JPH04157356A - Automatic fluid controlling apparatus - Google Patents

Automatic fluid controlling apparatus

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Publication number
JPH04157356A
JPH04157356A JP28161690A JP28161690A JPH04157356A JP H04157356 A JPH04157356 A JP H04157356A JP 28161690 A JP28161690 A JP 28161690A JP 28161690 A JP28161690 A JP 28161690A JP H04157356 A JPH04157356 A JP H04157356A
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JP
Japan
Prior art keywords
titration
liquid
processing
fluid
managing
Prior art date
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Pending
Application number
JP28161690A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Takaiwa
聡 高岩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04157356A publication Critical patent/JPH04157356A/en
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Abstract

PURPOSE:To analyze release solution and cleaning solution with a single apparatus by calculating measurement data from a fluid managing means and titration means by a calculation means and controlling these means by a control means based on an instruction from an input means. CONSTITUTION:Processing fluid from a processing tank is led to a processing fluid supply path 1 by a pump 3 and further led to an absorption meter 4 of a fluid managing means, absorbency of the processing fluid is measured and a degree of deterioration with respect to time is detected based on the results of the measurement. Then concentration of active ingredients in the processing fluid can be measured from potential change by titration by dioxidation- reduction ORP electrodes 20, 21 as titration analyzing sensors while paths A, B of a six-way solenoid valve 5 are changed over and standard solution desirably selected among reagent tubes 28, 31, 34 by an input means 104 is supplied. A control means 103 calculates 105 measurement data from the absorption meter 4 and a titration means 101 and displays the results on a CRT by an output means 106 as well as controls the respective means. Thus an automatic fluid managing apparatus comprises analysis control functions so that it can be applied for managing respective processes of resist releasing and cleaning.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、処理液の成分量および劣化検知を自動的に
行うことができる自動液管理装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to an automatic liquid management device that can automatically detect the amount of components and deterioration of a processing liquid.

「従来の技術」 従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる剥離
$L(処理液)は、種々な方法で分析、管理され、更に
省人化及び品質管理の向上を目的として、前記分析、管
理の自動化が行われてきた。
"Prior Art" Conventionally, stripping solution (processing liquid) used, for example, in semiconductor manufacturing processes, has been analyzed and managed by various methods. , automation of management has been carried out.

この種の自動液管理装置として例えば本発明者が先に提
案した装置(特願平2−9539号)では、硫酸と過酸
化水素とが混合された剥離液をポンプ等を用いたオンラ
インでサンプリングし、その後、このサンプリングした
剥離液を吸光度計で測定してその劣化度を管理するとと
もに、この剥離液を分析機器内の反応セル内に供給し、
この反応セル内において酸化還元電位電極による電位差
滴定分析を行ない、剥離液中の有効成分の濃度を検出し
ている。
As an example of this type of automatic liquid management device, in the device previously proposed by the present inventor (Japanese Patent Application No. 2-9539), a stripping solution containing a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide is sampled online using a pump or the like. Then, this sampled stripping solution is measured with an absorbance meter to control its degree of deterioration, and this stripping solution is supplied into a reaction cell in an analytical instrument.
Potentiometric titration analysis using an oxidation-reduction potential electrode is performed in this reaction cell to detect the concentration of the active ingredient in the stripping solution.

そして、このような分析では、制御部内に設けられたコ
ンピュータにより、ポンプ、バルブなどの機器の動作を
制御するとともに、前記反応セル内に滴定した試薬の滴
下量に基づき、処理液中の硫酸濃度、過酸化水素濃度を
算出し、その算出結果をc rt ’I゛あるいはプリ
ンタに出力していた。
In such an analysis, a computer installed in the control unit controls the operation of equipment such as pumps and valves, and also determines the sulfuric acid concentration in the treated liquid based on the amount of the titrated reagent dripped into the reaction cell. , the hydrogen peroxide concentration was calculated, and the calculation results were output to a computer or printer.

[発明が解決しようとする課題」 ところで、上記の半導体製造工程においては、レノスト
剥離工程の他に洗浄工程があり、この洗浄工程では剥離
液として主に用いられる硫酸−過酸化水素水系の処理液
とは別の、塩酸−過酸化水素水系やアンモニア−過酸化
水素水系の処理液が用いられている。
[Problems to be Solved by the Invention] Incidentally, in the semiconductor manufacturing process described above, there is a cleaning process in addition to the Lennost stripping process, and in this cleaning process, a sulfuric acid-hydrogen peroxide aqueous treatment solution is mainly used as a stripping solution. In addition to this, hydrochloric acid-hydrogen peroxide-based treatment liquids and ammonia-hydrogen peroxide-based treatment liquids are used.

しかしながら、上記の自動液管理装置では、1種類の、
すなわち通常は剥離液のみの管理しか行えず、したがっ
て洗浄工程で用いられる処理液(洗浄液)の管理をも行
うためには、別途液管理装置を備えなければならないと
いった不満がある。
However, in the above automatic liquid management device, only one type of
That is, there is a dissatisfaction that normally only the stripping liquid can be managed, and therefore a separate liquid management device must be provided in order to also manage the processing liquid (cleaning liquid) used in the cleaning process.

この発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、その
目的とするところは、−台で剥離液および洗浄液を分析
できる自動液管理装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to provide an automatic liquid management device that can analyze stripping liquid and cleaning liquid on a stand.

「課題を解決するための手段」 この発明の自動液管理装置では、処理液をサンプリング
するサンプリング手段と、サンプリングされた処理液の
劣化度を検知する液状態管理手段と、上記処理液の有効
成分量を滴定による電位変化から求める滴定手段と、こ
れら液状態管理手段と滴定手段とから得られた測定デー
タを演算する演算手段と、上記各手段を制御する制御手
段と、この制御手段に対して各種指令を与える入力手段
とを具備してなり、上記制御手段は、複数種類の処理液
を分析する分析制御機能を有してなることを上記課題の
解決手段とした。
"Means for Solving the Problems" The automatic liquid management device of the present invention includes a sampling means for sampling the processing liquid, a liquid state management means for detecting the degree of deterioration of the sampled processing liquid, and an effective component of the processing liquid. A titration means for calculating the amount from a potential change due to titration, a calculation means for calculating measurement data obtained from the liquid state management means and the titration means, a control means for controlling each of the above means, and a control means for this control means. The above-mentioned problem is solved by comprising an input means for giving various commands, and the control means has an analysis control function for analyzing a plurality of types of processing liquids.

「作用 」 この発明の自動液管理装置によれば、制御手段が、3種
類の処理液に対応してこれらから上記入力手段により任
意に選択された処理液を分析する分析制御機能を有して
いることから、例えばこの自動液管理装置を半導体の製
造工程におけるレジスト剥離工程および洗浄工程の処理
液、すなわち硫酸〜過酸化水素水系の処理液と、塩酸−
過酸化水素水系やアンモニア−過酸化水素水系の処理液
との管理に適用することが可能になる。
"Function" According to the automatic liquid management device of the present invention, the control means has an analysis control function for analyzing the processing liquid arbitrarily selected by the input means from among three types of processing liquids. For example, this automatic liquid management device can be used to handle treatment liquids used in the resist stripping process and cleaning process in the semiconductor manufacturing process, that is, sulfuric acid-hydrogen peroxide-based treatment liquids, and hydrochloric acid-hydrogen peroxide-based treatment liquids.
It can be applied to the management of hydrogen peroxide-based and ammonia-hydrogen peroxide-based processing solutions.

