JPH0575040A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH0575040A
JPH0575040A JP3234752A JP23475291A JPH0575040A JP H0575040 A JPH0575040 A JP H0575040A JP 3234752 A JP3234752 A JP 3234752A JP 23475291 A JP23475291 A JP 23475291A JP H0575040 A JPH0575040 A JP H0575040A
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Japan
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output
source
effect transistor
type compound
semiconductor field
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JP3234752A
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Haruo Shimizu
治夫 清水
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce the power consumption of input/output sections, and to prevent delay regarding a semiconductor integrated circuit device with an output circuit for adjusting voltage with a post-stage circuit. CONSTITUTION:A semiconductor integrated circuit device is constituted including a first output circuit 2a, in which the gate of a depletion type compound semiconductor field-effect transistor 4 is connected to the output section of an inverter 7 and a source is bonded with a final output terminal S1 and the output transistor T1 of a source follower is manufactured while the source and drain of an enhancement type compound semiconductor field-effect transistor 6 are short- circuited and a protective diode D1 is prepared, and an output circuit 2b, in which the gate of the enhancement type compound semiconductor field-effect transistor 6 is bonded with the output section of the inverter 7 and a source is connected to a final output terminal S2 and the output transistor T2 of a source follower is manufactured while the source and drain of the depletion type compound semiconductor field-effect transistor 4 are short-circuited and a protective diode D2 is prepared.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置に
関し、より詳しくは、後段回路との電圧を調整するため
の出力回路を有する半導体集積回路装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a semiconductor integrated circuit device having an output circuit for adjusting a voltage with a subsequent circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】低消費電力で高速動作が可能なGaAs素子
を使用した半導体集積回路が多く用いられるようにな
り、図4(a) に示すように、出力回路41の出力側にE
CLシリコン半導体集積回路43を接続することが行わ
れている。
2. Description of the Related Art Semiconductor integrated circuits using GaAs elements, which have low power consumption and can operate at high speed, have come to be widely used, and as shown in FIG.
The CL silicon semiconductor integrated circuit 43 is connected.

【0003】このため、GaAs半導体集積回路41の出力
回路44は、図4(b) に示すようにECLレベルコンパ
チブル(emitter coupled logic interface level comp
atible) の出力電圧レベルをもった構成になされてい
る。
For this reason, the output circuit 44 of the GaAs semiconductor integrated circuit 41 has an ECL level compatible (emitter coupled logic interface level comp.) As shown in FIG.
(atible) output voltage level.

【0004】その出力回路44は、ソース・ゲートを短
絡したデプレッション型GaAsFET45とエンハンスメ
ント型GaAsFET46とを直列に接続してなるインバー
タ47と、エンハンスメント型GaAsFETよりなる出力
トランジスタ48と、デプレッション型GaAsFETのソ
ースとドレインを短絡したショットキー接合保護ダイオ
ード49により構成されている。
The output circuit 44 includes an inverter 47 formed by serially connecting a depletion type GaAsFET 45 and an enhancement type GaAsFET 46 whose source and gate are short-circuited, an output transistor 48 formed of the enhancement type GaAsFET, and a source of the depletion type GaAsFET. It is composed of a Schottky junction protection diode 49 whose drain is short-circuited.

【0005】また、出力トランジスタ48のゲートはイ
ンバータ47の出力部に接続される一方、そのソースに
繋がる外部の終端抵抗50の他端には例えば−2Vの終
端電圧が印加されており、出力トランジスタ48のソー
スと終端抵抗50の間にある出力端子51から次段のE
CLシリコン半導体集積回路43に信号を出力するよう
になっている。
The gate of the output transistor 48 is connected to the output section of the inverter 47, while the other end of the external terminating resistor 50 connected to the source of the output transistor 48 is applied with a terminating voltage of, for example, -2 V. From the output terminal 51 between the source of 48 and the terminating resistor 50 to the E of the next stage.
A signal is output to the CL silicon semiconductor integrated circuit 43.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した出
力回路44を、図4(a) に示すように他のGaAs半導体集
積回路42の内部ゲート42aに接続する場合がある
が、内部ゲート42aの電圧レベルはECLレベルコン
パチブル電圧よりも+側にずれている。
The output circuit 44 described above may be connected to the internal gate 42a of another GaAs semiconductor integrated circuit 42 as shown in FIG. 4 (a). The voltage level is deviated to the + side from the ECL level compatible voltage.

