JPH0578453A - Protecting film material - Google Patents

Protecting film material

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JPH0578453A
JPH0578453A JP3269110A JP26911091A JPH0578453A JP H0578453 A JPH0578453 A JP H0578453A JP 3269110 A JP3269110 A JP 3269110A JP 26911091 A JP26911091 A JP 26911091A JP H0578453 A JPH0578453 A JP H0578453A
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protective film
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acid
meth
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真紀子 東郷
Osamu Fujii
修 藤井
Masayuki Endo
昌之 遠藤
Yasuaki Yokoyama
泰明 横山
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject material useful for a protecting film for optical devices, having excellent ITO sputtering resistance by blending a specific polymer with a polyfunctional carboxylic acid, etc., an acrylic compound and a compound containing an alkoxysilano group and epoxy group. CONSTITUTION:(A) A polymer containing 20wt.% (preferably 30-70wt.%) constituent unit of the formula (R is H or 1-5C alkyl; (m) is 1-8) is blended with (B) one or more compounds selected from $ polyfunctional carboxylic acid anhydrides (preferably aromatic polyfunctional carboxylic acid anhydride such as phthalic anhydride) and polyfunctional carboxylic acids (preferably phthalic acid) as curing agent, (C) an acrylic compound (preferably tri-or polyfunctional acrylic compound), (D) a compound (e.g. triglycidoxypropyltrimethoxysilane) and optionally a curing promoter, a surfactant, etc., to give the objective material.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、熱硬化性樹脂組成物か
ら成る光デバイス用として好適な保護膜材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a protective film material composed of a thermosetting resin composition and suitable for an optical device.

【0002】[0002]

【従来技術】液晶表示素子等の表示素子においては、そ
の製造工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液等に浸漬
処理が行なわれたり、また配線電極層のスパッタリング
による製膜時にその表面が局部的に高温に曝される。従
って、このような処理によって素子が劣化あるいは損傷
することを防止するために、これらの処理に対して耐性
を有する薄膜の保護膜層を設けることが行なわれてい
る。
2. Description of the Related Art In a display device such as a liquid crystal display device, a dipping treatment is performed in a solvent, an acid or an alkaline solution or the like during the manufacturing process, and the surface of the wiring electrode layer is locally formed during film formation by sputtering. Exposed to high temperatures. Therefore, in order to prevent the element from being deteriorated or damaged by such a treatment, a thin protective film layer having resistance to these treatments is provided.

【0003】このような保護膜においては、基体または
下層、さらにその上に形成する層への接着性が高く、膜
自体が平滑で強靱であること、透明であること、耐熱性
および耐光性が高く長期間にわたって着色、黄変、白化
等の変質をしないこと、耐水性、耐溶剤性、耐酸性およ
び耐アルカリ性が優れていること等の性能が要求され
る。これらの諸特性を満たす保護膜材料としては、例え
ば特開昭60−217230号公報等に開示されている熱硬化性
組成物が知られている。
In such a protective film, the adhesiveness to the substrate or the lower layer and the layer formed thereon is high, and the film itself is smooth and tough, transparent, and has heat resistance and light resistance. It is required to have high performance such that it is free from deterioration such as coloring, yellowing and whitening over a long period of time, and has excellent water resistance, solvent resistance, acid resistance and alkali resistance. As a protective film material satisfying these various properties, for example, a thermosetting composition disclosed in JP-A-60-217230 is known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】然しながら、例えばス
ーパーツイステッドネマチック(STN)方式のカラー
液晶表示素子の場合には、これまでのツイステッドネマ
チック(TN)方式の液晶表示素子の場合に比して、セ
ルギャップの均一性が非常に重要となっているため、基
板表面の平坦性が要求される。基板表面が平坦でない
と、表示ムラが発生するためである。
However, for example, in the case of a super twisted nematic (STN) type color liquid crystal display element, compared with the conventional twisted nematic (TN) type liquid crystal display element, the cell Since the uniformity of the gap is very important, the flatness of the substrate surface is required. This is because display unevenness occurs if the substrate surface is not flat.

【0005】これまでの保護膜層は、主にTN方式の液
晶パネルに使用されることが多かったため、平坦化性を
問われることは少なく、実際にカラーフィルター基板上
に形成されている保護膜層を調べると、カラーフィルタ
ー製造によって生じた表面凹凸が殆どそのまま保護膜層
表面にも発現していた。
Conventionally, the protective film layer has been often used mainly in the TN type liquid crystal panel, so that the flattening property is not often required and the protective film actually formed on the color filter substrate. When the layer was examined, surface irregularities caused by the production of the color filter were almost directly expressed on the surface of the protective film layer.

