JPH0566305A - カラーフイルターおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 平坦化処理が不要でシャープな画像が得られ
るカラーフィルターおよびそのカラーフィルターを低コ
ストで製造する方法を提供する。 【構成】 シリコンゴム層１２を有する転写用ガラス基
盤１１上に一旦印刷法でカラーパターン１３およびブラ
ックマトリクス１４のパターンを形成し、その後パター
ンの検査を行い、良品のみをガラス基板１６上に紫外線
硬化樹脂１５等の接着剤を介して転写用ガラス基盤１１
上に形成されたカラーフィルターパターンを転写してカ
ラーフィルターを作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶カラーディスプレイ
等のカラー表示パネルなどに用いられるカラーフィルタ
ーおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、エレクトロニクス分野において、
液晶ディスプレイを始め、ＥＬディスプレイ（エレクト
ロルミネセンスディスプレイ）等のカラーパネル化が進
んでいる。

【０００３】従来、カラーパネルの製造方法としては透
明基板上にクロムをスパッターした後、フォトリソグラ
フィでパターン形成しブラックマトリクスを作製し、こ
の上にゼラチン等の被染色層を設けフォトリソグラフィ
で必要な箇所だけレジストに窓をあけ有機色素で被染色
層を染色する染色法やフォトレジストに有機顔料を分散
させたものをフォトリソグラフィでパターン形成する分
散法さらに凹版や平版印刷で形成する印刷法等が主に用
いられている。例えば、羽田ほか、ジャーナルオブ ア
ジア エレクトロニクス ユニオン（Ｊ． Ａｓｉａ
Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｕｎｉｏｎ），Ｎｏ．６，
Ｐ５３−５６（１９８７）。

【０００４】フォトリソグラフィ技術を用いる染色法や
分散法は工程が複雑で製造装置も高価であるためカラー
フィルターのコストが高くなる欠点を有する。したがっ
て最近は、工数が少なくコスト面で有利な凹版オフセッ
ト印刷等の印刷法でパターン形成したカラーフィルター
およびその製造方法が注目されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
印刷法においてもブラックマトリクスおよびＲＧＢ［Ｒ
ｅｄ，Ｇｒｅｅｎ，Ｂｌｕｅ（赤、緑、青）］のカラー
パターンを順次印刷法で形成してゆくため歩留りとして
は各工程での歩留りの積となりコストがあまり下がらな
い原因となっている。

【０００６】また、印刷法の場合得られるカラーフィル
ターもブラックマトリクスとカラーパターンの重なり部
分（ブラックマトリクスがない場合はＲＧＢ間）で大き
な段差が発生し、表面の平坦化処理を非常に難しくしお
り、従ってシャープな像が得にくいという問題があっ
た。

【０００７】図３に従来の印刷法で形成したカラーフィ
ルター部の断面図を示す。３１はガラス基板、３２はブ
ラックマトリクス、３３はカラーパターンである。カラ
ーフィルターは通常この上に平坦な透明電極が形成され
て使用されるが、そのためには図３の表面状態からも明
らかなごとく、このままでは使用できず、平坦な層を作
るためのレベリング層などを別に設ける必要があり、ど
うしてもカラーパターン層と透明電極の間に５μｍ程度
のギャップが発生し画像のシャープさが低下するのであ
る。

【０００８】本発明は上記課題に鑑み、後工程での平坦
化処理が容易にできる平坦な表面を有し、かつＩＴＯ
（酸化インジウムと酸化錫の混合物）などの透明電極を
直上に形成可能な印刷法によるカラーフィルターおよび
その歩留りの良い安価なカラーフィルターの製造方法を
提供することを目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明は次の構成を有する。 （１） 透明基板平坦面上に形成された接着剤層と印刷
法によって形成されたカラーパターンおよびブラックマ
トリクスとからなるカラーフィルターであって、前記カ
ラーパターンとブラックマトリクスが前記接着剤層の前
記透明基板と反対側の面に平坦な露出面を有することを
特徴とするカラーフィルター。

