JPH0547197A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH0547197A
JPH0547197A JP3226342A JP22634291A JPH0547197A JP H0547197 A JPH0547197 A JP H0547197A JP 3226342 A JP3226342 A JP 3226342A JP 22634291 A JP22634291 A JP 22634291A JP H0547197 A JPH0547197 A JP H0547197A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
input
defective
address
integrated circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP3226342A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Fujita
隆 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0547197A publication Critical patent/JPH0547197A/en
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor integrated circuit device capable of utilizing effectively a normal memory cell in a memory cell array even when a defective memory cell is present. CONSTITUTION:A defective position storing means 11 storing the positional information of the defective memory cell in the memory cell array is provided with plural first pads 11A0-11A9 and plural second pads 11A00-11A09 and the address of the defective memory cell is stored by whether spaces between the first pads and the second pads are connected with wires at every bit. In a defective position detecting means 12 inputted with the selecting signal of an H level to a select input end SEL and activated, the address inputted to first input ends A0-A9 and the positional information from the defective position storing means 11 inputted to second input ends B0-B9 are compared at every one bit, when all the bits are coincident, a coincidence signal is outputted to an output end A=B and the positional information of the defective memory cell is informed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、複数のメモリセルを
有したメモリセルアレイが半導体チップ内に設けられた
半導体集積回路装置に係わり、特に、メモリセルアレイ
内に欠陥メモリセルが存在した場合にその欠陥メモリセ
ルの位置が半導体チップ外部からわかる半導体集積回路
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device in which a memory cell array having a plurality of memory cells is provided in a semiconductor chip, and more particularly to a semiconductor integrated circuit device having a defective memory cell in the memory cell array. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device in which the position of a defective memory cell can be seen from outside the semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は従来の半導体集積回路装置の一種
である1M DRAMの平面外観図を示すものであり、
特に、端子の配置を説明するものであり、図5におい
て、1番端子はデータ入力端子D、2番端子はライト制
御入力端子Wバー、3番端子は行アドレスストローブ入
力端子RASバー、4番及び5番端子は末使用端子N
C、9番から12番端子はアドレス入力端子A0〜A3
子、13番端子は電源端子Vcc、14番から18番端子
及び22番端子はアドレス入力端子、23番端子は末使
用端子、24番端子は列アドレスストローブ入力端子C
ASバー、25番端子はデータ出力端子Q、26番端子
は接地端子Vssである。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a plan view of a 1M DRAM which is a kind of conventional semiconductor integrated circuit device.
In particular, the arrangement of terminals will be described. In FIG. 5, the first terminal is the data input terminal D, the second terminal is the write control input terminal W bar, the third terminal is the row address strobe input terminal RAS bar, and the fourth terminal. And terminal 5 is the last used terminal N
C, 9th to 12th terminals are address input terminals A 0 to A 3 terminals, 13th terminal is a power supply terminal Vcc, 14th to 18th and 22nd terminals are address input terminals, and 23th terminal is an end-use terminal, The 24th terminal is the column address strobe input terminal C
AS bar, the 25th terminal is a data output terminal Q, and the 26th terminal is a ground terminal Vss.

【0003】そして、このような半導体集積回路装置に
おいて、その半導体チップ内には図6に示すような構成
になっているものであり、図6において、1は半導体チ
ップ、2は行及び列にマトリクス状に配置された複数の
メモリセルとこれら複数のメモリセルの各行に配置され
たメモリセルにそれぞれが接続されたワードラインと上
記複数のメモリセルの各列に配置されたメモリセルにそ
れぞれが接続されたビットラインとを有したメモリセル
アレイ、3はこのメモリセルアレイにおけるビットライ
ン対に接続されて接続されたビットライン対に現れた電
位差を増幅して出力するセンスリフレッシュアンプ入出
力制御手段である。
In such a semiconductor integrated circuit device, the semiconductor chip has a structure as shown in FIG. 6, in which 1 is a semiconductor chip and 2 is a row and a column. A plurality of memory cells arranged in a matrix, word lines connected to the memory cells arranged in each row of the plurality of memory cells, and memory cells arranged in each column of the plurality of memory cells, respectively. A memory cell array 3 having connected bit lines is a sense refresh amplifier input / output control means which is connected to the bit line pair in the memory cell array and amplifies and outputs the potential difference appearing in the connected bit line pair. ..

