変換素子の各々に対応して設けられた蓄積容量は光
電変換素子の各出力信号を蓄積する。転送スイッチは蓄
積容量に蓄積された信号を一定数ずつマトリクス信号線
に順次取り出す。シフトレジスタは一定数ずつの転送ス
イッチを選択する信号を順次転送し、バッファはシフト
レジスタによって発生した転送スイッチの選択信号を増
幅及び波形の整形をして転送スイッチを駆動する。シフ
トレジスタ、バッファを構成する薄膜トランジスタのチ
ャンネル長を転送スイッチを構成する薄膜トランジスタ
のチャンネル長よりも小さくする。
【0013】このように構成することにより、転送スイ
ッチのリーク電流を増やすことなく、シフトレジスタ及
びバッファを構成する薄膜トランジスタの電流駆動能力
を向上させることができるためシフトレジスタ及びバッ
ファの動作速度及び容量負荷の駆動能力を向上すること
が可能となる。
【0014】複数の光電変換素子は読み取る画像に対応
して光電変換素子に入射する光を光電変換する。この複
数の光電変換素子の各々に対応して設けられた蓄積容量
は光電変換素子の各出力信号を蓄積する。転送スイッチ
は蓄積容量に蓄積された信号を一定数ずつマトリクス信
号線に順次取り出す。シフトレジスタは一定数ずつの転
送スイッチを選択する信号を順次転送し、バッファはシ
フトレジスタによって発生した転送スイッチのブロック
選択信号を増幅及び波形の整形をして転送スイッチを駆
動する。シフトレジスタ、バッファ及び転送スイッチを
電界効果型非晶質シリコン薄膜トランジスタを用いて構
成し、かつシフトレジスタ、バッファを光電変換素子を
挟んで前記マトリクス信号線と反対側に配置する。
【0015】このような構成をとることにより、シフト
レジスタ及びバッファの配線と、マトリクス信号線の間
の寄生容量を小さくできるため、寄生容量を介して信号
線にバッファ及びシフトレジスタからのノイズが混入す
ることを防止することができる。
【0016】複数の光電変換素子は読み取る画像に対応
して光電変換素子に入射する光を光電変換する。この複
数の光電変換素子の各々に対応して設けられた蓄積容量
は光電変換素子の各出力信号を蓄積する。転送スイッチ
は蓄積容量に蓄積された信号を一定数ずつマトリクス信
号線に順次取り出す。シフトレジスタは一定数ずつの転
送スイッチを選択する信号を順次転送し、バッファはシ
フトレジスタによって発生した転送スイッチのブロック
選択信号を増幅及び波形の整形をして転送スイッチを駆
動する。このブロック選択信号の時間幅を入力信号によ
り制御する機能を設ける。
【0017】このような機能を設けることにより、バッ
ファ電圧の過渡応答のタイミングを制御し、ブロック選
択信号が過渡応答から十分電圧が落ち着いたタイミング
で読み取りを行うことができるためノイズを防止できる
効果がある。そのため小型で安価なラインイメージセン
サを提供できるとともに、安定な読み取りができる。
【0018】複数の光電変換素子は読み取る画像に対応
して光電変換素子に入射する光を光電変換する。この複
数の光電変換素子の各々に対応して設けられた蓄積容量
は光電変換素子の各出力信号を蓄積する。転送スイッチ
は蓄積容量に蓄積された信号を一定数ずつマトリクス信
号線に順次取り出す。シフトレジスタは一定数ずつの転
送スイッチを選択する信号を順次転送し、バッファはシ
フトレジスタによって発生した転送スイッチのブロック
選択信号を増幅及び波形の整形をして転送スイッチを駆
動する。ブロック選択信号の時間幅を入力信号により制
御して、ブロック選択信号が重なりを持たないようにす
ると、信号のタイミング及び動作は次のようになる。あ
るブロックをシフトレジスタ及びバッファによって選択
するとブロック選択信号はLからHとなり蓄積容量に蓄
えられた信号電荷は転送スイッチを通してマトリクス信
号線に転送される。信号が十分に転送された後ブロック
選択信号を入力信号によりHからLとして転送スイッチ
を非導通状態とする。このブロック選択信号のHからL
の過渡状態が終わった時点よりも後でマトリクス信号線
より信号を読み出す。その後に次のブロック選択信号を
発生させて次のブロックを選択する。この動作を繰り返
すことにより1ラインの読み取りを行う。
【0019】このように、光電変換素子、蓄積容量、転
送スイッチ、マトリクス信号線、シフトレジスタ及びバ
ッファを基板上に形成し、ブロック選択信号が重なりを
持たないようにすることにより、ブロック選択信号が過