【００１０】（２） 透明基板平坦面上に形成された接
着剤層と印刷法によって形成されたカラーパターンおよ
びブラックマトリクスとからなるカラーフィルターであ
って、前記カラーパターンが前記接着剤層の前記透明基
板と反対側の面に平坦な露出面を有し、ブラックマトリ
クスは前記透明基板に接する平坦な面を有することを特
徴とするカラーフィルター。

【００１１】（３） ブラックマトリクスおよびカラー
パターンを表面が離型処理された平坦面を有する転写用
基盤上に印刷法によって形成し、これを透明基板上に接
着層を介して転写することを特徴とする前記（１）項に
記載のカラーフィルターの製造方法。

【００１２】（４） ブラックマトリクスを透明基板平
坦面上に印刷法で形成し、一方カラーパターンを表面が
離型処理された平坦面を有する転写用基盤上に印刷法で
一旦形成し、これを前記透明基板平坦面上に形成されて
いるブラックマトリクス間に接着層を介して転写するこ
とを特徴とする前記（２）項に記載のカラーフィルター
の製造方法。

【００１３】（５） ブラックマトリクスを透明基板平
坦面上に印刷法で形成する方法が、焼成可能なインクを
用いてブラックマトリクスを透明基板平坦面上に印刷
後、焼成することからなる前記（４）項に記載のカラー
フィルターの製造方法。

【００１４】（６） 表面が離型処理された平坦面を有
する転写用基盤がシリコン系ゴム層が形成された転写用
基盤である前記（３）項または（４）項のいずれかに記
載のカラーフィルターの製造方法。

【００１５】本発明で用いる透明基板としては平坦面を
有する透明な固体薄板状のものが用いられ、ガラス基
板、ポリカーボネート、ポリエチレン、アクリル樹脂、
ポリエチレンテレフタレートなどの耐薬品性の良好なプ
ラスチック基板などが挙げられるが、ガラス基板が耐薬
品性、耐久性、信頼性などの点から好ましく用いられ
る。

【００１６】基板の厚さは特に限定するものではないが
通常０．９ｍｍ〜１．２ｍｍのものが好ましく用いられ
る。接着剤層としては無色で、透明基板との接着性に優
れ、硬化時間が短いなどの性質を有する透明な接着材が
用いられ、具体的な例としては、例えば紫外線硬化樹
脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、ウレ
タン樹脂などが挙げられるが、特に硬化の際に気泡など
が発生する恐れが少ない、硬化時間が短いなどの点か
ら、紫外線硬化樹脂からなる接着剤が好ましい。紫外線
硬化樹脂の具体例としては、例えばエポキシアクリレー
ト系、ウレタンアクリレート系、エポキシメタクリレー
ト系、ウレタンメタクリレート系などの紫外線硬化樹脂
が挙げられる。

【００１７】接着材層の厚さは、特に限定するものでは
ないが、通常２μｍ〜５μｍ程度にするのが好ましい。
カラーパターンおよびブラックマトリクスを形成するた
めのインクとしては、例えば赤インクは“ＲＥＤ−１７
７”、緑インクは“ＧＲＥＥＮ−３６”、青インクは
“ＢＬＵＥ−１５”、ブラックは例えば粒径０．０４μ
ｍのカーボンを顔料とし、これをフェノキシ樹脂を主成
分とし、セロソルブアセテートやジエチレングリコール
モノブチルエーテルを希釈剤とするビヒクル中に分散さ
せたものなどが代表例として挙げられるが、これらに限
定されるものではなく、通常印刷法でカラーフィルター
を製造する場合に用いられているカラーパターンおよび
ブラックマトリクス形成用のインクが使用できる。ブラ
ックマトリックスを焼成可能なインクを用いて透明基板
平坦面上に印刷後、焼成して形成する場合は、後で説明
するような焼成可能なインキを用いることが好ましい。

【００１８】形成されるブラックマトリックスの厚みは
特に限定するものではないが通常０．５μｍ〜２μｍ程
度である。また、形成されるカラーパターンの厚みも特
に限定するものではないが通常２μｍ〜４μｍ程度であ
る。

