JPH05109892A - Designing method of interconnection of integrated circuit - Google Patents

Designing method of interconnection of integrated circuit

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JPH05109892A
JPH05109892A JP3268043A JP26804391A JPH05109892A JP H05109892 A JPH05109892 A JP H05109892A JP 3268043 A JP3268043 A JP 3268043A JP 26804391 A JP26804391 A JP 26804391A JP H05109892 A JPH05109892 A JP H05109892A
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JP
Japan
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macro
wiring
interconnection
chip
executed
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Application number
JP3268043A
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Japanese (ja)
Inventor
Eri Hirokawa
恵理 廣川
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce a chip area, to perform a high-speed processing operation, to guaranteee a 100% interconnection, to save a memory space and to reuse the result of an interconnection passing over a macro by a method wherein a net which is passed over the macro is extracted at each macro on the basis of an approximate interconnection route and the interconnection passing over the macro is executed. CONSTITUTION:When a layout inside a macro D out of macros is changed in a chip which has been laid out, its interconnection is used as it is in a macro E because an interconnection passing over the macro has already been executed. The interconnection passing over the macro is executed only in a macro F which has been changed. At this time, the interconnection is executed by using an interconnection layer which has not been used when the layout inside the macro is designed. The difference from an original net list is processed with reference to a net which has been successful, and a net list between macros is found. An interconnection inside a channel is executed to a pin pair which has failed to pass over the macros by means of a layout on a chip level. Consequently, the processing time of the title method can be halved as compared with an inter-connection where the position of a macro has been fixed to the chip as a whole.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、集積回路の配線設計方
法に関し、特にチップのレイアウト設計において、マク
ロ上も配線領域として利用し、マクロ内の配線領域であ
るチャネル領域を減少し高密度なチップレイアウトを求
める配線処理法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring design method for an integrated circuit, and more particularly, in a chip layout design, it is also used as a wiring area on a macro to reduce a channel area which is a wiring area in the macro to achieve high density. The present invention relates to a wiring processing method for obtaining a chip layout.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来は、マクロ上通過配線を行う際に、
マクロの位置を固定した状態でチップ全面を対象とし、
図12に示すような処理フローに従って配線を行ってい
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, when performing a through wiring on a macro,
Targeting the entire chip surface with the macro position fixed,
Wiring was performed according to the processing flow as shown in FIG.

【0003】まず、フロアプラン56を行い、マクロ上
通過ネット抽出57により、ネットをチャネル間ネット
58とマクロ上通過可能ネット59に分類する。次に、
チャネル間ネットに関して概略配線60,詳細配線61
を行う。最後に、その詳細配線済みのチップに対してマ
クロ上通過可能ネットの配線62を行う。
First, the floor plan 56 is performed, and the nets on the macro passage 57 are classified into the inter-channel nets 58 and the macro passage nets 59. next,
For the inter-channel net, the rough wiring 60 and the detailed wiring 61
I do. Finally, the macro-passable net wiring 62 is performed on the finely-wired chip.

【0004】チップをレイアウトする場合、図13に示
すようにチップ全面を対象とし、マクロの位置を固定し
た状態で、マクロ上を通過不可能なマクロ、及びマクロ
内の配線禁止領域を回避するように配線していた。
When a chip is laid out, the entire surface of the chip is targeted as shown in FIG. 13, and the macro that cannot pass over the macro and the wiring prohibited area in the macro are avoided with the macro position fixed. Was wired to.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のマクロ
上通過配線法は、チップ全面を対象とし、マクロの位置
を固定した状態で配線を行っている。
In the above-mentioned conventional macro above-passage wiring method, wiring is performed with the position of the macro fixed while targeting the entire surface of the chip.