【0006】従って本発明は、上述した従来技術の欠点
に鑑み、カラーフィルター上に、その凹凸を小さくする
効果を有する保護膜を形成し得る、特にSTN用として
好適な保護膜材料を提供することを目的とする。
Therefore, in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, the present invention provides a protective film material capable of forming a protective film having an effect of reducing the unevenness on a color filter, particularly suitable for STN. With the goal.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、 (A) 下記一般式(1)According to the present invention, (A) the following general formula (1)

【化2】 〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアル
キル基を示し、mは、1〜8の整数を示す〕で表される
構成単位を少なくとも20重量%含有している重合体(以
下、「重合体A」という)、 (B) 多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選
択された少なくとも1種の化合物、 (C) アクリル化合物、 および、 (D) アルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する化合
物、 を含有して成る保護膜材料が提供される。この保護膜材
料は、高濃度かつ低粘度を実現することができるため
に、基板上の凹凸を平坦化する高い能力を持ち、なおか
つ高い架橋密度が得られるために、各種耐性に優れた保
護膜層を形成することができる。
[Chemical 2] [In the formula, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 8] A polymer containing at least 20% by weight of a structural unit represented by (Hereinafter referred to as “polymer A”), (B) at least one compound selected from polycarboxylic acid anhydrides and polycarboxylic acids, (C) an acrylic compound, and (D) an alkoxysilano group. There is provided a protective film material containing a compound having an epoxy group. This protective film material has a high ability to flatten the irregularities on the substrate because it can achieve a high concentration and low viscosity, and a high crosslink density can be obtained. Layers can be formed.

【0008】成分(A) 本発明の保護膜材料において、ベース成分である成分
(A) の重合体Aは、上記のように、一般式(1) で表され
る構成単位を有している。この一般式(1) において、m
は、1〜8、好ましくは1〜4の整数である。またR
は、水素原子または炭素数1〜5の低級アルキル基であ
る。この低級アルキル基は、直鎖状および分岐鎖状の何
れであってもよく、例えばメチル、エチル、 n−プロピ
ル、イソプロピル、 n−ブチル、イソブチル、 sec−ブ
チル、 t−ブチルおよび n−ペンチル等を例示すること
ができる。
Component (A) A component which is a base component in the protective film material of the present invention.
As described above, the polymer A of (A) has a structural unit represented by the general formula (1). In this general formula (1), m
Is an integer of 1 to 8, preferably 1 to 4. Also R
Is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. The lower alkyl group may be linear or branched, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl and n-pentyl. Can be illustrated.

【0009】上記一般式(1) で表される構成単位を導入
するために使用される単量体としては、例えば(メタ)
アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジ
ル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−
ブチルアクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸−
3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸− 4,5−エ
ポキシペンチル、(メタ)アクリル酸−6,7−エポキシ
ヘプチル、α−エチルアクリル酸− 6,7−エポキシヘプ
チル等を挙げることができる。これらの中で、特に(メ
タ)アクリル酸グリシジルが好ましい。これらの単量体
は、1種単独または2種以上の組み合わせで使用するこ
とができる。
The monomer used for introducing the constitutional unit represented by the general formula (1) is, for example, (meth)
Glycidyl acrylate, α-ethyl glycidyl acrylate, α-n-propyl glycidyl acrylate, α-n-
Glycidyl butyl acrylate, (meth) acrylic acid-
Examples include 3,4-epoxybutyl, (meth) acrylic acid-4,5-epoxypentyl, (meth) acrylic acid-6,7-epoxyheptyl, α-ethylacrylic acid-6,7-epoxyheptyl and the like. it can. Of these, glycidyl (meth) acrylate is particularly preferable. These monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0010】これら単量体から導入される一般式(1) で
表される構成単位は、塗膜中での架橋反応を有効に行な
うために、重合体A中に少なくとも20重量%含まれてい
ることが必要であるが、特に30〜70重量%の割合で含ま
れていることが好適である。
The constituent unit represented by the general formula (1) introduced from these monomers is contained in the polymer A in an amount of at least 20% by weight in order to effectively carry out the crosslinking reaction in the coating film. However, it is particularly preferable that the content is 30 to 70% by weight.

【0011】重合体Aは、一般式(1) で表される構成単
位以外の他の構成単位を、80重量%以下、特に70〜30重
量%の割合で含んでいてよいが、このような他の構成単
位を導入するための共単量体としては、例えば(メタ)
アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メ
タ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチ
ルヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)ア
クリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロ
ペンタニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオ
キシエチル、(メタ)アクリル酸イソボロニルの如き
(メタ)アクリル酸のエステル;スチレン、α−メチル
スチレン、p−メチルスチレン、ビニルナフタレンの如
きビニル芳香族系化合物を挙げることができる。
The polymer A may contain a constitutional unit other than the constitutional unit represented by the general formula (1) in an amount of 80% by weight or less, particularly 70 to 30% by weight. Examples of the comonomer for introducing another structural unit include (meth)
Methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopenta (meth) acrylate Nyl, esters of (meth) acrylic acid such as dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate; vinyl aromatic systems such as styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, vinylnaphthalene A compound can be mentioned.

