JPH05124238A - Preparation of end face type thermal head - Google Patents

Preparation of end face type thermal head

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JPH05124238A
JPH05124238A JP29020891A JP29020891A JPH05124238A JP H05124238 A JPH05124238 A JP H05124238A JP 29020891 A JP29020891 A JP 29020891A JP 29020891 A JP29020891 A JP 29020891A JP H05124238 A JPH05124238 A JP H05124238A
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overcoat glass
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film thickness
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照久 佐古
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Abstract

PURPOSE:To provide a method for preparing an end face type thermal head wherein fluctuation of film thickness of an overcoat glass can be decreased and an arbitrary film thickness can be obtd. and in addition, even a fine wiring pattern can be masked with good accuracy. CONSTITUTION:A heat generating resistor 2 is provided on the top part of an end face substrate 1 and a masking 3 is applied on the part where an overcoat glass film is not formed by means of screen printing using a resin and then, this substrate 1 is immersed in a paste 11 of the overcoat glass and after it is taken up, the substrate 1 is rotated. By rotating the base sheet 1, the paste film 11' adhered on the substrate 1 becomes uniform in thickness.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、端面型サーマルヘッド
の製造方法に関し、特にオーバーコートガラス膜を形成
する工程に特徴がある厚膜端面型サーマルヘッドの製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an end face type thermal head, and more particularly to a method for manufacturing a thick film end face type thermal head characterized by the step of forming an overcoat glass film.

【0002】[0002]

【従来の技術】厚膜端面型のサーマルヘッドは、図7の
(a)、(b)に示すように、端面基板30の頂部に発
熱抵抗体31を設けてある。この基板30の頂部側に施
すオーバーコートガラス膜は、基板30の形状によりス
クリーン印刷で形成することができないため、ディップ
法を用いて形成している。
2. Description of the Related Art In a thick film end face type thermal head, a heating resistor 31 is provided on the top of an end face substrate 30 as shown in FIGS. The overcoat glass film provided on the top side of the substrate 30 cannot be formed by screen printing due to the shape of the substrate 30, and thus is formed by the dip method.

【0003】ディップ法は、図8〜図11に示す手順で
行う。まず、図8及び図9で基板30の頂部側をオーバ
ーコートガラスのペースト40に浸漬する。浸漬後、図
10に示すように基板30をペースト40から引き上げ
る。これにより、基板30の頂部側には、オーバーコー
トガラス41’が付着する。更に、図11でオーバーコ
ートガラス41’を乾燥させることで、基板30にオー
バーコートガラス膜41が形成され、発熱抵抗体31が
膜41で覆われる。
The dip method is performed by the procedure shown in FIGS. First, in FIG. 8 and FIG. 9, the top side of the substrate 30 is immersed in the paste 40 of the overcoat glass. After the immersion, the substrate 30 is pulled up from the paste 40 as shown in FIG. As a result, the overcoat glass 41 ′ is attached to the top side of the substrate 30. Further, by drying the overcoat glass 41 ′ in FIG. 11, the overcoat glass film 41 is formed on the substrate 30, and the heating resistor 31 is covered with the film 41.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ディッ
プ法では、発熱抵抗体31の長手方向において、オーバ
ーコートガラスの膜厚にかなりのムラが生ずる。この膜
厚ムラを表1に示す。但し表1では、乾燥後のオーバー
コートガラスの膜厚ムラを示し、オーバーコートガラス
はO.C.G.と略し、3種類のペースト粘度について
表記してある。又、基板右端・中央・左端は、図7の
(a)に示す発熱抵抗体31の各位置を表す。
However, in the dipping method, a considerable unevenness occurs in the film thickness of the overcoat glass in the longitudinal direction of the heating resistor 31. This film thickness unevenness is shown in Table 1. However, Table 1 shows the film thickness unevenness of the overcoated glass after drying, and the overcoated glass was C. G. It is abbreviated and is described about three kinds of paste viscosities. Further, the right end, center, and left end of the substrate represent respective positions of the heating resistor 31 shown in FIG.