【0004】4は上記行アドレスストローブ入力端子R
ASバーにワイヤにて接続される行アドレスストローブ
入力パッド及び上記列アドレスストローブ入力端子CA
Sバーにワイヤにて接続される列アドレスストローブ入
力パッドに接続され、入力されたRASバー信号及びC
ASバー信号に基づいて内部RASバー信号及び内部C
ASバー信号等の内部制御信号を出力するクロック発生
手段、5は上記メモリセルアレイ2におけるワードライ
ンのうちの1つを選択するための行デコーダで、上記ク
ロック発生手段4からの内部制御信号によって活性化さ
れる。6は上記メモリセルアレイ2におけるビットライ
ン対のうちの1対を選択するための列デコーダで、上記
クロック発生手段4からの内部制御信号によって活性化
される。
Reference numeral 4 is the row address strobe input terminal R.
A row address strobe input pad and a column address strobe input terminal CA connected to the AS bar by a wire.
The column address strobe input pad, which is connected to the S bar by wire, is connected to the input RAS bar signal and C
Internal RAS bar signal and internal C based on AS bar signal
A clock generating means 5 for outputting an internal control signal such as an AS bar signal is a row decoder for selecting one of the word lines in the memory cell array 2, and is activated by an internal control signal from the clock generating means 4. Be converted. A column decoder 6 for selecting one of the bit line pairs in the memory cell array 2 is activated by an internal control signal from the clock generating means 4.

【0005】7は上記アドレス入力端子A0〜A9にワイ
ヤにて接続されるアドレス入力パッドに接続されるアド
レス入力手段で、上記クロック発生手段4からの内部制
御信号によって活性化され、入力された行及び列アドレ
ス信号をマルチプレクスするマルチプレクス手段と、行
アドレス信号を一時ラッチし、上記行デコーダ5に行ア
ドレス信号を出力する行アドレスバッファと、列アドレ
ス信号を一時ラッチし、上記列デコーダ6に列アドレス
信号を出力する列アドレスバッファとを有しているもの
である。8は上記ライト制御入力端子Wバーにワイヤに
て接続される読みだし/書き込み指定入力パッドに接続
されて読みだし/書き込み信号が入力されるとともに、
上記クロック発生手段4からの内部制御信号が入力され
て読みだし/書き込み制御信号を出力する論理手段であ
る。
Reference numeral 7 denotes an address input means connected to an address input pad connected to the address input terminals A 0 to A 9 by a wire. The address input means 7 is activated by an internal control signal from the clock generating means 4 and is inputted. Multiplexing means for multiplexing row and column address signals, a row address buffer for temporarily latching the row address signal and outputting the row address signal to the row decoder 5, and a row address buffer for temporarily latching the column address signal, and the column decoder. 6 has a column address buffer for outputting a column address signal. Reference numeral 8 is connected to a read / write designation input pad connected to the write control input terminal W bar by a wire to input a read / write signal, and
It is a logic means which receives the internal control signal from the clock generating means 4 and outputs a read / write control signal.

【0006】9は上記データ入力端子Dにワイヤにて接
続されるデータ入力パッドに接続され、入力されたデー
タを一時ラッチするとともに、上記論理手段8からの読
みだし/書き込み制御信号によって活性化(制御)さ
れ、入力されたデータを上記センスリフレッシュアンプ
入出力制御手段3を介して、行及び列デコーダ5及び6
によって選択された上記メモリセルアレイ2内のメモリ
セルに書き込むための入力手段、10は行及び列デコー
ダ5及び6によって選択された上記メモリセルアレイ2
内のメモリセルから読み出されたデータが、上記センス
リフレッシュアンプ入出力制御手段3を介して入力さ
れ、この入力されたデータを一時ラッチするとともに、
上記論理手段8からの読みだし/書き込み制御信号によ
って活性化(制御)され、入力されたデータを上記デー
タ出力端子Qにワイヤにて接続されるデータ出力パッド
に出力する出力手段である。
Reference numeral 9 is connected to a data input pad connected to the data input terminal D by a wire, temporarily latches the input data, and is activated by a read / write control signal from the logic means 8 ( The controlled and input data is passed through the sense refresh amplifier input / output control means 3 to the row and column decoders 5 and 6
Input means 10 for writing to the memory cells in the memory cell array 2 selected by the memory cell array 2 selected by the row and column decoders 5 and 6.
The data read from the memory cell in the memory is input through the sense refresh amplifier input / output control means 3 and the input data is temporarily latched.
The output means is activated (controlled) by a read / write control signal from the logic means 8 and outputs the input data to a data output pad connected to the data output terminal Q by a wire.

