JPH05271257A - Phosphorous-containing compound - Google Patents

Phosphorous-containing compound

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JPH05271257A
JPH05271257A JP7162392A JP7162392A JPH05271257A JP H05271257 A JPH05271257 A JP H05271257A JP 7162392 A JP7162392 A JP 7162392A JP 7162392 A JP7162392 A JP 7162392A JP H05271257 A JPH05271257 A JP H05271257A
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秀樹 風間
Hironobu Nago
洋信 名郷
Shingo Matsuoka
信吾 松岡
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Abstract

PURPOSE:To obtain a new compound suitable as a resin raw material having a high refractive index usable as an optical material such as lens. CONSTITUTION:A compound of formula I (A1 and A1' are alkylene or thioalkylene; R1 and R1' are H or methyl; R2 is alkyl, aryl, aralkyl, alkoxy, etc.; X is 0 or S). The compound is obtained by reacting a compound of formula II (X6 is halogen) and a compound of formula III or a compound of formula IV and a compound of formula V with a phosphorus halide of formula VI (Z is halogen) in a solvent (e.g. hexane) at -50 to 50 deg.C. The compound of formula I is useful as monomer for a resin having a high refractive index, a low specific gravity, excellent transparency, weather resistance, etc., and the resin having a high refractive index obtained by copolymerizing the monomer is useful as organic glass and is most suitable as optical lenses such as lenses for eye-glasses, lenses of optical devices, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、重合性単量体として、
特に光学材料の原料の単量体として有用であり、その
他、塗料、インク、接着剤等に有用な新規含リン化合物
に関するものである。
The present invention relates to a polymerizable monomer,
In particular, the present invention relates to a novel phosphorus-containing compound which is useful as a monomer of a raw material of an optical material and is also useful in paints, inks, adhesives, etc.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、広く用いられている光学材料とし
ては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを
注型重合させた樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率
(nD)が1.50であり、無機レンズに比べて小さ
く、無機レンズと同等の光学特性を得るためにはレンズ
の中心厚、コバ厚及び曲率を大きくする必要があり、全
体的に肉厚になることが避けられない。そこで樹脂の高
屈折率化を計る手段として樹脂の分子構造、即ち単量体
の分子構造中にフッ素以外のハロゲン原子、芳香環及び
イオウ原子を導入することが検討されている(特開昭6
1−86701号公報、同63−45081号公報、同
63−130614号公報)。
2. Description of the Related Art At present, a widely used optical material is a resin obtained by casting polymerization of diethylene glycol bisallyl carbonate. However, this resin has a refractive index (n D ) of 1.50, which is smaller than that of an inorganic lens, and it is necessary to increase the center thickness, edge thickness, and curvature of the lens in order to obtain optical characteristics equivalent to those of an inorganic lens. However, it is unavoidable that the overall thickness becomes thick. Therefore, introduction of a halogen atom other than fluorine, an aromatic ring, and a sulfur atom into the molecular structure of the resin, that is, the molecular structure of the monomer has been studied as a means for increasing the refractive index of the resin (Japanese Patent Laid-Open Publication No. Sho 6-62).
1-86701, 63-45081, and 63-130614).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記の単量体から得ら
れる樹脂は、従来のレンズ材料と比較すると屈折率がか
なり高くなっている。しかしながら、比重、透明性、耐
候性等の光学特性の点でバランスのとれた材料ではな
く、レンズ材料としては必ずしも満足できるものではな
かった。
The resin obtained from the above-mentioned monomers has a considerably higher refractive index than conventional lens materials. However, it is not a material that is well balanced in terms of optical characteristics such as specific gravity, transparency, and weather resistance, and is not always satisfactory as a lens material.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決すべく鋭意研究した結果、リン原子を有するチオ
アクリレートまたはチオメタクリレート化合物が上記目
的を達成し得る新規重合性単量体であることを見い出
し、本発明を提案するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a thioacrylate or thiomethacrylate compound having a phosphorus atom is a novel polymerizable monomer capable of achieving the above object. After finding out that there is something, the present invention has been proposed.

【0005】即ち、本発明は、下記式(1)That is, the present invention provides the following formula (1)

【0006】[0006]

【化3】 [Chemical 3]

【0007】[但し、A1 及びA1′は、それぞれ同種ま
たは異種の−(R4−X1)m−、−(R4−X1)m−R5−ま
たは−(R4−X1)m−R5−X2−(但し、X1 及びX2
は、それぞれ酸素原子またはイオウ原子であり、R4
びR5 は、それぞれ同種または異種のアルキレン基、フ
ェニレン基、トルエン−α−ジイル基またはキシレン−
α,α′−ジイル基であり、mは0以上の整数であ
る。)であり、R1 及びR1′は、それぞれ水素原子ま
たはメチル基であり、R2 は、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、アラルキルチオ基、または
[0007] [where, A 1 and A 1 'are each the same or a different - (R 4 -X 1) m -, - (R 4 -X 1) m -R 5 - or - (R 4 -X 1) m -R 5 -X 2 - ( where, X 1 and X 2
Are each an oxygen atom or a sulfur atom, and R 4 and R 5 are the same or different alkylene groups, phenylene groups, toluene-α-diyl groups or xylene- groups, respectively.
It is an α, α′-diyl group, and m is an integer of 0 or more. And R 1 and R 1 ′ are each a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an aralkylthio group, or

【0008】[0008]

【化4】 [Chemical 4]

【0009】{但し、A2 は、−(R7−X3)n−、−(R
7−X3)n−R8−または−(R7−X3)n−R8−X4−(但
し、X3 及びX4 は、それぞれ酸素原子またはイオウ原
子であり、R7 及びR8 は、それぞれ同種または異種の
アルキレン基、フェニレン基、トルエン−α−ジイル基
またはキシレン−α,α′−ジイル基であり、nは0以
上の整数である。)であり、R6 は、水素原子またはメ
チル基であり、X5は、酸素原子またはイオウ原子であ
る。}であり、Xは、酸素原子またはイオウ原子であ
る。]で示される含リン化合物である。
{However, A 2 is-(R 7 -X 3 ) n -,-(R
7 -X 3) n -R 8 - or - (R 7 -X 3) n -R 8 -X 4 - ( where, X 3 and X 4 are each oxygen atom or a sulfur atom, R 7 and R 8 is the same or different alkylene group, phenylene group, toluene-α-diyl group or xylene-α, α'-diyl group, respectively, and n is an integer of 0 or more.), And R 6 is It is a hydrogen atom or a methyl group, and X 5 is an oxygen atom or a sulfur atom. } And X is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The phosphorus-containing compound shown by these.