「実施例」 この発明の一実施例を第1図〜第6図を参照して説明す
る。なお、この実施例は本発明をレジストの処理液(剥
離液および洗浄液)の管理装置に適用した場合の一実施
例である。
"Embodiment" An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6. Note that this embodiment is an example in which the present invention is applied to a management device for resist processing liquids (stripping liquid and cleaning liquid).

まず、第1図(A)により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、第1図(A)において符号Iは図示路
の処理槽より処理液が供給される処理液供給経路である
。ここで、前記処理液としては、半導体用シリコンウェ
ハ上のノボラック樹脂等からなるレジストを剥離してこ
れを溶解する、硫酸−過酸化水素水系の溶液や、塩酸−
過酸化水素水系の溶液、アンモニア−過酸化水素水系の
溶液が挙げられる。
First, the general structure of the automatic liquid management apparatus will be described with reference to FIG. 1(A). In FIG. 1(A), reference numeral I indicates a processing liquid supply path through which the processing liquid is supplied from the processing tank along the illustrated path. Here, the processing liquid may be a sulfuric acid-hydrogen peroxide solution or a hydrochloric acid-based solution that removes and dissolves a resist made of novolak resin or the like on a semiconductor silicon wafer.
Examples include an aqueous hydrogen peroxide solution and an ammonia-hydrogen peroxide aqueous solution.

この処理液供給路りにはその経路中に冷却器2、ポンプ
3、吸光度計(液状態管理手段)4、六方電磁弁5が順
次配設されている。このような構成のもとに、処理槽か
らの処理液はポンプ3によって処理液供給路lに導かれ
、冷却器2にて所定の温度に調整された後、さらに吸光
度計4に導かれる。
A cooler 2, a pump 3, an absorbance meter (liquid condition control means) 4, and a six-way solenoid valve 5 are sequentially arranged in this processing liquid supply path. Based on this configuration, the processing liquid from the processing tank is guided by the pump 3 to the processing liquid supply path 1, adjusted to a predetermined temperature by the cooler 2, and then further guided to the absorbance meter 4.

そして、この吸光度計4において一定波長の光線が照射
されることにより該処理液の吸光度が測定され、得られ
た測定結果に基づいて時間に対する処理液の劣化の度合
が検出されるのである。なお、この吸光度814を通過
する処理液のうち剥離液は、処理槽にて剥離されたレジ
ストを溶解していることにより着色されている。
The absorbance of the processing liquid is measured by irradiating the absorbance meter 4 with a light beam of a certain wavelength, and the degree of deterioration of the processing liquid with respect to time is detected based on the measurement results obtained. Note that among the processing liquids passing through this absorbance 814, the stripping liquid is colored by dissolving the resist peeled off in the processing bath.

また、吸光度計4の下流側に配設された六方電磁弁5は
、その一つの口5aを上記処理液供給路1の下流に接続
したもので、第1図中実線で示す経路へと破線で示す経
路Bとを自動的に切り換えるものであり、通常は経路A
を採るように設定されたものである。また、この六方電
磁弁5の口5bと口5eとには、これらを連結するサン
プリング配管6が配設されており、また口5cには、ザ
ンプリング配管6内の試料(処理液)を送り出すために
、例えば純水を圧送するためのポンプ7を経路中に配し
た圧送路8が接続されている。ここで、サンプリング配
管6は、その内部に貯留する処理液の量が予め決められ
た量に設定されており、定量のため用いられるようにな
っている。さらに、この六方電磁弁5の口5dには三方
電磁弁9に連結する流路10が、また口5rには三方電
磁弁11に連結する流路12かそれぞれ接続されている
。三方電磁弁11には、処理槽(図示路)につながる返
送路13とドレン槽14につながるドレン路15とが接
続されており、このような構成のもとに六方電磁弁5か
ら導出される処理液は、処理槽に返送され、あるいはド
レン槽14に導かれるようになっている。
A six-way solenoid valve 5 disposed downstream of the absorbance meter 4 has one port 5a connected to the downstream side of the processing liquid supply path 1, and is connected to the path shown by the solid line in FIG. This automatically switches between route B and route A, which is normally route A.
It is set to take the following. Further, a sampling pipe 6 is provided at the port 5b and port 5e of the six-way solenoid valve 5 to connect them, and a sampling pipe 6 is provided at the port 5c for sending out the sample (processing liquid) in the sampling pipe 6. For example, a pressure feeding path 8 having a pump 7 disposed therein for pumping pure water is connected to the pump. Here, the amount of processing liquid stored inside the sampling pipe 6 is set to a predetermined amount, and is used for quantitative determination. Furthermore, a flow path 10 connected to the three-way solenoid valve 9 is connected to the port 5d of the six-way solenoid valve 5, and a flow path 12 connected to the three-way solenoid valve 11 is connected to the port 5r. The three-way solenoid valve 11 is connected to a return path 13 that connects to the processing tank (path shown) and a drain path 15 that connects to the drain tank 14, and with this configuration, the water is led out from the six-way solenoid valve 5. The processing liquid is returned to the processing tank or guided to the drain tank 14.

三方電磁弁IOには、第1の測定路16と第2の測定路
17とが接続されており、第1の測定路16には第1の
反応セル18が、また第2の測定路17には第2の反応
セル19がそれぞれ配設されている。
A first measurement path 16 and a second measurement path 17 are connected to the three-way solenoid valve IO, and the first measurement path 16 is connected to a first reaction cell 18 and the second measurement path 17 A second reaction cell 19 is disposed in each.

これら反応セル1849には、それぞれのセル内に滴定
分析用のセンサとして0RP(酸化還元電位)電極20
.21が設けられ、さらにセル底部に滴定後の試料を排
出するための排出路22.23が配設されている。排出
路22.23にはそれぞれの経路中に電磁弁24.25
が配設されており、またこれら排出路22.23が合流
した後にはポンプ26か配設されており、さらにこの合
流路27は前記l・レン路15に合流している。ここで
、反応セル18.19内の滴定後の試料は、電磁弁24
.25が開放されポンプ26によって強制的にドレン路
15に導かれる。なお、ポンプ26により排出する場合
には、ドレン槽14内に液面センサを設置し、その信号
によって排出のタイミングを決定するようにしてもよい
Each of these reaction cells 1849 has an ORP (redox potential) electrode 20 as a sensor for titration analysis.
.. 21, and discharge channels 22, 23 for discharging the sample after titration are further disposed at the bottom of the cell. The discharge passages 22 and 23 have solenoid valves 24 and 25 in each path.
A pump 26 is provided after these discharge passages 22 and 23 merge, and furthermore, this merging passage 27 merges with the L/ren passage 15. Here, the sample after titration in the reaction cell 18.19 is transferred to the solenoid valve 24.
.. 25 is opened and the drain passage 15 is forcibly guided by the pump 26. In addition, when draining by the pump 26, a liquid level sensor may be installed in the drain tank 14, and the timing of draining may be determined based on the signal from the liquid level sensor.