【0007】次に、このように構成された半導体集積回
路装置の動作、特に、リードサイクルについて説明す
る。まず、ライト制御入力端子Wバー及び読みだし/書
き込み指定入力パッドから入力された読みだし/書き込
み信号を受けた論理手段8からの読みだし/書き込み制
御信号によって、入力手段9は非活性化状態のままで出
力手段10は活性化状態にされる。そして、RASバー
信号が行アドレスストローブ入力端子RASバー及び行
アドレスストローブ入力パッドを介してクロック発生手
段4に入力され、クロック発生手段4からの内部RAS
バー信号の立ち下がりによって、アドレス入力手段7は
アドレス入力端子A0〜A9及びアドレス入力パッドに入
力された行アドレス信号をラッチし、行デコーダ5に出
力する。
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit device thus configured, particularly the read cycle, will be described. First, the input means 9 is deactivated by the read / write control signal from the logic means 8 which receives the read / write signal input from the write control input terminal W bar and the read / write designation input pad. Until then, the output means 10 is activated. Then, the RAS bar signal is input to the clock generating means 4 via the row address strobe input terminal RAS bar and the row address strobe input pad, and the internal RAS from the clock generating means 4 is inputted.
When the bar signal falls, the address input means 7 latches the row address signal input to the address input terminals A 0 to A 9 and the address input pad, and outputs it to the row decoder 5.

【0008】行デコーダ5が入力された行アドレス信号
に基づいてメモリセルアレイ2内のワードラインを選択
し、選択されたワードラインに接続されたメモリセルに
記憶されたデータがビットラインに読み出され、センス
リフリッシュアンプ入出力制御手段3によって増幅され
る。また、CASバー信号が列アドレスストローブ入力
端子CASバー及び列アドレスストローブ入力パッドを
介してクロック発生手段4に入力され、クロック発生手
段4からの内部CASバー信号の立ち下がりによって、
アドレス入力手段7はアドレス入力端子A0〜A9及びア
ドレス入力パッドに入力された列アドレス信号をラッチ
し、列デコーダ6に出力する。
The row decoder 5 selects a word line in the memory cell array 2 based on the input row address signal, and the data stored in the memory cell connected to the selected word line is read out to the bit line. , Sense-frisch amplifier is amplified by the input / output control means 3. Further, the CAS bar signal is input to the clock generating means 4 via the column address strobe input terminal CAS bar and the column address strobe input pad, and the fall of the internal CAS bar signal from the clock generating means 4 causes
The address input means 7 latches the column address signal input to the address input terminals A 0 to A 9 and the address input pad and outputs it to the column decoder 6.

【0009】列デコーダ6が入力された列アドレス信号
に基づいてメモリセルアレイ2内のビットラインを選択
し、選択されたビットラインに読み出され、センスリフ
レッシュアンプ入出力制御手段3によって増幅されたデ
ータが、出力手段10、データ出力パッド及びデータ出
力端子から出力されることになる。
The column decoder 6 selects a bit line in the memory cell array 2 based on the input column address signal, the data is read out to the selected bit line, and the data amplified by the sense refresh amplifier input / output control means 3 is selected. Will be output from the output means 10, the data output pad and the data output terminal.

【0010】また、上記のように構成された半導体集積
回路装置においては、図7に示すような製造工程によっ
て製造されているものである。つまり、ステップS1に
示すように、まず、ウェハーの製造工程によって上記図
6に示した半導体チップ1が多数ウェハーに形成され
る。そして、ステップS2にてウェハー上の各半導体チ
ップ1毎にメモリセルアレイ2における全てのメモリセ
ルについて検査し、全てのメモリセルが正常であればス
テップS3に進んで、ダイシング、ワイヤボンディン
グ、樹脂モールドなどの組み立て工程を行い、ステップ
S4に進む。ステップS4にて再度検査が行われ、合格
であれば出荷し、不合格であれば廃却処分される。ステ
ップS2における検査において、メモリセルアレイ2に
おけるメモリセルに1つでも欠陥のメモリセルが存在す
ると、チップの状態で廃却処分されることになる。
The semiconductor integrated circuit device having the above structure is manufactured by the manufacturing process shown in FIG. That is, as shown in step S1, first, a large number of semiconductor chips 1 shown in FIG. 6 are formed on a wafer by the wafer manufacturing process. Then, in step S2, all the memory cells in the memory cell array 2 are inspected for each semiconductor chip 1 on the wafer. If all the memory cells are normal, the process proceeds to step S3 to perform dicing, wire bonding, resin molding, etc. The assembling process is performed, and the process proceeds to step S4. The inspection is performed again in step S4, and if the inspection is acceptable, the product is shipped, and if the inspection is not accepted, the product is discarded. In the inspection in step S2, if even one memory cell in the memory cell array 2 has a defect, it is discarded as a chip.