【0010】前記一般式(1)中のR4 ,R5 ,R7
びR8 で示されるアルキレン基は特に制限はないが、炭
素原子数の増加に伴い屈折率が低下するため炭素数が2
〜6個の範囲で、特に2〜4個の範囲で選択することが
好ましい。
The alkylene group represented by R 4 , R 5 , R 7 and R 8 in the general formula (1) is not particularly limited, but the refractive index decreases as the number of carbon atoms increases, so that the number of carbon atoms increases. Two
It is preferable to select in the range of 6 to 6, particularly in the range of 2 to 4.

【0011】また、前記一般式(1)中のR4 ,R5
7 及びR8 は、フェニレン基、トルエン−α−ジイル
基(−CH2−Ph−)及び、キシレン−α,α′−ジ
イル基(−CH2−Ph−CH2−)であってもよい。
(但し、上記式中、Phはフェニレン基である。) 前記一般式(1)中のX,X1,X2,X3、X4及びX5
は、酸素原子又はイオウ原子であれば良いが、得られる
樹脂を高屈折率にするためにはイオウ原子が好ましい。
Further, in the general formula (1), R 4 , R 5 ,
R 7 and R 8 may be a phenylene group, a toluene-α-diyl group (-CH 2 -Ph-), and a xylene-α, α'-diyl group (-CH 2 -Ph-CH 2- ). Good.
(However, in the above formula, Ph is a phenylene group.) X, X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 in the general formula (1).
Is an oxygen atom or a sulfur atom, but a sulfur atom is preferable in order to obtain a resin having a high refractive index.

【0012】また、前記一般式(1)中のm及びnは0
以上の整数であれば良いが、m及びnが大きくなりすぎ
ると得られる樹脂の耐熱性がそこなわれるといった問題
が生じてくるため、好ましくは0〜5、特に0〜2の範
囲が好適である。尚、m及びnが0のときは、−(R4
1)m−及び−(R7−X3)n−は結合手を表す。
Further, m and n in the general formula (1) are 0.
The above integers may be used, but if m and n become too large, the heat resistance of the obtained resin will be impaired, so a range of 0 to 5, particularly 0 to 2 is preferable. is there. In addition, when m and n are 0,-(R 4-
X 1) m - and - (R 7 -X 3) n - represents a bond.

【0013】さらに、前記一般式(1)中のR2で示さ
れるアルキル基は特に限定されないが、一般には、炭素
原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが好適であ
る。一般に好適に使用される該アルキル基の具体例を提
示すると、メチル基、エチル基、n−プロピル基、is
o−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等を挙げ
ることができる。
Further, the alkyl group represented by R 2 in the general formula (1) is not particularly limited, but in general, a linear or branched one having 1 to 4 carbon atoms is preferable. .. Typical examples of the alkyl groups that are generally and preferably used include methyl group, ethyl group, n-propyl group, is
Examples thereof include o-propyl group, n-butyl group and t-butyl group.

【0014】また、R2で示されるアリール基として
は、炭素数に特に制限されるものではないが、フェニル
基、ナフチル基、フェナンスリル基、アンスリル基、ト
リル基又はキシリル基等の炭素数6〜14のアリール基
が好ましい。また、R2で示されるアラルキル基として
は、炭素数に特に制限されないが、ベンジル基、フェネ
チル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等の炭
素数7〜10のアラルキル基が好ましい。
The aryl group represented by R 2 is not particularly limited in the number of carbon atoms, but is a phenyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, an anthryl group, a tolyl group, a xylyl group or the like having 6 to 10 carbon atoms. 14 aryl groups are preferred. The aralkyl group represented by R 2 is not particularly limited in carbon number, but an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms such as a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group and a phenylbutyl group is preferable.

【0015】さらに、前記一般式(1)中のR2で示さ
れるアルコキシ基は特に限定されないが、一般には炭素
原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を含む
基が好適である。一般に好適に使用される該アルコキシ
基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、n−プ
ロポキシ基、t−ブトキシ等を挙げることができる。
Further, the alkoxy group represented by R 2 in the general formula (1) is not particularly limited, but is generally a group containing a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It is suitable. Specific examples of the alkoxy group which are generally and preferably used include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, t-butoxy group and the like.

【0016】また、前記一般式(1)中のR2で示され
るアルキルチオ基は特に限定されないが、一般には炭素
数1〜4個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を含む基が
好適である。一般に好適に使用される該アルキルチオ基
の具体例を提示すると、メチルチオ基、エチルチオ基、
n−プロピルチオ基、t−ブチルチオ基等を挙げること
ができる。
The alkylthio group represented by R 2 in the general formula (1) is not particularly limited, but a group containing a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is generally preferred. Is. Typical examples of the alkylthio group which are generally and preferably used include methylthio group, ethylthio group,
Examples thereof include n-propylthio group and t-butylthio group.

【0017】また、前記一般式(1)中、R2で示され
るアリールチオ基としては、炭素数に特に制限されるも
のではないが、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、フェ
ナンスリルチオ基、アンスリルチオ基、トリルチオ基又
はキシリルチオ基等の炭素数6〜14のアリールチオ基
が好ましい。
In the general formula (1), the arylthio group represented by R 2 is not particularly limited in the number of carbon atoms, but is a phenylthio group, a naphthylthio group, a phenanthrylthio group, an anthrylthio group, An arylthio group having 6 to 14 carbon atoms such as a tolylthio group or a xylylthio group is preferable.

【0018】また、前記一般式(1)中、R2 で示され
るアラルキルチオ基としては、炭素数に特に制限される
ものではないが、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、
フェニルプロピルチオ基、フェニルブチルチオ基等の炭
素数7〜10のアラルキルチオ基が好ましい。
In the general formula (1), the aralkylthio group represented by R 2 is not particularly limited in the number of carbon atoms, but is a benzylthio group, a phenethylthio group,
Aralkylthio groups having 7 to 10 carbon atoms such as phenylpropylthio group and phenylbutylthio group are preferable.

【0019】本発明の前記一般式(1)で示される化合
物の構造は次の手段によって確認することができる。
The structure of the compound represented by the general formula (1) of the present invention can be confirmed by the following means.