【0007】このため、図4(a) に示すように内部ゲー
ト42aの前段に入力バッファ回路42bを介在させて
入力電圧を調整してもよいが、入力バッファ回路42b
により消費電力が増加し、しかも動作時間に遅延が生じ
るといった問題がある。
Therefore, as shown in FIG. 4 (a), the input voltage may be adjusted by interposing the input buffer circuit 42b before the internal gate 42a, but the input buffer circuit 42b may be adjusted.
Therefore, there is a problem that the power consumption increases and the operation time is delayed.

【0008】これに対して、終端抵抗50に印加する終
端電圧をGaAs素子に用いられる電源電圧−1.2V程度
の大きな値にすることも考えられる。これによれば出力
回路44の出力パルス信号の低レベルは上昇するが、そ
の高レベルは、出力トランジスタ48となるエンハンス
メント型GaAsFETの特性により低下してしまい、現実
的でない。
On the other hand, it may be considered that the termination voltage applied to the termination resistor 50 is set to a large value of about -1.2V which is the power supply voltage used for the GaAs element. According to this, the low level of the output pulse signal of the output circuit 44 rises, but the high level is unrealistic because it is lowered due to the characteristics of the enhancement type GaAs FET serving as the output transistor 48.

【0009】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであって、入出力部分の消費電力の低減、遅延防止
が図れる半導体集積回路装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of reducing power consumption of an input / output portion and preventing delay.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記した課題は、図1、
2に例示するように、第1のデプレッション型化合物半
導体電界効果トランジスタ3と第1のエンハンスメント
型化合物半導体電界効果トランジスタ5を直列接続して
なるインバータ7と、第2のデプレッション型化合物半
導体電界効果トランジスタ4と、第2のエンハンスメン
ト型化合物半導体電界効果トランジスタ6により構成さ
れる出力回路を複数有する半導体装置において、前記第
2のデプレッション型化合物半導体電界効果トランジス
タ4のゲートを前記インバータ7の出力部に接続し、ソ
ースを最終出力端S1 に接続してソースホロワの出力ト
ランジスタT1 とするとともに、前記第2のエンハンス
メント型化合物半導体電界効果トランジスタ6のソース
とドレインを短絡して保護ダイオードD1 とした第1の
出力回路2aと、前記第2のエンハンスメント型化合物
半導体電界効果トランジスタ6のゲートを前記インバー
タ7の出力部に接続し、ソースを最終出力端S2 に接続
してソースホロワの出力トランジスタT2 とするととも
に、前記第2のデプレッション型化合物半導体電界効果
トランジスタ4のソースとドレインを短絡して保護ダイ
オードD2 とした第2の出力回路2bとを有することを
特徴とする半導体集積回路装置によって達成する。
[Means for Solving the Problems]
2, the first depletion-type compound semiconductor field effect transistor 3 and the first enhancement-type compound semiconductor field-effect transistor 5 are connected in series, and the second depletion-type compound semiconductor field-effect transistor 5 is connected in series. 4 and a second enhancement type compound semiconductor field effect transistor 6 having a plurality of output circuits, the gate of the second depletion type compound semiconductor field effect transistor 4 is connected to the output part of the inverter 7. Then, the source is connected to the final output terminal S 1 to form the output transistor T 1 of the source follower, and the source and drain of the second enhancement type compound semiconductor field effect transistor 6 are short-circuited to form the protection diode D 1 . 1 output circuit 2a and the front The gate of the second enhancement type compound semiconductor field effect transistor 6 is connected to the output of the inverter 7, as well as an output transistor T 2 of the source follower with its source connected to the final output terminal S 2, the second depression achieved by a semiconductor integrated circuit device characterized by a second output circuit 2b which are short-circuited source and drain type compound semiconductor field effect transistor 4 and the protection diode D 2.

【0011】[0011]

【作 用】本発明によれば、出力回路2a,2bに含ま
れるデプレッション型化合物半導体電界効果トランジス
タ4とエンハンスメント型化合物半導体電界効果トラン
ジスタ6の配線接続を変えて、いずれか一方をソースホ
ロワの出力トランジスタTに用い、他方を保護ダイオー
ドDに用いている。
According to the present invention, the wiring connection between the depletion type compound semiconductor field effect transistor 4 and the enhancement type compound semiconductor field effect transistor 6 included in the output circuits 2a and 2b is changed so that one of them is a source follower output transistor. It is used for T and the other is used for the protection diode D.