渡応答から十分電圧が落ち着いたタイミングで読み取り
を行うことができるためノイズを防止できる効果があ
る。そのため小型で安価なラインイメージセンサを提供
できるとともに、安定な読み取りができる。
【0020】複数の光電変換素子は読み取る画像に対応
して光電変換素子に入射する光を光電変換する。この複
数の光電変換素子の各々に対応して設けられた蓄積容量
は光電変換素子の各出力信号を蓄積する。転送スイッチ
は蓄積容量に蓄積された信号を一定数ずつマトリクス信
号線に順次取り出す。シフトレジスタは一定数ずつの転
送スイッチを選択する信号を順次転送し、バッファはシ
フトレジスタによって発生した転送スイッチのブロック
選択信号を増幅及び波形の整形をして転送スイッチを駆
動する。バッファにより生成したブロック選択信号が重
なりを持つようにすると、信号のタイミング及び動作は
次のようになる。あるブロックをシフトレジスタ及びバ
ッファによって選択するとブロック選択信号はLからH
となり蓄積容量に蓄えられた信号電荷は転送スイッチを
通してマトリクス信号線に転送される。このブロック選
択信号のLからHの過渡状態が終わり信号が十分に転送
された後、マトリクス信号線より信号を読み出す。次に
ブロック選択信号をHからLとして転送スイッチを非導
通状態とするとともに次のブロック選択信号を発生させ
て次のブロックを選択する。つまり、ブロック選択信号
のHからLの過渡応答と、続くブロック選択信号のLか
らHの過渡応答を同時に行う。この動作を繰り返すこと
により1ラインの読み取りを行う。
【0021】このように、光電変換素子、蓄積容量、転
送スイッチ、マトリクス信号線、シフトレジスタ及びバ
ッファを基板上に形成し、ブロック選択信号が重なりを
持つようにすることにより、ブロック選択信号が過渡応
答から十分電圧が落ち着いたタイミングで読み取りを行
うことができるためノイズを防止できる効果がある。ま
た、ブロック選択信号の過渡応答時間を少なくできるた
め高速の読み出しができる。
【0022】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1から図7を用
いて説明する。
【0023】図1に本発明のラインイメージセンサの回
路図を示す。図2、図3にはラインイメージセンサの動
作タイミング図及び読み出し回路のブロック図の例を示
す。また図4、図5にはラインイメージセンサの断面図
及び平面図を、また図6及び図7にはインバータの断面
図及び回路図を示す。
【0024】図1の回路図に示すようにラインイメージ
センサは少なくともシフトレジスタ22、バッファ2
3、転送スイッチ24、蓄積容量25、光電変換素子2
0、21及びマトリクス信号線26を基板上に形成して
構成する。また基板の外部には読み出し回路31を付加
している。電源回路、タイミングコントロール回路等は
この図では省略しているが、必要な信号の機能及び接続
は、それぞれ図2の動作タイミング図及び図1の回路図
の図中に同じ記号を用いて示している。
【0025】基本的な動作は次の通りであるである。光
電変換素子20、21により構成した受光素子は目的と
する入射光を光電変換する。光電変換により生成された
信号電荷は、この受光素子に接続された蓄積容量25に
蓄積される。蓄積容量25に蓄積された信号電荷は1ブ
ロックごとに転送スイッチ24によりマトリクス信号線
26に転送される。マトリクス信号線に転送された信号
電荷は読み出し回路31によりインピーダンス変換及び
パラレル/シリアル変換されて時系列の読み取り信号に
なる。1ブロックごとの信号転送の制御は、シフトレジ
スタ22及びバッファ23を用いて行う。シフトレジス
タ22はブロック選択信号を順次次のブロックに転送す
る機能を持ち、バッファ23はシフトレジスタ22によ
って転送された信号を増幅して負荷駆動能力を拡大し、
さらに波形整形する機能を持つ。シフトレジスタ22に
は動作速度の大きいE/Rインバータを用いたダイナミ
ックシフトレジスタを用いている。また、バッファ23
にはインバータによる増幅段と、プッシュプル構成の出
力段を用いている。バッファ23の出力は1ブロックの
転送スイッチのゲートに接続しており、転送スイッチの
ON、OFFを制御する。図1の回路図に示した実施例
では受光素子m個を1ブロックの読み出し単位とし、同
じ構成のブロックをn段並べて、受光素子数がm×nの
ラインイメージセンサを構成している。