【0005】[0005]

【表1】 [Table 1]

【0006】表1のようなオーバーコートガラスの膜厚
ムラは、更に次の問題点を生起させる。 :オーバーコートガラスの染み込み量が発熱抵抗体の
部分によって大きく異なるため、オーバーコートガラス
膜を形成した後の発熱抵抗体の抵抗値のバラツキが大き
くなり、パルストリミングを行っても抵抗値が十分に落
ちないドットが現れ、不良となる。 :膜厚ムラがあるままで印字した場合、オーバーコー
トガラス膜の厚い部分は薄い印字に、オーバーコートガ
ラス膜の薄い部分は濃い印字になり、印字濃度差が発生
し、印字品位が低下する。
The uneven film thickness of the overcoat glass as shown in Table 1 causes the following problems. : Since the permeation amount of the overcoat glass varies greatly depending on the heating resistor part, the resistance value of the heating resistor after the overcoat glass film is formed varies greatly, and the resistance value is sufficient even if pulse trimming is performed. Dot dots will appear and it will be defective. : When printing is performed with uneven film thickness, the thick portion of the overcoat glass film is thinly printed, and the thin portion of the overcoat glass film is darkly printed, which causes a print density difference and deteriorates the print quality.

【0007】更に、上記のようなディップ法では、適用
可能なペーストの粘度は精精4000cps程度であ
り、この程度のペースト粘度では、粘度が低いため、膜
厚を任意に設定することが困難である。又、ディップ法
を行う時に、オーバーコートガラス膜を形成しない基板
部分をマスキングしておく必要があるが、このマスキン
グには耐熱テープが使用されている。耐熱テープはパタ
ーンに応じた大きさのものを基板の所定部分に目合せで
貼付している。しかし、これだと基板上の配線パターン
に対してテープの貼付精度が粗いため、オーバーコート
ガラス膜で細かなパターンを覆ったり、露出したりする
ことは難しい。
Further, in the above-mentioned dipping method, the viscosity of the applicable paste is about 4000 cps at the finest, and at such paste viscosity, since the viscosity is low, it is difficult to arbitrarily set the film thickness. is there. Further, when the dipping method is performed, it is necessary to mask the substrate portion on which the overcoat glass film is not formed, and a heat resistant tape is used for this masking. The heat-resistant tape having a size corresponding to the pattern is attached to a predetermined portion of the substrate by alignment. However, in this case, the tape sticking accuracy is low with respect to the wiring pattern on the substrate, so it is difficult to cover or expose the fine pattern with the overcoat glass film.

【0008】これに加えて、図12から分かるように、
耐熱テープ50を基板30の所定部分に貼付してオーバ
ーコートガラス膜41を形成した場合、基板30と耐熱
テープ50との境界42の膜厚が厚くなる。この状態で
耐熱テープ50を剥がすと、境界42の膜41が図13
に示すような厚膜形状になる。因みに、境界42の膜厚
寸法bは90μm程度である。このような厚膜は、以後
の工程でIC及びワイヤを保護するハードコートを塗布
する時に問題となる。
In addition to this, as can be seen from FIG.
When the heat resistant tape 50 is attached to a predetermined portion of the substrate 30 to form the overcoat glass film 41, the film thickness at the boundary 42 between the substrate 30 and the heat resistant tape 50 becomes thick. When the heat-resistant tape 50 is peeled off in this state, the film 41 at the boundary 42 is shown in FIG.
It becomes a thick film shape as shown in. Incidentally, the film thickness dimension b of the boundary 42 is about 90 μm. Such a thick film becomes a problem when a hard coat that protects the IC and the wire is applied in a subsequent process.