【0020】(イ)赤外吸収スペクトル(IR)を測定
することにより、3150〜2800cm-1付近にC−H
結合に基づく吸収、1660〜1690cm-1付近にチオ
エステル基に基づくカルボニル基の強い吸収、1700
〜1750cm-1付近にエステル基に基づくカルボニル基
の強い吸収、さらに、1650〜1600cm-1付近に末
端の不飽和炭化水素基に基づく吸収を観察することがで
きる。
(A) By measuring the infrared absorption spectrum (IR), C--H around 3150-2800 cm -1
Absorption based on bond, strong absorption of carbonyl group based on thioester group around 1660 to 1690 cm -1 , 1700
A strong absorption of a carbonyl group based on an ester group near ˜1750 cm −1 and an absorption based on a terminal unsaturated hydrocarbon group near 1650 to 1600 cm −1 can be observed.

【0021】(ロ) 1H−核磁気共鳴スペクトル( 1
−NMR)を測定することにより前記一般式(1)で示
される本発明の化合物中に存在する水素原子の結合様式
を知ることができる。
(B) 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H
By measuring -NMR), the bonding mode of hydrogen atoms present in the compound of the present invention represented by the general formula (1) can be known.

【0022】(ハ)元素分析によって、炭素、水素、イ
オウ及びリンの各重量%を求め、さらに認知された各元
素の重量%の和を100から減じることによって酸素の
重量%を算出することができ、従って該化合物の組成式
を決定することができる。
(C) By elemental analysis, the weight% of carbon, hydrogen, sulfur, and phosphorus can be obtained, and the weight% of oxygen can be calculated by subtracting the sum of the weight% of the recognized elements from 100. Therefore, the composition formula of the compound can be determined.

【0023】一般式(1)で示される含リン化合物は、
どのような方法により得ても良いが、代表的な製造方法
を記述すると下記のふたつの方法を挙げることができ
る。
The phosphorus-containing compound represented by the general formula (1) is
Although it may be obtained by any method, the following two methods can be mentioned as typical production methods.

【0024】(A)一般式(2)及び(3)(A) General formulas (2) and (3)

【0025】[0025]

【化5】 [Chemical 5]

【0026】[0026]

【化6】 [Chemical 6]

【0027】および/または、一般式(4)及び(5)And / or general formulas (4) and (5)

【0028】[0028]

【化7】 [Chemical 7]

【0029】[0029]

【化8】 [Chemical 8]

【0030】{但し、A1 及びA1′は、それぞれ同種
または異種の−(R4−X1)m−、−(R4−X1)m−R5
または−(R4−X1)m−R5−X2−(但し、X1 及びX2
は、それぞれ酸素原子またはイオウ原子であり、R4
及びR5 は、それぞれ同種または異種のアルキレン基、
フェニレン基、トルエン−α−ジイル基またはキシレン
−α,α′−ジイル基であり、mは0以上の整数であ
る。)であり、R1 及びR1′は、それぞれ水素原子ま
たはメチル基であり、X6は、ハロゲン原子である。}
で示される化合物と、下記式(6)
(However, A 1 and A 1 ′ are the same or different-(R 4 -X 1 ) m -,-(R 4 -X 1 ) m -R 5-, respectively.
Or - (R 4 -X 1) m -R 5 -X 2 - ( where, X 1 and X 2
Are each an oxygen atom or a sulfur atom, and R 4
And R 5 are the same or different alkylene groups,
It is a phenylene group, a toluene-α-diyl group or a xylene-α, α'-diyl group, and m is an integer of 0 or more. ), R 1 and R 1 ′ are each a hydrogen atom or a methyl group, and X 6 is a halogen atom. }
And a compound represented by the following formula (6)

【0031】[0031]

【化9】 [Chemical 9]

【0032】[但し、R2 は、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、アラルキルチオ基、または
[Wherein R 2 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an aralkylthio group, or

【0033】[0033]

【化10】 [Chemical 10]

【0034】{但し、A2 は、−(R7−X3)n−、−(R
7−X3)n−R8−または−(R7−X3)n−R8−X4−(但
し、X3 及びX4 は、それぞれ酸素原子またはイオウ原
子であり、R7 及びR8 は、それぞれ同種または異種の
アルキレン基、フェニレン基、トルエン−α−ジイル基
またはキシレン−α,α′−ジイル基であり、nは0以
上の整数である。)であり、R6 は、水素原子またはメ
チル基であり、X5は、酸素原子またはイオウ原子であ
る。}であり、Zは、ハロゲン原子であり、Xは、酸素
原子またはイオウ原子である。]で示されるハロゲン化
リン化合物とを反応させる方法。
{However, A 2 is-(R 7 -X 3 ) n -,-(R
7 -X 3) n -R 8 - or - (R 7 -X 3) n -R 8 -X 4 - ( where, X 3 and X 4 are each oxygen atom or a sulfur atom, R 7 and R 8 is the same or different alkylene group, phenylene group, toluene-α-diyl group or xylene-α, α'-diyl group, respectively, and n is an integer of 0 or more.), And R 6 is It is a hydrogen atom or a methyl group, and X 5 is an oxygen atom or a sulfur atom. }, Z is a halogen atom, and X is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The method of reacting with the phosphorus halide compound shown by these.

【0035】B)一般式(7)及び(8)B) General formulas (7) and (8)

【0036】[0036]

【化11】 [Chemical 11]

【0037】[0037]

【化12】 [Chemical 12]

【0038】{但し、A1 及びA1′は、それぞれ同種
または異種の−(R4−X1)m−、−(R4−X1)m−R5
または−(R4−X1)m−R5−X2−(但し、X1 及びX2
は、それぞれ酸素原子またはイオウ原子であり、R4
及びR5 は、それぞれ同種または異種のアルキレン基、
フェニレン基、トルエン−α−ジイル基またはキシレン
−α,α′−ジイル基であり、mは0以上の整数であ
る。)であり、R1 及びR1′は、それぞれ水素原子ま
たはメチル基であり、Mは、水素原子またはアルカリ金
属である。}で示される化合物と、前記一般式(6)で
示されるハロゲン化リン化合物とを反応させる方法。
(However, A 1 and A 1 ′ are the same or different types of-(R 4 -X 1 ) m -,-(R 4 -X 1 ) m -R 5-
Or - (R 4 -X 1) m -R 5 -X 2 - ( where, X 1 and X 2
Are each an oxygen atom or a sulfur atom, and R 4
And R 5 are the same or different alkylene groups,
It is a phenylene group, a toluene-α-diyl group or a xylene-α, α'-diyl group, and m is an integer of 0 or more. ), R 1 and R 1 ′ are each a hydrogen atom or a methyl group, and M is a hydrogen atom or an alkali metal. } The method of making the compound shown by these and the phosphorus halide compound shown by the said General formula (6) react.

【0039】前記一般式(1)で示される化合物を得る
反応の具体例を例示すれば以下に通りである。
Specific examples of the reaction for obtaining the compound represented by the general formula (1) are shown below.