【００１９】本発明のカラーフィルターの製造方法にお
いて用いる表面が離型処理された平坦面を有する転写用
基盤の基盤材料としては表面が離型処理された平坦面を
有する比較的硬質のプラスチック、岩石類、ガラス、金
属、シリコンウエハーなどが挙げられるが、このうち平
坦な面を有するものが容易に入手しやすいこと、耐薬品
性にすぐれていること、大面積のものも容易に入手可能
であることなどの点からガラスが好ましく用いられる。

【００２０】表面の離型処理は、例えばメトキシシラン
等のシランカップリング処理やフッ素系離型剤の焼き付
けなどが挙げられるが、シリコン系ゴム層が形成された
転写用基盤が特に好ましい。離型層の離型性が良すぎる
とインクがはじかれパターン形成ができず、一方離型性
が弱すぎると剥離できなくなる欠点を有する。シリコン
系ゴムはこれらのバランスがとれており、最適である。
前記シリコン系ゴムとしては例えば、２成分付加反応型
や、１成分付加反応型の接着シール用やポッテイング用
などに用いられているシリコンゴムなどが挙げられる。

【００２１】本発明の印刷法としては、凹版オフセット
印刷が好ましく用いられるが、これに限定されるもので
はなく、精密な印刷ができるものであれば平版印刷でも
凸版印刷でも良い。

【００２２】本発明方法によれば、転写用基盤上に一旦
凹版オフセット印刷等の印刷法でカラーフィルターのパ
ターンを形成し、パターンの検査を行い良品のみを透明
基板上に紫外線硬化樹脂等の接着剤を介して転写して作
製することがてきる。

【００２３】即ち、転写用基盤上に形成されたカラーパ
ターンやブラックマトリックスのパターン等に欠陥のあ
る場合は形成されたパターンのインクを拭き取るど等の
方法で除去し、転写用基盤は再利用することができる。

【００２４】本発明方法においてブラックマトリクスの
形成は転写用基盤上にカラーパターンを印刷した後、そ
の上にブラックマトリクスパターンを印刷して形成する
か、または透明基板上に予めブラックマトリクスパター
ンのみ印刷しておき、その上に転写用基盤上に印刷で形
成したカラーパターンを接着層を介して転写する方法で
形成される。

【００２５】さらに、ブラックマトリクスとカラーパタ
ーンは重なりを持つためブラックマトリクスの膜厚が厚
いと大きな凹凸の原因となる。そのため焼成可能なイン
ク、代表的には銅メルカプチドのような有機金属レジネ
ートや酸化銅粒子とガラスフリットから主になる酸化銅
ペーストを用いてブラックマトリクスを透明基板平坦面
上に印刷後、ブラックマトリクスパターンを焼成するこ
とで膜厚の薄いブラックマトリクスを形成することが可
能となる。

【００２６】用いられる焼成可能なインクとしては周期
律表のI Ｂ、VＢ、VIＢ、VII Ｂ、VIII族の金属（例え
ばＶ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒ
ｕ、Ｃｏ、Ｒｈ等）の酸化物を主材とするペーストおよ
びこれら元素を含む有機金属を主材とする有機金属レジ
ネート（有機金属化合物）が焼成後の酸化物の安定性お
よび光の遮光性の点で優れており好ましい。

【００２７】この場合の製造方法としては透明基板上に
ブラックマトリクスのパターンを形成し、これを空気中
もしくは酸素中でインク中の有機物成分が除去される温
度（通常は例えば４５０〜６００℃程度）で焼成し透明
基板にブラックマトリクスを焼き付ける。次に、予め転
写用基盤上に形成したカラーパターンを転写用基盤から
この上に接着剤層を介して転写する。

【００２８】

【作用】本発明の第１の発明のカラーフィルターは、透
明基板平坦面上に形成された接着剤層と印刷法によって
形成されたカラーパターンおよびブラックマトリクスと
からなるカラーフィルターであって、前記カラーパター
ンとブラックマトリクスが前記接着剤層の前記透明基板
と反対側の面に平坦な露出面を有するので、その後加工
を行う場合などの後工程での平坦化処理が省略できる
か、ないしは平坦化処理を簡単に済ませることができ、
かつ透明電極をほとんどギャップなしに直上に形成でき
るので、シャープな画像の実現が可能な印刷法によるカ
ラーフイルターを提供できる。

