JPH04186744A - Semiconductor integrated circuit and its testing method - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and its testing method

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JPH04186744A
JPH04186744A JP2315610A JP31561090A JPH04186744A JP H04186744 A JPH04186744 A JP H04186744A JP 2315610 A JP2315610 A JP 2315610A JP 31561090 A JP31561090 A JP 31561090A JP H04186744 A JPH04186744 A JP H04186744A
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Japan
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semiconductor integrated
integrated circuit
output information
output
circuit device
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JP2315610A
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Japanese (ja)
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Hideo Kikuchi
菊池 秀夫
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable a test processing function of an LSI to be improved by performing detection processing of an internal failure of the LSI based on a test clock and then taking out output information under failure operation conditions of a specific gate cell while considering selection method of a row-reading line. CONSTITUTION:Selection processing of a gate cell GCi which is aligned in each column direction R is first performed based on a test clock CLK 1. Then, an output processing of a first output information DGli of the gate cell GCi which is aligned in a row direction C is performed based on the selection processing. After that, a collective failure detection processing of the gate cell GCi of a semiconductor integrated circuit device LSIA incorporating a test circuit 21 is performed based on the output processing. In this case, a first output information DGli based on the test clock CLK1 is output from a data latch equivalent circuit 21D to an LSI testing device 23. Further, individual failure detection processing of the gate cell GCi which is aligned in the row direction C is performed based on the collective failure detection processing. Then, semiconductor integrated circuit devices LSIB-LSIX are tested based on a second output information D which depends on a system clock CLK 2 of a specific gate cell GC10 which is obtained by the individual internal failure detection processing.

Description

【発明の詳細な説明】 〔目 次〕 概要 産業上の利用分野 従来の技術(第10図) 発明が解決しようとする課題(第11図)課題を解決す
るための手段(第1.第2図)作用 実施例 (i)第1の実施例の説明(第3図〜第7図)(ii)
第2の実施例の説明(第8図)(ij)第3の実施例の
説明(第9図)発明の効果 〔概 要〕 半導体集積回路装置、特にゲートアレイやスタンダード
セル方式の半導体集積回路(以下LSIという)に試験
回路を内蔵した装置の試験機能の改善に関し、 該LSIの内部故障を試験クロックに基づいて検出処理
をするのみならず、列読出し線の選択方法を工夫して、
特定のゲートセルの故障動作条件下の出力情報を取り出
し、LSI試験処理機能の向上を図ることを目的とし、 その装置は、行方向及び列方向に延在するマトリクス状
に配置された複数のゲートセルと、前記複数のゲートセ
ルを第1の基準クロックに基づいて試験をする試験回路
と、前記複数のゲートセルと試験回路とを接続する行選
択線及び列読出し線とが具備され、前記試験回路が前記
行方向に並ぶゲートセルを選択する行選択手段と、前記
列方向に並ぶゲートセルを選択する列選択読出し出力手
段から成り、少なくとも、前記列選択読出し出力手段が
前記第1の基準クロックに同期する所望ゲートセルの第
1の出力情報及び前記第1の基準クロックに非同期、か
つ、前記複数のゲートセルを動作させる第2の基準クロ
ックに依存する所望ゲートセルの第2の出力情報を出力
することを含み構成し、 前記装置において、前記列選択読出し出力手段が前記列
読出し線の第1の出力情報を加算するデータ加算圧縮手
段と、前記加算された第1の出力情報を出力するデータ
出力手段から成り、前記所望のゲートセルの第1の出力
情報又は第2の出力情報がデータ出力手段から出力され
ることを含み構成し、 前記装置において、前記第1の出力情報と前記第2の出
力情報とがモード設定信号に基づいて出力選択されるこ
とを含み構成する。
[Detailed description of the invention] [Table of contents] Overview Industrial field of application Prior art (Figure 10) Problem to be solved by the invention (Figure 11) Means for solving the problem (Parts 1 and 2 Figure) Example of operation (i) Description of the first embodiment (Figures 3 to 7) (ii)
Explanation of the second embodiment (FIG. 8) (ij) Explanation of the third embodiment (FIG. 9) Effects of the invention [Summary] Semiconductor integrated circuit devices, especially gate array and standard cell type semiconductor integrated circuits Regarding the improvement of the test function of a device with a built-in test circuit (hereinafter referred to as LSI), we not only detect internal failures of the LSI based on the test clock, but also devise a method for selecting column readout lines.
The purpose of this device is to extract output information under failure operating conditions of specific gate cells and improve LSI test processing functions. , a test circuit that tests the plurality of gate cells based on a first reference clock, and a row selection line and a column readout line that connect the plurality of gate cells and the test circuit; a row selection means for selecting gate cells arranged in the column direction; and a column selection readout output means for selecting the gate cells arranged in the column direction; outputting second output information of a desired gate cell that is asynchronous to the first output information and the first reference clock and that is dependent on a second reference clock that operates the plurality of gate cells; In the apparatus, the column selection readout output means includes data addition and compression means for adding first output information of the column readout lines, and data output means for outputting the added first output information, The first output information or the second output information of the gate cell is output from the data output means, and in the device, the first output information and the second output information are converted into a mode setting signal. The output is selected based on the configuration.

[産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路装置及びその試験方法に関す
るものであり、更に詳しく言えば、ゲートアレイやスタ
ンダードセル方式の半導体集積回路(以下LSIという
)に試験回路を内蔵した装置の試験機能の改善及びその
試験方法に関するものである。
[Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a testing method thereof. More specifically, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a test method thereof. More specifically, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a test method thereof. This article relates to improving the test function of equipment and its test method.

近年、LSI装置の高密度・高集積化に伴いその動作機
能等の試験が益々困難になる傾向にある。
In recent years, with the increase in density and integration of LSI devices, it has become increasingly difficult to test their operational functions.

そこで試験回路を内蔵したLSI装置が開発されている
Therefore, LSI devices with built-in test circuits have been developed.

これによれば、ゲートアレイ等のLSIの通常動作を一
時中断し、試験回路の列読出し線や行選択線を活性化さ
せて所望のゲートセルの出力情報を検出し、その内部故
障の判定をしている。
According to this, normal operation of an LSI such as a gate array is temporarily suspended, column readout lines and row selection lines of a test circuit are activated, output information of a desired gate cell is detected, and internal failure is determined. ing.

しかし、当該ゲートアレイ等のLSIの内部故障の判定
をすることができても、該LSIがプリント基板に実装
された他のゲートアレイ等のLSIに与える動作を観測
することができない。
However, even if it is possible to determine the internal failure of an LSI such as a gate array, it is not possible to observe the operation of the LSI on other LSIs such as gate arrays mounted on a printed circuit board.

そこで、ゲートアレイ等のLSIの通常動作を一時中断
して、その内部故障を一斉に読み出す処理のみに依存す
ることなく、試験回路の列読出し線の選択方法を工夫し
て、該LSI内部の特定のゲートセルの通常動作条件下
の出力情報を常時取り出して、それが他のゲートアレイ
等のLSIに与える影響を試験することができる装置と
方法が望まれている。
Therefore, instead of temporarily suspending the normal operation of an LSI such as a gate array and relying only on the process of reading out internal failures all at once, we devised a method for selecting the column readout lines of the test circuit to identify the internal failures of the LSI. What is desired is an apparatus and method that can constantly extract output information of a gate cell under normal operating conditions and test the influence of this information on other LSIs such as gate arrays.

〔従来の技術] 第10.11図は、従来例に係る説明図である。[Conventional technology] FIG. 10.11 is an explanatory diagram of a conventional example.

第10図は、従来例に係る半導体集積回路装置を説明す
る図を示している。
FIG. 10 shows a diagram illustrating a semiconductor integrated circuit device according to a conventional example.

図において、例えば、ゲートアレイやスタンダードセル
方式の半導体集積回路装置(特開昭61−42934 
)は、LSIチップ2に複数のゲートセルGCとその試
験回路1から構成されている。
In the figure, for example, a gate array or standard cell type semiconductor integrated circuit device (Japanese Patent Laid-Open No. 61-42934
) is composed of an LSI chip 2, a plurality of gate cells GC, and a test circuit 1 thereof.

試験回路1は、行方向Rに並ぶゲートセルGCiを選択
する行選択デコーダIAと、列方向Cに並ぶゲートセル
GCiの出力情報DGiを行選択クロ・7り信号SRに
基づいて読出し制御をするトランスファゲートTGと、
該出力情報DGiを加算するデータ圧縮用加算器IBと
、加算された出力情報DGiを順次出力するシフトレジ
スタICと、複数のゲートセルGCnと試験回路1とを
接続する行選択線LR,列読出し線LCから成る。
The test circuit 1 includes a row selection decoder IA that selects gate cells GCi arranged in the row direction R, and a transfer gate that controls readout of output information DGi of the gate cells GCi arranged in the column direction C based on a row selection black/7 signal SR. T.G. and
A data compression adder IB that adds the output information DGi, a shift register IC that sequentially outputs the added output information DGi, a row selection line LR and a column readout line that connect the plurality of gate cells GCn and the test circuit 1. Consists of LC.

当該試験回路1の機能は、ゲートアレイ等のLSIチッ
プ2を通常動作させたまま、まず、行選択線LRに接続
された行方向Rに並ぶゲートセルGC4が行選択デコー
ダIAにより選択されると、列方向Cに並ぶゲートセル
GCiの出力情報DGiが行選択クロック信号SRに基
づいてトランスファゲートTGにより読み出し制御され
る。この際に、列方向Cに並ぶ全ゲートセルGCiの出
力情報DGiがデータ圧縮用加算器IBにより加算され
る。また、加算された第1の出力情報DG1iは列選択
クロック信号SCを入力することにより、シフトレジス
タICから順次出力される。この出力情報DGiが試験
装置等により解読され、例えば、複数のゲートセルGC
の中で故障を発生しているゲートセルGCiを特定する
試験解析が行われる。
The function of the test circuit 1 is as follows: When the gate cells GC4 connected to the row selection line LR and arranged in the row direction R are selected by the row selection decoder IA while the LSI chip 2 such as the gate array is operating normally. The output information DGi of the gate cells GCi arranged in the column direction C is read out and controlled by the transfer gate TG based on the row selection clock signal SR. At this time, the output information DGi of all the gate cells GCi arranged in the column direction C are added by the data compression adder IB. Further, the added first output information DG1i is sequentially output from the shift register IC by inputting the column selection clock signal SC. This output information DGi is decoded by a test device or the like, and, for example, a plurality of gate cells GC
A test analysis is performed to identify the gate cell GCi in which a failure has occurred.