【0006】そのため、(1)マクロ上を通過不可能な
マクロが存在する場合、(2)マクロ内に配線禁止領域
が存在する場合、などに対して、それらの配線禁止領域
を回避するように配線しなければならない。従って、大
量のデータ量を一度に扱わなければならず、多くの処理
時間を要し、且つ100%配線が保証されないなどの問
題点がある。
Therefore, for (1) there is a macro that cannot pass over the macro, and (2) there is a wiring prohibited area in the macro, these wiring prohibited areas are avoided. I have to wire. Therefore, there is a problem that a large amount of data must be handled at one time, a lot of processing time is required, and 100% wiring cannot be guaranteed.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明による集積回路の
配線設計方法は、レイアウト設計において、回路を構成
するマクロの上を配線が通過することを考慮した概略配
線経路に基づき、各マクロ毎にそのマクロ上を通過する
概略配線経路の部分経路を抽出し、部分経路に対応する
詳細配線を、マクロ内のレイアウト設計時に用いていな
い配線層を主に使用したマクロ上通過配線によって実現
する。
According to the wiring design method for an integrated circuit of the present invention, a layout design is performed for each macro on the basis of a rough wiring path in consideration of a wiring passing over a macro forming a circuit. A partial route of the rough wiring route passing through the macro is extracted, and detailed wiring corresponding to the partial route is realized by the above-macro-passage wiring mainly using a wiring layer which is not used in layout design in the macro.

【0008】[0008]

【作用】マクロ毎に通過配線処理を行っているため、
(1)マクロ単位で処理するため、一度に大量のメモリ
スペースを必要としない、(2)1つのマクロに対し
て、高速な処理が可能であり、配線処理全体での高速化
が可能である、(3)チップ全面を対象にしマクロの位
置を固定した状態で配線するのに対し、配線時にマクロ
位置を固定する必要がないので100%配線を保証す
る、などの作用がある。
[Operation] Since the passing wiring process is performed for each macro,
(1) Since processing is performed in macro units, a large amount of memory space is not required at one time. (2) High-speed processing is possible for one macro, and overall wiring processing can be speeded up. (3) Wiring is performed with the macro position fixed for the entire surface of the chip, whereas there is no need to fix the macro position at the time of wiring, so 100% wiring is guaranteed.

【0009】[0009]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して、説明
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0010】図1は、本発明の一実施例を表した処理フ
ロー図である。まず、フロアプラン1を行い、次にマク
ロ上通過配線を考慮した概略配線処理により求めた経路
3に基づいて、各マクロ毎にそのマクロ上を通過する概
略配線経路の部分経路を抽出する。各マクロ毎に、マク
ロ上通過配線4により、部分経路に対応する詳細配線を
マクロ上を通過する配線を用いて行う。このとき、マク
ロ内のレイアウト設計時に用いていない配線層を主に使
用して行う。最後に、チップレベルのチャネル間配線5
を行い、レイアウト設計を終了する。
FIG. 1 is a processing flow chart showing an embodiment of the present invention. First, the floor plan 1 is performed, and then, on the basis of the route 3 obtained by the rough wiring process considering the above-macro wiring, the partial route of the rough wiring route passing through the macro is extracted for each macro. For each macro, the detailed wiring corresponding to the partial path is performed by the macro passing wiring 4 using the wiring passing on the macro. At this time, the wiring layer which is not used in the layout design in the macro is mainly used. Finally, chip level inter-channel wiring 5
Then, the layout design is finished.

【0011】図2は、本発明のチップモデルの図であ
る。マクロ6〜9のうち、マクロ6とマクロ9はマクロ
上を通過不可能なマクロである。配線層として、X方向
に第1/第3メタル層、Y方向にポリ層、第2/第4メ
タル層を用いる。マクロ内配線にはポリ層、第1/第2
メタル層(一部第3メタル層)を、マクロ間配線には第
1〜第4メタル層を使用する。マクロ上通過配線は、第
3/第4メタル層とする(場合に応じて第1/第2メタ
ル層も用いる)。
FIG. 2 is a diagram of the chip model of the present invention. Of the macros 6 to 9, macros 6 and 9 are macros that cannot pass over the macros. As the wiring layers, first / third metal layers are used in the X direction, poly layers, and second / fourth metal layers are used in the Y direction. Poly layer, 1st / 2nd for macro wiring
The metal layer (partly the third metal layer) is used, and the first to fourth metal layers are used for the inter-macro wiring. The on-macro pass wiring is the third / fourth metal layer (the first / second metal layer is also used depending on the case).