【0011】上記のように構成された半導体集積回路装
置にあっては、例えば1M DRAMにあっては、メモ
リセルが100万余り設けられているものであり、その
うち1つでも欠陥のメモリセルが存在すると廃却処分さ
れるため、歩留まりが悪いため、例えば特開昭59−1
4864号公報あるいは特開昭63−124299号公
報に示されるように、メモリセルアレイとは別に1つま
たは複数の予備のメモリセル列を半導体チップ1に形成
しておき、メモリセルアレイ2内に欠陥のメモリセルが
存在すると、欠陥のメモリセルが存在するメモリセル列
を予備のメモリセル列に置換して欠陥の救済を行うもの
が提案されている。
In the semiconductor integrated circuit device configured as described above, for example, in a 1M DRAM, more than 1 million memory cells are provided, and even one of them is defective. If it exists, it is discarded and the yield is poor.
As disclosed in Japanese Patent No. 4864 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-124299, one or a plurality of spare memory cell columns are formed in the semiconductor chip 1 separately from the memory cell array, and a defective memory cell array 2 It has been proposed to replace a memory cell column having a defective memory cell with a spare memory cell column to repair the defect when the memory cell exists.

【0012】しかるに、図5及び図6に示した半導体集
積回路装置にあっては、メモリセルアレイ2に1つでも
欠陥のメモリセルが存在すると廃却処分されるため、歩
留まりが悪く、また、予備メモリセル列を備えた半導体
集積回路装置にあっては、歩留まりが向上するものの、
準備された予備メモリセル列以上にメモリセルアレイに
欠陥のメモリセルが存在すると廃却処分されるため、歩
留まりを向上させるためには多数の予備メモリセル列を
形成する必要があり、予備メモリセル列が形成できる数
には限度があるとともに数が多いほど欠陥救済用の回路
が複雑になるという問題を有しているものであった。
However, in the semiconductor integrated circuit device shown in FIGS. 5 and 6, if there is at least one defective memory cell in the memory cell array 2, it is discarded and therefore the yield is low, and the spare cell is also spared. In a semiconductor integrated circuit device including a memory cell array, the yield is improved,
If there are more defective memory cells in the memory cell array than the prepared spare memory cell columns, they will be discarded and it is necessary to form a large number of spare memory cell columns in order to improve the yield. However, there is a limit to the number of defects that can be formed, and the larger the number, the more complicated the defect relief circuit becomes.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記した
点に鑑みてなされたものであり、メモリセルアレイ内に
欠陥メモリセルが存在している場合でも、メモリセルア
レイ内における正常なメモリセルを有効に利用できる半
導体集積回路装置を得ることを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to make a normal memory cell in a memory cell array effective even if a defective memory cell exists in the memory cell array. It is an object of the present invention to obtain a semiconductor integrated circuit device that can be used for.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】この発明に係わる半導体
集積回路装置は、半導体チップ内に形成された複数のメ
モリセルを有するメモリセルアレイと、半導体チップ内
に設けられ、メモリセルアレイ内の欠陥メモリセルにお
ける位置情報を記憶する欠陥位置記憶手段と、半導体チ
ップ内に設けられ、半導体チップに入力された位置情報
と欠陥位置記憶手段からの欠陥位置情報とが入力され、
両位置情報が一致すると一致情報を出力する欠陥位置検
出手段とを設けたものである。
A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a memory cell array having a plurality of memory cells formed in a semiconductor chip, and a defective memory cell provided in the semiconductor chip. Defect position storage means for storing the position information in, the position information input to the semiconductor chip provided in the semiconductor chip, and the defect position information from the defect position storage means is input,
Defect position detecting means is provided for outputting the coincidence information when the two pieces of position information coincide with each other.