これにより、当3iLSIチップ2の内部故障の検出処
理を行うことができる。
Thereby, it is possible to detect an internal failure of the 3iLSI chip 2.

〔発明が解決しようとする課題] ところで、従来例によればゲートアレイ等のLSIチッ
プ2を通常動作させたまま、試験回路1の列読出し線L
Cや行選択線LRを活性化させて列方向Cの全ゲートセ
ルGC2の出力情報DGiが読み出され、その内部故障
が検出処理されている。
[Problems to be Solved by the Invention] According to the conventional example, the column readout line L of the test circuit 1 is connected while the LSI chip 2 such as a gate array is operating normally.
The output information DGi of all the gate cells GC2 in the column direction C is read out by activating C and the row selection line LR, and the internal failure is detected and processed.

このため、当該LSIチップ2の内部故障の検出判定を
行うことができるが、第10図に示したように試験回路
1を内蔵するLSIチップ2がプリント基板に実装され
た際に、当該内部故障を起こしたゲートセルGCiの出
力情報DGiが他のLSIチップ3にどのような影響を
与えているか否かを観測することができない。
Therefore, it is possible to detect and judge the internal failure of the LSI chip 2, but when the LSI chip 2 containing the test circuit 1 is mounted on a printed circuit board as shown in FIG. It is not possible to observe what kind of influence the output information DGi of the gate cell GCi that caused the problem has on other LSI chips 3.

これは、第11図の従来例に係る問題点を説明するLS
I実装時の構成図において、試験回路1を内蔵するLS
Iチップ2と他のLSIチップ3から成るデータ処理シ
ステムの故障解析処理を行う場合、該LSIチップ2の
試験回路1に接続された試験装置4により観測されるの
は、選択クロ。
This is an LS that explains the problems related to the conventional example shown in FIG.
In the configuration diagram when I is installed, the LS with built-in test circuit 1
When performing a failure analysis process on a data processing system consisting of an I chip 2 and another LSI chip 3, the selected clock is observed by the test device 4 connected to the test circuit 1 of the LSI chip 2.

り信号SC2行選択クロック信号SR等の試験クロンク
により変調を受けた出力情報DGiとなるからである。
This is because the output information DGi is modulated by a test clock such as the second row selection clock signal SR.

すなわち、トランスファゲートTGにより読み出された
出力情報DGiが試験クロックに基づいて一端ラッチ処
理され、その後、シフトレジスタICに列方向Cの全ゲ
ートセルGCiのデータが1ビツトづつ読み出されるた
めである。
That is, the output information DGi read by the transfer gate TG is latched at one end based on the test clock, and then the data of all the gate cells GCi in the column direction C are read out one bit at a time to the shift register IC.

このことで、システム動作中のLSIチップ2内に故障
等を起こした1つのゲートセルGC4を定常的にモニタ
しなければならないという要求があった場合、該LSI
チップ2の内部状態が変わる毎に、試験クロックを多数
印加して出力情報DGiを読み出さなければならないこ
ととなる。
As a result, if there is a request to regularly monitor one gate cell GC4 that has caused a failure etc. in the LSI chip 2 during system operation, the LSI chip 2
Every time the internal state of the chip 2 changes, it is necessary to apply a large number of test clocks and read out the output information DGi.

これにより、当該LSIの通常動作が中断されるために
著しく試験時間を浪費したり、また、該通常動作を適切
なタイミングで中断させることが困難なために、その内
部故障を起こしたゲートセルGCiの出力情報DGiが
他のLSIチップ3にどのような影響をもたらしている
か否かを試験することが困難となるという問題がある。
As a result, the normal operation of the LSI is interrupted, resulting in a significant waste of test time, and because it is difficult to interrupt the normal operation at an appropriate timing, the gate cell GCi that has caused an internal failure may be There is a problem in that it is difficult to test what kind of influence the output information DGi has on other LSI chips 3.

本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創作されたもの
であり、LSIの内部故障を試験クロックに基づいて検
出処理をするのみならず、列読出し線の選択方法を工夫
して、特定のゲートセルの故障動作条件下の出力情報を
取り出し、さらには、その出力情報を利用してLSI試
験処理機能の向上を図ることが可能となる半導体集積回
路装置及びその試験方法の提供を目的とする。
The present invention was created in view of the problems of the prior art, and not only detects internal failures in LSIs based on test clocks, but also devises a column readout line selection method to detect specific failures. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device and a test method thereof, which make it possible to extract output information under a faulty operating condition of a gate cell and use the output information to improve LSI test processing functions.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

第1図は、本発明に係る半導体集積回路装置の原理図で
あり、第2図(a)、  (b)は、本発明に係る半導
体集積回路装置の試験方法の原理図をそれぞれ示してい
る。
FIG. 1 is a diagram of the principle of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, and FIGS. 2(a) and (b) are diagrams of the principle of a test method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, respectively. .

本発明の半導体集積回路装置は、第1図に示すように、
行方向R及び列方向Cに延在するマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートセルCCn、n=1.2.3・・・l
と、前記複数のゲートセルGCnを第1の基準クロック
CLKIに基づいて試験をする試験手段11と、前記複
数のゲートセルGCnと試験手段11とを接続する行選
択線LR及び列読出し線LCとが具備され、前記試験手
段11が前記行方向Rに並ぶゲートセルGC4を選択す
る行選択手段11Aと、前記列方向Cに並ぶゲートセル
GC1を選択する列選択読出し出力手段11Bから成り
、少なくとも、前記列選択読出し出力手段11Bが前記
第1の基準クロックCLKIに同期する所望ゲートセル
GCiの第1の出力情報DG1i及び前記第1の基準ク
ロックCLKIに非同期、かつ、前記複数のゲートセル
GCnを動作させる第2の基準クロックCLK2に依存
する所望ゲートセルGCiの第2の出力情報DG2iを
出力することを特徴とし、前記装置において、前記列選
択読出し出力手段11Bが前記列読出し線LCの第1の
出力情報DG、11を加算するデータ加算圧縮手段Bl
と、前記加算された第1の出力情報DG1tを出力する
データ出力手段B2から成り、前記所望のゲートセルG
C4の第1の出力情報DG1i又は第2の出力情報DG
2iがデータ出力手段B2がら出力されることを特徴と
し、 前記装置において、前記第1の出力情報り、G1iと前
記第2の出力情報DG2i とがモード設定信号Smに
基づいて出力選択されることを特徴とし、また、前記モ
ード設定信号(Sm)は前記データ出力手段(B2)の
入力部又は出力部に供給されることを特徴とする。
As shown in FIG. 1, the semiconductor integrated circuit device of the present invention has the following features:
A plurality of gate cells CCn arranged in a matrix extending in the row direction R and the column direction C, n=1.2.3...l
and a test means 11 that tests the plurality of gate cells GCn based on a first reference clock CLKI, and a row selection line LR and a column readout line LC that connect the plurality of gate cells GCn and the test means 11. The test means 11 includes a row selection means 11A for selecting gate cells GC4 arranged in the row direction R, and a column selection readout output means 11B for selecting gate cells GC1 arranged in the column direction C, and at least the column selection readout The output means 11B includes first output information DG1i of a desired gate cell GCi that is synchronized with the first reference clock CLKI and a second reference clock that is asynchronous with the first reference clock CLKI and that operates the plurality of gate cells GCn. In the device, the column selection readout output means 11B adds the first output information DG, 11 of the column readout line LC. Data addition compression means Bl
and data output means B2 for outputting the added first output information DG1t, and the data output means B2 outputs the added first output information DG1t, and
First output information DG1i or second output information DG of C4
2i is output from the data output means B2, and in the apparatus, the first output information G1i and the second output information DG2i are selected for output based on the mode setting signal Sm. Further, the mode setting signal (Sm) is supplied to an input section or an output section of the data output means (B2).