【0026】次に図1に示したセンサ回路の動作を図2
のタイミング図を用いて詳細に説明する。シフトレジス
タ22は抵抗Rと非晶質シリコン薄膜トランジスタから
成るトランジスタMを用いて、インバータ及びクロック
Φ1、Φ2に接続したパストランジスタを構成してい
る。シフトレジスタ22及びバッファ23にはグランド
Vss、電源Vddを接続している。このシフトレジス
タ22は図2に示すようにブロック選択信号入力Dをク
ロックΦ1、Φ2に同期して、図中に示したS1、S2
のように順次次のブロックにブロック選択信号を転送す
る。シフトレジスタ22に接続したバッファ23は、シ
フトレジスタの信号を増幅及びクロックノイズ除去、ブ
ロック選択信号の時間幅制御等の波形整形を行いバッフ
ァの最終段に接続した複数の転送スイッチを駆動する。
図2ではシフトレジスタの信号S1、S2に対応してB
1、B2のバッファ波形を示している。非晶質シリコン
薄膜トランジスタは移動度が小さく電流駆動能力が小さ
いため、高速動作をさせようとしたときには波形の過渡
応答は図に示すように大きくなる。そのため適切なタイ
ミングでブロック選択信号の時間幅を制御してノイズを
防止する必要がある。クロックΦ0はバッファの出力波
形の時間を制御する波形整形用の入力信号である。Φ0
をHにすることによってバッファ波形をB1、B2に示
すようにLに変化させ転送スイッチが導通状態、つまり
信号電荷の転送時間を制御するものである。入力信号Φ
0を外部より入力しているので迅速なバッファ波形の立
ち下げができる。このように入力信号Φ0によりブロッ
ク選択信号の時間幅を制御する機能を設けている。この
時、マトリクス信号線の電圧はA1に示すように変化す
る。A1はバッファ波形の立上りとともに立上り、ほぼ
電圧V1に飽和した後バッファ波形の立ち下がりととも
にV2だけ立ち下がり電圧V3となる。サンプルホ−ル
ド信号SHのタイミングでマトリクス信号線の信号電圧
は読み出し回路31に取り込まれ、続くリセット信号R
Sのタイミングで読み出し回路31によりマトリクス信
号線をリセットする。このリセットにより信号A1は初
期値にリセットされる。この動作を繰り返すことによっ
て順次ブロックの信号を読みだす。信号A1にはバッフ
ァ波形の立上り時間tr及び立ち下がり時間tfには転
送スイッチの容量を介してフィードスルーが発生するた
め電圧変化を生ずる。そのため信号の読み出しにはこの
期間を避けて図2に示したように波形が安定して電圧が
V3に落ち着いた時点で読み出す必要がある。このよう
に入力信号Φ0によってブロック選択信号の時間幅を制
御できるので、フィードスルーによるノイズを避けて安
定な読み取りができる。またこのようにブロックごとの
バッファ波形に、立上り及び立ち下がり期間を含めて重
なりを持たない制御をすることによって、フィードスル
ーによるノイズを避けて、安定な読み取りができる効果
がある。
【0027】なお読み出し回路の一例を図3に示す。こ
のブロック図に示すように読み出し回路はマトリクス信
号線の信号を一括して取り込めるようにサンプルホール
ド回路S/Hを備え、またマトリクス信号線A1からA
mを一括してリセットするリセットスイッチ310を備
えている。さらにサンプルホールドされた信号を時系列
信号とするために、シフトレジスタS/Rによりスイッ
チ311を順次選択して、アンプ312によって信号増
幅して信号端子SHに出力する。読み出し回路31は外
部よりリセットRS、サンプルホールドSH、スタート
信号SP、クロックCKの各端子に所定の信号を入力し
て制御する。
【0028】センサの構成を図4に示す断面図を用いて
説明する。まず、構成を説明する。ガラス基板1の上
に、薄膜を順次形成しフォトリソグラフィーにより所定
のパターンを形成してマトリクス信号線26、光電変換
素子20、21、蓄積容量25、転送スイッチ24、バ
ッファ23、シフトレジスタ22を形成する。シフトレ
ジスタ22及びバッファ23を構成する基本要素はイン
バータであり、積層の構成及び回路を図4及び図5を用
いて説明する。ガラス基板1の上に、電極2、絶縁膜
3、非晶質シリコン4、オーミックコンタクト層5、電
極6、保護層7、遮光膜8を順次積層している。薄膜ト
ランジスタMは、電極2がゲート電極と成り、電極6が
ソース及びドレイン電極と成る逆スタガ型の構造で形成
しており、nチャンネル型の電解効果型トランジスタと
なる。非晶質シリコン薄膜トランジスタM及び抵抗Rを