【0040】A)で示す方法、すなわち、一般式(2)
及び一般式(3)で示される化合物、または、一般式
(4)及び一般式(5)で示される化合物と一般式
(6)で示される化合物とを反応させる方法は、反応系
中にハロゲン化マグネシウムおよび/またはハロゲン化
リチウムの生成を伴う反応であり、一般に有機溶媒を用
いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるもの
を例示すれば、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ベ
ンゼン、トルエン等の脂肪族または芳香族炭化水素類;
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類が挙げられる。
The method represented by A), that is, the general formula (2)
And a compound represented by the general formula (3), or a method of reacting the compound represented by the general formula (4) and the general formula (5) with the compound represented by the general formula (6), halogen is used in the reaction system. It is a reaction involving the formation of magnesium halide and / or lithium halide, and it is generally preferable to use an organic solvent. Examples of those suitably used as the solvent include aliphatic or aromatic hydrocarbons such as hexane, heptane, petroleum ether, benzene and toluene;
Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like can be mentioned.

【0041】前記反応における各化合物の仕込モル比は
必要に応じて適宜決定すれば良いが、通常、一般式
(2)及び一般式(3)で示される化合物、または、一
般式(4)及び一般式(5)で示される化合物に対して
一般式(6)で示される化合物を化学量論量、すなわち
等モルで反応させるのが一般的である。
The charged molar ratio of each compound in the above reaction may be appropriately determined according to need. Usually, the compounds represented by the general formula (2) and the general formula (3) or the general formula (4) and It is general that the compound represented by the general formula (6) is reacted with the compound represented by the general formula (5) in a stoichiometric amount, that is, in an equimolar amount.

【0042】前記反応における温度は原料の種類、溶媒
の種類によって異なるが、一般には−50〜50℃が好
ましい。反応時間も原料の種類によって異なるが、通
常、5分から24時間、好ましくは30分から12時間
の範囲から選べば十分である。また、反応中においては
撹はんを行うのが好ましい。
The temperature in the above reaction varies depending on the type of raw material and the type of solvent, but is generally preferably -50 to 50 ° C. The reaction time also varies depending on the type of raw material, but it is usually sufficient to select from the range of 5 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 12 hours. In addition, it is preferable to perform stirring during the reaction.

【0043】B)で示す方法、すなわち、一般式(7)
及び一般式(8)で示される化合物と一般式(6)で示
される化合物とを反応させる方法は、反応系から脱ハロ
ゲン化水素または脱ハロゲン化アルカリ金属させる反応
であり、特に前者の場合には生成するハロゲン化水素を
反応系から除くために、反応系内にハロゲン化水素捕捉
剤として塩基を共存させることが好ましい。該ハロゲン
化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公知のもの
を使用することができる。一般に好適に使用される塩基
としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン等のト
リアルキルアミン、ピリジン、テトラメチル尿素等が挙
げられる。
The method represented by B), that is, the general formula (7)
And the method of reacting the compound represented by the general formula (8) with the compound represented by the general formula (6) is a reaction for dehydrohalogenating or dehalogenating an alkali metal from the reaction system, particularly in the case of the former case. In order to remove the generated hydrogen halide from the reaction system, it is preferable to allow a base to coexist in the reaction system as a hydrogen halide scavenger. The base as the hydrogen halide scavenger is not particularly limited, and known bases can be used. Examples of generally suitably used bases include trialkylamines such as trimethylamine and triethylamine, pyridine, tetramethylurea and the like.

【0044】また、反応系内に、炭酸アルカリ、水酸化
アルカリ、水素化アルカリ等のアルカリ金属化合物を存
在させ、一般式(7)及び一般式(8)で示される化合
物との反応によってアルコラートまたはチオラートを生
成させて上記の反応を行うのが好適である。
Alkali metal compounds such as alkali carbonate, alkali hydroxide and alkali hydride are allowed to exist in the reaction system and reacted with the compounds represented by the general formulas (7) and (8) to give an alcoholate or It is preferred to produce the thiolate and carry out the above reaction.

【0045】前記反応における各化合物の仕込モル比は
必要に応じて適宜決定すれば良いが、通常、一般式
(7)及び一般式(8)で示される化合物に対して、一
般式(6)で示される化合物を化学量論量、すなわち等
モルで反応させるのが一般的である。
The charged molar ratio of each compound in the above reaction may be appropriately determined according to need. Usually, the general formula (6) is added to the compounds represented by the general formulas (7) and (8). It is general to react the compound represented by the formula (1) in a stoichiometric amount, that is, in an equimolar amount.

【0046】前記反応に際しては、一般に有機溶媒を用
いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるもの
を例示すれば、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ベ
ンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化
エチレン等の脂肪族または芳香族炭化水素類、あるいは
ハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類;アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類;アセトニトリル等のニト
リル類;N,N−ジメチルホルムアミド等のジアルキル
アミド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
In the reaction, it is generally preferable to use an organic solvent. Examples of those preferably used as the solvent include aliphatic or aromatic hydrocarbons such as hexane, heptane, petroleum ether, benzene, toluene, chloroform, methylene chloride and ethylene chloride, or halogenated hydrocarbons; Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; nitriles such as acetonitrile; dialkylamides such as N, N-dimethylformamide; dimethyl sulfoxide and the like.

【0047】前記反応における温度は原料の種類、溶媒
の種類によって異なるが、一般には0℃〜溶媒の還流温
度が好ましい。反応時間も原料の種類によって異なる
が、通常、5分〜40時間、好ましくは30分から24
時間の範囲から選べば十分である。また反応中において
は撹はんを行うのが好ましい。
The temperature in the above reaction varies depending on the type of raw material and the type of solvent, but generally 0 ° C. to the reflux temperature of the solvent are preferable. The reaction time also varies depending on the type of raw material, but is usually 5 minutes to 40 hours, preferably 30 minutes to 24 hours.
It is sufficient to choose from a time range. Further, it is preferable to carry out stirring during the reaction.

【0048】反応系から目的生成物、すなわち前記一般
式(1)で示される化合物を単離精製する方法は特に限
定されず、公知の方法が採用できる。
The method of isolating and purifying the desired product, that is, the compound represented by the general formula (1) from the reaction system is not particularly limited, and a known method can be employed.