【0012】重合体Aの分子量は、本発明の保護膜材料
の溶液を均一に塗布することが可能である限り特に限定
されず、形成する塗膜の厚さ、塗布条件、目的等に応じ
て適宜選択されが、通常ポリスチレン換算重量平均分子
量が 5,000〜300,000 の範囲にあることが好適である。
また本発明において使用するこの重合体Aは、上述した
構成単位を有する限りにおいて、前述した各単量体のラ
ンダム共重合体あるいはブロック共重合体であってよ
い。
The molecular weight of the polymer A is not particularly limited as long as the solution of the protective film material of the present invention can be uniformly applied, and it depends on the thickness of the coating film to be formed, coating conditions, purpose and the like. Although appropriately selected, it is generally preferred that the polystyrene reduced weight average molecular weight is in the range of 5,000 to 300,000.
Further, the polymer A used in the present invention may be a random copolymer or block copolymer of each of the above-mentioned monomers as long as it has the above-mentioned constitutional unit.

【0013】成分(B) 本発明の保護膜材料において、成分(B) として使用され
る多価カルボン酸無水物または多価カルボン酸は、重合
体Aの硬化剤として作用するものである。
Component (B) In the protective film material of the present invention, the polycarboxylic acid anhydride or polycarboxylic acid used as the component (B) acts as a curing agent for the polymer A.

【0014】多価カルボン酸無水物としては、例えば無
水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水
ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マレ
イン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラ
ヒドロフタル酸、無水ハイミック酸等の脂肪族ジカルボ
ン酸無水物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水
物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等の脂環
族多価カルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水ピロメ
リット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸無水物、エチ
レングリコールビス無水トリメリテート、グリセリント
リス無水トリメリテート等のエステル基含有酸無水物を
例示することができる。これらの内、特に芳香族多価カ
ルボン酸無水物が、耐熱性の見地から好適である。
Examples of the polycarboxylic acid anhydride include itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, tricarbanilic anhydride, maleic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and anhydrous Aliphatic dicarboxylic acid anhydride such as hymic acid, alicyclic polycarboxylic acid dianhydride such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, phthalic anhydride Acids, pyromellitic dianhydride, trimellitic dianhydride, aromatic polycarboxylic acid anhydrides such as benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bis anhydride trimellitate, ester group-containing acid anhydrides such as glycerin tris anhydride trimellitate You can Of these, aromatic polycarboxylic acid anhydrides are particularly preferable from the viewpoint of heat resistance.

【0015】また多価カルボン酸としては、例えばコハ
ク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテトラカルボン
酸、マレイン酸、イタコン酸等の脂肪族多価カルボン
酸、ヘキサヒドロフタル酸、 1,2−シクロヘキサンジカ
ルボン酸、 1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸、シ
クロペンタンテトラカルボン酸等の脂環族多価カルボン
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリ
ット酸、ピロメリット酸、 1,2,5,8−ナフタレンテトラ
カルボン酸等の芳香族多価カルボン酸を例示することが
できる。特に、反応性、耐熱性等の見地から芳香族多価
カルボン酸が好適である。
Examples of polyvalent carboxylic acids include aliphatic polycarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, butanetetracarboxylic acid, maleic acid and itaconic acid, hexahydrophthalic acid and 1,2-cyclohexane. Alicyclic polyvalent carboxylic acids such as dicarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, 1,2,5 Aromatic polyvalent carboxylic acids such as 8,8-naphthalene tetracarboxylic acid can be exemplified. In particular, aromatic polyvalent carboxylic acids are preferable from the viewpoint of reactivity, heat resistance and the like.

【0016】これらの成分(B) の多価カルボン酸無水物
または多価カルボン酸は、単独または2種以上の組み合
わせで使用することができ、通常、重合体A 100重量部
当り1〜100 重量部、特に3〜50重量部の割合で使用す
ることが好ましい。これよりも少ないと形成される保護
膜の架橋密度が十分でなく、各種耐性が低下し、また多
すぎると未反応の硬化剤成分が保護膜中に多く残り、こ
の結果として膜の性質が不安定になったり、密着性が低
下したりする。
These polyvalent carboxylic anhydrides or polycarboxylic acids as the component (B) can be used alone or in combination of two or more kinds, and usually 1 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer A. It is preferably used in a proportion of 3 parts by weight, especially 3 to 50 parts by weight. If it is less than this, the cross-linking density of the protective film formed is not sufficient and various resistances are reduced, and if it is too large, a large amount of unreacted curing agent component remains in the protective film, resulting in poor film properties. It becomes stable and the adhesiveness decreases.