また、本発明の半導体集積回路装置の試験方法は、第2
図(a)、  (b)に示すように、少なくとも、試験
手段11を内蔵する半導体集積回路装置12の特定のゲ
ートセルGCiの第2の出力情報DG2iに基づいて信
号処理をする他の半導体集積回路装置13の試験方法で
あって、前記特定のゲートセルcciの第2の出力情報
DG2iの監視処理をしながら前記他の半導体集積回路
装置の試験をすることを特徴とし、 すなわち、第2図(a)に示すような前記試験手段11
を内蔵する半導体集積回路装置12と他の半導体集積回
路装置13とが電気的に接続された半導体集積回路の試
験方法であって、同図(b)フローチャートに示すよう
に、まず、ステップP1で第1の基準クロックCLKI
に基づいて前記行方向Rに並ぶゲートセルC,Ciの選
択処理をし、次に、ステップP2で前記選択処理に基づ
いて前記列方向Cに並ぶゲートセルGCiの第1の出力
情報DG1iの選択出力処理をし、その後、ステップP
3で前記選択出力処理に基づいて試験手段11を内蔵す
る半導体集積回路装置12の内部故障検出処理をし、さ
らに、ステップP4で前記内部故障検出処理によって得
られた特定のゲートセルGCiの第2の基準クロックC
LK2に依存する第2の出力情報DG2iに基づいて前
記半導体集積回路装置12.13の試験をすることを特
徴とし、上記目的を達成する。
Further, the method for testing a semiconductor integrated circuit device of the present invention includes a second method for testing a semiconductor integrated circuit device.
As shown in FIGS. (a) and (b), at least another semiconductor integrated circuit performs signal processing based on the second output information DG2i of a specific gate cell GCi of the semiconductor integrated circuit device 12 incorporating the test means 11. A testing method for the device 13, characterized in that the other semiconductor integrated circuit device is tested while monitoring the second output information DG2i of the specific gate cell cci, that is, as shown in FIG. ) The test means 11 as shown in
This is a method for testing a semiconductor integrated circuit in which a semiconductor integrated circuit device 12 incorporating a semiconductor integrated circuit device 12 and another semiconductor integrated circuit device 13 are electrically connected, and as shown in the flowchart of FIG. First reference clock CLKI
A process of selecting gate cells C and Ci arranged in the row direction R is performed based on the selection process, and then, in step P2, a process of selecting and outputting the first output information DG1i of the gate cells GCi arranged in the column direction C based on the selection process. and then step P
In Step P4, the internal failure detection process of the semiconductor integrated circuit device 12 incorporating the test means 11 is performed based on the selection output process, and further, in Step P4, the second Reference clock C
The above object is achieved by testing the semiconductor integrated circuit device 12, 13 based on the second output information DG2i that depends on LK2.

〔作 用〕[For production]

本発明の装置によれば、複数のゲートセルGCn。 According to the device of the invention, a plurality of gate cells GCn.

n=1. 2. 3・・川と、行選択手段11A1列選
択読出し出力手段11Bから成る試験手段11とが具備
され、所望ゲートセルGCiの第1の出力情報DG1i
及び第2の出力情報DG2iが列選択読出し出力手段1
1Bから別個に出力される。
n=1. 2. 3... test means 11 comprising a row selection means 11A, a column selection readout output means 11B, and first output information DG1i of a desired gate cell GCi.
and second output information DG2i from column selection readout output means 1
It is output separately from 1B.

例えば、行方向R及び列方向Cに延在するマトリクス状
に配置された複数のゲートセルGCn、  n=1.2
.3・・・iを第1の基準クロックCLKIに基づいて
試験手段11により試験を行う場合、まず、行選択線L
Rを介して行方向Rに並ぶゲートセルGC4が行選択手
段11Aにより選択される。また、列読出し線LCを介
して列方向Cに並ぶゲートセルC,Ciの第1の出力情
報DG1iが選択出力される。この際に、列読出し線L
Cの第1の出力情報DG1iがデータ加算圧縮手段B1
により加算され、該加算された第1の出力情報DG1i
がデータ出力手段B2により出力される。これにより、
モード設定信号Smに基づいて第1の基準クロックCL
KIに同期する全列方向Cに接続されたゲートセルGC
iの第1の出力情報DG1iがデータ出力手段B2から
出力される。また、モード設定信号Smに基づいて第1
の基準クロックCLKIに非同期、かつ、複数のゲート
セルGCnを動作させる第2の基準クロックCLに2に
依存する特定のゲートセルGCiの第2の出力情報DG
2iがデータ出力手段B2から出力される。
For example, a plurality of gate cells GCn arranged in a matrix extending in the row direction R and column direction C, n=1.2.
.. 3...i is tested by the test means 11 based on the first reference clock CLKI, first, the row selection line L
Gate cells GC4 lined up in the row direction R via R are selected by the row selection means 11A. Further, first output information DG1i of the gate cells C and Ci arranged in the column direction C is selectively outputted via the column readout line LC. At this time, the column readout line L
The first output information DG1i of C is the data addition and compression means B1.
and the added first output information DG1i
is output by the data output means B2. This results in
The first reference clock CL is set based on the mode setting signal Sm.
Gate cells GC connected in all column directions C synchronized with KI
The first output information DG1i of i is output from the data output means B2. Furthermore, the first
Second output information DG of a specific gate cell GCi that is asynchronous to the reference clock CLKI of the gate cell GCi and that is dependent on the second reference clock CL that operates the plurality of gate cells GCn.
2i is output from the data output means B2.

このため、第1の出力情報DG1iに基づいて当該半導
体集積回路装置の内部故障の検出判定を従来通りに行う
こと、これに併せて、内部故障を起ごした特定のゲート
セルの故障動作条件下の第2の出力情報DG2iに基づ
いて他の半導体集積回路装置の試験をすことが可能とな
る。
Therefore, based on the first output information DG1i, it is necessary to perform the detection and judgment of the internal failure of the semiconductor integrated circuit device in the conventional manner, and in addition to this, the It becomes possible to test other semiconductor integrated circuit devices based on the second output information DG2i.

これにより、当該半導体集積回路装置がプリント基板に
実装された際に、内部故障を起こしたゲートセルGCi
の第2の出力情報D G2iが他のLSIチップにどの
ような影響を与えているか否かを観測しながらその試験
をすることが可能となる。
As a result, when the semiconductor integrated circuit device was mounted on a printed circuit board, the gate cell GCi that had an internal failure
It becomes possible to conduct a test while observing what kind of influence the second output information DG2i has on other LSI chips.

また、本発明の方法によれば、第2図(a)に示すよう
に、試験手段11を内蔵する半導体集積回路装置12の
特定のゲートセルC,Ciの第2の出力情報DG2iに
基づいて信号が処理される他の半導体集積回路装置13
を試験する場合、該特定のゲートセルGCiからの第2
の出力情報DG2iを監視処理しながら他の半導体集積
回路装置が試験される。
Further, according to the method of the present invention, as shown in FIG. Another semiconductor integrated circuit device 13 that is processed
When testing the second
Other semiconductor integrated circuit devices are tested while monitoring the output information DG2i.

例えば、第2図(a)に示すような試験手段11を内蔵
する半導体集積回路装置12と他の半導体集積回路装置
13とが電気的に接続された半導体集積回路の試験をす
る場合、同図(b)フローチャートに示すように、ステ
ップPI−P3で第1の基準クロックCLKに基づく選
択出力処理により試験手段11を内蔵する半導体集積回
路装置12の故障原因等となるゲートセルGCiを特定
する検出処理がされ、その後、ステップP4で特定のゲ
ートセルGC4の第2の出力情報DG2iに基づいて半
導体集積回路装置12.13が試験されている。
For example, when testing a semiconductor integrated circuit in which a semiconductor integrated circuit device 12 having a built-in test means 11 and another semiconductor integrated circuit device 13 are electrically connected as shown in FIG. (b) As shown in the flowchart, in step PI-P3, a detection process is performed to identify the gate cell GCi that is the cause of a failure of the semiconductor integrated circuit device 12 incorporating the test means 11 through a selection output process based on the first reference clock CLK. Thereafter, in step P4, the semiconductor integrated circuit device 12.13 is tested based on the second output information DG2i of the specific gate cell GC4.

このため、当該半導体集積回路袋212に動作故障等を
起こした1つのゲートセルGCiを定常的(通常動作中
)にモニタしなければならないという要求があった場合
であっても、従来例のように該半導体集積回路装置】2
の内部状態が変わる毎に、第1の基準クロック(試験ク
ロック)を多数印加して第1の出力情報DG1iを読み
出すことなく、特定のゲートセルGCiの故障動作条件
下、すなわち、第1の基準クロックに依存しない条件の
第2の出力情報DG2iを監視処理しながら他の半導体
集積回路装置13の論理的な動作の解析、誤動作回路の
検索、データ出力/停止のトリガ状態の確認等のデータ
処理の総合解析試験をすることが可能となる。
For this reason, even if there is a request to constantly (during normal operation) monitor one gate cell GCi that has caused an operational failure in the semiconductor integrated circuit bag 212, as in the conventional example, The semiconductor integrated circuit device】2
Each time the internal state of the gate cell GCi changes, without applying a large number of first reference clocks (test clocks) and reading out the first output information DG1i, under the failure operating condition of the specific gate cell GCi, that is, the first reference clock Data processing such as analyzing the logical operation of other semiconductor integrated circuit devices 13, searching for a malfunctioning circuit, and checking the trigger state of data output/stop while monitoring and processing the second output information DG2i under conditions that do not depend on the It becomes possible to conduct a comprehensive analysis test.

これにより、当該半導体集積回路装置12.13の通常
動作を乱すことなく、他の半導体集積回路装置13の試
験することができる。このことで、LSI試験処理機能
の向上を図ることが可能となる。
Thereby, other semiconductor integrated circuit devices 13 can be tested without disturbing the normal operation of the semiconductor integrated circuit devices 12 and 13. This makes it possible to improve the LSI test processing function.

なお、当該半導体集積回路装置12の1つのゲートセル
GCiのモニタは必ずしも故障ゲトである必要はなく、
システム動作の基準となるゲートであっても良い。これ
により、当該システムがある状態になった場合のタイミ
ングにより、半導体集積回路袋W13の試験をすること
が可能となる。
Note that the monitor of one gate cell GCi of the semiconductor integrated circuit device 12 does not necessarily have to be a failure gate;
It may also be a gate that serves as a reference for system operation. This makes it possible to test the semiconductor integrated circuit bag W13 at a timing when the system is in a certain state.

〔実施例] 次に図を参照しながら本発明の実施例について説明をす
る。
[Example] Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第3〜第8図は、本発明の実施例に係る半導体集積回路
装置及びその試験方法を説明する図である。
3 to 8 are diagrams illustrating a semiconductor integrated circuit device and a testing method thereof according to an embodiment of the present invention.

(i)第1の実施例の説明 第3図は、本発明の第1の実施例に係る半導体集積回路
装置の構成図である。
(i) Description of the first embodiment FIG. 3 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention.