【0012】この場合、同じゲート電圧が各出力トラン
ジスタT1 ,T2 に印加されても、ソース・ドレイン電
流は、デプレッション型のものの方がエンハンスメント
型のものよりも大きくなる。
In this case, even if the same gate voltage is applied to the output transistors T 1 and T 2 , the source / drain current becomes larger in the depletion type than in the enhancement type.

【0013】このため、出力トランジスタT1 ,T2
ON時には、そのソースに直列に接続される外部の終端
抵抗にかかる出力電圧はデプレッション型のものの方が
高くなり、出力回路2aの出力信号の高レベルの電圧を
部品を変更せずに上昇させることが可能になるので、配
線接続を変えるだけで出力電圧の異なる2種の回路が構
成される。また、出力信号の低レベルの電圧を上げる場
合には、出力トランジスタのソース側の終端電圧を大き
くすればよい。
Therefore, when the output transistors T 1 and T 2 are turned on, the output voltage applied to the external terminating resistor connected in series to their sources is higher in the depletion type, and the output signal of the output circuit 2a becomes higher. Since it becomes possible to raise the high level voltage without changing the parts, two types of circuits having different output voltages can be configured only by changing the wiring connection. To raise the low-level voltage of the output signal, the termination voltage on the source side of the output transistor may be increased.

【0014】したがって、電源電圧の異なる2種の次段
回路とインターフェースでき、次段の半導体集積回路の
入力バッファ回路が不要となり、入力バッファ回路に起
因する消費電力の低減や遅延時間の削減が図れる。
Therefore, it is possible to interface with two types of next-stage circuits having different power supply voltages, the input buffer circuit of the next-stage semiconductor integrated circuit is not required, and the power consumption and delay time due to the input buffer circuit can be reduced. ..

【0015】[0015]

【実施例】そこで、以下に本発明の実施例を図面に基づ
いて説明する。図1は、本発明の一実施例装置の接続状
態を示す概要構成図、図2は、本発明の一実施例装置の
出力回路である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a connection state of an embodiment device of the present invention, and FIG. 2 is an output circuit of the embodiment device of the present invention.

【0016】図において符号1は、出力段に複数の出力
回路2a,2bを有するGaAs半導体集積回路で、その出
力回路2a,2bは図2(a),(b) に示すように2つのデ
プレッション型GaAsFET3,4と2つのエンハンスメ
ント型GaAsFET5,6を有し、その最終出力端S1
2 には終端抵抗Rが接続されている。
In the figure, reference numeral 1 is a GaAs semiconductor integrated circuit having a plurality of output circuits 2a and 2b in its output stage. The output circuits 2a and 2b are two depletion circuits as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). Type GaAs FETs 3 and 4 and two enhancement type GaAs FETs 5 and 6, and their final output terminals S 1 ,
A terminating resistor R is connected to S 2 .

【0017】第1のデプレッション型FET3のドレイ
ンは接地(GND)され、そのゲートとソースは第1のエン
ハンスメント型GaAsFET5のドレインに接続され、こ
れらによりインバータ7が構成されており、エンハンス
メント型GaAsFET5のゲートがその入力部となり、ド
レインが出力部を担うことになる。また、そのエンハン
スメント型GaAsFET5のドレインには低い電圧、例え
ば−2Vが印加され、これによりインバータ7の出力電
圧の高レベルが設定される。
The drain of the first depletion type FET 3 is grounded (GND), its gate and source are connected to the drain of the first enhancement type GaAs FET 5, and the inverter 7 is constituted by these, and the gate of the enhancement type GaAs FET 5 is formed. Will be the input section, and the drain will be the output section. Further, a low voltage, for example, -2 V is applied to the drain of the enhancement type GaAs FET 5, whereby a high level of the output voltage of the inverter 7 is set.

【0018】また、第2のデプレッション型GaAsFET
4、第2のエンハンスメント型GaAsFET6の配線接続
は、出力回路2a,2bの出力端に接続される回路がGa
As論理ゲート回路10の場合と、ECL回路11の場合
とで異なる。
The second depletion type GaAs FET
4. As for the wiring connection of the second enhancement type GaAs FET 6, the circuit connected to the output terminals of the output circuits 2a and 2b is Ga
The case of the As logic gate circuit 10 and the case of the ECL circuit 11 are different.