【0017】成分(C) 成分(C) のアクリル化合物も硬化剤として作用するもの
であるが、特に保護膜に平坦化作用を与える。このよう
なアクリル化合物には、単官能性、二官能性または三官
能以上の多官能性のものがあり、通常熱によるラジカル
反応が可能なエステル化物が用いられる。
[0017] While acrylic compound component (C) Component (C) also acting as a curing agent, in particular gives a flattening function on the protective film. Such acrylic compounds include monofunctional, difunctional, or trifunctional or higher-functional polyfunctional compounds, and usually an esterified product capable of radical reaction by heat is used.

【0018】単官能性のアクリル化合物としては、フェ
ノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、
ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アク
リレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール
(メタ)アクリレート等があり、これらは例えば、アロ
ニックスM−101 、同M−111 、同M−114 (東亜合成
化学工業(株)製)、V158 、V2311(大阪有機化学工
業(株)製)等の商品名で市販されている。
As the monofunctional acrylic compound, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate,
There are nonylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate and the like, and these are, for example, Aronix M-101, M-111 and M-114 (manufactured by Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.), Commercially available under the trade names of V158 and V2311 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.).

【0019】二官能性のアクリル化合物としては、ポリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレー
ト、ヘキサメチレングリコールジ(メタ)アクリレート
等があり、これらは例えば、アロニックスM−210 、同
M−240 、同M−6200(東亜合成化学工業(株)製)、
KAYARAD HDDA、同HX−220 、同R−604 、同R−629
(日本化薬(株)製)、V260 、V−312 、V−335 H
P(大阪有機化学工業(株)製)等の商品名で市販され
ている。
Examples of the bifunctional acrylic compound include polyethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, and hexamethylene glycol di (meth) acrylate. These are, for example, Aronix M- 210, M-240, M-6200 (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.),
KAYARAD HDDA, HX-220, R-604, R-629
(Nippon Kayaku Co., Ltd.), V260, V-312, V-335H
It is commercially available under the trade name of P (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.

【0020】三官能性以上の多官能性アクリル化合物と
しては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレ
ート等があり、これらは例えば、アロニックスM−400
、同M−405 、同M−450 、同M−7100、同M−803
0、同M−8060(東亜合成化学工業(株)製)、KAYARAD
TMPTA 、同DPCA−20、同DPCA−30、同DPC
A−60、同DPCA−120 (日本化薬(株)製)、VG
PT(大阪有機化学工業(株)製)等の商品名で市販さ
れている。
Examples of trifunctional or higher polyfunctional acrylic compounds include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate. Etc. These are, for example, Aronix M-400.
, The same M-405, the same M-450, the same M-7100, the same M-803
0, same M-8060 (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), KAYARAD
TMPTA, DPCA-20, DPCA-30, DPC
A-60, DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), VG
It is marketed under the trade name of PT (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.

【0021】これらのアクリル化合物の中で3官能以上
のアクリル化合物が好ましく、特にオキシエチレンのよ
うなオキシアルキレン構造を含まない3官能以上のアク
リル化合物が好ましい。これらの市販として、例えばア
ロニックスM−400 、同M−405 、同M−450 、同M−
7100、同M−8030、同M−8060、 KAYARAD TMPTA等が挙
げられる。
Among these acrylic compounds, trifunctional or higher functional acrylic compounds are preferable, and trifunctional or higher functional acrylic compounds containing no oxyalkylene structure such as oxyethylene are particularly preferable. Commercially available products thereof include, for example, Aronix M-400, M-405, M-450 and M-.
7100, M-8030, M-8060, KAYARAD TMPTA and the like.

【0022】これら成分(C) のアクリル化合物は、単独
または2種以上組み合わせて使用することができ、その
使用量は、通常 (A)成分 100重量部当り、5〜200 重量
部、特に10〜100 重量部の範囲が好適である。当該範囲
よりも少ないと十分な平坦化性が得られず、また当該範
囲よりも多いと保護膜形成時に膜荒れや相分離が生じた
り、あるいは膜の耐熱性が低下することがある。
These acrylic compounds of component (C) can be used alone or in combination of two or more, and the amount thereof is usually 5 to 200 parts by weight, particularly 10 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of component (A). A range of 100 parts by weight is preferred. If it is less than the above range, sufficient flatness cannot be obtained, and if it is more than the above range, film roughness and phase separation may occur during the formation of the protective film, or the heat resistance of the film may deteriorate.