図において、例えば、8行×8列のゲートアレイを構成
する半導体集積回路装置(以下LSI装置という)は、
64個のゲートセルGCn、n=1゜2.3・・・64
.試験回路219行選択線LR及び列読出し線LCから
成る。
In the figure, for example, a semiconductor integrated circuit device (hereinafter referred to as an LSI device) that constitutes a gate array of 8 rows and 8 columns is
64 gate cells GCn, n=1゜2.3...64
.. Test circuit 219 consists of a row selection line LR and a column readout line LC.

すなわち、64個のゲートセルGCn、n=1゜2.3
・・・64は、半導体チップの行方向R=8及び列方向
C=8に延在するマトリクス状に配置されている。また
、64個のゲートセルGCnと試験回路21との間には
、8本の行選択線LR及び8本の列読出し線LCが接続
されている。TRはトランスファゲートであり、64個
のゲートセルGCnの第1.第2の出力情報DG1i 
、  DG2i  (i = 1〜64]の読出し制御
をするものである。ここで、第1の出力情報DG1i 
とは、第1の基準クロックCLl[1の一例となる試験
クロンクに同期して読み出されるデータをいい、当該半
導体集積回路装置の内部故障の判断データとなる。また
、第2の出力情報DG2i とは、第2の基準クロック
CLK2−例となるシステムクロックに依存するデータ
をいう、なお、システムクロックCLK2は当該半導体
集積回路装置を通常動作させるための基準信号である。
That is, 64 gate cells GCn, n=1°2.3
...64 are arranged in a matrix extending in the row direction R=8 and the column direction C=8 of the semiconductor chip. Further, eight row selection lines LR and eight column read lines LC are connected between the 64 gate cells GCn and the test circuit 21. TR is a transfer gate, and the first .TR of 64 gate cells GCn. Second output information DG1i
, DG2i (i = 1 to 64).Here, the first output information DG1i
refers to data read out in synchronization with a test clock, which is an example of the first reference clock CLl[1, and serves as data for determining an internal failure of the semiconductor integrated circuit device. Further, the second output information DG2i refers to data that depends on the second reference clock CLK2 - an example system clock. Note that the system clock CLK2 is a reference signal for normal operation of the semiconductor integrated circuit device. be.

試験回路21は試験手段11の一実施例であり、行選択
デコーダ21A、センスアンプAMPI〜AMP8、デ
ータ加算圧縮回路21B、データ選択回路21C,フィ
リップフロップ回路FFI〜FF9から成る。
The test circuit 21 is an embodiment of the test means 11, and includes a row selection decoder 21A, sense amplifiers AMPI to AMP8, a data addition and compression circuit 21B, a data selection circuit 21C, and flip-flop circuits FFI to FF9.

行選択デコーダ21Aは、行選択手段11Aの一例であ
り、行方向Rに配置された8個のゲートセルGCnを行
選択線LRを介して選択をするものである。この際の選
択は、試験クロンクCLKIの一例となる行選択クロッ
ク信号SRに基づいて行われる。
The row selection decoder 21A is an example of the row selection means 11A, and selects eight gate cells GCn arranged in the row direction R via the row selection line LR. The selection at this time is performed based on the row selection clock signal SR, which is an example of the test clock CLKI.

センスアンプAMPI〜AMP8は、列選択読出し出力
手段11Bの一部を構成するものであり、各列読出し線
LCに現れる第1.第2の出力情報DG1i、DG2i
の増幅をするものである。
The sense amplifiers AMPI to AMP8 constitute a part of the column selection readout output means 11B, and the sense amplifiers AMPI to AMP8 constitute a part of the column selection readout output means 11B, and are used to select the first . Second output information DG1i, DG2i
It amplifies the

データ加算圧縮回路21Bはデータ加算圧縮手段B1の
一例であり、各列読出し線LCに現れる第1の出力情報
DG1iのデータ加算圧縮処理をするものである。該圧
縮回路21Bは、一つの列読出し線LCに対してOR論
理演算回路(以下ORIという)、第1.第2のN A
ND論理演算回路(以下NAND 1. 2という)か
ら成る。従って、全列読出し線LCに対して8個のOR
1〜○R8と、16個のNAND  1. 2〜NAN
D 61.62が設けられている。
The data addition and compression circuit 21B is an example of the data addition and compression means B1, and performs data addition and compression processing on the first output information DG1i appearing on each column readout line LC. The compression circuit 21B includes an OR logic operation circuit (hereinafter referred to as ORI), a first . Second NA
It consists of an ND logic operation circuit (hereinafter referred to as NAND 1.2). Therefore, 8 ORs for all column read lines LC
1 to ○R8 and 16 NANDs 1. 2~NAN
D 61.62 is provided.

データ選択回路21Cはデータ出力手段B2の一部を構
成するものであり、モード設定信号Smに基づいて第1
の出力情報DG1i又は第2の出力情報DG2i とを
選択するものである。このモード設定信号Smは、第1
の出力情報DG1iに係る全列読出しモードと第2の出
力情報DG2iに係る1ビット読出しモードとを切り換
える信号である。
The data selection circuit 21C constitutes a part of the data output means B2, and is based on the mode setting signal Sm.
The second output information DG1i or the second output information DG2i is selected. This mode setting signal Sm is the first
This signal switches between an all-column read mode related to the output information DG1i and a 1-bit read mode related to the second output information DG2i.

該選択回路2ICは、第2.第3.第4のN AND論
理演算回路(以下NAND 2,3.4という)から成
る。ここで、本発明の実施例ではデータ加算圧縮回路2
1BのNAND 2とデータ選択回路21CのNAND
 2が兼用されている。従って、全列読出し線LCに対
して24個(7)NAND 2. 3. 4〜NAND
 62.63.64が設けられ、8個のNAND 2〜
NAND 62が共用される。なお、NAND 64の
出力が本発明の実施例ではフィリップフロップ回路FF
I〜FF9のデータ出力とは別個に第1のモニタ出力端
子MTIに接続されるものである。
The selection circuit 2IC has a second selection circuit 2IC. Third. It consists of a fourth NAND logic operation circuit (hereinafter referred to as NAND 2, 3.4). Here, in the embodiment of the present invention, the data addition and compression circuit 2
1B NAND 2 and data selection circuit 21C NAND
2 is also used. Therefore, 24 (7) NANDs for all column read lines LC2. 3. 4~NAND
62, 63, 64 are provided, and 8 NAND 2~
NAND 62 is shared. Note that in the embodiment of the present invention, the output of the NAND 64 is the FF of the flip-flop circuit.
It is connected to the first monitor output terminal MTI separately from the data outputs of I to FF9.

これにより、例えば、1ビット読出しモード。This allows, for example, 1-bit read mode.

即ち、モード設定信号Smに「1」を入力すると、第1
の基準クロックCLKIに非同期、かつ、64個のゲー
トセルGCnを動作させるシステムクロックCLK2に
依存した1ゲートセルGCiの第2の出力情報DG2i
のみを出力することができる。
That is, when "1" is input to the mode setting signal Sm, the first
The second output information DG2i of one gate cell GCi is asynchronous to the reference clock CLKI of 1 and is dependent on the system clock CLK2 that operates 64 gate cells GCn.
can only be output.

フィリップフロップ回路FFI〜FF9は、データ出力
手段B2の他の部分を構成するものであり、各列読出し
線LCに現れた第1の出力情報DG1iを加算処理した
データを順次出力するものである。例えば、フィリップ
フロップ回路FF2〜FF9は、試験クロックCLKI
の一例となる行選択クロック信号SRや列選択クロック
信号SCに同期するj行目のゲートセルGCiに係る第
1の出力情報DG1iを出力するデータラッチ等価回路
として機能をする(第4図参照)。また、フィリップフ
ロップ回路FFI〜FF9は、ゲート選択ビット指定用
等価レジスタ21Eとして機能をする。
The flip-flop circuits FFI to FF9 constitute another part of the data output means B2, and sequentially output data obtained by adding the first output information DG1i appearing on each column readout line LC. For example, the flip-flop circuits FF2 to FF9 use the test clock CLKI.
It functions as a data latch equivalent circuit that outputs first output information DG1i related to the j-th row gate cell GCi that is synchronized with the row selection clock signal SR and the column selection clock signal SC, which are examples of the above (see FIG. 4). Further, the flip-flop circuits FFI to FF9 function as an equivalent register 21E for specifying gate selection bits.

例えば、FF2に「1」を設定し、それ以外のFFI、
FF3〜FF9に「0」を設定すると、該[1」が設定
された列読出し線LCの出力情報DG2iを読み出すこ
とができる。この出力情報DG2iが本発明の実施例で
は、試験クロックCLKIに非同期、かつ、64のゲー
トセルGCnを動作させるシステムクロックCLK2に
依存する特定のゲートセルGC1iの第2の出力情報D
G2i となる。
For example, if FF2 is set to "1", other FFIs,
When FF3 to FF9 are set to "0", the output information DG2i of the column readout line LC to which [1] is set can be read. In the embodiment of the present invention, this output information DG2i is the second output information D of a specific gate cell GC1i that is asynchronous to the test clock CLKI and dependent on the system clock CLK2 that operates the 64 gate cells GCn.
It becomes G2i.

これらにより、本発明の第1の実施例に係る試験回路を
内蔵する半導体集積回路装置を構成する。
These constitute a semiconductor integrated circuit device incorporating a test circuit according to the first embodiment of the present invention.

次に、1行全ゲート選択時と1行1ゲート選択時の試験
動作について説明をする。
Next, the test operation when all gates in one row are selected and when one gate in one row is selected will be explained.

第4図は、本発明の第1の実施例に係る1行全ゲート選
択時の動作説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation when all gates in one row are selected according to the first embodiment of the present invention.