また、前記第1の反応セル18内には第1の試薬管28
と試薬分岐管29とがそれぞれの一端を臨ませて配設さ
れており、第2の反応セル19内には試薬分岐管30と
第3の試薬管31とがそれぞれその一端を臨ませて配設
されている。第1の試薬管28および第3の試薬管31
は、それぞれその管路中に滴定ポンプ32a0滴定ポン
プ32cを配設したもので、その端部側に配設された試
薬瓶33a、試薬瓶33cから滴定ポンプ32aあるい
は滴定ポンプ32cによって試薬を前記反応セルI8あ
るいは反応セル19内に一定量供給するものである。試
薬分岐管29.30はそれぞれ三方電磁弁33にて合流
し、さらにこの三方電磁弁34に連結された第2の試薬
管35を介して試薬瓶33bに通じている。そして、前
記第2の試薬管34も、他の試薬管28.31と同様に
滴定ポンプ32bによって試薬瓶33中の試薬を首記反
応セル18あるいは反応セル19内に一定量供給するも
のとなっている。なお、試薬瓶33a内には試薬として
たとえば過マンガン酸カリウム(K M no 4)が
、試薬瓶33b内には硫酸(1−1,5O4)が、試薬
瓶33c内には水酸化ナトリウム(NaOH)がそれぞ
れ収容されている。
Furthermore, a first reagent tube 28 is provided in the first reaction cell 18.
A reagent branch pipe 30 and a third reagent pipe 31 are arranged in the second reaction cell 19 with their respective ends facing each other. It is set up. First reagent tube 28 and third reagent tube 31
, a titration pump 32a and a titration pump 32c are disposed in each of the pipes, and the reagent is transferred from the reagent bottle 33a and reagent bottle 33c disposed at the end thereof to the reaction by the titration pump 32a or the titration pump 32c. A fixed amount is supplied into the cell I8 or the reaction cell 19. The reagent branch pipes 29 and 30 each join at a three-way solenoid valve 33, and further communicate with the reagent bottle 33b via a second reagent pipe 35 connected to the three-way solenoid valve 34. Similarly to the other reagent tubes 28 and 31, the second reagent tube 34 supplies a fixed amount of the reagent in the reagent bottle 33 into the reaction cell 18 or 19 using the titration pump 32b. ing. The reagent bottle 33a contains, for example, potassium permanganate (K M no 4), the reagent bottle 33b contains sulfuric acid (1-1,5O4), and the reagent bottle 33c contains sodium hydroxide (NaOH). ) are accommodated respectively.

このような構成の自動液管理装置にあっては、吸光度計
4により処理液の吸光度を測定することによってその劣
化度を管理することができる。そして、通常は六方電磁
弁5を経路へにすることにより、吸光度測定後の処理液
を、サンプリング配管6および流路12、返送路13を
経て処理槽(図示路)に戻し、あるいは三方電磁弁11
を切り換えることによりドレン路15を通じてドレン槽
14に導く。
In the automatic liquid management device having such a configuration, the degree of deterioration of the processing liquid can be managed by measuring the absorbance of the processing liquid using the absorbance meter 4. Normally, by setting the six-way solenoid valve 5 in the path, the processing liquid after absorbance measurement is returned to the processing tank (path shown) via the sampling pipe 6, flow path 12, and return path 13, or the three-way solenoid valve 11
is led to the drain tank 14 through the drain path 15.

一方、処理液中の硫酸、塩酸、アンモニア等の酸や塩基
、さらには過酸化水素水等の酸化剤の濃度を測定する場
合には、経路Bに切り換えて、上述した経路へに処理液
を流通させた際ザンブリング配管6内に残存する処理液
を、圧送路8より純水を送り出すことにより押し出して
流路lOに導く。
On the other hand, when measuring the concentration of acids or bases such as sulfuric acid, hydrochloric acid, ammonia, etc., or oxidizing agents such as hydrogen peroxide in the processing solution, switch to route B and inject the processing solution into the above-mentioned route. The processing liquid remaining in the Zumbling pipe 6 during circulation is pushed out by sending out pure water from the pressure passage 8 and guided to the flow passage IO.

そして、三方電磁弁9を適宜切り換えることによって反
応セル18.19のいずれかに一定量の処理液を導く。
Then, by appropriately switching the three-way solenoid valve 9, a certain amount of processing liquid is introduced into either of the reaction cells 18 and 19.

ここで、反応セル18においては、試薬瓶32aより過
マンガン酸カリウムの標準溶液が、また試薬瓶32bよ
り硫酸の標準溶液が供給されることにより、処理液中の
過酸化水素量に応じた電位が0R1)電極20によって
測定される。すなわちこの測定は、過酸化水素と過マン
ガン酸カリウムとの酸化還元反応による酸化還元電位の
変化をo n t>電極20によって検出するもので、
酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点とし、この終点
における試薬(過マンガン酸カリウム標準溶液)の滴下
量(この滴下量を示すデータは、ポンプ32aから後述
する制御手段103に出力される)から、上記過酸化水
素の濃度を算出するものである。同様に反応セル19に
おいては、試薬瓶32bあるいは試薬瓶32cより硫酸
あるいは水酸化すl・リウムの標準溶液が供給されろこ
とにより、処理液中のアンモニア量あるいは、硫酸また
は塩酸の量かORP電極20によって測定される。
Here, in the reaction cell 18, a standard solution of potassium permanganate is supplied from the reagent bottle 32a, and a standard solution of sulfuric acid is supplied from the reagent bottle 32b, so that a potential corresponding to the amount of hydrogen peroxide in the processing liquid is supplied. 0R1) is measured by the electrode 20. That is, in this measurement, the change in redox potential due to the redox reaction between hydrogen peroxide and potassium permanganate is detected by the electrode 20.
The point at which the redox potential jumps is defined as the end point of the reaction, and the amount of reagent (potassium permanganate standard solution) dripped at this end point (data indicating this drip amount is output from the pump 32a to the control means 103 described later) From this, the concentration of hydrogen peroxide is calculated. Similarly, in the reaction cell 19, a standard solution of sulfuric acid or sulfur/lium hydroxide is supplied from the reagent bottle 32b or the reagent bottle 32c, so that the amount of ammonia in the treatment liquid or the amount of sulfuric acid or hydrochloric acid can be determined from the ORP electrode. Measured by 20.

そして、このような測定が終了した後、電磁弁24ある
いは電磁弁25が開かれ、測定後の処理液は合流路27
を通ってドレン槽14に導かれる。
After such a measurement is completed, the solenoid valve 24 or 25 is opened, and the treated liquid after the measurement flows into the confluence channel 27.
It is led to the drain tank 14 through.