【0023】成分(D) 成分(D) のアルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する
化合物は、上記成分(C) とともに保護膜に平坦化作用を
与えるとともに、保護膜に密着性を付与する。
[0023] Component (D) a compound having an alkoxy silanol groups and epoxy groups of component (D), as well as providing a flattening action on the protective film together with the component (C), to impart adhesion to the protective film.

【0024】このような化合物としては、例えばγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル) エチルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルジエトキシシラン等を挙げるこ
とができ、これらは単独または2種以上の組み合わせで
使用することができる。
Examples of such compounds include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyldiethoxysilane and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0025】この成分(D) の化合物の使用量は、一般
に、 (A)成分 100重量部当り、 0.1〜200 重量部、特に
5〜150 重量部の範囲が好適である。当該範囲よりも少
ないと保護膜と基板との間に十分な密着性が得られず、
また十分な平坦化性が得られない。さらに当該範囲より
も多いと保護膜の耐アルカリ性、耐溶剤性等が低下する
ことがある。
The amount of the component (D) compound used is generally 0.1 to 200 parts by weight, preferably 5 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of the component (A). If it is less than the range, sufficient adhesion cannot be obtained between the protective film and the substrate,
In addition, sufficient flatness cannot be obtained. Further, if it exceeds the above range, the alkali resistance, solvent resistance, etc. of the protective film may be deteriorated.

【0026】その他の配合剤 本発明の保護膜材料においては、上述した (A)〜(D) 成
分以外に、必要に応じて他の配合剤、例えば硬化促進
剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を配合することができ
る。
Other compounding agents In the protective film material of the present invention, in addition to the above-mentioned components (A) to (D), other compounding agents such as a curing accelerator, a surfactant and an ultraviolet absorber may be added if necessary. Etc. can be blended.

【0027】硬化促進剤は、(A) および (D)成分と (B)
成分との反応を促進させるために使用されるものであ
り、一般に2級窒素原子または3級窒素原子を含むヘテ
ロ環構造を有する化合物が用いられる。具体的には、ピ
ロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジ
ン、ピリミジン、インドール、インダゾール、ベンズイ
ミダゾール、イソシアヌル酸等を例示することができ
る。これらの中でも、2−メチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミ
ダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、1
−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−エチル−4
−メチル−1− (2'−シアノエチル) イミダゾール、
2−エチル−4−メチル−1−〔2'−(3",5"−ジアミノ
トリアジニル) エチル〕イミダゾール、ベンズイミダゾ
ール等のイミダゾール誘導体が好適であり、最も好適に
は、2−エチル−4−メチルイミダゾール、4−メチル
−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチ
ルイミダゾールが使用される。これらの硬化促進剤は、
単独または2種以上の組み合わせで使用することがで
き、一般に成分 (A) 100重量部当り0〜30重量部、特に
好ましくは 0.1〜10重量部の割合で使用されることが望
ましい。
The curing accelerator is composed of the components (A) and (D) and (B).
It is used to accelerate the reaction with the components, and generally, a compound having a heterocyclic structure containing a secondary nitrogen atom or a tertiary nitrogen atom is used. Specific examples include pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, indole, indazole, benzimidazole and isocyanuric acid. Among these, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 4-methyl-2-phenylimidazole, 1
-Benzyl-2-methylimidazole, 2-ethyl-4
-Methyl-1- (2'-cyanoethyl) imidazole,
Imidazole derivatives such as 2-ethyl-4-methyl-1- [2 '-(3 ", 5" -diaminotriazinyl) ethyl] imidazole and benzimidazole are preferred, and most preferably 2-ethyl- 4-Methylimidazole, 4-methyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole are used. These curing accelerators are
They may be used alone or in combination of two or more kinds, and it is generally desirable to use them in an amount of 0 to 30 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of the component (A).