図において、例えば、行方向R=8及び列方向C=8に
延在するマトリクス状に配置された64のゲートセルG
Cn、n=1.2.3−64の2行目を第1の基準クロ
ックCLKIに基づいて試験回路21により試験を行う
場合、まず、行選択線LRを介して行方向R=2に並ぶ
ゲートセルGC9〜GC16が行選択デコーダ21Aに
より選択される。この際に、データ選択回路21CのN
AND 3にモード設定信号Sm=rQ」が入力される
。また、列読出し線LCを介して列方向Cに並ぶ8個の
ゲートセルCC9〜GC!6の第1の出力情報DG1i
が選択される。この際に、列読出し線LCの第1の出力
情報DG1iが2行目の列読出し線LCに対して8個の
OR1〜oR8と、16個(7)NANO1,2〜NA
ND 61.62から成るデータ圧縮加算回路21Bに
より加算され、該加算された第1の出力情報DI、11
がデータラッチ等価回路21Dにより出力される。
In the figure, for example, 64 gate cells G are arranged in a matrix extending in the row direction R=8 and the column direction C=8.
When testing the second row Cn, n=1.2.3-64 by the test circuit 21 based on the first reference clock CLKI, first, the rows are arranged in the row direction R=2 via the row selection line LR. Gate cells GC9 to GC16 are selected by row selection decoder 21A. At this time, N of the data selection circuit 21C
A mode setting signal "Sm=rQ" is input to AND3. In addition, eight gate cells CC9 to GC are lined up in the column direction C via the column readout line LC! 6 first output information DG1i
is selected. At this time, the first output information DG1i of the column readout line LC is set to 8 OR1 to oR8 and 16 (7) NANO1, 2 to NANO for the column readout line LC in the second row.
The added first output information DI, 11 is added by the data compression adder circuit 21B consisting of ND 61.62.
is output by the data latch equivalent circuit 21D.

これにより、モード設定信号Sm−「Ojに基づいて試
験クロックCLKIに同期する2列目の列方向Cに接続
されたゲートセルCC9〜G C16の第1の出力情報
DG1iをフィリップフロップ回路FF2〜FF9から
成るデータラッチ等価回路21Dより出力することがで
きる。
As a result, the first output information DG1i of the gate cells CC9 to GC16 connected in the column direction C of the second column synchronized with the test clock CLKI based on the mode setting signal Sm-Oj is transmitted from the flip-flop circuits FF2 to FF9. It can be output from the data latch equivalent circuit 21D.

第5図は、本発明の第1の実施例に係る1行1ゲート選
択時の動作説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of the operation when one gate in one row is selected according to the first embodiment of the present invention.

図において、例えば、2行目の全列ゲート読出し処理に
継続して、その2列目の1ゲートセルGCIOを選択す
る場合、まず、データ選択回路21CのNAND 3に
モード設定信号Sm=rl」を入力する。また、フィリ
ップフロップ回路FFI〜FF9から成るゲート選択ビ
ット指定用等価レジスタ21EのFF2に「1」を設定
し、それ以外のFFl、FF3〜FF9に「0」を設定
する。
In the figure, for example, when selecting the 1st gate cell GCIO in the 2nd column following the all-column gate read processing in the 2nd row, first, the mode setting signal "Sm=rl" is applied to NAND 3 of the data selection circuit 21C. input. Further, FF2 of the gate selection bit designating equivalent register 21E consisting of flip-flop circuits FFI to FF9 is set to "1", and the other FF1 and FF3 to FF9 are set to "0".

これにより、データ圧縮加算回路21Bとデータ選択回
路21Cを兼用するNAND 6や該選択回路21Cの
NAND 8〜NAND 62. NANO64を経由
する信号回路から第1のモニタ出力端子MTIに試験ク
ロックCLKIに非同期、がっ、64のゲートセルGC
nを動作させるシステムクロックCLK2に依存する2
行、2列目(特定)のゲートセルCCIOの第2の出力
情報DG2iを第1のモニタ出力端子MTIから出力す
ることができる。
As a result, NAND 6 which serves both the data compression adder circuit 21B and the data selection circuit 21C, and NAND 8 to NAND 62. of the selection circuit 21C. The gate cell GC of 64 is asynchronous to the test clock CLKI from the signal circuit via NANO64 to the first monitor output terminal MTI.
2 depends on the system clock CLK2 that operates n.
The second output information DG2i of the gate cell CCIO in the row and second column (specific) can be output from the first monitor output terminal MTI.

このようにして、本発明の第1の実施例に係る装置によ
れば、64のゲートセルGCn、n=1゜2.3・・・
64と、行選択デコーダ21A、センスアンプAMP1
〜AMP8.データ圧縮加算回路21B、データ選択回
路2IC及びフリップフロンプ回路FF1〜FF9から
成る試験回路21とが具備され、第2行目のゲートセル
CC9〜GC16の第1の出方情報DG1i及び特定の
ゲートセルCCIOの第2の出力情報DG2iが第1の
モニタ出力端子MTIから出力される。
Thus, according to the device according to the first embodiment of the invention, 64 gate cells GCn, n=1°2.3...
64, row selection decoder 21A, sense amplifier AMP1
~AMP8. A test circuit 21 consisting of a data compression adder circuit 21B, a data selection circuit 2IC, and flip-flop circuits FF1 to FF9 is provided, and first output information DG1i of the gate cells CC9 to GC16 in the second row and a specific gate cell CCIO are provided. The second output information DG2i is output from the first monitor output terminal MTI.

このため、第1の出力情報DG1iに基づいて当該半導
体集積回路装置の内部故障の検出判定を従来通りに行う
こと、これに併せて、内部故障を起こした特定のゲート
セルCCIOの故障動作条件下の第2の出力情報DG2
iに基づいて他の半導体集積回路装置の試験をすことが
可能となる。
Therefore, based on the first output information DG1i, the detection and determination of an internal failure in the semiconductor integrated circuit device should be performed in the conventional manner, and in addition, under the failure operating conditions of the specific gate cell CCIO that has caused the internal failure, Second output information DG2
It becomes possible to test other semiconductor integrated circuit devices based on i.

これにより、当該半導体集積回路装置がプリント基板に
実装された際に、内部故障を起こしたゲートセル(1,
CIOの第2の出力情報DG2iが他のLSI千ツブ3
にどのような影響を与えているか否かを観測しながらそ
の試験をすることが可能となる。
As a result, when the semiconductor integrated circuit device was mounted on a printed circuit board, the gate cell (1,
The second output information DG2i of CIO is another LSI 3
This makes it possible to conduct tests while observing what kind of influence it has on the environment.

次に、本発明の第1の実施例に係る半導体集積回路装置
の試験方法について、当該装置の動作を補足しながら説
明をする。
Next, a method for testing a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention will be explained while supplementing the operation of the device.

第6図は、本発明の第1の実施例に係る半導体集積回路
装置の試験方法のフローチャートであり、第7図は本発
明の第1の実施例に係る試験方法の補足説明図を示して
いる。
FIG. 6 is a flowchart of a test method for a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a supplementary explanatory diagram of the test method according to the first embodiment of the present invention. There is.

例えば、第7図に示すような試験回路を内蔵する半導体
集積回路装置LSIAと他の半導体集積回路装置LSI
B−LSIXとがプリント基板22に実装された信号処
理システムの動作試験等をする場合、該半導体集積回路
装置LSIAの特定のゲートセルGC4の第2の出力情
報DG2iの監視処理をしながら他の半導体集積回路装
置LSIBの試験をするものである。
For example, a semiconductor integrated circuit device LSIA with a built-in test circuit as shown in FIG. 7 and another semiconductor integrated circuit device LSI
When the B-LSIX performs an operation test of a signal processing system mounted on the printed circuit board 22, other semiconductors are monitored while monitoring the second output information DG2i of a specific gate cell GC4 of the semiconductor integrated circuit device LSIA. This test is for testing the integrated circuit device LSIB.

すなわち、試験回路21を内蔵する半導体集積回路装f
fLsIAと他の半導体集積回路装fiLsIBとが電
気的に接続された半導体集積回路の試験をする場合、第
6図において、まず、ステップPIで試験クロックCL
KIに基づいて各行方向Rに並フケートセルGCiの選
択処理をする。この際に、例えば、行方向R=f3及び
列方向c−8に延在するマトリクス状に配置された64
のゲートセルGCn、  n −1、2、3−64の2
行2列目のゲートセルGCIOが故障を起こしており、
その出力情報DG1iが通常動作時に他の半導体集積回
路装’11LSTBのトリガ制御信号となるような場合
と仮定する。
In other words, the semiconductor integrated circuit device f incorporating the test circuit 21
When testing a semiconductor integrated circuit in which fLsIA and another semiconductor integrated circuit device fiLsIB are electrically connected, in FIG.
Based on KI, a selection process of parallel cells GCi is performed in each row direction R. At this time, for example, 64 cells arranged in a matrix extending in the row direction R=f3 and the column direction c-8
Gate cell GCn, n -1, 2, 3-64 of 2
The gate cell GCIO in the second row and column is malfunctioning.
Assume that the output information DG1i serves as a trigger control signal for another semiconductor integrated circuit device '11LSTB during normal operation.

このような場合、まず、行選択mLRを介して行方向R
に並ぶゲートセルGC1〜GCB、  GC9〜GCI
6・・・が行選択デコーダ21Aにより選択され、デー
タ選択回路2ICのNAND 3にモード設定信号Sm
=「OJが入力される(第3図参照)。
In such a case, first, the row direction R is selected via the row selection mLR.
Gate cells GC1 to GCB, GC9 to GCI lined up in
6... is selected by the row selection decoder 21A, and the mode setting signal Sm is applied to NAND 3 of the data selection circuit 2IC.
= “OJ is input (see Figure 3).

次に、ステップP2で選択処理に基づいて列方向Cに並
ぶゲートセルGCiの第1の出力情報DG1iの出力処
理(−列全ゲート選択処理)をする。
Next, in step P2, output processing (-column all gate selection processing) of the first output information DG1i of the gate cells GCi arranged in the column direction C is performed based on the selection processing.