図5、図7に示す回路図のように直列に接続してインバ
ータを構成している。電極2、6にはクロム、アルミニ
ウム、タングステンなどの金属膜を用いる。絶縁膜3
は、二酸化珪素、窒化シリコン、酸化アルミニウムなど
の絶縁性の良い膜が好ましい。また、オーミックコンタ
クト層5にはリンを多量にドープした非晶質シリコンを
用いる。このオーミックコンタクト層はシート抵抗が1
00MΩ/□程度の値が得られるため、図4、図6のよ
うにこの層を用いて抵抗Rを形成できる。遮光膜8は光
を通さない金属膜を用いるのが好ましい。この遮光膜8
はチャンネル部分への光の入射を防止し、光によるリー
ク電流を防止する役目をする。金属膜の形成には、スパ
ッタ、蒸着、電着等の方法が可能である。また、絶縁膜
3、非晶質シリコン膜4、オーミックコンタクト層5の
形成にはグローディスチャージ法が好ましい。インバー
タは抵抗に電源電圧Vddを加えトランジスタにグラン
ド電圧Vssを加えて、入力電圧Vinに対して論理を
反転した電圧Voを出力する。図6の断面図では電極6
a、6b、6c、2がそれぞれ図7のVss、Vo、V
dd、Vinに対応する。
【0029】上に説明した作成工程でマトリクス信号線
26、光電変換素子20、21、蓄積容量25、転送ス
イッチ24を、図4の断面図のように構成できる。こう
して形成したセンサ基板30の上に、梨地導電フィルム
32を装着し原稿33をプラテンローラ34で梨地導電
フィルム32を介して光電変換素子付近に押しつけ、ま
たセンサ基板の裏側に発光ダイオードなどから成る光源
35を配置して読み取りを行う。ここで梨地導電フィル
ムとは、弾性変形が可能なポリエステルなどの透明な有
機フィルムの表面に光を散乱する細かい凹凸を形成し、
さらに透明な導電膜を積層して導電性を付与したもので
ある。
【0030】次に光電変換素子20、21の動作をより
詳細に説明する。本実施例では光電変換素子に読み取り
素子20と基準素子21を用いている。読み取り素子2
0には遮光膜となる電極2を形成しているため、光源3
5の直接光は入射しない。一方基準素子21にはこの遮
光膜を形成していない部分を設けているため光源35の
直接光が入射し、この光を光電変換する。図5の平面図
に示すように基準素子には部分的に櫛歯状に電極を設け
ている。この構成を採ることにより、基準素子の光感度
を制御することができる。原稿の読み取り時には、光源
35の光は照明窓27付近のセンサ基板及び梨地導電フ
ィルムを通して原稿を照明しその反射光を読み取り素子
20で光電変換する。これら読み取り素子20及び基準
素子21を図1に先に示したように直列配置して両素子
の接続点から出力電圧を取り出すと、両素子の抵抗値は
おおよそ入射光量に比例して変化するので、結果として
光源の光量にあまり依存せず原稿の反射率に依存した出
力電圧を得ることができる。本実施例によれば、光源3
5の光量バラツキによらず、原稿の反射率のみに依存し
た出力電圧が得られるので、光量バラツキによって通常
生ずるシェーディングとよばれる固定パタンノイズの無
い読み取り信号が得られる効果が有る。活性層には非晶
質シリコン層4を用いており、光導電型の光電変換素子
と薄膜トランジスタを同一の製造プロセスで作成できる
特徴が有る。梨地導電フィルムは原稿走行時に発生する
静電気によるノイズの防止機能の他、原稿面へ光を導く
スペーサとして、また原稿走行に対する耐摩耗を確保す
る働きをする。本実施例で用いている梨地導電フィルム
は、導電層を付けた薄板ガラスをセンサ基板に接着する
構成でも同じ機能をもたせることができる。また、本実
施例で用いている2つの光電変換素子の代わりに、1つ
の光電変換素子と蓄積容量を直列に接続した構成とって
も、シェーディング補正効果はないが同様にラインイメ
ージセンサを構成できる。また本実施例ではインバータ
の負荷を抵抗としているが薄膜トランジスタで構成して
E/Eインバータとしてもセンサを構成できることは言
うまでもない。
【0031】図2に示した回路を配置した例を図5の平
面図に示す。転送スイッチを構成する薄膜トランジスタ
のチャンネル長に比べて、シフトレジスタ22、バッフ
ァ23を構成する薄膜トランジスタのチャンネル長を小
さくしている。非晶質シリコン電界効果型薄膜トランジ
スタのコンダクタンスGはチャンネル長をL、チャンネ
ル幅をW、キャリアのドリフト移動度をμ、ゲート絶縁
膜容量をC、ゲート電圧をVg、閾値電圧をVtとする