【0019】まず、GaAs論理回路10に接続される第1
の出力回路2aは、図2(a) に示すようにデプレッショ
ン型GaAsFET4がソースホロワ出力トランジスタT1
として使用されている。そのゲートはインバータ7の出
力部に接続され、ドレインは接地され、さらに、ソース
は、出力回路2aの最終出力端S1 に接続され、そこに
繋がる終端抵抗Rの他端には低い終端電圧、例えばGaAs
論理ゲート10用の電源電圧−1.2Vが印加される。
First, a first circuit connected to the GaAs logic circuit 10
2A, the depletion type GaAs FET 4 is a source follower output transistor T 1 as shown in FIG.
Is used as. Its gate is connected to the output of the inverter 7, its drain is grounded, its source is connected to the final output terminal S 1 of the output circuit 2a, and the other end of the terminating resistor R connected to it has a low terminal voltage, For example GaAs
The power supply voltage -1.2V for the logic gate 10 is applied.

【0020】また、残りのエンハンスメント型GaAsFE
T6は、そのソースとドレインが接地され、ゲートが最
終出力端S1 に接続されており、これによりショットキ
ー接合の保護ダイオードD1 が構成される。
In addition, the remaining enhancement type GaAsFE
The source and drain of T6 are grounded, and the gate is connected to the final output terminal S 1 , which constitutes a Schottky junction protection diode D 1 .

【0021】これに対して、ECL回路11に接続され
る第2の出力回路2bは従来の回路と同様な構成とな
り、図2(b) に示すように、エンハンスメント型GaAsF
ET6が出力トランジスタT2 として使用され、デプレ
ッション型GaAsFET4が保護ダイオードD2 として用
いられる。
On the other hand, the second output circuit 2b connected to the ECL circuit 11 has the same structure as the conventional circuit, and as shown in FIG. 2 (b), the enhancement type GaAsF.
ET6 is used as the output transistor T 2, the depletion type GaAsFET4 is used as the protective diode D 2.

【0022】そして、そのエンハンスメント型GaAsFE
T6においては、ゲートがインバータ7の出力部に、ソ
ースが最終出力端S2 にそれぞれ接続され、また、ドレ
インは接地されており、これによりソースホロワの出力
トランジスタT2 が構成される。この場合の出力トラン
ジスタT2 のソースに一端を接続する外部の終端抵抗R
の他端には、高い電圧、例えばECL回路11用の電源
電圧−2Vが印加される。
Then, the enhancement type GaAsFE
In T6, the output of the gate is an inverter 7, a source is connected to the final output terminal S 2, also, the drain is grounded, thereby the output transistor T 2 is composed of a source follower. In this case, an external terminating resistor R having one end connected to the source of the output transistor T 2
A high voltage, for example, the power supply voltage −2V for the ECL circuit 11 is applied to the other end of the.

【0023】また、デプレッション型GaAsFET4にお
いては、そのソースとドレインが接地される一方、ゲー
トが最終出力端S2 に接続されており、これによりショ
ットキー接合型の保護ダイオードD2 が構成される。
Further, in the depletion type GaAs FET 4, the source and the drain thereof are grounded, while the gate is connected to the final output terminal S 2. This constitutes a Schottky junction type protection diode D 2 .

【0024】次に、上記した実施例の動作について説明
する。上述した2種の出力回路2a,2bにおいて、イ
ンバータ7に低レベル(Lレベル)の電圧が入力する
と、その出力は高レベル(Hレベル)になり、出力トラ
ンジスタT1 ,T2 がONして終端抵抗Rに電流が流れ
るために、出力回路2a,2bの出力端S1 .S2 から
Hレベルの信号が出力される。
Next, the operation of the above embodiment will be described. In the above-mentioned two types of output circuits 2a and 2b, when a low level (L level) voltage is input to the inverter 7, its output becomes a high level (H level) and the output transistors T 1 and T 2 are turned on. Since a current flows through the terminating resistor R, the output terminals S 1 . An H level signal is output from S 2 .

【0025】また、インバータにHレベルの電圧が入力
すると、出力トランジスタT1 ,T 2 がOFFするた
め、終端抵抗Rに電流が流れず、出力回路2a,2bの
出力端からLレベルの信号が出力される。なお、第1の
出力トランジスタT1 はデプレッション型であってノー
マリオンであるが、上記した回路構成では低レベル状態
のインバータ7の出力電圧はソース電圧よりも低いため
に、ONを保持することはない。
Further, the H level voltage is input to the inverter.
Then, the output transistor T1, T 2Turns off
Therefore, no current flows through the terminating resistor R, and the output circuits 2a and 2b
An L level signal is output from the output end. The first
Output transistor T1Is depletion type
It is a mullion, but in the above circuit configuration it is in a low level state.
Because the output voltage of the inverter 7 is lower than the source voltage
However, it does not hold ON.