【0009】即ち、境界42のオーバーコートガラスの
膜厚が厚いと、図14のように、基板30上に設けたI
C60及びIC60と基板上の配線パターンとを接続す
るワイヤ61を保護するハードコート70が、オーバー
コートガラス膜41に被さらない場合がある。この場
合、ハードコート70で覆われない膜41の部分(境界
42)から腐食が生じ易くなる。又、図15のように、
ハードコート70が境界42を越えて基板30の頂部側
に大きく流れ、境界42に被さる部分が突起状になる場
合もある。この場合には、ハードコート70の突起状部
分によって印字用紙に傷が付き易くなる。
That is, when the film thickness of the overcoat glass at the boundary 42 is large, I provided on the substrate 30 as shown in FIG.
In some cases, the hard coat 70 that protects the wire 61 that connects the C60 and the IC 60 to the wiring pattern on the substrate does not cover the overcoat glass film 41. In this case, corrosion easily occurs from the portion of the film 41 (boundary 42) not covered with the hard coat 70. Also, as shown in FIG.
In some cases, the hard coat 70 largely flows over the boundary 42 toward the top side of the substrate 30, and the portion covering the boundary 42 has a projection shape. In this case, the protrusions of the hard coat 70 tend to scratch the printing paper.

【0010】なお、ハードコート70の理想形状を図1
6に示す。これによれば、オーバーコートガラス膜41
には耐熱テープを剥離した時の厚膜部分が存在せず、ハ
ードコート70が膜41の端部を覆っている。以上の問
題点に鑑み、本発明の目的は、 1)発熱抵抗体上のオーバーコートガラスの膜厚ムラを
低減すること、 2)オーバーコートガラス膜の端部(耐熱テープとの境
界)の膜厚ムラを低減すること、 3)任意のオーバーコートガラス膜厚を得ること、 4)細密な配線パターンでもマスキングを容易に行える
こと、 を実現する端面型サーマルヘッドの製造方法を提供する
ことにある。
The ideal shape of the hard coat 70 is shown in FIG.
6 shows. According to this, the overcoat glass film 41
There is no thick film portion when the heat resistant tape is peeled off, and the hard coat 70 covers the end portion of the film 41. In view of the above problems, an object of the present invention is to 1) reduce unevenness in film thickness of overcoat glass on a heating resistor, 2) film of an end of the overcoat glass film (a boundary with a heat-resistant tape). It is to provide a manufacturing method of an end face type thermal head that reduces unevenness in thickness, 3) obtain an arbitrary overcoat glass film thickness, 4) easily perform masking even with a fine wiring pattern. ..

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明の端面型サーマルヘッドの製造方法は、オーバーコー
トガラスのペースト中に、発熱抵抗体を設けた基板の発
熱抵抗体側を浸漬した後、ペースト中から基板を引き上
げ、基板を回転させる工程を有することを特徴とする。
The method for manufacturing an end surface type thermal head of the present invention which achieves the above-mentioned object, comprises immersing the heating resistor side of a substrate provided with a heating resistor in a paste of overcoat glass, The method is characterized by including the step of pulling up the substrate from the paste and rotating the substrate.

【0012】本発明の製造方法では、オーバーコートガ
ラスのペーストに基板を浸漬した後に基板を回転させる
ため、オーバーコートガラスの膜厚が均一且つ薄くなっ
て、膜厚ムラが殆ど生じなくなり、発熱抵抗体の部分に
よる膜厚の差異は極少になる。又、基板を回転させてオ
ーバーコートガラスの膜厚を均一化するため、高粘度の
ペーストを使用することができ、任意の膜厚のオーバー
コートガラス膜を形成できる。
In the manufacturing method of the present invention, the substrate is rotated after being immersed in the paste of the overcoat glass, so that the film thickness of the overcoat glass becomes uniform and thin, and the unevenness of the film thickness hardly occurs. The difference in the film thickness depending on the body part is minimized. Further, since the substrate is rotated to make the film thickness of the overcoat glass uniform, a highly viscous paste can be used and an overcoat glass film having an arbitrary film thickness can be formed.

【0013】更に、基板を浸漬する前に、オーバーコー
トガラス膜を形成しない基板部分に、樹脂を用いたスク
リーン印刷によりマスキングを施せば、マスキングの精
度が良くなり、オーバーコートガラス膜で細かな配線パ
ターンを覆ったり、露出したりできるようになる。本発
明の製造方法において、基板の回転速度は、200〜8
000rpm程度であれば、オーバーコートガラス膜を
均一化するには妥当である。又、マスキング材として使
用する樹脂は、耐熱性や耐薬品性に優れたものであれば
特定されず、ポリイミド、ビニル樹脂誘導体が例示され
る。
Further, before the substrate is dipped, if the masking is applied to the substrate portion where the overcoat glass film is not formed by screen printing using a resin, the masking accuracy is improved, and the overcoat glass film allows fine wiring. You will be able to cover and expose the pattern. In the manufacturing method of the present invention, the rotation speed of the substrate is 200 to 8
About 000 rpm is appropriate for uniformizing the overcoat glass film. The resin used as the masking material is not specified as long as it has excellent heat resistance and chemical resistance, and examples thereof include polyimide and vinyl resin derivatives.