なお、上記の構成において、第1図(A)に符号100
て示す範囲の構成をサンプリング手段とし、符号101
て示す範囲の構成を滴定手段とする。
In the above configuration, reference numeral 100 is shown in FIG. 1(A).
The configuration in the range shown in is used as a sampling means, and is designated by reference numeral 101.
The titration means has a configuration within the range shown below.

また、第1図(r3)において符号103で示すものは
制御手段であって、この制御手段103には、キーボー
ド等の入力手段104と、吸光度計4(液状態管理手段
)と滴定手段+01とから得られた測定データを演算す
る演算手段105と、装置の運転状況、処理状況、さら
には上記演算手段105による測定結果等をCRT表示
する出力手段106(例えば、第1図(A)と同様の系
統図が記され、各構成要素に対応する箇所にランプなど
がある表示パネル)が設けられ、かつ3種類の処理液に
対応してこれらから上記入力手段により仕徹に選択され
た処理液を分析する分子+7制御機能107が内蔵され
ている9゜前記制御手段103は、人力手段104の入
力データに基づき、以下の処理手段(1))を制御し、
かつどの処理手段(1〕)の制御結果に基づき、および
この処理手段0))を制御することによ−)で得られl
−検出手段(Q)の検出データに基づき、首記表示パネ
ル106に運転状況および処理状況を表示さ0るように
なっている。
Further, in FIG. 1 (r3), the reference numeral 103 indicates a control means, and this control means 103 includes an input means 104 such as a keyboard, an absorbance meter 4 (liquid state management means), and a titration means +01. a calculation means 105 for calculating the measurement data obtained from the calculation means 105; and an output means 106 for displaying the operating status of the device, the processing status, and the measurement results by the calculation means 105 on a CRT (for example, similar to that shown in FIG. 1(A)). A system diagram is written on the display panel, and a display panel with lamps etc. is provided at locations corresponding to each component. 9. The control means 103 has a built-in molecule+7 control function 107 that analyzes the following processing means (1) based on the input data of the human power means 104,
and based on the control result of which processing means (1)), and by controlling this processing means (0))
- Based on the detection data of the detection means (Q), the operating status and processing status are displayed on the display panel 106.

なお、前記処理手段(■))としては、冷却器2、六方
電磁弁5、三方電磁弁11、滴定ポンプ32a、32b
、32c、電磁弁24,25、ポンプ26などがあり、
また0;i記検出手段(Q)としては、吸光度計4、ポ
ンプ32a、32b、32c、 ORP電極20 、2
1などがある。
The processing means (■)) include a cooler 2, a six-way solenoid valve 5, a three-way solenoid valve 11, and titration pumps 32a and 32b.
, 32c, solenoid valves 24, 25, pump 26, etc.
In addition, as the detection means (Q) in 0;
1 etc.

次に、制御手段103に記憶されている自動液管理装置
の制御内容について第2図ないし第6図を参照して説明
する。
Next, the control contents of the automatic liquid management device stored in the control means 103 will be explained with reference to FIGS. 2 to 6.

第2図は滴定に関しての各種の測定条件が設定されてい
るかを判別するためのフローチャー1・である。なお、
明細書中の1ステツプn」は第2図中のrsPnJに対
応する。
FIG. 2 is a flowchart 1 for determining whether various measurement conditions regarding titration have been set. In addition,
1 step n'' in the specification corresponds to rsPnJ in FIG.

〈ステップI〉 人力手段104により、分析を行うための処理液の液種
、すなわち硫酸−過酸化水素水系、塩酸−過酸化水素水
系、アンモニア−過酸化水素水系のいずれを分析するか
を決定し、これに対応した試薬を試薬瓶33a、33b
、33cから選択する。また、反応セル18.19に供
給する処理液のザノブリング量(すなわちサンプリング
回数)や滴定ポンプ32a。
<Step I> The manual means 104 determines the type of processing liquid to be analyzed, that is, which of the sulfuric acid-hydrogen peroxide system, hydrochloric acid-hydrogen peroxide system, and ammonia-hydrogen peroxide system is to be analyzed. , the corresponding reagents are placed in reagent bottles 33a and 33b.
, 33c. Also, the amount of Zanobring (that is, the number of sampling times) of the processing liquid supplied to the reaction cells 18 and 19, and the titration pump 32a.

32b、32cにより滴下する試薬の1滴あたりの滴下
m (= a、 ;微小な数値とする)等の測定条件、
さらには自動分析か手動分析かなどの選択条件を設定す
る。
Measurement conditions such as drip m per drop of reagent dropped by 32b and 32c (= a, ; assumed to be a minute value),
Furthermore, selection conditions such as automatic analysis or manual analysis are set.

くステップ2〉 ステップlて入ツノされた条件に基づいて自動分IIi
運転か手動分析運転かを?11断し、YESの場合(自
動分析の場合)にはステップ3に進み、Noの場合(手
動分析の場合)にはステップ4に進む。
Step 2〉 Step 1 Automatically calculates the amount of water based on the conditions entered in Step 1.
Driving or manual analysis driving? If the answer is YES (in the case of automatic analysis), proceed to Step 3, and if the answer is No (in the case of manual analysis), proceed to Step 4.

〈ステップ3〉 自動分析運転を行うため、さらにステップ5に進む。ま
た、後述するステップ5にて連続運転と判断されて戻っ
てきた場合には、自動分析を行う。
<Step 3> In order to perform automatic analysis operation, proceed to step 5. Furthermore, if it is determined that continuous operation is occurring and the process returns in step 5, which will be described later, automatic analysis is performed.

(第4図参照) くステップ4〉 手動分析を行い、終了後ステップ8に進む。(See Figure 4) Step 4> Perform manual analysis and proceed to step 8 after completion.

〈ステップ5〉 自動分析運転を連続運転で行うか否かを判断し、Y E
 Sの場合には(連続運転の場合には)ステップ3に戻
り、Noの場合(連続運転でない場合、すなわち非連続
運転の場合)にはステップ6に進む。
<Step 5> Determine whether or not to perform automatic analysis operation continuously, and select YE.
In the case of S (in the case of continuous operation), the process returns to step 3, and in the case of No (in the case of non-continuous operation, that is, in the case of discontinuous operation), the process proceeds to step 6.

くステップ6〉 待ち時間を必要とするか否かを判断し、YESの場合に
はステップ7に進み、NOの場合にはステップ8に進む
Step 6> It is determined whether or not a waiting time is required. If YES, proceed to step 7; if NO, proceed to step 8.

〈ステップ7〉 予め設定された一定時間待機し、その後ステップ3に進
む。
<Step 7> Wait for a preset certain period of time, and then proceed to Step 3.

くステップ8〉 分析を停止するか否かを判断し、YESの場合(停止す
る場合)にはS TOI)へ、NOの場合には再度ステ
ップlに戻る。
Step 8> Determine whether or not to stop the analysis. If YES (to stop), go to STOI); if NO, go back to step 1.