【0015】[0015]

【作用】この発明にあっては、欠陥位置検出手段が、入
力された位置情報と欠陥位置記憶手段からの欠陥位置情
報とが一致すると一致情報を出力し、入力された位置情
報がメモリセルアレイ内における欠陥のメモリセルの位
置情報であることを示して、半導体集積回路装置の外部
から欠陥メモリセルの位置を知らしめるものである。
According to the present invention, the defect position detecting means outputs coincidence information when the input position information and the defect position information from the defect position storing means match, and the input position information is stored in the memory cell array. The position information of the defective memory cell is shown from the outside of the semiconductor integrated circuit device.

【0016】[0016]

【実施例】以下に、この発明の一実施例を図1ないし図
3に基づいて説明する。図1は半導体集積回路装置の一
種である1M DRAMの平面外観図を示すものであ
り、図5に示した従来の半導体集積回路装置に対して、
末使用端子であった5番端子を、検査時Hレベルのセレ
クト信号が入力されるセレクト入力端子SELECTと
して利用し、末使用端子であった23番端子を、検査時
に欠陥のメモリセルの位置を示すアドレスが入力された
ときにHレベルからなる一致信号を出力するための一致
信号出力端子A=Bとして利用した点が端子配置の点で
相違している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan external view of a 1M DRAM which is a type of semiconductor integrated circuit device, and is different from the conventional semiconductor integrated circuit device shown in FIG.
The 5th terminal, which was the last used terminal, is used as a select input terminal SELECT to which an H-level select signal is input at the time of inspection, and the 23rd terminal, which is the last used terminal, is set to the position of the defective memory cell at the time of inspection. The terminal arrangement is different in that it is used as a match signal output terminal A = B for outputting a match signal of H level when the address shown is input.

【0017】そして、このような半導体集積回路装置に
おいて、その半導体チップ内には図2に示すような構成
になっているものであり、図2において図6に示したも
のと同一符号は同一または相当部分を示しているもので
あり、11は半導体チップ1内に設けられ、メモリセル
アレイ2内の欠陥メモリセルにおける位置情報を記憶す
る欠陥位置記憶手段で、この実施例においては欠陥メモ
リセル1つに対して図3に示すように複数の第1パッド
11A0〜11A9と複数の第2パッド11A00〜11A
09とを有し、欠陥のメモリセルのアドレスの1ビットが
「0」を示すときは対応する第1パッドと第2パッドとの
間がワイヤによって接続され、欠陥のメモリセルのアド
レスの1ビットが「1」を示すときは対応する第1パッド
と第2パッドとの間がそのまま開放状態にされ、欠陥メ
モリセルのアドレス、つまり位置情報が記憶されること
になるものであり、図3に示したものが複数形成されて
いるものである。
In such a semiconductor integrated circuit device, the semiconductor chip has a structure as shown in FIG. 2, and the same symbols as those shown in FIG. 6 in FIG. 11 shows a corresponding portion, and 11 is a defect position storage means which is provided in the semiconductor chip 1 and stores the position information in the defective memory cells in the memory cell array 2. In this embodiment, one defective memory cell is provided. On the other hand, as shown in FIG. 3, a plurality of first pads 11A 0 to 11A 9 and a plurality of second pads 11A 00 to 11A.
09, and when 1 bit of the address of the defective memory cell indicates “0”, the corresponding first pad and second pad are connected by a wire, and 1 bit of the address of the defective memory cell is connected. When "1" indicates "1," the corresponding first pad and second pad are left open, and the address of the defective memory cell, that is, the position information is stored. A plurality of those shown are formed.

