JPH05196825A - Input/output structure of light guide - Google Patents

Input/output structure of light guide

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JPH05196825A
JPH05196825A JP777792A JP777792A JPH05196825A JP H05196825 A JPH05196825 A JP H05196825A JP 777792 A JP777792 A JP 777792A JP 777792 A JP777792 A JP 777792A JP H05196825 A JPH05196825 A JP H05196825A
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JP
Japan
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waveguide
input
light
terrace
etched mirror
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Application number
JP777792A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshimasa Katagiri
祥雅 片桐
Yoshio Suzuki
与志雄 鈴木
Hidenao Tanaka
秀尚 田中
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide input/output mechanism which improves the efficiency of the light input/output terminal of a waveguide deteriorating, owing to reflection at a terrace while guaranteeing the optical quality of an etched mirror by forming a recessed part at the light incidence force and outside the etched mirror across the terrace. CONSTITUTION:The efficiency of the light input/output end depending upon a wall (etched mirror) crossing a waveguide is improved as the etch depth (h) is increased. At the light input/output end of the waveguide formed of a wall perpendicular or almost perpendicular to a substrate 9 crossing an optical waveguide in one substrate, the hollow part 10 is formed in the front surface of the shallow etched mirror having etching depth (h) is provided for high quality to substantially increase the etching depth (h). Consequently, extremely high light input/output efficiency is obtained even when the etching depth (h) is low. For example, when T is 5mu and T0 is 30mum, the hollow part of >=28mum in depth h0 is formed for the etched mirror of 4mum in etching depth to reduce the reflection loss from 34% in the absence of the hollow part to 5%.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、導波路を横切る壁(以
下、エッチドミラーという。)による導波路の光入出力
端の効率改善に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improving the efficiency of a light input / output end of a waveguide by means of a wall that traverses the waveguide (hereinafter referred to as an etched mirror).

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は、従来の光導波路の入出力構造を
示し、1はコア(屈折率n1、厚さd)、2はクラッド
(屈折率n2)、3はクラッド(屈折率n2)、4はキ
ャップ層、5はエッチドミラー、6は光軸、7はテラ
ス、8は素子端、9は基板、hはエッチ深さ、Tはテラ
ス長である。
2. Description of the Related Art FIG. 2 shows an input / output structure of a conventional optical waveguide, where 1 is a core (refractive index n1, thickness d), 2 is a clad (refractive index n2), and 3 is a clad (refractive index n2). 4 is a cap layer, 5 is an etched mirror, 6 is an optical axis, 7 is a terrace, 8 is an element end, 9 is a substrate, h is an etching depth, and T is a terrace length.

【0003】図2に示すように、エッチドミラーは、基
板に対し垂直、もしくはほぼ垂直な1段の壁と、その壁
の前面に生じる底面(以下、テラスという。)から成る
単純な構造を持っていた。光導波路を伝搬してきた光は
光導波路の屈折率と外部の屈折率との差を感じて導波路
を切断する壁の部分に相当するエッチドミラー面で反
射、透過する。反射率は、導波路および外側の媒質の屈
折率、導波路構造およびエッチドミラー面の平滑度、お
よび光の周波数等で決定される。屈折率が3.5 近傍の値
を持つ通常の半導体レーザでは、反射率は近赤外光に対
しておよそ0.32となることが知られている。このような
エッチドミラーは、基板内の任意の位置にリソグラフィ
を主とする半導体微細加工技術により形成できるので、
光集積素子を構成する基本要素の一つとなっている。
As shown in FIG. 2, the etched mirror has a simple structure consisting of a single-step wall which is vertical or almost vertical to the substrate and a bottom surface (hereinafter referred to as a terrace) formed on the front surface of the wall. had. The light propagating through the optical waveguide feels the difference between the refractive index of the optical waveguide and the external refractive index, and is reflected and transmitted by the etched mirror surface corresponding to the wall portion cutting the waveguide. The reflectance is determined by the refractive index of the waveguide and the outside medium, the smoothness of the waveguide structure and the etched mirror surface, the frequency of light, and the like. It is known that the reflectivity of an ordinary semiconductor laser with a refractive index near 3.5 is about 0.32 for near infrared light. Since such an etched mirror can be formed at an arbitrary position in the substrate by a semiconductor microfabrication technique mainly including lithography,
It is one of the basic elements that make up an optical integrated device.