【0012】図3は、マクロ上通過配線部分の詳細な処
理フローである。まず前処理13によって、各マクロ上
を通過させるネットリスト14及びマクロ上通過ルータ
を制御する情報15を作成する。次に、マクロ上通過用
ネットリスト14に基づいて、各マクロ毎に、第3メタ
ル層,第4メタル層を主に用いてマクロ上通過配線16
を行う。このとき、マクロ上通過配線の結果(結線の成
功/失敗)を配線情報17として出力する。最後に、後
処理19で、マクロ上を通過したネットに関して、元の
ネットリストとの差分を処理し、マクロ間ネットリスト
20を求める。このネットリストに従ってチップレベル
のチャネル配線21が行われる。
FIG. 3 is a detailed processing flow of the macro pass wiring portion. First, preprocessing 13 creates a netlist 14 for passing each macro and information 15 for controlling the above-macro passing router. Next, on the basis of the on-macro passage netlist 14, for each macro, the third metal layer and the fourth metal layer are mainly used and the on-macro passage wiring 16 is used.
I do. At this time, the result (success / failure of connection) of the macro passing wiring is output as the wiring information 17. Finally, in post-processing 19, for the nets passing over the macro, the difference from the original net list is processed to obtain the inter-macro net list 20. Channel wiring 21 at the chip level is performed according to this netlist.

【0013】今、マクロ上通過配線を考慮した概略配線
経路22が図4のようになったものについて、レイアウ
トすることを考える。
Now, let us consider laying out a schematic wiring path 22 in which the above-macro wiring is taken into consideration as shown in FIG.

【0014】まず前処理としてこの経路情報から、各マ
クロを通過させるネットリストを抽出し、ピンペア集合
として表す。このネットリストに対応して各マクロの外
形上に仮説端子を図5のように設ける。仮説端子位置
は、デザインルール23に基づいて各配線層のグリッド
を考慮して決める。なお、仮説端子位置付近に同電位の
実外部端子が存在する場合には、それを利用することも
考える。また、マクロ上通過配線を行うために、各配線
層のグリッド間隔,配線及びスルーホールのコスト定義
なども出力する。
First, as preprocessing, a netlist through which each macro is passed is extracted from this route information and represented as a pin pair set. Hypothesis terminals are provided on the outer shape of each macro as shown in FIG. 5 corresponding to this netlist. The hypothetical terminal position is determined in consideration of the grid of each wiring layer based on the design rule 23. If there is a real external terminal with the same potential near the hypothetical terminal position, it may be used. In addition, in order to perform on-macro pass wiring, grid spacing of each wiring layer, cost definition of wiring and through holes, and the like are also output.

【0015】次に、図6に示すように、マクロ上通過用
ネットリスト及びマクロ上通過ルータを制御する情報に
基づいて、第3メタル層、第4メタル層を主に用いてマ
クロ上を配線する。前処理時に実外部端子が選択された
ときには、それにつながるマクロ内配線を等電位追跡に
よって求め、それらの配線全体が端子となる。このとき
には、実外部端子は通常第1/第2メタルであるので、
第1〜第4メタルを用いてマクロ上通過配線を行う。ま
た、各ピンペアに対してマクロ上の通過配線の成功/失
敗を配線情報として出力する。
Next, as shown in FIG. 6, based on the information for controlling the macro top passage netlist and the macro top passage router, the third metal layer and the fourth metal layer are mainly used for wiring on the macro. To do. When an actual external terminal is selected during preprocessing, the wiring in the macro connected to it is determined by equipotential tracing, and the entire wiring becomes the terminal. At this time, since the actual external terminal is usually the first / second metal,
The through wiring on the macro is performed using the first to fourth metals. Also, the success / failure of the passing wiring on the macro is output to each pin pair as wiring information.