【0018】12は半導体チップ1内に設けられ、半導
体チップ1に入力された位置情報と上記欠陥位置記憶手
段11からの欠陥位置情報とが入力され、両位置情報が
一致すると一致情報を出力する欠陥位置検出手段で、こ
の実施例においては欠陥メモリセル1つに対して図3に
示すようにアドレス入力パッドA0〜A9に接続される第
1入力端A0〜A9と、上記欠陥位置検出手段11の第2
パッドに接続される第2入力端B0〜B9と、上記セレク
ト入力端子SELECTにワイヤを介して接続されるセ
レクト入力パッドに接続されるセレクト入力端SEL
と、上記一致信号出力端子A=Bにワイヤにて接続され
る一致信号出力パッドに接続される出力端A=Bとを有
し、セレクト入力端SELにHレベルのセレクト信号が
入力されることにより活性化され、第1入力端A0〜A9
に入力されたアドレスと第2入力端B0〜B9に入力され
た欠陥位置記憶手段11からの位置情報とを1ビット毎
に比較し、全てのビットが一致したときに一致信号を出
力端A=Bに出力するものであり、図3に示したものが
複数形成されているものである。
Reference numeral 12 is provided in the semiconductor chip 1, and the position information input to the semiconductor chip 1 and the defect position information from the defect position storage means 11 are input, and when the both position information match, the matching information is output. in the defect position detection means, the first input terminal a 0 to a 9, which is connected to the address input pads a 0 to a 9, as shown in FIG. 3 for one defective memory cell in this embodiment, the defect Second position detecting means 11
Second input terminals B 0 to B 9 connected to the pads, and select input terminals SEL connected to the select input pads connected to the select input terminals SELECT via wires.
And an output end A = B connected to the coincidence signal output pad connected to the coincidence signal output terminal A = B by a wire, and an H level select signal is input to the select input end SEL. Are activated by the first input terminals A 0 to A 9
The address input to the second input terminal B 0 to the position information from the defect position storage means 11 input to the second input terminals B 9 are compared bit by bit, and when all the bits match, a match signal is output. A = B is output, and a plurality of those shown in FIG. 3 are formed.

【0019】このように構成された半導体集積回路装置
においては、図4に示すような製造工程によって製造さ
れているものである。つまり、ステップS1に示すよう
に、まず、ウエハーの製造工程によって上記図2に示し
た半導体チップ1が多数ウェハーに形成される。そし
て、ステップS2にてウェハー上の各半導体チップ1毎
にメモリセルアレイ2における全てのメモリセルについ
て検査し、全てのメモリセルが正常であればステップS
3に進んで、ダイシング、ワイヤボンディング、樹脂モ
ールドなどの組み立て工程を行い、ステップS4に進
む。ステップS4にて再度検査が行われ、合格であれば
出荷し、不合格であれば廃却処分される。
The semiconductor integrated circuit device thus constructed is manufactured by the manufacturing process shown in FIG. That is, as shown in step S1, first, a large number of semiconductor chips 1 shown in FIG. 2 are formed on a wafer by a wafer manufacturing process. Then, in step S2, all the memory cells in the memory cell array 2 are inspected for each semiconductor chip 1 on the wafer. If all the memory cells are normal, step S2 is performed.
3, the assembling process such as dicing, wire bonding, and resin molding is performed, and the process proceeds to step S4. The inspection is performed again in step S4, and if the inspection is acceptable, the product is shipped, and if the inspection is not accepted, the product is discarded.

【0020】ステップS2における検査において、メモ
リセルアレイ2に欠陥メモリセルが存在するとステップ
S6に進み、メモリセルアレイ2における欠陥メモリセ
ルの数(大きさ)及び欠陥メモリセルの位置情報(この
実施例においては列アドレス)を検出する。欠陥メモリ
セルの数が欠陥位置記憶手段11に記憶できる数より大
きい場合は廃却処分とされ、小さい場合はステップS7
に進む。このステップS7では、上記ステップS3と同
様に組み立てが行われるものであり、ワイヤーボンディ
ング時にさらに、欠陥メモリセルのアドレスに基づいて
欠陥位置記憶手段11における第1パッド11A0〜1
1A9と第2パッド11A00〜11A09とのワイヤ接続
を行うとともに、一致出力端子A=Bと一致出力パッド
との間及びセレクト入力端子SELECTとセレクト入
力パッドとの間とのワイヤ接続が行われる。その後、ス
テップS8に進み、ステップS5と同様に再度検査が行
われ、合格であれば出荷し、不合格であれば廃却処分さ
れる。
If there is a defective memory cell in the memory cell array 2 in the inspection in step S2, the process proceeds to step S6, and the number (size) of defective memory cells in the memory cell array 2 and the position information of the defective memory cells (in this embodiment, in this embodiment). Column address). If the number of defective memory cells is larger than the number that can be stored in the defective position storage means 11, it is considered to be discarded, and if it is smaller, step S7.
Proceed to. In this step S7, assembling is performed in the same manner as in step S3, and during wire bonding, the first pads 11A 0 to 1A in the defect position storage means 11 are further based on the address of the defective memory cell.
Wire connection between 1A 9 and the second pads 11A 00 to 11A 09, and wire connection between the coincidence output terminal A = B and the coincidence output pad and between the select input terminal SELECT and the select input pad are performed. Be seen. After that, the process proceeds to step S8, and the inspection is performed again as in step S5. If the result is acceptable, the product is shipped, and if it is not acceptable, the product is discarded.