とG=WμC(Vg−Vt)/Lで表される。そのため、
コンダクタンスを大きくして回路動作を高速にするに
は、チャンネル長を小さくすることが有効である。しか
しチャンネル長を小さくするとリーク電流が大きくなる
ことが実験よりわかった。光電変換素子の光電流は数n
Aであるため、トランジスタがオフ状態の時のリーク電
流は数十pAに押さえる必要が有る。そのため、転送ス
イッチの薄膜トランジスタのチャンネル長はリーク電流
が十分小さい範囲でなるべく小さなチャンネル長とする
のが有利であり、およそ10μmが好適である。これに
対して、シフトレジスタ及びバッファの動作は、これら
を構成するトランジスタの微小なリーク電流に対しては
鈍感であり、トランジスタのオン電流とオフ電流の比が
およそ2桁有れば動作が可能である。そのため、シフト
レジスタ及びバッファを構成する薄膜トランジスタのチ
ャンネル長は5μm程度でも可能である。このようにチ
ャンネル長を小さくするほどシフトレジスタ及びバッフ
ァの駆動能力が上がり、高速の動作設計が可能となる。
図5の平面図に示す実施例ではシフトレジスタ、バッフ
ァを構成する薄膜トランジスタ及び抵抗は櫛歯状の電極
配置を用いてチャンネル幅を大きくするとともに、チャ
ンネル長を小さくして駆動能力を向上している。このよ
うに転送スイッチを構成する薄膜トランジスタのチャン
ネル長に比べシフトレジスタ、バッファを構成する薄膜
トランジスタのチャンネル長を小さくするので、転送ス
イッチのリーク電流が小さく、シフトレジスタ及びバッ
ファの駆動能力を向上し、高速動作が可能となる。
【0032】また図5の平面図に有るように、マトリク
ス信号線26とシフトレジスタ22及びバッファ23は
光電変換素子20、21を挟んで反対側に配置してあ
る。このような配置にすることによってシフトレジスタ
及びバッファの配線と、マトリクス信号線の間の寄生容
量を小さくできるため、寄生容量を介して信号線にバッ
ファ及びシフトレジスタからのノイズが混入することを
極力防ぐことができる。そのため読み取り信号の精度を
向上して読み取り画質を向上することができる。またシ
フトレジスタ及びバッファを基板上に作成するため、基
板の大きさを小さくでき、また転送スイッチの駆動IC
を省略できるため安価にラインイメージセンサを提供で
きる。
【0033】本実施例によれば転送スイッチを構成する
薄膜トランジスタのチャンネル長に比べシフトレジス
タ、バッファを構成する薄膜トランジスタのチャンネル
長を小さくするので、転送スイッチのリーク電流が小さ
く、シフトレジスタ及びバッファの駆動能力を向上し、
高速動作が可能となる効果が有る。
【0034】本実施例によれば、マトリクス信号線とシ
フトレジスタ及びバッファは光電変換素子を挟んで反対
側に配置してあるので、シフトレジスタ及びバッファの
配線と、マトリクス信号線の間の寄生容量を小さくでき
るため、寄生容量を介して信号線にバッファ及びシフト
レジスタからのノイズが混入することを極力防止するこ
とができる。
【0035】本実施例によれば入力信号によってブロッ
ク選択信号の時間幅を制御できるので、フィードスルー
によるノイズを避けて安定な読み取りができる効果があ
る。
【0036】本実施例によればブロック選択信号に重な
りを持たず、十分信号が安定してから読み出しを行うの
で、安定な読み取りを行うことができる効果がある。
【0037】また本実施例によれば、シフトレジスタ及
びバッファを基板上に作成するため、基板の大きさを小
さくでき、また転送スイッチの駆動ICを省略できるた
め安価にラインイメージセンサを提供できる効果が有
る。
【0038】また、本実施例によれば、光源のばらつき
を光電変換素子の構成により補正できるため、シェーデ
ィングをなくすることができる効果が有る。
【0039】図8、図9に本発明の別の一実施例のライ
ンイメージセンサの動作タイミング図及び回路図を示
す。
【0040】図9の回路図に示すように本実施例のライ
ンイメージセンサは少なくともシフトレジスタ22、バ
ッファ23、転送スイッチ24、蓄積容量25、光電変
換素子20、21及びマトリクス信号線26を基板上に
形成して構成しているのは先に図1示した実施例と同じ
である。本実施例は先に示した実施例図1の回路のバッ
ファ部分が異なっており、Φ0、Φ2がゲートに入力さ
れたトランジスタを無くしたものである。その他の構成
は同一であるので、構成の詳細の説明は省略する。