【0026】このように各出力回路2a,2bの動作は
同じであるが、それらの出力信号の電圧の大きさが相違
する。出力トランジスタT1 ,T2 がデプレッション型
GaAsFET4よりなる場合とエンハンスメント型GaAsF
ET6よりなる場合とを比較すると、図3に示すように
同じゲート電圧Vgであってもドレイン・ソース電流I
DSが異なり、デプレッション型のものの方が大きいこと
が分かる。
As described above, the operation of each output circuit 2a, 2b is the same, but the magnitudes of the voltages of the output signals are different. Depletion type output transistors T 1 and T 2
GaAs FET4 and enhancement type GaAsF
Comparing the case of ET6 with the same gate voltage Vg as shown in FIG.
It can be seen that the DS is different and the depletion type is larger.

【0027】したがって、出力トランジスタT1 ,T2
がON状態で終端抵抗Rの両端にかかる電圧は、デプレ
ッション型GaAsFET4を用いたものの方が大きくな
り、第1の出力回路2aの出力信号のHレベルは、第2
の出力回路2bのそれよりも高くなる。
Therefore, the output transistors T 1 , T 2
In the ON state, the voltage applied across the terminating resistor R is larger when the depletion type GaAsFET 4 is used, and the H level of the output signal of the first output circuit 2a is the second level.
Of the output circuit 2b.

【0028】一方、終端抵抗Rに印加する終端電圧は、
デプレッション型GaAsFET4を出力トランジスタT1
とした場合の方を高くしているので(−1.2V)、こ
の出力トランジスタT1 をOFFした場合の出力信号の
Lレベルの電圧は他の出力トランジスタT2 のOFF状
態のそれよりも高くなる。
On the other hand, the termination voltage applied to the termination resistor R is
Depletion type GaAs FET 4 is output transistor T 1
In this case, when the output transistor T 1 is turned off, the L level voltage of the output signal is higher than that in the OFF state of the other output transistor T 2. Become.

【0029】例えば、ECL回路11を接続する第1の
出力回路2bの出力信号のHレベルが−0.9 V、Lレベ
ル電圧が−1.8VとなるようなECLコンパチブルレ
ベルを出力する場合であっても、GaAs論理ゲート回路1
0を接続する第2の出力回路2aの出力信号のHレベル
は−0.5 V、Lレベルは−1.2 V程度となり、GaAs論理
ゲート回路10の電圧に合ったものが得られる。
For example, in the case of outputting the ECL compatible level such that the H level of the output signal of the first output circuit 2b connecting the ECL circuit 11 is -0.9 V and the L level voltage is -1.8 V. GaAs logic gate circuit 1
The H level of the output signal of the second output circuit 2a connecting 0 is about -0.5 V and the L level is about -1.2 V, so that a signal matching the voltage of the GaAs logic gate circuit 10 can be obtained.

【0030】この結果、GaAs論理回路10の入力段に入
力バッファ回路を設ける必要がなくなり、入力段におけ
る信号の遅延を防止し、電力消費を減らせる。なお、保
護ダイオードD1 ,D2 を構成するGaAsFETをエンハ
ンスメント型としてもデプレッション型としても大きな
相違はない。
As a result, it is not necessary to provide an input buffer circuit in the input stage of the GaAs logic circuit 10, so that signal delay in the input stage can be prevented and power consumption can be reduced. There is no significant difference between the enhancement type and depletion type GaAs FETs forming the protection diodes D 1 and D 2 .