【0049】本発明の前記一般式(1)で示される化合
物は高屈折率で比重が小さく透明性に優れた樹脂を与え
る。本発明の含リン化合物を用いて光学材料、とりわけ
レンズ材料を得る際、前記一般式(1)で示される化合
物が1官能性であるときは、ラジカル共重合可能な多官
能性不飽和単量体と共重合するのが好ましい。該多官能
性不飽和単量体の例を挙げると次のとおりである。尚、
アクリレート及びメタクリレートを総称して(メタ)ア
クリレートと記す。エチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、チオグリコールジ(メタ)アクリレート等のジ
(メタ)アクリレート;ジビニルベンゼン、2,5−ジ
ビニルピリジン等が挙げられる。
The compound represented by the general formula (1) of the present invention gives a resin having a high refractive index, a small specific gravity and an excellent transparency. When an optical material, particularly a lens material, is obtained using the phosphorus-containing compound of the present invention, when the compound represented by the general formula (1) is monofunctional, radically copolymerizable polyfunctional unsaturated monomer is used. It is preferred to copolymerize with the body. Examples of the polyfunctional unsaturated monomer are as follows. still,
Acrylate and methacrylate are collectively referred to as (meth) acrylate. Examples include di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and thioglycol di (meth) acrylate; divinylbenzene, 2,5-divinylpyridine and the like.

【0050】さらに、高屈折率の重合体を得る観点から
その単独重合体の屈折率が1.55以上の多官能性不飽
和単量体を用いるのが良好である。このような多官能性
不飽和単量体を具体的に例示すると、ビスフェノール
A、ビスフェノールS、2,2′,6,6′−テトラク
ロロビスフェノールA、2,2′,6,6′−テトラク
ロロビスフェノールS、2,2′,6,6′−テトラブ
ロモビスフェノールA若しくは2,2′,6,6′−テ
トラブロモビスフェノールS等のビスフェノール類のビ
スβ−メタリルカーボネート、ジアクリレート又はジメ
タクリレート;テトラクロロフタル酸ビスヒドロキシエ
チルエステル、テトラクロロイソフタル酸ビスヒドロキ
シエチルエステル、テトラクロロテレフタル酸ビスヒド
ロキシエチルエステル、テトラブロモフタル酸ビスヒド
ロキシエチルエステル若しくはテトラブロモテレフタル
酸ビスヒドロキシエチルエステル等のビスβ−メタリル
カーボネート、ジアクリレート又はジメタクリレート;
ジビニルベンゼン、2,5−ジビニルピリジン等が挙げ
られる。
Further, from the viewpoint of obtaining a polymer having a high refractive index, it is preferable to use a polyfunctional unsaturated monomer whose homopolymer has a refractive index of 1.55 or more. Specific examples of such a polyfunctional unsaturated monomer include bisphenol A, bisphenol S, 2,2 ', 6,6'-tetrachlorobisphenol A, 2,2', 6,6'-tetra Chlorobisphenol S, 2,2 ', 6,6'-tetrabromobisphenol A or bisβ-methallyl carbonate, diacrylate or dimethacrylate of bisphenols such as 2,2', 6,6'-tetrabromobisphenol S Bisβ-such as tetrachlorophthalic acid bishydroxyethyl ester, tetrachloroisophthalic acid bishydroxyethyl ester, tetrachloroterephthalic acid bishydroxyethyl ester, tetrabromophthalic acid bishydroxyethyl ester or tetrabromoterephthalic acid bishydroxyethyl ester Metallic Luka Carbonate, diacrylate or dimethacrylate;
Examples include divinylbenzene and 2,5-divinylpyridine.

【0051】一方、前記の多官能性不飽和単量体と共に
ラジカル共重合可能な1官能性不飽和単量体を使用して
もさしつえない。1官能性不飽和単量体は、高屈折率の
重合体を得る観点からその単独重合体の屈折率が1.5
5以上の単量体を用いるのが良好である。
On the other hand, it is possible to use a monofunctional unsaturated monomer capable of radical copolymerization together with the above-mentioned polyfunctional unsaturated monomer. The monofunctional unsaturated monomer has a refractive index of 1.5 as a homopolymer from the viewpoint of obtaining a polymer having a high refractive index.
It is preferable to use 5 or more monomers.

【0052】具体的には下記のとおりである。フェニル
(メタ)アクリレート、モノクロロフェニル(メタ)ア
クリレート、ジクロロフェニル(メタ)アクリレート、
トリクロロフェニル(メタ)アクリレート、モノブロモ
フェニル(メタ)アクリレート、ジブロモフェニル(メ
タ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリ
レート、ペンタブロモフェニル(メタ)アクリレート、
モノクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ジ
クロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリク
ロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、モノブロ
モフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ジブロモフ
ェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェ
ノキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタブロモフェ
ノキシエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオ(メ
タ)アクリレート、ベンジルチオ(メタ)アクリレー
ト、ベンジルチオエチルチオ(メタ)アクリレート、ス
チレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモス
チレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、メチルス
チレン、メトキシスチレン、2−ビニルチオフエン、ビ
ニルナフタレン、N−ビニルカルバゾール、ベンジル
(メタ)アクリレート、エチルビニルベンゼン等が挙げ
られる。これらの単量体は一種又は二種以上を混合して
使用できる。
Specifically, it is as follows. Phenyl (meth) acrylate, monochlorophenyl (meth) acrylate, dichlorophenyl (meth) acrylate,
Trichlorophenyl (meth) acrylate, monobromophenyl (meth) acrylate, dibromophenyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, pentabromophenyl (meth) acrylate,
Monochlorophenoxyethyl (meth) acrylate, dichlorophenoxyethyl (meth) acrylate, trichlorophenoxyethyl (meth) acrylate, monobromophenoxyethyl (meth) acrylate, dibromophenoxyethyl (meth) acrylate, tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, Pentabromophenoxyethyl (meth) acrylate, phenylthio (meth) acrylate, benzylthio (meth) acrylate, benzylthioethylthio (meth) acrylate, styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, methylstyrene, Methoxystyrene, 2-vinylthiophene, vinylnaphthalene, N-vinylcarbazole, benzyl (meth) acrylate Ethyl vinyl benzene. These monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0053】本発明において光学材料とりわけレンズ材
料を得る際、その単量体の組成比は前記一般式(1)で
示される化合物の全単量体中に占める割合が10〜10
0重量%、特に40〜100重量%の範囲で使用するの
が好ましい。一方、ラジカル共重合可能な多官能性不飽
和単量体の使用量は、全単量体中に占める割合で0〜9
0重量%、特に0〜60重量%の範囲が好ましい。更
に、ラジカル共重合可能な1官能性不飽和単量体の使用
量は、全単量体中に占める割合で0〜90重量%、特に
0〜60重量%の範囲が好ましい。
When obtaining an optical material, especially a lens material, in the present invention, the composition ratio of the monomers is such that the ratio of the compound represented by the general formula (1) to all the monomers is 10 to 10.
It is preferably used in an amount of 0% by weight, particularly 40 to 100% by weight. On the other hand, the amount of the polyfunctional unsaturated monomer capable of radical copolymerization is 0 to 9 as a proportion of the total monomers.
A range of 0% by weight, particularly 0 to 60% by weight is preferable. Further, the amount of the monofunctional unsaturated monomer capable of radical copolymerization is preferably 0 to 90% by weight, more preferably 0 to 60% by weight, based on the total monomers.