【0028】界面活性剤としては、フッ素系およびシリ
コーン系のものを好適に使用することができる。フッ素
系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なく
とも何れかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロア
ルキレン基を有する化合物が好適であり、具体的には、
1,1,2,2−テトラフロロオクチル(1,1,2,2−テトラフロ
ロプロピル) エーテル、 1,1,2,2−テトラフロロオクチ
ルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ(1,
1,2,2−テトラフロロブチル) エーテル、ヘキサエチレ
ングリコールジ(1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロペンチル)
エーテル、オクタプロピレングリコールジ(1,1,2,2−テ
トラフロロブチル) エーテル、ヘキサプロピレングリコ
ールジ(1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロペンチル) エーテ
ル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、 1,1,
2,2,8,8,9,9,10,10−デカフロロドデカン、1,1,2,2,3,3
−ヘキサフロロデカン等を挙げることができる。またこ
れらの市販品としては、BM−1000、BM−1100(BM Ch
emie社製) 、メガファックF142D、同F172 、同F173
、同F183 (大日本インキ化学工業(株)製)等を挙
げることができる。
As the surface active agent, fluorine type and silicone type can be preferably used. As the fluorinated surfactant, a compound having a fluoroalkyl or fluoroalkylene group at at least one of the terminal, main chain and side chain is suitable, and specifically,
1,1,2,2-Tetrafluorooctyl (1,1,2,2-tetrafluoropropyl) ether, 1,1,2,2-Tetrafluorooctylhexyl ether, Octaethylene glycol di (1,
1,2,2-Tetrafluorobutyl) ether, hexaethylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoropentyl)
Ether, octapropylene glycol di (1,1,2,2-tetrafluorobutyl) ether, hexapropylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoropentyl) ether, sodium perfluorododecyl sulfonate , 1,1,
2,2,8,8,9,9,10,10-decafluorododecane, 1,1,2,2,3,3
-Hexafluorodecane and the like can be mentioned. Moreover, as these commercial products, BM-1000, BM-1100 (BM Ch
(Made by emie), MegaFac F142D, F172, F173
, F183 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and the like.

【0029】またシリコーン系界面活性剤としては、例
えばトーレシリコーンDC3PA、同SH7PA,同D
C11PA,同SH21PA,同SH28PA、同SH29P
A、同SH30PA(トーレシリコーン(株)製)、TS
F−4440、TSF−4300、TSF−4445、TSF−444
6、TSF−4460、TSF−4452(東芝シリコーン
(株)製)等の市販品を挙げることができる。
Examples of silicone-based surfactants include Torre silicone DC3PA, SH7PA, D
C11PA, SH21PA, SH28PA, SH29P
A, SH30PA (manufactured by Torre Silicone Co., Ltd.), TS
F-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-444
6, commercially available products such as TSF-4460 and TSF-4445 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) can be mentioned.

【0030】これら界面活性剤は単独または2種以上の
組み合わせで使用することができ、またその使用量は、
その種類や (A)〜(D) の各成分の種類や濃度等によって
も異なるが、一般に成分 (A) 100重量部当り0〜5重量
部、特に 0.001〜2重量部の範囲が好適である。
These surfactants can be used alone or in combination of two or more, and the amount thereof used is
Although it depends on the type and concentration of each component (A) to (D), the range of 0 to 5 parts by weight, particularly 0.001 to 2 parts by weight, is preferable per 100 parts by weight of the component (A). ..

【0031】保護膜材料 本発明の保護膜材料は、上述した各成分を均一に混合す
ることによって容易に調製することができ、適当な溶媒
に溶解させて溶液の形で使用に供される。用いる溶媒と
しては、各成分を均一に溶解させることができ、且つ各
成分と反応しないものであれば特に制限されないが、一
般的には塗膜の形成のし易さからセロソルブアセテート
系およびジグライム系の溶剤が好適であり、特にエチル
セロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエ
チレングリコールジエチルエーテルが好適である。これ
らの溶剤は、単独でまたは2種類以上を組み合わせて使
用することができる。この組成物の溶液の濃度は特に制
限されず、使用目的に応じて適宜選定することができる
が、通常固形分濃度が5〜50重量%程度で使用される。
Protective Film Material The protective film material of the present invention can be easily prepared by uniformly mixing the above-mentioned components, and is dissolved in an appropriate solvent and used in the form of a solution. The solvent to be used is not particularly limited as long as it can dissolve each component uniformly and does not react with each component, but in general, from the ease of forming a coating film, a cellosolve acetate system and a diglyme system are used. Are preferred, particularly ethyl cellosolve acetate, ethyl carbitol acetate, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The concentration of the solution of this composition is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose of use, but it is usually used at a solid concentration of about 5 to 50% by weight.

【0032】本発明においては、上述した保護膜材料の
溶液を、所定の基体表面に塗布し、加熱により硬化する
ことによって所望の保護膜を形成することができる。基
体表面への塗布方法は特に限定されず、例えばスプレー
法、ロールコート法、回転塗布法等の各種の方法を採用
することができる。本発明の保護膜材料の熱硬化条件
は、各成分の具体的種類、配合割合等によっても異なる
が、通常は、 150〜250 ℃で 0.2〜1.5 時間程度であ
る。
In the present invention, a desired protective film can be formed by applying the solution of the above-mentioned protective film material on the surface of a predetermined substrate and curing it by heating. The coating method on the surface of the substrate is not particularly limited, and various methods such as a spray method, a roll coating method and a spin coating method can be adopted. The conditions for thermosetting the protective film material of the present invention are usually at 150 to 250 ° C. for about 0.2 to 1.5 hours, although they vary depending on the specific type and mixing ratio of each component.