【0041】基本的な動作は先の実施例と同一であるの
で省略し、動作の異なるバッファ部分の動作を図8の動
作タイミング図を用いて説明する。図8にはクロックΦ
1、Φ2、バッファ選択信号入力D、シフトレジスタの
信号S1、S2、バッファB1、B2及びマトリクス信
号線A1の波形をサンプルホールド信号SH及びリセッ
ト信号RSとともに示す。シフトレジスタ22はクロッ
クΦ1、Φ2に同期してブロック選択信号をS1、S2
に示すように転送する。バッファはS1、S2の信号を
増幅及び波形整形してB1、B2のバッファ波形を出力
する。バッファ波形B1の立ち下がりと、次のブロック
のバッファ波形B2の立上りは重なりを持っており、こ
の点が先に示した実施例と異なっている。信号マトリク
スの電圧A1はバッファ波形の立上りとともに立上り、
電圧V3となる。SHのタイミングでマトリクス信号線
の信号電圧は読み出し回路31に取り込まれ、続くRS
のタイミングで読み出し回路31によりマトリクス信号
線をリセットする。このリセットにより信号A1は初期
値にリセットされる。この動作を繰り返すことによって
順次ブロックの信号を読みだす。信号A1はバッファ波
形の立上り時間tr及び立ち下がり時間tfには転送ス
イッチの容量を介してフィードスルーが発生するため電
圧変化を生ずる。そのため信号の読み出しにはこの期間
を避けて図2に示したように波形が安定して電圧がV3
に落ち着いた時点で読みだす必要がある。本実施例では
バッファ波形に重なりを持っており、バッファ波形B1
の立ち下がりと、次のブロックのバッファ波形B2の立
上りは重なっている。そのため読み取りサイクルtc中
のバッファ電圧の変化に要する時間を縮小できるため、
読み取りサイクルtcの残りの時間を蓄積容量からの信
号電荷転送の時間に割り振ることができる。そのため動
作タイミングにおける設計自由度が向上し、例えば動作
速度の向上、蓄積容量を大きくしてノイズ耐性を向上す
る効果がある。読み出した信号電圧V3は主に蓄積容量
25より転送された信号電荷によってマトリクス信号線
の容量を充電した電圧であるが、その他にもバッファ波
形B2の立上りとB1の立ち下がりのフィードスルーの
和も含む。このようにブロックごとのバッファ波形に重
なりを持たせる制御を行うことによって、フィードスル
ーによるノイズを避けて、安定な読み取りができる効果
がある。
【0042】なお本実施例の回路は、回路を構成する素
子は先に示した実施例と同じであるので、先に示した実
施例の図4の断面図、及び図5の平面図と同様に基板上
に形成できる。
【0043】本実施例によればブロック選択信号に重な
りを持たせて、十分信号が安定してから読み出しを行う
ので、安定な読み取りを行うことができる効果がある。
また、バッファ電圧の変化に要する時間を縮小できるた
め動作タイミングにおける設計自由度が向上し、例えば
動作速度の向上、蓄積容量を大きくしてノイズ耐性を向
上する効果がある。
【0044】
【発明の効果】本発明によればシフトレジスタ、バッフ
ァを構成する薄膜トランジスタのチャンネル長を小さく
できるので、転送スイッチのリーク電流が小さく、シフ
トレジスタ及びバッファの駆動能力を向上し、高速動作
が可能となる効果が有る。またマトリクス信号線とシフ
トレジスタ及びバッファは光電変換素子を挟んで反対側
に配置してあるので、シフトレジスタ及びバッファの配
線と、マトリクス信号線の間の寄生容量を小さくできる
ため、寄生容量を介して信号線にバッファ及びシフトレ
ジスタからのノイズが混入することを極力防ぐことがで
きる。そのため、読み取り画質を向上することができ
る。また入力信号によってブロック選択信号の時間幅を
制御できるので、フィードスルーによるノイズを避けて
安定な読み取りができる効果がある。またブロック選択
信号に重なりを持たず、十分信号が安定してから読み出
しを行うので、安定な読み取りを行うことができる効果
がある。またブロック選択信号に重なりを持たせて、十
分信号が安定してから読み出しを行うので、安定な読み
取りを行うことができる効果がある。また、バッファ電
圧の変化に要する時間を縮小できるため動作タイミング
における設計自由度が向上し、動作速度の向上、蓄積容
量を大きくしてノイズ耐性を向上する効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のラインイメージセンサの回
路図である。