【0054】前記の単量体組成物を用いて高屈折率樹脂
を得る重合方法は、特に限定的でなく、公知の注型重合
方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物や
アゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラストマーガスケットまたはスペーサーで保持されて
いるモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単
量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出せ
ばよい。
The polymerization method for obtaining a high refractive index resin using the above-mentioned monomer composition is not particularly limited, and a known cast polymerization method can be adopted. The polymerization can be initiated by using radical polymerization initiators such as various peroxides and azo compounds, irradiation with ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays or the like, or a combination of both. To illustrate a typical polymerization method,
The above-mentioned monomer composition containing a radical polymerization initiator may be injected between molds held by an elastomer gasket or a spacer, cured in an air oven, and then taken out.

【0055】ラジカル重合開始剤としては、特に限定さ
れず、公知のものが使用できるが、代表的なものを例示
すると、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾ
イルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサネート、t−ブチルパーオキシネオデカネー
ト、クミルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパー
オキシベンゾエート等のパーオキシエステル;ジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキ
シルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパ
ーオキシジカーボネート等のパーカーボネート;アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカ
ル重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前
記の単量体組成物の組成によって異なり、一概に限定は
できないが、一般には、単量体組成物100重量部に対
して0.01〜10重量部、好ましくは0.01〜5重
量部の範囲で用いるのが好適である。
The radical polymerization initiator is not particularly limited and known ones can be used. Typical examples thereof include benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, decanoyl peroxide and lauroyl peroxide. , Diacetyl peroxides such as acetyl peroxide; peroxyesters such as t-butylperoxy-2-ethylhexanate, t-butylperoxyneodecanate, cumylperoxyneodecanate and t-butylperoxybenzoate; Percarbonates such as diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate and di-sec-butyl peroxydicarbonate; azo compounds such as azobisisobutyronitrile. The amount of the radical polymerization initiator used varies depending on the polymerization conditions, the type of the initiator, and the composition of the above-mentioned monomer composition and cannot be unconditionally limited, but generally, relative to 100 parts by weight of the monomer composition. 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight.

【0056】重合条件のうち、特に温度は得られる高屈
折率樹脂の性状に影響を与える。この温度条件は、開始
剤の種類と量や単量体組成物の種類によって影響を受け
るので、一概に限定できないが、一般的に比較的低温下
で重合を開始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終
了時に高温下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行
うのが好適である。重合時間も温度と同様に各種の要因
によって異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の
時間を決定するのが好適であるが、一般に2〜40時間
で重合を完結するように条件を選ぶのが好ましい。
Among the polymerization conditions, the temperature particularly affects the properties of the obtained high refractive index resin. This temperature condition is affected by the kind and amount of the initiator and the kind of the monomer composition, and therefore cannot be unconditionally limited, but generally the polymerization is started at a relatively low temperature, and the temperature is slowly raised. It is preferable to carry out a so-called taper type two-stage polymerization in which curing is performed at a high temperature at the end of the polymerization. Since the polymerization time also depends on various factors like the temperature, it is preferable to determine the optimum time in advance according to these conditions, but generally, the conditions are selected so that the polymerization is completed in 2 to 40 hours. Is preferred.

【0057】勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸
収剤、酸化防止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染
料、染料、顔料、香料等の各種安定剤、添加剤は必要に
応じて選択して使用することが出来る。
Needless to say, various stabilizers and additives such as a release agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an anti-coloring agent, an antistatic agent, a fluorescent dye, a dye, a pigment, a fragrance, etc., may be added as necessary during the polymerization. Can be selected and used.

【0058】さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹
脂は、その用途に応じて以下のような処理を施すことも
出来る。即ち、分散染料などの染料を用いる染色、シラ
ンカップリング剤やケイ素、ジルコニア、アンチモン、
アルミニウム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコ
ート剤や、有機高分子体を主成分とするハードコート剤
によるハードコーティング処理や、SiO2 ,Ti
2 ,ZrO2等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分
子体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理
等の加工及び2次処理を施すことも可能である。
Further, the high refractive index resin obtained by the above method may be subjected to the following treatments depending on its use. That is, dyeing using a dye such as a disperse dye, a silane coupling agent or silicon, zirconia, antimony,
Hard coating treatment with a hard coating agent containing sol of oxide such as aluminum as a main component or a hard coating agent containing organic polymer as a main component, SiO 2 , Ti
It is also possible to perform processing such as antireflection treatment and antistatic treatment by vapor deposition of a thin film of a metal oxide such as O 2 or ZrO 2 or coating of a thin film of an organic polymer, and secondary treatment.

【0059】[0059]

【効果】本発明の含リン化合物は高屈折率で比重が小さ
く、透明性、耐候性等に優れた樹脂を与える単量体とし
て有用である。このため、本発明の含リン化合物の単独
重合又は該化合物と不飽和単量体との共重合により得ら
れる高屈折率樹脂は有機ガラスとして有用であり、例え
ば、メガネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズとし
て最適であり、更にプリズム、光ディスク基板、光ファ
イバー等の用途に好適に使用することができる。
The phosphorus-containing compound of the present invention is useful as a monomer that gives a resin having a high refractive index, a small specific gravity, and excellent transparency, weather resistance and the like. Therefore, the high refractive index resin obtained by homopolymerization of the phosphorus-containing compound of the present invention or copolymerization of the compound with an unsaturated monomer is useful as an organic glass, for example, spectacle lenses, optical equipment lenses, etc. It is most suitable as an optical lens and can be suitably used for applications such as prisms, optical disk substrates, and optical fibers.

【0060】[0060]

【実施例】以下、本発明を具体的に説明するために、実
施例を掲げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0061】なお、実施例において得られた含リン化合
物、及び高屈折率樹脂は、下記の試験法によって諸物性
を測定した。
Various properties of the phosphorus-containing compound and the high refractive index resin obtained in the examples were measured by the following test methods.