次に、第3図を参照して第2図におけるステップlの条
件設定について説明4−ろ、ここて、第3図に示すフロ
ーは本発明の分析制御機能となるものである。なお、明
細告中の「ステップ1−nJは第3図中のrs P l
  nlに対応する。
Next, the condition setting in step 1 in FIG. 2 will be explained with reference to FIG. 3. The flow shown in FIG. 3 is the analysis control function of the present invention. In addition, "Step 1-nJ" in the specification is rs P l in FIG.
Corresponds to nl.

〈ステップ11−〉 分析する処理液の種類が1種類か否かを判断し、Y E
 Sの場合(1種類の場合)にはスナップ1−21−l
せみ、NOの場合にはステ・IブI−6に進む、くステ
ップ12) 処理液の種類、tなわち硫酸−過酸化水素水系、塩酸−
の酸化水素水茅、ア゛ノモニアー君酸化水素水系・Dい
ずれかを選定入力し、選定しだ液種に応してステップi
3〜ステップ1−5に進む1゜くステップI−6〉 分析する液の種類が2種類か3種類かを選定し、2種類
の場合にはさらに選だしf:処理液の種類に応してステ
ップi7〜ステップ19に進み、3種類の場合にはステ
ップ110に進む、。
<Step 11-> Determine whether there is only one type of processing liquid to be analyzed, and select YE.
For S (one type), snap 1-21-l
If the answer is NO, proceed to step I-6.Step 12) Type of treatment liquid, i.e. sulfuric acid-hydrogen peroxide system, hydrochloric acid-
Select and input either Hydrogen Oxide Water Bamboo or Anomonia-kun Hydrogen Oxide Water System D, and then proceed to step i according to the selected liquid type.
3 - Proceed to step 1-5 1゜Step I-6〉 Select whether there are 2 or 3 types of liquid to be analyzed, and if there are 2 types, further select f: Depending on the type of processing liquid. Then, the process proceeds to steps i7 to step 19, and in the case of three types, the process proceeds to step 110.

くステップ1−IO〉 」−記した3種類に、)夕11 +11液(ハ分枳順序
を選定1−7、選定した順序に応してステ2ブ111〜
スイーツ一)。
Step 1 - IO〉 - Select the three types listed above, step 11 + 11 liquid (C) Select the dividing order 1-7, and step 2 steps 111 to 11 according to the selected order.
Sweets 1).

1−16に進む。Proceed to 1-16.

なお、ステップ1−;3〜ステツゴ15、ン、テップ1
−7〜ステノ゛f1−ソ、スーヌーノー”Ill〜Aフ
 ノブl  16では、後述する自動分(nの制g+内
容で説明するように、ぞれモ″4]L・)ステップ、f
 H)’)内イ’: l二括)いて滴定ポツプ32a、
:Bb、32cを駆動さt /’ ((’l弓を出力す
るようにt51−・てしろ、。
In addition, step 1-; 3 to step 15, step 1
-7~Steno゛f1-So, Su Nouno'' Ill~A function 16 In 16, the automatic part (n control g + content, each mo ``4]L・) step, f
H)') Inner A': 1) Titration pot 32a,
:Bb, drive 32c t/'(('l t51-・Try to output the bow.

次に、第4図(A)、CL()を参照I2て第2fpj
 (4・けるステップ3のl−1:’−i Uh ’、
、rI口1「in制御内容について説明する。なお、明
細7<5中のiステップ3a11:’は第3図中のI−
!; I−3、、ロー4に対J1,4゛ろ1、まず、第
4図(Δ>1.:、+ζ)硫酸−過酸化jド々;水系処
理液の自ωノ分析に一ノいて説明ずろ4くステップ3a
l’> 六方電磁弁5を第r ’、’J (八)中の実線で示す
経路へに設定し、三)j Qi磁井9を適宜−,1,l
、 ’j’、 Lか−シボ゛ノブ7を駆動させど、圧汽
路8から純水を例えば第1の反応セル18内に供給し、
その内部を洗浄する。
Next, refer to FIG. 4(A) and CL().
(l-1 of step 3:'-i Uh',
, rI port 1 "In control content will be explained. Note that i step 3a11:' in specification 7<5 is I- in FIG.
! ; I-3, vs. Row 4, J1. Step 3a
l'> Set the hexagonal solenoid valve 5 to the path shown by the solid line in No. r', 'J (8), and 3) j Qi magnetic well 9 to -, 1, l as appropriate.
, 'j', L - While driving the grain knob 7, pure water is supplied from the pressure passage 8 into, for example, the first reaction cell 18,
Clean the inside of it.

また、三方電磁弁9を切り換えることにより、第2の反
応セル19も同様に洗浄する。なお、この間、処理液供
給路1から供給された処理液は、サンプリング配管6を
経由して流路12側に導かれる。
Furthermore, by switching the three-way solenoid valve 9, the second reaction cell 19 is also cleaned in the same manner. Note that during this time, the processing liquid supplied from the processing liquid supply path 1 is guided to the flow path 12 side via the sampling pipe 6.

くステップ3a2) 電磁弁24を開状態に設定しかつポンプ26を駆動して
、上記反応セル18内の洗浄液を合流路27を介してド
レン槽14に排出する。また、同様に反応セル19内の
洗浄液の排出も行う。
Step 3a2) The electromagnetic valve 24 is set to an open state and the pump 26 is driven to discharge the cleaning liquid in the reaction cell 18 to the drain tank 14 via the confluence passage 27. Further, the cleaning liquid in the reaction cell 19 is also discharged in the same manner.

くステップ3a−3> 滴定分析用の試料(処理液)のサンプリングを行う。(
第5図のフローチャー]・を参照して後述4゛る。) くステップ3a−4> 処理液中に含有される、有効成分である硫酸、過酸化水
素の濃度を滴定分析ケる。、(第6図の)【J−チャー
トを参照して後述する、)くステップ3a−5> 一ヒ記ステップ3a−2で述べた排出と同様の排出動作
を行う。
Step 3a-3> Sampling a sample (treated liquid) for titration analysis. (
The flowchart shown in FIG. 5 will be described later with reference to 4. ) Step 3a-4> Perform titration analysis to determine the concentration of sulfuric acid and hydrogen peroxide, which are active ingredients, contained in the treatment liquid. , Step 3a-5 (described later with reference to the J-chart in FIG. 6)) Performs the same ejection operation as described in step 3a-2 of 1-1.

くステップ3a−6>〜〈ステップ3a−7>」二足ス
テップ3 a−1〜ステツプ3a2と同様の洗浄動作、
排出動作を行い、元のメインフO−に戻る。
Step 3a-6>~<Step 3a-7>" Two-legged cleaning operation similar to step 3a-1~step 3a2,
Perform the ejection operation and return to the original main screen O-.

〈ステップ3a−8> 上記ステップ3a−1〜ステツプ3a7とは別に、処理
液供給路lから供給されろ処理液の吸光度を吸光度計4
にJ−って自動的に測定し、処1jI!液の劣化度を検
出する。
<Step 3a-8> Separately from steps 3a-1 to 3a7 above, the absorbance of the filtrated treatment liquid supplied from the treatment liquid supply path 1 is measured using an absorbance meter 4.
J- is automatically measured, and then 1jI! Detects the degree of deterioration of the liquid.