【0033】本発明の保護膜材料から形成される保護膜
は、以下の実施例から明らかな通り、各種物性とともに
平坦化性に優れており、例えばカラーフィルター等の光
デバイス用の保護膜として極めて好適である。次に実施
例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
The protective film formed from the protective film material of the present invention is excellent in various properties and flatness, as is clear from the following examples, and is extremely useful as a protective film for optical devices such as color filters. It is suitable. EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention will be described in more detail, but the present invention is not limited to these Examples.

【0034】[0034]

【実施例】実施例1〜5 (1) 重合体Aの合成;表1の (A)成分の欄に示す単量体
を、該欄中 (A)成分の欄に示す重量比で使用し、その合
計量 100重量部を、エチルセロソルブアセテート 300重
量部に混合し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニ
トリル(AIBN)0.5重量部を添加し、80℃で3時間
重合させることで重合体Aの濃度25重量%の溶液を得
た。
Examples Examples 1 to 5 (1) Synthesis of polymer A: Monomers shown in the column of component (A) in Table 1 were used in a weight ratio shown in the column of component (A) in the column. The total amount of 100 parts by weight is mixed with 300 parts by weight of ethyl cellosolve acetate, 0.5 part by weight of azobisisobutyronitrile (AIBN) is added as a polymerization initiator, and the mixture is polymerized at 80 ° C. for 3 hours. A solution having a concentration of polymer A of 25% by weight was obtained.

【0035】(2) 保護膜材料の調製;上記重合体溶液 1
00重量部(重合体A:25重量部)をエチルセロソルブア
セテート25重量部で希釈した後、表1に示す配合処方に
したがって、 (B)〜(D) およびそれ以外の成分を加え、
十分攪拌して保護膜材料を得た。
(2) Preparation of protective film material; the above polymer solution 1
After diluting 00 parts by weight (polymer A: 25 parts by weight) with 25 parts by weight of ethyl cellosolve acetate, (B) to (D) and other components were added according to the formulation shown in Table 1.
After sufficiently stirring, a protective film material was obtained.

【0036】(3) 保護膜の形成; (3-1) 諸耐性評価用保護膜 上記保護膜材料をガラス基板上に、膜厚が2μm になる
ように塗布し、クリーンオーブン中、 200℃で1時間熱
硬化を行なって保護膜を形成した。 (3-2) 密着性および平坦化性評価用保護膜 ガラス基板(コーニング7059, ダグラス ダウコーニン
グ社製)上にゼラチンと重クロム酸カリウム溶液を用い
て、常法によりストライプ状の赤、青、緑の3色のカラ
ーフィルターのついた基板を作成した(ストライプ幅 1
50μm )。この基板の表面凹凸を、α−ステップ(テン
コール社製)にて調べたところ、1.0μm であった。こ
の基板上に、上記(3-1) と同様に、保護膜材料を塗布、
熱硬化して、保護膜を形成した。
(3) Formation of protective film; (3-1) Protective film for evaluation of various resistances The above-mentioned protective film material was applied onto a glass substrate so that the film thickness was 2 μm, and then in a clean oven at 200 ° C. It was heat-cured for 1 hour to form a protective film. (3-2) Protective film for evaluation of adhesion and flatness Using a solution of gelatin and potassium dichromate on a glass substrate (Corning 7059, Douglas Dow Corning), striped red, blue, and A substrate with three color filters of green was created (stripe width 1
50 μm). When the surface irregularities of this substrate were examined by α-step (manufactured by Tencor Co., Ltd.), it was 1.0 μm. On this substrate, as in (3-1) above, apply the protective film material,
It was heat-cured to form a protective film.

【0037】(4) 保護膜の評価 上記(3-1) および (3-2)で得られた保護膜について、以
下に示す評価を行い、その結果を表2に示した。
(4) Evaluation of protective film The protective film obtained in (3-1) and (3-2) above was evaluated as follows, and the results are shown in Table 2.