【0031】以上のように、2種のGaAsFETの配線接
続を変更するだけで、出力レベルを変えることが可能に
なり、特にマスタスライス方式の装置に適している。
As described above, the output level can be changed only by changing the wiring connection of the two types of GaAs FETs, and it is particularly suitable for a master slice type device.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、出力
回路に含まれるデプレッション型化合物半導体電界効果
トランジスタとエンハンスメント型化合物半導体電界効
果トランジスタの配線接続を変えて、いずれか一方をソ
ースホロワの出力トランジスタに用い、他方を保護ダイ
オードに使用しているので、同じゲート電圧が出力トラ
ンジスタに印加されても、そのソース・ドレイン電流
は、デプレッション型の方がエンハンスメント型のもの
よりも大きくなり、これに接続される終端抵抗に流れる
電流の値を変えて2種の出力電圧を取り出すことが可能
になり、電源電圧値の異なる2種の次段回路とインター
フェースする場合の入力バッファ回路が不要となり、入
力バッファ回路に起因する消費電力の低減や遅延時間の
削減を図ることができる。
As described above, according to the present invention, the wiring connection between the depletion type compound semiconductor field effect transistor and the enhancement type compound semiconductor field effect transistor included in the output circuit is changed so that one of them is the output of the source follower. Since it is used for the transistor and the other is used for the protection diode, even if the same gate voltage is applied to the output transistor, the source / drain current of the depletion type becomes larger than that of the enhancement type. It becomes possible to take out two types of output voltage by changing the value of the current flowing through the connected terminating resistor, eliminating the need for an input buffer circuit when interfacing with two types of next-stage circuits with different power supply voltage values. It is possible to reduce power consumption and delay time due to the buffer circuit. That.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例装置の概要を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an outline of an apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例装置における出力回路図であ
る。
FIG. 2 is an output circuit diagram in an apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図3】電界効果トランジスタにおけるゲート電圧対ソ
ースドレイン電流の特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram of gate voltage versus source drain current in a field effect transistor.

【図4】従来装置の一例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a conventional device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 GaAs半導体集積回路 2a、2b 出力回路 3、4 デプレッション型GaAsFET 5、6 エンハンスメント型GaAsFET 7 インバータ 10 GaAs論理ゲート回路 11 ECL回路 T1 、T2 出力トランジスタ D1 、D2 保護ダイオード R 終端抵抗1 GaAs semiconductor integrated circuit 2a, 2b output circuit 3, 4 depletion type GaAsFET 5, 6 enhancement type GaAsFET 7 inverter 10 GaAs logic gate circuit 11 ECL circuit T 1 , T 2 output transistor D 1 , D 2 protection diode R termination resistor

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1のデプレッション型化合物半導体電界
効果トランジスタ(3)と第1のエンハンスメント型化
合物半導体電界効果トランジスタ(5)を直列接続して
なるインバータ(7)と、第2のデプレッション型化合
物半導体電界効果トランジスタ(4)と、第2のエンハ
ンスメント型化合物半導体電界効果トランジスタ(6)
により構成される出力回路を複数有する半導体装置にお
いて、 前記第2のデプレッション型化合物半導体電界効果トラ
ンジスタ(4)のゲートを前記インバータ(7)の出力
部に接続し、ソースを最終出力端(S1 )に接続してソ
ースホロワの出力トランジスタ(T1 )とするととも
に、前記第2のエンハンスメント型化合物半導体電界効
果トランジスタ(6)のソースとドレインを短絡して保
護ダイオード(D1 )とした第1の出力回路(2a)
と、 前記第2のエンハンスメント型化合物半導体電界効果ト
ランジスタ(6)のゲートを前記インバータ(7)の出
力部に接続し、ソースを最終出力端(S2 )に接続して
ソースホロワの出力トランジスタ(T2 )とするととも
に、前記第2のデプレッション型化合物半導体電界効果
トランジスタ(4)のソースとドレインを短絡して保護
ダイオード(D2 )とした第2の出力回路(2b)とを
有することを特徴とする半導体集積回路装置。
1. An inverter (7) comprising a first depletion type compound semiconductor field effect transistor (3) and a first enhancement type compound semiconductor field effect transistor (5) connected in series, and a second depletion type compound. Semiconductor field effect transistor (4) and second enhancement type compound semiconductor field effect transistor (6)
In a semiconductor device having a plurality of output circuits configured by, the gate of the second depletion type compound semiconductor field effect transistor (4) is connected to the output section of the inverter (7), and the source is the final output terminal (S 1 ) Is used as a source follower output transistor (T 1 ), and the source and drain of the second enhancement type compound semiconductor field effect transistor (6) are short-circuited to form a protection diode (D 1 ). Output circuit (2a)
And a gate of the second enhancement type compound semiconductor field effect transistor (6) is connected to an output part of the inverter (7) and a source is connected to a final output terminal (S 2 ) of the source follower output transistor (T). 2 ) and a second output circuit (2b) which is a protection diode (D 2 ) by short-circuiting the source and drain of the second depletion type compound semiconductor field effect transistor (4). Semiconductor integrated circuit device.
【請求項2】前記保護ダイオード(D1 ,D2 )のゲー
トは、前記最終出力端(S1 ,S2 )に接続されている
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
The gate according to claim 2, wherein the protective diode (D 1, D 2), the final output end semiconductor integrated circuit device according to claim 1, characterized in that it is connected to (S 1, S 2).
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