【0014】なお、オーバーコートガラス膜を形成する
工程以外の工程(基板に発熱抵抗体を設ける、基板にI
Cを取付ける等)は、従来どおりに行えばよい。
Incidentally, steps other than the step of forming the overcoat glass film (providing a heating resistor on the substrate, I on the substrate)
C mounting etc.) may be performed in the conventional manner.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の端面型サーマルヘッドの製造
方法を実施例に基づいて説明する。まず、図1におい
て、端面基板1の頂部に発熱抵抗体2を設け、オーバー
コートガラス膜で覆わない基板1の部分に、前例のうち
任意の樹脂ペーストを用いたスクリーン印刷によってス
トリップ状のマスキング3を施す。なお、基板1の側面
は図7の(b)に示すような形状である。
EXAMPLES A method for manufacturing an end face type thermal head of the present invention will be described below based on examples. First, in FIG. 1, a heating resistor 2 is provided on the top of an end face substrate 1, and a strip-shaped masking 3 is formed on the portion of the substrate 1 not covered with an overcoat glass film by screen printing using an arbitrary resin paste of the previous example. Apply. The side surface of the substrate 1 has a shape as shown in FIG.

【0016】次に、図2において、適当な容器10に入
れたオーバーコートガラスのペースト11中に、基板1
を頂部から浸漬する。使用するペーストは、所望の膜厚
を得るために粘度を適切に調整したものである。浸漬
後、図3に示すように、ペースト11中から基板1を引
き上げる。この時点で、ペースト11中に浸漬した基板
1の部分には、ペースト11’が付着している。付着し
たペースト11’の膜厚は、前述したとおり発熱抵抗体
2の部分によって差異がある。ここで、例えば矢印方向
に2000rpm程度の速度で基板1を回転させる。こ
れにより、基板頂部のオーバーコートガラス膜厚が薄く
均一になる。
Next, referring to FIG. 2, the substrate 1 is placed in the paste 11 of the overcoat glass placed in a suitable container 10.
Dip from the top. The paste used has an appropriately adjusted viscosity in order to obtain a desired film thickness. After the immersion, as shown in FIG. 3, the substrate 1 is pulled up from the paste 11. At this point, the paste 11 ′ is attached to the portion of the substrate 1 dipped in the paste 11. The film thickness of the attached paste 11 'varies depending on the portion of the heating resistor 2 as described above. Here, for example, the substrate 1 is rotated at a speed of about 2000 rpm in the arrow direction. As a result, the film thickness of the overcoat glass on the top of the substrate becomes thin and uniform.

【0017】そして、基板1を乾燥させた後、マスキン
グ3を剥がして焼成することで、基板1の頂部に設けた
発熱抵抗体2を含む浸漬部分にオーバーコートガラス膜
12が形成される(図4参照)。勿論、マスキング3を
取り除いた部分3’には膜12は形成されない。上記の
ように基板を回転させることにより、オーバーコートガ
ラス膜が均一化されることを表2に示す。ここでは、2
種類の高粘度ペーストを使用し、表1と同様に基板の頂
部に設けた発熱抵抗体の3箇所におけるオーバーコート
ガラスの膜厚を示してある。
After the substrate 1 is dried, the masking 3 is peeled off and fired to form the overcoat glass film 12 on the dipping portion provided on the top of the substrate 1 and containing the heating resistor 2. 4). Of course, the film 12 is not formed on the portion 3 ′ where the masking 3 is removed. Table 2 shows that the overcoat glass film is made uniform by rotating the substrate as described above. Here, 2
As with Table 1, the thickness of the overcoat glass at three locations of the heating resistor provided on the top of the substrate is shown, using various types of high-viscosity paste.