また、第4図(I()は塩酸−過酸化水素水系、アンモ
ニア−過酸化水素水系の処理液の自動分析のフ[J−チ
ャートを示4”ものであり、各ステップにおいては第4
図(A)にわける対応するステップと同様の動作がなさ
れる。
In addition, Figure 4 (I()) shows a flowchart for automatic analysis of treated liquids of hydrochloric acid-hydrogen peroxide system and ammonia-hydrogen peroxide system, and in each step, the fourth
The same operation as the corresponding step shown in FIG. 3A is performed.

次に、ステップ3a−3およびステップ3b3て示した
「サンプリング」に−ノいて第5図のフ「1−チャート
を参照して説明する。なお、明細吉中の1ステップ5−
nJは第5図中のrss−nJに対応する。
Next, the "sampling" shown in steps 3a-3 and 3b3 will be explained with reference to the chart shown in FIG.
nJ corresponds to rss-nJ in FIG.

くステップS−1〉 六方電磁弁5を経路Aの状態にし、サンプリング配管7
内に処理液を流通させ(ステップ3a−1の説明を参照
)、さらにこのサンプリング配管7内に満たされた所定
量の処理液を流路lO1三方電磁弁9を介して反応セル
+8(19)に供給する。
Step S-1> Set the six-way solenoid valve 5 to path A, and connect the sampling pipe 7.
A predetermined amount of the processing liquid filled in the sampling pipe 7 is passed through the flow path lO1 and the three-way solenoid valve 9 to the reaction cell +8 (19). supply to.

〈ステップS−2〉 滴定ポンプ32a(32b、 32c)を駆動して滴定
液(標桑試薬)を初期設定量吐出する。ここで、滴定ポ
ツプ33a〜33cの選択は、上記のステップ13〜ス
テップl−5、ステップ13〜ステツプ1−9、ステッ
プ1−11〜ステップ1−16の選択によって自動的に
なされる。
<Step S-2> The titration pump 32a (32b, 32c) is driven to discharge the titration liquid (standard Mulberry reagent) in an initially set amount. Here, the selection of the titration pops 33a to 33c is automatically made by the selections in steps 13 to 1-5, steps 13 to 1-9, and steps 1-11 to 1-16.

くステップS−3〉 ORp z極20(21)テ反応セル18(19)内の
処理液の電位を測定する。
Step S-3> Measure the potential of the treatment liquid in the ORp z electrode 20 (21) and reaction cell 18 (19).

くステップS−4〉 ステップS−3での測定結果より、その電位が滴定終了
の電位以下か否かを判断し、YESの場合にはステップ
S−5に進み、Noの場合にはステップS−6に進む。
Step S-4> Based on the measurement result in step S-3, it is determined whether the potential is below the titration end potential. If YES, proceed to step S-5; if NO, proceed to step S-4. -Proceed to 6.

くステップS−5〉 ステップS−3で測定した際の電位変化量が微量である
か否か(すなわち、予め設定した電位変化量よい大きい
か否か)を判断し、YESの場合にはステップS−7に
進み、NOの場合には初期設定吐出量で滴定を継続する
Step S-5> It is determined whether the amount of potential change measured in step S-3 is a small amount (that is, whether the amount of potential change set in advance is large or not), and if YES, step Proceed to S-7, and if NO, titration is continued at the initial set discharge amount.

くステップS−6〉 ステップS−3での測定結果より、初期設定吐出量で滴
定終了の電位に達してしまっていることから、該初期設
定吐出量では分析不可と判断し、ステップ3a−2と同
様の動作により反応セル+8(19)内の処理液を排出
する。
Step S-6> According to the measurement result in step S-3, the potential at which the titration ends has been reached at the initial set discharge amount, so it is determined that analysis is not possible with the initial set discharge amount, and step S-3 The processing liquid in the reaction cell +8 (19) is discharged by the same operation.

くステップS−7〉 ステップS−3で測定した際の電位変化量が微量である
ことから、滴定ポンプ32a(32b、 32c)の吐
出量を増加して最適吐出量に調整変更し、滴定動作を継
続する。
Step S-7> Since the amount of potential change measured in step S-3 is small, the discharge volume of the titration pump 32a (32b, 32c) is increased to the optimum discharge volume, and the titration operation is performed. Continue.

くステップS−8〉 ステップS−6において処理液を排出した後、ステップ
3a−1と同様の動作により反応セル18(+9)内の
洗浄を行う。
Step S-8> After discharging the processing liquid in step S-6, the inside of the reaction cell 18 (+9) is cleaned by the same operation as in step 3a-1.

くステップS−9〉 ステップ3a−2と同様の動作により反応セル18(1
9)内の洗浄液を排出する。
Step S-9> The reaction cell 18 (1
9) Drain the cleaning solution inside.

くステップS −10> 滴定ポンプ32a(32b、32c )の初期設定吐出
量が0 、5 cc/回以上であればステップS −I
Iに進み、そうでなければステップS −12に進む。
Step S-10> If the initial setting discharge amount of the titration pump 32a (32b, 32c) is 0.5 cc/time or more, step S-I
If not, proceed to step S-12.

〈ステップS −11> ステップS−1でのサンプリングと同様にして、反応セ
ル18(+9)内に所定11(すなわち、サンプリング
配管6の容積によって決定されるml)の処理液を1回
供給する。
<Step S-11> In the same manner as the sampling in step S-1, a predetermined 11 (i.e., ml determined by the volume of the sampling pipe 6) of the processing liquid is supplied once into the reaction cell 18 (+9). .

くステップS −12> ステップS−1でのサンプリングと同様の動作により、
反応セル1g(19)内に所定量の処理液を2回供給す
る。
Step S-12> By the same operation as the sampling in step S-1,
A predetermined amount of treatment liquid is supplied into the reaction cell 1g (19) twice.

くステップS −13> 滴定ポンプ32a(32b、 32c)の吐出量を減少
して最適吐出量に調整変更し、滴定動作を継続する。
Step S-13> The discharge amount of the titration pump 32a (32b, 32c) is adjusted to the optimum discharge amount, and the titration operation is continued.

くステップ5−14> 滴定ポンプ32a(32b、 32c)より滴定液を初
期設定量吐出する。
Step 5-14> The titration pump 32a (32b, 32c) discharges the titration liquid in an initial set amount.

くステップS −15> ORP電極20(21)で反応セル1g(19)内の処
理液の電位を測定する。
Step S-15> The potential of the treatment liquid in the reaction cell 1g (19) is measured using the ORP electrode 20 (21).

くステップ5−16> ステップ5−15の測定結果より、その電位が滴定終了
の電位以下か否かを判断し、YESの場合にはさらに滴
定作業を継続し、Noの場合にはステップ5−17に進
む。
Step 5-16> Based on the measurement result in step 5-15, it is determined whether the potential is below the titration end potential. If YES, the titration operation is continued; if NO, step 5-15 is determined. Proceed to step 17.