【００２９】本発明の第２の発明のカラーフィルター
は、透明基板平坦面上に形成された接着剤層と印刷法に
よって形成されたカラーパターンおよびブラックマトリ
クスとからなるカラーフィルターであって、前記カラー
パターンが前記接着剤層の前記透明基板と反対側の面に
平坦な露出面を有し、ブラックマトリクスは前記透明基
板に接する平坦な面を有するので、その後加工を行う場
合などの後工程での平坦化処理が省略できるか、ないし
は平坦化処理を簡単に済ませることができ、かつ透明電
極をほとんどギャップなしに直上に形成できるので、シ
ャープな画像の実現が可能な印刷法によるカラーフイル
ターを提供できる。しかも、ブラックマトリックスは、
第１の発明と異なり、カラーパターンが形成されている
面とは反対側の別の面に独立して形成されているので、
ブラックマトリックスパターンのストライブの直線性が
優れている。

【００３０】本発明の製造方法に関する第１の発明は、
ブラックマトリクスおよびカラーパターンを表面が離型
処理された平坦面を有する転写用基盤上に印刷法によっ
て形成し、これを透明基板上に接着層を介して転写する
ので、平坦な面を有し、シャープな画像の実現が可能な
カラーフイルターを容易に製造することができ、また、
転写用基盤上に一旦印刷法でカラーフィルターのパター
ンを形成し、パターンの検査を行い良品のみを透明基板
上に接着剤を介して転写して作製することができるの
で、カラーフィルターの歩留りがＲＧＢのカラーパター
ンおよびブラックマトリクスの各工程での歩留りの積に
はならず、ほぼ転写工程の歩留りだけとなりカラーフィ
ルターの製造コストを大幅に下げることが可能となるカ
ラーフィルターの製造方法を提供できる。

【００３１】本発明の製造方法に関する第２の発明は、
ブラックマトリクスを透明基板平坦面上に印刷法で形成
し、一方カラーパターンを表面が離型処理された平坦面
を有する転写用基盤上に印刷法で一旦形成し、これを前
記透明基板平坦面上に形成されているブラックマトリク
ス間に接着層を介して転写するので、平坦な面を有し、
シャープな画像の実現が可能なカラーフイルターを容易
に製造することができ、また、転写用基盤上にないしは
透明基板上に一旦印刷法でカラーパターンないしはブラ
ックマトリクスのパターンを形成し、パターンの検査を
行い良品のみを選定して接着剤を介して転写して作製す
ることができるので、カラーフィルターの歩留りがＲＧ
Ｂのカラーパターンおよびブラックマトリクスの各工程
での歩留りの積にはならず、ほぼ転写工程の歩留りだけ
となりカラーフィルターの製造コストを大幅に下げるこ
とが可能となるカラーフィルターの製造方法を提供でき
る。しかも、この製造方法の場合は、ブラックマトリク
スは単独で透明基板面に形成されるので、ブラックマト
リックスパターンのストライブの直線性が優れたものが
容易に製造することが可能となる。

【００３２】また、ブラックマトリクスを透明基板平坦
面上に印刷法で形成する方法が、焼成可能なインクを用
いてブラックマトリクスを透明基板平坦面上に印刷後、
焼成することによって、ブラックマトリックスが有機成
分を含有しないため、ブラックマトリックスが接着層に
染み出す恐れが少なくなり、しかも膜厚の薄い１μｍ以
下のブラックマトリックスを形成することが可能とな
り、より一層の平坦化が達成できるし、遮光性もインク
だけのものと比べて数段向上する優れたブラックマトリ
ックスを得ることができる。

【００３３】また、表面が離型処理された平坦面を有す
る転写用基盤がシリコン系ゴム層が形成された転写用基
盤を用いることにより、パターンの印刷性がよく、離型
性もよくすることができ、歩留まりの良い品質の優れた
パターンの転写をすることができる。