【0021】また、上記のように構成された半導体集積
回路装置における読みだし及び書き込み動作について
は、図5及び図6に示した従来の半導体集積回路装置と
略同様であるが、この半導体集積回路装置を使用する前
に、メモリセルアレイ2内に欠陥メモリセルが存在する
か否かの検出とともに欠陥メモリセルが存在する場合
は、その欠陥メモリセルの位置情報を得る必要がある。
この欠陥メモリセルの位置情報は次のようにして得るも
のである。まず、セレクト入力端子SELECTからH
レベルのセレクト信号を入力すると、欠陥位置検出手段
12が活性化される。
The read and write operations of the semiconductor integrated circuit device configured as described above are substantially the same as those of the conventional semiconductor integrated circuit device shown in FIGS. 5 and 6, but this semiconductor integrated circuit device is the same. Before using the device, it is necessary to detect whether there is a defective memory cell in the memory cell array 2 and, if there is a defective memory cell, obtain the position information of the defective memory cell.
The position information of this defective memory cell is obtained as follows. First, select input terminal SELECT to H
When the level select signal is input, the defect position detecting means 12 is activated.

【0022】そして、アドレス入力端子A0〜A9から列
アドレス信号を順次入力すると、欠陥位置検出手段12
では入力されたこの列アドレス信号と欠陥位置記憶手段
11に記憶された欠陥メモリセルの列アドレスとが比較
され、一致すると出力端からHレベルの信号が出力さ
れ、一致信号出力端子A=Bから一致信号が出力される
ことになり、この一致信号が出力されたときのアドレス
入力端子A0〜A9に入力された列アドレスが欠陥メモリ
セルの列アドレスを示すことになるものである。
When the column address signals are sequentially input from the address input terminals A 0 to A 9 , the defect position detecting means 12
Then, the inputted column address signal is compared with the column address of the defective memory cell stored in the defective position storage means 11, and if they coincide with each other, an H level signal is outputted from the output end, and the coincidence signal output terminal A = B is outputted. A match signal is output, and the column address input to the address input terminals A 0 to A 9 when this match signal is output indicates the column address of the defective memory cell.

【0023】従って、半導体集積回路装置における読み
だし及び書き込み動作においては、欠陥メモリセルの列
アドレスが分かっているため、この列アドレスに存在す
るメモリセルを使用しないようにして、例えば、欠陥メ
モリセルが存在する列アドレスを飛ばしてメモリセルア
レイ2内のメモリセルからデータを読み出したり、メモ
リセルにデータを書き込んだりすれば良いものである。
Therefore, in the read and write operations in the semiconductor integrated circuit device, since the column address of the defective memory cell is known, the memory cell existing at this column address is not used. It is only necessary to skip the column address in which the data exists and read the data from the memory cell in the memory cell array 2 or write the data to the memory cell.

【0024】なお、上記実施例においては、欠陥位置記
憶手段11に欠陥メモリセルの列アドレスを記憶するよ
うにしたものを示したが、行アドレスを記憶するもので
あっても良く、また、列アドレス及び行アドレスの両者
を記憶するものであっても良い。列アドレス及び行アド
レスの両者を記憶するものにあっては、欠陥メモリセル
だけを使用しないようにできるため、正常なメモリセル
全てを有効に利用できるものである。
In the above embodiment, the defective position storage means 11 stores the column address of the defective memory cell, but it may store the row address, and the column address may be stored. Both the address and the row address may be stored. In the case of storing both the column address and the row address, since only the defective memory cell can be prevented from being used, all the normal memory cells can be effectively used.