【0062】(1)IRスペクトル BIO−RAD製、DIGILAB FIS−7、フー
リエ変換赤外分光光度計を用い、液膜法またはKBr法
により測定した。
(1) IR spectrum A DIGLAB FIS-7 manufactured by BIO-RAD, a Fourier transform infrared spectrophotometer was used to measure by the liquid film method or the KBr method.

【0063】(2) 1H−NMRスペクトル 日本電子(株)製、PMX−60SI型(60MHz)
を用い、試料をCDCl3 に希釈し、テトラメチルシラ
ンを内部標準として測定した。
(2) 1 H-NMR spectrum PMX-60SI type (60 MHz) manufactured by JEOL Ltd.
Was used to dilute the sample in CDCl 3 and tetramethylsilane was measured as an internal standard.

【0064】(3)屈折率 アタゴ(株)製、アッベ屈折計を用いて、20℃におけ
る屈折率を測定した。接触液にはブロモナフタリンまた
はヨウ化メチレンを使用した。
(3) Refractive Index The refractive index at 20 ° C. was measured using an Abbe refractometer manufactured by Atago Co., Ltd. Bromonaphthalene or methylene iodide was used as the contact liquid.

【0065】なお、含リン化合物の屈折率は該化合物が
常温で固体の場合には液状の不飽和単量体に溶解し外挿
法により求めた。
The refractive index of the phosphorus-containing compound was determined by extrapolation by dissolving it in a liquid unsaturated monomer when the compound was solid at room temperature.

【0066】(4)外観 目視により測定した。(4) Appearance It was measured visually.

【0067】(5)耐候性 スガ試験機(株)製ロングライフキセノンフェードメー
ター(FAC−25AX−HC型)中に試料、及び比較
としてポリスチレンを設置し、100時間キセノン光を
露光した後、ポリスチレンよりも試料の着色の程度の低
いものを○、同等のものを△、高いものを×で評価し
た。
(5) Weather resistance A sample and polystyrene for comparison were placed in a long life xenon fade meter (FAC-25AX-HC type) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and exposed to xenon light for 100 hours, and then polystyrene. A sample having a lower degree of coloring was evaluated as ◯, an equivalent sample was evaluated as Δ, and a higher sample was evaluated as x.

【0068】なお、以下の実施例で使用した不飽和単量
体は下記の記号で表した。但し、[]内は単独重合体の屈
折率である。
The unsaturated monomers used in the following examples are represented by the following symbols. However, the value in [] is the refractive index of the homopolymer.

【0069】St: スチレン [1.590] ClSt: クロルスチレン (o,m体の混合物)
[1.610] DVB: ジビニルベンゼン [1.615] 実施例1 温度計、滴下ロート及びメカニカルスターラーを付けた
500ml3つ口フラスコにチオホスホニルクロリド10.0g
(0.059mol)とピリジン15.4g(0.195mol)を塩化メチレン2
00mlに溶解し、0℃で冷却した。撹はんしながら、2−
メルカプトエチルチオメタクリレート9.6g(0.059mol)を
徐々に滴下した。次いで、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート16.9g(0.13mol)を滴下した。この際、反応温度
を0〜5℃に保ち、滴下終了後さらに20℃で2時間撹
はんした。その後、反応混合物を水にあけ、希塩酸、及
び希炭酸ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、水洗
を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を減圧下、留去することにより、無色透明な粘稠体2
8.0g(収率87%)を得た。
St: Styrene [1.590] ClSt: Chlorostyrene (a mixture of o and m isomers)
[1.610] DVB: Divinylbenzene [1.615] Example 1 A thermometer, a dropping funnel and a mechanical stirrer were attached.
10.0 g of thiophosphonyl chloride in a 500 ml three-necked flask
(0.059 mol) and pyridine 15.4 g (0.195 mol) in methylene chloride 2
It was dissolved in 00 ml and cooled at 0 ° C. While stirring, 2-
9.6 g (0.059 mol) of mercaptoethylthiomethacrylate was gradually added dropwise. Then, 16.9 g (0.13 mol) of 2-hydroxyethyl methacrylate was added dropwise. At this time, the reaction temperature was kept at 0 to 5 ° C., and after completion of dropping, the mixture was further stirred at 20 ° C. for 2 hours. Then, the reaction mixture was poured into water, the organic layer was washed with dilute hydrochloric acid and a dilute aqueous solution of sodium carbonate, and then washed with water. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give a colorless transparent viscous material 2
8.0 g (yield 87%) was obtained.

【0070】このもののIRチャートを図1に示した。
3150-2800cm-1にC−H結合に基づく吸収、1716およ
び1661cm-1にそれぞれメタクリロイル基およびチオメ
タクリロイル基のカルボニル基由来の強い吸収、1634c
-1にCH2=CH基に基づく吸収が認められた。
The IR chart of this product is shown in FIG.
Absorption based on C-H bond in the 3150-2800cm -1, 1716 and respectively methacryloyl groups and thio in 1661Cm -1-methacryloyl-derived group strong absorption of groups, 1634C
Absorption based on CH 2 ═CH group was observed in m −1 .

【0071】また、このものの1H−NMR(CDCl3溶媒
中、テトラメチルシラン基準、ppm)のチャートを図
2に示した。δ2.0ppmにチオメタクリロイル基のメチル
水素に由来する9個分のピークが一重線として、δ5.5
及び6.0ppmにチオメタクリロイル基のメチレン水素に由
来する6個分のピークが二重線として、δ2.7-3.4ppm、
および、δ4.1-4.4ppmにS−メチレン、およびO−メチ
レンの水素に由来する12個分のピークが多重線として
観測された。
A chart of 1 H-NMR (in CDCl 3 solvent, tetramethylsilane standard, ppm) of this product is shown in FIG. At δ2.0 ppm, the nine peaks derived from methyl hydrogen of the thiomethacryloyl group are singlet,
And 6.0 ppm at 6 peaks derived from methylene hydrogen of thiomethacryloyl group as doublet, δ2.7-3.4 ppm,
Also, 12 peaks derived from hydrogen of S-methylene and O-methylene were observed as multiple lines at δ 4.1-4.4 ppm.

【0072】更に、元素分析値(( )内は計算値であ
る。)はC:43.99%(44.80%)、H:5.53%(5.64%)、
S:20.15%(19.94%)、P:6.34%(6.42%)であり、計
算値とよく一致した。また屈折率を測定したところnD=
1.534であった。
Further, elemental analysis values (values in parentheses are calculated values) are C: 43.99% (44.80%), H: 5.53% (5.64%),
S: 20.15% (19.94%) and P: 6.34% (6.42%), which were in good agreement with the calculated values. Also, when the refractive index was measured, n D =
It was 1.534.