【００３４】

【実施例】以下、図面を参照しながらに本発明の実施例
について説明する。 実施例１ 図１の（ａ）から（ｄ）は第１の実施例におけるカラー
単純マトリクス液晶基板の各工程の概略断面図を示すも
のである。図１中（ａ）は転写用基盤形成工程、（ｂ）
はカラーフィルター印刷工程、（ｃ）は貼り合わせ工
程、（ｄ）は剥離工程の各概略断面図である。

【００３５】図１において１１は転写用ガラス基盤、１
２はシリコンゴム層、１３はカラーパターン、１４はブ
ラックマトリクス、１５は接着剤層である紫外線硬化樹
脂、１６は透明基板であるガラス基板である。

【００３６】以下にカラー単純マトリクス液晶基板の製
造方法を示す。研磨された転写用ガラス基盤１１上にシ
リコン系ゴム（東芝シリコーン製ＴＳＥ−３２２をトル
エンで希釈したもの）をスピンコートし、シリコンゴム
層１２を形成し転写用基盤とした。［図１中の（ａ）転
写用基盤形成工程］。

【００３７】この上に凹版オフセット印刷でＲＧＢのカ
ラーパターン１３とブラックマトリクス１４を形成し
た。［図１中の（ｂ）カラーフィルター印刷工程］。こ
の後、ＲＧＢカラーパターンおよびブラックマトリクス
からなるカラーフィルターの検査を行い、良品のみ以下
の工程に回した。

【００３８】形成したパターンのインクを十分乾燥、固
化した後、このインクパターン上に低粘度の紫外線硬化
樹脂１５を塗布し、その上に表面をシランカップリング
剤（信越シリコーン製ＫＢＭ６０３）でプライマー処理
したガラス基板１６を気泡が入らないようにゆっくり貼
り合わせた。［図１中の（ｃ）貼り合わせ工程］。

【００３９】その後、ガラス基板側から紫外線を照射
し、紫外線硬化樹脂を硬化させ紫外線樹脂層（膜厚６μ
ｍ）を形成した。この貼り合わされた基板をシリコンゴ
ム層から剥離した。（転写用基盤とガラス基板間を引き
剥がすと接着性の違いにより必ずシリコンゴム層とイン
ク間で剥離する。）［図１中（ｄ）剥離工程］。

【００４０】完成したカラーフィルターの膜厚は４μｍ
程度で表面の平滑性は非常に優れており、表面粗さは±
０．０３μｍ以下で直接この上にＩＴＯ（酸化インジウ
ムと酸化錫の混合物）透明電極や配向膜を形成しても全
く問題は無かった。

【００４１】凹版オフセット印刷法の場合、パターンの
断面形状は蒲鉾型になるため本実施例では図１中（ｄ）
でわかるようにカラーパターンおよびブラックマトリク
スが下地の透明基板（ガラス基板１６）側に凸形状とな
り、その反対側の面は平坦な面となる。

【００４２】この様にして作製したカラーフィルターを
用いて液晶パネルを作製したところ従来品に比べ、ほぼ
同等かそれ以上のシャープな画面が得られた。これはカ
ラーフィルターの直上にＩＴＯ透明電極パターンが形成
されたためと考えられる。従来のカラーフィルターでは
さらに平坦化層を介してＩＴＯ透明電極を形成するた
め、カラーフィルターは斜め方向の光によるノイズが多
くなるものと思われる。

【００４３】また、本実施例におけるカラーフィルター
パネルの歩留りは０．９２、一方ＲＧＢカラーパターン
を１色ずつ積み重ねた従来印刷法の場合は０．５５程度
の歩留りであった。これは従来法では全体の歩留りは各
工程での歩留りの積となってくるが、本実施例では転写
用基盤上で一旦検査を行い、不良品の場合はカラーフィ
ルターのパターンを拭き取り、転写用基盤は再利用され
る。このため歩留りとしては転写時の歩留りのみが効い
てくるため、従来法に比べ歩留りが大きく向上した。 実施例２ 以下に第２の実施例について図面を参照しながら説明す
る。図２の（ａ）から（ｄ）は本実施例におけるカラー
単純マトリクス液晶基板の各工程の概略断面図を示すも
のである。図２中（ａ）はブラックマトリクス形成工
程、（ｂ）はカラーパターン形成工程、（ｃ）は貼り合
わせ工程、（ｄ）は剥離工程の各概略図である。図２に
おいて２１は透明基板であるガラス基板、２２はブラッ
クマトリクス、２３は転写用ガラス基盤、２４はシリコ
ンゴム層、２５はカラーパターン、２６は接着剤層であ
る紫外線硬化樹脂である。