【0018】[0018]

【表2】 [Table 2]

【0019】表2から理解されるように、膜厚ムラは殆
どなく、粘度の相違による膜厚ムラも生じない。又、図
6に示すように、基板1とマスキング3との境界13に
おけるオーバーコートガラス膜12の膜厚は、その寸法
aが30μm程度であり、従来(図13の寸法b:90
μm程度)よりも相当薄くなる。更に、ペーストの粘度
を調整することで任意の膜厚のオーバーコートガラス膜
が得られることを図5に示す。これによると、従来は精
精4000cpsのペーストを用いて20μm程度の膜
厚しか得られないが、本発明ではペースト粘度にほぼ比
例して厚膜が得られることが分かる。
As can be seen from Table 2, there is almost no film thickness unevenness, and film thickness unevenness due to the difference in viscosity does not occur. Further, as shown in FIG. 6, the thickness a of the overcoat glass film 12 at the boundary 13 between the substrate 1 and the masking 3 has a dimension a of about 30 μm, which is the conventional value (dimension b: 90 in FIG. 13).
It is considerably thinner than (μm). Further, FIG. 5 shows that an overcoat glass film having an arbitrary film thickness can be obtained by adjusting the viscosity of the paste. According to this, it can be seen that a film thickness of about 20 μm can be obtained by using a paste of 4000 cps at a high precision, but a thick film can be obtained in the present invention almost in proportion to the viscosity of the paste.

【0020】これに加えて、スクリーン印刷によって樹
脂ペーストのマスキングを施すため、非常に細かい配線
パターンでも容易にマスキングをすることができる。因
みに、従来のように耐熱テープで配線パターンをマスキ
ングした場合、耐熱テープの貼付精度に数百μm〜数m
m程度のズレがあるが、本発明では印刷ズレは100μ
m以下に収まり、マスキングの精度が高い。
In addition to this, since the resin paste is masked by screen printing, even a very fine wiring pattern can be easily masked. By the way, if the wiring pattern is masked with a heat-resistant tape as in the past, the accuracy of the heat-resistant tape attachment is several hundred μm to several m
Although there is a deviation of about m, the printing deviation is 100 μ in the present invention.
It is less than m and the masking accuracy is high.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の端面型サ
ーマルヘッドの製造方法は、オーバーコートガラスのペ
ースト中に基板を浸漬した後に基板を回転させるので、
下記の効果を奏する。 (1)発熱抵抗体上にその長手方向に対して均一厚さの
オーバーコートガラス膜が形成されるため、印字品位が
向上する。 (2)オーバーコートガラス膜の端部(マスキングとの
境界)の膜厚が薄くなる。 (3)高粘度のペーストを使用でき、任意の膜厚のオー
バーコートガラス膜が容易に得られる。
As described above, according to the method of manufacturing the end face type thermal head of the present invention, the substrate is rotated after being immersed in the paste of the overcoat glass.
It has the following effects. (1) Since the overcoat glass film having a uniform thickness is formed on the heating resistor in the longitudinal direction thereof, the printing quality is improved. (2) The film thickness at the end (boundary with the masking) of the overcoat glass film becomes thin. (3) A high-viscosity paste can be used, and an overcoated glass film having an arbitrary film thickness can be easily obtained.

【0022】更に、樹脂を用いたスクリーン印刷により
マスキングを施すと、次の効果も得られる。 (4)細密な配線パターンでも高精度なマスキングを行
うことができる。
Further, when masking is performed by screen printing using a resin, the following effects can be obtained. (4) High-precision masking can be performed even with a fine wiring pattern.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の製造方法において第1の工程(発熱抵
抗体及びマスキングの形成工程)図である。
FIG. 1 is a diagram showing a first step (step of forming a heating resistor and masking) in the manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明の製造方法において第2の工程(基板の
浸漬工程)図である。
FIG. 2 is a second process (substrate dipping process) diagram in the manufacturing method of the present invention.