【0038】密着性 JIS K-5400(1900)8.5 付着性のうち、 8.5・2碁盤目テー
プ法にしたがって、前記(3-1) 、(3-2) で作成された保
護膜に 100個の碁盤目をカッターナイフで形成し、その
密着性の評価を行なった。尚、この密着性は、剥離した
碁盤目の数により、次の基準で評価した。 ○:5個以下 △:6〜49個 ×:50個以上
Adhesiveness JIS K-5400 (1900) 8.5 Of the adhesiveness, 100 pieces are adhered to the protective film prepared in (3-1) and (3-2) above according to the 8.5 / 2 cross-cut tape method. The cross-cuts were formed with a cutter knife, and the adhesion was evaluated. The adhesiveness was evaluated according to the following criteria based on the number of cross-cut grids. ○: 5 or less △: 6 to 49 ×: 50 or more

【0039】表面硬度 JIS K-5400(1990)8.4 の鉛筆引っかき試験のうち、8.4・
1試験法に準拠し、(3-1) で作成された保護膜につい
て、保護膜に生じたすり傷によって、表面硬度の評価を
行なった。
Surface hardness JIS K-5400 (1990) 8.4 of the pencil scratch test, 8.4
According to the 1 test method, the surface hardness of the protective film prepared in (3-1) was evaluated by the scratches formed on the protective film.

【0040】耐酸性 (3-1) で作成された保護膜を、基板とともに、20重量%
塩化水素水溶液中に40℃で10分間、浸漬後の外観変化に
より、評価を行なった。
20% by weight of the protective film made of acid resistant (3-1) together with the substrate
Evaluation was carried out by changing the appearance after immersion in a hydrogen chloride aqueous solution at 40 ° C. for 10 minutes.

【0041】耐アルカリ性 (3-1) で作成された保護膜を、基板とともに、10重量%
水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で60分間、浸漬後の外
観変化により、評価を行なった。
A protective film made of alkali resistance (3-1) is used together with the substrate in an amount of 10% by weight.
Evaluation was performed by changing the appearance after immersion in an aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 60 minutes.

【0042】耐熱性 (3-1) で作成された保護膜の熱処理(クリーンオーブン
中、 250℃×60分間)前後の透過スペクトル( 400〜70
0 nm)を比較することにより評価した。評価基準は次の
通りである。 ○:スペクトル変化1%以内 ×:スペクトル変化1%以上
The transmission spectrum (400 to 70) before and after the heat treatment (250 ° C. × 60 minutes in a clean oven) of the protective film formed by heat resistance (3-1)
It was evaluated by comparing (0 nm). The evaluation criteria are as follows. ○: Within 1% of spectrum change ×: Over 1% of spectrum change

【0043】平坦化性 (3-2) で作成された保護膜を有するCF基板の表面凹凸
を、α−ステップによって調べ、下記式で平坦化率(%)
を算出し、評価した。
The surface roughness of the CF substrate having the protective film formed by the flattening property (3-2) was examined by α-step, and the flattening rate (%) was calculated by the following formula.
Was calculated and evaluated.

【0044】[0044]

【数1】 [Equation 1]

【0045】比較例1 実施例1で用いた各成分のうち、 (C)成分を使用しなか
った以外は実施例1と全く同様にして保護膜材料の調製
および保護膜の作成を行い、その評価を行なった。結果
を表2に示す。
Comparative Example 1 A protective film material and a protective film were prepared in the same manner as in Example 1 except that the component (C) among the components used in Example 1 was not used. An evaluation was done. The results are shown in Table 2.

【0046】比較例2 実施例1で用いた各成分のうち、 (D)成分を使用しなか
った以外は実施例1と全く同様にして保護膜材料の調製
および保護膜の作成を行い、その評価を行なった。結果
を表2に示す。
Comparative Example 2 A protective film material and a protective film were prepared in the same manner as in Example 1 except that the component (D) among the components used in Example 1 was not used. An evaluation was done. The results are shown in Table 2.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明の保護膜材料は、種々の耐性に優
れているとともに、例えばカラーフィルター表面の凹凸
ないし段差を小さくする平坦化性に優れた保護膜を形成
する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The protective film material of the present invention forms a protective film which is excellent not only in various resistances but also in flattening property for reducing unevenness or steps on the color filter surface.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 163/00 PJK 8416−4J (72)発明者 横山 泰明 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Reference number within the agency FI technical display location C09D 163/00 PJK 8416-4J (72) Inventor Yasuaki Yokoyama 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A) 下記一般式(1) 【化1】 〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアル
キル基を示し、mは、1〜8の整数を示す〕で表される
構成単位を少なくとも20重量%含有している重合体、 (B) 多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選
択された少なくとも1種の化合物、 (C) アクリル化合物、 および、 (D) アルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する化合
物、 を含有して成る保護膜材料。
1. (A) The following general formula (1): [In the formula, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 8] A polymer containing at least 20% by weight of a structural unit represented by , (B) at least one compound selected from polycarboxylic acid anhydrides and polycarboxylic acids, (C) an acrylic compound, and (D) a compound having an alkoxysilano group and an epoxy group, Protective film material.
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