【0025】また、上記実施例においては、予備メモリ
セル列を用いていないものを示したが、予備メモリセル
列を用いたものに適用しても良いものである。予備メモ
リセル列を用いたものに適用した場合には、欠陥メモリ
セルの数が予備メモリセル列だけで救済可能な場合に
は、予備メモリセル列によって救済し、予備メモリセル
列以上の数である場合は、予備メモリセル列で救済でき
ない欠陥メモリセルの位置情報を欠陥位置記憶手段11
に記憶させてその欠陥メモリセルを使用しないようにす
れば良いものである。
Further, in the above-mentioned embodiment, the one using no spare memory cell column is shown, but it may be applied to the one using the spare memory cell column. When applied to the one using the spare memory cell column, if the number of defective memory cells can be relieved only by the spare memory cell column, the spare memory cell column is used for remedy, and the number of defective memory cells is equal to or larger than the spare memory cell column. If there is, the defect position storage means 11 stores the position information of the defective memory cell that cannot be repaired by the spare memory cell column.
The defective memory cell may be stored in the memory so that the defective memory cell is not used.

【0026】[0026]

【発明の効果】この発明は、以上に述べたように、半導
体チップ内に設けられ、メモリセルアレイ内の欠陥メモ
リセルにおける位置情報を記憶する欠陥位置記憶手段
と、半導体チップ内に設けられ、半導体チップに入力さ
れた位置情報と欠陥位置記憶手段からの欠陥位置情報と
が入力され、両位置情報が一致すると一致情報を出力す
る欠陥位置検出手段とを設けたものとしたので、欠陥メ
モリセルの位置情報が半導体集積回路装置の外部から知
ることができ、欠陥メモリセルを使用せず正常メモリセ
ルを有効に使用できるという効果を有するものである。
As described above, according to the present invention, the defect position storage means, which is provided in the semiconductor chip and stores the position information of the defective memory cell in the memory cell array, is provided in the semiconductor chip. Since the position information input to the chip and the defect position information from the defect position storage unit are input and the defect position detection unit that outputs the matching information when both position information match is provided, the defective memory cell of the defective memory cell The position information can be known from the outside of the semiconductor integrated circuit device, and a normal memory cell can be effectively used without using a defective memory cell.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例を示す外観平面図。FIG. 1 is an external plan view showing an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例を示す半導体チップ内にお
けるブロック線図。
FIG. 2 is a block diagram in a semiconductor chip showing an embodiment of the present invention.

【図3】この発明の一実施例における欠陥位置記憶手段
11及び欠陥位置検出手段12を示すブロック線図。
FIG. 3 is a block diagram showing a defect position storage means 11 and a defect position detection means 12 in an embodiment of the present invention.

【図4】この発明の一実施例のものの製造工程を示すフ
ローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing a manufacturing process of an embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体集積回路装置を示す外観平面図。FIG. 5 is an external plan view showing a conventional semiconductor integrated circuit device.

【図6】従来の半導体集積回路装置を示す半導体チップ
内におけるブロック線図。
FIG. 6 is a block diagram in a semiconductor chip showing a conventional semiconductor integrated circuit device.

【図7】従来の半導体集積回路装置の製造工程を示すフ
ローチャート。
FIG. 7 is a flowchart showing manufacturing steps of a conventional semiconductor integrated circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 メモリセルアレイ 11 欠陥位置記憶手段 12 欠陥位置検出手段 1 Semiconductor Chip 2 Memory Cell Array 11 Defect Position Storage Means 12 Defect Position Detection Means

フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/82 27/10 481 8728−4M Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/82 27/10 481 8728-4M

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップ内に形成された複数のメモ
リセルを有するメモリセルアレイ、上記半導体チップ内
に設けられ、上記メモリセルアレイ内の欠陥メモリセル
における位置情報を記憶する欠陥位置記憶手段、上記半
導体チップ内に設けられ、上記半導体チップに入力され
た位置情報と上記欠陥位置記憶手段からの欠陥位置情報
とが入力され、両位置情報が一致すると一致情報を出力
する欠陥位置検出手段を備えた半導体集積回路装置。
1. A memory cell array having a plurality of memory cells formed in a semiconductor chip, defect position storage means provided in the semiconductor chip for storing position information of defective memory cells in the memory cell array, and the semiconductor. A semiconductor provided in a chip and provided with defect position detection means for inputting position information input to the semiconductor chip and defect position information from the defect position storage means and outputting coincidence information when both position information match. Integrated circuit device.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100386627B1 (en) * 2001-02-20 2003-06-02 주식회사 하이닉스반도체 Circuit for testing semiconductor memory
KR100386626B1 (en) * 2001-02-20 2003-06-02 주식회사 하이닉스반도체 Circuit for testing semiconductor memory
JP2006004559A (en) * 2004-06-18 2006-01-05 Elpida Memory Inc Semiconductor storage device

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