【0004】まず前記の光導波路の入出力構造からの出
力効率の問題点について述べる。一般に用いられている
導波路は、放射光の光学品質を高めるため、基本モード
が伝搬されるように設計されている。このため、規格化
周波数がπ/2以下となる必要があるので、導波路のコ
ア層の厚さを大きくすることができない。このような導
波路から自由空間に放射される光は、ガウス的に発散す
る。例えば、コアに相当する活性層の厚さが0.18μm の
Al0.3 Ga0.7 As/GaAsから成る二重ヘテロ構
造のレーザでは、放射光は半値全幅約47度で広がる。こ
のため、前記エッチドミラーから放射された光の一部
は、テラスで反射する。このような反射光は、直接光と
光軸がずれているので、例えばレンズによりエッチドミ
ラーからの光を集光する場合には、直接光と反射光は一
点に結像しない。従って、テラスによる反射は損失とな
る。高出力応用の場合、このような損失は、性能を劣化
させる要因である。
First, the problem of output efficiency from the input / output structure of the optical waveguide will be described. Generally used waveguides are designed to propagate a fundamental mode in order to enhance the optical quality of emitted light. Therefore, the normalized frequency needs to be π / 2 or less, so that the thickness of the core layer of the waveguide cannot be increased. Light emitted from such a waveguide into free space diverges in a Gaussian manner. For example, in a double heterostructure laser made of Al 0.3 Ga 0.7 As / GaAs with an active layer corresponding to the core having a thickness of 0.18 μm, the emitted light spreads with a full width at half maximum of about 47 degrees. Therefore, a part of the light emitted from the etched mirror is reflected on the terrace. Since the optical axis of such reflected light is deviated from that of the direct light, when the light from the etched mirror is condensed by a lens, the direct light and the reflected light do not form an image at one point. Therefore, the reflection on the terrace is a loss. For high power applications, such loss is a factor that degrades performance.

【0005】テラスでの反射は、エッチドミラーからテ
ラスのエッジまでの長さ(以下、テラス長という。)が
一定のとき、導波路層の中心からテラスまでの深さ(以
下、エッチ深さという。)の増大とともに減少する。従
って、テラスでの反射は、単純にエッチ深さの増大によ
り低減されるはずである。しかし、エッチ深さの増大、
すなわち加工量の増大は、加工マスクの変質、損傷の増
加および基板の微小欠損増幅を引き起こし、エッチドミ
ラーの平滑度と垂直性を劣化させる。これによりエッチ
ドミラー本来の光学的機能が失われる。この機能を保持
した高品質のエッチドミラーを形成するためには、エッ
チ深さを、できるだけ浅くすることが望ましい。以上の
制約条件により、エッチ深さの増大により反射損失を低
減するのには限界があった。
The reflection on the terrace is the depth from the center of the waveguide layer to the terrace (hereinafter referred to as the etch depth) when the length from the etched mirror to the edge of the terrace (hereinafter referred to as the terrace length) is constant. It decreases with the increase of. Therefore, the reflection on the terrace should be reduced by simply increasing the etch depth. However, increasing the etch depth,
That is, an increase in the amount of processing causes alteration of the processing mask, increase in damage, and amplification of minute defects in the substrate, which deteriorates the smoothness and verticality of the etched mirror. As a result, the original optical function of the etched mirror is lost. In order to form a high quality etched mirror that retains this function, it is desirable to make the etching depth as shallow as possible. Due to the above constraint conditions, there is a limit in reducing the reflection loss by increasing the etching depth.