【0073】以上より、得られた化合物は下記の構造式
で示されることが分かった。
From the above, it was found that the obtained compound has the following structural formula.

【0074】[0074]

【化13】 [Chemical 13]

【0075】実施例2 種々の原料を用いて実施例1において詳細に記述したの
と同様な方法により、表1に記載した含リン化合物を合
成した。なお、表1には得られた含リン化合物の性状、
元素分析結果、及び屈折率も併せて記した。
Example 2 The phosphorus-containing compounds shown in Table 1 were synthesized in the same manner as described in detail in Example 1 using various raw materials. The properties of the obtained phosphorus-containing compound are shown in Table 1.
The elemental analysis results and the refractive index are also shown.

【0076】[0076]

【表1】 [Table 1]

【0077】[0077]

【表2】 [Table 2]

【0078】[0078]

【表3】 [Table 3]

【0079】[0079]

【表4】 [Table 4]

【0080】[0080]

【表5】 [Table 5]

【0081】[0081]

【表6】 [Table 6]

【0082】[0082]

【表7】 [Table 7]

【0083】[0083]

【表8】 [Table 8]

【0084】[0084]

【表9】 [Table 9]

【0085】[0085]

【表10】 [Table 10]

【0086】[0086]

【表11】 [Table 11]

【0087】[0087]

【表12】 [Table 12]

【0088】[0088]

【表13】 [Table 13]

【0089】[0089]

【表14】 [Table 14]

【0090】実施例42 実施例1で合成した含リン化合物60重量部と不飽和単
量体としてスチレン40重量部の混合物100重量部に
対して、ラジカル重合開始剤としてt-ブチルパーオキシ
−2−エチレンヘキサネート1重量部を添加してよく混
合した。この混合溶液をガラス板とエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体とから成るガスケットで構成された鋳型の中
へ注入し、注型重合を行った。重合は空気炉を用い、3
0℃から90℃まで18時間かけ徐々に温度を上げて行
き、90℃に2時間保持した。重合終了後、鋳型を空気
炉から取り出し、放冷後、重合体を鋳型のガラスから取
り外した。
Example 42 100 parts by weight of a mixture of 60 parts by weight of the phosphorus-containing compound synthesized in Example 1 and 40 parts by weight of styrene as an unsaturated monomer was added to t-butylperoxy-2 as a radical polymerization initiator. Add 1 part by weight of ethylene hexanate and mix well. This mixed solution was poured into a mold composed of a gasket composed of a glass plate and an ethylene-vinyl acetate copolymer, and cast polymerization was carried out. Polymerization using an air furnace 3
The temperature was gradually raised from 0 ° C. to 90 ° C. over 18 hours, and was maintained at 90 ° C. for 2 hours. After completion of the polymerization, the mold was taken out of the air furnace, allowed to cool, and the polymer was removed from the glass of the mold.

【0091】得られた重合体は無色透明であり、屈折率
D=1.587、比重1.18であり、耐光性も○であった。
The obtained polymer was colorless and transparent, had a refractive index n D = 1.587, a specific gravity of 1.18, and had a light resistance of ◯.

【0092】実施例43 表2に示す含リン化合物、及びこれと共重合可能な単量
体とから成る組成物を用いた以外、実施例42と同様に
実施した。得られた重合体の物性を測定し、併せて表2
に示した。
Example 43 Example 43 was carried out in the same manner as in Example 42 except that the composition containing the phosphorus-containing compound shown in Table 2 and a monomer copolymerizable therewith was used. The physical properties of the obtained polymer were measured and are also shown in Table 2.
It was shown to.

【0093】[0093]

【表15】 [Table 15]

【0094】[0094]

【表16】 [Table 16]

【0095】[0095]

【表17】 [Table 17]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は実施例1で得られた本発明の含リン化
合物の赤外吸収スペクトルチャートである。
1 is an infrared absorption spectrum chart of the phosphorus-containing compound of the present invention obtained in Example 1. FIG.

【図2】 図2は実施例1で得られた本発明の含リン化
合物の 1H−核磁気共鳴スペクトルチャートである。
FIG. 2 is a 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum chart of the phosphorus-containing compound of the present invention obtained in Example 1.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式 【化1】 [但し、A1 及びA1′は、それぞれ同種または異種の−
(R4−X1)m−、−(R4−X1)m−R5−または−(R4
1)m−R5−X2−(但し、X1 及びX2 は、それぞれ
酸素原子またはイオウ原子であり、R4 及びR5 は、そ
れぞれ同種または異種のアルキレン基、フェニレン基、
トルエン−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジ
イル基であり、mは0以上の整数である。)であり、 R1 及びR1′は、それぞれ水素原子またはメチル基で
あり、 R2 は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキ
ルチオ基、または 【化2】 {但し、A2 は、−(R7−X3)n−、−(R7−X3)n−R
8−または−(R7−X3)n−R8−X4−(但し、X3 及び
4 は、それぞれ酸素原子またはイオウ原子であり、R
7 及びR8 は、それぞれ同種または異種のアルキレン
基、フェニレン基、トルエン−α−ジイル基またはキシ
レン−α,α′−ジイル基であり、nは0以上の整数で
ある。)であり、R6 は、水素原子またはメチル基であ
り、X5は、酸素原子またはイオウ原子である。}であ
り、 Xは、酸素原子またはイオウ原子である。]で示される
含リン化合物。
1. The following formula: [However, A 1 and A 1 ′ are the same or different
(R 4 -X 1) m - , - (R 4 -X 1) m -R 5 - or - (R 4 -
X 1 ) m —R 5 —X 2 — (wherein X 1 and X 2 are each an oxygen atom or a sulfur atom, and R 4 and R 5 are the same or different alkylene groups, phenylene groups,
It is a toluene-α-diyl group or a xylene-α, α'-diyl group, and m is an integer of 0 or more. And R 1 and R 1 ′ are each a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an aralkylthio group, or 2] {However, A 2 is, - (R 7 -X 3) n -, - (R 7 -X 3) n -R
8 - or - (R 7 -X 3) n -R 8 -X 4 - ( where, X 3 and X 4 are each oxygen atom or a sulfur atom, R
7 and R 8 are the same or different alkylene groups, phenylene groups, toluene-α-diyl groups or xylene-α, α'-diyl groups, respectively, and n is an integer of 0 or more. ), R 6 is a hydrogen atom or a methyl group, and X 5 is an oxygen atom or a sulfur atom. } And X is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The phosphorus-containing compound shown by these.
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