【００４４】以下にカラー単純マトリクス液晶基板の製
造方法を示す。ガラス基板２１上に酸化銅（粒径０．１
μｍ）とガラスフリット（日本電気硝子製ＧＡ９）を主
材とするペーストを用い、凹版オフセット印刷法でブラ
ックマトリクスパターンを形成し、良品のみ５００℃で
１５分間焼成してブラックマトリクス２２（膜厚０．６
μｍ）を形成した。この上を実施例１と同様にシランカ
ップリング剤でプライマー処理した。［図２の（ａ）ブ
ラックマトリクス形成工程］。

【００４５】一方、シリコンゴム層２４を有する転写用
ガラス基盤２３上に凹版オフセット印刷法でカラーパタ
ーン２５を形成した。［図２の（ｂ）カラーパターン形
成工程］。

【００４６】検査後、良品のみカラーパターンインクを
十分乾燥、固化しブラックマトリクスの形成されたガラ
ス基板と位置合わせを行いながら、実施例１と同様紫外
線硬化樹脂２６を介して貼り合わせを行った。［図２の
（ｃ）貼り合わせ工程］。

【００４７】完全に位置合わせができた時点で紫外線を
照射し、紫外線硬化樹脂を硬化し、紫外線硬化樹脂層を
形成した。この後、ガラス基板と転写用基盤間に機械的
に応力を加え、シリコンゴム層とカラーパターンの間で
剥離を行った。［図２の（ｄ）剥離工程］。

【００４８】完成したカラーフィルターはカラーパター
ンが下地の透明基板（ガラス基板２１）側に凸形状とな
り、そのカラーパターンの反対面は平坦で、ブラックマ
トリクスだけが下地の透明基板上で上に凸形状、その反
対面は平坦に形成されており、実施例１に比べてブラッ
クマトリクスが単独で直接ガラス基板上に形成されてい
るため直線性に優れ、画像のコントラストがよりすぐれ
たものとなった。

【００４９】歩留りとしてはブラックマトリクス作製工
程での歩留りと転写、剥離時の歩留りの積となり０．８
２程度となった。なお、酸化銅ペーストの他に周期律表
のI Ｂ、V Ｂ、VIＢ、VII Ｂ、VIII族の金属（例えば
Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、
Ｃｏ、Ｒｈ等）の酸化物からなるペーストおよびこれら
元素を含む有機金属を主材とする有機金属レジネートが
焼成後の酸化物の安定性および光の遮光性の点で優れて
いた。

【００５０】印刷法としては凹版オフセット印刷法以外
にも平版印刷や凸版印刷も可能であった。また、転写用
基盤上のシリコンゴム層は本発明の転写方式において重
要な役割を果たしており、離型性が良すぎるとインクが
はじかれパターン形成できず、一方離型性が弱すぎると
剥離できなくなる欠点を有する。検討の結果シリコン系
ゴムが最適であった。転写時の接着剤としては紫外線硬
化樹脂以外にもエポキシ系接着剤のような熱硬化型のも
のも有効であった。

【００５１】

【発明の効果】以上のように本発明のカラーフイルター
は、上記した構成においてカラーフイルターの表面が従
来の印刷法カラーフイルターの用に蒲鉾型をしておら
ず、平坦であるため、次工程で透明電極などを形成する
場合、平坦化処理が不要もしくはレベリング剤のコーテ
ィング程度の簡単なもので済む利点を有する。さらにカ
ラーフイルターの直上に透明電極パターンが形成できる
ので、カラーフイルターと透明電極との間のギャップを
ほとんど無くすことができ、シャープな画像が得られ
る。

【００５２】また、ブラックマトリックスが透明基板側
に形成された本発明のカラーフイルターは、更にブラッ
クマトリックスのストライプの直線性に優れたものとす
ることができる。