【0016】最後に、マクロ上通過配線に成功した各ピ
ンペアに対して、仮説端子を実端子に変換し、マクロ間
ネットリストを求める。元のネットを{s,t}、経路
を(s,α,β,t)(α−β間をマクロ上通過配線)
とすると、仮説端子α,βをそれぞれ実端子a,bに変
更し、マクロ上通過配線部分との差分を求め、ネットリ
ストを{s,a},{b,t}に変換する。また、マク
ロ上通過に失敗したピンペアに対しては、変換は行わ
ず、図7のように次のチップレベルでのレイアウトでチ
ャネル内配線が行われる。
Finally, the hypothetical terminals are converted into real terminals for each pin pair for which the above-macro pass wiring is successful, and the inter-macro netlist is obtained. The original net is {s, t}, the route is (s, α, β, t) (macro pass wiring between α and β)
Then, the hypothetical terminals α and β are changed to real terminals a and b, respectively, the difference from the macro pass wiring portion is obtained, and the netlist is converted into {s, a}, {b, t}. Further, conversion is not performed for the pin pair that has failed to pass on the macro, and in-channel wiring is performed in the layout at the next chip level as shown in FIG.

【0017】以上のようにして、各マクロに対するマク
ロ上通過配線を行うことが可能である。従来のチップ全
体の一括して処理するのではなく、各マクロ単位でマク
ロ上通過配線処理を行っているため、一度に扱わなけれ
ばならないデータ量は1つのマクロ内のレイアウト結果
に基づく情報に限られる。従って、従来法に比べ、少な
いメモリスペースで処理可能である。
As described above, it is possible to perform the above-macro passage wiring for each macro. Since the over-macro wiring processing is performed for each macro unit instead of the conventional batch processing of the entire chip, the amount of data that must be handled at one time is limited to the information based on the layout result in one macro. Be done. Therefore, it is possible to perform processing with a smaller memory space as compared with the conventional method.

【0018】次に実施例2について図面を参照して説明
する。
Next, a second embodiment will be described with reference to the drawings.

【0019】図8に示す3つのマクロから成るチップに
ついて考える。
Consider the chip of three macros shown in FIG.

【0020】従来のようなマクロ上通過配線を行わない
場合、図8のように横方向には4トラック(左側チャネ
ルに2トラック、右側チャネルに2トラック)、縦方向
には3トラック(上側チャネル2トラック,下側チャネ
ルに1トラック)必要である。本発明のマクロ上通過配
線法を用いることにより、全てのマクロ上通過配線が成
功したとすると、図9のようにそれぞれ0トラックで配
線が可能となる。
When the conventional macro through wiring is not performed, as shown in FIG. 8, there are 4 tracks in the horizontal direction (2 tracks for the left channel and 2 tracks for the right channel) and 3 tracks in the vertical direction (upper channel). 2 tracks, 1 track for the lower channel). If all the above-macro passing wirings are successful by using the above-mentioned macro above-passing wiring method, wiring can be performed with 0 tracks as shown in FIG.

【0021】マクロ数16(マクロ上通過可能なマクロ
は10個)、ネット数2362のデータに対して、マク
ロ上通過配線を行った結果、マクロ上通過配線を行わ
ず、マクロ内3.5層、マクロ間4層配線のレイアウト
結果と比べ、配線領域の面積が約18%減少した。
[0021] As a result of performing the above-macro passage wiring for the data of the number of macros 16 (10 macros that can pass on the macro) and the number of nets 2362, the above-mentioned macro upper passage wiring is not performed, and the 3.5 layers The area of the wiring region is reduced by about 18% as compared with the layout result of the four-layer wiring between macros.

【0022】このように本発明のマクロ上通過多層配線
法を用いることによって、チップ面積を大幅に減少させ
ることが可能である。
As described above, the chip area can be greatly reduced by using the above-macro pass multilayer wiring method of the present invention.