この際に、列読出し線LCを介して列方向Cに並ぶ8個
のゲートセルCC9〜C;C16の第1の出力情報DG
1iが選択出力される。また、第1の出方情報DG1i
はデータ圧縮加算回路21Bにより加算され、該加算さ
れた第1の出力情報DG1iがデータランチ等価回路2
1Dにより出力される(第4図参照)。
At this time, the first output information DG of eight gate cells CC9 to C; C16 lined up in the column direction C via the column readout line LC.
1i is selectively output. In addition, the first output information DG1i
are added by the data compression adder circuit 21B, and the added first output information DG1i is added to the data launch equivalent circuit 2.
1D (see Figure 4).

その後、ステップP3で出方処理に基づいて試験面!2
1を内蔵する半導体集積回路装置LSIAのゲートセル
GCiの一括故障検出処理をする。この際に、試験クロ
ックCLKIに基づく第1の出力情報DG1iがデータ
ランチ等価回路21DからLSI試験装置23に出方さ
れる。これにより、例えば、期待値データと第1の出力
情報DG]i とが比較処理され、列方向Cに並ぶ8個
のゲートセルGC9〜GC16が一括故障検出処理され
る(第7図参照)。
After that, in step P3, the test surface is determined based on the appearance processing! 2
1. Performs batch failure detection processing for gate cells GCi of the semiconductor integrated circuit device LSIA incorporating LSIA. At this time, first output information DG1i based on the test clock CLKI is output from the data launch equivalent circuit 21D to the LSI test device 23. As a result, for example, the expected value data and the first output information DG]i are compared, and the eight gate cells GC9 to GC16 lined up in the column direction C are subjected to a batch failure detection process (see FIG. 7).

さらに、ステップP4で一括故障検出処理に基づいて列
方向Cに並ぶゲートセルGCiの個別t 11検出処理
をする。なお、ステップP3の一括故障検出処理の結果
、ゲートセルCC4の故障が検出されたものとすれば、
データ選択回路21CのN AND3にモード設定信号
Sm−「l」を入力してlゲート選択モードに移行する
。この際に、ゲート選択ビット指定用等価レジスタ21
Eの読出し処理をするFF2に「1」を設定し、それ以
外のFF 1゜FF3〜FF9に「0」を設定する。こ
れにより、データ圧縮加算回路21Bとデータ選択回路
21Cを兼用するNAND 6や該選択回路21CのN
AND 8〜NAND 62. NAND 64を経由
する信号回路から第1のモニタ出力端子MTIに試験ク
ロックCLK]に非同期、かつ、64のゲートセルGC
nを動作させるシステムクリックCIJ2に依存する2
行、2列目(特定)のゲートセルCCIOの第2の出力
情報DG2iが出力される。この第2の出力情報DG2
□はモニタ装置24に出力される(第7図参照)。
Furthermore, in step P4, individual t11 detection processing for the gate cells GCi arranged in the column direction C is performed based on the batch failure detection processing. Note that if it is assumed that a failure in gate cell CC4 is detected as a result of the batch failure detection process in step P3,
The mode setting signal Sm-"l" is input to NAND3 of the data selection circuit 21C to shift to the l gate selection mode. At this time, the equivalent register 21 for specifying the gate selection bit
FF2, which performs E read processing, is set to "1", and the other FFs 1°, FF3 to FF9 are set to "0". As a result, the NAND 6 that serves both the data compression adder circuit 21B and the data selection circuit 21C, and the NAND 6 of the selection circuit 21C
AND 8~NAND 62. From the signal circuit via NAND 64 to the first monitor output terminal MTI, asynchronous to the test clock CLK] and 64 gate cells GC
Depends on system click CIJ2 to operate n2
Second output information DG2i of the gate cell CCIO in the row and second column (specific) is output. This second output information DG2
□ is output to the monitor device 24 (see FIG. 7).

次いで、ステップP5で個別内部故障検出処理によって
得られた特定のゲートセルC,CIOのシステムクロッ
クCt、に2に依存する第2の出力情報DG2iに基づ
いて半導体集積回路装置LSIB−LSIXの試験をす
る。この際に、例えば、ゲートセルGCIOから出力さ
れるトリガ制御信号等をモニタ族W24を介して監視し
ながら他の半導体集積回路装置LSIBの試験をする。
Next, in step P5, the semiconductor integrated circuit devices LSIB-LSIX are tested based on the second output information DG2i that depends on the system clock Ct of the specific gate cell C and CIO obtained by the individual internal failure detection process. . At this time, for example, the other semiconductor integrated circuit device LSIB is tested while monitoring the trigger control signal etc. output from the gate cell GCIO via the monitor group W24.

これにより、内部故障を起こしたゲートセルGCIOの
第2の出力情報DG2iが他の半導体集積回路装置LS
[3にどのような影響を与えているか否か2例えば、第
2の出力情報DG2iに基づくトリガ制御信号の起動時
等に係るLSIBの応答信号を試験することが可能とな
る。
As a result, the second output information DG2i of the gate cell GCIO that has caused an internal failure is transferred to another semiconductor integrated circuit device LS.
For example, it is possible to test the response signal of the LSIB related to the activation of the trigger control signal based on the second output information DG2i.

このようにして、本発明の第1の実施例に係る試験方法
によれば、第7図に示すように、試験回路21を内蔵す
る半導体集積回路装置LSIAの特定のゲートセルCC
IOの第2の出力情報DG2iに基づいて信号が処理さ
れる他の半導体集積回路装置LSIBを試験する場合、
該特定のゲートセルGCIOからの第2の出力情報DG
2iを監視処理しながら他の半導体集積回路装置が試験
される。
In this manner, according to the test method according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG.
When testing another semiconductor integrated circuit device LSIB whose signal is processed based on the second output information DG2i of IO,
Second output information DG from the specific gate cell GCIO
Other semiconductor integrated circuit devices are tested while monitoring 2i.

このため、動作中の当該半導体集積回路装置LSIAに
故障等を起こした1つのゲートセルC,CIOを定常的
にモニタしなければならないという要求があった場合で
あっても、従来例のように該半導体集積回路装置LSI
Aの内部状態が変わる毎に、試験クロックCLKIを多
数印加して第1の出力情報DG1iを読み出すことなく
、特定のゲートセルCCl0の故障動作条件下、すなわ
ち、試験クロックCLKIに依存しない条件の第2の出
力情報DG2量を監視しながら他の半導体集積回路装置
LSIBの論理的な動作の解析、誤動作回路の検索、デ
ータ出力/停止のトリガ状態の確認等のデータ処理の総
合解析試験をすることが可能となる。
Therefore, even if there is a demand to constantly monitor one gate cell C or CIO that has caused a failure in the semiconductor integrated circuit device LSIA during operation, the Semiconductor integrated circuit device LSI
Every time the internal state of A changes, without applying a large number of test clocks CLKI and reading out the first output information DG1i, the second While monitoring the amount of output information DG2, it is possible to perform comprehensive analysis tests on data processing such as analyzing the logical operation of other semiconductor integrated circuit devices LSIB, searching for malfunctioning circuits, and checking the trigger status of data output/stop. It becomes possible.

これにより、当該半導体集積回路装置LSIA〜LSI
Xの通常動作を乱すことな(、他の半導体集積回路装置
LS■Bの試験することができる。このことで、LSI
試験処理機能の向上を図ることが可能となる。
As a result, the semiconductor integrated circuit devices LSIA to LSI
It is possible to test other semiconductor integrated circuit devices LS B without disturbing the normal operation of X.
It becomes possible to improve the test processing function.

(11)第2の実施例の説明 第8図は、本発明の第2の実施例に係る半導体集積回路
装置の構成図を示している。
(11) Description of Second Embodiment FIG. 8 shows a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.

図において、第1の実施例と異なるのは、第2の実施例
では、試験回路21のデータ出力手段の一部を構成する
データ選択回路21FがゲートトランジスタTo−T1
6及びインバータINIから成るものである。
In the figure, the difference from the first embodiment is that in the second embodiment, the data selection circuit 21F that constitutes a part of the data output means of the test circuit 21 is a gate transistor To-T1.
6 and an inverter INI.

すなわち、トランジスタTOは第2の基準クロンクCL
K2の一例となるプリチャージクロックを入力してトラ
ンジスタT1〜T16の出力を制御するものである。ま
た、トランジスタTl、T2は列読出し線LCに現れる
出力情報DG1i とフィリップフロップ回路FFIに
設定されるデータとに基づいてインバータINIにプリ
チャージクロックCLK2に基づく第2の出力情報DG
2iを出力するものである。インバータINIは、トラ
ンジスタT0により出力制御される第2の出力情報DG
2iを反転処理して、それを第1のモニタ出力端子MT
Iに出力するものである。
That is, the transistor TO is connected to the second reference clock CL.
A precharge clock, which is an example of K2, is input to control the outputs of the transistors T1 to T16. Further, the transistors Tl and T2 output second output information DG to the inverter INI based on the output information DG1i appearing on the column readout line LC and the data set in the flip-flop circuit FFI based on the precharge clock CLK2.
2i. The inverter INI outputs second output information DG whose output is controlled by the transistor T0.
2i and output it to the first monitor output terminal MT.
This is what is output to I.

フィリップフロップ回路FFI〜FF9は、データ出力
手段の他の部分を構成するものであり、ゲート選択ビッ
ト指定用等価レジスタとして機能をする。
The flip-flop circuits FFI to FF9 constitute other parts of the data output means and function as equivalent registers for specifying gate selection bits.

例えば、フィリップフロップ回路FF2のlビットのみ
にrl」を設定すると、その列読出し線LCに現れる出
力情報DG2i のみが読み出される。
For example, if only the l bit of the flip-flop circuit FF2 is set to "rl", only the output information DG2i appearing on the column readout line LC is read out.