〈ステップS −17> ステップ5−16での測定結果より、初期設定吐出量で
滴定終了の電位に達してしまっていることから、2回サ
ンプリングでも分析不可と判断し、ステップ3a−2と
同様の動作により反応セル18(19)内の処理液を排
出する。
<Step S-17> Based on the measurement results in step 5-16, it was determined that the titration end potential was reached at the initial set discharge amount, so it was determined that analysis was not possible even with two samplings, and the same procedure as step 3a-2 was performed. The processing liquid in the reaction cell 18 (19) is discharged by the operation.

くステップS −18> ステップ5−17において処理液を排出した後、ステッ
プ38−1と同様の動作により反応セル+8(19)内
の洗浄を行う。
Step S-18> After discharging the processing liquid in step 5-17, the inside of reaction cell +8 (19) is cleaned by the same operation as step 38-1.

〈ステップ5−19> ステップ3a−2と同様の動作により反応セル18(1
9)内の洗浄液を排出する。
<Step 5-19> The reaction cell 18 (1
9) Drain the cleaning solution inside.

くステップ5−20> ステップ5−12と同様の動作により、2回サンプリン
グして反応セルl1l(19)内に所定量の処理液を供
給する。
Step 5-20> By the same operation as step 5-12, a predetermined amount of processing liquid is supplied into the reaction cell l1l (19) by sampling twice.

くステップS −21> 滴定ポンプ32a(32b、32c )の初期設定吐出
量を最小吐出量である0 、 l cc/回に変更し、
滴定作業を行う。
Step S-21> Change the initial setting discharge rate of the titration pump 32a (32b, 32c) to the minimum discharge rate of 0.1 cc/time,
Perform titration work.

次に、ステップ3a−4およびステップ3b−4で示し
た「分析」について第6図のフローヂャートを参照して
説明する。なお、明細書中の[ステップA−nJは第6
図中のrSA−nJに対応する。
Next, the "analysis" shown in steps 3a-4 and 3b-4 will be explained with reference to the flowchart of FIG. Note that [Step A-nJ is the sixth step] in the specification.
Corresponds to rSA-nJ in the figure.

くステップA−1> o n P電極+9(20)ニより反応セル18(19
)内の酸化還元電位を測定し、その測定値をVoとする
Step A-1> From the on P electrode +9 (20) to the reaction cell 18 (19
) is measured, and the measured value is set as Vo.

くステップΔ−2〉 滴定ポンプ32a(32b、32c)を駆動して、反応
セル18(19)内に標語試薬を滴下して滴定を行う。
Step Δ-2> Titration is performed by driving the titration pump 32a (32b, 32c) and dropping the slogan reagent into the reaction cell 18 (19).

なお、このときの滴定itを81、滴定速度を81とす
る。
Note that the titration it at this time is 81 and the titration rate is 81.

くステップA−3〉 0[え【)電極19(20)により反応セル18(19
)内の酸化還元電位を測定し、その測定値をvlとする
Step A-3> The reaction cell 18 (19) is
) is measured, and the measured value is defined as vl.

くステップA−4〉 ステップA−3で検出した酸化還元電位V、が予め設定
した滴定終了電位に達しているか否かを11断し、YE
Sの場合にステップA 5に進み、NOの場合にステッ
プΔ〜7に進む。
Step A-4> Check whether the oxidation-reduction potential V detected in Step A-3 has reached the preset titration end potential.
In the case of S, the process proceeds to step A5, and in the case of NO, the process proceeds to steps Δ to 7.

くステップA−5〉 ステップA−4あるいは後述4〜るステップΔ−13に
述へた(述へる)ように、酸化還元電位■、あるいは■
、が滴定終了に達したときの滴定ポンプ32a〜32c
の出力データに基づき、試薬の滴下型を計算し、これに
よって処理液中の硫酸濃度、過酸化水素濃度あるいは塩
酸濃度、アンモニア濃度を計算する。
Step A-5> As described in step A-4 or steps Δ-13 from 4 to Δ-13 described below, the oxidation-reduction potential ■ or ■
Titration pumps 32a to 32c when , reaches the end of titration.
Based on the output data, the dripping type of the reagent is calculated, and based on this, the sulfuric acid concentration, hydrogen peroxide concentration, hydrochloric acid concentration, and ammonia concentration in the treatment liquid are calculated.

くステップA−6〉 ステップA−5で求めた計算値を表示パネル105に出
力して表示させる。
Step A-6> The calculated value obtained in step A-5 is output to the display panel 105 and displayed.

くステップA−7〉 酸化還元電位の差1v、−v、1を求め、その値が微m
、すなわち予め設定した値より小さいか否かを判断し、
YESである場合(微量である)にはステップA−8に
進み、NOである場合(すなわち予め設定した値より大
きい場合)にはステップ八−〇に進む。
Step A-7> Find the redox potential difference 1v, -v, 1, and if the value is minute m
, that is, determine whether it is smaller than a preset value,
If YES (the amount is very small), proceed to step A-8; if NO (that is, if it is larger than a preset value), proceed to step 8-0.

くステップA−8〉 酸化還元電位の差1v+−volが微量であると判断さ
れたため、ステップA−2に進んでその動作を繰り返す
Step A-8> Since it is determined that the difference in redox potential of 1v+-vol is a very small amount, the process proceeds to step A-2 and repeats the operation.

〈ステップA−9〉 滴定ポンプ32a(32b、 32c)による滴定量を
a、に変更するか、あるいは滴定速度をS、に変更して
再度滴定する。ただし、av< 8.、s t< S 
+とする。
<Step A-9> Change the titration amount by the titration pump 32a (32b, 32c) to a, or change the titration rate to S, and titrate again. However, if av<8. , s t<S
+

くステップA−10> ORP電極19(20)により反応セル18(19)内
の酸化還元電位を測定し、その測定値を■、とする。
Step A-10> The oxidation-reduction potential within the reaction cell 18 (19) is measured using the ORP electrode 19 (20), and the measured value is defined as (1).

くステップA −It> ステップ八−10で検出した酸化還元電位vtより、l
 v、−v、1> l v、−vol −(:あるか否
かを?JI断し、YESの場合にはステップA−12に
進み、NOの場合にはステップΔ−13に進む。
Step A-It> From the redox potential vt detected in Step 8-10, l
v, -v, 1> l v, -vol -(: ?JI determines whether it exists or not. If YES, proceed to step A-12; if NO, proceed to step Δ-13.

くステップA −12> V 、−V tとして、さらにステップA−9に戻って
動作を繰り返す。
Step A-12>V, -Vt, and then return to Step A-9 to repeat the operation.

くステップAiK> ステップA−10で検出した酸化還元電位V、が予め設
定した滴定終了電位に達しているか否かをセ1断し、Y
ESの場合にステップA−5に進み、NOの場合にステ
ップA−14に進む。
Step AiK > Determine whether the oxidation-reduction potential V detected in step A-10 has reached the preset titration end potential;
In the case of ES, the process proceeds to step A-5, and in the case of NO, the process proceeds to step A-14.