【0023】本発明の実施例3について、図面を参照し
て説明する。
A third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0024】図7のように、レイアウトされたチップに
おいて、マクロDのマクロ内のレイアウトが変更した場
合を考える。マクロEは、既にマクロ上通過配線が行わ
れているので、その配線結果をそのまま用いる。変更さ
れたマクロFのみ、図10のようにマクロ上通過配線を
行う。成功したネットに対して、元のネットリストとの
差分を処理し、マクロ間ネットリストを求める。マクロ
上通過に失敗したピンペアは、図11のように次にチッ
プレベルでのレイアウトでチャネル内配線が行われる。
Consider a case where the layout in the macro of the macro D is changed in the laid-out chip as shown in FIG. Since the macro E has already been wired on the macro, the wiring result is used as it is. Only the changed macro F is routed on the macro as shown in FIG. The difference between the successful net and the original netlist is processed to obtain the inter-macro netlist. For the pin pair that has failed to pass on the macro, in-channel wiring is performed next with a layout at the chip level as shown in FIG.

【0025】このように、変更したいマクロのみを変更
し、変更しないマクロの配線情報を再利用することによ
って、チップレベルでのレイアウト設計が可能である。
As described above, by changing only the macro to be changed and reusing the wiring information of the macro that is not changed, the layout design at the chip level is possible.

【0026】マクロ上を通過可能な2つのマクロに対し
て、1つのマクロのみを変更すればよい。従って、チッ
プ全面を対象とし、マクロの位置を固定した状態で配線
する方法に比べ、1/2の処理時間で配線が可能であ
る。
For two macros that can pass over the macro, only one macro needs to be changed. Therefore, wiring can be performed in half the processing time as compared with the method of wiring the entire surface of the chip with the macro position fixed.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、マクロ上
通過配線を行う場合、チップ全面を対象にしマクロの位
置を固定した状態で配線するのに対し、マクロ毎に通過
配線を行っているため、 (1)1つのマクロに対する処理が高速であり、配線処
理全体での高速化が可能である。
As described above, according to the present invention, when the macro pass wiring is performed, the wiring is performed for each macro while the macro position is fixed while the macro position is fixed. Therefore, (1) the processing for one macro is fast, and the overall wiring processing can be speeded up.

【0028】(2)配線時にマクロ位置を固定する必要
がなく、100%配線を保証する。
(2) It is not necessary to fix the macro position at the time of wiring, and 100% wiring is guaranteed.

【0029】(3)マクロ単位で処理するため、大量の
メモリスペースを必要としない。
(3) Since a macro unit is used for processing, a large amount of memory space is not required.

【0030】(4)マクロ毎に通過配線パターンを保持
しているため、マクロ上通過配線結果の再利用が可能で
ある。などの効果があり、マクロ上を通過しない配線法
に比べチップ面積が大幅に減少するという効果を有す
る。
(4) Since the passing wiring pattern is held for each macro, the result of passing wiring on the macro can be reused. The chip area is significantly reduced as compared with the wiring method that does not pass over the macro.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を表した処理フロー図。FIG. 1 is a processing flow chart showing an embodiment of the present invention.

【図2】一実施例のチップモデルの図。FIG. 2 is a diagram of a chip model of one embodiment.

【図3】一実施例のマクロ上通過配線の処理フロー図。FIG. 3 is a processing flow diagram of the above-macro passing wiring according to the embodiment.

【図4】一実施例のマクロ上通過配線を考慮した概略配
線の結果の図。
FIG. 4 is a diagram showing a result of schematic wiring in consideration of an on-macro passage wiring according to an embodiment.

【図5】一実施例のマクロ上通過用ネットリストの図。FIG. 5 is a diagram of an on-macro passage netlist according to an embodiment.

【図6】一実施例のマクロ上通過配線結果の図。FIG. 6 is a diagram showing a result of the on-macro passing wiring according to the embodiment.