【0006】次に入力効率の問題点について述べる。前
記光導波路の入出力構造から光を入射させる場合、エッ
チ深さとテラス長により、開口数(NA)が制限される
ので、NAが大きいレンズでエッチドミラー面上に入力
光の焦点を合わせても、導波路に入射する光量は制限さ
れる。このときの入力効率は、エッチドミラーのNAを
大きくすることにより改善できる。従って、テラス長が
一定の場合、エッチ深さの増大により入力効率も増大す
るが、前記の出力効率の問題と同様の要因により、入力
効率の改善にも限界がある。
Next, the problem of input efficiency will be described. When light is incident from the input / output structure of the optical waveguide, the numerical aperture (NA) is limited by the etching depth and the terrace length. Therefore, a lens having a large NA focuses the input light on the etched mirror surface. However, the amount of light incident on the waveguide is limited. The input efficiency at this time can be improved by increasing the NA of the etched mirror. Therefore, when the terrace length is constant, the input efficiency increases as the etching depth increases, but there is a limit to the improvement of the input efficiency due to the same factors as the above-mentioned problem of the output efficiency.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、エッチドミ
ラーの光学品質を保証しながら、テラスでの反射により
劣化する導波路の光入出力端の効率を改善した光導波路
の入出力構造を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an input / output structure of an optical waveguide which improves the efficiency of the optical input / output end of the waveguide which is deteriorated by reflection on the terrace while guaranteeing the optical quality of the etched mirror. To provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】現在のエッチドミラー形
成技術で、前記の問題点を改善するため、エッチドミラ
ーの外側にテラスを介して窪地を光入出力端に持たせ
た。
[Means for Solving the Problems] In the present technology for forming an etched mirror, in order to improve the above-mentioned problems, a depression is provided at the light input / output end through a terrace on the outside of the etched mirror.

【0009】[0009]

【作用】エッチドミラーによる光入出力端の効率は、従
来の技術で述べたようにエッチ深さの増大とともに改善
される。本発明の光導波路の入出力端構造では、高品質
にするためのエッチ深さの浅いエッチドミラー前面に、
窪地を設けることにより、実質的にエッチ深さが増大す
る。このため、エッチ深さが浅くても極めて高い光入出
力効率を実現できる。このような本発明の効果を、図2
に示すような光入出力端を持つAlGaAs/GaAs
導波路を例にとり説明する。
The efficiency of the light input / output end by the etched mirror is improved with the increase of the etching depth as described in the prior art. In the input / output end structure of the optical waveguide of the present invention, on the front surface of the etched mirror with a shallow etching depth for high quality,
Providing the depression substantially increases the etch depth. Therefore, extremely high light input / output efficiency can be realized even if the etching depth is shallow. Such an effect of the present invention is shown in FIG.
AlGaAs / GaAs with optical input / output terminals as shown in
A waveguide will be described as an example.

【0010】まず、従来の1段構造の入出力端につい
て、反射損失とエッチ深さとの関係を明らかにした後、
本発明による光導波路の入出力構造の反射損失を定量的
に評価する。層状のコアとクラッドから成る導波路から
の放射光のプロファイルは、以下に説明するように、導
波路内の光の電場分布と波動方程式により求めることが
できる(参考文献: H.C.Casey, M.B.Panish:Heterost
ructure Lasers, P.75, Academic Press, 1978) 。z軸
を光軸、x軸を基板に垂直な方向にとったとき、導波路
の外側のある位置(x,z)での光の電場振幅をE
(x,z)とすると(基板に水平な方向の導波路の幅
が、垂直方向の幅より十分広いとして、水平方向の光の
強度分布は一様であるとした。)、導波路内の光の電波
の振幅分布E(x,0)を用いて、
First, after clarifying the relationship between the reflection loss and the etching depth at the input / output end of the conventional one-stage structure,
The reflection loss of the input / output structure of the optical waveguide according to the present invention is quantitatively evaluated. The profile of the emitted light from the waveguide composed of the layered core and the clad can be obtained by the electric field distribution of the light in the waveguide and the wave equation as described below (Reference: HCCasey, MBPanish: Heterost
ructure Lasers, P.75, Academic Press, 1978). When the z-axis is taken as the optical axis and the x-axis is taken as a direction perpendicular to the substrate, the electric field amplitude of light at a certain position (x, z) outside the waveguide is E
If (x, z) (the width of the waveguide in the direction horizontal to the substrate is sufficiently wider than the width in the vertical direction, the intensity distribution of light in the horizontal direction is uniform). Using the amplitude distribution E (x, 0) of the radio wave of light,

【数1】 と表わすことができる。テラスがz=Tまであるとき、
反射光強度は、エッチ深さをhとして、
[Equation 1] Can be expressed as When the terrace is up to z = T,
The intensity of the reflected light is

【数2】 となる。ここで図1に示すように、θは光とz軸とのな
す角度、dは活性層の厚さ、hはエッチ深さ、Tはテラ
ス長、
[Equation 2] Becomes Here, as shown in FIG. 1, θ is the angle between light and the z axis, d is the thickness of the active layer, h is the etch depth, T is the terrace length,

【数3】 である。全放射光量をP0 とすると、反射損失γは、γ
=Pr /P0 である。
[Equation 3] Is. If the total amount of emitted light is P 0 , the reflection loss γ is γ
= P r / P 0 .