【図3】本発明の製造方法において第3の工程(基板の
引き上げ・回転工程)図である。
FIG. 3 is a diagram showing a third step (substrate lifting / rotating step) in the manufacturing method of the present invention.

【図4】本発明の製造方法において第4の工程(基板の
乾燥・焼成工程)図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a fourth step (drying / baking step of the substrate) in the manufacturing method of the present invention.

【図5】ペースト粘度とオーバーコートガラス膜厚との
関係を、本発明と従来とについて示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between paste viscosity and overcoat glass film thickness in the present invention and the related art.

【図6】本発明の製造方法によって得られた基板の頂部
を示す一部省略側面図である。
FIG. 6 is a partially omitted side view showing the top of the substrate obtained by the manufacturing method of the present invention.

【図7】端面型サーマルヘッドの一般的な端面基板を示
す平面図と側面図である。
7A and 7B are a plan view and a side view showing a general end face substrate of an end face type thermal head.

【図8】従来の製造方法において第1の工程(基板の浸
漬前の工程)図である。
FIG. 8 is a diagram showing a first step (step before dipping the substrate) in the conventional manufacturing method.

【図9】従来の製造方法において第2の工程(基板の浸
漬中の工程)図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a second step (step during immersion of the substrate) in the conventional manufacturing method.

【図10】従来の製造方法において第3の工程(基板の
引き上げ中の工程)図である。
FIG. 10 is a diagram showing a third step (step during pulling up of the substrate) in the conventional manufacturing method.

【図11】従来の製造方法において第4の工程(基板の
乾燥中の工程)図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a fourth step (step during drying of the substrate) in the conventional manufacturing method.

【図12】従来の製造方法によって得られた基板の頂部
状態を示す一部省略側面図である。
FIG. 12 is a partially omitted side view showing a top state of a substrate obtained by a conventional manufacturing method.

【図13】従来の製造方法によって得られた基板の頂部
から耐熱テープを剥がした時の状態を示す一部省略側面
図である。
FIG. 13 is a partially omitted side view showing a state in which the heat-resistant tape is peeled off from the top of the substrate obtained by the conventional manufacturing method.

【図14】従来の製造方法によって得られた基板にハー
ドコートを施す場合の一形態を示す一部省略側面図であ
る。
FIG. 14 is a partially omitted side view showing an embodiment in which a hard coat is applied to a substrate obtained by a conventional manufacturing method.

【図15】従来の製造方法によって得られた基板にハー
ドコートを施す場合の別形態を示す一部省略側面図であ
る。
FIG. 15 is a partially omitted side view showing another embodiment when a hard coat is applied to a substrate obtained by a conventional manufacturing method.

【図16】従来の製造方法によって得られた基板にハー
ドコートを施す場合の理想形態を示す一部省略側面図で
ある。
FIG. 16 is a partially omitted side view showing an ideal form when a hard coat is applied to a substrate obtained by a conventional manufacturing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 端面基板 2 発熱抵抗体 3 マスキング 11 オーバーコートガラスのペースト 12 オーバーコートガラス膜 1 End face substrate 2 Heating resistor 3 Masking 11 Overcoat glass paste 12 Overcoat glass film

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】端面型サーマルヘッドの製造方法におい
て、オーバーコートガラスのペースト中に、発熱抵抗体
を設けた基板の発熱抵抗体側を浸漬した後、ペースト中
から基板を引き上げ、基板を回転させる工程を有するこ
とを特徴とする端面型サーマルヘッドの製造方法。
1. A method of manufacturing an end surface type thermal head, which comprises: immersing a heating resistor side of a substrate provided with a heating resistor in a paste of overcoat glass, then pulling up the substrate from the paste and rotating the substrate. A method for manufacturing an end-face type thermal head, comprising:
【請求項2】前記浸漬の前に、オーバーコートガラス膜
を形成しない基板部分に、樹脂を用いたスクリーン印刷
によりマスキングを施すことを特徴とする請求項1記載
の端面型サーマルヘッドの製造方法。
2. The method of manufacturing an end face type thermal head according to claim 1, wherein, before the dipping, masking is applied to the substrate portion where the overcoat glass film is not formed by screen printing using a resin.
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