【図7】一実施例のマクロ間ネットリストの図。FIG. 7 is a diagram of an inter-macro netlist according to an embodiment.

【図8】従来のチップレイアウトの図。FIG. 8 is a diagram of a conventional chip layout.

【図9】本発明の実施例2によるチップレイアウトの
図。
FIG. 9 is a diagram of a chip layout according to the second embodiment of the present invention.

【図10】実施例3のマクロ上通過配線結果の図。FIG. 10 is a diagram showing a result of the on-macro passage wiring according to the third embodiment.

【図11】実施例3のマクロ間ネットリストの図。FIG. 11 is a diagram of an inter-macro netlist according to the third embodiment.

【図12】従来技術における処理フローの図。FIG. 12 is a diagram of a processing flow in the related art.

【図13】従来技術におけるチップレイアウトの図。FIG. 13 is a diagram of a chip layout in the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フロアプラン 2 概略配線 3 経路指定 4 マクロ上通過配線 5 チップレイアウト 6,7,8,9 マクロ 10,11,12 セル列 13 前処理 14 マクロ上通過用ネットリスト 15 実行指定情報 16 マクロ上通過配線 17,18 配線情報 19 後処理 20 マクロ間ネットリスト 21 チップレイアウト 22 経路指定 23 デザインルール 24,34,50,63 チップ 25,35,51,64 マクロA 26,36,52,65 マクロB 27,37,53,66 マクロC 28,30,32,38,67 マクロD 29,31,33,39,49,55,68 マクロ
E 48,54 マクロF 40,44 チップ 41,42,43,45,46,47 マクロ 56 フロアプラン 57 マクロ上通過ネット抽出 58 チャネル間ネット 59 マクロ上通過可能ネット 60 概略配線 61 詳細配線 62 チップレイアウト
1 Floor Plan 2 General Wiring 3 Routing 4 Macro Passing Wiring 5 Chip Layout 6, 7, 8, 9 Macro 10, 11, 12 Cell Row 13 Pre-Processing 14 Macro Passing Netlist 15 Execution Designating Information 16 Macro Passing Wiring 17,18 Wiring information 19 Post-processing 20 Net list between macros 21 Chip layout 22 Routing 23 Design rules 24, 34, 50, 63 Chips 25, 35, 51, 64 Macro A 26, 36, 52, 65 Macro B 27 , 37, 53, 66 Macro C 28, 30, 32, 38, 67 Macro D 29, 31, 33, 39, 49, 55, 68 Macro E 48, 54 Macro F 40, 44 Chip 41, 42, 43, 45 , 46, 47 Macro 56 Floor plan 57 Macro passing net extraction 58 Inter-channel net 59 Macro-passable net 60 General wiring 61 Detailed wiring 62 Chip layout

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レイアウト設計において、回路を構成す
るマクロの上を配線が通過することを考慮した概略配線
経路に基づき、各マクロ毎にそのマクロ上を通過する概
略配線経路の部分経路を抽出し、部分経路に対応する詳
細配線を、マクロ内のレイアウト設計時に用いていない
配線層を主に使用したマクロ上通過配線によって実現す
ることを特徴とする集積回路の配線方法。
1. In a layout design, a partial route of a rough wiring route that passes through the macro is extracted for each macro based on a rough wiring route that takes into consideration that the wiring passes over a macro that constitutes a circuit. A wiring method for an integrated circuit, characterized in that detailed wiring corresponding to a partial path is realized by an on-macro passing wiring which mainly uses a wiring layer which is not used during layout design in the macro.
JP3268043A 1991-10-17 1991-10-17 Designing method of interconnection of integrated circuit Pending JPH05109892A (en)

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JP (1) JPH05109892A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07142581A (en) * 1993-11-17 1995-06-02 Nec Corp Method for laying out semiconductor integrated circuit
US6226775B1 (en) 1997-08-25 2001-05-01 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit designing method of an interconnection thereof and recording medium in which the method is recorded for empty area

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