【図2】本発明の一実施例のラインイメージセンサの動
作タイミング図である。
【図3】本発明の読み出し回路のブロック図である。
【図4】本発明の一実施例のラインイメージセンサの断
面図である。
【図5】本発明の一実施例のラインイメージセンサの平
面図である。
【図6】本発明の一実施例のインバータの断面図であ
る。
【図7】本発明の一実施例のインバータの回路図であ
る。
【図8】本発明の別の一実施例のラインイメージセンサ
の動作タイミング図である。
【図9】本発明の別の一実施例のラインイメージセンサ
の回路図である。
【符号の説明】
20、21…光電変換素子、22…シフトレジスタ、2
3…バッファ、24…転送スイッチ、25…蓄積容量、
26…マトリクス信号線、31…読み出し回路、Φ0…
入力信号、B…ブロック選択信号。
フロントページの続き (72)発明者 栗原 啓輔 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株 式会社日立製作所情報通信事業部内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の光電変換素子と、前記複数の光電変
    換素子の各々に対応して設けられ前記光電変換素子の各
    出力信号を蓄積する蓄積容量と、前記蓄積容量の各々に
    接続され蓄積された信号を一定数からなるブロックごと
    に順次取り出す転送スイッチと、前記転送スイッチに接
    続したマトリクス信号線と、前記ブロックごとの前記転
    送スイッチを順次選択するブロック選択信号を生成する
    シフトレジスタ及びバッファとを備えるラインイメージ
    センサにおいて、前記シフトレジスタ、前記バッファ及
    び前記転送スイッチを電界効果型非晶質シリコン薄膜ト
    ランジスタを用いて構成し、前記シフトレジスタ、前記
    バッファを構成する前記シフトトランジスタのチャンネ
    ル長を前記転送スイッチを構成する前記トランジスタの
    チャンネル長よりも小さくしたことを特徴とするライン
    イメージセンサ。
  2. 【請求項2】複数の光電変換素子と、前記複数の光電変
    換素子の各々に対応して設けられ前記光電変換素子の各
    出力信号を蓄積する蓄積容量と、前記蓄積容量の各々に
    接続され蓄積された信号を一定数からなるブロックごと
    に順次取り出す転送スイッチと、前記転送スイッチに接
    続したマトリクス信号線と、前記ブロックごとの前記転
    送スイッチを順次選択するブロック選択信号を生成する
    シフトレジスタ及びバッファとを備えるラインイメージ
    センサにおいて、前記シフトレジスタ、前記バッファ及
    び前記転送スイッチを電界効果型非晶質シリコン薄膜ト
    ランジスタを用いて構成し、かつ前記シフトレジスタ、
    前記バッファを前記光電変換素子を挟んで前記マトリク
    ス信号線と反対側に配置したことを特徴とするラインイ
    メージセンサ。
  3. 【請求項3】複数の光電変換素子と、前記複数の光電変
    換素子の各々に対応して設けられ前記光電変換素子の各
    出力信号を蓄積する蓄積容量と、前記蓄積容量の各々に
    接続され蓄積された信号を一定数からなるブロックごと
    に順次取り出す転送スイッチと、前記転送スイッチに接
    続したマトリクス信号線と、前記ブロックごとの前記転
    送スイッチを順次選択するブロック選択信号を生成する
    シフトレジスタ及びバッファとを備えるラインイメージ
    センサにおいて、前記光電変換素子、前記蓄積容量、前
    記転送スイッチ、前記マトリクス信号線、前記シフトレ
    ジスタ及び前記バッファを基板上に形成し、前記ブロッ
    ク選択信号の時間幅を入力信号により制御することを特
    徴とするラインイメージセンサ。
  4. 【請求項4】基板上に設けた、複数の光電変換素子と、
    前記複数の光電変換素子の各々に対応して設けられ前記
    光電変換素子の各出力信号を蓄積する蓄積容量と、前記
    蓄積容量の各々に接続され蓄積された信号を一定数から
    なるブロックごとに順次取り出す転送スイッチと、前記
    転送スイッチに接続したマトリクス信号線と、前記ブロ
    ックごとの前記転送スイッチを順次選択するブロック選
    択信号を生成するシフトレジスタ及びバッファとを備え