【0011】ここで、前記コアに相当する活性層の厚さ
dが0.18μm のGaAs、クラッドがAl0.3 Ga0.7
Asである2重ヘテロ構造のレーザを例にとる。この導
波路の規格化周波数v=0.826 、規格化透過屈折率b=
0.3575となるので、導波モードは0次モードで、
Here, the active layer corresponding to the core has a thickness d of 0.18 μm of GaAs and the clad of Al 0.3 Ga 0.7.
Take a double heterostructure laser of As as an example. The normalized frequency v of this waveguide is 0.826, and the normalized transmission refractive index b is
Since it is 0.3575, the guided mode is the 0th mode,

【数4】 となる。ここでγ=7.25、k=5.41である。このモード
の放射プロファイルは、式(1) により計算できる。その
結果、ビームの広がり角は、前述のように半値全幅で約
47度である。このようなレーザの反射損失と端面深さの
関係を図4に示す。
[Equation 4] Becomes Here, γ = 7.25 and k = 5.41. The radiation profile for this mode can be calculated by equation (1). As a result, the divergence angle of the beam is approximately full width at half maximum as described above.
It is 47 degrees. FIG. 4 shows the relationship between the reflection loss of such a laser and the end face depth.

【0012】従来のエッチドミラーでは、テラス長が30
μm のとき、反射損失を5%以下に低減するので、28μ
m 以上のエッチ深さが必要である。一方、テラス長が5
μmのときは、エッチ深さが4μm 以上で反射損失が5
%以下となる。
In the conventional etched mirror, the terrace length is 30
At μm, the reflection loss is reduced to 5% or less.
Etch depth of m or more is required. On the other hand, the terrace length is 5
When μm, etching depth is 4 μm or more and reflection loss is 5
% Or less.

【0013】以上の結果をもとに、本発明の光導波路の
入出力構造の反射損失を評価する。本発明では、放射光
の反射は、エッチドミラー直前の1段目のテラスと窪地
底面(2段目のテラス)の両方の反射の和になる。この
全反射損失は、1段目のテラスのみを持つ従来の構造の
光導波路の入出力構造の反射損失と、1段目のテラスを
2段目のテラスまで掘り下げることにより生じるエッチ
深さが、窪地深さに等しい従来の構造の光導波路の入出
力構造の反射損失とを比較して大きい方に等しい。この
ため、1段目のテラスの長さ(エッチドミラーと窪地と
の距離)が十分短い場合には、反射損失は窪地底面で生
じる。
Based on the above results, the reflection loss of the input / output structure of the optical waveguide of the present invention is evaluated. In the present invention, the reflection of the radiated light is the sum of the reflections of both the terrace on the first stage immediately before the etched mirror and the bottom of the depression (the terrace on the second stage). This total reflection loss is caused by the reflection loss of the input / output structure of the optical waveguide having the conventional structure having only the first terrace and the etching depth caused by digging the first terrace to the second terrace. Compared with the reflection loss of the input / output structure of the optical waveguide of the conventional structure which is equal to the depression depth, it is equal to the larger one. Therefore, when the length of the terrace on the first stage (the distance between the etched mirror and the depression) is sufficiently short, the reflection loss occurs on the bottom surface of the depression.