また、複数のFFに「1」を設定するとそれらのOR論
理演算処理に係る出力情報DG2iが第1のモニタ出力
端子MTIに出力される。
Further, when "1" is set in a plurality of FFs, output information DG2i related to the OR logical operation processing of these FFs is outputted to the first monitor output terminal MTI.

なお、第1の実施例と同じ符号のものは同し機能を有す
るため説明を省略する。
Components with the same reference numerals as those in the first embodiment have the same functions, and therefore their explanations will be omitted.

これらにより、本発明の第2の実施例に係る試験回路を
内蔵する半導体集積回路装置を構成する。
These constitute a semiconductor integrated circuit device incorporating a test circuit according to the second embodiment of the present invention.

このようにして、本発明の第2の実施例に係る半導体集
積回路装置によれば、第8図に示すように、64のゲー
トセルGCn、n=1.2.3・=64と、行選択デコ
ーダ21A、 センスアンプAMPI〜AMP8.デー
タ選択回路21F及びフリ、プフロツブ回路FFl−F
F9から成る試験回路21とが具備され、該FFI〜F
F9に設定されるデータ「lΣ、「0」に基づいて特定
ゲートセルGCiの第2の出力情報DG2iが出力され
る。
In this manner, according to the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. Decoder 21A, sense amplifiers AMPI to AMP8. Data selection circuit 21F and free/proflop circuit FFl-F
A test circuit 21 consisting of F9 is provided, and the FFI to F
The second output information DG2i of the specific gate cell GCi is output based on the data "lΣ, "0" set in F9.

このため、第1の出力情報DG1iに基づいて当該半導
体集積回路装置の内部故障の検出判定を従来通りに行う
こと、これに併せて、第1の装置と同様に内部故障を起
こした特定のゲートセルGCiの故障動作条件下の第2
の出力情報DG2iに基づいて他の半導体集積回路装置
の試験をすことが可能となる。
Therefore, based on the first output information DG1i, the detection and determination of an internal failure in the semiconductor integrated circuit device is performed as before, and in addition, it is necessary to detect a specific gate cell that has caused an internal failure in the same way as in the first device. The second under fault operating conditions of GCi
It becomes possible to test other semiconductor integrated circuit devices based on the output information DG2i.

これにより、当該半導体集積回路装置がプリント基板に
実装された際に、第1の装置と同様に内部故障を起こし
たゲートセルGC4の第2の出力情報DG2iが他のL
SIチップ3にどのような影響を与えているか否かを観
測しながらその試験をすることが可能となる。
As a result, when the semiconductor integrated circuit device is mounted on a printed circuit board, the second output information DG2i of the gate cell GC4, which has caused an internal failure in the same way as the first device, is transferred to other L
It becomes possible to conduct a test while observing what kind of influence it has on the SI chip 3.

(iii )第3の実施例の説明 第9図は、本発明の第3の実施例に係る半導体集積回路
装置の構成図を示している。
(iii) Description of Third Embodiment FIG. 9 shows a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a third embodiment of the present invention.

図において、第1.第2の実施例と異なるのは、第3の
実施例では、試験回路21のデータ出力手段の一部を構
成するデータ選択回路21C,21Fに出力選択回路3
1が設けられるものである。
In the figure, 1. The difference from the second embodiment is that in the third embodiment, the data selection circuits 21C and 21F, which constitute part of the data output means of the test circuit 21, are provided with an output selection circuit 3.
1 is provided.

すなわち、出力選択回路31は第1.第2の実施例に係
る第2の出力情報DG2i及びモード設定信号Smの論
理積演算をする論理積回路ANDIと、第1.第2の実
施例に係るFF回路FFiから出力される第1の出力情
報DG1i及びモード設定信号Smの反転信号に基づい
て論理積演算をする論理積回路AND2と、モード設定
信号Smの反転処理をするインバータIN2と、論理積
回路ANDI、AND2の出力結果に基づいて排他論理
和演算処理をする排他論理和回路N0RIから成る。
That is, the output selection circuit 31 selects the first. An AND circuit ANDI that performs an AND operation of the second output information DG2i and the mode setting signal Sm according to the second embodiment; An AND circuit AND2 performs an AND operation based on the first output information DG1i output from the FF circuit FFi and an inversion signal of the mode setting signal Sm according to the second embodiment, and an AND circuit AND2 performs an inversion process of the mode setting signal Sm. and an exclusive OR circuit N0RI that performs an exclusive OR operation based on the output results of the AND circuits ANDI and AND2.

なお、第3図における論理回路NAD3の一端子は接地
するか又は論理回路NAD3を削除してFF回路FFI
の反転出力を論理回路NAD4に直接接続するものとす
る。また、第8図のゲート選択ビ3゜ト指定用等価レジ
スタ21Eの各フィリップフロ・7プ回路FFI〜FF
9には、該回路FF8に1ピントのみ「1」を設定し、
その他のFFI〜FF7、FF9には、全て「0」を設
定するものとする。
Note that one terminal of the logic circuit NAD3 in FIG. 3 is grounded, or the logic circuit NAD3 is deleted and the FF circuit FFI is used.
It is assumed that the inverted output of is directly connected to the logic circuit NAD4. In addition, each flip-flop circuit FFI to FF of the equivalent register 21E for specifying the gate selection bit 3 in FIG.
9, set only one pin to "1" in the circuit FF8,
The other FFIs to FF7 and FF9 are all set to "0".

また、当該出力選択回路31の機能は、第1゜第2の実
施例に係る第2の出力情報DG2i とモード設定信号
Smとが論理積回路ANDIにより埋積演算され、これ
に前後して、第1.第2の実施例に係るFF回路FFi
から出力される第1の出力情報DG1i とモード設定
信号Smの反転信号とに基づいて論理積回路AND2に
より埋積演算される。
Further, the function of the output selection circuit 31 is that the second output information DG2i according to the second embodiment and the mode setting signal Sm are subjected to an interpolation operation by the AND circuit ANDI, and before and after this, 1st. FF circuit FFi according to second embodiment
An interpolation operation is performed by an AND circuit AND2 based on the first output information DG1i outputted from the first output information DG1i and an inverted signal of the mode setting signal Sm.

この論理積回路ANDI、AND2の出力結果に基づい
て排他論理和回路N ORIにより排他論理和演算処理
される。
Based on the output results of the AND circuits ANDI and AND2, an exclusive OR operation is performed by an exclusive OR circuit NORI.

これにより、モード設定信号Smに基づいて第2のモニ
タ出力端子MT2からいずれか一方の出力情報DGiを
第7図のLSI試験装置23やモニタ装置24に単一出
力することができる。
Thereby, either one of the output information DGi can be outputted from the second monitor output terminal MT2 as a single output to the LSI testing device 23 or the monitor device 24 in FIG. 7 based on the mode setting signal Sm.

なお、本発明の各実施例では試験回路を内蔵する半導体
集積回路装置LS[Aの1つのゲートセルG Ciに係
る故障をモニタする場合について説明したが、該モニタ
は必ずしも故障ゲートである必要はなく、システム動作
の基準となるゲートであっても良い。これにより、当該
システムがある状態になった場合のタイミングにより、
当該半導体集積回路装置LSIAの通常動作を乱すこと
なく、他の半導体集積回路袋fiLsIBの総合解析試
験をすることが可能となる。
In each of the embodiments of the present invention, a case has been described in which a failure related to one gate cell G Ci of the semiconductor integrated circuit device LS [A with a built-in test circuit is monitored, but the monitor does not necessarily have to be a failure gate. , it may be a gate that serves as a reference for system operation. As a result, depending on the timing when the system enters a certain state,
It becomes possible to perform a comprehensive analysis test on another semiconductor integrated circuit bag fiLsIB without disturbing the normal operation of the semiconductor integrated circuit device LSIA.

〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明の各装置によれば複数のゲ
ートセルと、行選択手段1列選択読出し出力手段から成
る試験手段とが具備され、所望ゲートセルの第1の出力
情報及び第2の出力情報が列選択読出し出力手段から別
個に出力される。
[Effects of the Invention] As described above, each device of the present invention is equipped with a plurality of gate cells and a test means consisting of a row selection means, one column selection readout output means, and the first output information of a desired gate cell is and second output information are separately output from the column selection read output means.

このため、第1の基準クロックに同期する第1の出力情
報に基づいて当該半導体集積回路装置の内部故障の検出
判定を従来通りに行うこと、これに併せて、内部故障を
起こした特定のゲートセルの故障動作条件下の第2の出
力情報に基づいて他の半導体集積回路装置の試験をすこ
とが可能となる。
For this reason, it is necessary to perform the detection and determination of an internal failure in the semiconductor integrated circuit device in the conventional manner based on the first output information synchronized with the first reference clock, and also to identify the specific gate cell that has caused the internal failure. It becomes possible to test other semiconductor integrated circuit devices based on the second output information under the failure operating condition.

また、本発明の方法によれば、試験手段を内蔵する半導
体集積回路装置の特定のゲートセルの第2の出力情報に
基づいて信号が処理される他の半導体集積回路装置を試
験する場合、該特定のゲートセルからの第2の出力情報
を監視処理しながら他の半導体集積回路装置が試験され
る。
Further, according to the method of the present invention, when testing another semiconductor integrated circuit device in which a signal is processed based on the second output information of a specific gate cell of a semiconductor integrated circuit device incorporating a test means, the specific Another semiconductor integrated circuit device is tested while monitoring and processing the second output information from the gate cell.

このため、当該半導体集積回路装置に動作故障等を起こ
した1つのゲートセルを定常的(通常動作中)にモニタ
しなければならないという要求があった場合であっても
、従来例のように該半導体集積回路装置の内部状態が変
わる毎に、試験クロックを多数印加して第1の出力情報
を読み出すことなく、特定のゲートセルの故障動作条件
下の第2の出力情報を監視しながら他の半導体集積回路
装置の論理的な動作の解析、誤動作回路の検索。
Therefore, even if there is a requirement to constantly monitor (during normal operation) one gate cell that has caused an operational failure or the like in the semiconductor integrated circuit device, the Each time the internal state of an integrated circuit device changes, the second output information under the failure operating condition of a specific gate cell is monitored without applying multiple test clocks to read out the first output information. Analyzing the logical operation of circuit devices and searching for malfunctioning circuits.