くステップA−14> v、=V、とじて、さらにステップA−9に戻って動作
を繰り返す。
Step A-14> v,=V, and then return to step A-9 to repeat the operation.

なお、本装置において、3種類の液をサンプリングする
ため、切換バルブを設置し、液選定の条件に合わせてバ
ルブを切り換えるようにしてしよい。
In addition, in this apparatus, in order to sample three types of liquids, a switching valve may be installed and the valve may be switched according to the conditions of liquid selection.

このような自動液管理装置にあっては、制011手段+
03か、3種類の処理液に対応して:れらから入力手段
1θ4により選択された処理液を分tlITする分り1
制御機能107を備えていることにより、半導体の調進
工程における1ノジスト剥II程および洗浄−Iff’
、lの処理液、4−なわI)硫酸−過酸化水素水系の処
理液と、塩酸−過酸化水素水子お、Lびア7モーー?’
−過酸化水素水系の処理液との管理に用い乙ごとがごき
、よって1台で3台分の管理機能を打しにしのとなる1
、また、第5図における [→J゛ンプリンタ゛」のフ
ローチャートに示すように、サンブリ/りを複数回(2
回)行えるようにしたのて、分(1,−、’)トIQI
+を低1” 「乙めて分析範囲を広げるごとがてき、さ
らに電位変化に合わUて滴定ポツプ33a233b、3
3cの吐出量を変更し得るようにし7.1ので、1v1
定時間の短縮化を図ることができる。また、第0図にお
ける 「分析」のフローチャー!・に示ずように、滴定
分析の終点の判定を電位の変化量と電位の絶対値との2
つの判定J、14を設定したので、分tli□ ’\0
)(1−ζ軸性を増し、その安定性を向−卜せしめろこ
とろくできる。
In such an automatic liquid management device, control means +
03, corresponding to three types of processing liquids: the processing liquid selected from them by the input means 1θ4 is tlIT.
By being equipped with the control function 107, it is possible to control the 1st peeling process and cleaning-Iff' in the semiconductor advancement process.
, 1 treatment solution, 4-line I) Sulfuric acid-hydrogen peroxide aqueous treatment solution, hydrochloric acid-hydrogen peroxide solution, Lvia 7 mo? '
-Used for the management of hydrogen peroxide water-based treatment liquids, so one unit has the management functions of three units.
, In addition, as shown in the flowchart of [→J Printer] in Figure 5, assembly/printing is performed multiple times (2
IQI for minutes (1, -,')
+ to low 1" It is now possible to expand the analysis range, and further adjust the titration pops 33a, 233b and 3 according to the potential change.
7.1 so that the discharge amount of 3c can be changed, so 1v1
It is possible to shorten the fixed time. Also, the flowchart of “analysis” in Figure 0!・As shown in , the end point of titration analysis is determined based on the amount of change in potential and the absolute value of potential.
Since we have set 1 judgment J, 14, minute tli□ '\0
) (It is possible to increase the 1-ζ axis property and improve its stability.)

;発明のり」果 ] 以1−説明したようにこの発明の自動液管理装置は、制
御手段が、3種類の処理液に対応してニオ]らから人力
手段により選択された処理液を分析−4−ろ分析機能を
備えていることによl]、例えば゛1′導体の製造■程
におけるレノスト剥離工程および洗浄工程の処理液、す
なわち硫酸−過酸化水素水系の処理液と、塩酸−過酸化
水素水系おにびアンモ二Y−過酸化水素水系の処理液と
の管理に用いることができ、よって1台で3台分の管理
機能を白。
;Result of the Invention] As described above, in the automatic liquid management device of the present invention, the control means analyzes the processing liquid selected by manual means from among the three types of processing liquids. 4) By having a filtration analysis function], for example, the treatment solution for the Lennost stripping process and cleaning process in the ``1'' conductor manufacturing process, that is, the sulfuric acid-hydrogen peroxide aqueous treatment solution and the hydrochloric acid-peroxide treatment solution. It can be used for the management of hydrogen oxide aqueous rice and ammonia-hydrogen peroxide aqueous processing solutions, so one unit has the management functions of three machines.

(,7たらのとなることから、汎用性か増すのはしらろ
ん紅済的にもf7利な乙のとなる。
(Since it is 7 Tarano, the versatility is increased, and it becomes F7 advantageous in terms of Red Jelly.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(Δ)〜第6図は本発明の自動液管理装置の一実
施例を示す図であって、第1図(A)は全体概略構成図
、第1図(I3)は制御装置を示す図、第2図は本装置
のメインフローを示すフローチャート、第3図は装置の
制御手段における分析制御機能を示オフ〔l−チャー1
〜、第4図(A)および第4図(13)は(1ずれし自
動分析の制御内容を示す)〔ノーナヤート、第5図はサ
ンブリングの制御内容を示ず)[J−チャート、第6図
は分01の制御内容を示オフ【J−チャートである。 4  吸光度計(液状態管理手段) +110   サンブリング手段 101  ・滴定手段 +03・ ・制御1段 10イ ・入力手段 105・・・演算手段 107   分析制御機能。
FIGS. 1(Δ) to 6 are diagrams showing one embodiment of the automatic liquid management device of the present invention, in which FIG. 1(A) is an overall schematic configuration diagram, and FIG. 1(I3) is a control device. 2 is a flowchart showing the main flow of this device, and FIG. 3 is a flowchart showing the analysis control function in the control means of the device.
~, Figure 4 (A) and Figure 4 (13) (showing the control contents of 1-shift automatic analysis) [Nonayat, Figure 5 does not show the control contents of sampling] [J-chart, Figure 6 is a J-chart showing the control details for minute 01. 4 Absorbance meter (liquid condition management means) +110 Sampling means 101 - Titration means +03 - Control 1 stage 10a - Input means 105... Calculation means 107 Analysis control function.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  処理液をサンプリングするサンプリング手段と、サン
プリングされた処理液の劣化度を検知する液状態管理手
段と、上記処理液の有効成分量の有効成分量を滴定によ
る電位変化から求める滴定手段と、これら液状態管理手
段と滴定手段とから得られた測定データを演算する演算
手段と、上記各手段を制御する制御手段と、この制御手
段に対して各種指令を与える入力手段とを具備してなる
自動液管理装置であって、 上記制御手段は、複数種類の処理液を分析する分析制御
機能を有してなることをことを特徴とする自動液管理装
置。
[Scope of Claims] Sampling means for sampling a treatment liquid, liquid condition control means for detecting the degree of deterioration of the sampled treatment liquid, and determining the amount of active ingredients in the treatment liquid from changes in potential by titration. A titration means, a calculation means for calculating measurement data obtained from the liquid condition management means and the titration means, a control means for controlling each of the above means, and an input means for giving various commands to the control means. An automatic liquid management apparatus comprising: the control means having an analysis control function for analyzing a plurality of types of processing liquids.
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