【0014】図3は、本発明の光導波路の入出力構造を
示し、10は窪地、h0 は窪地深さであり、図2の符号と
同一のものは同一のものを示す。図3に示すように、T
=5μm 、T0 =30μm としたとき、エッチ深さh=4
μm のエッチドミラーに対して、窪地深さ(導波路層か
ら窪地の底までの深さ)h0 を28μm 以上とすることに
より、反射損失は窪地のない場合の34%から5%まで低
減する。
FIG. 3 shows the input / output structure of the optical waveguide of the present invention, in which 10 is a depression and h 0 is a depression depth, and the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same. As shown in FIG.
= 5 μm and T 0 = 30 μm, the etch depth h = 4
By setting the recess depth (depth from the waveguide layer to the bottom of the recess) h 0 to 28 μm or more for the etched mirror of μm, the reflection loss is reduced from 34% of the case without the recess to 5%. To do.

【0015】以上、本発明の作用をコア層と二つのクラ
ッド層の3層から成る半導体光導波路を例にとり説明し
てきたが、分布屈折率を持つ導波路についても同様の作
用を持つ。また、LiNbO3 基板上のTi拡散導波
路、Si基板上のSi3 4 またはSiO2 導波路等の
誘電体導波路についても、本発明は同様の作用を持つ。
The operation of the present invention has been described above by taking the semiconductor optical waveguide composed of the three layers of the core layer and the two cladding layers as an example, but a waveguide having a distributed refractive index also has the same operation. Further, the present invention has the same effect with respect to a dielectric waveguide such as a Ti diffusion waveguide on a LiNbO 3 substrate and a Si 3 N 4 or SiO 2 waveguide on a Si substrate.

【0016】[0016]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。実施例1 図5は、半導体レーザの放射光をレンズにより集光して
使用する本発明の第1の実施例を示し、11はレンズ、12
は直接光であり、図2の符号と同一のものは同一のもの
を示す。半導体レーザおよび入出力端を前述と同じくす
れば、直接光の焦点からずれる反射光の割合を5%とす
ることができる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Embodiment 1 FIG. 5 shows a first embodiment of the present invention in which the emitted light of a semiconductor laser is condensed by a lens and used, 11 is a lens, and 12 is a lens.
Is direct light, and the same reference numerals as those in FIG. 2 denote the same components. If the semiconductor laser and the input / output end are the same as those described above, the proportion of reflected light deviating from the focus of direct light can be set to 5%.

【0017】実施例2 図6は、半導体レーザ基板上に設けられた二つの半導体
レーザを、同一基板上に付与されたレンズにより光学的
に結合する本発明の第2の実施例を示し、13は半導体レ
ーザ、14はレンズ、15は光出力端、16は光入力端であ
り、図3の符号と同一のものは同一のものを示す。この
ときの結合損失は、構造的対称性により1入出力端の反
射損失に等しい。前記レーザと入出力端の組み合わせで
結合損失は5%である。
Embodiment 2 FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention in which two semiconductor lasers provided on a semiconductor laser substrate are optically coupled by a lens provided on the same substrate. Is a semiconductor laser, 14 is a lens, 15 is a light output end, and 16 is a light input end. The coupling loss at this time is equal to the reflection loss at one input / output end due to the structural symmetry. The combination loss of the laser and the input / output end is 5%.

【0018】実施例3 図7は、半導体レーザと光ファイバを結合する本発明の
第3の実施例であって、17は光ファイバであり、図6の
符号と同一のものは同一のものを示す。ファイバのコア
は、レーザの導波路よりはるかに大きいので、ファイバ
への入力損失は無視できる。従って、レーザとファイバ
間の結合損失はレーザの出力損失で主に決まる。実施例
1,2と同じレーザおよび入出力端構造により損失を5
%まで低減できる。
Embodiment 3 FIG. 7 shows a third embodiment of the present invention for coupling a semiconductor laser and an optical fiber, in which 17 is an optical fiber, and the same symbols as those in FIG. Show. The fiber core is much larger than the laser waveguide, so the input loss to the fiber is negligible. Therefore, the coupling loss between the laser and the fiber is mainly determined by the output loss of the laser. Loss of 5 due to the same laser and input / output end structure as in the first and second embodiments.
% Can be reduced.