データ出力/停止のトリガ状態の確認等の総合解析試験
をすることが可能となる。
It becomes possible to perform comprehensive analysis tests such as checking the trigger status of data output/stop.

これにより、当該半導体集積回路装置の通常動作を乱す
ことなく、他の半導体集積回路袋!の試験を短時間に行
うことができる。このことで、LSI試験処理機能の向
上を図ることが可能となる。
This allows other semiconductor integrated circuit bags to be used without disturbing the normal operation of the semiconductor integrated circuit device. tests can be conducted in a short time. This makes it possible to improve the LSI test processing function.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明に係る半導体集積回路装置の原理図、 第2図は、本発明に係る半導体集積回路装置の試験方法
の原理図、 第3図は、本発明の第1の実施例に係る半導体集積回路
装置の構成図、 第4図は、本発明の第1の実施例に係る1行全ゲート選
択時の動作説明図、 第5図は、本発明の第1の実施例に係る1行1ゲート選
択時の動作説明図、 第6図は、本発明の第1の実施例に係る半導体集積回路
装置の試験方法のフローチャート、第7図は、本発明の
第1の実施例に係る試験方法の補足説明図、 第8図は、本発明の第2の実施例に係る半導体集積回路
装置の構成図、 第9図は、本発明の第3の実施例に係る半導体集積回路
装置の構成図、 第1O図は、従来例に係る半導体集積回路装置の構成図
、 第11図は、従来例に係る問題点を説明するLSI実装
時の構成図である。 (符号の説明) 11・・・試験手段、 11A・・・行選択手段、 11B・・・列選択読出し出力手段、 B1・・・データ加算圧縮手段、 B2・・・データ出力手段、 GCn・・・複数のゲートセル、 GC4・・・特定のゲートセル、 LR・・・行選択線、 LC・・・列読出し線、 12・・・試験回路を内蔵する半導体集積回路装置、1
3・・・他の半導体集積回路装置、 CLKI、CLK2・・・第1.第2の基準クロック、
Sm・・・モード設定信号、 DG1i、 DG2i・・・第1.第2の出力情報、R
・・・行方向、 C・・・列方向。
FIG. 1 is a diagram of the principle of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, FIG. 2 is a diagram of the principle of a test method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram of a first embodiment of the present invention. FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation when all gates in one row are selected according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 6 is a flowchart of a test method for a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a diagram illustrating the operation when one gate in one row is selected. 8 is a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a diagram of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention. FIG. 10 is a configuration diagram of a semiconductor integrated circuit device according to a conventional example. FIG. 11 is a configuration diagram at the time of LSI mounting to explain problems related to the conventional example. (Explanation of symbols) 11...Test means, 11A...Row selection means, 11B...Column selection reading output means, B1...Data addition and compression means, B2...Data output means, GCn... - A plurality of gate cells, GC4...Specific gate cell, LR...Row selection line, LC...Column readout line, 12...Semiconductor integrated circuit device with built-in test circuit, 1
3...Other semiconductor integrated circuit devices, CLKI, CLK2...1st. a second reference clock;
Sm...mode setting signal, DG1i, DG2i...first. Second output information, R
...row direction, C...column direction.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)行方向(R)及び列方向(C)に延在するマトリ
クス状に配置された複数のゲートセル(GCn、n=1
、2、3・・・i)と、前記複数のゲートセル(GCn
)を第1の基準クロック(CLK1)に基づいて試験を
する試験手段(11)と、前記複数のゲートセル(GC
n)と試験手段(11)とを接続する行選択線(LR)
及び列読出し線(LC)とが具備され、 前記試験手段(11)が前記行方向(R)に並ぶゲート
セル(GCi)を選択する行選択手段(11A)と、前
記列方向(C)に並ぶゲートセル(GCi)を選択する
列選択読出し出力手段(11B)から成り、 少なくとも、前記列選択読出し出力手段(11B)が前
記第1の基準クロック(CLK1)に同期する所望ゲー
トセル(GCi)の第1の出力情報(DG1i)及び前
記第1の基準クロック(CLK1)に非同期、かつ、前
記複数のゲートセル(GCn)を動作させる第2の基準
クロック(CLK2)に依存する所望ゲートセル(GC
i)の第2の出力情報(DG2i)を出力することを特
徴とする半導体集積回路装置。
(1) A plurality of gate cells (GCn, n=1) arranged in a matrix extending in the row direction (R) and column direction (C)
, 2, 3...i) and the plurality of gate cells (GCn
) based on a first reference clock (CLK1); and the plurality of gate cells (GC
a row selection line (LR) connecting n) and the test means (11);
and a column readout line (LC), the test means (11) selects the gate cells (GCi) arranged in the row direction (R), and the row selection means (11A) for selecting the gate cells (GCi) arranged in the column direction (C). The column selection readout output means (11B) selects a gate cell (GCi), and at least the first column selection readout output means (11B) of the desired gate cell (GCi) is synchronized with the first reference clock (CLK1). output information (DG1i) and a desired gate cell (GC
A semiconductor integrated circuit device, characterized in that it outputs the second output information (DG2i) of i).
(2)請求項1記載の半導体集積回路装置において、前
記列選択読出し出力手段(11B)が前記列読出し線(
LC)の第1の出力情報(DG1i)を加算するデータ
加算圧縮手段(B1)と、前記加算された第1の出力情
報(DG1i)を出力するデータ出力手段(B2)から
成り、 前記所望のゲートセル(GCi)の第1の出力情報(D
G1i)又は第2の出力情報(DG2i)がデータ出力
手段(B2)から出力されることを特徴とする半導体集
積回路装置。
(2) In the semiconductor integrated circuit device according to claim 1, the column selection readout output means (11B) is connected to the column readout line (
the data addition and compression means (B1) that adds the first output information (DG1i) of the LC), and the data output means (B2) that outputs the added first output information (DG1i), First output information (D
A semiconductor integrated circuit device characterized in that the second output information (G1i) or the second output information (DG2i) is output from a data output means (B2).
(3)請求項2記載の半導体集積回路装置において、前
記第1の出力情報(DG1i)と前記第2の出力情報(
DG2i)とがモード設定信号(Sm)に基づいて出力
選択されることを特徴とする半導体集積回路装置。
(3) In the semiconductor integrated circuit device according to claim 2, the first output information (DG1i) and the second output information (
DG2i) is selected for output based on a mode setting signal (Sm).
(4)請求項3記載の半導体集積回路装置において、前
記モード設定信号(Sm)は前記データ出力手段(B2
)の入力部又は出力部に供給されることを特徴とする半
導体集積回路装置。
(4) In the semiconductor integrated circuit device according to claim 3, the mode setting signal (Sm) is controlled by the data output means (B2).
) A semiconductor integrated circuit device characterized in that the device is supplied to an input section or an output section of a semiconductor integrated circuit device.
(5)少なくとも、試験手段(11)を内蔵する半導体
集積回路装置(12)の特定のゲートセル(GCi)の
第2の出力情報(DG2i)に基づいて信号処理をする
他の半導体集積回路装置(13)の試験方法であって、
前記特定のゲートセル(GCi)の第2の出力情報(D
G2i)の監視処理をしながら前記他の半導体集積回路
装置の試験をすることを特徴とする半導体集積回路装置
の試験方法。(6)請求項1記載の試験手段(11)を
内蔵する半導体集積回路装置(12)と他の半導体集積
回路装置(13)とが電気的に接続された半導体集積回
路の試験方法であって、 第1の基準クロック(CLK1)に基づいて前記行方向
(R)に並ぶゲートセル(GCi)の選択処理をし、前
記選択処理に基づいて前記列方向(C)に並ぶゲートセ
ル(GCi)の第1の出力情報(DG1i)の選択出力
処理をし、前記選択出力処理に基づいて試験手段(11
)を内蔵する半導体集積回路装置(12)の内部故障検
出処理をし、前記内部故障検出処理によって得られた特
定のゲートセル(GCi)の第2の基準クロック(CL
K2)に依存する第2の出力情報(DG2i)に基づい
て前記半導体集積回路装置(12、13)の試験をする
ことを特徴とする半導体集積回路装置の試験方法。
(5) At least another semiconductor integrated circuit device ( 13) test method,
Second output information (D) of the specific gate cell (GCi)
A method for testing a semiconductor integrated circuit device, characterized in that the other semiconductor integrated circuit device is tested while performing the monitoring process of G2i). (6) A method for testing a semiconductor integrated circuit in which a semiconductor integrated circuit device (12) incorporating the test means (11) according to claim 1 and another semiconductor integrated circuit device (13) are electrically connected. , Performs selection processing of the gate cells (GCi) arranged in the row direction (R) based on the first reference clock (CLK1), and selects the gate cells (GCi) arranged in the column direction (C) based on the selection processing. The test means (11
) of the semiconductor integrated circuit device (12), and detects a second reference clock (CL) of a specific gate cell (GCi) obtained by the internal failure detection process.
A method for testing a semiconductor integrated circuit device, characterized in that the semiconductor integrated circuit device (12, 13) is tested based on second output information (DG2i) that depends on the second output information (DG2i).
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JPH04186744A true JPH04186744A (en) 1992-07-03

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JP2315610A Pending JPH04186744A (en) 1990-11-20 1990-11-20 Semiconductor integrated circuit and its testing method

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JP (1) JPH04186744A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009049059A1 (en) 2009-04-22 2010-11-11 Mitsubishi Electric Corporation radar device

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DE102009049059A1 (en) 2009-04-22 2010-11-11 Mitsubishi Electric Corporation radar device

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