    るラインイメージセンサの駆動方法において、前記シフ
    トレジスタ及び前記バッファにより順次生成された前記
    ブロック選択信号が、入力信号によりその時間幅を制御
    され、重なりを持たないことを特徴とするラインイメー
    ジセンサの駆動方法。
  5. 【請求項5】基板上に、複数の光電変換素子と、前記複
    数の光電変換素子の各々に対応して設けられ前記光電変
    換素子の各出力信号を蓄積する蓄積容量と、前記蓄積容
    量の各々に接続され蓄積された信号を一定数からなるブ
    ロックごとに順次取り出す転送スイッチと、前記転送ス
    イッチに接続したマトリクス信号線と、前記ブロックご
    との前記転送スイッチを順次選択するブロック選択信号
    を生成するシフトレジスタ及びバッファとを備えてなる
    ラインイメージセンサの駆動方法において、前記シフト
    レジスタ及び前記バッファにより順次生成された前記ブ
    ロック選択信号が重なりを持つことを特徴とするライン
    イメージセンサの駆動方法。
JP4314595A 1992-06-05 1992-11-25 ラインイメージセンサ及び駆動方法 Pending JPH06104416A (ja)

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JP4-145339 1992-06-05
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6897847B2 (en) 1994-08-16 2005-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Peripheral driver circuit of liquid crystal electro-optical device
US7656380B2 (en) 2000-10-23 2010-02-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US7893913B2 (en) 2000-11-07 2011-02-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device including a drive circuit, including a level shifter and a constant current source

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6897847B2 (en) 1994-08-16 2005-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Peripheral driver circuit of liquid crystal electro-optical device
US7119784B2 (en) 1994-08-16 2006-10-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Peripheral drive circuit of liquid crystal electro-optical device
US7348956B2 (en) 1994-08-16 2008-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Peripheral driver circuit of liquid crystal electro-optical device
US7656380B2 (en) 2000-10-23 2010-02-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US7893913B2 (en) 2000-11-07 2011-02-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device including a drive circuit, including a level shifter and a constant current source

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