【００５３】本発明の製造方法では、上述の効果を有す
るカラーフィルターが容易に製造でき、また、一旦印刷
法でカラーフイルターのパターンを形成し、パターンの
検査を行うことができるので、良品のみを接着層を介し
て転写して作製することにより、カラーフイルターの歩
留りがＲＧＢカラーパターンおよびブラックマトリック
スの各工程での歩留りの積にはならず、ほぼ転写工程の
歩留りだけとなりカラーフイルターの製造コストを大巾
に下げることが可能となる。

【００５４】さらに、ブラックマトリクスを単独で透明
基板面に形成する工程を採用することにより、上述の効
果の他に更にブラックマトリックスパターンのストライ
ブの直線性の優れたものを容易に製造することが可能と
なる。また、この際、ブラックマトリックスを焼成によ
って形成したものは、接着剤層への染み出しが無く、遮
光性にも優れかつ厚さの薄いブラックマトリックスを形
成することができる。

【００５５】また、転写基盤上にシリコン系ゴム層を形
成することにより、印刷性と離型性が良くなり転写が容
易で良好なパターンを形成できる。以上のように本発明
は平坦化処理が不要でシャープな画像が得られるカラー
フィルターおよびそのカラーフィルターを低コストで作
製する製造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のカラー単純マトリクス液晶
基板の各工程の概略断面図である。

【図２】本発明の別の一実施例のカラー単純マトリクス
液晶基板の各工程の概略断面図である。

【図３】従来の印刷法で形成したカラーフィルターの断
面図である。

【符号の説明】

１１ 転写用ガラス基盤 １２ シリコンゴム層 １３ カラーパターン １４ ブラックマトリクス １５ 紫外線硬化樹脂 １６ ガラス基板 ２１ ガラス基板 ２２ ブラックマトリクス ２３ 転写用ガラス基盤 ２４ シリコンゴム層 ２５ カラーパターン ２６ 紫外線硬化樹脂 ３１ ガラス基板 ３２ ブラックマトリクス ３３ カラーパターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 嶋田 幹也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 萩野 正人 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板平坦面上に形成された接着剤層
   と印刷法によって形成されたカラーパターンおよびブラ
   ックマトリクスとからなるカラーフィルターであって、
   前記カラーパターンとブラックマトリクスが前記接着剤
   層の前記透明基板と反対側の面に平坦な露出面を有する
   ことを特徴とするカラーフィルター。
2. 【請求項２】 透明基板平坦面上に形成された接着剤層
   と印刷法によって形成されたカラーパターンおよびブラ
   ックマトリクスとからなるカラーフィルターであって、
   前記カラーパターンが前記接着剤層の前記透明基板と反
   対側の面に平坦な露出面を有し、ブラックマトリクスは
   前記透明基板に接する平坦な面を有することを特徴とす
   るカラーフィルター。
3. 【請求項３】 ブラックマトリクスおよびカラーパター
   ンを表面が離型処理された平坦面を有する転写用基盤上
   に印刷法によって形成し、これを透明基板上に接着層を
   介して転写することを特徴とする請求項１記載のカラー
   フィルターの製造方法。
4. 【請求項４】 ブラックマトリクスを透明基板平坦面上
   に印刷法で形成し、一方カラーパターンは表面が離型処
   理された平坦面を有する転写用基盤上に印刷法で一旦形
   成し、これを前記透明基板平坦面上に形成されているブ
   ラックマトリクス間に接着層を介して転写することを特
   徴とする請求項２記載のカラーフィルターの製造方法。
5. 【請求項５】 ブラックマトリクスを透明基板平坦面上
   に印刷法で形成する方法が、焼成可能なインクを用いて
   ブラックマトリクスを透明基板平坦面上に印刷後、焼成
   することからなる請求項４記載のカラーフィルターの製
   造方法。
6. 【請求項６】 表面が離型処理された平坦面を有する転
   写用基盤がシリコン系ゴム層が形成された転写用基盤で
   ある請求項３または請求項４のいずれかに記載のカラー
   フィルターの製造方法。