【0019】実施例4 図8は、誘電体導波路の一つであるLiNbO3 基板上
のTi拡散導波路からの出射光をレンズを介して光ファ
イバに入力する本発明の第4の実施例であって、18はT
i拡散導波路、19はLiNbO3 基板であり、図7の符
号と同一のものは同一のものを示す。なお、前述の各実
施例では、2段目のテラス形状は平たんとしたが、テー
パ状または多段形状としても有効なことは言うまでもな
い。
Embodiment 4 FIG. 8 is a fourth embodiment of the present invention in which light emitted from a Ti diffusion waveguide on a LiNbO 3 substrate, which is one of dielectric waveguides, is input to an optical fiber through a lens. And 18 is T
The i-diffusion waveguide 19 is a LiNbO 3 substrate, and the same symbols as those in FIG. 7 indicate the same components. Although the terrace shape of the second step is flat in each of the above-described embodiments, it goes without saying that a tapered shape or a multi-step shape is also effective.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明によれば、エッチドミラーを用い
た導波路の光入出力効率を極めて高くできる。このため
本発明を高出力レーザに用いた場合、効率良くレーザ光
を外部に取り出すことができる。また、放射光をレンズ
で絞って使用する場合、反射による主スポットの強度損
失を低減することができる。また本発明を光集積素子に
適用した場合でも、基板上の素子間を低い損失で結合す
ることができる。
According to the present invention, the light input / output efficiency of the waveguide using the etched mirror can be made extremely high. Therefore, when the present invention is applied to a high power laser, the laser light can be efficiently extracted to the outside. Further, when the emitted light is used after being narrowed down by a lens, the intensity loss of the main spot due to reflection can be reduced. Even when the present invention is applied to an optical integrated device, the devices on the substrate can be coupled with low loss.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光導波路から放射される光の状態を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a state of light emitted from an optical waveguide.

【図2】従来の光導波路構造の入出力を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing inputs and outputs of a conventional optical waveguide structure.

【図3】本発明の光導波路の入出力構造を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing an input / output structure of an optical waveguide of the present invention.

【図4】光導波路の入出力構造の各構造パラメータと反
射損失の関係から本発明の作用を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of the present invention from the relationship between the reflection loss and each structural parameter of the input / output structure of the optical waveguide.

【図5】半導体レーザの放射光をレンズにより集光して
使用する本発明による光導波路の入出力構造の第1の実
施例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a first embodiment of the input / output structure of the optical waveguide according to the present invention in which the emitted light of the semiconductor laser is condensed and used by a lens.

【図6】同一基板上の半導体を結合する本発明による光
導波路の入出力構造の第2の実施例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a second embodiment of the input / output structure of the optical waveguide according to the present invention, in which semiconductors on the same substrate are combined.

【図7】半導体レーザと光ファイバを結合する本発明に
よる光導波路の入出力構造の第3の実施例を示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing a third embodiment of the input / output structure of the optical waveguide according to the present invention for coupling a semiconductor laser and an optical fiber.

【図8】LiNbO3 基板上のTi拡散導波路からレン
ズを介して光ファイバへ光を入力する本発明による光導
波路の入出力構造の第4の実施例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a fourth embodiment of the input / output structure of the optical waveguide according to the present invention for inputting light from the Ti diffusion waveguide on the LiNbO 3 substrate to the optical fiber through the lens.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コア 2 クラッド 3 クラッド 4 キャップ層 5 エッチドミラー 6 光軸 7 テラス 8 素子端 9 基板 10 窪地 11 レンズ 12 直接光 13 半導体レーザ 14 レンズ 15 光出力端 16 光入力端 17 光ファイバ 18 Ti拡散導波路 19 LiNbO3 基板1 core 2 clad 3 clad 4 cap layer 5 etched mirror 6 optical axis 7 terrace 8 element end 9 substrate 10 recess 11 lens 12 direct light 13 semiconductor laser 14 lens 15 optical output end 16 optical input end 17 optical fiber 18 Ti diffused conduction Waveguide 19 LiNbO 3 substrate

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一基板内の光導波路を切断する基板に垂
直もしくはほぼ垂直な壁により実現される導波路の光入
出力端において、導波路面を横切る壁の外側にテラスを
介して窪地を備えていることを特徴とする光導波路の入
出力構造。
1. At the light input / output end of a waveguide realized by a wall that is perpendicular or nearly perpendicular to a substrate that cuts an optical waveguide in one substrate, a depression is formed outside a wall that traverses the waveguide surface via a terrace. An input / output structure of an optical waveguide characterized by being provided.
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